WO1998004407A1

WO1998004407A1 - Fabrication d'une couche mince stratifiee et d'une carte a circuit imprime

Info

Publication number: WO1998004407A1
Application number: PCT/JP1997/002640
Authority: WO
Inventors: Noriyo Kimura; Youji Tanaka; Kazutaka Masaoka; Takafumi Kudou; Yukihiko Minamihira; Tetsuo Yoshida
Original assignee: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Priority date: 1996-07-30
Filing date: 1997-07-30
Publication date: 1998-02-05
Also published as: EP0916480A4; CN1226200A; KR20000029685A; US20010009750A1; US6207345B1; EP0916480A1; US6333135B2

Description

明細書積層フィル厶及びプリン卜配線板の製造法技術分野

本発明は、積層フイルム及びプリン卜配線板の製造法に関し、更に詳しくは、生産コス卜を上昇させずにラミネー卜すべき対象の表面の凹凸に転移層が良好に追従し解像性を向上でき、プリン卜配線板の製造歩留まりを大幅に向上することができる積層フィル厶及びプリン卜配線板の製造法に関する。背景技術

プリン卜配線板を製造する際にめつき又はエッチング用のレジスト膜を形成するために用いられる積層フイルム 1は、第 2図（a ) に示すように、支持層（ベースフイルム） 2 ' の上に、感光性樹脂組成物を塗布乾燥して感光層 3とし、次いで, 感光層 3上に被覆層（保護フイルム） 4 ' を積層して構成されている。そして、従来は、支持展 2 ' と感光層 3とが転移層 5 ' となって、ラミネー卜すべきプリン卜配線板の基板 6上にラミネートされるようになっていた。

この従来の積層フイルム 1をラミネ一卜する際には、被覆層 4 ' を剥離してから、感光層 3を基板 6側に向けて転移 IB 5 ' を基板 6上に載せ、その後、支持層 2 ' 側から加熱ロールにより転移履 5 ' を加圧して圧着させる。したがって、ラミネート後の断面は第 2図（b ) のようになる。

次に、支持層 2 ' 上にネガマスクを置き、そのネガマスクを介して露光用の光線を照射して感光層 3を露光する。その後、ネガマスクを取外し、さらに支持層 2 ' を剥離してから現像すると、前記ネガマスクと同じパターンを持つ感光層 3が得られる。基板上に残された感光層 3をレジス卜膜として、次のめっき又はエッチング工程を行う。

支持層 2 ' としては、 80°Cにおける単位幅あたりの 5 %伸び荷重を示す L 5値が 1 00 gZmm以上のフイルム（例えば、ポリエチレンテレフ夕レー卜（P E T) のフイルム）が用いられ、その厚さは、通常 20 m程度である。この支持履 2 ' は、積饜フイルム 1の引張り強度を上げるために、この程度の厚さが必要であり、また、その硬さもある程度大きくする必要がある。

感光層 3は、紫外線等を照射すると照射箇所の物性が変化する感光性榭脂組成物によリ形成され、使用目的に応じて好適な組成物が選択される。感光層 3の厚さは、目的に応じて、例えば、 2 5 /Lim、 3 3 ( m. 40 w mあるいは 5 0 μ mに設定される。被覆層 4 ' はポリエチレンなどのフイルムが用いられ、その厚さは、例えば、 30 mである。

転移層 5 ' は、ラミネートするとき、基材の凹凸に対して追従し、感光層 3と基材間の未接着部分がないようにしなければならない。

近年、プリン卜配線板の配線の高密度化が進んでおり、高い解像性が要求されている。積層フイルム 1の高解像度化のためには、感光層 3の薄膜化が効果的であるが、基材の表面凹凸へ追従する感光層量が減少するため、従来の積層フイルム 1では、基板 6と耘移層 5 ' との未接着部分が多くなリ、充分な製造歩留まりが得られないという問題がある。また、従来の積雇フイルムでは、支持層 2 ' が必要とする前述の厚さ及び硬さによリ転移層 5 ' 全体の柔軟性が不充分となり、ラミネ一卜すべき基材の表面の凹凸に転移層 5 ' が追従し難く、その結果、基板 6と転移暦5 ' との未接義部分が多くなり、充分な製造歩留まリが得られないという問題がある。このような課題に対処して様々な手法が提案されている。例えば、基材に水を塗布したのち、積履フイルムを積層する方法が記載されている（特開昭 5 7 - 2 1 8 90号公報及び特開昭 5 7— 2 1 8 9 1号公報参照）。 3 P 97/02 この方法では、水の薄い層を均一に付着させるため、基材表面を清浄にしなければならない。また小径スルーホール等が存在する場合は、スルーホール中に溜まつた水分と感光層とが反応を起こしやすく、現像性を低下させるなどの欠点が生じる。また、基材に液状の樹脂を積層して接着中間層を形成した後、積層フイルムを積層する方法も提案されている（特開昭 5 2 - 1 & 4 3 6 3号公報参照）。

この方法では、小径スルーホールの現像性、剥離性等が低下し、液状樹脂塗布によるコス卜増加等の欠点がある。

また、真空ラミネ一夕一を用いて減圧下に積層する方法も知られている（特公昭 5 3— 3 1 6 7 0号公報及び特開昭 5 1 — 6 3 7 0 2号公報参照）。

この方法では、装置が高価であり、真空引きに時間がかかるために、通常の回路形成には使用されることは少なく、導体形成後に用レ.、る永久マスクのラミネー卜として利用されているにすぎない。この永久マスクのラミネートの時も、さらに導体への追従性向上が望まれている。

第 1の発明は、生産コストを上昇させずにラミネー卜すべき対象の表面の凹凸に転移層が良好に追従し解像性を向上でき、プリン卜配線板の製造歩留まりを大幅に向上することができる積展フイルムを提供することを目的とする。

第 2の発明は、第 1の発明の効果に加えて、感度、架橋密度、保存安定性、解像性を向上し、第 1のフイルムの感光層からの剥離性の良好な積餍フイルムを提供することを目的とする。

第 3の発明は、第 1又は 2の発明の効果に加えて、取扱い性が優れる積層フィル厶を提供することを目的とする。

第 4の発明は、第 3の発明の効果に加えて、ラミネート時の作業性を向上した積餍フイルムを提供することを目的とする。

第 5及び 6の発明は、生産コス卜を上昇させずにラミネー卜すべき対象の表面の凹凸に転移層が良好に追従し解像性を向上でき、プリン卜配線板の製造歩留まりを大幅に向上することができるプリン卜配線板の製造法を提供することを目的とする。発明の開示

本発明は、感光層及び 8 0 ^eCにおけるフイルム長手方向の単位幅あたりの 5 %伸び荷重が 4〜 9 0 g Zmm、フイルム長手方向の破断伸びが 5 0〜 1 0 0 0 %である第 1のフイルムを有する積層フイルムに関する。

また、本発明は、第 1のフイルムが、酸素透過量が 4 0 0 m l /m ² · 2 4 h · a t m以下、吸水率が 5 %以下及びヘイズが 1 0 %以下のものである前記積層フィル厶に関する。

また、本発明は、感光層及び第〗のフイルムの他に、さらに感光履の第 1のフィル厶とは反対側に第 2のフイルムを有するものである前記積層フィルムに関する。また、本発明は、第 2のフイルムと感光層の間の接着力が、第 1のフイルムと慼光層との間の接着力よりも小さいものである前記積層フイルムに関する。

また、本発明は、前記 »¾フイルムを、感光層と基板とが接するように基板上にラミネートし、次いで、露光、現像することを特徴とするプリン卜配線板の製造法に関する。

また、本発明は、前記積層フイルムを、第 2のフイルムを剥離して、感光 /§と基板とが接するように基板上にラミネートし, 次いで、露光、 5見像することを特徴とするプリン卜配線板の製造法に関する。図面の簡単な説明

第 1図（a ) 及び第 1図（b ) は、本発明のプリン卜配線板の製造法における穂層フイルム 1を基板 6上にラミネートした状態の一例を示す模式図である。

第 2図（a ) 及び第 2図（b ) は、従来のプリン卜配線板の製造法における積層フイルム 1を基板 6上にラミネー卜した状態の一例を示す模式図である。発明を実施するための最良の形態

本発明の積層フイルムは、感光層及び 8 0 ^における単位幅あたりの 5 %伸び荷重（フイルム長手方向の値とし、以下「し 5値」と称する）が 4〜9 0 g Zmm、及び破断伸び（フイルム長手方向の値とし、以下同じ）が 5 0〜 1 0 0 0 %である第 1のフイルムを有するものである。

本発明における感光層としては、公知の感光性樹脂組成物を用いることができるが、希アルカリ水で現像可能とするため、通常、必須成分としてカルボキシル基含有バインダーポリマー、光重合開始剤及び光重合可能なビニル化合物を含むものである。

本発明において使用するカルボキシル基含有バインダーポリマーとしては、ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー（G P C)により標準ポリスチレンを使用して測定した重量平均分子量が 1 0， 0 0 0〜 5 0 0， 0 0 0であるものが好ましい。また、アルカリ現像を行う場合には、上記バインダーポリマーとしては、固形分酸価が 3 0〜3 0 0であるものが好ましい。

前記カルボキシル基含有バインダーポリマーとしては、例えば、ァクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルとァクリル酸又はメタクリル酸とこれらと共重合しうるビニルモノマーとの共重合体等が挙げられる。これらの共重合体は、単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることができる。

アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メチルァクリレー卜、ェチルァクリレー卜、プチルァクリレー卜、 2—ェチルへキシルァクリレート、これらに対応するメタクリレー卜等が挙げられる。

また、共重合しうるビニルモノマーとしては、例えば、テ卜ラヒドロフルフリルァクリレー卜、ジメチルアミノエチルァクリレー卜、ジェチルアミノエチルァクリレート、グリシジルァクリレー卜、 2 , 2 , 2—トリフル才ロェチルァクリレート、 2 , 2 , 3， 3—テ卜ラフル才ロプロピルァクリレート、これらに対応するメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジァセ卜ンメタクリルアミド、スチレン、ビニル卜ルェン等が挙げられる。

光重合開始剤としては、例えば、芳香族ケ卜ン（ベンゾフエノン、 N , Ν ' ーテトラメチルー 4， 4 ' ージァミノべンゾフエノン（ミヒラーケトン）、 N， N ' — テ卜ラエチル一 4， 4 ' ージァミノべンゾフエノン、 4ーメ卜キシー 4 ' -ジメチルァミノべンゾフエノン、 2—ェチルアン卜ラキノン、フエナントレンキノン等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインフエニルエーテル等）、ベンゾイン（メチルペンゾイン、ェチルベンゾィン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケタール等）、 2， 4 , 5—卜リアリ一ルイミダゾ一ルニ量体（2— （0—クロ口フエニル）一 4， 5—ジフエニルイミダゾールニ量体、 2— ( 0—クロ口フエニル）ー4， 5—ジ（m—メ卜キシフエ二ル）イミダゾールニ量体、 2— （0—フルオロフェニル）一 4 , 5—ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— （0—メトキシフエ二ル）一 4 , 5—ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— （p—メ卜キシフエニル）一 4 , 5—ジフエ二ルイミダゾールニ量体、 2 , 4—ジ（p—メ卜キシフエニル）一 5—フエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— （2， 4ージメ卜キシフエニル）一 4， 5—ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— （p—メチルメルカブ卜フエニル）一 4， 5—ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体等）、ァクリジン誘導体（9一フエ二ルァクリジン、 7—ビス（9 , 9 ' ーァクリジニル）ヘプタン等）などが挙げられる。これらは、単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることができる。

また、光重合可能なビニル化合物としては、例えばウレタンァクリレー卜ピスコ一卜 # 8 3 1 (大阪有機化学工業 (株)製商品名）、ポリエーテル型ウレタンァクリレー卜 B T G— A (共栄社油脂化学工業 (株)製商品名）、ポリエステル型ウレタンァクリレート D— 2 0 0 A (共栄社油脂化学工業 (株)製商品名）、ウレタンァクリレートフォトマー 6 0 0 8 (サンノプコ (株)製商品名）、ウレタンジァクリレー卜ケ厶リンク 9 5 0 3 (サー卜マー (株)製商品名）等のウレタンァクリレー卜やトリメチロールプロパンエトキシ卜リアクリレー卜（S R— 4 5 4 , サー卜マー (株）製商品名）、卜リメチロールプロパンプロポキシ卜リアクリレー卜（R— 9 2 4、日本化薬 (株)製商品名）、ポリエチレングリコールジァクリレー卜（エチレン基の数が 2〜 2 3のもの）、トリメチロールプロパンジァクリレート、卜リメチロールプロパン卜リアクリレート、テ卜ラメチロールメタントリァクリレート、テ卜ラメチロールメタンテ卜ラァクリレー卜、ポリプロピレングリコールジァクリレー卜 (プロピレン基の数が 2〜1 4のもの）、ジペンタエリスリ | ^一ルペンタァクリレート、ジペンタエリスリ I ^一ルへキサァクリレー卜、これらに対応するメタクリレ一卜等の多価アルコールに α , β一不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ビスフエノール Αジ才キシエチレンジァクリレー卜、ビスフエノール Aトリ才キシエチレンジァクリレー卜、ビスフエノール Aデカオキシエチレンジァクリレー卜等のビスフエノール Aポリ才キシエチレンジァクリレート、トリメチロールプロパン卜リグリシジルエーテルトリァクリレート、ビスフエノール Aジグリシジルエーテルァクリレー卜、これらに対応するメタクリレー卜等のダリシジル基含有化合物に a , 9一不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、無水フタル酸等の多価カルボン酸と 2—ヒドロキシェチルァクリレート、 2—ヒドロキシェチルメタクリレー卜等の水酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物との反応物であるエステル化合物、メチルァクリレート、ェチルァクリレート、ブチルァクリレート、 2—ェチルへキシルァクリレート、これらに対応するメタクリレー卜等のァクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステルなどが挙げられる。これらは単独で又は 2種類以上を組み合わせて使用することができる。

本発明における感光層に用いる感光性樹脂組成物には、必要に応じて可塑剤、染料、顔料、イメージング剤、充填剤、密着性付与剤等を配合して使用することができ、感光履の厚みとしては用途によリ異なるが、乾燥後の厚みで 3〜 1 00 μ m程度であることが好ましく、より好ましくは 1 0〜1 00 m程度である。

前記感光層の流動性は、基板等の被着体への追従性、感光曆の低変形性、低エツジフュージョン性等の点から、 50〜500 m程度であることが好ましく、 1 0 0〜300 m程度であることがより好ましく、 1 00~250 m程度であることが特に好ましい。流動性を前記の範囲とすることは、感光層を構成する各成分の種類と配合量を調節することにより行うことができる。ここにいう流動性は、直径 2 Omm,厚さ 2 mmの感光履をサンプルとし、このサンプルを平面の基板上に置いて、その上に直径 5 Ommの円筒形の 5 k gの静荷重を加え、変形していく感光層の 1 0秒後の厚み（Τ, ΓΓ) と 900秒後の厚み（Τ₂μηι) を測定した時の T,-T₂ (^m) である。

本発明における第 1のフイルムは、し 5値が 4〜90 gZmmである必要があり、 8〜90 gZmmであることが好ましく、 8〜60 g/mmであることがょリ好ましく、 8〜30 gZmmであることが特に好ましい。

L 5値を 4〜90 gZmmとするのは、 4 g Zmm未満であるとラミネートする際に転移層が伸びて膜厚が減少する不具合が生じ、また、 90gZmmを超えると、ラミネー卜すべき対象の表面の凹凸に対する感光層の追従性が低下するといぅ不具合が生じるためである。本発明における第 1のフイルムは、破断伸びが 50〜1 000 %である必要があリ、 1 00〜1 0 00%であることが好ましく、 1 00〜800 %であることがよリ好ましく、 1 50〜6 00%であることが特に好ましく、 1 5 0~4 0 0%であることが極めて好ましい。

破断伸びを 5 0〜1 000%とするのは、 50%未満であるとラミネートすべき対象の表面の凹凸に対する感光層の追従性が低下するという不具合が生じ、また、 1 000 %を超えると、ラミネー卜する際に転移層が伸びて膜厚が減少する不具合が生じるためである。

また、本発明における第 1のフイルムは、酸素透過量が 400m I /m² · 24 h · a t m以下であることが好ましく、 0〜20 Om I Zm² · 2 4 h · a t mであることがより好ましく、 0〜1 0 Om I /m² ■ 24 h · a t mであることが特に好ましい。

酸素透過量が、 400m l /m² · 24 h · a t mを超えると感光層が酸素による阻害を受けるため、露光時の感度低下、硬化レジス卜膜の架撟密度低下等の問題が発生する傾向がある。

また、本発明における第〗のフイルムは、吸水率が 5%以下であることが好ましく、 0~ 1 %であることがより好ましく、 0~0. 5%であることが特に好ましい。吸水率が、 5%を超えると感光層と被覆層の接 S力が増加し、現像前の被 S層の剥離が困難となる上、積層フイルムの保存安定性も低下する傾向がある。

また、本発明における第 1のフイルムは、ヘイズが 1 0%以下であることが好ましく、 0〜6 %であることがより好ましく、 0〜4%であることが特に好ましく、 0〜2 %であることが極めて好ましい。

ヘイズが、 1 0%を超えると露光用光線の透遇率が減少すると同時に、屈折や敗乱なども大きくなるため、解像性が著しく悪化する傾向がある。また、本発明における第 1のフイルムは、エレメンドルフ引裂強度が 4 . 5 k g / c m以上であることが好ましく、 5 k g Z c m以上であることがより好ましく、 7 k g Z c m以上であることが特に好ましい。エレメンドルフ引裂強度が 4 . 5 k g / c m未満であると感光層から被覆 βを剥離する工程において、被覆層が破れやすい傾向がある。

また、本発明における第 1のフイルムは、屈折率（Ν X： X軸方向）、屈折率（Ν 乂：ソ軸方向）が共に1 . 5 5以上であることが好ましく、 1 . 6 0以上であることがより好ましく、 1 . 6 5以上であることが特に好ましい。屈折率が 1 . 5 5よリ小さいと、露光時に入射する斜め光線を垂直方向に矯正する性能が低下するため、解像性が悪化する傾向がある。

本発明における第 1のフィルムは、例えば、単独重合ポリエステル、共重合ポリエステル、ブレンドポリエステル（単独重合ポリエステル同士のブレンド、単独重合ポリエステルと共重合ポリエステルとのブレンド、共重合ポリエステル同志のブレンド等）等の材質のフイルム、ガスバリヤ層（例えばポリ塩化ビニリデンコート等)を設けた無延伸ポリプロピレンフィル厶又は二軸延伸ポリプロピレンフイルムなどであることが好ましい。

これらは、前記特性を満足する上に、無延伸ポリエチレンフイルム、無延伸ポリアミドフイルム等に比較して耐熱性、防湿性のバランスに優れるためである。耐熱性が低いとラミネートの際の温度により溶融しやすく、また、吸湿性が高いと感光層と第 1のフイルムの接着力が増加し、現像前の第〗のフイルムの剥離が困難となリやすい。

本発明における第 1のフイルムの厚さは、 2〜3 Ο ΠΊであることが好ましく、 5〜2 0 mであることがより好ましく、 8〜1 4 mであることが特に好ましい。

2 m未満であると、ラミネー卜する際に転移層が伸びる不具合が生じる傾向があり、また、 3 O t mを超えると、露光用光線の屈折や散乱などが大きくなりやすく解像性が低下する傾向があり、ラミネートすべき対象の表面の凹凸への追従性が低下する傾向がある。

本発明の積層フイルムは、例えば、前記した第 1のフイルム上に、前記した感光性樹脂組成物を塗布、乾燥して製造することができる。

また、本発明の積層フイルムは、前記感光層及び第 1のフイルムの他に、さらに感光層の第 1のフイルムとは反対側に第 2のフィル厶を有するものであることが、取扱い性が優れる点で好ましい。

このような第 2のフィル厶を使用した本発明の積層フィル厶は、例えば、第 2のフイルム上に、前記した感光性樹脂組成物を塗布、乾燥して感光層とし、その感光層の上に第 1のフイルムを積層して製造することができる。

本発明における第 1のフイルムは、比較的軟かいため、比較的腰のある第 2のフイルムを使用し、この上に前記感光性樹脂組成物を塗布、乾燥することが、均一な感光層の形成ができる点で好ましい。

また、この場合、第 2のフイルムと感光層の間の接着力は、第 1のフイルムと感光層との間の接着力よりも小さいものであることが、第 2のフイルムを剥離して転移層が容易に形成できるため好ましい。

本発明における第 2のフイルムと感光層の間の接着力（A 1 )は、 1 8 0 ° ピール強度として、 1 O g Z c m以下であることが好ましい。この接着力（A 1 )が大き過ぎると、第 2のフイルムの剝雠がスムーズに行えなくなる傾向がある。

また、第 1のフイルムと感光層との間の接着力（A 2 ) は、〗 8 0 ° ピール強度において接 *力（A 1 ) より大きければよく、それ以外に特に制限はない。

本発明における第 2のフイルムは、ラミネートする前に剥離されるので、可換性を有していて前記感光層を剥離可能に接着できるものであり、乾燥炉の温度で損傷を受けないものであれば、特に制限されないが、例えば、紙、離型紙、ポリエチレンテレフタレ一卜等のポリエステル、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフイン、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニル等のハロゲン含有ビニル重合体、ナイロン等のポリアミド、セロファン等のセルロース、ポリスチレンなどのフイルムが挙げられ、これらは、透明であっても非透明であってもよく、離型処理が施されたものであってもよい。

本発明における第 2のフイルムの厚さは、特に制限されないが、ロール状に巻いた場合のサイズの点を考慮すると、 5〜2 0 Ο ΓΤΙとすることが好ましく、 1 0 ~ 1 0 0 μ ηιとすることがより好ましく、 1 0〜5 0 t mとすることが特に好ましい。このようにして得られる本発明の稹層フイルムは、ロール状に巻いて保管することができる。

また、本発明の積層フイルムは、感光層、第 1のフイルム及び必要に応じて用いる第 2のフイルムの他に、クッション餍、接着餍、光吸収層、ガスバリア層等の中間層や保護層を有していてもよい。

本発明のプリント配線板の製造法は、前記感光層及び第 1のフイルムを有する積 βフイルムを、感光層と基板とが接するように基板上にラミネートし、次いで、露光、現像することを特徴とする。

また、本発明のプリント配線板の製造法は、前記感光層、第〗のフイルム及び第

2のフイルムを有する積層フイルムを、第 2のフイルムを剥離して、感光層と基板とが接するように基板上にラミネートし、次いで、露光、現像することを特徴とする。

以下、第 1図（a )及び（b ) を用いて、本発明のプリン卜配線板の製造法の一例について詳述する。

第 1図（a )及び（b ) は、本発明のプリン卜配線板の製造法における積層フィル厶 1を基板 6上にラミネートしとた状態を示した模式図である。なお、第 1図

( a )及び（b ) において、積層フイルム 1は、感光層 3、第 1のフイルム 4及び第 2のフイルム 2を有するものであり、感光層 3及び第 1のフイルム 4は転移層 5 である。

本発明における基板 6としては、例えば、銅、鉄、アルミニウム等の金属シー卜、ステンレス、 4 2ァロイ（F e— N i合金）等の合金のシート、銅張り積層板等が挙げられる。

第 1図（a )は、感光雇 3と第 1のフイルム 4を有する転移層 5及び第 2のフィル厶 2を有する本発明の積層フイルム 1の模式図であり、第 1図（b ) は、この積層フイルム 1の第 2のフイルム 2を剥雠して、基板 6上にラミネートした状態を示した模式図である。

基板 6上に積層フイルム 1をラミネートする方法としては、特に制限はないが、例えば、加熱可能なロールを備えたラミネーターを用いる方法等が挙げられる。通常、ラミネート時の、温度は、 6 0〜1 5 0 °C (好ましくは 8 0〜1 3 0で）であリ、圧力は、 1〜1 0 k g f Z c m ² (好ましくは 3〜7 k g f / c m ²) であり、送り速度は、 0 . 〗 ~ 1 O m/分（好ましくは 1〜5 mZ分）である。

本発明における露光方法としては、特に制限はないが、例えば、第 1のフイルム 4上（第 1のフイルムが剥離されている場合は感光層 3上）に所定のパターンのネガマスクを載せ、このネガマスク上から超高圧水銀ランプ等の光源を用いて活性光線を照射する方法、レーザーを用いる C A D(Computer-aided design)により活性光線をパターン状に照射する方法等が挙げられる。

本発明における現像とは、感光層 3を現像して、感光 IB 3のレジス卜パターンとしたい部分以外の部分（不要部）を除去することを言う。

現像の方法としては、特に制限はないが、例えば、露光により生じた感光層 3の露光部と未露光部の現像液に対する溶解度差を利用するゥエツ卜現像法、露光部と未露光部の接着力差を利用するドライ現像法等が挙げられる。

解像性の点からはゥエツ卜現像法が好ましく、その現像液としては、特に制限はないが、例えば、 1， 1， 1一卜リクロロェタン等の有機溶剤、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ性溶液等が挙げらる。ゥ: Lッ卜現像法では、これらの現像液を露光した後の感光層 3に接触させ、露光部及び未露光部のどちらか一方を溶解又は剥離して除去する。

現像後、基板上にレジストパターンが形成される。この後、常法により、エッチング又はめつきを行い、次いでレジス卜パターンを剥離することにより、本発明におけるプリン卜配線板を得ることができる。

実施例

以下、本発明を実施例によって説明する。

製造例 1

(感光層材料（ I ) の作製）

表 1に示す材料を配合し、感光層材料（ I ) を作製した。

表 1

Sip -S メタクリル酸/メタクリル酸メチル (25/75(重量比))の共重合 P ui nリ雷里 _ SK R 体、重量平均分子量 75,000

7"卜フノ□ レノクリ J一ノレンクリレー卜 4 0重置部ン丄テソレノぺノソノエノ 0 . 2重量部ノ

へノンノエノノ 5重量部クリスタルバイオレツ卜メチルェチルケトン 1 o 0重量部

製造例 2 (感光層材料（ II ) の作製）表 2に示す材料を配合し、感光層材料（II ) を作製した _£

o

o 障

材料配合量メタクリル酸メタクリル酸メチル Zァクリル酸ェチル /メ夕ク

1 0 U SSnl> リル酸ェチル（22/45/27/6 (重量比）、重量平均分子量 75,000)

(固形分：の共重合体の 40重量％メチルセ口ソルブ /トルエン (6/4(重量 fi u 0审里暑里^ atリ比))溶液 (固形分酸価 144)

2,2 ' 一ビス (（4ーメタクリロキシペンタエ卜キシ）フエニル)プ

30重量部口パン

τ_ク□□— β—ヒド πキシプロレ一 β' _メタクリロイ Jレオ

1 0重量部キシェチルー 0—フタレート

1 , 7—ビス（9， 9 ' ーァクリジニル）ヘプタン 0. 4重量部

Ν,Ν' —テ卜ラエチルー 4，4' ージァミノべンゾフエノン 0. 05重量部ロイコクリスタルバイオレツ卜 0. 5重量部マラカイ卜グリーン 0. 05重量部トリブロモメチルフエニルスルホン 1重量部ァセ卜ン 1 0重量部卜ルェン 1 0重量部メタノール 3重量部

実施例 1

(積層フイルム Αの作製）第 2のフイルムとして、離型処理を施した厚さ 25 t mの二軸延伸ポリエチレンテレフタレー卜フイルム（帝人株式会社製、商品名 S₇,) を用い、その上に、製造例 1で得られた感光層材料（ I )を、乾燥後の厚みが 40 imとなるように塗布し、 80°Cで 1 0分間温風乾燥し感光層とした。

次いで、第〗のフイルムとして、厚さ 1 1 mの二軸延伸イソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレー卜フィルム（帝人株式会社製、 HK— 4 (フイルムサンプル)、 L 5値 55 g/mm (テンシロン万能型引張試験機に恒温槽を取りつけ 80°C にて 1 Omm幅の短冊型試料をチャック間 1 0 cm、引張速度 1 O cmZ分で引張試験を行い、試料が 5 %の伸びを示した時の荷重を試料の幅で除した値を L 5値 (gZmm) とした。以下同じ）、破断伸び 1 50% U I S C 231 8に準拠。以下同じ）、酸素透過量 1 70m I /m² · 24 h · a tm (J I S Z 1 707に準拠。以下同じ）、吸水率 0. 3% (J I S K 7209に準拠。以下同じ）ヘイズ 4% (J I S K 6782に準拠。以下同じ）、エレメンドルフ引裂強度 7. 5 k g/cm (J I S K 71 28 Β法に準拠。以上同じ）、屈折率Nx l . 64、 Ny 1. 64 (J I S Κ 71 05に準拠。以下同じ））を用い、これを前記感光層に被覆して積層フイルム Αを作製した。得られた積層フィル厶 Aを、第 1のフイルムが外側となるように巻き取った。

実施例 2

(積層フイルム Bの作製）

実施例 1において、第 1のフイルムに用いた HK— 4に代えて、厚さ 1 2 tmの二軸延伸ポリプロピレンフイルム（二村化学工業株式会社製、商品名 FOR— 1 2 )の上に、ガスバリャ層としてポリ塩化ビニリデンを 3 . ml?さに塗布したもの (L 5値 25 g/mm, 破断伸び 200%. 酸素透過量 1 0m I Zm² · 24 h · a t m、吸水率 0. 3%、ヘイズ 3%、エレメンドルフ引裂強度 1. 8 k gZcm、屈折率 N x 1. 60、 Ny 1. 60) を用いた以外は、実施例 1と同様にして積層フイルム Bを作製し、得られた積層フイルム Bを、第 1のフイルムが外側となるように巻き取った。実施例 3

(積層フイルム Cの作製）

第 2のフイルムとして、厚さ 3 0 mの二軸延伸ポリプロピレンフィルム（信越フイルム株式会社製、商品名 PT 3 0)を用い、その上に、製造例 2で得られた感光層材料（II)を、乾燥後の厚みが 40 μηιとなるように塗布し、 80でで1 0分間温風乾燥し感光層とした。

次いで、第 1のフイルムとして、実施例 1で用いた ΗΚ— 4を用い、これを前記感光層に被覆して積餍フイルム Cを作製した。得られた積層フイルム Cを、第 1のフイルムが外側となるように巻き取った。

実施例 4

(積層フイルム Dの作製）

実施例 3において、第〗のフイルムに用いた Η Κ— 4に代えて、厚さ 1 1 mのイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートとポリブチレンテレフ夕レー卜 (二軸延伸、帝人株式会社製、 H K— 7 (フイルムサンプル）、 L 5値20 g/^/m m、破断伸び 1 80%、酸素透過量 1 30m l /m² · 2 4 h · a t m、吸水率 0. 3%、ヘイズ 2. 9 %, エレメンドルフ引裂強度 7. 6 k gZcm、屈折率 N X 1. 6 3、 N y 1 . 64) とのブレンドフイルムを用いた以外は、実施例 3と同様にして積層フイルム Dを作製し、得られた積層フイルム Dを、第 1のフィルムが外側となるように巻き取った。

実施例 5

(稹層フイルム Eの作製）

実施例 3において、第 1のフイルムに用いた H K— 4に代えて、厚さ 1 1 xmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルム（帝人株式会社製、 HK- 1 (フィル厶サンプル）、 L 5値 85 gZmm、破断伸び 1 1 0%、酸素透過量 1 30m l m² · 24 h · a t m、吸水率 0. 3%、ヘイズ 1. 5 %、エレメンドルフ引裂強度 4. 0 k g/cm, 屈折率 Nx 1. 65、 N y 1. 66) を用いた以外は、実施例 3と同様にして積層フイルム Eを作製し、得られた積層フイルム Eを、第 1のフィルムが外側となるように巻き取った。

実施例 6

(積層フイルム Fの作製）

実施例 3において、第 1のフイルムに用いた H K— 4に代えて、厚さ 1 2 tmの二軸延伸ポリプロピレンフイルム（二村化学工業株式会社製、商品名 FOR— 1 2、 L 5値 1 SgZmm、破断伸び〗 40%、酸素透過量 1 400m l /m²'24 h - a tm、吸水率 0. 3%、ヘイズ 2. 5 %、エレメンドルフ引裂強度 1. 2 k gZ cm, 屈折率 N x 1. 50、 N y 1. 49) を用いた以外は、実施例 3と同様にして積層フイルム Fを作製し、得られた積層フイルム Fを、第 1のフイルムが外側となるように巻き取った。

比較例 1

(穣層フイルム Gの作製）

厚さ 1 9 の二軸延伸ポリエチレンテレフタレー卜フイルム（帝人株式会社製、商品名 G 2— 1 9、 L 5値 1 50 g/mm,破断伸び 1 50%、酸素透過量 90m I Zm² · 24 h · a t m、吸水率 0. 3%、ヘイズ 1. 5%、エレメンドルフ引裂強度 6. 0 k g/cm、屈折率 N x 1. 65、 N y 1. 66) の上に、製造例 1 で得られた感光層材料（ I )を、乾燥後の厚みが 40 /xmとなるように塗布し、 8 0でで 1 0分間温風乾燥し感光層とした。

次いで、厚さ 25 mの無延伸ポリエチレンフイルム（夕マポリ株式会社製、商品名 N F— 1 3)を前記感光層に被種して積層フイルム Gを作製した。得られた積 ISフィルム Gを、 G2— 1 9のフイルムが外側となるように巻き取った。比較例 2

(稹層フイルム Hの作製）

比較例 1において、感光層材料（ I ) に代えて、感光層材料（II ) を用いた以外、比較例 1と同様にして積層フイルム Hを作製した。得られた積層フイルム Hを、 G 2— 1 9のフイルムが外側となるように巻き取った。

得られた積層フイルムについて、表 3にまとめた。

実施例比較例

1 2 3 4 5 6 1 2 積層フイルム A B C D E F G H 感光履材料 ( 1 ) ( I ) (II) (II) (II) (II) ( I ) (II) ガスバリ

商品名又はサンプル名 HK-4 ャ層付 H K-4 H K-7 H K-1 FOR-12 G 2 - 1 9 第 FOR-12

1 L 5値 55 25 55 20 85 1 8 1 50 の破断伸び 1 50 200 1 50 1 80 1 1 0 1 40 1 50 フ酸素透過量 1 70 1 0 1 70 1 30 1 30 1400 90 ィ吸水率 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 ルヘイズ 4 3 4 2.9 1.5 2.5 1.5 厶エレメンドルフ引裂強度 7.5 1.8 7.5 7. 6 4.0 1.2 6.0

(Nx) 1.64 1.60 1.64 1.63 1.65 1.50 1.65 屈折率

( v) 1.64 1.60 Ί.64 1.64 1.66 1.49 1.66 第 2の

商品名又はサンプル名 s₇₁ s₇₁ PT30 P T30 PT30 P T30 N F- 1 3 フィ JU:

実施例 7〜1 2及び比較例 3〜4

(プリン卜配線板 aの作製）

厚さ 35 の銅はくを、片面に積層したガラスエポキシ基板（日立化成工業株式会社製、商品名 MC L— E 67 - 35 S)の銅表面を、 # 600相当のブラシを持つ研磨機（三啓株式会社製）を用いて研磨し、水洗後、空気流で乾燥して銅張積層板を得た。

次いで、得られた銅張積層板を 80 に加温した後、高温ラミネーター（日立化成工業株式会社製、 H LM— 3000)を用いて、上記基板に、実施例 1〜6及び比铰例 1〜2で作製した、積履フイルム A、積層フィル厶8、積層フィル厶〇、積層フイルム D、積層フィル厶、積餍フィル厶「、積履フイルム G及び積層フィル厶 Hの感光層を基材に向けて、積層フイルム A、積層フィルム B、積暦フイルム C、積層フイルム D、稹暦フィル厶 E及び積層フィル厶 Fは第 1のフィル厶側を口ールに触れるようにして、積雇フイルム G及び積層フイルム Hは G 2一 1 9のフイルム側を口ールに触れるようにしてラミネ一卜した。

この際のラミネート速度は 1. 5mZ分、ロール温度は 1 00で、ロールのシリンダー圧力は 4 kg f Zcm²とした。

次いで、ラミネート終了後、 23°Cまで冷却した後、積層フィル厶八、積層フィル厶 B、積層フイルム C、積層フイルム D、積履フイルム E及び稹層フイルム Fを用いたものは第 1のフイルムの上に、積層フイルム G及び積雇フィルム Hを用いたものは G2— 1 9のフイルムの上に、ネガマスク（ス! ^一ファー 21段ステップ夕ブレツ卜とライン Zスペースが 400/20〜400 200 (解像性、単位： n m)の配線パターンを有するネガマスク）を密«させ、オーク製作所株式会社製露光機（型式 HMW— 590、 7k銀ショー卜アークランプ）を用い、スト一ファー 2 1段ステップタブレツ卜の現像後の残存ステップ段数が 8.0となるエネルギー量で露光した。

次いで、稹 Sフィルム A、積層フィル厶8、積層フィル厶0、積層フイルム D、積層フイルム E及び積; Bフイルム Fを用いたものは第 1のフイルムを、積層フィル厶 G及び積屠フイルム Hを用いたものは G 2一 1 9のフイルムを除去し、 1重量％炭酸ナトリウム水溶液（30°C)で 50秒間スプレー現像し、基板上にレジス卜パターンを形成した。得られたレジス卜パターンの、現像残りの無い最小スペース幅の値を解像性として測定し、結果を表 4に示した。なお、この値が小さいほど解像性が優れたものである。

次いで、塩化第 2銅エッチング液（2モル Zリットル C uC I ₂、 2 N-HC k溶液、 50。C、スプレー圧力 2 k g f ノ cm²) を 1 00秒間スプレーし、レジス卜で保護されていない部分の銅を溶解し、さらに、レジス卜パターンを剥離液 (3重量％N aOH水溶液、 45 、スプレー圧力 2 k g f /cm²) で剥離し、基板上に銅のラインが形成されたプリン卜配線板 aを作製した。

(プリント配線板 bの作製）

厚さ 70 imの銅はくを、片面に積層したガラスエポキシ基板（日立化成工業株式会社製、商品名1^。しー£ 67— 705) の銅はくの表面に、長さが〗 0 cm、幅が 1〜40μηαの傷を、その傷深さを 1本ごとに順次深くして（1〜20 im) 複数本の傷を形成した銅張積層板を得た。これらの傷は連続加重式引搔き器（H E I DON株式会社製）を使用し、荷重を変えて形成した。

次いで、得られた銅張積層板を 8 O :に加温した後、高温ラミネーター（日立化成工業株式会社製の H LM— 3000を使用した）を用いて、上記基板に、実施例 1〜 4及び比較例 1〜 2で作製した、積層フイルム A、積層フィル厶巳、積層フィル厶 C、積層フイルム D、積層フィル厶£、積層フィル厶「、積層フイルム G及び積層フイルム Hの感光層を基材に向けて、積層フイルム A、積餍フィル厶8、積層フィル厶〇、積層フイルム D、積層フイルム E及び積層フイルム Fは第 1のフィル厶側を口ールに触れるようにして、積層フイルム G及び積層フィル厶 Hは G 2— 1 9のフイルム側をロールに触れるようにしてラミネート（ラミネートロールの軸と基板の傷の長さ方向は平行とした）した。この際のラミネート速度は 2 mZ分、口ール温度は 1 00で、ロールのシリンダー圧力は 4 k g f Zcm²とした。

次いで、ラミネート終了後、 23°Cまで冷却した後、積履フイルム A、積層フィル厶 B、積層フイルム C、積層フイルム D、穢層フイルム E及び積層フイルム Fを用いたものは第 1のフィル厶の上に、積層フィル厶 G及び積層フィル厶 Hを用いたものは G 2— 1 9のフィルムの上に、 200 mライン幅のネガティブ像を形成するネガマスクとスト一ファー 21段ステップタブレツ卜を基板の傷の長さ方向と直角に交差する方向に置き、高圧水銀灯で、ス卜ーファー 2 1段ステップタブレツ卜の現像後の残存ステップ段数が 9となるエネルギー量で露光した。

次いで、穰層フィルム A、積層フィル厶8、積層フィル厶じ、積層フイルム D、積層フイルム E及び積層フイルム Fを用いたものは第 1のフイルムを、稹臑フィル厶 G及び稹層フイルム Hを用いたものは G 2— 1 9のフイルムを除去し、 1重量％炭酸ナトリウム水溶液で 60秒間スプレー現像し、基板上にレジス卜パターンを形成した。

ス! ^一ファーの 2 1段ステップタブレツ卜の残存段数は、全積層フイルム共に 9 段を示し、良好なレジスト像を有していた。

次いで、塩化第 2銅エッチング液（2モル Zリツ卜ル CuC I ₂、 2 N-HC I水溶液、 50 、スプレー圧力 2 k g f /cm²) を 1 00〜200秒間スプレ一し、レジストで保護されていない部分の銅を溶解し、さらに、レジス卜パターンを剥離液（3重量％N aOH水溶液、 45で、スプレー圧力 2 k g f /cm²) で剥離し、基板上に銅のラインが形成されたプリン卜配線板 bを作製した。基板上の傷に積層フイルムが追従していない場合は、レジス卜と基板間に空隙があるため、銅のラインはレジス卜と傷の交点部分でエッチング液が浸み込み、銅が溶解し、銅ラインが接続しないこととなり、断線不良となる。この断線が開始する傷深さ（ m) を凹凸追従性（この値が大きい程、追従性は優れる）として、結果を表 5に示した。

(プリン卜配線板 cの作製）

厚さ 3 5 の銅はくを、片面に積層したエポキシ基板（厚さ 1 . 0 mm)を所定の凹凸を有した金型を備えたプレスを用いてプレスすることにより、凹み深さが 3〜 1 8 μ m、凹み幅が 3 0 0〜2 0 0 0 mの銅張積層板を得た。

次いで、得られた銅張積層板を 8 0 Cに加温した後、高温ラミネーター（日立化成工業株式会社製の H L M— 3 0 0 0を使用した）を用いて、上記基板に、実施例 1〜 4及び比較例 1〜 2で作製した、稹層フイルム A、積層フィル厶積層フィル厶 C、積層フィル A D、積層フィル厶£、積層フィル厶「、稹層フイルム G及び積層フイルム Hの感光層を基材に向けて、稹層フィル厶、積層フィル厶8、積層フィノレ厶じ、稹層フイルム D、積層フイルム E及び積層フイルム Fは第 1のフィル厶側を口ールに触れるようにして、積餍フイルム G及び積層フイルム Hは G 2— 1 9のフイルムをロールに触れるようにしてラミネート（ラミネートロールの軸と、基板の凹み長さ方向とは平行とした）した。この際のラミネート速度は 1 . 5 mZ 分、ロール温度は 1 1 0 °C、ロールのシリンダー圧力は 4 k g f / c m ²とした。次いで、ラミネート終了後、 2 3 tまで冷却した後、 »層フィル厶八、 »層フィルム B、積層フイルム C、積層フイルム D、積層フイルム E及び積層フイルム Fを用いたものは第 1のフィル厶の上に、積層フィル厶 G及び積層フィル厶 Hを用いたものは G 2一 1 9のフイルムの上に、ネガマスク（ライン/スペースが 1 0 0 m / 1 0 0 t m)とス! ^一ファー 2 1段ステップタブレツ卜を、凹み長さ方向と直角に交差する方向に密着させ、オーク製作所株式会社製露光機（型式 HMW— 590、水銀ショー卜アークランプ）を用い、ス卜一ファー 2 1段ステップタブレツ卜の現像後の残存ステップ段数が 8. 0となるエネルギー量で露光した。

次いで、室温で 1 5分間放置した後、積層フイルム A、積層フィル厶^積層フイルム C、積層フイルム D、積層フイルム E及び積層フイルム Fを用いたものは第 1のフィルムを、積層フイルム G及び積層フイルム Hを用いたものは G 2— 1 9のフイルムを除去し、 1重量％炭酸ナトリウム水溶液で 50秒間スプレー現像し、基板上にレジス卜パターンを形成した。

次いで、塩化第 2鉄エッチング液（45度ボーメ、 50°C、スプレー圧力 2 k g f /cm²) を 80秒間スプレーし、レジス卜で保護されていない部分の銅を溶解し、さらに、レジス卜パターンを剥離液（3重量％NaOH水溶液、 45°C、スプレー圧力 2 k g fZcm²) で剥離し、基板上に銅のラインが形成されたプリン卜配線板 cを作製した。

基板上の凹みに積層フイルムが追従していない場合は、レジス卜と基板間に空隙があるため、銅のラインはレジス卜と凹みの交点部分でエッチング液が浸み込み、銅が溶解し、銅ラインが接統しないこととなり、断線不良となる。この断線が開始する凹み深さ（ tm) をウェーブ追従性（この値が大きい程、追従性は優れる）として、結果を表 4に示した。

(ピール破れ率）

プリント配線板 aの作製と同様の方法にて、露光工程まで行った基板を作製し、次いで、積層フィル厶、稹層フィル AB、積層フィル厶。、積層フイルム D、積履フイルム E及び積履フイルム Fを用いたものは第 1のフイルムを、積層フイルム G及び積層フイルム Hを用いたものは G 2— 1 9のフイルムを、感光層から手作業により剥離するテス卜（ピールテスト）を、各フイルムにっき 1 00枚実施した。ピールテス卜の際に剥離した又はしょうとしたフィル厶に破れが発生した割合を、ピール破れ率（この値が小さい程、感光層からの剥離性に優れる）とし、結果を表 4に示した。

表 4 実施例比铰例

7 8 9 1 0 1 1 1 2 3 4 積層フイルム A B C D E F G H 解像性 35 40 35 35 35 60 50 45 凹凸追従性（ m) 1 0 1 1 1 0 1 2 8.5 1 2 7 7 ウェーブ追従性（ tm) 1 5 1 7 1 5 1 8 1 2 1 8 1 0 1 0 ビール破れ率（％) 0 20 0 0 1 4 2 1 0 0

本発明の積層フイルム（積層フイルム A、積層フィル厶積層フィルム積屨フィルム D、積層フイルム E及び積層フィルム F ) を用いた実施例 5〜 1 0は、積層フィル厶 G及び積層フィル厶 Hを用いた比較例 3比較例 4に比べて、凹凸追従性及びウェーブ追従性ともに優れたものであった。また、実施例 5〜8は、解像性が優れ、ピール破れ率の小さいものであった。産業上の利用可能性

第 1の発明の積層フイルムは、生産コストを上昇させずにラミネー卜すべき対象の表面の凹凸に転移層が良好に追従し解像性を向上でき、プリン卜配線板の製造歩留まりを大幅に向上することができる。

第 2の発明の積層フイルムは、第 1の発明の積層フイルムの効果を奏し、さらに感度、架橋密度、保存安定性、解像度を向上し、第 1のフイルムの感光層からの剥離性の良好なものである。

第 3の発明の «層フイルムは、第 1又は 2の発明の積層フイルムの効果を奏し、さらに取扱い性が優れる。

第 4の発明の積層フイルムは、第 3の発明の »層フイルムの効果を奏し、さらにラミネー卜時の作業性が優れる。

第 5及び 6の発明のプリン卜配線板の製造法は、生産コス卜を上昇させずにラミネー卜すべき対象の表面の凹凸に転移層が良好に追従し解像性を向上でき、プリン卜配線板の製造歩留まりを大幅に向上することができる。

Claims

請求の範囲

1.感光層及び 80°Cにおけるフイルム長手方向の単位幅あたりの 5%伸び荷重が 4-90 gZmm、フィルム長手方向の破断伸びが 50〜 1 000%である第 1のフイルムを有する稹層フイルム。

2.第 1のフイルムが、 8〜90 gZmmの伸び荷重及び 1 00〜 1 000%の破断伸びを有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

3.第 1のフイルムが、 8〜60 gZmmの伸び荷重及び 1 00〜800 %の破断伸びを有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

4.第 1のフィルムが、 8〜30 gZmmの伸び荷重及び 1 50〜600 %の破断伸びを有するものである請求の範囲第 1項記 Kの積層フィルム。

5.第 1のフイルムが、 1 50〜400%の破断伸びを有するものである請求の範囲第 4項記載の積層フイルム。

6. 第 1のフイルムが、 400m l /m² · 24 h■ a t m以下の酸素透過重、 5% 以下の吸水率及び 1 0%以下のヘイズを有するものである請求の範囲第〗項記 « の稱層フイルム。

7. 第 1のフイルムが、 0〜20 Om I /m² · 24 h · a t m以下の酸素透過量、 0-1 %の吸水率及び 0〜6%のヘイズを有するものである諝求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

8. 第 1のフイルムが、 0〜 1 0 Om I Zm²■ 24 h · a tm以下の酸素透過量、 0~0.5%の吸水率及び 0~4%のヘイズを有するものである請求の範囲第 1項記載の積履フイルム。

9.第 1のフイルムが、 0〜2%のヘイズを有するものである請求の範囲第 8項記載の積履フイルム。

1 0. 第 1のフイルムが、 4. 5 kgZcm以上のエレメンドルフ引裂強度を有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

1 1.第 1のフイルムが、 5 k gZcm以上のエレメンドルフ引裂強度を有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

1 2.第 1のフイルムが、 7 k cm以上のエレメンドルフ引裂強度を有するものである請求の範囲第〗項記載の積層フイルム。

1 3. 第 1のフイルムが、 1. 55以上の屈折率を有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

1 4. 第 1のフイルムが、 1 60以上の屈折率を有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

1 5. 第 1のフイルムが、 1 65以上の屈折率を有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フイルム。

1 6.第 1のフイルムが、 2〜 30 mの膜厚を有するものである請求の範囲第 1 項記載の積層フイルム。

1 7.第 1のフィル厶が、 5〜 20 mの膜厚を有するものである請求の範囲第 1 項記載の積層フイルム。

1 8.第 1のフイルムが、 8〜1 4 Aimの膜厚を有するものである請求の範囲第 1 項記載の積層フイルム。

1 9.感光層が、 3〜1 00 mの膜厚を有するものである請求の範囲第〗項記載の積層フイルム。

20.感光層及び第 1のフイルムの他に、さらに感光層の第 1のフイルムとは反対側に第 2のフィル厶を有するものである請求の範囲第 1項記載の積層フィル厶。

21.第 2のフイルムと感光層の間の接義力が、第 1のフイルムと感光層との間の接着力よりも小さいものである請求の範囲第 20項記載の積層フイルム。

2 2 .第 2のフイルムと感光層の間の接着力が、 1 0 §ノ(；以下の1 8 0 ° ピール強度である請求の範囲第 2 0項記載の »餍フイルム。

2 3 .第 2のフィル厶が、 5〜 2 0 0 mの膜厚を有するものである請求の範囲第 2 0項記載の積履フイルム。

2 4 .第 2のフイルムが、 1 0〜 1 0 0 mの膜厚を有するものである請求の範囲第 2 0項記載の積層フイルム。

2 5 .第 2のフイルムが、 1 0〜 5 0 mの膜厚を有するものである請求の範囲第 2 0項記載の積層フイルム。

2 6 .請求の範囲第 1項記載の積層フイルムを、慼光暦と基板とが接するように基板上にラミネートし、次いで、露光、現像することを特徴とするプリント配線板の製造法。

2 7 . 請求の範囲第 2 0項記載の積層フイルムを、第 2のフィル厶を剝離して、感光層と基板とが接するように基板上にラミネートし、次いで、露光、現像することを特徴とするプリン卜配線板の製造法。