WO1994006380A1 - Ultrasonic irradiation apparatus and processor using the same - Google Patents

Ultrasonic irradiation apparatus and processor using the same Download PDF

Info

Publication number
WO1994006380A1
WO1994006380A1 PCT/JP1993/001310 JP9301310W WO9406380A1 WO 1994006380 A1 WO1994006380 A1 WO 1994006380A1 JP 9301310 W JP9301310 W JP 9301310W WO 9406380 A1 WO9406380 A1 WO 9406380A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
ultrasonic
frequency
fundamental frequency
wave
piezoelectric
Prior art date
Application number
PCT/JP1993/001310
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Shinichiro Umemura
Kenichi Kawabata
Kenko Uchida
Kenji Yasuda
Yasuo Wada
Atsushi Hiraiwa
Original Assignee
Hitachi, Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi, Ltd. filed Critical Hitachi, Ltd.
Priority to EP93919658A priority Critical patent/EP0619104B1/en
Priority to DE69331692T priority patent/DE69331692T2/de
Priority to JP50665494A priority patent/JP3429761B2/ja
Priority to US08/240,733 priority patent/US5523058A/en
Publication of WO1994006380A1 publication Critical patent/WO1994006380A1/ja

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N7/00Ultrasound therapy
    • A61N7/02Localised ultrasound hyperthermia
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B17/00Surgical instruments, devices or methods, e.g. tourniquets
    • A61B17/22Implements for squeezing-off ulcers or the like on the inside of inner organs of the body; Implements for scraping-out cavities of body organs, e.g. bones; Calculus removers; Calculus smashing apparatus; Apparatus for removing obstructions in blood vessels, not otherwise provided for
    • A61B17/22004Implements for squeezing-off ulcers or the like on the inside of inner organs of the body; Implements for scraping-out cavities of body organs, e.g. bones; Calculus removers; Calculus smashing apparatus; Apparatus for removing obstructions in blood vessels, not otherwise provided for using mechanical vibrations, e.g. ultrasonic shock waves
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N7/00Ultrasound therapy
    • A61N2007/0056Beam shaping elements
    • A61N2007/006Lenses
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N7/00Ultrasound therapy
    • A61N2007/0078Ultrasound therapy with multiple treatment transducers
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N7/00Ultrasound therapy
    • A61N2007/0086Beam steering
    • A61N2007/0095Beam steering by modifying an excitation signal

Definitions

  • the present invention relates to an ultrasonic treatment apparatus suitable for treating a malignant tumor, treating a thrombus or a calculus, and an ultrasonic wave having a function of generating an ultrasonic cavity for enhancing an ultrasonic echo image such as a blood flow. It relates to diagnostic equipment, ultrasonic chemical reaction accelerators, ultrasonic cleaners for solid surfaces, ultrasonic air bubble generators, and liquid sterilizers. Background art
  • Treatment of malignant tumors and calculi using focused intense ultrasound is a non-invasive non-invasive treatment, and a treatment method that values the quality of life of patients (Quality of Life). It is expected that its social value will continue to increase in the future.
  • Acoustic cavitation is considered to play an important role as a mechanism for generating therapeutic effects by such focused intense sound wave irradiation. It is also known that acoustic cavities play a significant role in promoting chemical reactions and cleaning by ultrasonic irradiation.
  • Disinfection using chlorine has been performed for a relatively long time, but since the composition of the liquid to be treated is changed, neutralization or removal of residual chlorine is required for another purpose after disinfection. Operation is required, which is a problem in terms of safety and environmental costs.
  • Sterilization using ultraviolet light does not use chemicals, so it is a simple sterilization method that can easily handle liquid after sterilization. It is widely used. However, since most organic compounds have a large absorption coefficient, ultraviolet rays cannot be expected to be very effective for liquids containing a large amount of organic compounds other than in the vicinity of the light source. It is known that irradiation of a liquid with ultrasonic waves produces acoustic cavitation, and sterilization can be performed by the action. Disclosure of the invention
  • the present invention in view of the above-mentioned social demands and potential technical possibilities, provides an ultrasonic irradiation technology that generates acoustic cavities with significantly higher efficiency than conventional technologies. You It is intended to be This has the specific purpose of providing an ultrasonic therapy device that has virtually no side effects, or a highly efficient ultrasonic chemical reaction accelerating device, ultrasonic cleaning device, or ultrasonic sterilizing device ⁇ : I do.
  • the ultrasonic therapy system can be given the function of preventing accidental firing, The purpose is to enhance which echo characteristics and improve the drawing power of the ultrasonic diagnostic apparatus.
  • the ultrasonic cleaning device by having ultrasonic sources of multiple frequencies, not only can the cleaning capability be higher than that of a single frequency ultrasonic wave, but also the efficiency of the acoustic cavitation can be improved. It is an object of the present invention to provide a cleaning apparatus capable of obtaining a higher cleaning effect as a synergistic effect of a plurality of frequencies by setting a combination of frequencies that is generated in the same manner. .
  • Bubbles involved in acoustic cavitation are almost inversely proportional to the frequency of the ultrasound used, so large bubbles collapse at lower frequencies.
  • Semiconductor devices have become smaller in pattern size as their integration density has increased, and when ultrasonic waves of low frequency, such as 20 kHz, are used for cleaning, they become acoustic cavities.
  • the size of the generated bubbles becomes approximately the same as the size of the pattern formed on the semiconductor element, which may have an adverse effect such as not entering the groove of the pattern of the semiconductor element and coming out. is there. Because of this high frequency It is necessary to use a number, but the problem is that acoustic cavities that are effective for cleaning are difficult to produce at high frequencies.
  • An object of the present invention is to provide an ultrasonic irradiation method with a high generation efficiency of an acoustic cavity, which is a source of cleaning, and particularly to an acoustic wave effective for cleaning even at a high frequency of 500 kHz or more.
  • An object of the present invention is to provide a cleaning apparatus having a higher cleaning capability than before by generating cavitation.
  • the above-described collapse of the air bubble by the acoustic cavitation causes a region of high pressure and high temperature to be locally generated under specific conditions, and in a conventional ultrasonic cleaning apparatus, the acoustic cavitation of the acoustic cavitation is difficult.
  • Figure 1 shows an example of a double frequency superimposed wave.
  • Fig. 2B schematically shows the double-frequency waveform p2 and the states of generated and increasing bubbles on both the upper and lower sides.
  • FIG. 2C is a diagram schematically showing a state in which the bubbles generated and increased by the waveform P 2 of the double frequency are further increased on the upper and lower sides of the waveform p 1 of the fundamental frequency.
  • FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the ultrasonic irradiation apparatus according to the present invention.
  • FIG. 4A is a top view showing a configuration of an example of an ultrasonic transducer section in the embodiment of FIG.
  • FIG. 4B is a side view showing the configuration of an example of the ultrasonic transducer unit in the embodiment of FIG.
  • FIG. 5 shows an ultrasonic transducer in the embodiment of FIG. The figure which shows the structure of another example of a part.
  • Figure 6 shows the experimental results of a sonochemical reaction using a double-frequency superimposed wave.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing a configuration of a piezoelectric thickness vibrator of the ultrasonic transducer part in the embodiment of FIG.
  • FIG. 9 is a diagram showing an example of a rectangular driving waveform of the piezoelectric thickness oscillator of FIG.
  • FIG. 10 is a diagram showing an example of a step-like drive waveform of the piezoelectric thickness oscillator of FIG.
  • FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a piezoelectric vibrator peripheral circuit of the ultrasonic transducer section in the embodiment of FIG.
  • FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a configuration of a piezoelectric vibrating element drive circuit of the ultrasonic transducer in the embodiment of FIG. 7;
  • FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a push-pull switching circuit constituting a piezoelectric vibrating element drive circuit of the ultrasonic transducer in the embodiment of FIG. 7;
  • FIG. 14B is a side view showing the configuration of an example of the ultrasonic transducer section in the embodiment of FIG.
  • FIG. 15 is a diagram showing another configuration example of the ultrasonic transducer unit in the embodiment of FIG.
  • FIG. 16 shows the ultrasonic transdues in the embodiment of FIG. The figure which shows another example of the piezoelectric vibration element drive circuit of a sa part.
  • Fig. 17 is a timing chart for driving the stepped waveform of the piezoelectric thickness oscillator shown in Fig. 8.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view of an example of a non-focus type plane wave transducer employed in the present invention.
  • FIG. 20 is a cross-sectional view of an example of an insertion needle-shaped transducer used in the present invention.
  • FIG. 22 is a diagram showing another example of the configuration of the intraoperative ultrasonic therapy transducer of the present invention.
  • FIG. 23 is a diagram showing an example of a reactor configuration of the ultrasonic chemical reaction device of the present invention.
  • FIG. 24 is a diagram showing another example of the reactor configuration of the ultrasonic chemical reaction device of the present invention.
  • FIG. 25 is a diagram showing an example of the configuration of the ultrasonic cleaning device of the present invention.
  • FIG. 26 is a diagram showing another example of the configuration of the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention.
  • FIG. 27 is a view showing still another example of the configuration of the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention.
  • FIG. 29 is a diagram showing an example of the configuration of the sterilization apparatus of the present invention.
  • FIG. 30 is a diagram showing another example of the configuration of the sterilization apparatus of the present invention.
  • the pressure waveform changes from a sinusoidal wave to a so-called N-wave (the rise of the pressure falls). It is known that it is deformed into a steeper wave shape. This is due to the non-linearity that the sound pressure increases as the pressure of the medium increases.In the case of a pulsed ultrasonic wave, the positive pressure peak becomes negative as well as the propagation. It is known that the waveform is deformed into a waveform larger than that of the c.
  • acoustic cavities are difficult to generate in a transmission or propagation type sound field without strong reflectors, but are likely to be generated in an ultrasonic sound field with strong reflectors. It has been known. The above results indicate that the pressure fall caused by the propagation of ultrasonic waves is slower than the rise, and waves where the negative pressure peak is smaller than the positive pressure peak are acoustic cavities. This is disadvantageous for generating sound, but it is considered that if the phase is inverted by the reflector and the waveform changes, it is considered to be advantageous for generating the acoustic cavities. it can.
  • the present invention provides a configuration in which an ultrasonic wave having a frequency twice as high as that of the fundamental frequency can be combined with the ultrasonic wave at the irradiation target.
  • an ultrasonic wave having a frequency twice as high as that of the fundamental frequency can be combined with the ultrasonic wave at the irradiation target.
  • the fundamental frequency P1 and the double frequency p2 can be generated simultaneously from the same transmitting element or from separate transmitting elements, and transmitted so that they are combined at almost the same focal point.
  • a wave filter can also be configured.
  • the fundamental frequency p1 and the multiple frequency p2 that can generate the acoustic cavities more limited near the focal point are generated from a plurality of transmitting elements, respectively.
  • a pulse wave having a frequency higher than the above-mentioned double frequency is transmitted so that the position where the acoustic cavitation is generated can be monitored as a position in the ultrasonic echo image.
  • the fundamental frequency p1 and the double frequency p2 are devised to be simultaneously generated from the same transmitting element. I suggest an example.
  • the same object is simultaneously irradiated with a plane wave having a fundamental frequency and a plane wave having a frequency twice that of the fundamental wave so that the wavefronts of both frequencies are substantially parallel to each other. Suggest a configuration.
  • the generation of the acoustic cavities described above is performed using the same method as the cleaning using ammonia and hydrogen peroxide or hydrogen peroxide and sulfuric acid in the semiconductor device manufacturing process. It proposes effective use in a chemical process of oxidizing substances attached to the surface of semiconductor devices.
  • the fifth embodiment proposes the use of liquid for sterilization.
  • specific examples of the synthesis of the ultrasonic wave of the fundamental frequency p 1 and the ultrasonic wave of the double frequency p 2 and the ultrasonic wave, which can efficiently generate the acoustic cavities in the irradiation target, will be described first. I will tell.
  • Figures 2A and 2B show that when the waveform pi of the ultrasonic wave at the fundamental frequency f is represented as sin (2 ft) at time t, the waveform of the double frequency P 2 is approximated to sin (47 ft). It shows the sound pressure waveform when such a phase relationship is set, and is synthesized. The fall is sharper than the rise of the sound pressure, which is extremely advantageous for generating acoustic cavities. This is a simple example. Taking this case as an example, the operation of generating the acoustic cavities will be schematically described.
  • FIG. 9 is a diagram showing a waveform obtained by synthesizing a waveform p 2 of a frequency doubled with sin (4; rft).
  • Fig. 2B schematically shows the waveform of the double frequency waveform P2 and the generated and increasing bubbles on the upper and lower sides.
  • FIG. 2C schematically shows the waveform of the fundamental frequency P 1 and the upper and lower sides of the waveform P 2, which are generated and increased by the double frequency waveform p 2.
  • the radius of the cavity bubble oscillates at the period of the double frequency, but at the beginning of bubble generation, as shown in the upper part of FIG. 2B, the radius is smaller than the radius of the resonant bubble. It is small, and becomes the maximum (for example, b1) at the negative pressure peak of the double frequency, and becomes the minimum (for example, b2) at the positive pressure peak. That is, expansion and contraction are repeated within the range of b 1 and b 2.
  • the phase of the vibration of the bubble radius is delayed by 90 degrees, and the radius of the bubble increases.
  • Is maximum eg, b 3
  • the bubble corresponding to the positive pressure is substantially the same as at non-resonance (for example, b4).
  • the cavity bubble grows further by receiving the energy of the fundamental frequency and reaches at least the size of the resonant bubble at the fundamental frequency (eg, c 2).
  • the bubble corresponding to the positive pressure is substantially the same as the bubble corresponding to the initial positive pressure at the double frequency both at the time of resonance and at the time of non-resonance (for example, c3 and c4).
  • the bubbles to be crushed When the grown bubbles are crushed, energy is locally generated by adiabatic compression of the gas inside. In order for this energy to be sufficient for triggering chemical reactions, etc., the bubbles to be crushed must have at least a certain size or more. . If the fundamental frequency is chosen somewhat lower, the resonant bubble can be set to a size greater than its required size. However, when irradiating the fundamental frequency alone, the problem arises that if the resonance bubble of the fundamental frequency is too large, then the generation of cavities cannot be started sufficiently. On the other hand, by using the method of the present invention and superimposing a double frequency having an appropriate phase relationship, the start of cavitation generation and the growth of cavitation bubbles to a sufficient size can be achieved. Can be efficiently performed in cooperation with the double frequency and the fundamental frequency, respectively.
  • an ultrasonic echo image of the irradiation target is formed by transmitting and receiving a pulse wave having a frequency higher than the above-mentioned double frequency.
  • the ultrasonic imaging unit it is possible to perform self-consistent monitoring using waves having substantially the same speed as the ultrasonic waves for applying the effect of the acoustic cavitation to the irradiation target.
  • monitoring that is relatively unaffected by the sound velocity distribution of the intermediate medium can be realized.
  • the ultrasonic imaging unit should receive an even-multiple frequency component of the ultrasonic multiple frequency for exerting the effect of the acoustic cavitation on the irradiation target. With such a configuration, it is possible to display the position where the acoustic cavitation is generated or the position where the generation is likely to be superimposed on the ultrasonic echo image.
  • Information on the ultrasonic irradiation treatment strategy is input to the irradiation unit main control circuit 20 from the key input means 31 and the focal position and sound pressure distribution shape of each of the fundamental and double frequency irradiation sound fields are defined based on the information.
  • the irradiation focus code signal to be applied is supplied from the irradiation section main control circuit 20 to the drive phase generation circuit I (11) and the drive phase generation circuit II (12), respectively.
  • the driving phases of the generated fundamental and multiple frequency irradiation transducers are determined by the drive signal generation circuit 7 — 1 to 7 — N (where N is an independent transducer) Of the fundamental frequency) and the drive signal generation circuits 8-1 to 8 _ M (M is the total number of multiplicity of the transducer independent elements).
  • the drive amplitudes of the fundamental frequency and the double frequency are given from the irradiation section main control circuit 20 to the respective drive signal generation circuits 7-1 to 7-N and 8-1 to 8-M.
  • the generated driving signals of the fundamental frequency and the double frequency are respectively applied to the element driving circuits 3-1 to 3 -N and 4-1 to 41 M, and the irradiation transducer fundamental frequency element group 1-1 1 1 N and the double frequency element group 2 — 1 2 2 -M are driven respectively.
  • the drive amplitude is configured to be controlled also by a signal directly applied from the irradiation section main control circuit 20 to the element drive circuits 3-1 to 3-N and 41-41-M. The emergency stop of ultrasonic irradiation when an abnormality occurs is ensured and easy.
  • the receiving amplifiers 9 — 1 to 9 — N and 10 — 1 to 10 — M are variable gains, and the gains are controlled by signals directly supplied from the irradiation unit main control circuit 20. You. During times when a lot of unnecessary signal components are generated even at a frequency other than the irradiation ultrasonic center frequency, such as when switching the irradiation focus, this gain should be dropped to avoid amplifier saturation.
  • the reception focus circuit I (13) and the reception focus circuit 11 (14) converge at a plurality of focal points arranged at intervals corresponding to the spatial resolution of the reception system within the irradiation focal area. Frequency f0 / 2.f with focus circuits in parallel and radiated by the cavities.
  • Such as harmonic components and 3f. Z 2,5 fo no 2,7 f. / 2 Detects the generation and position of generation of ultrasonic waves of harmonic components of subharmonics.
  • a signal indicating the position where the cavitation is generated and the intensity of the cavitation is supplied to the display circuit 30.
  • the reception focus circuit I (13) and the reception focus circuit I (13) are configured by using a number of parallel processing focus circuits smaller than the above-mentioned number of focuses and scanning each focus. To reduce the cost of the signal focus circuit II (14) You can do it.
  • 21 is an array type transmission / reception probe dedicated to ultrasonic imaging
  • 2 2 is a rotation mechanism for rotating the probe around an axis perpendicular to the probe surface.
  • the structure is such that multiple ultrasonic pulse echo tomographic images required for the squeezing can be obtained.
  • Each element of the probe 22 is connected to a transmission control circuit 23 and a reception focus circuit 25 via a transmission / reception amplifier 24.
  • the display circuit 30 displays, on the obtained echo tomographic image, the cavities detected by the reception focus circuit I (13) and the reception focus circuit ⁇ (14). It is configured such that a signal indicating the position and intensity of the generated signal is superimposed and displayed.
  • the ultrasonic frequency band of the probe 21 is 4 f. Above. Also, frequency 4 f radiated by the cavity. , 6f. , 8f. Such as harmonic components and 9f.
  • the harmonic components of the subharmonics such as Z 2 are detected by the probe 21 rather than the element group 1-1-1 to 1-N and the element group 2-1-1-2-M. It may be configured.
  • the irradiation section main control circuit 20 controls the drive phase generation circuit I (11) and the drive phase generation circuit II (12), and the drive signal generation circuits 7-1 to 7—N and 8-1.
  • ⁇ 8-M is controlled to transmit pulse ultrasonic waves in synchronism with the ultrasonic pulse transmission for imaging of the probe 21 for the ultrasonic imaging. 1 to 1 N and 2-1 to 2 — Obtained by transmission by M and reception by probe 21
  • the strong ultrasonic focus position for generating the cavity can also be displayed so as to be superimposed on the echo tomographic image obtained by transmission and reception by the probe 21.
  • the efficiency of the generation of cavities depends on the relative phase relationship between the fundamental frequency and the over-multiplied frequency, so that the harmonic components radiated by the cavities and the harmonics
  • the drive signal generation circuits 7-1 to 7_N and 8-1 to 8-N are controlled to maximize the strength of the harmonic components of the wave, and the relative phase relationship is optimized. As a result, more efficient generation of cavities can be realized. If it is difficult to optimize the harmonic components or the harmonic components of the subharmonics based on the strength of the harmonic components, or if you want to omit the function, shift the relative phase relationship with respect to the multiple frequency; / 8/8 to ⁇ / 4.
  • the reception focus circuit 25 sends the irradiation section main control circuit 2 Based on the signal given to 0, control is performed so that the irradiation focus moves in accordance with the movement of the target position.
  • the movement of the target area is too large and exceeds the irradiation focus range.
  • the ultrasonic irradiation timing is synchronized with the respiration based on the signal given from the respiration detection unit 32 to the irradiation unit main control circuit 20, and the respiration time phase is adjusted. Control so that ultrasonic irradiation is performed only within a certain range.
  • the drawing power of the ultrasonic diagnostic apparatus of the present embodiment can be improved. That is, two-frequency superimposed ultrasonic irradiation is performed at a relatively small intensity using the element group 11 1 to 11 N and the element group 2 1 to 2 N, and the ultrasonic pulse echo using the probe 21 is performed. Acoustic cavitation is efficiently generated in the object to be drawn by the scanning method to emphasize the echo characteristics of the object to be drawn, such as blood flow, and the ultrasonic pulse echo method using the probe 21 alone does not It is possible to render blood flow in minute blood vessels and low-speed blood flow, which are difficult to draw even by the method.
  • FIGS. 4A and 4B show, for example, a 16-sector X2 trap composed of ultrasonic element groups 1 — 1 to 1 — N and 2 — 1 to 2 — M.
  • Fig. 1 shows an array-type high-intensity ultrasonic transducer.
  • Figure 4A shows the transducer viewed from below, showing each element group and some of its peripheral circuits.
  • Figure 4B shows the cross-sectional structure of the transducer.
  • This focused high-intensity ultrasonic transducer has a minimum required number of elements, N + M, to enable the focal point to travel.
  • the geometrical focus is obtained by arranging the ultrasonic element groups 11-1 to 1-N and 2-1 to 2-M on the light alloy spherical shell 33.
  • the light-alloy spherical shell 33 mainly composed of magnesium or aluminum has a concave surface that forms a part of a spherical surface centered on the geometrical focus F on the ultrasonic irradiation surface side, and has a back surface.
  • the side has a polished polyhedral shape for bonding ultrasonic elements made of piezoelectric ceramic.
  • Light alloy sphere shell 33 has good thermal conductivity and is effective for cooling piezoelectric elements during irradiation with strong ultrasonic waves, and also works as a ground electrode for each piezoelectric element. I have. In addition, it forms part of a transducer housing, and is provided with a cooling fluid passageway 33 for removing heat generated during irradiation with high-intensity ultrasonic waves. A water bag 35 with degassed water is installed to facilitate the operation.
  • the light alloy mainly composed of magnesium aluminum has an acoustic impedance between the piezoelectric ceramic and the degassed water for coupling, so that the spherical shell 33 is located between the two. Also works as an acoustic matching material.
  • the thickness of the spherical shell 33 is selected so as to be a half wavelength at the fundamental frequency and one wavelength at the double frequency, but the fundamental frequency elements 1-1 to 11N
  • the thickness is changed between the portion of the frequency band and the portion of the frequency multiplier 2 _ 1 to 2 — M, and the frequency is set to 1 Z 4 wavelength at each frequency, so that the transmission and reception characteristics of pulsed ultrasonic waves can be improved. You can also.
  • a pulse echo transmission / reception probe 21 dedicated to ultrasonic imaging is placed in the circular hole at the center of the array shown in Figs. 4A and 4B.
  • the basic structure of the probe 21 is the same as that of the sector scanning array probe used in the ultrasonic diagnostic apparatus.
  • the probe 21 is used in place of the transducer 'nosing 33'. It is rotatable around the central axis, and its rotation is performed by a rotation mechanism 22.
  • the geometrical focal length of the transducer is about 12 cm
  • the outer diameter of the array is about 12 cm
  • the inner diameter is about 4 cm
  • the diameter of the circle separating the two tracks is about 12 cm. 8 cm. Since the diameter of the outer track that generates the fundamental frequency is approximately twice the diameter of the inner track that generates the harmonic, the diameter of the fundamental frequency spot at the focal plane and the diameter of the double-frequency spot The diameters of the birds are almost equal, and the generation of cavitation due to the synergistic effect of the two frequencies is performed efficiently.
  • the outer diameter of the array is 12 cm
  • the inner diameter is 3 cm
  • the diameter of the circle separating the two tracks is 6 cm
  • the outer side, the inner side, and the inner side Are almost exactly similar in wavelength ratio, so that the peak sound pressure distribution of the double frequency at the focal plane is almost the same as the fundamental frequency.
  • the fundamental frequency and the double frequency are irradiated simultaneously. Since only the vicinity of the focal point is set, by setting the focal point on the irradiation target, the cavities can be efficiently generated locally only in the vicinity of the focal point.
  • FIG. 5 is an example in which a rectangular array is used for the ultrasonic transducer part of the present embodiment.
  • the ultrasonic transducer consisting of a rectangular piezoelectric ceramic with a short side of 4 c.m and a long side of 16 cm is divided into 2 N + M elements, with 2 N at both ends of the short side. These elements are electrically connected to each other, and are an array consisting of N electrically independent fundamental frequency generators 1 — 1 to 1 — N and M multiple frequency generators 2 — 1 to 2 — M.
  • ⁇ Transducers are formed.
  • the irradiation surface side of the acoustic matching layer 33 made of a light alloy mainly composed of magnesium or aluminum forms a part of a cylindrical surface, and the concave portion has a sound velocity similar to that of water. Filled with a slower polymer acoustic filler 36, the surface is shaped to be flat or convex, and the geometry converges on the line segment F'F '' as a whole. It forms a strategic focus.
  • the ultrasonic transducer of the embodiment shown in Fig. 5 has a basic structure that also functions as a linear scanning or sector scanning array probe used in an ultrasonic diagnostic apparatus. have. Accordingly, of the basic configuration shown in FIG. 3, the probe 21 dedicated to ultrasonic imaging and its rotation mechanism 22, the transmission control circuit 23, the transmission / reception amplifier 24, and the reception focus circuit 2 5 None of the ultrasonic pulse echo cuts required to position the irradiation target A layer image can be obtained. However, like a normal linear scanning or sector scanning probe, the tomographic plane that can be imaged is only in the direction parallel to the long side.
  • the width in the short side direction of the fundamental frequency generating element that is electrically connected in common is about twice as large as the width in the short side direction (direction orthogonal to the array arrangement direction) of the double frequency generating element.
  • the spread of the fundamental frequency spot and the double frequency spot in the short side direction on the focal plane are almost equal, and the generation of cavities by the synergistic effect of the two frequencies is performed efficiently. It is.
  • the fundamental frequency and the double frequency are synthesized in the medium, and the two frequencies are simultaneously irradiated only in the vicinity of the focal point. Cavitations can be efficiently generated locally only in the vicinity. This means that the potential for side effects at sites distant to the front or back of the irradiation target can be substantially eliminated when the sonication guided by the cavity is used for therapeutic purposes. This leads to the ability to do it.
  • FIG. 6 shows the sonochemical reaction rates when the fundamental frequency of 75 kHz and the multiplied frequency of 1.5 MHz were simultaneously irradiated while keeping the sum of the ultrasonic waves of both constant.
  • This is a plot of the ratio of the fundamental frequency to the frequency.
  • the sum of the ultrasonic intensity of the fundamental frequency and the multiple frequency near the focal point was about 30 WZ square cm.
  • the sonochemical reaction rate was 0 within the experimental error range when the fundamental frequency and the overtone were used alone, but the synergistic effect when both frequencies were irradiated simultaneously was remarkable.
  • the transmitting element is composed of a piezoelectric material or a material having the same acoustic impedance as that of the piezoelectric element, and the entire thickness is set to a half wavelength for the fundamental frequency, and not the entire thickness.
  • the drive waveform does not include a component of an even multiple of the fundamental frequency. Since it is not suitable for generating even-number-frequency ultrasonic waves, it is necessary to devise a drive circuit that uses a waveform containing the target frequency component as a drive waveform.
  • the first contrivance is that when a square wave is used as the driving waveform, the ratio of the time to stay at two high and low potentials as usual is not a 1: 1 ratio but an asymmetric ratio Things.
  • a second approach to the drive circuit is to use a sawtooth wave or a staircase wave simulating the sawtooth wave instead of a square wave as the drive waveform.
  • the acoustic thickness (attention Consider a configuration in which the region corresponding to the ratio of ⁇ from the end is piezoelectrically driven in the case where the vibrator is not uniform with respect to the sound speed of the resonance mode in which it is not uniform).
  • the piezoelectrically driven portion 71 of the piezoelectric body and the non-piezoelectrically driven portion 72 are acoustically integrated by means of sintering or a strong adhesive. .
  • an electric field is applied between the electrode 74 and the electrode 73 covering the portion 72.
  • the portion 72 covered with the electrode 74 is a portion that is not driven piezoelectrically.
  • ⁇ i (F / 4) sin 2 2 ⁇ ⁇ (4).
  • F is a constant determined by the difference between the two potentials, that is, the amplitude.
  • is obtained from (Equation 3) and (Equation 4).
  • F, ⁇ ! 0, including the fundamental frequency component, but not the double frequency component.
  • a sawtooth wave or a staircase wave simulating the sawtooth wave is used as the drive waveform instead of the rectangular wave.
  • a sawtooth wave has a frequency component that is an even multiple of the fundamental frequency. Therefore, here, the case of a staircase wave that simulates this will be described in detail.
  • the fundamental frequency included in a staircase wave with a ratio of the time to stay at two high and low potentials and the time to stay at an intermediate potential is 7: (1-r). Power of the component and its double frequency component 7? 0 and? ? 1 is
  • a capacitor is connected in parallel to the piezoelectric vibrator, the total capacitance is C (43), and the inductors L (44), L (45) and
  • capacity C (46) is added, when it can be considered that terminals 41 and 42 are connected to a drive circuit with sufficiently low output impedance, the terminal 41 side the electrical Yi down impedance as seen from the tail and the terminal 4 2 side Z, you and Z 2, when the angular velocity ⁇ rather far
  • FIG. 7 shows the overall configuration of an embodiment of the ultrasonic irradiation apparatus of the present invention having an acoustic cavitation generation position monitoring function using the wave transmitting element devised as described above, and FIG.
  • the configuration is shown in Figs. 12 and 13, and the configuration of the ultrasonic transducer is shown in Figs. 14 ⁇ and 14 4.
  • This embodiment is the same as the embodiment in FIG. 3 except that the transmitting element is shared by the fundamental wave and the double frequency.
  • Information on the ultrasonic irradiation treatment strategy is input from the key input means 31 to the irradiation unit main control circuit 20, and based on the information, the focus position •
  • the driving phases of the generated fundamental frequency and double frequency irradiation transducers are determined by the drive signal generation circuits 7 — 1 to 7 — ⁇ (where ⁇ is the total number of transducers and independent elements). ).
  • the control signals of the drive amplitudes of the fundamental frequency and the double frequency are supplied from the irradiation section main control circuit 20 to the drive signal generation circuits 7-1 to 7- ⁇ .
  • the generated drive signal is supplied to the element drive circuits 3-1 to 3--, and the irradiation transducer element groups 11 1 to 1— ⁇ are driven. It is.
  • the drive amplitude is also controlled by a signal directly applied from the irradiation section main control circuit 20 to the element drive circuits 3-1 to 3-N.
  • Fig. 12 shows the circuit configuration of one element driving circuit 3-1 to 3-N
  • Fig. 13 shows the push-pull switching circuit that constitutes a part of it. Is shown.
  • the output units of the basic frequency drive unit 47 and the double frequency drive circuits 48 have the basic configuration shown in FIG. Is connected to each element through a circuit resonating at the frequency doubled 2 ⁇ 0 and.
  • capacitance C and inductance L are the fundamental frequency f. It is a combination that resonates at. That is,
  • the switching circuit shown in Fig. 13 consists of a constant potential source 49 on the low potential side (ground potential in this case) and a constant potential source 5 on the high potential side.
  • the connection between 0 and the output terminal 52 is interrupted by switching elements 53 and 54, respectively.
  • the output terminal 52 is connected via a capacitor 58 to output only the AC component.
  • To stabilize the power supply potential connect a canon between the constant potential sources 49 and 50.
  • System 58 connected.
  • the input terminal 51 is connected directly to the gate of the switching element 53 on the ground potential side, but is connected directly to the gate of the switching element 54 on the high potential side. 5 is connected through.
  • the direct current level of the gate is determined by the opening of the Zener diode 56 having a Zener potential of the gate drive signal amplitude (difference between the highest potential and the lowest potential).
  • the potential is controlled so as to be equal to the potential of the high potential side constant potential source 50.
  • a resistor 5 ⁇ ⁇ ⁇ is connected in parallel with the Zener diode 56.
  • the irradiation transducer composed of the element groups 11 to 11N can be used as a reception transducer for detecting cavities generated in the irradiation target. Operate.
  • the signals received by each element are converted into the reception amplifiers 9-1 to 9-1 after the components of the irradiation signal band are removed by the band rejection filters 5-1 to 5-N, respectively. It is guided to N, amplified, and supplied to the reception focus circuit 13.
  • the element drive circuits 3-1 to 3-N output the frequency f. And 2 f. Since it is connected to a low impedance circuit via a resonant circuit that resonates at f, f. And 2 f. At frequencies outside of this range, the output impedance of the drive circuit does not shunt and hinder reception sensitivity.
  • the display of the echo-one tomographic image by the array transmission / reception probe 21 dedicated to ultrasonic imaging and the response to the respiratory movement of the target site are the same as those in the embodiment of Fig. 3, so the description is omitted. I do.
  • FIGS. 14A and 14B the difference between the ultrasonic transducer of this embodiment and the ultrasonic transducer shown in FIGS. 4A and 4B will be described. Will be described.
  • Fig. 14 Transducer of 14A seen from below, each element group and its surroundings The diagram showing a part of the circuit is the same.
  • This piezoelectric inactive plate may be made of a piezoelectric inactive material such as zinc or copper having an acoustic impedance almost equal to that of the piezoelectric ceramic. With such a configuration, a piezoelectric vibrator having piezoelectric activity at both the fundamental frequency and the multiple frequency is realized.
  • the transmitting elements 111 and 112 are displayed with the same thickness.
  • the spherical shell 33 that forms a part of the housing is made of zinc or copper instead of light alloy, giving a thickness of 1/6 wavelength at the fundamental frequency and 1/3 wavelength at the fundamental frequency. Even if a piezoelectric ceramic element with a wavelength thickness is attached, it can be made piezoelectrically active at both the fundamental frequency and the double frequency, as shown in Figs. 14A and 14B. The configuration is slightly better in acoustic separation between adjacent elements.
  • FIG. 15 shows an example in which a rectangular array is used for the ultrasonic transducer portion of the present embodiment.
  • FIGS. 4A and 4B correspond to FIGS. 14A and 14B.
  • the drawing differs from FIG. 5 only in that the transmitting elements 11 1 and 11 2 are displayed with the same thickness.
  • 1-1-1 to N 2-1 to 2-N, 3-1 to 3-N
  • 1-1-1 to N and 3-1-1 to N correspond to Although the elements are electrically connected to each other, they can be driven in different phases with respect to the element groups 2-1 to 2—N, so that the focus on the short side is also deep.
  • the focal point can be moved in the vertical direction.
  • the ratio of the time to stay in each state is not 1: 1 but rather By controlling the unequal ratio, such as 1: 3, it is possible to simultaneously irradiate the ultrasonic wave of the fundamental frequency and the ultrasonic wave of twice the frequency.
  • FIG. 10 shows a simple circuit configuration.
  • This circuit drives one element per element, and drives the piezoelectric vibrator.
  • the gate input terminals 66, 65, 68, and 67 of the drive circuit consisting of the grouping of the ring elements 54, 53, 63, and 64 are connected to the smaller timing circuit shown in Fig. 17.
  • the input terminal 67 is directly connected to the gate of the tuning element 63, but other input
  • the input terminals 65, 66, and 68 are connected to the gates of the switching elements 53, 54, and 64, respectively, and are connected to the gates of the switching elements 54 in FIG. They are connected via the same circuit as the circuit. Diodes 61 and 62 are connected in series to prevent backflow of the switching elements 63 and 64, respectively.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view showing an example of a single-focus manual scanning type transducer.
  • the present invention is also applicable to a mechanical scanning type trans- ducer, a non-focus type plane wave transducer whose example is shown in a cross-sectional view in FIG.
  • the electrode 73 is connected to a coaxial connector 76 by a lead wire 75.
  • a housing 77 made of a metal having high thermal conductivity such as copper or aluminum is provided with a cooling water channel 78 so as to remove heat generated from the piezoelectric body during the operation of generating ultrasonic waves, and in some cases. In some cases, the ultrasonic irradiation target is cooled.
  • the thickness of the central part of the acoustic lens 79 made of magnesium or a magnesium-based alloy is set to 1/4 or 1/2 wavelength at the fundamental frequency to achieve high efficiency. We are trying to secure it.
  • the thickness of the flat plate 79 made of light metal such as magnesium or aluminum shall be 1/4 or 1/2 wavelength at the fundamental frequency. This ensures high efficiency.
  • a therapeutic effect can be obtained by applying a plane wave transducer as shown in FIG. 19 to the body surface or by using it intraoperatively.
  • a therapeutic effect can also be obtained by inserting a needle-shaped transducer, an example of which is shown in a cross-sectional view in FIG. .
  • the ultrasonic wave is rather diffused by the conical portion 81 of the tip made of magnesium or a magnesium-based alloy.
  • the conical portion 81 at the tip may be made of a material having a relatively low sound speed.
  • This embodiment is similar to the embodiment of FIG.
  • the phase rotation due to the diffraction effect can be ignored, so that the plane waves of both frequencies are combined so that the wavefronts of both frequencies are parallel to each other in each near field.
  • the focus was on the fact that the phase relationship between the two frequencies over a wide area could be made an advantageous condition for the generation of acoustic cavities.
  • FIG. 21 shows an example of the configuration of an intraoperative ultrasonic therapy transducer section of the ultrasonic therapy apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • the planar piezoelectric bodies 1 and 2 which generate a fundamental frequency and a double frequency, respectively, are mounted so as to face each other in parallel. Both piezoelectric bodies are acoustically bonded to the acoustic matching layers 79-1 and 79-2 made of a magnesium alloy with sufficient strength acoustically.
  • the heat generated during the generation of ultrasonic waves is guided from these high thermal conductivity acoustic matching layers to the housings 77-1 and 77-2, which are made of metal with high thermal conductivity, and then cooled. Irrigation from the transducers by irrigation canals 7 8-1 and 7 8-2. In some cases, this cooling function can also be used for the purpose of cooling the vicinity of the surface of the affected part to be irradiated with ultrasonic waves.
  • the affected area is sandwiched between the planar piezoelectric bodies 1 and 2 so that the fundamental frequency and the double frequency are superposed on both sides of the affected area. Irradiate sound waves at the same time.
  • the distance between the planar piezoelectric bodies 1 and 2 can be adjusted by the parallel moving mechanism 90 while maintaining the parallelism.
  • Acoustic matching layer of both piezoelectrics 7 9 1 1 and 7 9 In principle, the distance between the two surfaces is set to be an integral multiple of half the fundamental frequency.
  • Fig. 22 shows an example of an intraoperative ultrasound therapy transducer configured to generate a fundamental frequency and a double frequency simultaneously from one piezoelectric body.
  • planar piezoelectrics (71 and 72—this is the same as the configuration described in Figure 8), which simultaneously generates a fundamental frequency and a multiple frequency, the fundamental frequency is better than that of stainless steel.
  • a reflector 92 having a thickness of an integral multiple of a half wavelength is attached so as to face in parallel.
  • the flat piezoelectric body is acoustically bonded to a thickness diaphragm 79, which is made of a magnesium-based or aluminum-based alloy and has a thickness that is an integral multiple of half a wavelength at the fundamental frequency, with sufficient acoustically strong strength. I have.
  • the standing wave sound field formed between the two acoustic matching layers 79-1 and 79-2 of the two-plane type piezoelectric bodies 1 and 2 in the embodiment of Fig. 21 is almost equivalent.
  • This sound field can be formed between the thickness diaphragm 79 and the reflector 92.
  • the reflector 92 can be designed to be much thinner than the housing 79-9-2 of the planar piezoelectric body 2, so that it is easy to use during surgery.
  • the configuration shown in FIG. This is more advantageous than the configuration shown in FIG.
  • the intraoperative ultrasonic therapy transducer shown in FIGS. 21 and 22 is placed on the transmitting element 1 or 2 or the transmitting element 1 in the configuration of the ultrasonic therapy apparatus of the embodiment shown in FIGS. 3 and 7, respectively. By interchanging, an intraoperative ultrasound therapy apparatus can be configured.
  • the ultrasonic detector 21 in FIGS. 21 and 22 corresponds to the probe 21 in FIGS.
  • the thickness shall be an integer multiple of that, but if it is made of stainless steel or quartz glass to ensure the required chemical stability, the thickness shall be an integral multiple of half a wavelength. .
  • the distance between the inner walls of the reaction vessel is an integral multiple of a half wavelength of the fundamental frequency so as to satisfy the resonance condition. In the example shown in the figure, by selecting it at a distance of one wavelength in the fundamental frequency, not only the vicinity of the inner wall but also the central part of the vessel is affected by the sound pressure of the standing wave at both the fundamental frequency and the double frequency. It was designed to be belly.
  • the configuration of FIG. 23, which is essentially superior in generating acoustic cavities, is also advantageous as a configuration of a bubble generator.
  • Fig. 24 shows an example of the configuration of a reactor or bubble generator of an ultrasonic chemical reaction device that generates a fundamental frequency and a double frequency simultaneously from one piezoelectric body.
  • a planar piezoelectric body that can simultaneously generate a fundamental frequency and a double frequency is made of stainless steel, quartz glass, or the like, and has a thickness that is an integral multiple of a half wavelength of the fundamental frequency.
  • Reaction vessel 9 1 Attached with sufficient acoustic strength to thickness diaphragm 79, which forms part of the outer wall.
  • the outer wall 92 on the opposite side parallel to the thickness vibrating plate 79 has a thickness which is an integral multiple of a half wavelength with respect to the fundamental frequency, and functions as a reflecting plate.
  • a cleaning liquid 101 for example, pure water or a cleaning liquid for semiconductor substrates containing hydrogen peroxide and ammonia, is filled with a cleaning tank 102 and a piezoelectric element having a vibrating surface attached to the bottom of the cleaning tank 102.
  • the acoustic thickness in the vibration direction is 103, which is composed of a solid body 103 and a solid substance having substantially the same acoustic impedance as 103 attached to the piezoelectric body 103.
  • the resonance frequency f of a composite resonance type thickness vibrator composed of a flat plate 104 and 103 and 104.
  • Waveform generators 105 and 106 which generate electrical signals and 2f0, respectively, and the electrical signals output from waveform generators 105 and 106, respectively.
  • the diaphragm in which the piezoelectric body 103 and the flat plate 104 are bonded has substantially the same configuration as the piezoelectric thickness vibrator described above with reference to FIG.
  • the fundamental frequency f in the region 108 is obtained by excitation by the waveform generators 105 and 106 and the amplifier circuit 100. And its double frequency 2f. Can coexist.
  • the object to be cleaned 109 in this area 108 for example by placing a semiconductor substrate, produces an acoustic cavitation with high efficiency on the surface 1.09 of the object to be cleaned. Then, the surface of the object 109 to be cleaned by the acoustic cavities is cleaned.
  • the electric signal output from the waveform generator 106 that generates the electric signal having the following components is amplified by amplifiers 107 ′ and 107 ′, respectively, and the piezoelectric bodies 103 ′ and 103 ′ are amplified.
  • the object to be cleaned 109 in this area for example, by placing a semiconductor substrate, produces an acoustic cavitation with high efficiency on the surface of the object to be cleaned 109, and this acoustic cavitation occurs.
  • the surface of the object 109 to be cleaned by the ion is cleaned.
  • FIG. 27 shows an embodiment of the cleaning apparatus for performing the cleaning.
  • a pipe 111 for conducting a cleaning liquid 101, for example, pure water, a nozzle 113 attached to the tip thereof, and a piezoelectric body held inside the nozzle 113 are provided.
  • the resonance frequency f of the composite thickness oscillator constituted by 104 and 103 and 104.
  • And amplifying circuit 107 that adds and amplifies the signals output from waveform generators 105 and 106 to each other and applies it to piezoelectric body 103. It is configured to include.
  • the diaphragm bonded to the piezoelectric body 103 and the flat plate 104 has substantially the same configuration as the piezoelectric thickness vibrator described above with reference to FIG.
  • its double frequency 2f. Can coexist.
  • the cleaning liquid 101 from the nozzle 113 toward the rotating or stationary stage 119 By firing the cleaning liquid 101 from the nozzle 113 toward the rotating or stationary stage 119, the cleaning liquid in the area 120 is opened.
  • the object to be cleaned 1 2 1 For example, on the surface of a semiconductor substrate, this results in a highly efficient acoustic cavitation, and the table of objects 1 2 1 to be cleaned by this acoustic cavitation. The surface is cleaned.
  • cleaning was performed by oxidizing a semiconductor substrate using ammonia and hydrogen peroxide.However, the progress of oxidation in the semiconductor substrate stopped at a certain depth, and was quantified. Because it was difficult to convert the material, a substance that caused coloration due to the oxidation reaction was held at the position where the semiconductor substrate was held in the cleaning device, and the oxidation reaction rate of the substance due to ultrasonic irradiation was measured. The oxidation reaction rate was used as an index of washing efficiency. The experiment was conducted on a reaction in which triiodide ions 1, 3— were generated from iodide ions 2 I— by oxidation.
  • aqueous solution obtained by adding chlorinated hydrate to potassium iodide is placed in a 0.03 mm-thick polyethylene bag, and held in a position for holding the semiconductor substrate.
  • a sound wave was irradiated.
  • the concentration of the generated triiodide ion was determined by the absorbance, and the oxidation reaction rate was determined from the value.
  • the oxidation reaction rate when simultaneously irradiating a fundamental frequency of 75 kHz and a multiplied frequency of 1.5 MHz with the sum of the ultrasonic powers of both being constant is defined as the ratio of the fundamental frequency power to the total ultrasonic power.
  • the oxidation reaction rate with the same characteristics as described above with reference to FIG. 6 was obtained.
  • the sum of the ultrasonic intensity at the fundamental frequency and the double frequency at the place where the oxidation reaction occurred was about 30 WZ cm 2 .
  • Oxidation at fundamental frequency and double frequency alone The reaction rate was 0 within the experimental error range, but the synergistic effect when both frequencies were irradiated simultaneously was remarkable.
  • Figure 28 shows the results of plotting the oxidation reaction rate when the phase ratio between the fundamental frequency and the overtone frequency was changed while the acoustic ratio between the fundamental frequency and the overtone frequency was fixed at 1: 1. Again, the sum of the fundamental and multiple frequency ultrasonic intensity at the location where the oxidation reaction occurred was about 3 OWZ cm 2 .
  • the horizontal axis shows the value of ⁇ ; when the fundamental wave is sin (2 ⁇ f) and the multiple frequency is sin ( ⁇ f + a.
  • the ultrasonic cleaning device shown in this example was also effective for cleaning using hydrogen peroxide and sulfuric acid, cleaning using tri-acetic acid, and cleaning using hydrated chloral.
  • a processing tank 201 a liquid inlet 202, A liquid discharge port 203, a valve 204, a bubble injection port 205, a piezoelectric body 206 with a vibrating surface adhered to the bottom of the processing tank 201, and a piezoelectric body 206 attached to the piezoelectric body 206
  • a flat plate 207 of a piezoelectric body 206 having a thickness in the vibration direction consisting of a solid having a sound impedance substantially the same as that of 206, and 206 and 20. 7 is the resonance frequency f of the composite resonance thickness oscillator.
  • Amplifier circuit 208 that adds and amplifies the waveform generators 208a and 208b that generate the electrical signals of the above and the electrical signals output from waveform generators 208a and 208b. It is more structured.
  • the relationship between the piezoelectric body 206 and the flat plate 207 is configured as described in FIG. 8, as in the embodiment of FIG.
  • the resonance frequency f is applied to the piezoelectric body 206.
  • 2 f When the liquid in the processing tank 201 is irradiated with ultrasonic waves, the fundamental frequency f is applied to the liquid in the processing tank. Its double frequency 2 f. Can coexist. This effectively produces acoustic cavitation in the treatment tank and sterilizes the liquid.
  • valve opening / closing degree and timing can change the liquid processing amount and processing time.
  • the composition of the liquid uses the somatochemically active substances such as hematoporphyrin and chlorin.
  • a fluorinated dye or a halogenated compound such as chloral hydrate or tetrachloroacetic acid to a liquid, the bactericidal effect per hour can be improved. .
  • the overall configuration of the liquid treatment device is the same as in FIG.
  • the vibrating surfaces of the ultrasonic vibrators 206 b that resonate with each other are independently adhered to the side walls of the processing tank 201, and each has a frequency f.
  • a waveform generator 208 a that generates an electric signal having the components of Waveform generator 208b that generates an electric signal having a component of a frequency twice as high as the above, and the electric signal output from the waveform generators 208a and 208b is used as an amplifier 20
  • AC voltage is applied to the ultrasonic transducers 206a and 206b by independently amplifying them by 9a and 209b.
  • the fundamental frequency f enters the processing tank. And its frequency 2 f. Can coexist. This effectively produces acoustic cavitation in the treatment tank and sterilizes the liquid.

Description

明 細 書 発明の名称
超音波照射装置及びそれによる処理装置 技術分野
本発明は、 悪性腫瘍の治療 · 血栓や結石の治療等に好 適な超音波治療装置、 血流な どの超音波エコー像を強調 するための超音波キヤ ビティ シ ョ ン生成機能を有する超 音波診断装置、 超音波化学反応促進装置、 固体表面の超 音波洗浄装置、 超音波気泡発生装置、 あるいは、 液体の 殺菌装置などに関する。 背景技術
収束強力音波照射による悪性腫瘍治療や結石の治療術 は、 手術によ らない低侵襲度の治療術、 患者の術後の生 活の質(Q ua l i t y o f L i f e) を大切にする治療方法と して、 今後もその社会的価値がますます高ま ってい く と予想さ れる。 このよ う な収束強力音波照射による治療効果発生 のメ カニズム と して、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンは、 重要な 役割を担う と考え られている。 また、 超音波照射による 化学反応促進や洗浄において も、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ン が大きな役割を果た している こ とが知られている。
これ らの目的のために音響キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成 - 圧壊を効率的に行な う方法と して、 従来、 特開平 2 — 1 2 6 8 4 8 で提案されている よ う な、 1 〜 1 0 0 m s e c間 隔で音場を切 り換えて超音波を照射する技術が報告され ている。 この技術は、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成に要 する超音波照射時間が 1 〜 1 0 0 m s e cである こ とに着目 し、 波面の異なる音場をこ の時間間隔で切換えながら超 音波照射する もので、 一方の音場によ り生成した音響キ ャ ビテイ シ ヨ ンを、 も う一方の音場によ り圧壊する とい うサイ ク ルを繰り返し行な う ものである。 これによ り、 音場の切換えを行なわない場合と比較して、 超音波化学 作用の効率を同 じ超音波パワーにおいて 1 桁ほ ど改善す る こ とができた。
一方、 半導体素子作成工程においては、 素子の高集積 密度化に伴い基板への微細な異物の付着あるいは表面汚 染が製品の歩留ま り に多大な影響を与えている。 こ のた め半導体素子作成工程において洗浄工程が極めて重要と なっている。 微小気体を含む液体に超音波を照射する と、 疎密波である超音波による加圧、 減圧が局所領域で生 じ、 超音波の周波数に応じた大き さの気泡が振動 し、 音響キ ャ ビテーシ ョ ン と呼ばれる現象によ り気泡の圧壊が生ず る。 この音響キヤ ビテーシ ヨ ンの生成する条件では洗浄 . 効果が見られる こ とが分かってお り、 この性質によ り音 響キヤ ビテー シ ョ ン現象は広 く 洗浄に用い られており、 半導体基板の洗浄や眼鏡の洗浄あるいは食器洗浄な どに 用レ、られている。
超音波はその照射形態によ り洗浄効果が変化するため、 照射する際の超音波照射部の配置に関する工夫によ り洗 浄の効率を向上させる様々 な方法がこれまで考案されて いる。 しか し、 配置の工夫のみでは充分な洗浄効率向上 は達成できなかった。 よ り効率的な洗浄のためには、 洗 浄の源となる音響キヤ ビテーシ ヨ ンを効率良 く 生じさせ る方法が必要となる。 従来の超音波洗浄装置で超音波の 照射源を工夫した例と しては、 特平 2 — 1 5 7 0 7 8 号 にある よ う に複数の周波数の超音波発生源を有する こ と で単独の周波数の超音波よ り も高い洗浄能力を持たせた 洗浄装置の考案がある。 こ の例においては、 各々 の超音 波照射源から照射された超音波の効果の足し合わせの効 果はあるが、 周波数の組み合わせを音響キ ヤ ビテ一シ ョ ンを効率的に生 じる よ う設定していないため、 充分な洗 浄効果を得る事ができなかった。
また、 従来、 液体の殺菌では、 塩素や紫外線を用いる 方法が広 く 用いられている。 液体の組成を変えても構わ ない場合、 特に廃液処理な どには塩素処理が用い られ、 液体の組成をあま り変えずに殺菌するには紫外線が使わ れている。
塩素を用いる殺菌は比較的古 く から行われているが、 処理する液体の組成を変えて しま う ため、 殺菌 した後で 別な目的に用いるためには、 残留塩素の中和や除去な ど の操作が必要とな り、 安全性 · 環境コ ス ト の面で問題と なる。 紫外線を用いる殺菌は化学薬品を用いないため、 簡便でかつ殺菌後の液体の扱いの容易な殺菌方法と して 広 く 用レ、 られている。 しかし、 紫外線は、 ほ とんどの有 機化合物で吸収係数が大きいため、 有機化合物を多 く 含 む液体に対しては光源の近傍以外ではあま り効果が期待 できない。 超音波を液体に照射する と音響キ ヤ ビテー シ ヨ ンが生じ、 その作用によ り殺菌が行える こ とが知られ ている。 発明の開示
しかしながら、 特に、 治療に応用する場合を例に とる と、 臨床応用における実際の状況が多岐にわたるため、 上記の技術を用いても、 充分な治療効果を得るのに必要 な超音波パワーが、 超音波による副作用の潜在的可能性 の見地において必ずし も充分小さ く ないという場合も存 在する。 また、 一方、 上記のよ う な改良された従来技術 において も、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成 ' 圧壊のエネ ルギ一に変換されるェネルギ一は、 照射された超音波ェ ネルギ一の極 く 一部に過ぎず、 こ の点において効率を原 理的に改善でき る可能性が残されていた。 従って、 上記 従来技術よ り さ らに小さな超音波パワーによ り 同 じ治療 効果を得る技術には潜在的な可能性があ り、 その実現が、 副作用をでき るかぎり抑えながら治療を行な う上で強 く 望まれていた。
本発明は、 上記のよ う な社会的需要および潜在的な技 術的可能性を鑑み、 音響キ ヤ ビテイ シ ヨ ンを従来技術に 比べ著し く 高い効率で生成する超音波照射技術を提供す る こ とを目的とする ものである。 これによ り、 実質的に 副作用のない超音波治療装置、 あるいは、 効率の高い超 音波化学反応促進装置、 超音波洗浄装置あるいは超音波 殺菌装置な どを提供する こ とを具体的目的 ^:する。 加え て、 効率的に生成された音響キ ヤ ビテイ シ ヨ ンを超音波 像と して可視化する こ と によ り、 超音波治療装置に誤射 を防 ぐ機能を与え、 あるいは、 血流な どのエコー特性を 強調し超音波診断装置によ る描画力を向上させる こ とを 目的とする。
超音波洗浄装置に関 しては複数の周波数の超音波発生 源を有する こ とで単独の周波数の超音波よ り も高い洗浄 能力を持たせるだけではな く 、 音響キヤ ビテーシ ヨ ンを 効率的に生じる よ う な周波数の組み合わせを設定する こ とで、 複数周波数の相乗効果と して、 よ り高い洗浄効果 を得る こ とができ る洗浄装置を提供する こ とを本発明の 目的とする。
音響キ ヤ ビテ一シ ョ ンに関与する気泡は、 ほぼ使用す る超音波の周波数に反比例するため、 低い周波数を用い た場合には大きな気泡が圧壊する。 半導体素子は、 その 高集積密度化に伴いパター ンのサイズが小さ く なつてお り、 2 0 k H z 等の低い周波数の超音波を洗浄に用いた 場合、 音響キ ヤ ビテー シ ヨ ンによ り生成した気泡の大き さが半導体素子に形成されたパタ ン と同程度の大き さに な り、 半導体素子のパタ ンの溝に入り込んで出てこない な どの悪影響をもた らす恐れがある。 このため高い周波 数を使用する必要があるが、 洗浄に有効な音響キヤ ビテ —シ ョ ンは周波数が高い場合生 じに く いという 問題があ る。 本発明の目的は、 洗浄の源である音響キ ヤ ビテ一 シ ヨ ンの生成効率の高い超音波照射方法によ り、 特に 5 0 0 k H z以上の高い周波数において も洗浄に有効な音響 キヤ ビテー シ ョ ンを生成する こ とによ り従来よ り も高い 洗浄能力を有する洗浄装置を提供する こ とにある。 と こ ろで、 上述の音響キヤ ビテ一シ ヨ ンによる気泡の圧壊 は特定の条件では局所的に高圧 · 高温の領域が生成され、 従来の超音波洗浄装置においては、 音響キヤ ビテーシ ョ ンの機械的作用のみが着目 されており、 音響キヤ ビテー シ ヨ ンの化学的作用を利用 した洗浄装置の例はない。 ま た、 超音波による洗浄には機械的作用に基づ く もの と化 学的作用に基づ く ものとがあ り、 通常の低い周波数の超 音波を用いた洗浄においては、 機械的作用が専ら作用 し ている。 半導体素子作成の工程における、 ア ンモニア と 過酸化水素あるいは過酸化水素と硫酸を用いる洗浄は、 半導体素子の表面あるいは半導体素子の表面に付着して いる物質を酸化させる という 化学的なプロセスを含んで いる。 本発明では、 このよ う な化学的な洗浄に関 して も 充分な洗浄効果を得る こ と も 目的と している。
また、 液体の殺菌に超音波を用いる場合には紫外線と 異な り発生源の近傍でしか効果が得られない とい う 問題 は回避可能である。 また、 塩素を使う場合に比べ、 処理 後の液体の組成の変化が少ないため、 殺菌後の液体を後 処理な しで使用可能である。 従来の超音波照射方法では 殺菌効果を得るのに充分な音響キヤ ビテーシ ョ ンを引き 起こすこ とができず、 こ のため、 超音波による殺菌はほ とんど行われていないが、 本発明では、 音響キヤ ビテー シ ヨ ンを引き起こすのに適した超音波照射方法を用い、 塩素や紫外線を用いる殺菌に比し、 充分な殺菌効果を持 つ殺菌装置を得る こ とを目的と している。 図面の簡単な説明
図 1 は倍周波重畳波の一例を示す図。
図 2 Aは s i n (2 7Γ f t ) の基本周波の波形 p i と 一 s i n (4 ^- f t ) の倍周波の波形 p 2 を合成した波形を示 す図である。
図 2 B は倍周波の波形 p 2 とその上下両側に、 生成さ れ増大してい く 気泡の様子を模式的に示す。
図 2 C は基本周波の波形 p 1 とその上下両側に、 倍周 波の波形 P 2 によ って生成され増大された気泡がさ らに 増大してい く 様子を模式的に示す図。
図 3 は本発明の超音波照射装置の一実施例の構成を示 すブロ ッ ク図。
図 4 Aは図 3 の実施例における超音波 ト ラ ンスデュ― サ部の一例の構成を示す上面図。
図 4 B は図 3 の実施例における超音波 ト ラ ンスデュー サ部の一例の構成を示す側面図。
図 5 は図 3 の実施例における超音波 ト ラ ンスデュ ーサ 部の他の一例の構成を示す図。
図 6 は倍周波重畳波によ る音響化学反応の実験結果を 示す図。
図 7 は本発明の超音波照射装置の他の実施例の構成を 示すブロ ッ ク図。
図 8 は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ーサ 部の圧電厚み振動子の構成を示す断面図。
図 9 は図 8 の圧電厚み振動子の矩形状駆動波形の例を 示す図。
図 1 0 は図 8 の圧電厚み振動子の階段状駆動波形の例 を示す図。
図 1 1 は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュー サ部の圧電振動子周辺回路の構成を示す図。
図 1 2 は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ー サ部の圧電振動素子駆動回路構成の一例を示す図。
図 1 3 は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ー サ部の圧電振動素子駆動回路を構成するプッ シュ プル型 スィ ツ チ ング回路の一例を示す図。
図 1 4 Aは図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ーサ部の一例の構成を示す上面図。
図 1 4 B は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ーサ部の一例の構成を示す側面図。
図 1 5 は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ー サ部の他の構成例を示す図。
図 1 6 は図 7 の実施例における超音波 ト ラ ン スデュ ー サ部の圧電振動素子駆動回路の他の一例を示す図。
図 1 7 は図 8 の圧電厚み振動子の階段状波形駆動のた めのタ イ ムチ ヤ一 ト。
図 1 8 は本発明で採用 しう る単フ ォ ーカ ス手動走査型 ト ラ ンスデュ 一ザの例の断面図。
図 1 9 は本発明で採用 しう る非フ ォ ーカ ス型平面波 ト ラ ンスデュ ーザの例の断面図。
図 2 0 は本発明で採用 し う る刺入用針状 ト ラ ンスデュ 一ザの例の断面図。
図 2 1 は本発明の術中超音波治療 ト ラ ンスデュ ーザの 構成の一例を示す図。
図 2 2 は本発明の術中超音波治療 ト ラ ンスデューザの 構成の他の一例を示す図。
図 2 3 は本発明の超音波化学反応装置の反応器構成の 一例を示す図。
図 2 4 は本発明の超音波化学反応装置の反応器構成の 他の一例を示す図。
図 2 5 は本発明の超音波洗浄装置の構成の一例を示す 図。
図 2 6 は本発明の超音波洗浄装置の構成の他の一例を 示す図。
図 2 7 は本発明の超音波洗浄装置の構成のさ らに他の 一例を示す図。
図 2 8 は倍周波重畳波の基本周波と倍周波との相対位 相を変えて照射した場合の酸化反応の実験結果を示す図。 図 2 9 は本発明の殺菌装置の構成の一例を示す図。
図 3 0 は本発明の殺菌装置の構成の他の一例を示す図。 発明を実施するための最良の形態
比較的大きな強度をもつ正弦波状の超音波が生体や液 体中な どの媒質中を伝播する とき、 その圧力波形が、 伝 捲と と もに正弦波からいわゆる N波 (圧力の立ち上がり が立ち下がり に比べて急峻な波) 状に変形 してい く こ と が知られている。 これは、 媒質の もつ圧力が高 く なる と 音速が高 く なる という非線形性による ものであ り、 パル ス状の超音波の場合には、 伝播と と もに正圧ピー クが負 圧ピー ク よ り も大きな波形に変形してい く こ とが知られ ている。 一方、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンは、 強い反射物の ない透過型あるいは伝播型と呼ばれる音場では生成され に く いのに対し、 強い反射物の存在する超音波音場では 生成されやすいこ とが知られている。 以上のこ とは、 超 音波の伝播によ り生ずる圧力の立ち下がりが立ち上がり に比べて緩やかな波や負圧ピー クが正圧ピー ク よ り も小 さな波は音響キヤ ビテイ シ ョ ンの生成に と って不利であ るが、 反射物によ って位相の反転が起こ り波形が変わる と音響キヤ ビテイ シ ョ ンの生成に と って有利となるため である と考える と説明でき る。
このよ う な考えの も とに、 本発明では、 照射対象にお いて基本周波数の超音波にその 2 倍の周波数をもつ超音 波がた しあわせられる よ う構成する こ とによ り、 上記の 場合には位相反転の結果生ずる と考え られる音響キ ヤ ビ テイ シ ヨ ン生成に と って有利な波形をもつ超音波を、 反 射物な しに合成可能とする こ とを提案する。 すなわち、 例えば図 1 に示すよ う に、 基本周波数の超音波 P 1 にそ の 2 倍の周波数をもつ超音波 p 2 を適当な位相関係でた しあわせる こ とによ り、 負圧ピー クが正圧ピー ク よ り大 きな、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成に と って有利な波形 をもつ超音波 P 1 + P 2 を合成する こ とができ る。
これら基本周波 P 1 と倍周波 p 2 は、 同 じ送波素子か ら同時に発生させる こ と も、 別々 の送波素子から発生さ せ、 それらが、 ほぼ同一の焦点において合成される よ う 送波器を構成する こ と もできる。 第 1 の実施例では、 よ り焦点付近に限定して音響キヤ ビティ シ ョ ンを生成する こ とができ る基本周波 p 1 と倍周波 p 2 をそれぞれ複数 の送波素子から発生させる よ う構成したア レ イ型送波器 を用い、 基本周波 p 1 の焦点と倍周波 P 2 の焦点とを互 いに重畳させながら同時に電子走査する よ う構成する こ とを提案する。
また、 この実施例では、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ン生成の 位置を超音波エコ ー像中の位置と して監視でき る よ う に するため、 上記倍周波よ り も高い周波数のパルス波を送 受信する こ とによ り照射対象の超音波エコー像を同時に 形成する よ う構成する こ とを提案する。
第 2 の実施例では、 これら基本周波 p 1 と倍周波 p 2 を同一の送波素子から同時に発生させるよ う に工夫され た例を提案する。
第 3 の実施例では、 基本周波数の平面波とその 2 倍の 周波数の平面波とを、 両周波数の波面が実質的に平行と なる よ う にた しあわせて、 同一の対象に対して同時に照 射する構成を提案する。
第 4 の実施例では、 上述の音響キヤ ビテイ シ ヨ ン生成 を半導体素子作成の工程におけるア ンモニア と過酸化水 素あるいは過酸化水素と硫酸を用いる洗浄のよ う に、 半 導体素子の表面あるいは半導体素子の表面に付着してい る物質を酸化させる という化学的なプロセスで効果的に 活用を提案する。
第 5 の実施例では、 液体の殺菌への活用を提案する。 これらの実施例で、 照射対象において音響キヤ ビティ シ ョ ンを効率的に生成する こ とができ る基本周波 p 1 の 超音波と倍周波 p 2 と超音波との合成の具体例をまず説 明する。
図 2 A、 図 2 B は基本周波数 f の超音波の波形 p i が 時間 t について s i n (2 f t ) と表される と き倍周波の 波形 P 2 一 s i n (4 7Γ f t ) と近似される よ う な位相 関係を設定した場合の音圧波形を示すものであ り、 合成. 音圧の立上り に比べ立ち下がりが急俊とな り、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成に と ってきわめて有利な例である。 こ の場合を例と して、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成作用 を模式的に説明する。
図 2 Aは s i n (2 π f t ) の基本周波の波形 p 1 と一 s i n ( 4 ;r f t ) の倍周波の波形 p 2 を合成した波形を示 す図である。 図 2 B は倍周波の波形 P 2 とその上下両側 に、 生成され増大してい く 気泡の様子を模式的に示す。 図 2 C は基本周波の波形 P 1 とその上下両側に、 倍周波 の波形 p 2 によ って生成され増大された気泡がさ らに増 大してい く 様子を模式的に示す。
まず、 倍周波 P 2 ( - - s i n (4 π f t ) ) によ り音響 キヤ ビテイ シ ヨ ンの生成が開始される。 倍周波における 共振気泡の半径は基本周波 P 1 ( = s i n (2 π f t ) ) に おける共振気泡の半径の 1 Z 2 と小さいため、 基本周波 P 1 のみによる場合と比較して倍周波を用いる こ とによ り音響キヤ ビテイ シ ョ ンの開始がはるかに有利となる。 このとき、 キヤ ビテイ シ ヨ ン気泡の半径は、 倍周波の周 期で振動するが、 気泡の生成の初期は図 2 Bの上側に示 すよ う に、 その半径が共振気泡の半径よ り小さい く 、 倍 周波の負圧ピー ク時に最大 (例えば b 1 ) とな り、 正圧 ピー ク時に最小 (例えば b 2 ) となる。 すなわち b 1 、 b 2 の大き さの範囲で拡大、 収縮を繰り返しているので ある。
倍周波 P 2 のエネルギーを受けてキヤ ビテイ シ ヨ ン気 泡が成長し、 その半径が倍周波における共振気泡の半径 の程度に達する と、 気泡半径の振動の位相は 9 0 度遅れ、 その半径は、 負圧から正圧へのゼロ ク ロス時に最大 (例 えば b 3 ) となる。 正圧に対応する気泡は非共振時と実 質同 じ (例えば b 4 ) である。 この とき、 上記の位相関係で基本周波 p 1 が重畳され ている と、 振動半径の最大となる時相の う ち 2 周期に 1 度が基本周波の負圧ピー クの時相と一致する (例えば c 1 ) ため、 キヤ ビテイ シ ヨ ン気泡は基本周波のエネルギ 一を受けてさ らに成長し、 少な く と も基本周波における 共振気泡の大き さ (例えば c 2 ) に到達する。 基本波に おいて も正圧に対応する気泡は共振時、 非共振時と もに 倍周波における初期の正圧に対応する気泡と実質同 じ (例えば c 3、 c 4 ) である。
成長した気泡が圧壊されたとき内部の気体が断熱圧縮 される こ とによ り局所的にエネルギーを生ずる。 こ のェ ネルギ一が化学反応などを ト リ ガーするな どの目的に充 分であるためには、 圧壊される気泡は少な く と もある程 度以上の大き さをもたなければな らない。 基本周波数を ある程度低 く 選択すれば、 その共振気泡をその必要な大 き さ以上に設定する こ とができ る。 と こ ろが、 基本周波 を単独照射する場合には、 基本周波の共振気泡が大きす ぎる と今度はキヤ ビティ シ ョ ン生成をう ま く 開始できな いという 問題を生じて しま う。 これに対し、 本発明の方 法を用い、 適切な位相関係の倍周波を重畳させれば、 キ ャ ビティ シ ョ ン生成の開始とキヤ ビティ ショ ン気泡の充 分な大き さへの成長とを、 それぞれ、 倍周波と基本周波 によ り連携をとつて効率的に行な う こ とができ る。
また、 上記倍周波よ り も高い周波数のパルス波を送受 信する こ とによ り照射対象の超音波エコー像を形成する 超音波撮像部によれば、 照射対象に音響キヤ ビティ シ ョ ンによる作用を及ぼすための超音波と実質的に同等の速 度を持つ波動によ る 自己整合性をもつ監視が可能となる ため、 中間の媒質の音速分布な どの影響を比較的受けに く い監視が実現でき る。 さ らに、 この超音波撮像部を、 照射对象に音響キ ヤ ビティ シ ョ ンによ る作用を及ぼすた めの超音波のう ち倍周波の、 さ らに偶数倍の周波数成分 を受信すべ く 構成する こ とによ り、 音響キヤ ビティ シ ョ ン発生位置または発生の可能性の高い位置を超音波ェコ 一像の上に重畳させて表示する こ とができ る。
以下、 本発明の第 1 の実施例を図 3 〜図 6 を用いて詳 細に説明する。
音響キ ヤ ビテイ シ ョ ン発生位置監視機能を有する本発 明の超音波照射装置の一実施例の全体構成を図 3 に、 超 音波 ト ラ ン スデュ ーサ部の構成を図 4 A、 図 4 Bおよび 図 5 に示す。
キー入力手段 3 1 から超音波照射治療戦略に関する情 報が照射部主制御回路 2 0 に入力され、 それに基づいて、 基本周波および倍周波の照射音場それぞれの焦点位置 · 音圧分布形状を規定する照射フ ォ ー カ ス · コ 一 ド信号が、 照射部主制御回路 2 0 からそれぞれ駆動位相生成回路 I ( 1 1 ) および駆動位相生成回路 I I ( 1 2 ) へ与え られ る。 生成された基本周波および倍周波の照射用 ト ラ ン ス デュ ーサ各素子を駆動する位相は、 それぞれ駆動信号生 成回路 7 — 1 〜 7 — N ( Nは ト ラ ンスデュ ーサ独立素子 のう ち基本周波用の総数) および駆動信号生成回路 8 - 1 〜 8 _ M ( Mは ト ラ ンスデュ ーサ独立素子のう ち倍周 波用の総数) へ与え られる。 基本周波および倍周波の駆 動振幅は、 照射部主制御回路 2 0 からそれぞれの駆動信 号生成回路 7 - 1 〜 7 — Nおよび 8 — 1 〜 8 — Mへ与え られる。 生成された基本周波および倍周波それぞれの駆 動信号はそれぞれ素子駆動回路 3 — 1 〜 3 - Nおよび 4 — 1 〜 4 一 Mへ与え られ、 照射用 ト ラ ン スデューサ基本 周波素子群 1 ― 1 〜 1 一 Nおよび倍周波素子群 2 — 1 〜 2 - Mがそれぞれ駆動される。 駆動振幅は照射部主制御 回路 2 0 から素子駆動回路 3 — 1 〜 3 — Nおよび 4 一 1 〜 4 一 Mへ直接与えられる信号によ って も制御される よ う構成されてお り、 異常発生時に超音波照射を緊急停止 する動作を確実かつ容易な ものと している。
基本周波素子群 1 一 1 〜 1 一 Nおよび倍周波素子群 2 — 1 〜 2 — Mによ り構成される照射用 ト ラ ン スデュ ーサ は、 照射対象物中に発生するキヤ ビティ シ ョ ン検出のた めの受信 ト ラ ンスデュ ーザと して も動作する。 各素子に よ り受信された信号は、 帯域除去フ ィ ル タ 5 _ 1 〜 5 — Nおよび 6 - 1 〜 6 — Mによ り照射信号帯域の成分が除 かれた後、 それぞれ受信ア ンプ 9 — 1 〜 9 一 Nおよび 1 0 — 1 〜 1 0 — Mへ導かれて増幅され、 受信フ ォ ーカス 回路 I ( 1 3 ) および受信フ ォ ー カ ス回路 I I ( 1 4 ) へ それぞれ与え られる。 基本周波駆動回路 3 — 1 〜 3 - N および倍周波駆動回路 4 — 1 〜 4 — Mの出力部には、 駆 動能率を向上させる 目的で、 それぞれ基本周波数 f 。 と 倍周波数 2 f 。 において素子容量とケーブル容量の和と 共振する直列イ ンダク タ ンスが入っているので、 それぞ れ f 。 と 2 f 。 をはずれた周波数においては駆動回路の 出力イ ン ピーダ ンスがシ ャ ン ト となって受信感度を阻害 する こ とはない。
受信ア ンプ 9 — 1 〜 9 — Nおよび 1 0 — 1 〜 1 0 — M は可変ゲイ ン となってお り、 ゲイ ンは照射部主制御回路 2 0から直接与え られる信号によ り制御される。 照射フ オ ーカス切換え時な ど、 照射超音波中心周波数以外にお いて も不要信号成分が多 く 生ずる時間帯には、 こ のゲイ ンを落と してア ンプの飽和を避ける。 受信フ ォーカス回 路 I ( 1 3 ) および受信フ ォ ーカ ス回路 11 ( 1 4 ) は、 照射焦域内に受信系の空間分解能に相当する間隔をおい て配列された複数の焦点に収束する フ ォ ーカ ス回路を並 列に持ち、 キ ヤ ビテイ シ ヨ ンによ り放射される周波数 f 0 / 2. f 。 Z 3 な どの分調波成分や周波数 4 ί 0 、 6 f 。 、 8 f 。 な どの高調波成分や 3 f 。 Z 2、 5 f o ノ 2、 7 f 。 / 2な どの分調波の高調波成分の超音波の 発生および発生位置を検出する。 キヤ ビテイ シ ヨ ン発生 位置と発生強度を表す信号は、 表示回路 3 0 に与え られ る。 こ こ で、 並列処理フ ォ ーカ ス回路を上記焦点の数よ り少ない数もちい、 それぞれの焦点を走査する よ う構成 する こ とによ り受信フ ォ ーカス回路 I ( 1 3 ) および受 信フ ォ ーカス回路 II ( 1 4 ) のコス ト低減をはかる こ と もでき る。
図中 2 1 は超音波撮像専用ア レイ型送受信探触子であ り、 2 2 はそれを探触子面に垂直な軸のまわ り に回転さ せる回転機構であって、 照射対象の位置ぎめに必要な複 数の超音波パルスエコ ー断層像を得る こ とのでき る構成 となっている。 探触 2 2 のそれぞれの素子は、 送受信ァ ンプ 2 4 を介 して送信制御回路 2 3 と受信フ ォ ーカス回 路 2 5 に接続されている。 表示回路 3 0 は、 得られたェ コー断層像に、 受信フ ォ ーカス回路 I ( 1 3 ) および受 信フ ォ ーカ ス回路 Π ( 1 4 ) によ り検出されたキヤ ビテ イ シ ョ ン発生位置と発生強度を表す信号が重畳されて表 示される よ う構成されている。
良好な画像分解能を得るため、 探触子 2 1 の超音波周 波数帯域は 4 f 。 以上とする。 また、 キ ヤ ビテイ シ ヨ ン によ り放射される周波数 4 f 。 、 6 f 。 、 8 f 。 な どの 高調波成分や 9 f 。 Z 2 な どの分調波の高調波成分は、 素子群 1 ― 1 〜 1 一 Nおよび素子群 2 — 1 〜 2 - Mよ り も、 むしろ探触子 2 1 によ り検出される よ う構成して も よい。 さ らに、 照射部主制御回路 2 0 によ り、 駆動位相 生成回路 I ( 1 1 ) および駆動位相生成回路 I I ( 1 2 ) 、 駆動信号生成回路 7 - 1 〜 7 — Nおよび 8 - 1 〜 8 - M を制御する こ とによ り、 超音波撮像専用ア レイ型送受信 探触子 2 1 の撮像用超音波パルス送信と同期させてパル ス超音波を送波し、 素子群 1 一 1 〜 1 一 Nおよび 2 - 1 〜 2 — Mによ る送信と探触子 2 1 による受信で得られる キ ヤ ビテイ シ ヨ ン発生用強力超音波集束位置を、 探触子 2 1 による送受信で得られるエ コ ー断層像に重畳させて 表示する こ と もでき る。
また、 キヤ ビテイ シ ヨ ン発生の効率は、 基本周波と倍 周波との相対的位相関係によ り左右されるので、 キ ヤ ビ ティ シ ョ ンによ り放射される高調波成分や分調波の高調 波成分の強度が最大となる よ う駆動信号生成回路 7 - 1 〜 7 _ Nおよび 8 — 1 〜 8 — Nを制御し相対的位相関係 を最適化する よ う構成する こ とによ り、 さ らに効率の高 いキヤ ビテイ シ ヨ ン発生を実現する こ とができ る。 高調 波成分や分調波の高調波成分の強度による最適化が困難 な場合や、 その機能を省略したい場合には、 相対的位相 関係を倍周波について; Γ /8〜 π /4ずつずら しながら照射 する こ とによ り、 効率の高いキヤ ビテイ シ ヨ ン発生を時 間軸上少な く と も一定以上の割合で実現する方法もある。 最適な相対的位相関係を探す場合 も、 予定に従って相対 的位相関係をずら してい く 場合も、 1 つの相対的位相関 係においてキヤ ビティ シ ョ ン発生に必要な一定時間 (典 型的には 0. 1 m s e c程度) 以上照射を続ける必要がある。
エ コ ー断層像による超音波照射対象部位の観察から、 対象部位の呼吸による運動が無視できず、 問題となる場 合には、 受信フ ォ ー カ ス回路 2 5 から照射部主制御回路 2 0 へ与え らる信号を も とに、 照射フ ォ ー カ スを対象部 位の運動にあわせて移動する よ う制御する。 対象部位の 運動が大きすぎて、 照射フ ォ ー カ ス可能範囲を越えてい た り、 ト ラ ッ キングが困難な場合には、 呼吸検出部 3 2 から照射部主制御回路 2 0 へ与え られる信号をも とに、 超音波照射時期を呼吸に同期させ、 呼吸時相のある一定 範囲内においてのみ超音波照射を行なう よ う制御する。
また、 本発明の効率的音響キ ヤ ビテイ シ ヨ ン発生法を 応用 し、 本実施例の もつ超音波診断装置と しての描画力 を向上する こ と もでき る。 すなわち、 素子群 1 一 1 〜 1 一 Nおよび素子群 2 — 1 〜 2 — Mを用いて比較的小さな 強度において 2 周波重畳超音波照射を行い、 探触子 2 1 を用いた超音波パルスエ コ ー法による描画対象中に効率 的に音響キヤ ビティ シ ョ ンを発生させて血流な ど描画対 象のエコー特性を強調 し、 探触子 2 1 を用いた超音波パ ルスエコー法単独では ドプラ法によ って も描画の難しい 微細な血管中の血流や低速血流を、 描画可能とする こ と ができ る。
次に、 図 4 A、 図 4 B、 図 5 を参照して、 本実施例の 超音波 ト ラ ン スデューサ部をさ らに詳し く 説明する。 図 4 A、 図 4 B には、 例と して、 超音波素子群 1 — 1 〜 1 — Nおよび 2 — 1 〜 2 — Mによ り構成される 1 6 セ ク タ X 2 ト ラ ッ クのア レイ型強力超音波 ト ラ ン スデュ ーサを 示す。 図 4 Aが ト ラ ン スデュ ーサを下から見た状態と各 素子群とそ の周辺回路の一部を示す図であ り、 図, 4 B は ト ラ ン スデュ ーザの断面構造を示す図である。
こ の集束型強力超音波 ト ラ ン スデュ ーサは、 焦点の走 查を必要最小限の素子数 N + Mによ り可能とするため、 幾何学的フ ォ ーカ スを有している。 本実施例では、 幾何 学的フ ォ ーカ スは、 超音波素子群 1 一 1 〜 1 — Nおよび 2 - 1 〜 2 — Mを軽合金製球殻 3 3 上に配置する こ とに よ って与え られている。 マグネ シウムまたはアル ミ ニゥ ムを主成分とする軽合金製球殻 3 3 は、 超音波照射面側 が幾何学的焦点 Fを中心とする球面の一部を成す凹面と なってお り、 背面側が圧電セラ ミ ッ ク製の超音波素子を 接着するために研磨された多面体状となっている。 軽合 金製球殻 3 3 は、 熱伝導性が良好であるので強力超音波 照射時の圧電素子の冷却に有効であ り、 さ らに、 各圧電 素子の接地電極と して も働いている。 また、 ト ラ ンスデ ユーサ · ハウ ジ ン グの一部を形成してお り、 強力超音波 照射時に発生する熱を奪う ための冷却用流体通路 3 3 が 設けられ、 体表との音響力プリ ングを容易にするための 脱気水入り水袋 3 5 が取り付けられている。 マグネ シゥ ムゃアル ミ ニウムを主成分とする軽合金は、 圧電セラ ミ ク ス とカプリ ン グ用脱気水の中間の音響イ ン ピーダンス えを有するので、 球殻 3 3 は両者の間の音響整合材と し て も働いている。
なお、 本実施例では、 球殻 3 3 の厚さ は、 基本周波に おいて半波長、 倍周波において 1 波長となる よ う に選択 されているが、 基本周波素子 1 ― 1 〜 1 一 Nの部分と倍 周波素子 2 _ 1 〜 2 — Mの部分とで厚さを変え、 それぞ れの周波数において 1 Z 4 波長と し、 パルス状超音波の 送受信特性を改善する よ う選択する こ と もでき る。 図 4 A、 図 4 B に示すア レイ 中央部の円形の穴には、 超音波撮像専用パルスエコー送受信探触子 2 1 がおさめ られている。 この探触子 2 1 の基本構造は超音波診断装 置に用い られているセ ク タ走査型ア レイ探触子と同等で あ り、 その中心周波数は、 本実施例では、 倍周波素子 2 一 1 〜 2 — Mの共振周波数の 2倍に設定されている。 単 数の 1 次元ァ レイ探触子によ り複数断層面の撮像を可能 とするため、 探触子 2 1 は、 ト ラ ンスデュ ーサ ' ノヽウ ジ ング 3 3 に対し、 ト ラ ンスデューザの中心軸まわ り に回 転可能となっており、 その回転は、 回転機構 2 2 によ り 行なわれる。
本実施例では、 ト ラ ンスデューザの幾何学的焦点距離 は約 1 2 c mであ り、 ア レイ の外径約 1 2 c m、 内径約 4 c m、 2 つの ト ラ ッ ク を区切る円の直径約 8 c mであ る。 基本周波を発生する外側 ト ラ ッ クの直径が、 倍周波 を発生する内側 ト ラ ッ ク の直径のおよそ 2 倍となってい るため、 焦点面における基本周波スポッ トの直径と倍周 波スポッ 卜の直径はほぼ等し く な り、 2 周波の相乗効果 によるキヤ ビティ シ ョ ン発生が効率的に行なわれる。
さ らに、 ア レイの外形 1 2 c mに対し、 内径を 3 c m、 2 つの ト ラ ッ クを区切る円の直径を 6 c m とすれば、 外 側と ラ ッ ク と内側とラ ッ ク とが、 ほぼ厳密に波長の比に おいて相似となるため、 焦点面における倍周波の ピー ク 音圧分布が基本周波とほぼ同一となる。
本構成によれば、 基本周波と倍周波とが同時に照射さ れるのは焦点近傍のみであるので、 照射対象に焦点を設 定する こ とによ り、 その近傍においてのみ局所的にキヤ ビティ シ ョ ンを効率的に発生させる こ とができ る。
図 5 は、 本実施例の超音波 ト ラ ンスデュ ーサ部に、 矩 形ア レイ を用いた例である。 図中、 同機能 , 同名称の部 分には、 図 4 A、 図 4 B と同 じ番号を与えた。 短辺 4 c . m長辺 1 6 c mの矩形の圧電セラ ミ ッ ク よ り なる超音波 ト ラ ンスデュ ーサは 2 N + M個の素子に分割されてお り、 短辺両端の 2 N個の素子は互いに電気的に接続され、 電 気的に独立な N個の基本周波発生素子 1 — 1 〜 1 — N と M個の倍周波発生素子 2 — 1 〜 2 — Mからなるア レイ · ト ラ ンスデューサを形成している。 マグネ シウムまたは アル ミ ニウムを主成分とする軽合金製音響整合層 3 3 の 照射面側は円筒面の一部を成してお り、 その凹部は、 音 速が水と同程度か、 よ り遅い高分子材料製音響的充塡材 3 6 によ り充填され、 表面は平面または凸面となる よ う 成形されていて、 全体と して線分 F ' F ' ' に収束する幾 何学的フ ォ ーカ スを形成している。
図 5 の実施例の超音波 ト ラ ンスデュ ーサは、 超音波診 断装置に用い られている リ ニア走査型あるいはセ ク タ走 査型のア レイ探触子と して も機能する基本構造を有して いる。 従って、 図 3 に示された基本構成のう ち、 超音波 撮像専用探触子 2 1 とその回転機構 2 2 、 送信制御回路 2 3 、 送受信ア ンプ 2 4 、 受信フ ォ ーカ ス回路 2 5 な し に、 照射対象の位置ぎめに必要な超音波パルスエコ ー断 層像を得る こ とができ る。 ただし、 通常の リ ニア走査型 あるいはセ ク タ走査型探触子と同様、 撮像可能な断層面 は、 長辺に平行な方向のみである。 また、 倍周波発生素 子の短辺方向 (ア レイ配列方向と直交する方向) の幅に 対し、 電気的に共通接続した基本周波発生素子の短辺方 向の幅をおよそ 2 倍と しているので、 焦点面における基 本周波スポッ ト、 倍周波スポッ 卜それぞれの短辺方向の 拡がり はほぼ等し く な り、 2 周波の相乗効果によるキ ヤ ビテイ シ ヨ ン発生が効率的に行なわれる。 本構成の場合 も、 基本周波と倍周波とが媒質中で合成され、 2 周波が 同時に照射されるのは焦点近傍のみであるので、 照射対 象に焦点を設定する こ とによ り、 その近傍においてのみ 局所的にキヤ ビティ シ ョ ンを効率的に発生させる こ とが でき る。 このこ とは、 キヤ ビテイ シ ヨ ンによ り導かれる 音響化学作用を治療目的に用いる場合、 照射対象の前方 または後方に離れた部位において副作用の生ずる可能性 を実質的にな ぐすこ とができ る という特長につながる。
図 4 A、 図 4 B の超音波 ト ラ ンスデュ ーサを具備し図 3 の全体構成を有する超音波照射装置によ って超音波を 照射する こ とによ り、 実際に水溶液中において音響化学 効果を効率的に発生させた例について、 図 6 を用いて説 明する。 実験は、 酸化作用によ り沃素イオ ンから沃素分 子が遊離する音響化学反応について行な った。 沃化カ リ ゥムに抱水ク ロ ラルを加えた水溶液を (ガラスに比べ超 音波の透過性の良い) ポ リ スチ レ ン製の試験管に入れて 集束型超音波 ト ラ ンスデュ ーザの焦点におき、 超音波を 照射した。 遊離 した沃素の濃度は吸光度によ り決定し、 その値から音響化学反応速度を求めた。
図 6 は、 基本周波 7 5 0 k H z と倍周波 1 . 5 M H z とを両者の超音波パヮの和を一定と して同時に照射した と きの音響化学反応速度を、 全超音波パヮに対する基本 周波パヮの比についてプロ ッ ト した ものである。 こ こで、 焦点近傍における基本周波 · 倍周波の超音波強度の和は、 およそ 3 0 WZ平方 c mであった。 基本周波 · 倍周波そ れぞれ単独では音響化学反応速度は実験誤差範囲で 0 で あつたのに対し、 両周波を同時に照射した と きの相乗効 果は著し く 、 特に全超音波パヮに対する基本周波パヮの 比が 0 . 2 〜 0 . 8 (基本周波.: 倍周波 = 1 : 4 〜 4 : 1 ) のとき高い音響化学反応速度が得られた。
次に、 棊本波と倍周波とを同 じ送波素子によ り送受信 する実施例を図 7 〜図 2 0 を用いて詳細に説明する。
まず、 送波素子については、 圧電材料またはそれと同 等の音響イ ン ピーダンスをもつ材料によ り構成し、 全体 の厚さを基本周波について半波長と し、 厚さ においてそ の全体ではな く 一部の領域が圧電的に駆動される よ う構 . 成する こ とによ り、 基本周波数とその 2倍の周波数の両 方について圧電的に活性とする。 これは、 通常の圧電素 子のよ う に厚み全体が圧電的に駆動される よ う構成する と、 基本共振周波数の偶数倍の周波数について圧電的に 不活性となって しま う こ とを避けるための工夫である。 また、 通常のよ う に正弦波または対称性のよい矩形波 を駆動波形と して動作する駆動回路では、 駆動波形が基 本周波数の偶数倍の周波数の成分を含まないため圧電振 動子から偶数倍周波の超音波を発生させるには適さない ので、 目的周波数成分を含む波形を駆動波形とする よ う な駆動回路の工夫が必要である。 第 1 の工夫は、 駆動波 形と して矩形波を用いる場合に、 通常のよ う に高低 2 つ の電位に と どま る時間の比を 1 : 1 ではな く 、 非対称な 比とする ものである。 駆動回路に関する第 2 の工夫は、 矩形波の代わ り に鋸歯状波またはそれを模擬した階段波 を駆動波形とする ものである。 駆動回路に関する第 3 の 工夫は、 圧電振動子にキャパシタおよびイ ンダク タを付 加 して基本周波数とその 2 倍の周波数の両方において共 振する共振回路を形成し、 これを基本周波数において駆 動する回路とその 2 倍の周波数において駆動する回路に よ り駆動する ものである。
圧電材料またはそれと同等の音響ィ ン ピーダンスをも つ材料によ り構成され、 基本周波について半波長の厚さ をもつ圧電厚み振動子について、 図 8 のよ う に、 音響学 的厚さ (着目 している共振モー ドの音速について振動子 が一様でない場合それを補正した厚さ) において端から αの割合に相当する領域が圧電的に駆動される よ う な構 成を考える。 圧電体のう ち圧電的に駆動される部分 7 1 と圧電的に駆動されない部分 7 2 は、 焼結されるか強固 な接着剤な どによ って音響学的にみて一体化されている。 図 8 の例では、 電界は部分 7 2 を覆う 電極 7 4 と電極 7 3 の間に印加される。 電極 7 4 で覆われた部分 7 2 は圧 電的に駆動されない部分となる。
こ の圧電振動子の本周波数およびその 2 倍の周波数に おける電気 · 機械変換効率 ε 。 および £ , は、
ε 0 = E sin4 ( π a /2) ( 1 )
ε x = Ε in' π a ( 2 ) とあ らわされる。 こ こで E は材料等によ り き ま る定数で ある。 通常のよ う な厚み全体が圧電的に駆動される構成 は、 《 = 1 の場合に相当するが、 このとき (式 1 ) およ び (式 2 ) よ り £ 。 = E、 ε 1 = 0 とな り、 基本周波は 変換できて も、 2倍周波は変換する こ とができない。 こ れは、 2 倍周波における共振状態では、 厚みの半分が圧 縮方向に歪んでいる とき残り の半分は伸張方向に歪んで いる必要があるが、 こ の構成では厚み全体が一様に圧縮 方向または伸張方向歪むモー ド しか圧電的に駆動できな いからである。 これに対し、 ひ = 2/3 とする と、 (式 1 ) および (式 2 ) よ り ε 。 = ε i = 9/16 Ε とな り、 基本周波と 2 倍周波の両方を同程度の変換効率によ り変 換する こ とができ る よ う になる。
次に、 駆動波形について、 まず、 矩形波の場合を説明 する。 図 9 のよ う な高低 2 つの電位に と どま る時間の比 β : ( 1 - β ) である矩形波に含まれる基本周波数成 分およびその 2 倍の周波数の成分のパワー 。 および ^ , は、 Γ o = F s in2 π β ( 3 )
Γ i = ( F /4)sin22^ β ( 4 ) とあ らわされる。 こ こ で Fは高低 2つの電位の差すなわ ち振幅等によ り き ま る定数である。 通常のよ う な対称性 のよい矩形波は、 ^ = 1/2 の場合に相当するが、 このと き (式 3 ) および (式 4 ) よ り ^ 。 = F、 ζ ! = 0 とな り、 基本周波成分は含むが、 2倍周波成分は含まない。 これに対し、 5 = 1/4 とする と、 (式 3 ) および (式 4 ) よ り ^ 。 = F /2、 ζ , = F /4とな り、 基本周波と 2 倍周波の両方の成分を含む駆動波形が得られる。 また、
1 の大き さ はこのとき最大となる。
次に、 矩形波の代わ り に鋸歯状波またはそれを模擬し た階段波を駆動波形とする場合について説明する。 鋸歯 状波が基本周波数の偶数倍の周波数成分をもつこ とはよ く 知られているので、 こ こ では、 それを模擬 した階段波 の場合について詳し く 説明する。 図 1 0 のよ う な、 高低 2つの電位に と どま る時間とその中間の電位にと どま る 時間 との比が 7 : ( 1 - r ) である階段波に含まれる基 本周波数成分およびその 2倍の周波数の成分のパワー 7? 0 および?? 1 は、
η 0 = G sin4( π 7 /2) ( 5 )
7? 1 = ( G /4)sin4 π r ( 6 ) とあ らわされる。 こ こで Gは高低 2つの電位の差すなわ ち振幅等によ り き ま る定数である。 通常のよ う な対称性 のよい矩形波は、 ァ = 1 の場合に相当するが、 このと き (式 5 ) および (式 6 ) よ り 7? 。 = G、 η 1 = 0 とな り、 基本周波成分は含むが、 2 倍周波成分は含まない。 これ に対し、 7 = 1/2 とする と、 (式 3 ) および (式 4 ) よ り = F /4とな り、 基本周波と 2 倍周波の両方 の成分を同程度含む駆動波形が得られる。
図 1 1 に示すよ う に、 圧電振動子にキ ャパシ夕を並列 接続して総合キ ャパシタ ンスを C ( 4 3 ) と しさ らにィ ンダク タ L ( 4 4 ) 、 L ( 4 5 ) およびキャパシ夕 C ( 4 6 ) を付加 した回路について、 端子 4 1 および端 子 4 2 が充分に出力イ ン ピーダンスの低い駆動回路に接 続されている とみなすこ とができる とき、 端子 4 1 側お よび端子 4 2 側からみた電気的イ ン ピーダンスを Z , お よび Z 2 は、 角速度を ω とお く とき
Ζ , = D / ( I + - ω 2 C D ( 7 ) Z 2 = Ό / v / { I - ω 2 C D ( 8 ) とあ らわすこ とができ る。 こ こで、 j を虚数単位とする とき
D = [ 1 — ( \ + V + μ. υ ) ω 2 C L i- ν ω 4 C 2 L 2]/ j ω C ( 9 ) である。 〃 = 16/9、 ン = 9/25のとき、 これらの式よ り、 Z 1 = D ' / (17/8 - ω 2 C D ( 10) Z 2 = Ό ' / [9/16( 1 - ω 2 C D] ( 11) D ' = (5/8— ω 2 C L )(5/2 - ω 2 C L ) ( 12) とあたえ られる。 この と き、 (式 12) よ り Z , 、 Z 2 力 と もに ω 2 C L = 5/8 または 5/2 のと き極小となる。 す なわち、 1 : 2 の比をもつ 2 つの周波数において共振す る特性を持つ回路が得られる。 なお、 (式 10) および (式 11) よ り Z , および Z 2 はそれぞれ ω 2 C L = 17/8 および 1 め とき極大となるので、 端子 4 1 および端子 4 2 を基本周波数およびその 2 倍の周波数においてそれぞ れ駆動するよ う構成するのが有利である。
上述のよ う に工夫された送波素子を使用 した音響キヤ ビティ シ ョ ン発生位置監視機能を有する本発明の超音波 照射装置の一実施例の全体構成を図 7 に、 素子駆動回路 部の構成を図 1 2 および図 1 3 に、 超音波 ト ラ ンスデュ —サ部の構成を図 1 4 Α、 図 1 4 Βに示す。
こ の実施例は、 送波素子が基本波と倍周波とで共用さ れる点を除けば、 図 3 の実施例と同 じである。 キー入力 手段 3 1 から超音波照射治療戦略に関する情報が照射部 主制御回路 2 0 に入力され、 それに基づいて、 焦点位置 • 音圧分布形状を規定する照射フ ォ 一カ ス · コ ー ド信号 が、 照射部主制御回路 2 0 から駆動位相生成回路 1 1 へ 与え られる。 生成された基本周波および倍周波の照射用 ト ラ ンスデュ ーサ各素子を駆動する位相は、 それぞれ駆 動信号生成回路 7 — 1 〜 7 — Ν ( Νは ト ラ ンスデュ ーサ . 独立素子の総数) へ与え られる。 基本周波および倍周波 の駆動振幅の制御信号は、 照射部主制御回路 2 0 から駆 動信号生成回路 7 — 1 〜 7 — Νへ与え られる。 生成され た駆動信号は素子駆動回路 3 - 1 〜 3 - Νへ与え られ、 照射用 ト ラ ンスデュ ーサ素子群 1 一 1 〜 1 — Νが駆動さ れる。 駆動振幅は照射部主制御回路 2 0 から素子駆動回 路 3 — 1 〜 3 — Nへ直接与え られる信号によ って も制御 される よ う構成されてお り、 異常発生時に超音波照射を 緊急停止する動作を確実かつ容易な もの と している。
図 1 2 には、 素子駆動回路 3 — 1 〜 3 — Nの 1 素子分 の回路構成を示し、 さ らに図 1 3 には、 その一部を構成 するプッ シュ プル型スイ ッ チ ング回路の構成を示す。 基 本周波駆動部 4 7 と倍周波駆動回路 , 4 8 の出力部は、 図 1 1 の基本構成を持ち基本周波数 ί 。 と倍周波数 2 ί 0 において共振する回路を介して各素子に接続されている。 図中においてキャパシ夕 ンス Cおよびィ ンダク 夕 ンス L は、 基本周波数 f 。 において共振する組合せとなってい る。 すなわち、
( 2 π ί 0 ) 2 C L = 1 ( 1 3 ) 図 1 3 のスイ ッ チ ング回路は、 低電位側 (この場合は 接地電位) の定電位源 4 9 および高電位側の定電位源 5 0 と出力端子 5 2 との接続は、 それぞれ、 スイ ッ チ ン グ 素子 5 3 および 5 4 によ り断続される構成となっている。 交流成分のみを出力するために出力端子 5 2 はキ ャパシ 夕 5 8 を介 して接続されている。 電源電位安定化のため、 定電位源 4 9 および 5 0 の間にはキヤ ノ、。シ夕 5 8 が接続 されている。 入力端子 5 1 は、 接地電位電位側のスイ ツ チ ン グ素子 5 3 のゲー ト には直接接続されているが、 高 電位側のスイ ッ チ ング素子 5 4 のゲー ト にはキャパシ夕 5 5 を介 して接続されている。 スイ ッ チ ン グ素子 5 4 の ゲー ト の直流レベルは、 ゲー ト駆動信号振幅 (最高電位 と最低電位との差) のツ エナー電位を持つツ エナーダイ オー ド 5 6 のはた らきによ り、 ゲ一 ト駆動信号の最高電 位が高電位側定電位源 5 0 の電位と等し く なる よ う制御 される。 その直流レベルの暴走を防 ぐため、 抵抗 5 Ί が ツ エナ一ダイオー ド 5 6 に並列接続されている。
素子群 1 一 1 〜 1 一 Nによ り構成される照射用 ト ラ ン スデュ ーサは、 照射対象物中に発生するキ ヤ ビテイ シ ョ ン検出のための受信 ト ラ ンスデューザと して も動作する。 各素子によ り受信された信号は、 帯域除去フ ィ ルタ 5 — 1 〜 5 — Nによ り照射信号帯域の成分が除かれた後、 そ れぞれ受信ア ンプ 9 - 1 〜 9 一 Nへ導かれて増幅され、 受信フ ォ ーカ ス回路 1 3 へ与え られる。 前述のよ う に、 素子駆動回路 3 — 1 〜 3 — N出力部は、 周波数 f 。 と 2 f 。 において共振する共振回路を介して低イ ン ピーダン ス回路と接続されているので、 f 。 と 2 f 。 をはずれた 周波数においては駆動回路の出カイ ン ピ一ダンスがシャ ン ト となって受信感度を阻害する こ とはない。
超音波撮像専用ア レイ型送受信探触子 2 1 によるェコ 一断層像の表示および対象部位の呼吸によ る運動への対 応は図 3 の実施例と同 じであるので、 説明を省略する。
次に、 図 1 4 A、 図 1 4 Bを参照して、 本実施例の超 音波 ト ラ ンスデュ ーサ部を図 4 A、 図 4 B に示す超音波 ト ラ ンスデュ ーサ部との差異を説明する。 図 1 4 Aの ト ラ ンスデュ ーサを下から見た状態と各素子群とその周辺 回路の一部を示す図は同 じである。
図 1 4 B に示す圧電素子部は、 基本周波における 1 /3 波長 ( =倍周波における 2/ 3波長) の厚さを もつ扳状圧 電セラ ミ ッ ク に、 同 じ圧電セラ ミ ッ ク材からなるが、 電 極を短絡するか電極分極処理を しないこ と によ って実質 的に庄電不活性と した板であって、 基本周波における 1 / 6波長の厚さを もつ板を熱膨張率の比較的小さな接着剤 を用いて強固に接着する こ とによ り構成されている。 こ の圧電不活性名な板は、 圧電セラ ミ ッ ク とほぼ等しい 音響イ ン ピーダンスをもつ亜鉛や銅な どの圧電不活性な 材料によ り構成しても よい。 このよ う な構成によ り基本 周波 · 倍周波両方の周波数において圧電活性をもつ圧電 振動子が実現されている。 図面の上では、 送波素子 1 一 1 、 1 一 2 がおな じ厚さで表示される点においてのみ異 なる。
また、 ハウ ジ ン グの一部を形成する球殻 3 3 を、 軽合 金製ではな く 亜鉛または銅製と し、 基本周波において 1 / 6波長の厚さを与え、 基本周波において 1 / 3波長の厚さ の圧電セラ ミ ッ ク素子を貼り付ける構成と しても、 基本 周波 · 倍周波両方の周波数において圧電活性とする こ と ができ るが、 図 1 4 A、 図 1 4 Bの構成の方が、 隣接素 子間の音響的分離において、 やや優れる。
図 1 4 A、 図 1 4 B に示すア レイ中央部の円形の穴に は、 超音波撮像専用パルスエコー送受信探触子 2 1 がお さめ られている点も図 4 A、 図 4 Bの場合と同 じである。 図 1 5 は、 本実施例の超音波 ト ラ ンスデュ ーサ部に、 矩形ア レイを用いた例であるが、 この場合 も、 図 1 4 A、 図 1 4 B に対する図 4 A、 図 4 Bの場合と同 じよ う に、 図面の上では、 送波素子 1 一 1 、 1 一 2 がおな じ厚さで 表示される点においてのみ図 5 と異なる。 なお、 圧電素 子群 1 ー 1 〜 1 — N、 2 — 1 〜 2 — N、 3 — 1 〜 3 - N のう ち 1 ― 1 〜 1 — Nおよび 3 — 1 〜 3 — Nは対応する 素子同士が電気的に互いに接続されているが、 素子群 2 - 1 〜 2 — Nに対して異なった位相で駆動する こ とがで き るので、 短辺側フ ォ ーカ スに関して も深さ方向の焦点 移動が可能である。
以上では、 基本周波に対し任意の位相関係にある倍周 波を任意の振幅比によ り重畳する こ とのでき る回路構成 およびそれを含む装置構成について説明 したが、 基本周 波に対し一定の位相関係にある倍周波のみを重畳できれ ばよいよ う に制限を緩めれば、 よ り単純な回路構成によ り倍周波の重畳が可能となる。 重畳した結果と して図 9 に示したよ う な波形を得よ う とする場合、 すなわち、 基 本波に対し 2 倍高調波を互いに余弦波の位相関係 と して 重畳する場合には、 図 1 3 に示したプッ シュ プル式回路 を 1 素子あた り 1 回路用いればよい。 すなわち、 プッ シ ュ プル式回路を構成する 2 つのスィ ッ チ ン グ.素子 5 3、 5 4 のう ち 5 3 がオ ン 5 4 がオフの状態と 5 3 がオフ 5 4 がオ ンの状態とを繰りかえすよ う に制御する とき、 そ れぞれの状態に と どま る時間の比を 1 : 1 ではな く 、 1 : 3 な ど不等比となる よ う制御する こ とによ り基本周 波数の超音波とその 2 倍の周波数の超音波とを同時に照 射する こ とができ る。
重畳した結果と して図 1 0 に示したよ う な波形を得よ う とする場合、 すなわち、 基本波に対し 2 倍高調波を互 いに正弦波の位相関係 と して重畳する場合に必要な回路 構成を図 1 6 に示す。 こ の回路を 1 素子あた り 1 回路用 レ、、 圧電振動子を駆動する。 3 つの直流的定電位源 5 0、 6 0、 4 9 と、 それぞれの定電位源と圧電振動子の電気 的接続をオ ン · オフするための圧電振動子 1 つあた り 3 つのスイ ッ チ ン グ素子群 5 4、 5 3、 6 3 および 6 4 よ り なる駆動回路のゲー ト入力端子 6 6、 6 5、 6 8、 6 7 を図 1 7 の示すタイ ムチ ヤ一小 によ り制御する こ とに よ り、 図 1 1 に示したよ う な立ち上がりが立ち下がり に 比べ急な駆動波形を端子 5 2 における出力波形と して得 る こ とが出来る。 また、 タイ ムチ ャ ー トを変更する こ と によ り立ち下がりが立ち上がり に比べ急な駆動波形を得 る こ と も出来る。 図 1 7 の駆動波形を得る場合にはゲー ト入力端子 6 7 はオフのま まであつたが、 こ のときには、 図 1 7 の場合のゲー ト入力端子 6 8 に類した制御を行な . う こ とになる。 また、 図 1 6 の回路構成によれば、 図 1 3 の回路構成によ り可能な駆動波形はもちろん得る こ と が出来るので、 少な く と も位相関係については任意の倍 周波重畳波によ る駆動が可能である。 入力端子 6 7 はス ツ チ ン グ素子 6 3 のゲー ト に直結されているが、 他の入 力端子 6 5、 6 6、 6 8 は、 それぞれ、 ス ッ チ ング素子 5 3、 5 4、 6 4 ののゲー ト に対し、 図 1 3 中のス ッ チ ング素子 5 4 のゲー ト周辺回路と同様の回路を介して接 続されている。 また、 ス ッ チ ン グ素子 6 3、 6 4 の逆流 防止のため、 それぞれ、 ダイオー ド 6 1 および 6 2 が直 列接続されている。
また、 以上の実施例では、 超音波 ト ラ ン スデューザと して、 構成は複雑であるが汎用性に優れる と考え られる 電子走査型ア レイ · ト ラ ン スデュ ーサを採用 した例につ いて述べたが、 本発明の適用範囲はこれに と どま らず、 図 1 8 に一例を断面図で示 した単フ ォ ーカ ス手動走査型 ト ラ ン スデュ ーサゃ単フ ォ ー カ ス機械走査型 ト ラ ン スデ ユ ーザ、 図 1 9 に一例を断面図で示した非フ ォ ーカ ス型 平面波 ト ラ ンスデューサな どに も適用可能である。 図中、 電極 7 3 は リ ー ド線 7 5 によ り 同軸コネ ク タ 7 6 に接続 されている。 銅またはアル ミ ニウムな ど高熱伝導性金属 よ りなるハウ ジ ン グ 7 7 には冷却用水路 7 8 が設けられ、 超音波発生動作中圧電体よ り発生する熱を奪い、 また、 場合によ っては超音波照射対象物を冷却する よ う構成さ れている。 図 1 8 中、 マグネ シウムまたはマグネ シウム 系合金よ り なる音響レ ンズ 7 9 の中央部の厚さは、 基本 周波数において 1 /4または 1 /2波長とする こ とによ り、 高い効率の確保をはかっている。 図 1 9 中、 マグネ シゥ 厶またはアル ミ ニウムな どの軽金属よ りなる平板 7 9 の 厚さ は、 基本周波数において 1 /4または 1 /2波長とする こ とによ り、 高い効率の確保をはかっている。 また、 図 1 8 中のマグネ シウムまたはマグネ シウム系合金よ り な る音響レ ンズ 8 0 の中央部の厚さ も同様である。
従来、 大きな超音波強度の得に く い平面波では、 非定 在波的音場において実用上充分なキヤ ビテイ シ ヨ ンを発 生させる こ とは事実上不可能であつ たが、 本発明の倍周 波重畳法によ ってそれが可能になった。 これによ つて、 図 1 9 のよ う な平面波 ト ラ ンスデューサを体表にあてた り、 術中に用いる こ とによ つても、 治療効果を得る こ と ができ る こ とになつた。 さ らに、 図 2 0 に一例を断面図 で示した針状 ト ラ ンスデュ ーサを患部に刺入する こ とに よ っても、 治療効果を得る こ とができ る こ とになつた。 この場合、 超音波はマグネ シウムまたはマグネ シウム系 合金よ りなる先端の円錐部 8 1 によ って、 むしろ拡散さ れる構成となっている。 超音波の拡散を防ぎたい場合に は、 先端の円錐部 8 1 を音速の比較的遅い材料によ り構 成すればよい。
なお、 以上では、 基本周波にその倍周波を重畳してキ ャ ビティ シ ョ ン発生を効率化する実施例について述べた が、 上記 2 周波に基本周波の 4 倍、 6 倍さ らには 8 倍の 周波数をもつ波を重畳する こ とによ り、 キヤ ビテイ シ ョ ン発生を一層効率化する こ と もでき る。
次に、 本発明の他の実施例を図 2 1 〜図 2 4 を用いて 詳細に説明する。
こ の実施例は、 図 1 9 の実施例も こ の点同様であるが、 平面波の近距離音場では回折効果による位相回転が無視 でき るため、 両周波の平面波が、. それぞれの近距離音場 において、 両周波の波面が互いに平行となる よ う にた し あわせる構成とすれば、 広い領域にわた り両周波の位相 関係を音響キ ヤ ビテイ シ ヨ ンの生成にと って有利な条件 とする こ とができ る こ とに着目 した ものである。
本発明の一実施例である超音波治療装置について、 そ の術中超音波治療 ト ラ ンスデュ ーサ部の構成の一例を図 2 1 に示す。 基本周波および倍周波をそれぞれ発生する 平面型圧電体 1 および 2 は、 互いに平行に対向する よ う 取り付けられている。 両圧電体は、 それぞれマグネ シゥ ム系合金よ り なる音響整合層 7 9 - 1 および 7 9 — 2 に 音響学的に充分な強度で接着されている。 超音波発生時 に生ずる熱は、 こ れ らの高熱伝導性音響整合層から、 や は り高熱伝導性の金属よ りなるハウ ジング 7 7 — 1 およ び 7 7 — 2 に導かれ、 冷却用水路 7 8 — 1 および 7 8 — 2 によ り ト ラ ンスデューサ部よ り奪われる。 また、 場合 によ っては、 こ の冷却機能を超音波照射対象である患部 の表面付近を冷却する 目的でも使用する こ と もでき る。
例えば肝臓の一葉 1 1 0 にある患部を治療しよ う とす る場合、 平面型圧電体 1 および 2 によ り患部を挟むよ う に して、 患部に両面から基本周波と倍周波の超音波を同 時に照射する。 平面型圧電体 1 および 2 の間の距離は、 平行移動機構 9 0 によ り、 平行を保持しながら調整可能 になっている。 両圧電体の音響整合層 7 9 一 1 および 7 9 一 2 の表面間の距離は、 原則と して基本周波半波長の 整数倍となるよ う設定する。 両音響整合層 と肝臓の一葉 1 1 0 との間には、 生体と同 じ浸透圧をもつゼリ ーを必 要に応じてみたすこ とによ り超音波の伝達を助ける。 ま た、 圧電体中央部に設けられた小穴には、 小型超音波検 出子 2 1 が取り付けられ、 音響キヤ ビテイ シ ヨ ン発生に 対応する高調波の発生や分調波の高調波の発生を検出す る。 検出された信号に基づき、 基本周波と倍周波の照射 強度を調整したり、 前記の音響整合層 7 9 一 1 および 7 9 一 2 の表面間の距離を微調整して最適化を図る。
図 2 1 に対し、 1 つの圧電体から基本周波と倍周波と を同時に発生させる構成と した術中超音波治療 ト ラ ンス デュ ーサ部の一例を図 2 2 に示す。
基本周波と倍周波とを同時に発生する平面型圧電体 ( 7 1 および 7 2 — これは図 8 で説明 した構成と同 じで ある) に対し、 ステ ン レスな どよ りな り基本周波につい て半波長の整数倍の厚さをもつ反射板 9 2 が、 平行に対 向する よ う取り付けられている。 平面型圧電体は、 マグ ネ シゥム系またはアル ミ ニウム系合金よ りな り基本周波 について半波長の整数倍の厚さをもつ厚み振動板 7 9 に、 音響学的に充分な強度で接着されている。 例えば肝臓の 一葉 1 1 0 にある患部を治療しょ う とする場合、 平面型 圧電体と反射板 9 2 によ り患部を挟むよ う に して、 平面 型圧電体から患部に基本周波と倍周波の超音波を同時に 照射する。 平面型圧電体と反射板 9 2 の間の距離は、 平 行.移動機構 9 0 によ り、 平行を保持しながら調整可能に なっている。 厚み振動板 7 9 と反射板 9 2 の表面間の距 離の設定は前記 7 9 一 1 および 7 9 一 2 の表面間距離と 同様に最適化を図る。
こ の構成によ り、 図 2 1 の実施例において両平面型圧 電体 1 および 2 の両音響整合層 7 9 — 1 および 7 9 - 2 の間に形成された定在波音場とほぼ同等の音場を、 厚み 振動板 7 9 と反射板 9 2 との間に形成する こ とができ る。 反射板 9 2 は平面型圧電体 2 のハウ ジング 7 9 — 2 よ り もはるかに薄く 設計する こ とができ るので、 術中の使い 勝手に優れ、 こ の点において、 図 2 2 の構成の方が図 2 1 の構成よ り有利である。
図 2 1 、 図 2 2 に示す術中超音波治療 ト ラ ンスデュ ー サは、 夫々 、 図 3 、 図 7 に示す実施例の超音波治療装置 の構成における送信素子 1 、 2 または送信素子 1 に置き 換える こ とで術中超音波治療装置を構成する こ とができ る。 また、 図 2 1 、 図 2 2 中の超音波検出子 2 1 は図 3、 図 7 中の探触子 2 1 に対応する。
図 2 3 には、 また、 本発明の実施例である超音波化学 反応装置の反応器構成の一例を示す。 反応容器 9 1 には . 液体が充たされてお り、 音響化学反応の前駆物質は液体 に溶解するか分散した状態で反応容器 9 1 の入口 9 3 か ら流入 し、 音響化学反応の生成物は、 やは り液体に溶解 するか分散した状態で反応容器 9 1 の出口 9 4 から流出 する よ う構成されている。 反応容器 9 1 の内壁の一部を 構成する互いに平行な音響整合層 7 9 一 1 および 7 9 一 2 を、 図 2 1 の実施例と同様にマグネ シウム系軽金属な どによ り構成する場合、 1 /4 波長またはそれに半波長の 整数倍を加えた厚さ とするが、 要求される化学的安定性 を確保するためにステン レスや石英ガラスな どによ り構 成する場合には、 半波長の整数倍の厚さ とする。 また、 反応容器内壁間の距離は、 共振条件をみたすよ う基本周 波の半波長の整数倍とする。 図の例では、 それを基本周 波において 1 波長の距離に選ぶこ とによ り、 内壁の近傍 だけでな く 容器中央部も基本周波および倍周波の両者に ついて定在波の音圧の腹となるよ う設計した。 音響キヤ ビティ シ ョ ンの発生に本質的に優れる図 2 3 の構成は、 また、 気泡発生器の構成と しても有利である。
1 つの圧電体から基本周波と倍周波とを同時に発生さ せる構成と した超音波化学反応装置の反応器あるいは気 泡発生器の構成の一例を図 2 4 に示す。 基本周波と倍周 波とを同時に発生する こ とのでき る平面型圧電体は、 ス テン レスや石英ガラスな どによ り構成され基本周波につ いて半波長の整数倍の厚さをもち反応容器 9 1 外壁の一 部を構成する厚み振動板 7 9 に、 音響学的に充分な強度 で接着されている。 厚み振動板 7 9 に平行な反対側の外 壁 9 2 は、 やは り基本周波について半波長の整数倍の厚 さをもち、 反射板と して機能する構成となっている。 こ の構成によ り、 図 2 3 の実施例において両音響整合層 7 9 一 1 および 7 9 — 2 の間に形成された定在波音場とほ ぼ同等の音場を、 厚み振動板 7 9 と反射板 9 2 との間に 形成する こ とができる。
次に、 洗浄槽中で同一の探触子から基本周波数および 倍周波を照射する こ とによ り洗浄を行う洗浄装置の実施 例について図 2 5 で説明する。
洗浄用の液体 1 0 1 、 例えば純水あるいは過酸化水素 およびア ンモニアを含む半導体基板用洗浄液、 を入れる 洗浄槽 1 0 2 と、 洗浄槽 1 0 2 の底面に振動面を貼着し た圧電体 1 0 3 と、 圧電体 1 0 3 に貼着した 1 0 3 と実 質的に同 じ音響イ ン ピーダンスを有する固体からなる振 動方向の音響学的厚みが 1 0 3 の 1 2 である平板 1 0 4 と、 1 0 3 および 1 0 4 によ り構成される複合共振型 厚み振動子の共振周波数 f 。 および 2 f 0 電気信号をそ れぞれ生成する波形生成器 1 0 5 および 1 0 6 と、 波形 生成器 1 0 5 および 1 0 6 よ り 出力された電気信号を互 いにか産して増幅する増幅回路 1 0 7 を介して圧電体 1 0 3 に交流電圧を印加するよ う に構成した ものであ り、 こ の構成によ り、 洗浄槽 1 0 2 中の洗浄用の液体 1 0 1 に周波数 f 。 および 2 f 。 の超音波を照射する。
かかる構成を した超音波洗浄装置において、 圧電体 1 0 3 と平板 1 0 4 とを貼り合わせた振動板は先に図 8 で 説明 した圧電厚み振動子と実質的に同 じ構成とされてお り、 波形生成器 1 0 5 、 1 0 6 な らびに増幅回路 1 0 Ί、 によ り励振する こ とによ って、 領域 1 0 8 において基本 周波 f 。 とその倍周波 2 f 。 を共存させる こ とができ る。 こ の領域 1 0 8 に洗浄される対象 1 0 9 例えば半導体基 板を置 く こ とによ り、 洗浄される対象の表面 1 . 0 9 で高 効率に音響キヤ ビテ一シ ヨ ンが生じ、 この音響キヤ ビテ ーシ ヨ ンによ り洗浄される対象 1 0 9 の表面の洗浄が行 われる。
次に、 洗浄槽中で異なる振動子よ り基本周波および倍 周波を照射する こ とによ り洗浄を行う洗浄装置の実施例 について、 図 2 6 で説明する。
洗浄用の液体 1 0 1 を入れる洗浄槽 1 0 2 と洗浄槽の 底面の一つに振動面を貼着した基本 波数 f 。 に共振す る圧電体 1 0 3 ' と洗浄槽の他の底面に f 。 の倍周波 2 f 0 に共振する圧電体 1 0 3 ' ' とを有する構成と し、 周 波数 f 。 の成分を有する電気信号を生成する波形生成器 1 0 5 と 2 f 。 の成分を有する電気信号を生成する波形 生成器 1 0 6 よ り 出力された電気信号をそれぞれ増幅器 1 0 7 ' および 1 0 7 ' 'で増幅して圧電体 1 0 3 ' 、 1 0 3 ' ' に印加 して圧電体を振動させ、 洗浄用の液体 1 0 1 に超音波を照射する。 その結果、 領域 1 0 8 におい て基本周波 f 。 とその倍周波 2 f 。 を共存させる こ とが でき る。 この領域に洗浄される対象 1 0 9 例えば半導体 基板を置 く こ とによ り、 洗浄される対象 1 0 9 の表面で 高効率に音響キ ヤ ビテーシ ヨ ンが生じ、 こ の音響キヤ ビ テーシ ヨ ンによ り洗浄される対象 1 0 9 の表面の洗浄が 行われる。
次に、 噴射装置よ り噴射される洗浄液に超音波を照射 する こ とによ り洗浄を行う洗浄装置の実施例について図 2 7 で説明する。
本実施例は、 洗浄用の液体 1 0 1 、 例えば純水、 を導 く 管 1 1 2 とその先端部に取付られたノ ズル 1 1 3 とノ ズル 1 1 3 の内部に保持した圧電体 1 0 3 と 1 0 3 に貼 着した、 1 0 3 と実質的に同 じ音響イ ン ピーダンスを有 する固体からなる、 振動方向の音響学的厚みが 1 0 3 の 1 / 2 である平板 1 0 4 と、 1 0 3 および 1 0 4 によ り 構成される複合厚み振動子の共振周波数 f 。 および
2 f 。 の信号をそれぞれ生成する波形生成器 6 と、 波形 生成器 1 0 5 および 1 0 6 よ り出力された信号を互いに 加算して増幅し、 圧電体 1 0 3 に印加する増幅回路 1 0 7 とを含んで構成した ものである。
かかる構成をした超音波洗浄装置において、 圧電体 1 0 3 平板 1 0 4 とを貼り合わせた振動板は先に図 8 で説 明 した圧電厚み振動子と実質的に同 じ構成と されてお り、 波形生成器 1 0 5、 1 0 6 な らびに増幅回路 1 0 7 によ り励振する こ とによ って、 ノ ズル 1 1 3 から噴出される 領域 1 2 0 において基本周波 f 。 とその倍周波 2 f 。 を 共存させる こ とができ る。 その洗浄用液体 1 0 1 をノ ズ ル 1 1 3 よ り、 回転しているかまたは静止しているステ ージ 1 1 9 にむけて発射する こ とによ り、 領域 1 2 0 に ある洗浄される対象 1 2 1 例えば半導体基板の表面で、 その結果、 高効率に音響キヤ ビテー シ ヨ ンが生じ、 こ の 音響キヤ ビテ一 シ ヨ ンによ り洗浄される対象 1 2 1 の表 面の洗浄が行われる。
図 2 5 から図 2 7 の超音波洗浄装置の実施例による化 学的洗浄効果を評価した結果を、 特に、 図 2 5 の場合を 例と して説明する。
化学的洗浄の例と してア ンモニア と過酸化水素を用い る半導体基板の酸化による洗浄を行ったが、 半導体基板 中の酸化の進行は一定の深さに達する とそ こで止ま つて しまい定量化する こ とが困難であったため、 洗浄器内の 半導体基板を保持する位置に酸化反応によ り呈色の生じ る物質を保持し、 超音波の照射による該物質の酸化反応 速度を測定し、 該酸化反応速度を洗浄の効率の指標と し た。 実験は、 酸化作用によ り沃素イオ ン 2 I —から三沃 化物イオン 1 ,3 — が生成する反応について行なった。 沃化カ リ ゥムに抱水ク ロ ラルを加えた水溶液を厚さ 0 . 0 3 m mのポ リ エチ レ ン製のバッ グに入れて、 半導体基 板を保持する位置に保持し、 超音波を照射した。 生成し た三沃化物イオ ンの濃度は吸光度によ り決定し、 その値 から酸化反応速度を求めた。 基本周波 7 5 0 k H z と倍 周波 1 . 5 M H z とを両者の超音波パヮの和を一定と し て同時に照射した ときの酸化反応速度を、 全超音波パヮ に対する基本周波パヮの比についてプロ ッ トする と、 先 に図 6 によ って説明 した と同 じ特性の酸化反応速度が得 られた。 こ こで、 酸化反応の生じている場所における基 本周波 , 倍周波の超音波強 の和は、 およそ 3 0 W Z c m 2 であった。 基本周波 · 倍周波それぞれ単独では酸化 反応速度は実験誤差範囲で 0 であったのに対し、 両周波 を同時に照射した ときの相乗効果は著し く 、 特に全超音 波パヮに対する基本周波パヮの比が 0 . 2 〜 0 . 8 (基 本周波 : 倍周波 = 1 : 4 〜 4 : 1 ) のとき高い酸化反応 速度が得られた。
基本周波と倍周波との音響パヮ比を 1 : 1 に固定し、 基本周波と倍周波との位相関係を変化させた際の酸化反 応速度をプロ ッ ト した結果を図 2 8 に示す。 こ こでも、 酸化反応の生じている場所における基本周波 · 倍周波の 超音波強度の和は、 およそ 3 O WZ c m 2 であった。 図 中横軸は基本波を s i n ( 2 π f 、 倍周波を s i n ( Α π f + a とおいたときの α;の値を示している。 α の値が( 1 4 ) r〜( 7 4 ) 7Γのときに高い酸化反 応速度が得られた。 特に、 π I 2 ≤ ひ ≤ で著し く 高レ、 酸化反応が得られたが、 こ こで、 α = ίΐ I 2 は負圧ピー ク音圧の絶対値が最大となる よ う な位相関係、 = ;: は 音圧の立ち下がりが最も急俊となるよ う な位相関係であ る 0
また、 本実施例に示した超音波洗浄装置は過酸化水素 と硫酸を用いる洗浄および ト リ ク ロ 口酢酸を用いる洗浄 および抱水ク ロ ラルを用いる洗浄に対して も有効であ つ た。
次に、 本発明を液体の殺菌に応用 した例について図 2 9 で説明する。
本実施例は、 処理槽 2 0 1 と、 液体注入口 2 0 2 と、 液体排出口 2 0 3 と、 弁 2 0 4 と、 気泡注入口 2 0 5 と、 処理槽 2 0 1 の底面に振動面を貼着した圧電体 2 0 6 と、 2 0 6 に貼着した 2 0 6 と実質的に同 じ音響イ ン ピーダ ンスを有する固体からなる振動方向の音響学的厚みが圧 電体 2 0 6 の 1 2 である平板 2 0 7 と、 2 0 6 および 2 0 7 の形成する複合共振厚み振動子の共振周波数 f 。 および 2 f 。 の電気信号を生成する波形生成器 2 0 8 a および 2 0 8 b と、 波形生成器 2 0 8 a および 2 0 8 b よ り 出力された電気信号を加算し、 増幅する増幅回路 2 0 9 よ り構成した ものである。
こ こ で、 圧電体 2 0 6 と平板 2 0 7 との関係は図 2 5 の実施例と同様、 図 8 で説明 したよ う に構成される。 圧 電体 2 0 6 に共振周波数 f 。 および 2 f 。 の交流電圧を 印加 して励振し、 処理槽 2 0 1 中の液体に超音波を照射 する と処理槽中の液体に基本周波 f 。 その倍周波 2 f 。 を共存させる こ とができる。 こ のこ とによ り処理槽内に おいて効率的に音響キヤ ビテーシ ヨ ンが生じ、 液体の殺 菌が行われる。
こ の際、 気泡注入口 2 0 5 よ り空気な どの気体を注入 する と、 安定してキヤ ビテ一 シ ヨ ン核が存在でき るため、 長時間の超音波照射によ って も殺菌効果の低下が少ない。 弁の開閉度およびタイ ミ ングの調整によ り液体の処理量 および処理時間を変化させる こ とができ る。
なお、 液体の組成を変えて も構わない場合には、 音響 化学活性物質であるへマ ト ポルフ ィ リ ン、 ク ロ リ ン等の ボルフ イ リ ン系色素あるいは抱水ク ロ ラール、 テ ト ラ ク ロ ロ酢酸等の含ハロゲン化化合物を液体に加える こ とに よ り時間当た り の殺菌効果を向上させる こ とができ る。
図 2 6 の実施例と同様に、 処理槽中で異なる場所よ り 基本周波数および倍周波を照射する こ とによ り殺菌を行 う処理装置とする こ と もでき、 こ の実施例について図 3 0 によ り説明する。
液体処理装置の全体的な構成は図 2 9 と同様であ り、 基本周波数 f 。 に共振する超音波振動子 2 0 6 a と、 f 。 の倍周波 2 f 。 に共振する超音波振動子 2 0 6 b の 振動面を、 夫々 独立に、 処理槽 2 0 1 の側壁に貼着し、 夫々 を周波数 f 。 の成分を有する電気信号を生成する波 形生成器 2 0 8 a と、 f 。 の 2 倍の周波数の成分を有す る電気信号を生成する波形生成器 2 0 8 b と、 波形生成 器 2 0 8 a および 2 0 8 b よ り 出力された電気信号を増 幅機 2 0 9 a および 2 0 9 b によ り、 それぞれ独立に増 幅して超音波振動子 2 0 6 a および 2 0 6 b に交流電圧 を印加する点において異なるのみである。
超音波振動子 2 0 6 a、 2 0 6 b によ り処理槽 1 内に 超音波を照射する と処理槽中に基本周波 f 。 とその倍周 波 2 f 。 を共存させる こ とができ る。 こ のこ とによ り処 理槽内において効率的に音響キヤ ビテ一 シ ョ ンが生じ、 液体の殺菌が行われる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 複数周波数の超音波を生成する装置において、 基本 周波数の連続超音波とその 2倍の周波数の連続超音波と をほぼ同一の対象に対してほぼ同時に照射する よ う構成 したごとを特徴とする装置。
2 . 特許請求の範囲第 1 項記載の装置において、 基本周 波を発生する送波素子と倍周波を発生する送波素子とが 独立に設けられ、 夫々 独立の周波数の信号電圧によ って 駆動される超音波送波器を具備する こ とを特徴とする装 置
3 . 特許請求の範囲第 2 項記裁の装置において、 基本周 波を発生する送波素子と倍周波を発生する送波素子が、 ほぼ同一の焦点を共有する よ う構成したこ とを特徴とす る装置。
4 . 特許請求の範囲第 2 項記載の装置において、 超音波 送波器が複数の基本周波を発生する送波素子と複数の倍 周波を発生する送波素子とからなるア レイ型と されたこ とを特徴とする装置。
5 . 特許請求の範囲第 1 項記載の装置において、 照射対 象における倍周波の強度が基本周波の強度の 1 Z 4 倍以 上 4 倍以下となる よ う構成したこ とを特徴とする装置。
6 . 特許請求の範囲第 5 項記載の装置において、 照射対 象における基本周波数 f の超音波の波形が時間 t につい て s i n (2 7r f t ) と表される とき倍周波の波形が 一 s i n ( 4 ^- f t ) と近似される よ う、 基本周波と倍周波との 位相関係を設定したこ とを特徴とする装置。
7 . 特許請求の範囲第 1 項記載の装置において、 倍周波 よ り も高い周波数のパルス波を送受信する こ とによ り照 射対象の超音波エ コ ー像を形成すべ く 構成した超音波撮 像部を具備する こ とを特徴とする装置。
8 . 特許請求の範囲第 7項記載の装置において、 基本周 波の連続波またはバース ト波と倍周波の連続波またはバ —ス ト波とをほぼ同一の対象に対して同時に照射したと き照射対象において生じる超音波の周波数成分のう ち、 倍周波のさ らに偶数倍の周波数成分を受信すべ く 構成し たこ とを特徴とする装置。
9 . 複数周波数の超音波を生成する装置において、 基本 周波数の連続超音波とその 2 倍の周波数の連続超音波と をほぼ同一の対象に対してほぼ同時に照射するよ う に基 本周波数の連続超音波とその 2倍の周波数の連続超音波 とを同一の対象に対して同一の圧電振動子から同時に照 射する よ う構成したこ とを特徴とする装置。
1 0 . 特許請求の範囲第 9 項記載の装置において、 圧電 材料またはそれと同等の音響イ ン ピーダンスをもつ材料 からな り、 基本周波について半波長の音響学的厚さをも ち、 厚さ において実質的にその 2 3 の領域が圧電的に 駆動される よ う構成された圧電素子を具備する こ とを特 徵とする装置。
1 1 . 特許請求の範囲第 1 0 項記載の装置において、 圧 電材料またはそれと同等の音響ィ ン ピーダンスをもつ材 料からな り、 基本周波について半波長の音響学的厚さを もち、 厚さにおいて実質的にその 1 Z 3 の領域と厚さ に おいて実質的にその 2 3 の領域が貼り合わされた もの と され、 前記 2 Z 3 の領域の部分のみが圧電的に駆動さ れる よ う構成された圧電素子を具備する こ とを特徴とす る装置。
1 2 . 特許請求の範囲第 9 項記載の装置において、 圧電 振動子を駆動するプッ シュ プル式回路を具備し、 プッ シ ュプル式回路を構成する 2 つのスイ ッ チ ング素子のう ち 一方がオ ン他方がオフの一つの状態と、 オ ン、 オフが逆 転した他の状態とを繰りかえすよ う に制御する と と もに、 夫々 の状態にある時間の比が実質的に 1 : 3 または 3 : 1 に等し く なる よ う制御する こ と こ とを特徴とする装置。
1 3 . 特許請求の範囲第 1 2項記載の装置において、 3 つの直流的定電位源と、 それぞれの定電位源と圧電振動 子の電気的接続をオン · オフするための圧電振動子 1 つ あた り 3 つのスイ ッ チ ン グ素子よ りなる駆動回路を具備 する こ とを特徴とする装置。
1 4 . 特許請求の範囲第 1 項記載の装置において、 圧電 振動子を基本周波数において駆動する第 1 の回路とその 2 倍の周波数において駆動する第 2 の回路をそれぞれ具 備し、 圧電振動子とそれに並列接続したキャパシ夕 とを 総合 したキャパシタ ンスを( 、 基本周波数においてそれ と共振するイ ンダク タ ンスを L とする とき、 圧電振動子 が、 5 / 8 Lのイ ンダク タ ンスをもつイ ンダク タを介して 第 1 の回路と接続されてお り、 また、 1 0/ 9 L のイ ンダク タ ンスをもつイ ンダク タ とそれに直列接続した 9 /25 Cの キ ャパシタ ンスをもつキヤ ノ、。シ夕 とを介して第 2 の回路 と接続されている こ とを特徴とする装置。
1 5 . 基本周波数の平面波とその整数倍の周波数の平面 波とを同一の対象に対して同時に照射する よ う構成した 超音波装置において、 上記両周波数の波面が実質的に平 行となる よ う構成したこ とを特徴とする装置。
1 6 . 複数周波数の超音波を照射するよ う構成された、 液体を媒質と して超音波を対象に照射する超音波洗浄装 置において、 基本周波数の超音波とその 2 倍の周波数の 超音波とを対象に同時に照射する こ とを特徴とする超音 波洗浄装置。
1 7 . 特許請求の範囲第 1 6 項記載の装置において、 洗 浄槽内に保持した対象に超音波を照射する よ う構成した こ とを特徴とする装置。
1 8 . 特許請求の範囲第 1 6 項記載の装置において、 噴 射装置よ り噴射された液体を媒質と して超音波を対象に 照射する よ う構成したこ とを特徴とする装置。
1 9 . 特許請求の範囲第 1 6 項記載の装置において、 照 射対象における倍周波の強度が基本周波の強度の 1 Z 4 倍以上 4 倍以下.となる よ う構成したこ とを特徴とする装 紘 o
2 0 . 特許請求の範囲第 1 9 項記載の装置において、 照 射対象における基本周波数 f の超音波の波形が時間 t に ついて s i η (2π f t ) と表される とき倍周波の波形 が s i n (47Γ f t + ひ ) 、 ただし は ( 1 4 ) τ 以上 ( 7 Ζ 4 ) r以下の実数、 と近似される よ う、 基本 周波と倍周波との位相関係を設定したこ とを特徴とする
2 1 . 特許請求の範囲第 1 6 項記載の装置において、 超 音波厚み振動素子と して圧電体および該圧電体と実質上 同 じ音響イ ン ピー ダ ン スを有する固体とを層状に密着さ せたものを用いる こ とを特徴とする装置。
2 2 . 特許請求の範囲第 6 項記載の装置において、 圧電 体と該圧電体と実質上同 じ音響イ ン ピー ダ ン スを有する 固体との振動方向における厚み.をそれぞれの音速で除し た時間の比が 1 以上 3 以下となる よ う構成したこ とを特 徵とする装置。
2 3 . 複数周波数の超音波を同時に液体に照射する よ う されたこ とを特徴とする液体殺菌装置。
2 4 . 特許請求の範囲第 2 3項記載の装置において、 複 数周波数が基本周波数とその 2倍の周波数の超音波とで ある こ と こ とを特徴とする液体殺菌装置。
2 5 . 特許請求の範囲第 2 3 項記載の装置において、 超 音波厚み振動素子と して圧電体および該圧電体と実質上 同 じ音響イ ン ピー ダ ン スを有する固体とを層状に密着さ せた ものを用いる こ とを特徴とする装置。
2 6 . 特許請求の範囲第 2 5 項記載の装置において、 圧 電体と該圧電体と実質上同 じ音響イ ン ピー ダ ン スを有す る固体との振動方向における厚みをそれぞれの音速で除 した時間の比が 1 以上 3 以下となる よ う構成したこ とを 特徴とする装置。
PCT/JP1993/001310 1992-09-16 1993-09-14 Ultrasonic irradiation apparatus and processor using the same WO1994006380A1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP93919658A EP0619104B1 (en) 1992-09-16 1993-09-14 Ultrasonic irradiation apparatus
DE69331692T DE69331692T2 (de) 1992-09-16 1993-09-14 Ultraschallbestrahlungsgeraet
JP50665494A JP3429761B2 (ja) 1992-09-16 1993-09-14 超音波照射装置及びそれによる処理装置
US08/240,733 US5523058A (en) 1992-09-16 1993-09-14 Ultrasonic irradiation apparatus and processing apparatus based thereon

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4/246179 1992-09-16
JP24617992 1992-09-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1994006380A1 true WO1994006380A1 (en) 1994-03-31

Family

ID=17144696

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1993/001310 WO1994006380A1 (en) 1992-09-16 1993-09-14 Ultrasonic irradiation apparatus and processor using the same

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5523058A (ja)
EP (1) EP0619104B1 (ja)
JP (1) JP3429761B2 (ja)
DE (1) DE69331692T2 (ja)
WO (1) WO1994006380A1 (ja)

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08140973A (ja) * 1994-11-25 1996-06-04 Toshiba Ceramics Co Ltd 超音波発生装置
JPH09135842A (ja) * 1995-09-29 1997-05-27 Ethicon Endo Surgery Inc 超音波装置
JPH1127798A (ja) * 1997-07-04 1999-01-29 S C:Kk 超音波振動の発生方法
JP2000516522A (ja) * 1996-07-04 2000-12-12 ドゥ モイレナエル エリック コルデマンス 液状媒質を処理する装置及び方法
JP2003533263A (ja) * 1997-10-27 2003-11-11 ロバート ダブリュー クリブス 脂肪分解療法及び装置
JP2004081645A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Hitachi Ltd 超音波治療装置
JP2004538039A (ja) * 2001-01-30 2004-12-24 アドバンスト メディカル アプリケーションズ インコーポレーテッド 定常波を用いる超音波創傷治療方法及び装置
JP2005034202A (ja) * 2003-07-15 2005-02-10 Terumo Corp エネルギー治療装置
JP2005040300A (ja) * 2003-07-28 2005-02-17 Terumo Corp エネルギー治療装置
JP2005046267A (ja) * 2003-07-31 2005-02-24 Terumo Corp エネルギー治療装置
JP2005524683A (ja) * 2002-04-12 2005-08-18 スロウレイ・テクノロジーズ・エルエルシー 流体を除染するための方法および装置
JP2008500136A (ja) * 2004-05-18 2008-01-10 ナノヴィブロニクス・インコーポレーテッド 薄いピエゾ素子の複数の振動モードを用いた医療用具のためのナノ振動被膜工程
WO2009122650A1 (ja) * 2008-04-04 2009-10-08 株式会社日立製作所 超音波照射装置
US7824336B2 (en) 2005-05-17 2010-11-02 Hitachi, Ltd. Ultrasonic apparatus for diagnosis and therapy
JP2011206094A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Akita Univ 超音波照射装置
JP2014239918A (ja) * 2008-07-14 2014-12-25 アリゾナ・ボード・オブ・リージェンツ・フォー・アンド・オン・ビハーフ・オブ・アリゾナ・ステイト・ユニバーシティArizona Board Of Regents For And On Behalf Of Arizona State University 超音波を使用して細胞活動を調節するための方法およびデバイス
US9254075B2 (en) 2014-05-04 2016-02-09 Gyrus Acmi, Inc. Location of fragments during lithotripsy
US9259231B2 (en) 2014-05-11 2016-02-16 Gyrus Acmi, Inc. Computer aided image-based enhanced intracorporeal lithotripsy
US9282985B2 (en) 2013-11-11 2016-03-15 Gyrus Acmi, Inc. Aiming beam detection for safe laser lithotripsy
US9729252B2 (en) 2011-10-21 2017-08-08 Cerevast Medical, Inc. Method and system for direct communication
JP2018529455A (ja) * 2015-09-30 2018-10-11 エシコン エルエルシーEthicon LLC 超音波外科用器具のための複合電気信号波形をデジタル的に発生させる、発生器
US10413757B2 (en) 2012-08-29 2019-09-17 Cerevast Medical, Inc. Systems and devices for coupling ultrasound energy to a body
CN112912138A (zh) * 2018-10-30 2021-06-04 京瓷株式会社 超声波辐射器具以及超声波装置
US11224767B2 (en) 2013-11-26 2022-01-18 Sanuwave Health, Inc. Systems and methods for producing and delivering ultrasonic therapies for wound treatment and healing

Families Citing this family (196)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5858104A (en) * 1993-09-30 1999-01-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy System for focused generation of pressure by bubble formation and collapse
WO1996022844A1 (en) * 1995-01-27 1996-08-01 Trustees Of Boston University Acoustic coaxing methods and apparatus
US6104670A (en) * 1995-03-02 2000-08-15 Acuson Corporation Ultrasonic harmonic imaging system and method
US6009046A (en) * 1995-03-02 1999-12-28 Acuson Corporation Ultrasonic harmonic imaging system and method
US5608690A (en) * 1995-03-02 1997-03-04 Acuson Corporation Transmit beamformer with frequency dependent focus
US6005827A (en) * 1995-03-02 1999-12-21 Acuson Corporation Ultrasonic harmonic imaging system and method
US6027448A (en) * 1995-03-02 2000-02-22 Acuson Corporation Ultrasonic transducer and method for harmonic imaging
DE69736549T2 (de) * 1996-02-29 2007-08-23 Acuson Corp., Mountain View System, verfahren und wandler zum ausrichten mehrerer ultraschallbilder
US5846202A (en) * 1996-07-30 1998-12-08 Acuson Corporation Ultrasound method and system for imaging
US20060086604A1 (en) * 1996-09-24 2006-04-27 Puskas William L Organism inactivation method and system
US7336019B1 (en) * 2005-07-01 2008-02-26 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals, probes and methods for cleaning and/or processing with sound
US8075695B2 (en) * 1996-08-05 2011-12-13 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals, probes and methods for cleaning and/or processing with sound
GB9617749D0 (en) * 1996-08-23 1996-10-02 Young Michael J R Improved apparatus for ultrasonic therapeutic trteatment
US20080047575A1 (en) * 1996-09-24 2008-02-28 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals and methods for cleaning and processing with sound
US7169123B2 (en) 1997-01-22 2007-01-30 Advanced Medical Optics, Inc. Control of pulse duty cycle based upon footswitch displacement
US6110120A (en) 1997-04-11 2000-08-29 Acuson Corporation Gated ultrasound imaging apparatus and method
US6723063B1 (en) * 1998-06-29 2004-04-20 Ekos Corporation Sheath for use with an ultrasound element
US6033994A (en) * 1997-05-16 2000-03-07 Sony Corporation Apparatus and method for deprocessing a multi-layer semiconductor device
CN1230120C (zh) 1997-05-23 2005-12-07 普罗里森姆股份有限公司 由mri引导的治疗装置
US5913823A (en) * 1997-07-15 1999-06-22 Acuson Corporation Ultrasound imaging method and system for transmit signal generation for an ultrasonic imaging system capable of harmonic imaging
US6193659B1 (en) 1997-07-15 2001-02-27 Acuson Corporation Medical ultrasonic diagnostic imaging method and apparatus
US5833614A (en) * 1997-07-15 1998-11-10 Acuson Corporation Ultrasonic imaging method and apparatus for generating pulse width modulated waveforms with reduced harmonic response
US6023977A (en) 1997-08-01 2000-02-15 Acuson Corporation Ultrasonic imaging aberration correction system and method
US6312379B1 (en) 1997-08-15 2001-11-06 Acuson Corporation Ultrasonic harmonic imaging system and method using waveform pre-distortion
US5944666A (en) * 1997-08-21 1999-08-31 Acuson Corporation Ultrasonic method for imaging blood flow including disruption or activation of contrast agent
US5928151A (en) * 1997-08-22 1999-07-27 Acuson Corporation Ultrasonic system and method for harmonic imaging in three dimensions
US6231516B1 (en) * 1997-10-14 2001-05-15 Vacusense, Inc. Endoluminal implant with therapeutic and diagnostic capability
US6050943A (en) * 1997-10-14 2000-04-18 Guided Therapy Systems, Inc. Imaging, therapy, and temperature monitoring ultrasonic system
US5902242A (en) * 1998-01-22 1999-05-11 Acuson Corporation System and method for forming a combined ultrasonic image
CA2238951A1 (fr) 1998-05-26 1999-11-26 Les Technologies Sonomax Inc. Reacteur a cavitation acoustique pour le traitement des materiaux
US5957852A (en) * 1998-06-02 1999-09-28 Acuson Corporation Ultrasonic harmonic imaging system and method
JP4095729B2 (ja) 1998-10-26 2008-06-04 株式会社日立製作所 治療用超音波装置
WO2000025125A1 (en) * 1998-10-28 2000-05-04 Covaris, Inc. Apparatus and methods for controlling sonic treatment
US6948843B2 (en) * 1998-10-28 2005-09-27 Covaris, Inc. Method and apparatus for acoustically controlling liquid solutions in microfluidic devices
US7981368B2 (en) 1998-10-28 2011-07-19 Covaris, Inc. Method and apparatus for acoustically controlling liquid solutions in microfluidic devices
US7687039B2 (en) 1998-10-28 2010-03-30 Covaris, Inc. Methods and systems for modulating acoustic energy delivery
US20020134402A1 (en) * 2000-01-21 2002-09-26 Madanshetty Sameer I. Article produced by acoustic cavitation in a liquid insonification medium
US20020108631A1 (en) * 1999-01-21 2002-08-15 Madanshetty Sameer I. Single-transducer ACIM method and apparatus
US6395096B1 (en) * 1999-01-21 2002-05-28 Uncopiers, Inc. Single transducer ACIM method and apparatus
JP3626625B2 (ja) * 1999-04-21 2005-03-09 セイコーインスツル株式会社 脈波検出装置
US7448790B2 (en) * 1999-11-24 2008-11-11 Impulse Devices, Inc. Cavitation fluid circulatory system for a cavitation chamber
US7381241B2 (en) * 1999-11-24 2008-06-03 Impulse Devices, Inc. Degassing procedure for a cavitation chamber
US7387660B2 (en) * 1999-11-24 2008-06-17 Impulse Devices, Inc., Degassing procedure for a cavitation chamber
US8096700B2 (en) * 1999-11-24 2012-01-17 Impulse Devices Inc. Heat exchange system for a cavitation chamber
EP1128185B8 (en) * 2000-02-25 2009-08-19 Hitachi, Ltd. Mixing device for automatic analyzer
US20020157685A1 (en) * 2000-09-11 2002-10-31 Naoya Hayamizu Washing method, method of manufacturing semiconductor device and method of manufacturing active matrix-type display device
US7914453B2 (en) * 2000-12-28 2011-03-29 Ardent Sound, Inc. Visual imaging system for ultrasonic probe
US8235919B2 (en) 2001-01-12 2012-08-07 Celleration, Inc. Ultrasonic method and device for wound treatment
US7914470B2 (en) 2001-01-12 2011-03-29 Celleration, Inc. Ultrasonic method and device for wound treatment
ITSV20010030A1 (it) * 2001-08-14 2003-02-14 Esaote Spa Metodo e dispositivo per la trasmissione di impulsi ad ultrasuoni e la ricezione dei segnali di eco ad una armonica della frequenza di trasm
JP4157688B2 (ja) * 2001-09-20 2008-10-01 株式会社日立メディコ 超音波診断装置
US20040019318A1 (en) * 2001-11-07 2004-01-29 Wilson Richard R. Ultrasound assembly for use with a catheter
AU2002359576A1 (en) 2001-12-03 2003-06-17 Ekos Corporation Catheter with multiple ultrasound radiating members
GB0129139D0 (en) * 2001-12-05 2002-01-23 Sra Dev Ltd Ultrasonic generator system
JP4167178B2 (ja) * 2001-12-14 2008-10-15 イコス コーポレイション 血液の流れの再開の判定
US6958040B2 (en) * 2001-12-28 2005-10-25 Ekos Corporation Multi-resonant ultrasonic catheter
JP3816809B2 (ja) * 2002-01-30 2006-08-30 株式会社日立製作所 薬剤、薬剤キャリア、薬剤の製造方法及び腫瘍の治療方法
ITMI20020438A1 (it) * 2002-03-04 2003-09-04 Lorenzo Manzoni Apparato ad ultrasuoni per il trattamento della sintomatologia della malattia da decompressione
US20040028552A1 (en) * 2002-03-20 2004-02-12 Bhardwaj Mahesh C. Gas contact ultrasound germicide and therapeutic treatment
US6845778B2 (en) * 2002-03-29 2005-01-25 Lam Research Corporation In-situ local heating using megasonic transducer resonator
US8226629B1 (en) 2002-04-01 2012-07-24 Ekos Corporation Ultrasonic catheter power control
US7118852B2 (en) * 2002-04-11 2006-10-10 Throwleigh Technologies, L.L.C. Methods and apparatus for decontaminating fluids
US6716168B2 (en) 2002-04-30 2004-04-06 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Ultrasound drug delivery enhancement and imaging systems and methods
DE10234533A1 (de) * 2002-07-30 2004-02-12 Richard Wolf Gmbh Gerät und Verfahren zur thermischen Gewebebehandlung unter gezielter Nutzung nichtlinearer Ultraschalleffekte
US7316664B2 (en) 2002-10-21 2008-01-08 Advanced Medical Optics, Inc. Modulated pulsed ultrasonic power delivery system and method
ES2279178T3 (es) 2002-11-04 2007-08-16 Ashland Licensing And Intellectual Property Llc Dispositivo y procedimiento para el tratamiento de un medio liquido por ultrasonido en la prevencion del crecimiento de celulas hiperproliferativas o infectadas.
WO2004060448A2 (en) * 2003-01-03 2004-07-22 Ekos Corporation Ultrasonic catheter with axial energy field
US7104268B2 (en) * 2003-01-10 2006-09-12 Akrion Technologies, Inc. Megasonic cleaning system with buffered cavitation method
KR100516902B1 (ko) * 2003-01-28 2005-09-27 주식회사 헬스피아 이동통신 단말기의 배터리 팩 장치
US20040230121A1 (en) * 2003-02-20 2004-11-18 Rune Hansen Ultrasonic contrast agent imaging by dualband pulse transmission
CA2830583C (en) * 2003-03-12 2015-06-09 Abbott Medical Optics Inc. System and method for pulsed ultrasonic power delivery employing cavitation effects
JP4244300B2 (ja) * 2003-03-24 2009-03-25 富士フイルム株式会社 超音波送受信装置
US7048863B2 (en) * 2003-07-08 2006-05-23 Ashland Licensing And Intellectual Property Llc Device and process for treating cutting fluids using ultrasound
US20050070961A1 (en) * 2003-07-15 2005-03-31 Terumo Kabushiki Kaisha Energy treatment apparatus
CA2439667A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-04 Andrew Kenneth Hoffmann Low frequency vibration assisted blood perfusion system and apparatus
US8721573B2 (en) 2003-09-04 2014-05-13 Simon Fraser University Automatically adjusting contact node for multiple rib space engagement
US8734368B2 (en) 2003-09-04 2014-05-27 Simon Fraser University Percussion assisted angiogenesis
US8870796B2 (en) 2003-09-04 2014-10-28 Ahof Biophysical Systems Inc. Vibration method for clearing acute arterial thrombotic occlusions in the emergency treatment of heart attack and stroke
US20060025683A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Ahof Biophysical Systems Inc. Hand-held imaging probe for treatment of states of low blood perfusion
US7393323B2 (en) 2003-10-01 2008-07-01 Robert Vago Method and device for subaqueous ultrasonic irradiation of living tissue
US7377905B2 (en) * 2003-10-01 2008-05-27 Robert Vago Method and device for subaqueous ultrasonic irradiation of living tissue
US7328628B2 (en) * 2003-12-08 2008-02-12 Covaris, Inc. Apparatus and methods for sample preparation
WO2005070299A1 (en) * 2004-01-16 2005-08-04 The University Of Houston System Methods and apparatus for medical imaging
US20050209578A1 (en) * 2004-01-29 2005-09-22 Christian Evans Edward A Ultrasonic catheter with segmented fluid delivery
US7201737B2 (en) * 2004-01-29 2007-04-10 Ekos Corporation Treatment of vascular occlusions using elevated temperatures
US9107590B2 (en) 2004-01-29 2015-08-18 Ekos Corporation Method and apparatus for detecting vascular conditions with a catheter
WO2005094701A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Toudai Tlo, Ltd. 超音波照射方法及び超音波照射装置
PT1761284E (pt) 2004-06-23 2012-12-12 Ashland Licensing & Intellectu Dispositivo e método para tratamento de fluídos utilizados em processo de revestimento por electrodeposição com ultra-sons
US7413552B2 (en) * 2004-08-05 2008-08-19 Robert Vago Method for subaqueous ultrasonic catastrophic irradiation of living tissue
US7824348B2 (en) * 2004-09-16 2010-11-02 Guided Therapy Systems, L.L.C. System and method for variable depth ultrasound treatment
US9011336B2 (en) * 2004-09-16 2015-04-21 Guided Therapy Systems, Llc Method and system for combined energy therapy profile
US7393325B2 (en) 2004-09-16 2008-07-01 Guided Therapy Systems, L.L.C. Method and system for ultrasound treatment with a multi-directional transducer
US8444562B2 (en) 2004-10-06 2013-05-21 Guided Therapy Systems, Llc System and method for treating muscle, tendon, ligament and cartilage tissue
US10864385B2 (en) 2004-09-24 2020-12-15 Guided Therapy Systems, Llc Rejuvenating skin by heating tissue for cosmetic treatment of the face and body
US8535228B2 (en) 2004-10-06 2013-09-17 Guided Therapy Systems, Llc Method and system for noninvasive face lifts and deep tissue tightening
US9827449B2 (en) 2004-10-06 2017-11-28 Guided Therapy Systems, L.L.C. Systems for treating skin laxity
US8133180B2 (en) 2004-10-06 2012-03-13 Guided Therapy Systems, L.L.C. Method and system for treating cellulite
US9694212B2 (en) 2004-10-06 2017-07-04 Guided Therapy Systems, Llc Method and system for ultrasound treatment of skin
EP2279696A3 (en) 2004-10-06 2014-02-26 Guided Therapy Systems, L.L.C. Method and system for non-invasive mastopexy
US11883688B2 (en) 2004-10-06 2024-01-30 Guided Therapy Systems, Llc Energy based fat reduction
US7758524B2 (en) 2004-10-06 2010-07-20 Guided Therapy Systems, L.L.C. Method and system for ultra-high frequency ultrasound treatment
KR101732144B1 (ko) 2004-10-06 2017-05-02 가이디드 테라피 시스템스, 엘.엘.씨. 초음파 치료 시스템
US20060111744A1 (en) 2004-10-13 2006-05-25 Guided Therapy Systems, L.L.C. Method and system for treatment of sweat glands
US11235179B2 (en) 2004-10-06 2022-02-01 Guided Therapy Systems, Llc Energy based skin gland treatment
US8690778B2 (en) 2004-10-06 2014-04-08 Guided Therapy Systems, Llc Energy-based tissue tightening
US11207548B2 (en) 2004-10-07 2021-12-28 Guided Therapy Systems, L.L.C. Ultrasound probe for treating skin laxity
US11724133B2 (en) 2004-10-07 2023-08-15 Guided Therapy Systems, Llc Ultrasound probe for treatment of skin
US20060184070A1 (en) * 2004-11-12 2006-08-17 Hansmann Douglas R External ultrasonic therapy
PL1828059T3 (pl) 2004-11-17 2014-05-30 Solenis Technologies Cayman Lp Sposób obróbki płynów chłodniczych stosowanych w produkcji opon
KR100714682B1 (ko) * 2004-12-02 2007-05-04 삼성전자주식회사 파일 시스템 경로 처리 장치 및 방법
US20060173387A1 (en) * 2004-12-10 2006-08-03 Douglas Hansmann Externally enhanced ultrasonic therapy
US7624703B2 (en) * 2005-01-25 2009-12-01 Robert Edward Vago Method and device for removal of ammonia and other contaminants from recirculating aquaculture tanks
US8858805B2 (en) * 2005-01-25 2014-10-14 Robert Edward Vago Method and device for removal of ammonia and related contaminants from water
WO2006105616A1 (en) * 2005-04-08 2006-10-12 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Method for microfluidic mixing and mixing device
US7571336B2 (en) 2005-04-25 2009-08-04 Guided Therapy Systems, L.L.C. Method and system for enhancing safety with medical peripheral device by monitoring if host computer is AC powered
WO2006138438A2 (en) * 2005-06-15 2006-12-28 Akrion, Inc. System and method of processing substrates using sonic energy having cavitation control
JP4369907B2 (ja) * 2005-07-01 2009-11-25 株式会社日立製作所 音響化学治療装置
US7757561B2 (en) * 2005-08-01 2010-07-20 Covaris, Inc. Methods and systems for processing samples using acoustic energy
US20070083120A1 (en) * 2005-09-22 2007-04-12 Cain Charles A Pulsed cavitational ultrasound therapy
US8057408B2 (en) * 2005-09-22 2011-11-15 The Regents Of The University Of Michigan Pulsed cavitational ultrasound therapy
US10219815B2 (en) * 2005-09-22 2019-03-05 The Regents Of The University Of Michigan Histotripsy for thrombolysis
US20070167798A1 (en) * 2005-11-23 2007-07-19 Cai Anming H Contrast agent augmented ultrasound therapy system with ultrasound imaging guidance for thrombus treatment
US20070149881A1 (en) * 2005-12-22 2007-06-28 Rabin Barry H Ultrasonically Powered Medical Devices and Systems, and Methods and Uses Thereof
WO2008016691A2 (en) * 2006-08-01 2008-02-07 Covaris, Inc. Methods and apparatus for treating samples with acoustic energy
EP2076179B1 (en) 2006-08-01 2018-07-04 Stichting voor de Technische Wetenschappen Pulse inversion sequences for nonlinear imaging
US8192363B2 (en) 2006-10-27 2012-06-05 Ekos Corporation Catheter with multiple ultrasound radiating members
EP1925359A1 (en) 2006-11-22 2008-05-28 Covaris, Inc. Methods and apparatus for treating samples with acoustic energy to form particles and particulates
US8327861B2 (en) * 2006-12-19 2012-12-11 Lam Research Corporation Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts
US8491521B2 (en) 2007-01-04 2013-07-23 Celleration, Inc. Removable multi-channel applicator nozzle
US9782608B2 (en) * 2007-01-05 2017-10-10 Angel Science & Technology (Canada) Inc. High intensity focused ultrasound treatment head and system
EP2111261B1 (en) 2007-01-08 2015-04-15 Ekos Corporation Power parameters for ultrasonic catheter
US10182833B2 (en) 2007-01-08 2019-01-22 Ekos Corporation Power parameters for ultrasonic catheter
DK2152167T3 (en) 2007-05-07 2018-12-10 Guided Therapy Systems Llc Methods and systems for coupling and focusing acoustic energy using a coupling element
US20150174388A1 (en) 2007-05-07 2015-06-25 Guided Therapy Systems, Llc Methods and Systems for Ultrasound Assisted Delivery of a Medicant to Tissue
TWI526233B (zh) 2007-05-07 2016-03-21 指導治療系統股份有限公司 利用聲波能量調製藥劑輸送及效能之系統
US9044568B2 (en) 2007-06-22 2015-06-02 Ekos Corporation Method and apparatus for treatment of intracranial hemorrhages
DE102007030572A1 (de) * 2007-07-02 2009-01-08 Heidelberger Druckmaschinen Ag Wascheinrichtung für einen Zylinder in einer Druckmaschine
US8568339B2 (en) * 2007-08-16 2013-10-29 Ultrashape Ltd. Single element ultrasound transducer with multiple driving circuits
US20110301506A1 (en) * 2007-12-14 2011-12-08 Kim Volz Ultrasound pulse shaping
DK2282675T3 (en) 2008-06-06 2016-05-17 Ulthera Inc Cosmetic treatment and imaging system
CA2748362A1 (en) 2008-12-24 2010-07-01 Michael H. Slayton Methods and systems for fat reduction and/or cellulite treatment
PL2448636T3 (pl) 2009-07-03 2014-11-28 Ekos Corp Parametry mocy dla cewnika ultradźwiękowego
AU2010284313B2 (en) * 2009-08-17 2016-01-28 Histosonics, Inc. Disposable acoustic coupling medium container
JP5726191B2 (ja) 2009-08-26 2015-05-27 リージェンツ オブ ザ ユニバーシティー オブ ミシガン 尿管結石の破砕の際に気泡混濁空洞現象の制御を使用する装置および方法
WO2011028603A2 (en) 2009-08-26 2011-03-10 The Regents Of The University Of Michigan Micromanipulator control arm for therapeutic and imaging ultrasound transducers
DE102009043014A1 (de) 2009-09-04 2011-03-10 Rodenbeck, Arno W., Dipl.-Ing. Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Keramikelementen
US8539813B2 (en) 2009-09-22 2013-09-24 The Regents Of The University Of Michigan Gel phantoms for testing cavitational ultrasound (histotripsy) transducers
US8715186B2 (en) 2009-11-24 2014-05-06 Guided Therapy Systems, Llc Methods and systems for generating thermal bubbles for improved ultrasound imaging and therapy
KR20200004466A (ko) 2010-08-02 2020-01-13 가이디드 테라피 시스템스, 엘.엘.씨. 초음파 치료 시스템 및 방법
US9504446B2 (en) 2010-08-02 2016-11-29 Guided Therapy Systems, Llc Systems and methods for coupling an ultrasound source to tissue
US8459121B2 (en) 2010-10-28 2013-06-11 Covaris, Inc. Method and system for acoustically treating material
US8857438B2 (en) 2010-11-08 2014-10-14 Ulthera, Inc. Devices and methods for acoustic shielding
US8709359B2 (en) 2011-01-05 2014-04-29 Covaris, Inc. Sample holder and method for treating sample material
US11458290B2 (en) 2011-05-11 2022-10-04 Ekos Corporation Ultrasound system
WO2012156881A1 (en) * 2011-05-18 2012-11-22 Koninklijke Philips Electronics N.V. Spherical ultrasonic hifu transducer with offset cavitation sense element
WO2012156863A2 (en) * 2011-05-18 2012-11-22 Koninklijke Philips Electronics N.V. Spherical ultrasonic hifu transducer with modular cavitation sense element
JP5775751B2 (ja) * 2011-06-15 2015-09-09 オリンパス株式会社 超音波照射装置
JP5851127B2 (ja) * 2011-06-24 2016-02-03 オリンパス株式会社 超音波照射装置及び超音波照射装置の作動方法
US9452302B2 (en) 2011-07-10 2016-09-27 Guided Therapy Systems, Llc Systems and methods for accelerating healing of implanted material and/or native tissue
KR20140047709A (ko) 2011-07-11 2014-04-22 가이디드 테라피 시스템스, 엘.엘.씨. 조직에 초음파원을 연결하는 시스템 및 방법
US9144694B2 (en) 2011-08-10 2015-09-29 The Regents Of The University Of Michigan Lesion generation through bone using histotripsy therapy without aberration correction
US9049783B2 (en) 2012-04-13 2015-06-02 Histosonics, Inc. Systems and methods for obtaining large creepage isolation on printed circuit boards
US9263663B2 (en) 2012-04-13 2016-02-16 Ardent Sound, Inc. Method of making thick film transducer arrays
EP2844343B1 (en) 2012-04-30 2018-11-21 The Regents Of The University Of Michigan Ultrasound transducer manufacturing using rapid-prototyping method
US9510802B2 (en) 2012-09-21 2016-12-06 Guided Therapy Systems, Llc Reflective ultrasound technology for dermatological treatments
US20140100459A1 (en) 2012-10-05 2014-04-10 The Regents Of The University Of Michigan Bubble-induced color doppler feedback during histotripsy
WO2014124440A2 (en) * 2013-02-11 2014-08-14 Bloch Andrew E Apparatus and method for providing asymmetric oscillations
CN204637350U (zh) 2013-03-08 2015-09-16 奥赛拉公司 美学成像与处理系统、多焦点处理系统和执行美容过程的系统
US20140271453A1 (en) 2013-03-14 2014-09-18 Abbott Laboratories Methods for the early detection of lung cancer
US10561862B2 (en) 2013-03-15 2020-02-18 Guided Therapy Systems, Llc Ultrasound treatment device and methods of use
US9675747B2 (en) 2013-03-15 2017-06-13 William L Puskas Methods and systems for improved cavitation efficiency and density, cancer cell destruction, and/or causing a target object to be a cavitation nucleus
NO2987005T3 (ja) * 2013-06-13 2018-04-28
US11432900B2 (en) 2013-07-03 2022-09-06 Histosonics, Inc. Articulating arm limiter for cavitational ultrasound therapy system
JP6600304B2 (ja) 2013-07-03 2019-10-30 ヒストソニックス,インコーポレーテッド 衝撃散乱を使用した気泡雲形成のために最適化されたヒストトリプシ励起シーケンス
WO2015027164A1 (en) 2013-08-22 2015-02-26 The Regents Of The University Of Michigan Histotripsy using very short ultrasound pulses
GB2515134B (en) * 2014-01-27 2017-05-17 King Fahad Medical City (Kfmc) Therapeutic ultrasound apparatus and method
SG11201608691YA (en) 2014-04-18 2016-11-29 Ulthera Inc Band transducer ultrasound therapy
US10092742B2 (en) 2014-09-22 2018-10-09 Ekos Corporation Catheter system
US9884312B2 (en) 2014-11-14 2018-02-06 Rgf Environmental Group, Inc. Device, system, and method for producing advanced oxidation products
JP6244296B2 (ja) * 2014-12-15 2017-12-06 オリンパス株式会社 付着物の塗布方法
CN104622525B (zh) * 2015-02-28 2017-01-04 西安交通大学 双倍频共焦叠加聚焦超声球面分裂阵及分裂焦点控制方法
EP3307388B1 (en) 2015-06-10 2022-06-22 Ekos Corporation Ultrasound catheter
JP6979882B2 (ja) 2015-06-24 2021-12-15 ザ リージェンツ オブ ザ ユニヴァシティ オブ ミシガン 脳組織の治療のための組織破砕療法システムおよび方法
US10670341B2 (en) * 2015-10-26 2020-06-02 Georgia Tech Research Corporation Ultra-compact, scalable, direct-contact vapor condensers using acoustic actuation
KR101723163B1 (ko) * 2015-12-10 2017-04-04 주식회사 코러스트 다중 주파수 출력이 가능한 초음파 생성 장치
KR102615327B1 (ko) 2016-01-18 2023-12-18 얼테라, 인크 환형 초음파 어레이가 가요성 인쇄 회로 기판에 지엽적으로 전기적으로 연결된 컴팩트한 초음파 디바이스 및 그 조립 방법
CN107561157B (zh) * 2016-06-30 2023-08-04 重庆医科大学 水质检测仪及其方法
KR102593310B1 (ko) 2016-08-16 2023-10-25 얼테라, 인크 이미징 오정렬을 감소시키도록 구성된 초음파 이미징 시스템, 초음파 이미징 모듈 및 이미징 오정렬을 감소시키는 방법
WO2018102786A1 (en) 2016-12-03 2018-06-07 Juno Therapeutics, Inc. Methods for modulation of car-t cells
US10424278B2 (en) * 2017-08-02 2019-09-24 Applied Invention, Llc Bell with subharmonic difference tone
US11944849B2 (en) 2018-02-20 2024-04-02 Ulthera, Inc. Systems and methods for combined cosmetic treatment of cellulite with ultrasound
JP7024549B2 (ja) * 2018-03-28 2022-02-24 セイコーエプソン株式会社 超音波センサー、及び超音波装置
US11813484B2 (en) 2018-11-28 2023-11-14 Histosonics, Inc. Histotripsy systems and methods
EP3751558B1 (en) * 2019-06-12 2022-12-28 Esaote S.p.A. Method for generating ultrasound transmission waves and ultrasound system for carrying out the method
US11877953B2 (en) 2019-12-26 2024-01-23 Johnson & Johnson Surgical Vision, Inc. Phacoemulsification apparatus
EP4096782A4 (en) 2020-01-28 2024-02-14 Univ Michigan Regents SYSTEMS AND METHODS FOR IMMUNOSENSITIZATION BY HISTOTRIPSY

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02126848A (ja) * 1988-07-01 1990-05-15 Hitachi Ltd 治療用超音波装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3117768A (en) * 1960-11-21 1964-01-14 Branson Instr Ultrasonic transducers
GB1389291A (en) * 1971-04-22 1975-04-03 Telecommunications Ind Waste treatment process and apparatus
US3805596A (en) * 1972-02-24 1974-04-23 C Klahr High resolution ultrasonic imaging scanner
US3991933A (en) * 1975-09-08 1976-11-16 Blackstone Corporation Methods and apparatus for soldering
US4168295A (en) * 1975-11-20 1979-09-18 Vernon D. Beehler Apparatus for enhancing chemical reactions
US4375991A (en) * 1978-11-24 1983-03-08 The Johns Hopkins University Ultrasonic cleaning method and apparatus
US4249146A (en) * 1979-02-23 1981-02-03 Trw Inc. Surface acoustic wave resonators utilizing harmonic frequencies
US4556467A (en) * 1981-06-22 1985-12-03 Mineral Separation Corporation Apparatus for ultrasonic processing of materials
US4836684A (en) * 1988-02-18 1989-06-06 Ultrasonic Power Corporation Ultrasonic cleaning apparatus with phase diversifier
JP2832443B2 (ja) * 1988-11-22 1998-12-09 本多電子株式会社 マルチ周波数超音波洗浄方法及び洗浄装置
US5065066A (en) * 1989-07-19 1991-11-12 Murata Mfg. Co., Ltd. Piezoelectric resonator
US5259384A (en) * 1992-07-30 1993-11-09 Kaufman Jonathan J Ultrasonic bone-assessment apparatus and method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02126848A (ja) * 1988-07-01 1990-05-15 Hitachi Ltd 治療用超音波装置

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08140973A (ja) * 1994-11-25 1996-06-04 Toshiba Ceramics Co Ltd 超音波発生装置
JPH09135842A (ja) * 1995-09-29 1997-05-27 Ethicon Endo Surgery Inc 超音波装置
JP2007125554A (ja) * 1996-07-04 2007-05-24 Ashland Licensing & Intellectual Property Llc 液状媒質を処理する装置及び方法
JP2000516522A (ja) * 1996-07-04 2000-12-12 ドゥ モイレナエル エリック コルデマンス 液状媒質を処理する装置及び方法
JP2010158679A (ja) * 1996-07-04 2010-07-22 Ashland Licensing & Intellectual Property Llc 液状媒質を処理する装置及び方法
JPH1127798A (ja) * 1997-07-04 1999-01-29 S C:Kk 超音波振動の発生方法
JP2003533263A (ja) * 1997-10-27 2003-11-11 ロバート ダブリュー クリブス 脂肪分解療法及び装置
JP2004538039A (ja) * 2001-01-30 2004-12-24 アドバンスト メディカル アプリケーションズ インコーポレーテッド 定常波を用いる超音波創傷治療方法及び装置
JP2005524683A (ja) * 2002-04-12 2005-08-18 スロウレイ・テクノロジーズ・エルエルシー 流体を除染するための方法および装置
US7125387B2 (en) 2002-08-28 2006-10-24 Hitachi, Ltd. Ultrasonic apparatus for therapeutical use
JP2004081645A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Hitachi Ltd 超音波治療装置
JP2005034202A (ja) * 2003-07-15 2005-02-10 Terumo Corp エネルギー治療装置
JP2005040300A (ja) * 2003-07-28 2005-02-17 Terumo Corp エネルギー治療装置
JP2005046267A (ja) * 2003-07-31 2005-02-24 Terumo Corp エネルギー治療装置
JP2008500136A (ja) * 2004-05-18 2008-01-10 ナノヴィブロニクス・インコーポレーテッド 薄いピエゾ素子の複数の振動モードを用いた医療用具のためのナノ振動被膜工程
US7824336B2 (en) 2005-05-17 2010-11-02 Hitachi, Ltd. Ultrasonic apparatus for diagnosis and therapy
WO2009122650A1 (ja) * 2008-04-04 2009-10-08 株式会社日立製作所 超音波照射装置
JP2014239918A (ja) * 2008-07-14 2014-12-25 アリゾナ・ボード・オブ・リージェンツ・フォー・アンド・オン・ビハーフ・オブ・アリゾナ・ステイト・ユニバーシティArizona Board Of Regents For And On Behalf Of Arizona State University 超音波を使用して細胞活動を調節するための方法およびデバイス
US11707636B2 (en) 2008-07-14 2023-07-25 Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University Methods and devices for modulating cellular activity using ultrasound
US10556132B2 (en) 2008-07-14 2020-02-11 Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University Methods and devices for modulating cellular activity using ultrasound
US9403038B2 (en) 2008-07-14 2016-08-02 Arizona Board Of Regents For And On Behalf Of Arizona State University Methods and devices for modulating cellular activity using ultrasound
JP2011206094A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Akita Univ 超音波照射装置
US9729252B2 (en) 2011-10-21 2017-08-08 Cerevast Medical, Inc. Method and system for direct communication
US10413757B2 (en) 2012-08-29 2019-09-17 Cerevast Medical, Inc. Systems and devices for coupling ultrasound energy to a body
US9282985B2 (en) 2013-11-11 2016-03-15 Gyrus Acmi, Inc. Aiming beam detection for safe laser lithotripsy
US11224767B2 (en) 2013-11-26 2022-01-18 Sanuwave Health, Inc. Systems and methods for producing and delivering ultrasonic therapies for wound treatment and healing
US11331520B2 (en) 2013-11-26 2022-05-17 Sanuwave Health, Inc. Systems and methods for producing and delivering ultrasonic therapies for wound treatment and healing
US9254075B2 (en) 2014-05-04 2016-02-09 Gyrus Acmi, Inc. Location of fragments during lithotripsy
US9259231B2 (en) 2014-05-11 2016-02-16 Gyrus Acmi, Inc. Computer aided image-based enhanced intracorporeal lithotripsy
JP2018529455A (ja) * 2015-09-30 2018-10-11 エシコン エルエルシーEthicon LLC 超音波外科用器具のための複合電気信号波形をデジタル的に発生させる、発生器
EP3851164A4 (en) * 2018-10-30 2021-11-17 Kyocera Corporation ULTRASONIC EMISSION DEVICE AND ULTRASONIC APPARATUS
CN112912138A (zh) * 2018-10-30 2021-06-04 京瓷株式会社 超声波辐射器具以及超声波装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3429761B2 (ja) 2003-07-22
EP0619104B1 (en) 2002-03-13
DE69331692T2 (de) 2002-10-24
EP0619104A1 (en) 1994-10-12
EP0619104A4 (en) 1996-05-08
DE69331692D1 (de) 2002-04-18
US5523058A (en) 1996-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1994006380A1 (en) Ultrasonic irradiation apparatus and processor using the same
US11832843B2 (en) Ultrasonic surgical instrument, associated surgical method and related manufacturing method
Umemura et al. Recent advances in sonodynamic approach to cancer therapy
US8162858B2 (en) Ultrasonic medical treatment device with variable focal zone
JPH02126848A (ja) 治療用超音波装置
US20090287205A1 (en) Systems and methods for preventing tissue popping caused by bubble expansion during tissue ablation
US20090216128A1 (en) Broadband Ultrasonic Probe
US10857282B2 (en) Systems and methods for imploding leukemia cells
JP2010500091A (ja) 超音波によって生理的に有効な物質を活性化する装置及び方法、並びにカプセル
US20040057866A1 (en) System and method for sterilization of a liquid
Kawabata et al. Effect of second-harmonic superimposition on efficient induction of sonochemical effect
JP6779864B2 (ja) 超音波診断治療装置
JP2005103193A (ja) 超音波送波器及びこれを用いた超音波装置
CN114190976A (zh) 一种双频超声换能器阵列及其工作方法
Wang et al. High inensity focused ultrasound array treansducers using a 2-2 stacked piezoelectric composite appropriate for sonochemistry applications
JP2022073839A (ja) 超音波パルスと遠赤外線を投入する真空パルス関節炎治療装置
KR100408331B1 (ko) 초음파 치료기
JP5175328B2 (ja) 医療用超音波振動子
JP2000254139A (ja) 超音波治療装置
Umemura et al. Enhancement of sonochemical reactions by second harmonic superimposition
JP2019150361A (ja) 超音波治療装置
RU2253488C1 (ru) Способ обработки жидкости
Shiran et al. Some of the factors involved in the Sarvazyan method for recording ultrasound field distributions with special reference to the application of ultrasound in physiotherapy
JP2001334264A (ja) 水処理装置
Kirkhorn et al. An experimental high energy therapeutic ultrasound equipment: Design and characterisation

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1993919658

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 08240733

Country of ref document: US

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1993919658

Country of ref document: EP

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 1993919658

Country of ref document: EP