WO1994018274A1 - Azo color for color filter and process for producing color filter - Google Patents

Azo color for color filter and process for producing color filter Download PDF

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Yoshiki Hishiro
Naoki Takeyama
Shigeki Yamamoto
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Sumitomo Chemical Company, Limited
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Definitions

  • the present invention relates to a color filter ffl azo dye, and more particularly to a mazine or red or yellow color azo dye for a color filter.
  • a color filter ffl azo dye and more particularly to a mazine or red or yellow color azo dye for a color filter.
  • a color filter especially a color filter for a solid-state image pickup device such as a charge-coupled device (CCD) or a liquid crystal display device (LCD) generally has a first filter. It depends on the photo registry. It is produced by a method of forming evening and then dyeing. However, in this method, there are problems such as a complicated dyeing process and difficulty in process control. Therefore, for example, JP-A-4-16352 / 52 and JP-A-4-1287703 each disclose a photoresist to which a pigment such as a pigment or a dye is added. There has been proposed a method of forming a force filter by forming a pattern by using a filter.
  • the former method is not suitable for the manufacture of CCD filters for CCDs that require high resolution because the pigment itself contains particles of about 1 m.
  • the latter method there is a problem in the stability of the coloring pattern, etc. And these methods have even greater problems. That is, the ordinary dye is present as a foreign substance in the resist that can be developed by the developer. In other words, unlike in the case of semiconductor fabrication, in the case of color filter fabrication, it is desirable that the thickness of the crotch is 1 m or less.
  • a large amount of dye must be added to a resist composition containing a resin and an organic solvent.
  • the dye of the general formula It) is insoluble in either an aqueous solution of an organic solvent or an organic solvent, and therefore has a desired spectrum and a fine and thin film. It was difficult and rare to obtain a lightly colored pattern.
  • the present invention solves the above-mentioned problems, and provides spectral characteristics for preparing a resist composition for color filters which is excellent in various properties such as resolution and free of scum (development residue).
  • the molecule has at least one sulfone substituted with one hydrogen atom in the molecule, and is soluble in an alkaline aqueous solution and an organic solvent.
  • the present invention relates to an azo dye for a color filter characterized by the following. Further, the present invention relates to a method for producing a color filter having a plurality of colored filter elements, a) Forming an organic solvent coating of a photoresist composition containing an azo dye on a support, and drying the organic solvent coating to form an adhesion layer. In the step of forming, in this step, the composition contains a resin soluble in water and the azo dye, and the dye is soluble in the resin constituting the photoresist composition.
  • the dye has at least one amide group, and the dye has a desired dye concentration and a desired predetermined value for a filter element produced from the photo resist composition. It has predetermined absorption and transmission characteristics of the specified color.
  • the dye is sufficiently transparent to the radiation used to expose the photoresist composition, and is used in the aqueous solution used in the following development.
  • the preferred magenta or red dye is, for example, the following formula:
  • a pigment having a base represented by the formula is obtained.
  • Preferred yellow dyes include, for example,
  • magenta or red dyes examples include the formula
  • R and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkylene atom, an alkyl atom, an aryloxy atom, an arylalkyl atom, a rubynylamino atom, and a real force atom.
  • alkylaryl or dialkyloxy or sulfonate groups or -so2NHR (R is substituted or unsubstituted alkyl or cycloalkyl) ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ , ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ And R 3 represents a lower alkyl group, an aryl group, or an aryl group.
  • X and Y each independently represent a sulfonate group or one SO 2 NHR. However, R At least one of R 2, X and Y is
  • a specific example of a preferred erotic dye is
  • R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen or a halogen atom or a sulfonate group
  • L represents 1 or 2
  • B represents L 2
  • R 7, R and R 9 are each independently hydrogen atom, methylation group or sulfo phospho groups also rather an S ⁇ 2 NHR a (R is Ru same meaning der above)
  • X, Y and Z each independently represent a sulfonate group or one SO 2 NHR (R has the same meaning as described above).
  • R to R 9 and X to Z are at least one of them.
  • azo dye for color filters of the present invention include, for example,
  • n Ri 1 or more integer der, preferred and rather is 3 or more 3 0 an integer.
  • n and m are the sum is an integer of 1 or more, respectively, with the proviso that less than 3 3 0 an integer.
  • R ′′ ′ is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom
  • R ′′ is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the dye having a sulfonate group can be appropriately selected from CI Acid Color, CI Direct Color, and the like described in the color index. it can.
  • CI Acid Color CI Direct Color
  • at least one -SONHRCR in the molecule is the same as described above). It has no free sulfonate group and is a strong mention.
  • an ab dye for use in a color filter an al-soluble resin and an organic solvent solution containing the dye are one of the ali-soluble resin in terms of the weight ratio ia.
  • the above-mentioned azo dyes for a color filter are preferably used in combination of two or more.
  • Organic solvents used in the photo resist composition include, for example, methylcellosolve, ethylcellosolve, methylcellosolone acetate, methylcellosolve acetate, ethylcellosolve, etc. Settlement, ethylene glycol, ethanol, ethylene glycol — propylene glycol, propylene glycol, propylene glycol Tinoleatel, N, N—Dimethyl acetone amide, N—Methylenopyrrolidine, 71-pyloctylactone, Methylisobutylacetone, Methyl ethynoleketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monomethyl acetate Luthele, propylene acetate alcohol monolue Te Le, lactic main Ji Honoré, lactic E Ji Le, pill bins acid E Ji Le, rather also di main switch ls
  • alkaline soluble resin used in the photo resist composition examples include novolak resin and vinyl polymer. Is increased.
  • the novolak resin includes, for example, those obtained by condensing phenols and aldehydes in the presence of an acid catalyst.
  • the phenols include phenol, cresol, phenol, phenol, butyl, phenol, and phenol.
  • the aldehydes include, for example, formaldehyde, paraformaldehyde, acetate aldehyde, propionaldehyde, and venzaldehyde.
  • novolak resin examples include, for example, methanol and paracresol, or a condensation product of formalin and a mixture thereof.
  • the molecular weight distribution of these novolak resins may be adjusted by means such as fractionation.
  • a low molecular weight component having a phenolic hydroxyl group such as bisphenol C or bisphenol A may be mixed with the above-mentioned novolac resin. .
  • vinyl polymer examples include a copolymer of styrene with p-hydroxylene cis-styrene (such as MARUKALYNCUR-CST manufactured by Maruzen Petroleum), and styrene mono-maleic anhydride. Copolymers (such as SMA-2625 or SMA-1735-22 manufactured by Atochem Co., Ltd.), and acrylic systems described in Japanese Patent Publication No. 3-395528 Copolymer of monomer and p-vinylphenol (Maruzenishi . Oil manufactured MARUKALYNCUR-CMM:) Pi 'two Honoré A Le co Lumpur and p - Binirufu two Bruno Lumpur, copolymers (Maruzen Oil manufactured
  • MARUKALYNCUR-CHM methyl methacrylate (or methyl acrylate)-maleic anhydride copolymers, these copolymers and carbon number I Or partial esterification with an alcohol having an alkyl or cycloalkyl group of
  • Q, and Q 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • Q 3 may also represent an alkyl, an alkyl, an alkyloxy, or a hydroxyalkylalkyl.
  • X, ⁇ X 5 is one also rather small, represent each a hydrogen atom conditionally will have a hydroxyl der, halo gain down atom, an alkyl group or a hydroxyl group.
  • Vinyl phenol copolymers such as copolymers containing the structure represented by the following, and resins obtained by hydrogenation of polyvinyl phenol (such as MARUKA NCUR-PHS-C of Maruzen Petroleum) ) Or those vinyl polymers such as polyvinyl phenols (such as MARUKA NCUR-M manufactured by Maruzen Oil Co., Ltd.) are used alone or in combination of two or more. Used together.
  • the molecular weight of the vinyl polymer is 500-! Approximately 0 0 0 0 can be selected
  • the vinyl polymer can be mixed with the above-mentioned novolak resin and can be used in the river.
  • the photoresist NR1 composition preferably contains a crosslinking agent in addition to the azo dye for the color filter of the present invention, an organic solvent and an alkali-soluble resin.
  • crosslinking agent for example, the following formula
  • R 0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and p represents an integer of group 4.
  • Z is one NR,. R]! Or R, which represents a phenyl group.
  • ⁇ R and 5 are at least one of them — (CH 2) p OH or — (CH 2 ) p OR ⁇ 6 , each with the condition that it represents a hydrogen atom, one (CH 2 ) p OH ⁇ represents — (CH 2 ) P 0 R, 6 .
  • R and 6 each represent a lower alkyl group. Represents an integer of 1 to 4.
  • Examples include compounds represented by C 2 H 5.
  • the lower alkyl group represented by R, 6 includes methyl, ethyl, n-propyl or ⁇ -butyl group, and the preferred lower alkyl group includes methyl or ethyl group. 4
  • Each of the compounds represented by formulas (i) to (ii) is produced by condensing ⁇ -cresol or t-butylphenol with formaldehyde under basic conditions.
  • the compounds represented by the formulas (iii) to (vi) are known compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 123933/1992.
  • Formula-(CH 2 P Preferred compounds having the group represented by ⁇ ⁇ include, for example, hexane methoxide melanin, hexane methoxide melamine, Photoresist compositions, such as hexamethoxypropyrogenated melamin and the like, may further contain a photoacid generator, and may be used as the photoacid generator. In some cases, acid is generated directly or indirectly by light such as ultraviolet rays or far ultraviolet rays. There is no particular limitation as long as the trihalomethinoletriazine compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-163552 is disclosed. Disulfone compound described in
  • R, - - S 0 2 - S 0 2 - R, 8 - S 0 2 - S 02 - R, 9 (wherein, R and R, 9 are each independently it may also be optionally substituted Ia Li , Aralkyl, phenol, cycloalkyl, or chlorocyclic group, and R and 8 represent optionally substituted alkyl.)
  • Y represents a substituted or unsubstituted aryl group
  • n ′ represents 0 or 1.
  • Upsilon 6 is a hydrogen atom or a substituted a is ⁇ Li Lumpur group rather also good Al kills have, Upsilon 7 is good substituted Ia Li Lumpur group, respectively )
  • the positive photoresist composition contains a quinone diazide compound, and the quinone diazide compound may be, for example, 0—naphthoquinone.
  • Diazide 5 Sulfonate or Sulfonate Amide, or o—Naphthoquinone
  • Diazide 4 Sulfonate Or sulfonic acid amide.
  • These esters or amides are, for example, phenol compounds described by the general formula (I) in JP-A-2-84650 and JP-A-3-49437. It can be produced by a known method using the method described above.
  • the preferred amounts of the azo dye for color filters, the quinone diazide compound, the crosslinking agent and the photoacid generator are each based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. 25 to 100, 50 to 100, 10 to 30, and 10 to 30 parts by weight.
  • various additives commonly used in the art such as a leveling agent for imparting uniform coating properties, can be added to the photoresist composition.
  • Positive-type resists are used to remove the exposed areas and to expose the non-exposed areas to the positive-type resist, taking advantage of the fact that the difference in solubility in the developer (aqueous aqueous solution) is caused by exposure. It remains as a colored pattern. That is, the quinone diazide compound is decomposed by exposure to light and becomes soluble in an alkaline developer, while in the non-exposed area, the alkaline soluble resin is soluble in the alkaline developer. Acts to suppress the solubility, and the quinone remaining when the non-exposed area is entirely exposed.
  • the diazide compound is decomposed, and on the other hand, when a photoacid generator is contained, it has an action of generating an acid to cure the positive coloring pattern.
  • the exposed portion has a negative coloring pattern, contrary to the case of the positive resist. It will remain.
  • ultraviolet rays such as mercury lamps, far ultraviolet rays, electron beams or X-rays are used.
  • An azo dye was obtained in the same manner as in Example 1 except that Suminol Fast Red G, an acid dye manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., was used (the reaction mole ratio was 1: 1).
  • Example 5 An azo dye was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amine represented by H 2 N (CH 2) 30 CH 2 CH 3 was used.
  • Example 5 the amine represented by H 2 N (CH 2) 30 CH 2 CH 3 was used.
  • An azo dye was obtained in the same manner as in Example 1 except for using the amine represented by.
  • An azo dye was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amine represented by H 2 N (CH 2) 30 (CH 2) 7 CH 3 was used.
  • O-Naphthoquinone diazide of the phenolic compound represented by 5-5-ester ester of sulfonate (average of 2 hydroxyl groups are esterified) 2 g After mixing 5 g of tilformamide and 12 g of ethyl lactate, the mixture was filtered under pressure using a membrane filter to obtain a positive type photoresist composition.
  • the positive resist composition obtained above was spin-coated with silicon siloxane on which CCD was formed, and then heated at 100 ° C. for 1 minute. After exposing the silicon wafer, the exposed portion was removed by an all-color developing method to obtain a positive pattern having a resolution of 0.8 ⁇ m.
  • Example 7 Each of the color filters having excellent performance was operated in the same manner as in Example 7 except that the azo dye obtained in Example 1 was replaced with the ab dye obtained in Examples 2 to 6. I got one element of Ruta.
  • Example 9 The positive resist composition of Example 9 was spin-coated on one element of the yellow filter obtained in Example 7, and thereafter, the positive pattern was obtained in the same manner as in Example 7. I got it. After the whole surface of the paddle was exposed, it was heated at 150 ° C. for 15 minutes to form a red filet element. Next, the same procedure as in Example 7 was carried out except that the cyan dye B described in page (9) of JP-A-2-127602 was used on this red phenol compound. To obtain a sine filter element.
  • the azo dye for a color filter of the present invention has excellent spectral characteristics, and the color filter produced according to the present invention using the azo dye has a resolution and a coloring pattern. Excellent in various performances such as the stability of the toner, and there is no development residue (scum).

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Description

明 細 書 カ ラ ー フ ィ ノレ 夕 一川了 ゾ色素及び カ ラ 一 フ ィ ル夕 一の製造方法 技術分野
本発明はカ ラ ー フ ィ ル 夕 一 fflァ ゾ色素、 よ り 詳 し く は カ ラ 一 フ ィ ル 夕 一用のマゼ ン 夕色 も し く は赤色又はイ エ ロ ー色ァ ゾ色素に関する。 背景技術
カ ラ ー フ イ ノレ タ ー 、 特に電荷結合素子 ( C C D ) も し く は液晶表示素子 ( L C D ) 等の固体撮像素子用 カ ラ ー フ ィ ル タ 一は、 一般的には、 初めに フ ォ ト レ ジス 卜 に よ り ノ、。夕 ― ンを形成 し、 次いで染色する方法に よ り作製さ れている。 し力、 しな ら、 こ の方法においては、 染色ェ 程の複雑さ 及び工程管理の困難さ 等の問題点があ る。 そ こ で、 例えば特開平 4 - 1 6 3 5 5 2 号及び特開平 4 一 1 2 8 7 0 3 号公報には、 各 々 、 顔料及び染料等の色素 を添加 した フ ォ ト レ ジ ス ト に よ り パタ ー ンを形成 して力 ラ ー フ ィ ル タ ーを作製する方法が提案されている。 しか しなカ ら、 前者の方法においては、 顔料自体 1 m前後 の粒子を含んでいる ために高解像度が要求さ れる C C D 用 カ ラ 一 フ ィ ルタ 一の製作には不適であ る。 又、 後者の 方法においては、 着色パ夕 ー ン の安定性等に問題があ る そ して、 こ れ らの方法は さ らに大き な問題点を含んでい る。 即ち 、 通常の色素はァ ル力 リ 現像可能な レ ジス 卜 に と っ て異物 と して存在する こ とであ る 。 つま り 、 半導体 作製用途の場合 と異な り 、 カ ラ ー フ ィ ル タ ー作製用途の 場合にはその股厚力く 1 m以下であ る こ とが望ま しいの で、 ァ ル力 リ 可溶性樹脂及び有機溶剂を含む レ ジス 卜組 成物に多量の色素を添加 しな ければな らない。 し力、 しな が ら、 実際には通 I t) の色素はァル力 リ 水溶液又は有機溶 剤のいずれかに不溶なので、 望ま しいスぺ ク ト ルを有 し 且つ微細で膜厚の薄い着色パタ ー ンを得る こ と は困難で め っ た o 発明の開
本発明は上記問 点を解決 して、 解像度等の諸性能に 優れ、 且っスカ 厶 (現像残さ ) のないカ ラ ー フ イ ノレタ ー 用 レ ジス 卜組成物を調製するための、 分光特性 (吸収特 性及び透過特性等) の優れたカ ラ 一 フ ィ ル 夕 ー用ァ ゾ色 素、 及び同色素を含有する フ ォ ト レ ジス ト組成物を用 い てカ ラ ー フ ィ ル タ ーを製造する方法を提供する。
本発明は、 分子中に、 1 個の水素原子が置換さ れたス ルホ ン ァ を少な く と も 1 個有 し、 且つ、 アル力 リ 性水溶液及び有機溶剤に可溶であ る こ とを特徴 とする 力 ラ 一 フ ィ ルタ ー用ァ ゾ色素に関する。 又、 本発明は複数 の有色フ ィ ル夕 一要素を有する カ ラ ー フ ィ ルタ ーの製造 方法であ つ て、 a ) 支持体上にァ ゾ色素を含有する フ オ ト レ ジス 卜組成 物の有機溶剤 コ ーテ ィ ン グを形成 し、 こ の有機溶剂コ — テ ィ ン グを乾燥させて付着層を形成する工程、 こ の 工程において、 上記組成物はァ ル力 リ 可溶性樹脂及び 上記ァ ゾ色素を含有 し、 こ の色素は、 該フ ォ ト レ ジス ト組成物を構成する ァ ル力 リ 可溶性樹脂及び該色素の 有機溶剂溶液中、 重量比で該ァル力 リ 可溶性樹脂の 1 / 4 以上存在 してお り 、 且つ、 分子中に、 1 個の水 素原子が置換さ れたスルホ ン ア ミ ド基を少な く と も 1 個有 してお り 、 こ の色素は所望の色素濃度及び当該フ ォ 卜 レ ジス 卜組成物か ら製造される フ ィ ルタ ー要素に 望ま れる予め定め られた色の予め定め られた吸収特性 及び透過特性を具備する ものであ り 、 こ の色素は当該 フ ォ ト レ ジス ト組成物の露光に使用 さ れる照射線に対 して充分に透過性であ り 、 且つ下記アル力 リ 現像に使 用 さ れる ァル力 リ 性水溶液に可溶であ り 、 そ して現像 に よ り 形成さ れる フ ィ ル夕 一要素のノ、。タ ー ン は上記の 予め定め られた吸収特性及び透過特性を有する もので あ り 、
b ) 上記層の予め定め られた部分を、 紫外線 、 遠紫外線 電子線、 X線及びイ オ ン ビーム よ り な る群か ら選択さ れた 1 つの照射線に露光する工程、
c ) 露光 した領域又は非露光領域をァル力 リ 現像 して、 上記フ ィ ル タ ー要素のパタ ー ンを形成する工程、 並び
211 o 5 d ) 前記組成物中の異な る色の色素について、 工程 a )〜 c )を繰返す工程、
を含む上記カ ラ ー フ ィ ルタ ーの製造方法に閱する。
発明を実施する ための最良の形態
本発明に係 る カ ラ 一 フ ィ ル 夕一用ァ ゾ色素の中、 好ま しいマゼ ン タ も し く は赤色色素 と しては、 例えば下式
Figure imgf000006_0001
で示さ れる母体を有する色素が举げ られる。 好ま しいィ エ ロ ー色素と しては、 例えば下式
Figure imgf000006_0002
で示さ れる母体を有する 色素が挙げ られる。
好ま しいマゼ ン タ も し く は赤色色素の具体例 と しては 式
Figure imgf000007_0001
〔式中、 R , 及び R 2 は各 々 独立 して水素 し く はハ口 ゲ ン原子、 アルキル、 ァ リ 一ルォキ シ、 ァルキル力 ルボ ニルア ミ ノ 、 了 リ ール力 ルボ二ル了 ミ ノ 、 アルキルァ リ ールォキ シ も し く は ジァ ルキルァ リ 一ルォキ シ基又はス ルホ ン酸基 も し く は - s o 2 N H R ( R は置換さ れてい て も よ ぃァ ルキル、 シ ク ロ ア ルキル、 シ ク 口へキ シル了 ルキル、 ァ ルキル力 ルボ二ルァ ミ ノ ア ルキル、 ァ ル コ キ シ、 ア ル コ キ シア ルキル、 了 リ 一ル も し く はァ ルキル力 ルボニルォキ シ基を表わす 。 ) を表わ し、 R 3 は低級ァ ルキル力 儿 ボ二ル、 ァ リ ー ル力 ルボ二ル も し く はァ リ ー ノし · ノレ ホ -― -ル基を表わす。 X及び Y は各々 独立 してスル ホ ン酸基 も し く は 一 S 0 2 N H R を表わす。 但 し、 R 】 R 2 、 X及び Yの中、 少 な く と も 1 つは
- S 0 2 N H Rを表わす も の とする。 〕
で示さ れ る ァ ゾ色素が挙げ られる。
好ま しい イ エロ 一色素の具体例 と しては、
Figure imgf000008_0001
〔式中、 R 4 、 R 5 及び R 6 は各々 独立 して水素 も し く はハロ ゲ ン原子又はスルホ ン酸基 も し く は
- S 02 N H R ( R は上記 と同 じ意味を有する。 ) を表 わ し、 L は 1 ま たは 2 を表わ し、 B は Lカ 2 の と き は
R
Figure imgf000008_0002
〔式中、 R 7 、 R 及び R 9 は各々 独立 して水素原子、 メ チル基又はス ルホ ン酸基 も し く は 一 S 〇 2 N H R ( R は上記と同 じ意味であ る) を表わ し、 X、 Y及び Z は各 各独立 してス ルホ ン酸基 も し く は 一 S 0 2 N H R ( Rは 上記と同 じ意味であ る) を表わす。 但 し、 R 〜 R 9 、 X〜 Z は こ れ らの中、 少な く と も 1 つは
- S 0 2 N H R ( R は上記 と同 じ意味を表わす。 ) を表 わす も の とする。 〕 、 であ るか、 も し く は B は L力 1 の と き は
Figure imgf000009_0001
Y
(式中、 R 7 、 R 、 R 、 Xお よ び Yは上記 と同 じ意 味を表わす。 ) で示さ れる ァ ゾ色素が挙げ られる。 本発明のカ ラ 一 フ ィ ルタ ー用ァ ゾ色素の好ま しい具体 と しては、 例えば下式
Figure imgf000010_0001
H3 C
CHi o; -o 〇
Figure imgf000010_0002
Figure imgf000010_0003
Figure imgf000010_0004
Figure imgf000011_0001
く 〇
Figure imgf000011_0002
Figure imgf000011_0003
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
〔式中、 x ' 及び γ ' はこれらの中、 少な く と も一方が
- S 02 N H— Rを表わすという条件付きで、 各々 スル ホ ン酸基も し く は一 S 02 N H - R ( R は上記と同 じ意 味である。 ) を表わ し、 R ' はアルキル も し く はァ リ 一 ル基を表わす。 〕
で示される色素が举げられる。
好ま しい R の具体例と しては、
C n H 2 n + 1 (式中、 n は 1 以上の整数であ り、 好ま し く は 3 以上 3 0 以下の整数である。 ) 、
C n H 2 n + 1〇 C m H 2 m+】 (式中、 n 及び mはその和が 3 以上 3 0 以下の整数である という条件付きで各々 1 以上 の整数である。 ) 、 及び下式
Figure imgf000013_0001
(式中、 R "' は炭素数 1 〜 1 0 の ア ルキル基又は水素原 子であ り 、 R " は炭素数 1 〜 2 0 のァルキ レ ン基であ o。 )
で示さ れる基 ( こ れ らの基は、 さ ら に適当な ^換基で S 換さ れていて も よい。 ) 等が举げ られ o
カ ラ ー フ ィ ルタ ー用ァ ゾ色尜は例えば、 スルホ ン酸基 を有する色素又は色素中間体を常法に よ り ク ロ ル化 して 得 られた 一 S 02 を有する色素又は色素中間体を下 式
R N H 2
(式中、 R は上記 と同 じ意味であ る。 )
で示 さ れる ア ミ ン と反応さ せる こ と に よ り 製造する こ と ができ る ( ク ロ ル化の際に色素中問体を いた場合には 適宜選択 さ れた反応に よ り 所望のァ ゾ色素が得 られる) スルホ ン酸基を有する色素は、 カ ラ ー イ ン デ ッ ク スに記 載の C . I . Acid Col our 又は C. I. Direct Colour 等 か ら適宜選択する こ とができ る。 尚、 ァ ル力 リ 性水溶液 お よ び有機溶剂の双方に可溶であ る ための好ま し い条件 と しては、 少な く と も分子中に一個の - S O N H R C R は上記に同 じ) を有 し、 かつ遊離のスルホ ン酸基を有 し なし、 こ と力く挙げ られる。 好ま しし、カ ラ 一 フ ィ ル 夕 一用ア ブ色素 と しては、 ア ル 力 リ 可溶性樹脂及び該色素を含む有機溶剤溶液中、 重 ia 比で該ァ ル力 リ 可溶性樹脂の 1 / 4 以上存在 してお り 、 且つ、 分子中に 1 個の水素原子が置換さ れたスルホ ン了 ミ ド基を少な く と も 1 個有 している色素が举げ られる。 本発明に係 る カ ラ ー フ ィ ル タ 一の製造方法においては 上記のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用ァ ゾ色素を好ま し く は 2 種以 上組合せて用いる。
フ ォ ト レ ジ ス 卜組成物に用 い られる有機溶剂 と しては 例えば メ チ ルセ ロ ソ ルブ、 ェチ ノレセ ロ ソ ルブ、 メ 千 ルセ ロ ソ ノレブア セ テー ト 、 ェチ ルセ ロ ソ ルブア セ テ ー ト 、 ジ エチ レ ン グ リ コ ー ノレ ジ メ チ ノレエ一 テル、 エチ レ ン グ リ コ — ノレモ ノ イ ソ プロ ピルエー テ ル、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ メ チ ノレエー テ ル、 N , N — ジ メ チ ノレ ア セ ト ア ミ ド、 N — メ チ ノレ ピ ロ リ ド ン、 7 一 プチ ロ ラ ク ト ン 、 メ チ ル イ ソ ブチ ルケ ト ン 、 メ チ ノレエチ ノレ ケ ト ン、 シ ク ロ ペ ン タ ノ ン 、 シ ク ロ へキサ ノ ン、 酢酸ェチ ル、 酢酸 n — プチ ル、 酢酸プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ メ チ ルエー テル、 酢酸プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ ェチ ルエー テ ル、 乳酸 メ チ ノレ、 乳酸ェチ ル、 ピル ビ ン酸ェチ ル、 ジ メ チ ル ス ル ホ キ シ ド ジォキサ ン も し く は ジ メ チルホルムア ミ ド等が挙げ られ る。 こ れ らの有機溶剤は単独で、 或いは 2 種以上組合わ せて用 い られる。
フ ォ ト レ ジス ト組成物に用い られる ァ ルカ リ 可溶性樹 脂 と しては、 例えば ノ ボラ ッ ク樹脂又は ビニル重合体等 が举げ られる。
ノ ボラ ッ ク樹脂 と しては、 例えばフ エ ノ ール類 と ア ル デ ヒ ド類 と を酸触媒の存在下に縮合 さ せて得 られ る も の が举げ られる。 フ ヱ ノ ー ル類 と しては、 例えばフ ヱ ノ ー ノレ、 ク レ ゾ 一 ノレ、 ェ チ ノレ フ エ ノ ー ノレ、 ブ チ ル フ エ ノ 一 ノレ キ シ レ ノ 一 儿 、 フ エ ニ ル フ エ ノ ー ル、 カ テ コ ー ル 、 レ ゾ ル シ ノ 一 ノレ、 ピ ロ ガ ロ ー ノレ、 ナ フ 卜 一 ル も し く は ビス フ ェ ノ ール A等が挙げ られる。 こ ォ 1 らの フ ヱ ノ ール類は単 独で、 或いは 2 種以上組み合わせて用 い られる。 ア ルデ ヒ ド類 と しては、 例えばホル厶ァルデ ヒ ド、 パラ ホルム アルデ ヒ ド、 ァセ ト ァノレデ ヒ ド、 プロ ピオ ンアルデ ヒ ド も し く はベ ンズァルデ ヒ ド等が举げ られる。 ノ ボラ ッ ク 樹脂 と して具体的には、 例えば メ タ ク レ ゾ一ル、 パラ ク レ ゾ一ル も し く は こ れ らの混合物 と ホルマ リ ン と の縮合 生成物が挙げ られる。 こ れ らの ノ ボラ ッ ク樹脂は分別等 の手段を用 いて分子量分布を調節 して も よい。 又、 ビ ス フ エ ノ ー ル C も し く は ビ ス フ エ ノ ー ル A 等 の フ エ ノ ー ル 性水酸基を有する低分子量成分を上記 ノ ボラ ッ ク 樹脂に 混合 して も よ い。
ビニル重合体 と しては、 例えばスチ レ ン と p — ヒ ド口 キ シス チ レ ン と の共重合体 (丸善石油製の MARUKALYNCUR - CST等) 、 ス チ レ ン 一無水マ レ イ ン酸共重合体 ( ア ト ケ ミ 社製の S M A — 2 6 2 5 も し く は S M A — 1 7 3 5 2 等) 、 特公平 3 — 3 9 5 2 8 号公報に記載のア ク リ ル系 モ ノ マー と p — ビニル フ ヱ ノ ー ル と の共重合体 (丸善石 油 製 の MARUKALYNCUR-CMM : ) . ピ'二 ノレ ア ル コ ー ル と p — ビニルフ ニ ノ ー ル との共重合体 (丸善石油製の
MARUKALYNCUR-CHM等) 、 メ チル メ タ ク リ レ ー ト ( も し く は メ チルァ ク リ レ ー ト ) ―無水マ レ イ ン酸共重合体、 こ れ らの共重合体 と炭素数 I 〜 I 0 のア ルキル又は シ ク ロ アルキル基を有する ア ル コ ー ル との部分エステル休又は 下式
Q Q
I I
- C H 一 C — C H 2 - C -
4
Q
Figure imgf000016_0001
〔式中 、 Q , 及び Q 2 は各々 独立 して水素原子又はァ ル キル基を表わ し、 Q 3 はア ルキル、 了 リ 一ル、 了 ノレ コ キ シ、 ヒ ドロ キ ンア ルキル も し く はア ルキル力 ルボ二ルォ キ シ基を表わす。 X , 〜 X 5 は少な く と も 1 つは水酸基 であ と い う 条件付きで各 々 水素原子、 ハロ ゲ ン原子、 アルキル基又は水酸基を表わす。 )
で示さ れる構造を含む共重合体等の ビ二ル フ エ ノ ール共 重合体、 ポ リ ビ二ル フ ヱ ノ ー ルを水素添加 した樹脂 (丸 善石油の MARUKA NCUR- PHS- C等) 或いはポ リ ビニルフ エ ノ 一ル (丸善石油製の MARUKA NCUR- M等) 等が举げ られ る れ らの ビニル重合体は単独で、 又は 2 種以上組合 わせて用い られる。 又、 ビニル重合体は必要に応 じて分 子量 5 0 0 〜 ! 0 0 0 0 程度の も のを選択する こ とがで き る
ビ二ル重合体は上記ノ ボラ ッ ク樹脂 と混合 して川 いる こ と もでき o
フ オ ト レ ジス NR卜I 組成物は、 本発明の カ ラ 一 フ ィ ル タ ー 用ァ ゾ色素、 有機溶剤及びァ ル力 リ 可溶性樹脂以外に、 好ま し く は架橋剤を含有する。
架橋剤 と しては、 例えば下式
一 ( C H 2 ) ,> 0 R
(式中、 R 0 は水素原子又は低級ア ルキル基を表わ し、 p は 卜 4 の整数を表わす。 ) で示さ れる基を有する 化 合物及び メ ラ ミ ンが挙げ られる。
上式で示される基を有する 化合物 と しては、 例えば下 式
Z
R I 5 1 2 ( I :)
Figure imgf000017_0001
〔式中、 Z は 一 N R ,。 R 】!又は フ エ 二ル基を表わす R ,。〜 R , 5は こ れ らの中、 少な く と も 1 つが ― ( C H 2 ) p O H又は— ( C H 2 ) p O R 】 6を表わす という 条件付きで各 々 、 水素原子、 一 ( C H 2 ) p O H 乂はー ( C H 2 ) P 0 R , 6を表わす。 R , 6は低級アルキ ル基を表わす。 は 1 〜 4 の整数を表わす。 〕
で示される化合物、 或いは下式
Figure imgf000018_0001
Figure imgf000018_0002
Figure imgf000018_0003
Figure imgf000019_0001
C 2 H 5 で示さ れる 化合物等が举げ られる。
R 。 及び R , 6で表わさ れる低級ア ルキル基 と しては メ チル、 ェチル、 n — プロ ピル又は η —ブチル基が挙げ ら れ、 好ま しい低級ァ ルキル基 と しては メ チル又はェチル 基が挙げ ら 4し る o
式(i ) 〜 ( i i )で示さ れる 化合物は各々 、 ρ — ク レ ゾ一 ル又は t 一ブチルフ エ ノ ールを塩基性条件下でホルムァ ルデ ヒ ド と縮合 させる こ と に よ り 製造する こ とができ る 又、 式(i i i ) 〜(v i )で示さ れる化合物は特開平 1 一 2 9 3 3 3 9 号公報に記載さ れた公知化合物であ る。
式 - ( C H 2 ノ P リ
Figure imgf000019_0002
ϋ で示さ れる基を有する、 好ま しい化合物 と しては、 例えばへキサ メ ト キ シ メ チ口 一ル f匕 メ ラ ミ ン、 へキサ メ ト キ シェチ ロ ール化メ ラ ミ ン又は へキサ メ ト キ シプロ ピロ一ル化メ ラ ミ ン等が挙げ られる フ ォ 卜 レ ジス ト組成物は、 さ ら に光酸発生剤を含んで いて も よ く 、 該光酸発生剤 と しては紫外線、 遠紫外線等 の光に よ り 直接 も し く は間接的に酸を発生する も のであ れば特に限定さ れないか、 例えば特開平 4 — 1 6 3 5 5 2 号公報に記載さ れている 卜 リ ハロ メ チノレ ト リ ア ジ ン系 化合物、 特開平 1 一 5 7 7 7 7 号公報に記載さ れている ジ ス ル ホ ン化合物、 下式、
R , - - S 02 - S 02 - R , 8 - S 0 2 - S 02 - R , 9 (式中、 R 及び R , 9は各々 独立 して置換さ れていて も よ いァ リ ー ル、 ァ ラ ルキル、 ァ ノレキ ル、 シ ク ロ ア ノレキ ル 又は塩素環基を表わ し、 R , 8は置換さ れていて も よい了 リ ー ルを表わす。 )
で示さ れる 化合物、 特開平 1 — 2 9 3 3 3 9 号公報に記 載されているスルホ ン酸ェス テ ル基を含む光酸発生剤、 下式
C F 3 - S 02 0 - ( C H 2 ) „ · - Y 0
(式中、 Y。 は置換さ れていて も よ いァ リ ー ル基を n ' は 0 又は 1 を表わす。 )
で示さ れる 化合物、 下式
C F 3 - S 0 2 0 - [ C ( Y . )(Y 2)〕 .· - C (0) - Υ 3 (式中、 Y , 及び Y 2 は各々 独立 して置換さ れていて も よし、ア ルキ 儿 、 ア ル コ キ シ も し く はァ リ ー ル基を、 Υ 3 は置換さ れていて も よ いァ リ ール基を、 m ' は 1 又は 2 を、 各々 表わす。 )
で示さ れる化合物、 下式
C F 3 - S 02 0 - N ( Υ 4 ) - C ( 〇 ) - Υ 5
(式中、 Y 4 は置換さ れていて も よいア ルキル基を、 Y 5 は置換さ れていて も よ ぃァ リ ー ル基を、 各 々 表わ す。 ) で示 さ れる 化合物、 下式
C F 3 - S 02 O - N - C ( Y 6 ) ( Υ 7 )
(式中、 Υ 6 は水素原子又は置換さ れていて も よいアル キル も し く はァ リ ール基を、 Υ 7 は置換さ れていて も よ ぃァ リ ール基を、 各々 表わす。 )
で示さ れる 化合物、 下式
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000021_0002
Figure imgf000021_0003
Figure imgf000021_0004
Figure imgf000021_0005
で示さ れるォニゥ 厶塩類等があげ られる。
ポジ型フ ォ ト レ ジス ト組成物には、 キ ノ ン ジア ジ ド化 合物が含 ま れ、 該キ ノ ン ジア ジ ド化合物 と しては、 例え ば 0 — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド ー 5 — ス ル ホ ン酸エス テ ル 又 は ス ル ホ ン酸ア ミ ド、 或レ、 は o — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド ー 4 — ス ル ホ ン酸エス テ ル又は ス ル ホ ン酸ァ ミ ド等が 挙げ られる。 こ れ らのエステル又はア ミ ドは、 例えば特 開平 2 — 8 4 6 5 0 及び特開平 3 — 4 9 4 3 7 号公報に 一般式 ( I ) で記載されている フ エ ノ ール化合物等を用 いて公知の方法に よ り 製造する こ とができ る。
カ ラ 一 フ ィ ルタ ー用ァ ゾ色素、 キ ノ ン ジア ジ ド化合物 架橋剤及び光酸発生剤の好ま しい添加量は、 各々 、 ア ル カ リ 可溶性樹脂 1 0 0 重量部に対 して 2 5 〜 1 0 0 、 5 0 〜 1 0 0 、 1 0 〜 3 0 及び 1 0 〜 3 0 重量部であ る。 又、 フ ォ ト レ ジ ス ト組成物には、 例えば均一な塗布性を 付与する ための平滑剤等の当該技術分野で慣用 されてい る各種の添加剤を加える こ と もでき る。
ポジ型 レ ジス ト は露光に よ り アル力 リ 現像液 (アル力 リ 性水溶液) に対する溶解度に差が生 じ る こ とを利用 し て、 露光部が除去さ れ、 非露光部がポジ型着色パタ ー ン と して残存する ものであ る。 即ち、 上記キ ノ ン ジア ジ ド 化合物は露光に よ り 分解 してアル力 リ 現像液に可溶 とな る が、 一方、 非露光部では上記アルカ リ 可溶性樹脂のァ ル力 リ 現像液に対する溶解度を抑制する よ う に作用する そ して、 非露光部を全面露光 した際に、 残存 したキ ノ ン ジァ ジ ド化合物は分解さ れ、 一方、 光酸発生剤が含ま れ ている場合に、 こ れは酸を発生 してポジ型着色パタ ー ン を硬化さ せる作用を有する o
一方、 ネ ガ型 レ ジス ト にはキ ノ ン ジア ジ ド化合物が含 ま れていな いので、 ポジ型 レ ジス 卜 の場合 と は逆に露光 部がネ ガ型着色パタ ー ン と して残存する ものであ る。
露光には、 例えば水銀ラ ンプ等の紫外線、 遠紫外線、 電子線 も し く は X線等が用い られる。
〔実施例〕
次に、 実施例及び参考例に よ り 本発明を更に具体的に 説明する。 尚、 以下の参考例における共通の条件は次の とお り であ る。
カ ラ ー フ ィ ノレ 夕 一を製造する際、 シ リ コ ン ウ エ ノ、一に フ ォ ト レ ジ ス ト組成物をス ピ ン コ ー ト し、 加熱に よ り 溶 剤を蒸発させた後、 マス ク を通 して露光を行っ た。 次い で、 ア ル カ リ 現像後、 着色パタ ー ンを得た。 露光は 日立 製作所 (株) 製 i 線露光ステ ッ パ一 HITACHI LD-5010-i ( N A = 0 . 4 0 ) に よ り 行っ た。 又、 現像液は住友化 学工業 (株) 製 S O P Dを用いた。
実施例 1
前記式の(d) 〔但 し、 X ' 及び Y ' が共に — S 〇 3 H であ る〕 で示さ れる住友化学工業 (株) 製酸性染料 Suminol Milling Yellow 4 G 2 0 g、 塩化チォニル 1 0 0 m 1及びジ メ チルホルム ア ミ ド 1 5 gの混合物を還 流条件下に 3 0 分反応さ せた後、 反応混合物を室温ま で 冷却 し、 氷水中に注いだ。 常法に よ り 後処理 して得 られ た生成物をテ ト ラ ヒ ド口 フ ラ ン中でプロ ピルア ミ ン と反 応モ ル比 1 : 2 で反応させてァ ゾ色素を得た。
実施例 2
Suminol Mi 11 ing Ye 1 low 4 G に代えて住友化学工業 (株) 製酸性染料 Suminol Fast Ye How 2 G Pを用いる 以外は実施例 1 と同様に操作 (但 し、 反応モ ル比 1 : 1 ) してァ ゾ色素 〔前記式(c) において Rがプロ ピルで あ る ア ブ色素の m — フ ヱニルア ミ ノ スルホ ン異性体〕 を 得た。
実施例 3
Suminol Milling Yellow 4 G に代えて、 下式
Figure imgf000024_0001
で示さ れる住友化学工業 (株) 製酸性染料 Suminol Fast Red G を用いる以外は、 実施例 1 と同様に操作 (但 し、 反応モ ル比 1 : 1 ) してァ ゾ色素を得た。
実施例 4 プロ ピルァ ミ ン に代えて式
H 2 N ( C H 2 ) 3 0 C H 2 C H 3 で示さ れる ア ミ ンを 用 いる以外は、 実施例 1 と同様に してァ ゾ色素を得た。 実施例 5
プロ ピルァ ミ ン に代えて下式
Figure imgf000025_0001
で示さ れるア ミ ンを用いる以外は、 実施例 1 と同様に し てァ ゾ色素を得た。
実施例 6
プロ ピルァ ミ ン に代えて次式
H 2 N ( C H 2 ) 3 0 ( C H 2 ) 7 C H 3 で示さ れる ァ ミ ンを用い る以外は、 実施例 1 と同様に してァ ゾ色素を 得た。
実施例 7
m — ク レ ブ一儿、 ρ — ク レ ゾー ル及びホル厶ァルデ ヒ ド混合物 (モル比 = 5 Z 5 Z 7 . 5 ) か ら得 られた ク レ ゾ一ル ノ ボラ ッ ク樹脂 (重量平均分子量 2 5 0 0 ) 2 g 実施例 1 で得たァ ゾ色素 2 g、 へキサ メ ト キ シ メ チ ロ ー ル化 メ ラ ミ ン 1 g、 下式 0 H
Figure imgf000026_0001
で示さ れる フ エ ノ ール化合物の o — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド— 5 — ス ルホ ン酸エス テル (平均 2 個の水酸基がエス テル化さ れている) 2 g 、 ジ メ チルホルムァ ミ ド 5 g並 びに乳酸ェチル 1 2 g を混合後、 メ ンブラ ン フ ィ ルタ 一 を用 いて加圧濾過 してポジ型 フ ォ ト レ ジス ト組成物を得 た。
上で得たポジ型 レ ジ ス ト組成物を 、 C C Dが形成され た シ リ コ ン ウ エ ノ、 一 に ス ピ ン コ ー ト した後、 1 0 0 °C · 1 分加熱 した。 こ の シ リ コ ン ウェハ一を露光後、 ア ル 力 リ 現像に よ り 露光部を除去 して 0 . 8 u mの解像度を有 する ポジ型バタ ー ンを得た。
上で得たポジ型パタ ーンを全面露光後、 1 5 0 °C · 1 5 分加熱 してイ ェロ ー フ ィ ルタ ー要素を得た。 こ のカ ラ — フ ィ ル夕 一 は 1 〃 m以下の膜厚で優れた性能を示 した 実施例 8〜 1 2
実施例 1 で得られたァ ゾ色素に代えて、 実施例 2〜 6 で得られたア ブ色素を用いる以外は、 実施例 7 と同様に 操作 して各々 、 優れた性能を有する有色フ ィ ルタ一要素 を得た。
実施例 1 3
実施例 7 で得たイエロ一 フ ィ ルタ 一要素の上に、 実施 例 9 のポジ型 レ ジス ト組成物をス ピ ン コー ト し、 以後、 実施例 7 と同様に してポジ型パタ ー ンを得た。 該パ夕一 ンを全面露光後、 1 5 0 °Cで 1 5 分加熱して レ ッ ドフ ィ ル夕 一要素を形成させた。 次いで、 こ の レ ツ ドフ ィ ノレ夕 —要素の上に、 特開平 2 — 1 2 7 6 0 2 号公報の(9)頁に 記載されたシア ン染料 Bを用いる以外は実施例 7 と同様 に操作して シァ ン フ ィ ルタ ー要素を得た。
こ のよ う に して得られたカ ラ ー フ ィ ル夕一は優れた解 像度等の諸性能を示 した。 産業上の利用可能性
本発明のカ ラーフ ィ ルタ ー用ァ ゾ色素は分光特性に優 れてお り、 該ァ ゾ色素を用いて本発明によ り製造された カ ラ ー フ ィ ルタ ーは解像度及び着色パタ ー ンの安定性等 の諸性能に優れ、 且つ現像残さ (スカ ム) がない。

Claims

μ|] 求 の 範 囲
1 . 分子中に、 1 個の水素原子が置換さ れたスルホ ン 了 ミ ド基を少な く と も 1 個有 し、 且つ、 アル力 リ 性水溶 液及び有機溶剤に可溶であ る こ と を特徴 とする カ ラ ー フ ィ ノレ夕 一用ァ ゾ色素。
2. 赤色、 イ エロ 一色又はマゼ ン 夕 色の請求項 1 に記 載のア ブ色素。
3. 1 個の水素原子が置換さ れたスルホ ンア ミ ド基が 式
- S 0 2 N H R
(式中、 R は置換さ れていて も よいア ルキル、 シ ク ロ ア ルキル、 シ ク ロへキ シルアルキル、 アルキル力 ルボ二ル ア ミ ノ アルキル、 アル コ キ シ、 ア ルコ キ シア ルキル、 ァ リ ー ル も し く は ア ル キ ル カ ル ボ二 ル ォ キ シ 基 を表わ す。 )
で示される基であ る、 請求項 1 又は 2 に記載のァ ゾ色素
4. 式
Figure imgf000028_0001
L 〔式中、 R 4 、 R 5 及び R 6 は各々 独立 して水素 も し はハ ロ ゲ ン原子又はスルホ ン酸基 も し く は
- S 02 N H - R ( Rは請求項 3 に記載の意味を有す る ) を表わ し Lは 1 ま たは 2であ り 、 Bは L = 2 の と き は '·
R 7
Figure imgf000029_0001
〔式中、 R 7 、 R 8 及び R s は各々 独立 して水素原子、 メ チル基又はスルホ ン酸基 も し く は一 S 〇 2 N H R ( R は上記と同 じ意味であ る) を表わ し、 X、 Y及び Zは各 各独立 してスルホ ン酸基 も し く は— S 02 N H R ( Rは 上記と同 じ) を表わす。 但 し、 R 4 〜R 9 、 X〜 Zは こ れ らの中、 少な く と も 1 つは一 S 02 N H Rを表わす も の とする。 〕 で示さ れるか、 又は Bは L = 1 の と き は
Figure imgf000030_0001
(式中、 R 7 、 R 8 、 R 9 、 X、 Υ、 Ζ は上記と同 じ) で示されるイエロ一色ア ブ色素。
5. 式
Figure imgf000030_0002
〔式中、 R , 及び R 2 は各々 独立して水素も し く はハロ ゲ ン原子、 ア ルキル、 ァ リ ールォキ シ、 ア ルキルカ ルボ ニルァ ミ ノ 、 ァ リ ー ルカ ルボニルァ ミ ノ 、 アルキルァ リ ールォキシ も し く はジアルキルァ リ ールォキシ基又はス ルホ ン酸基 も し く は _ S 〇 2 N H R ( Rはアルキル、 シ ク ロへキ シルアルキル、 アル コ キ シ、 アル コ キ シァ ノレキ ルァ リ ールま たはアルキルカルボ二ルォキシ基を表わ す。 ) を表わ し、 R 3 は低級アルキルカルボニル、 ァ リ ールカルボニル も し く はァ リ 一ルスルホニル基を表わす X及び Yは各々 独立 してスルホ ン酸基も し く は
- S 0 a N H Rを表わす。 但し、 R , 、 R 2 、 X及び Y の中、 少な く と も 1 つは一 S 0 2 N H Rを表わす。 〕 で 表わされるマゼン 夕又は赤色ァ ゾ色素。
6. 複数の有色フ ィ ル夕 一要素を有するカ ラー フ ィ ル ターの製造方法であって、
a ) 支持体上にアブ色素を含有する フ ォ ト レ ジス ト組成 物の有機溶剤コ ーティ ン グを形成 し、 こ の有機溶剤コ 一ティ ン グを乾燥させて付着層を形成する工程、 こ の 工程において、 上記組成物はアルカ リ 可溶性樹脂及び 上記ァゾ色素を含有し、 こ の色素は、 該フ ォ ト レ ジス ト組成物を構成するアル力 リ 可溶性樹脂及び該色素の 有機溶剤溶液中、 重量比で該アルカ リ 可溶性樹脂の
1 / 4 以上存在 してお り 、 且つ、 分子中に、 1 個の水 素原子が置換されたスルホ ンア ミ ド基を少な く と も 1 個有 してお り、 こ の色素は所望の色素濃度及び当該フ ォ 卜 レ ジス 卜組成物か ら製造さ れる フ ィ ル夕 一要素に 望ま れる予め定め られた色の予め定め られた吸収特性 及び透過特性を具備する ものであ り 、 こ の色素は当該 フ ォ ト レ ジス ト組成物の露光に使用 さ れる照射線に対 して充分に透過性であ り 、 且つ下記アルカ リ 現像に使 用 される アル力 リ 性水溶液に可溶であ り 、 そ して現像 に よ り形成さ れる フ ィ ノレ タ ー要素のパタ ー ンは上記の 予め定め られた吸収特性及び透過特性を有する も ので あ り 、
b ) 上記層の予め定め られた部分を、 紫外線、 遠紫外線 電子線、 X線及びイ オ ン ビーム よ り な る群か ら選択さ れた 1 つの照射線に露光する工程、
c ) 露光 した領域又は非露光領域をアルカ リ 現像 して、 上記フ ィ ルタ 一要素のパタ ー ンを形成する工程、 並び に
d ) 前記組成物中の異な る色の色素について、 工程 a )〜 c )を繰返す工程、
を含む上記カ ラ ー フ ィ ルタ ーの製造方法。
7. 上記フ ォ ト レ ジス ト組成物がノ ボラ ッ ク樹脂及び キ ノ ン ジア ジ ド化合物を含有する、 請求項 6 に記載の方 法 o
8. フ ォ ト レ ジス ト組成物がさ らに、 架橋剤を含有す る ものであ る、 請求項 7 に記載の方法。
9. 架橋剤が下式
- ( C H 2 ) p 0 R 0 (式中、 R o は水素原子又は低級アルキル基を表わ し、 p は 〗 〜 4 の整数を表わす。 :) で示される基を有する化 合物である、 請求項 8 に記載の方法。
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