WO1991012499A1 - Detecteur de longueur d'onde - Google Patents

Detecteur de longueur d'onde Download PDF

Info

Publication number
WO1991012499A1
WO1991012499A1 PCT/JP1991/000185 JP9100185W WO9112499A1 WO 1991012499 A1 WO1991012499 A1 WO 1991012499A1 JP 9100185 W JP9100185 W JP 9100185W WO 9112499 A1 WO9112499 A1 WO 9112499A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
wavelength
detected
mercury
vapor
Prior art date
Application number
PCT/JP1991/000185
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Osamu Wakabayashi
Masahiko Kowaka
Yukio Kobayashi
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho filed Critical Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho
Publication of WO1991012499A1 publication Critical patent/WO1991012499A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J9/00Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
    • G01J9/02Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
    • G01J9/0246Measuring optical wavelength

Definitions

  • the present invention relates to a wavelength detecting device for detecting a wavelength of a laser or the like, particularly when a narrow-band oscillation excimer laser is used as a light source of a reduction projection exposure apparatus for manufacturing semiconductor devices.
  • the present invention relates to a wavelength detection device suitable for use in wavelength detection.
  • a machine laser as a light source for a reduction projection exposure apparatus (hereinafter referred to as a “stepper”) for manufacturing semiconductor devices. This is due to the short wavelength of the excimer laser (KrF laser wavelength is about 248.4 nm), which can be extended to below the limit of 0.5 m for light and light exposure. If the resolution is as high as possible, the depth of focus is deeper than the conventional mercury lamp g-line and i-line, and the number of lens apertures
  • NA is small, so that many excellent advantages can be expected, such as a large exposed area and a large size.
  • output light wavelength of narrow-band oscillation excimer laser Monitor etalon power is used to measure line widths and detect wavelengths.
  • the monitor etalon is constructed by using an air gap port in which partial reflection mirrors are arranged facing each other with a predetermined gap.
  • the transmission wavelength of the top port is expressed as follows.
  • n the refractive index between the partial reflection mirrors
  • 0 the normal of the ethanol and the light of the incident light. It is the angle made with the axis.
  • the reference light for example, argon laser light, oscillation line of iron or mercury lamp
  • the reference light whose wavelength is known in advance is monitored together with the light to be detected.
  • the reference light By inputting the light to the reference light and detecting the relative wavelength of the light to be detected with respect to this reference light.
  • a device for detecting the absolute wavelength of the light to be detected has been proposed.
  • the light transmitted through the monitor etalon is directly detected by a photodetector such as a CCD image sensor. Incident on the detection surface of the photodetector to form an interference fringe on the detection surface of the photodetector, and the absolute wavelength is detected based on the detection position of the interference fringe.
  • the absolute wavelength cannot be detected with high accuracy. That is, if the light source is different, for example, the wavelength of the reference light input to the monitor port is larger than the wavelength of the excimer laser light that is the light to be detected. It is difficult to detect the absolute wavelength with high accuracy because it can be very different. Further, even when the wavelength of the reference light and the wavelength of the excimer laser light are close to each other, the light intensity of the reference light is small and the wavelength line width is wide, so that high accuracy is obtained. However, it is difficult to detect the absolute wavelength.
  • a low-pressure mercury lamp with a wavelength close to the wavelength of 253.7 nm for KrF excimer laser light with a wavelength of 248.4 nm, but also having a high light intensity. (Natural mercury vapor is sealed in this.) It is conceivable to use the 253.7 nm oscillation line as the reference light, but this is not the case. The wavelength line width is wide, and the detection accuracy of interference fringes is degraded, so that it is impossible to accurately detect the absolute wavelength.
  • the present invention has been made in view of the power and circumstances of the present invention, and uses the emission line from the vapor of a specific element containing a plurality of isotopes such as mercury as the reference light. Another object of the present invention is to provide a wavelength detector capable of detecting interference fringes of a reference light with high accuracy and thereby detecting an absolute wavelength with high accuracy. . Disclosure of the invention
  • the present invention provides a wavelength detection device that detects the wavelength of light to be detected by using an oscillation line from a vapor of a specific element containing a plurality of isotopes as reference light.
  • the vapor is raised to a predetermined temperature or higher, and the oscillation line of a specific isotope separated as a result is used as the reference light.
  • the wavelength of 253.7 nm oscillation line has a specific mass number (one of mass number 1966, 1980, 199, 200, 200, 201, 202, 204)
  • An oscillation line corresponding to the first mercury isotope and an oscillation line corresponding to the second mercury isotope having a specific mass number (different mass number from the first mercury isotope) can be separated. And became clear as a result of the experiment.
  • Each of these separated oscillation lines has a very narrow wavelength line width compared to the 253.7 nm wavelength oscillation line. Therefore, interference fringes of these separated oscillation lines are detected with high accuracy. Therefore, the absolute wavelength Can be detected with high accuracy.
  • a specific isotope of the element is used. Rest is selected, and light from vapor of the isotope is used as the reference light.
  • any one of the first mercury isotope or the second mercury isotope is used.
  • each of these oscillation lines has a very narrow wavelength line width. Therefore, interference fringes are detected with high accuracy. Therefore, it is possible to detect the absolute wavelength with high accuracy.
  • FIG. 1 is a diagram showing an embodiment in which the wavelength detecting device of the present invention is applied to wavelength detection of output laser light of a narrow-band excimer laser.
  • FIGS. 2 to 4 are diagrams conceptually showing the configuration of the mercury lamp shown in FIG. 1,
  • FIG. 5 (a) is a diagram showing interference fringes formed on the photodetector shown in FIG. 1 by the reference light generated from the mercury lamp in the prior art.
  • FIG. 1B shows the relationship between the position on the photodetector and the light intensity
  • FIG. 1B shows the relationship between the reference light generated from the mercury lamp in the embodiment and FIG. This figure shows the interference fringes formed on the photodetector.
  • Fig. 6 (a), (b) and (c) are flow charts showing one example of the procedure for detecting the interference fringes of the reference light, respectively.
  • FIG. 1 shows an embodiment of the wavelength detecting device according to the present invention.
  • the output light La of the narrow-band oscillation excimer laser 1 is used as the light to be detected.
  • the narrow-band oscillation excimer laser is used. It is assumed that the rF excimer laser is used as one user.
  • a low-pressure mercury lamp 22 As a reference light source, a low-pressure mercury lamp 22 (see FIGS. 2 to 4), which is a surface light source, is used, and the light generated by the low-pressure mercury lamp 22 is The low-pressure mercury lamp 22 is injected from an outlet of a mercury lamp section 20 described later, which is formed around the low-pressure mercury lamp 22. Since the emitted light passes through the interference FT, only the light with a wavelength of 237 nm is transmitted by the FT.
  • the low-pressure mercury lamp 22 will contain the first and second mercury isotopes in advance. Implementations that include only isotopes are also possible.
  • the reason why the low-pressure mercury lamp is used is that the intensity of the line having a wavelength of 253.7 nm is large. Is not limited to low pressure mercury lamps o
  • a part of the sampling light La scattered by the glass 5 passes through the beam splitter 4 and irradiates the pin 6. Further, a part of the reference light Lb output from the mercury lamp section 20 and transmitted through the filter FT is also reflected by the beam splitter 4. To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon 6 To etalon
  • the aperture 6 is composed of two transparent plates 6a and 6b, the inner surface of which is a partial reflection mirror, and adjusts the angle of incident light to the aperture 6.
  • the transmission wavelengths are correspondingly different.
  • the etalon 6 has a two-wavelength reflective film so as to allow the reference light Lb and the excimer laser light La having wavelengths to pass in both directions. If the reflective film is made of an electrical film, the reflection at the wavelength of the reference light of 253.7 nm and the wavelength of the excimer laser light at the wavelength of 248 nm are considered. Since the rate does not change very much, it is not necessary to use two wavelengths n-o.
  • This focusing lens 7 is, for example, an achromatic lens that has been subjected to chromatic aberration correction.
  • the chromatic aberration is corrected by passing through the achromatic condensing lens 7.
  • the photodetector 8 is disposed on the focal point of the focusing lens 7, so that light passing through the focusing lens 7 is focused on the optical position detector 8.
  • a first interference fringe 8a corresponding to the wavelength of the reference light and a second interference fringe 8b corresponding to the wavelength of the light to be detected are formed on the detection surface of the detector 8.
  • the photodetector 8 detects the first and second interference fringes 8a and 8b, and detects the relative wavelength of the wavelength of the light to be detected with respect to the wavelength of the reference light based on the detection.
  • a one-dimensional or two-dimensional image sensor, a diode array, a PSD (P0S1T10N SENSITIVE DETECTOR), or the like is used as the photodetector 8.
  • the detection result is output to the CPU 1 °, and the CPU 10 Is a band-narrowing element (for example, two etalons) disposed in a laser tube resonator (not shown) via a band-narrowing element driver] 1
  • the oscillation wavelength of the excimer laser light is controlled so as to be fixed at the set wavelength (target value), and the wavelength is stabilized.
  • the temperature of the mercury lamp 22, that is, the temperature of the mercury vapor sealed therein is set to a predetermined temperature (40 ° as the ambient temperature of the outer periphery of the mercury lamp 22).
  • the first interference fringe corresponding to the above-mentioned 253.7 nm oscillation line becomes the interference fringe corresponding to the above-mentioned first mercury isotope oscillation line and the above-mentioned interference fringe.
  • FIG. 5 shows the relationship between the position on the photodetector 8 and the light intensity.
  • the temperature of the mercury vapor is equal to the predetermined temperature.
  • the peak 30 of the light intensity distribution of the interference fringe 8a is wide and the vertex B draws a curve. For this reason, if the peak position of the vertex B is to be detected by the photodetector 8, It is difficult to accurately detect the leak position, and the detection accuracy is not good.
  • the interference fringes 8a have a wavelength of 25.36.
  • the peaks 32 and 33 of the separated interference fringes are much narrower than the peak 31 of the interference fringe 8a of the 253.7 nm oscillation line, and the peaks C and D draws a very steep curve. Therefore, if the peak position C or D at the peak position is detected by the photodetector 8, the peak position can be accurately detected, and the position detection accuracy is greatly improved. . Since the peak positions of the respective detection peaks are previously determined as the wavelength powers ⁇ 25.3.65063 nm and 253.66.52777 nm, these detection peak positions are determined in advance.
  • the absolute wavelength of the excimer laser light can be detected with high accuracy. It should be noted that, based on the detection position of the interference fringe corresponding to either the oscillation line of the wavelength 253.66.63 nm or the oscillation line of the wavelength 253.66.5277 nm. It is also possible to implement the detection of the absolute wavelength, and to detect the absolute wavelength based on the detection positions of two interference fringes corresponding to both oscillation lines. It is obvious from measurement engineering that the field base that detects two absolute wavelengths has higher detection accuracy than the case where the absolute wavelength is detected based on either one of the interference fringes. It is.
  • Fig. 2 and Fig. 4 show the temperature of mercury vapor as described above. Degree you'll o 7 also of the Ru Oh conceptually showing the structure of the mercury run-up part 2 0 of the order to you separate the interference fringes to raise the, and have you in this is found drawings common to each other Parts that perform the following functions are given the same reference numerals for convenience of explanation.
  • the mercury lamp section 20 shown in FIG. 2 hot air is blown directly to the lamp 22 in order to raise the ambient temperature of the mercury lamp 22 to a predetermined temperature or higher. I am doing it. That is, is mercury lamp 22 a code? 2 a is connected to the power source via a, and the light emitted from the lamp 22 is emitted to the outside around the mercury lamp 22.
  • a housing 21 covering the lamp 22 with the exception of 1 a is provided. Injection ⁇ of each wall of housing 21 1
  • Fans 23 for blowing hot air are provided on the wall opposite to the wall where a is formed.
  • a heater 24 is provided behind the fan 23. When the fan 24 is activated and the fan 23 is rotated, the heat generated in the fan 24 is dissipated. As shown by the arrow in Fig. 3, the air is blown to the lamp 22 as warm air.
  • the housing 25 surrounding the lamp 22 (except for the emission of light ⁇ 2a from the lamp 22) (material (For example, aluminum is used.) .
  • the figure (b) shows the direction of arrow A in the figure (a).
  • a housing 2 having an outlet 26a and a blower fan 23 as in FIG. 6 covers the mercury lamp 22, detects the ambient temperature of the mercury lamp 22, and outputs the temperature sensor 27. Is a feed-back signal, and the current supplied to the hysteresis circuit 29 is controlled so that the above-mentioned ambient temperature becomes the set temperature (for example, 40 ° C.).
  • a controller 28 is provided. Accordingly, when the control of the ⁇ -la 28 is started,
  • the controller 28 controls the ift supply of the heater circuit 2 so that the deviation between the set temperature and the output of the temperature sensor 27 becomes zero, and the mercury lamp 2 Set the ambient temperature of 2 to the above set temperature.
  • the temperature sensor can be installed directly or indirectly at the location of the temperature sensor, it can be located anywhere, for example, mercury. It is also possible to carry out such measures as to be arranged on the surface of the lamp 22 or inside the mercury lamp 22 ⁇
  • the mercury humming section 20 has the configuration shown in Fig. 2, first, as shown in Fig. 6 (a), The low-pressure mercury lamp 22 is turned on and the mercury lamp is turned on.
  • Step 1 ⁇ the power of the heat sink 24 (the value of the simultaneous light intensity is 1000, the standard suspension 4 is 2 fans) is turned on, and the hot air power is turned on. It is blown to lamp 2 (Ship "! 02").
  • steps 1-3 it is determined whether the interference fringes 8a of the reference light Lb are separated (see FIG. 5 (b)) or not (see FIG. 5 (a)). .
  • the determination as to whether or not this interference fringe 8a has been separated is made, for example, in FIG.
  • the light intensity value of the valley 3 4 is detected by the photodetector 8, respectively, and the difference between the detected value of the peak 32 and the detected value of the valley 3 4; It is determined whether or not the above has occurred, or whether or not the difference between the detected value of ill 3 3 and the detected value of valley 3 has exceeded a predetermined threshold value.
  • Step 104 which is shifted to I ⁇ 4, each position of the upper separation interference fringe formed on the photodetector 8 is detected, and the detection is performed.
  • Output position ⁇ A signal that indicates that the oscillation of the excimer laser has been completed is output.
  • the absolute wavelength of the light to be detected is detected by comparing with the position of the separated interference fringes obtained and stored in step 4 (step 4003).
  • the separation of the interference fringes of the reference light is detected based on the output of the photodetector 8, and then detected.
  • the excimer laser light is oscillated, but it is necessary to detect whether the ambient temperature of the mercury lamp 22 has reached a predetermined temperature or higher.
  • step 23 The start-up process of step 23 is executed in steps 201 and 2-2, and the atmosphere of the mercury lamp 22 reaches a predetermined temperature (for example, about 40 ° C). Is determined (Step 2n3). If the judgment result is YES, it is assumed that the reference light interference fringes are separated, and a signal indicating oscillation preparation 0 ° is output as in Step 1 il 4 ( Step 2 [) 4), and thereafter, the processing of oscillation and wavelength control of the excimer laser light in steps 401 to 405 is executed.
  • the required temperature sensor should be installed in a fixed cylinder inside the housing 2] and the ambient temperature of the mercury lamp 22 should be detected. You can do it.
  • the steps "1, 1, 2, and similar mercury lamps 22, the starting power of the heater 23, 51", as shown in (c); 1 is executed, and at the same time as the above-mentioned start-up, a timer power (not shown) is started, and the timer value ⁇ of the timer is changed to a predetermined set time ⁇ ( If it is greater than ⁇ , check if it is greater than or equal to ⁇ (Step 302) If ⁇ > ((YES in Step 302), Assuming that the light interference fringes are separated, a signal indicating oscillation preparation 0 ° is output as in step 1 ⁇ 4 (step 303). Oscillation of excimer laser light in steps 4 1 to 4 ⁇ The wavelength control process is executed.
  • the reference light (the 253.66.63 nm oscillation line or 253.6 of the mercury lamp 22) is used.
  • the wavelength of the 5 27 7 nm oscillation line) and the light to be detected (KrF narrow-band excimer laser wavelength 2 48. 4 nm) are close to each other, and the interference fringes of both are detected simultaneously. Since it becomes difficult to detect the interference fringes of the reference light (separated -T-interference fringes), the excimer laser light is oscillated and the Although the interference fringes are detected, it is possible to detect the interference fringes at the same time, instead of detecting the two separately.
  • the temperature of the mercury lamp 22 is increased, and the interference fringe 8a is changed to the one corresponding to the interference fringe corresponding to the first mercury isotope and the second mercury isotope corresponding to the second mercury isotope.
  • the interference fringe 8a is changed to the one corresponding to the interference fringe corresponding to the first mercury isotope and the second mercury isotope corresponding to the second mercury isotope.
  • peaks 32 or 33 shown in Fig. 5 (b) which has a narrow wavelength line width. Therefore, as the mercury vapor of the mercury lamp 22, only one of the “!” Mercury inj or the second mercury isotope should be sealed. Implementation is also possible.
  • the silver isotope and the second type of mercury isotope are identified by the following mass numbers: 196.1.198.1.19s2 0 0, 2 ⁇ 1, 2 22, 2 ⁇ ) 4
  • the wavelength line width of the oscillating line should be examined, and the top two narrower wavelength line widths should be selected and selected.
  • the structure for raising the temperature of the mercury lamp 22 (Figs. 2 to 4) is not necessary, and it is shown in Fig. 5 (b).
  • a mountain corresponding to mountain 32 or mountain 33 is formed.
  • Absolute waves 3 ⁇ 4 can be detected with high accuracy.
  • the position of the interference fringe is detected, but the diameter or the diameter of the interference fringe is detected to obtain the absolute wavelength of the light to be detected. You can do it.
  • an achromatic lens having been subjected to color difference correction was used as the converging lens 7 so that the imaging positions of the reference light and the detection light coincided with each other.
  • the focusing lens 7 or the light detector 8 is configured to be movable in the direction of the optical axis, thereby absorbing the difference in the imaging position. You can do it.
  • the wavelengths of the reference light and the light to be detected are close to each other, it is also possible to use a lens without chromatic aberration compensation as the focusing lens 7. As a result, a detection accuracy higher than a predetermined level is secured.
  • KrF excimer laser is used as the detected light.
  • the laser light is assumed, it is of course possible to use the ArF excimer laser light as the detected light.
  • This field has a focusing lens 7 with a wavelength of 93 nm (ArF excimer laser light) and a wavelength of 253.6.6503 nm C or
  • mercury is assumed as an element from which a specific isotope oscillation line having a narrow wavelength line width can be obtained, but the invention is limited to mercury. It is only necessary that the elements have the same properties.
  • a plurality of mercury An oscillation line with a narrow wavelength line width was obtained on a stage base using the oscillation line from the vapor of a specific element containing the isotope of Example 1 as the reference light, and this was used as the reference light. Since it is used, interference fringes of the reference light can be detected with high accuracy, and thus the absolute wavelength can be detected with high accuracy.
  • the wavelength of the excimer laser light can be detected with high accuracy by mounting the wavelength detecting device of the present invention on the narrow-band oscillation excimer laser.
  • the oscillation wavelength can be stabilized with high precision.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)

Description

明 細 書
波長検出装置 技 術 分 野
こ の発明 は レ ー ザ等の波長を検出す る 波長検出装置 に関 し 、 特に半導体装置製造用 の縮小投影露光装置の 光源 と し て狭帯域発振エキ シ マ レ ー ザを用 い る 場合の 波長検出 に採用 し て好適な波長検出装置 に関す る 。 技 術
半導体装置製造用 の縮小投影露光装置 (以下 ス テ ツ パ と い う ) の光源 と し て工キ シ マ レ ー ザの利用が注 目 さ れて い る 。 こ れはェキ シ マ レ ー ザ の波長が短い ( K r F レ — ザの波長は約 2 4 8 . 4 n m ) こ と 力、 り 光露 光の 限界 0 . 5 m 以下 に延ばせ る 可能性力 あ る こ と 同 じ解像度な ら 従来用 い て い た水銀ラ ン プの g 線や i 線に比較 し て焦点深度が深い こ と 、 レ ン ズの開 口数
( N A ) が小 さ く てすみ 露光領域を大 き く で き る こ と 、 大 き な パ ヮ 一 が得 ら れ る こ と 等の多 く の 優れた利 点が期待で き る か ら で め る 0
と こ ろ で 、 エキ シ マ レ ー ザ ¾r ス テ ツ パの光源 と し て 用 い る ¾7 に は、 ェキ シ マ レ 一 ザの 出力 レ ー ザ光を狭 帯域化す る 必要があ り 、 こ の狭帯域化 さ れた 出カ レ 一 ザ光の波長を r¾ ¾良 に安定化制御す る 必要力 あ る 。
従来、 狭帯域発振ェキ シ マ レ ー ザ等の 出力光の波長 線幅を計測 し た り 、 波長を検出 し た り す る た め に モニ タ エ タ ロ ン 力《用 い ら れて い る 。 モ ニ タ エ タ ロ ン は部分 反射 ミ ラ ー を所定の空隙を あ けて対向配設 し た エア ギ ャ プエ タ 口 ン を用 い て構成 さ れ る も の で こ の エ ア ギ ヤ ッ プエ タ 口 ン の透過波長は次の よ う に表わ さ れ る 。
m λ = 2 n d · c o s Θ
た だ し 、 m は整数、 d はエ タ ロ ン の部分反射 ミ ラ ー 間の距離、 n は部分反射 ミ ラ ー 間の屈折率、 0 はエ タ 口 ン の法線 と 入射光の光軸 と の なす角度で あ る 。
こ の式に よ り 、 n , d , mが一定 と すれば、 波長が 変化す る と 0 が変化す る こ と が解 る 。 モ ニ タ エ タ ロ ン では こ の性質を利用 し て被検出光の波長を検出 し てい る 。 と こ ろ で、 上述 し た モニ タ エ タ ロ ン に お い て、 ェ ァ ギ ヤ ッ プ内の圧力お よ び周 囲温度が変化 し て し ま う と 波長が一定で も 上述 し た角 0 が変化 し て し ま う 。 そ こ でモニ タ エ タ ロ ン を用 い る 場合、 エ ア ギ ャ ッ プ内 の 圧力お よ び周囲温度を一定に制御 し て波長検出を行な つ て い た。
し か し 、 エア ギャ ッ プ内の圧力 お よ び周 囲温度を高 精度に制御す る こ と は困難であ り 、 こ の た め充分な高 精度で絶対波長を検出す る こ と はで き な か っ た。
そ こ で、 被検出光 と と も に予め波長がわか っ てい る 基準光 (た と え ばア ル ゴ ン レ ー ザ光、 鉄ま た は水銀 ラ ン プの発振線) をモニ タ エ タ ロ ン に入力 し 、 こ の基準 光に対す る 被検出光の相対波長を検出す る こ と に よ り 被検出光の絶対波長を検出す る 装置が提案 さ れてい る かか る 装置に お い て は、 モニ タ エ タ ロ ン の透過光を 直接 C C D ィ メ ジ セ ン サ等の光検出器の検出面上に 入射 し て、 該光検出器の検出面上に干渉縞を形成 し 、 干渉縞の検出位置 に基づ き 上記絶対波長を検出す る よ う に し て い る 。
な お、 モニ タ エ タ ロ ン の替 り に 回折格子を用 い た分 光器を用 い る技術 も あ る 。
し か し 、 基準光源 と 被検出光の光源 と が異な る よ う な場合 に は高精度に絶対波長を検出す る こ と がで き な か っ た。 すな わ ち 、 光源が異な る と 、 た と え ばモ ニ タ エ タ 口 ン に 入力す る 基準光の波長が被検出光で あ る ェ キ シ マ レ ー ザ光の波長 と 大 き く 異な っ て し ま う こ と が あ り 、 高精度に絶対波長を検出す る こ と がで き な い。 ま た 、 基準光 と エキ シ マ レ ー ザ光の波長が近い場合で あ っ て も 、 基準光の光強度が小 さ か っ た り 、 波長線幅 が広が っ た り し て高精度に絶対波長を検出す る こ と は 困難 と な る 。
そ こ で、 波長 2 4 8 . 4 n m の K r F エ キ シ マ レ 一 ザ光に 2 5 3 . 7 n m と 波長力 近 く 、 し か も 光強度が 大 き い低圧水銀ラ ン プ ( こ の 中 に天然の水銀蒸気が封 入 さ れて い る ) の 2 5 3 . 7 n m発振線を基準光 と し て使用す る こ と が考え ら れ る が、 こ れ と て も波長線幅 が広 く 、 干渉縞の検出精度が劣化 し て高精度に絶対波 長を検出す る こ と 力 で き な い こ と と な つ て い た 。 こ の発明 は、 か力、 る 実情 に鑑み な さ れた も の で あ り 水銀等複数の 同位体を含む特定の元素の蒸気か ら の発 振線を基準光 と し て使用 し た場合に、 基準光の干渉縞 を高精度に検出 し、 以て絶対波長を高精度に検出す る こ と がで き る 波長検出装置を提供す る こ と を 目 的 と す る も のであ る 。 発 明 の 開 示
上記 目 的を達成す る た め、 こ の発明では、 複数の 同 位体を含む特定の元素の蒸気か ら の発振線を基準光 と し て被検出光の波長を検出す る波長検出装置 に お い て 前記蒸気を所定の温度以上に上昇 さ せ、 こ の結果分離 し た特定の 同位体の発振線を前記基準光 と し てい る 。
すな わ ち 、 た と え ば水銀を上記特定の元素 と し た場 合、 水銀蒸気を所定の温度 (水銀ラ ン プの雰囲気温度 と し て 4 0 程度) 以上ま で上昇 さ せ る と 、 波長 2 5 3 . 7 n m 発振線が特定 の 質量数 (質量数 1 9 6 、 1 9 8、 1 9 9、 2 0 0、 2 0 1 、 2 0 2、 2 0 4 の いずれか) の第 1 の水銀同位体に対応す る 発振線 と 特 定の質量数 (第 1 の水銀同位体 と 異な る 質量数) の第 2 の水銀同位体に対応す る 発振線 と に分離す る こ と が 実験の結果明 ら か に な っ た。 こ れ ら 分離 し た発振線は そ れぞれ波長 2 5 3 . 7 n m発振線に比較 し て波長線 幅が非常に狭い。 こ の た め、 こ れ ら 分離 し た発振線の 干渉縞が高精度に検出 さ れる 。 し たが っ て、 絶対波長 を高精度に検出す る こ と がで き る。
ま た、 こ の発明で は、 特定の元素の蒸気か ら の発振 線を基準光 と し て被検出光の波長を検出す る 波長検出 装置 に お い て、 前記元素の う ち 特定の 同位休を選択 し 該同位体の蒸気か ら の光を前記基準光 と し て い る 。
すな わ ち 、 かか る 構成によ れば、 た と え ば水銀を上 記特定の元素 と し た場合、 上記第 1 の水銀同位体ま た は上記第 2 の水銀同位体の いずれかの蒸気か ら の発振 線を基準光 と す る と 、 こ れ ら 各発振線は波長線幅が非 常に狭い。 こ の た め 、 干渉縞が高精度 に検出 さ れ る 。 し た が っ て、 絶対波長を高精度に検出す る こ と がで き
O o 図 面 の 簡 単 な 説 明
第 1 図は、 こ の発明の波長検出装置を狭帯域エ キ シ マ レ ー ザの 出力 レ ー ザ光の波長検出 に適用 し た一実施 例を示す図、
第 2 図か ら第 4 図は、 第 1 図 に示す水銀 ラ ン プ部の 構成を概念的 に示す図、
第 5 図 ( a ) は、 従来技術に お い て水銀ラ ン プか ら 発生 さ れ る 基準光に よ つ て第 1 図 に示す光検出器上に 形成 さ れ る 干渉縞を示す図で、 光検出器上の位置 と 光 強度の関係を示す図、 同図 ( b ) は、 実施例 に おい て 水銀 ラ ン プか ら 発生 さ れ る 基準光 に よ つ て第 1 図に示 す光検出器上に形成 さ れ る 千渉縞を示す図で、 光検出 器上の位置 と 光強度の関係を示す図、
第 6 図 ( a ) , ( b ) お よ び ( c ) は、 そ れぞれ基 準光の干渉縞の検出処理手順の一例を示す フ ロ ー チ ヤ 一 卜 で、 同図 ( d ) は、 被検出光であ る エキ シ マ レ ー ザ光の干渉縞の検出処理お よ びエキ シ マ レ ー ザ光の発 振 · 波長制御処理の手順の一例を示すフ ロ ー チ ヤ 一 ト であ る 。 発明を実施す る た めの最良の形態
以下、 こ の発明の実施例を添付図面を参照 し て詳細 に説明す る 。
第 1 図 は こ の発明 に係 る 波長検出装置の一実施例を 示 し た も の で あ る 。 こ の実施例で は被検出光 と し て狭 帯域発振エ キ シ マ レ 一 ザ 1 の 出力光 L a が用 い ら れ る な お、 実施例で は、 狭帯域発振ェキ シ マ レ 一 ザ 1 と し て r F エキ シマ レ ー ザを想定 し てい る 。
基準光源 と し ては、 面光源であ る 低圧水銀ラ ン プ 2 2 (第 2 図か ら第 4 図参照) が用 い ら れ、 低圧水銀 ラ ン プ 2 2 で発生す る 光が、 こ の低圧水銀ラ ン プ 2 2 を 中心に構成 さ れ る 後述す る 水銀 ラ ン プ部 2 0 の射出 口 か ら射出 さ れ る 。 こ の.射出光が干渉 フ ィ ノレ 夕 F T を通 過す る こ と に よ り 、 該フ ィ ル 夕 F T に よ り 波長 2 5 3 7 n m の光の みが透過 さ れる o こ の波長 2 5 3 . 7 n m の光は低圧水銀ラ ン プ 2 2 に 封入 さ れた天然水銀蒸 気 ( こ れ は水銀 の 各 同 位体.、 . つ ま り 質量数 1 9 6 、 ] 9 8、 1 9 9 、 2 0 0 、 2 0 1 、 2 0 2 、 2 (〕 4 の 同位体 を 含 む) の う ち 、 特定 の 質量数 の 第 :! の 水銀同 位体 と こ の第 1 の 水銀同位体の 質量数 と は異 な る 質量 数 の 第 2 の 水銀 同位体 に 対応す る 光で あ る 。 な お、 こ れ ら 第 1 お よ び第 2 の 水銀 同位体 の 質量数 の 特定 は実 験 の 段階で ま だ明 ら か に さ れて い な い 。 そ こ で 、 第 1 お よ び第 2 の水銀 同位体の 特定が実験の結果 な さ れれ ば、 低圧水銀 ラ ン プ 2 2 に は 、 予 め こ れ ら 第 1 お よ び 第 2 の 水銀同位体 の み を封 入 し て お く よ う な 実施 も ま た 可能で あ る 。 ま た 、 水銀 ラ ン プ と し て 低圧 の も の を 使用 す る の は 、 波長 2 5 3 . 7 n m 線の 強度が大 き い と い う 理 由 に よ る が、 本発明 と し て は水銀 ラ ン プ と し て低圧 の も の に 限定 さ れ る こ と は な い o
さ て、 狭帯域発振エ キ シ マ レ 一 ザ 1 力、 ら 出 力 さ れ た レ ー ザ光 L a の一部 は ビ ー ム ス プ リ ッ タ 3 に よ っ て サ ン プ リ ン グ さ れ、 こ の サ ン プ リ ン グ光 は ス リ ガ ラ ス 5 に 照射、 散乱 さ れて 、 ビ 一 ム ス プ リ ッ 夕 4 に 照射 さ れ る 。 ま た 、 水銀 ラ ン プ部 2 0 の射 出 ロ カ、 ら 出 力 さ れ た 2 5 3 . 7 n m 線 は基準光 L b と し て ビ ー ム ス プ リ ッ 夕 4 の 他の 面 に照射 さ れ る 。
ス リ ガ ラ ス 5 に よ り 散乱 さ れ た サ ン プ リ ン グ光 L a の 一部 は ビ ー ム ス プ リ ッ タ 4 を 透過 し て ェ 夕 π ン 6 に 照射 さ れ る 。 ま た 、 水銀 ラ ン プ部 2 0 の 射 出 ロ カ、 ら 出 力 さ れ、 フ ィ ル タ F T を透過 し た 基準光 L b の 一部 も ビー ム ス プ リ ッ 夕 4 で反射 し て エ タ ロ ン 6 に 照射 さ れ る
に エ タ 口 ン 6 は 内側の面が部分反射 ミ ラ 一 と さ れた 2 枚の透明板 6 a , 6 b 力、 ら構成 さ れ、 ェ タ ロ ン 6 に対す る 入射光の角度に対応 し てそ れぞれ透過波長 が な る も の であ る 。 すな わ ち 、 エ タ ロ ン 6 は、 波長 の な る 基準光 L b お よ びェキ シ マ レ一ザ光 L a を双 方 過 さ せ る た め に反射膜を 2 波長 コ — ト と し て い る な お 電体膜に よ る 反射膜であ れば、 基準光 し の 波長 2 5 3 . 7 n m と エキ シマ レ 一 ザ光の波長 2 4 8 9 n m に対す る 反射率 は ほ と ん ど変わ ら な い た め、 必ず し も 2 波長 n ― ト を し な く て も よ い o
の ェ 夕 π ン 6 を透過 し た光は 允 レ ン ズ 7 に 入射 さ れ る o こ の集光 レ ン ズ 7 は た と え ば、 色収差補正が 施 さ れた色消 し レ ン ズであ り 、 かか る 色消 し 集光 レ ン ズ 7 を経 る こ と に よ り 色収差が補正 さ れ る 。
光検出器 8 は集光 レ ン ズ 7 の焦点上に配設 さ れてお り こ れに よ り 集光 レ ン ズ 7 を経た光は、 光位置検出 器 8 に結像 さ れ の光検出器 8 の検出面上に基準光 の波長に対応 し た第 1 干渉縞 8 a お よ び被検出光の波 長に対応 し た第 2 の干渉縞 8 b を形成す る 。 光検出器 8 で は こ の第 1 お よ び第 2 の干渉縞 8 a 8 b を検出 し こ の検出 に も と づ き 基準光の波長 に対す る 被検出 光の波長の相対波長を検出 し 、 既知の基準光の波長 と 検出 し た相対波長に も と づ き 被検出光の絶対波長を検 出す る o な お、 光検出器 8 と し て一次元ま た は二次元の ィ メ ー ジ セ ン サ、 ダ イ ォ 一 ドア レ イ ま た は P S D ( P0S 1 T 10 N SENSITIVE DETECTOR) 等を用 い て構成す る こ と 力;'で さ る 。
こ う し て被検出光であ る エキ シ マ レ ー ザ光の絶対波 長が光検出器 8 で検出 さ れた な ら ば、 検出結果は C P U 1 ◦ に 出力 さ れ、 該 C P U 1 0 は狭帯域化素子 ド ラ ィ バ 】 1 を介 し て図示 し な い レ ー ザ管の共振器内 に配 設 さ れた狭帯域化素子 ( た と え ば 2 つ の エ タ ロ ン ) の 角度等を変化 さ せ る こ と に よ っ てエキ シ マ レ ー ザ光の 発振波長を設定波長 ( 目 標値) に 固定す る よ う に制御 し 、 波長安定化を行 う 。
と こ ろ で、 水銀 ラ ン プ 2 2 、 つ ま り は そ の 中 に封入 さ れた水銀蒸気の温度を所定の温度 (水銀 ラ ン プ 2 2 の外周 の雰囲気温度 と し て 4 0 °C程度) 以上に上昇 さ せ る と 、 上記 2 5 3 . 7 n m 発振線に対応す る 第 1 の 干渉縞が上記第 1 の水銀同位体の発振線に 対応す る 干 渉縞 と 上記第 2 の水銀同位体の発振線に対応す る 干渉 縞 と に分離す る こ と が実験の結果明 ら か に な っ た。
すな わ ち 、 第 5 図 は、 光検出器 8 上の位置 と 光強度 と の関係を示す も の で あ り 、 同図 ( a ) に示すよ う に 水銀蒸気の温度が上記所定の温度よ り も 小 さ い場 台 に は、 干渉縞 8 a の光強度分布の 山 3 0 は幅が広 く 頂点 部 B は な だ ら か な カ ー ブを描 く 。 こ の た め 、 頂点部 B の ピー ク 位置を光検出器 8 で検出 しょ う と す る と 、 ビ ー ク 位置を正確に捕え難 く 、 検出精度が良 く な い。 が 水銀蒸気の温度を上記所定の温度以上ま で上昇 さ せ る と 、 同図 ( b ) に示す よ う に干渉縞 8 a は、 第 ] の水 銀同位体の波長 2 5 3 . 6 5 0 6 3 n m の発振線に対 応す る 干渉縞 と 第 2 の水銀同位体の波長 2 5 3 . 6 5 2 7 7 n m の発振線に対応す る 干渉縞 と に分離 さ れ、 こ れ ら 分離 し た各干渉縞の 山 3 2 , 3 3 は、 2 5 3 . 7 n m発振線の干渉縞 8 a の 山 3 1 よ り も 幅が非常 に 狭 く 、 かつ そ の頂点部 C , D は き わ めて急峻な カ ー ブ を描 く 。 こ の た め、 頂点部 C ま た は D の ビ— ク 位置を 光検出器 8 で検出すれば、 ピー ク 位置を正確に捕え る こ と がで き 、 位置検出精度が大幅に 向上す る 。 そ し て 各検出 ピー ク 位置は、 そ の波長力《 2 5 3 . 6 5 0 6 3 n m , 2 5 3 . 6 5 2 7 7 n m と 予めわか つ て い る の で、 こ れ ら検出結果に基づ き エキ シ マ レ 一 ザ光の絶対 波長を高精度に検出す る こ と がで き る 。 な お、 波長 2 5 3 . 6 5 0 6 3 n m の発振線ま た は波長 2 5 3 . 6 5 2 7 7 n m の発振線の いずれか一方に対応す る 干渉 縞の検出位置 に基づ き 絶対波長を検出す る 実施 も 可能 であ り 、 ま た両方の発振線に対応す る 2 つ の干渉縞の 検出位置 に基づ き 絶対波長を検出す る 実施 も 可能で あ る 。 2 つ の絶対波長を検出す る 場台は 、 い ずれか 1 つ の干渉縞を基準に絶対波長を検出す る 場合 よ り も 検出 精度が よ り 向上す る の は測定工学上明 ら かであ る 。
第 2 図力、 ら 第 4 図 は、 上述す る よ う に水銀蒸気の温 度を上昇 さ せて干渉縞を分離す る た め の水銀 ラ ン プ部 2 0 の構成を概念的 に示す も の で あ る o 7よ お 、 こ れ ら 図面 に お い て互い に共通す る 機能を果た す部分 に つ い て は説明の便宜上同一の 符号を付す る
第 2 図 に示す水銀 ラ ン プ部 2 0 で は 、 水銀 ラ ン ブ 2 2 の雰囲気温度を所定の温度以上にす る た め に ラ ン プ 2 2 に 直接温風を吹 き 付 け る よ う に し て い る 。 すな わ ち 、 水銀 ラ ン プ 2 2 は 、 コ ー ド ? 2 a を 介 し て そ の電 源に接続 さ れ る と と も に 、 水銀 ラ ン プ 2 2 の 周 囲 に は ラ ン プ 2 2 で発生す る 光を外部 に射出す る 射出 a 2 1 a を残 し て ラ ン プ 2 2 を覆 う ハ ゥ ジ ン グ 2 1 が覆設 さ れてい る 。 ハ ウ ジ ン グ 2 1 の 各壁面の う ち 射出 Π 2 1 a が形成 さ れた壁面に対向す る 壁面 に は温風送風用 の フ ァ ン 2 3 が配設 さ れ る と と も に 、 フ ア ン 2 3 の背後 に は ヒ ー タ 2 4 が配設 さ れて い る 。 し た力《 つ て 、 ヒ 一 夕 2 4 が起動 さ れ る と と も に 、 フ ァ ン 2 3 力 回転作動 さ れ る と 、 ヒ 一 夕 2 4 で発生 し た熱が フ ァ ン 2 3 に よ り 矢印 に示す よ う に温風 と し て ラ ン プ 2 2 に吹 き 付 け ら れ る こ と に な る
ま た 、 第 3 図 に示す水銀 ラ ン プ部 2 n で は 、 水銀 ラ ン プ 2 2 の雰囲気温度を所,定の温 ]^以上にす る た め、 ラ ン プ 2 2 で発生す る 熱が大気中 に放散 し な い よ う に 該 ラ ン プ 2 2 で発生す る 光の射 出 Π 2 a を 除 い て ラ ン ブ 2 2 を囲むハ ゥ ジ ン グ 2 5 (材質 と し て は た と え ば ア ル ミ ニ ウ ム が使用 さ れ る ) 設け る よ う に し て い る 。 お、 同図 ( b ) は同図 ( a ) の矢印 A 方向を示 し て い る o
さ ら に、 ま た第 4 図 に示す水銀ラ ン プ部 2 0 で は 、 第 2 図 と 同様に射出 口 2 6 a と 送風フ ァ ン 2 3 と を有 し た ハ ゥ ジ ン グ 2 6 に よ つ て水銀 ラ ン プ 2 2 を覆 う と と も に 、 水銀ラ ン ブ 2 2 の雰囲気温度を検出す る 温度 セ ン サ 2 7 と 、 該温度セ ン サ 2 7 の 出カ を フ ィ 一 ド パ、 ッ ク 信号 と し 、 上記雰囲気温度が設定温度 ( た と え ば 4 0 °C ) に な る よ ラ に ヒ 一 夕 回路 2 9 に供給す る 電流 を制御す る コ ン 卜 ロ ー ラ 2 8 と を具え る よ う に し て い 。 し たが つ て コ ン 卜 α — ラ 2 8 が起動 さ れ る と 、 該
3 ン 卜 ロ ー ラ 2 8 は上記設定温度 と 温度セ ン サ 2 7 の 出力 と の偏差が零 に な る よ う に ヒ ー タ 回路 2 の ift給 流を制御 し 、 水銀 ラ ン プ 2 2 の雰囲気温度を上記設 定温度にす る 。 な お、 温度セ ン サ の配設場所 と し て は 水銀蒸気の温度を直接的 に ま た は間接的 に検出で き る の で あれば、 任意の場所で よ く 、 た と え ば水銀 ラ ン プ 2 2 の表面 ま た は水銀ラ ン プ 2 2 の 内部 に配設す る よ う な 実施 も 可能でめ る ο
以下、 第 1 図お よ び第 2 図か ら 第 4 図 に示 し た実施 例 に お け る 基準光お よ び被検出光の検出動作並びに ェ キ シ マ レ ー ザ光の波長制御の態様を第 6 図 に 示すフ ロ 一 チ ヤ ー ト を参照 し し 明す る 。
い ま 、 水銀 フ ン ブ部 2 0 と し て第 2 図 に 示す構成の も の を想定す る に 、 笫 6 図 ( a ) に示す よ う に、 ま ず 低圧水銀 ン プ 2 2 の 電源がオ ン さ れ て 、 水銀 ラ ン プ
2 n が発 す る ( ス テ ツ プ 1 Π ] ) 。 つ ぎ に ヒ ー 夕 2 4 ( 同時光ラにの値たび、千。、記準ス吊 4よを 2 Υプフ ァ ン 2 3 ち ) の 電源がオ ン さ れて 、 温風 力;' ラ ン プ 2 に 吹 き 付 け ら れ る ( ス チ ッ プ "! 0 2 ) 。
つ ぎの テ ツ フ 1 〇 3 で は基準光 L b の 干渉縞 8 a が分離 し (第 5 図 ( b ) 参照) か否 か (第 5 図 ( a ) 参照) を 時判定 し て い る 。 こ の 干渉縞 8 a が分離 し た か否か 判定 は 、 た と え ば第 5 図 に お い て 山 3 2 ,
3 3 お よ 谷 3 4 の光強度 の 値 を光検 出 器 8 で そ れ ぞ れ検 出 し 山 3 2 の 検 出 値 と 谷 3 4 の 検 出 値 と の 差力;' 所定の 閾 以上 に な つ た 否 か、 あ る い は il l 3 3 の 検 出 値 と 谷 3 の 検 出値 と の 差が所定 の 閾値以上 に な つ た か否力、 に り 行 う
やがて ラ ン プ 2 2 の封入蒸気 の 温度が所定の 温度 に 達 し 、 渉縞 8 a が分離す る と ( ス テ ッ プ :! Π 3 の 判断結果 E S ) 、 手順はつ ぎ の ス テ ツ プ : I ϋ 4 に 移 行 さ れ る ス テ ツ プ 1 0 4 で は 、 光検 出器 8 上 に 形成 さ れた上 分離干渉縞 の そ れぞれの 位置 を検出 し 、 該 検 出 位置 δ 憶 さ せ て お く と と も に 、 エ キ シ マ レ ー ザ の 発振 の 備が終了 し た こ と を 示す信号 を 出 力 す る
( ス テ ツ 1 0 4 ) o
す る と 手順は第 6 図 ( d ) の ス テ ツ ブ 4 0 1 に 移 行 さ れて ス テ ツ プ 1 0 4 の 出 力 信号 に 応 じ て エ キ シ マ レ 一 ザ 1 の 電源が起動す る な ど し て 、 レ ー ザ光 L a が発振、 出 力 さ れ る ( ス テ ッ プ 4 0 ) 。 そ し て 、 光 検出器 8 上 に形成 さ れた被検出光の干渉縞 8 b の 位置 を検出す る ( ス テ ッ プ 4 ϋ 2 ) 。 つ ぎに こ の ス テ ッ プ
4 n 2 で求めた干渉縞 8 b の 位置 と 先の ス テ ッ プ 1 Π
4 で求めて記憶 し ておい た分離干渉縞の位置 と を比較 す る こ と に よ り 被検出光の絶対波長を検出す る ( ス テ ッ プ 4 0 3 )
こ ラ し て被検出光 (エ キ シ マ レ ー ザ光) の絶対波長 が検出 さ れ る と 、 設定波長 ( 目 標値) と 検出絶対波長 と の差 Δ λ が計算 さ れ ( ス テ ッ プ 4 0 3 ) C P U 1 0 は計算値 Δ ス に応 じ て狭帯域化素子 ド ラ イ バ 1 介 し て図示 し な い共振器内の ェ 夕 ロ ン の 角 度等を変化 さ せ る o こ の結果、 上記エ タ 口 ン を透過す る ェキ シ マ レ
— ザ光の波長が Δ ス だけ シ フ ト さ れて、 設定波長 ( 目 標値) に 固定 さ れ る ( ス テ ツ プ 4 0 5 ) o
こ の第 6 図 ( a ) の フ ロ ー チ ャ ー ト で は 、 基準光を の 干渉縞が分離 し た こ と を光検出器 8 の 出力 に基づ き 検 Γ 出 し 、 そ の後、 エ キ シ マ レ 一 ザ光を発振 さ せ る よ う に し て い る が、 水銀ラ ン プ 2 2 の雰囲気温度が所定の温 度以上に な つ たかを検出す る こ と に よ り 、 基準光の干 渉縞が分離 し た こ と を検出す る 実施 も ま た可能で あ る すな わ ち 同図 ( b ) に示すフ 口 一 チ ヤ 一 ト で は、 ス テ ッ プ ] 0 1 1 0 2 と 同様な水銀ラ ン プ 2 2 ヒ ー 夕
2 3 の起動処理が ス テ ッ プ 2 0 1 , 2 Π 2 で実行 さ れ 水銀 ラ ン プ 2 2 の雰囲 ¾ が所定の温度 ( た と え ば 4 0 °C程度) 以上に な つ た こ と か否かが判定 さ れ る ( ス テ ッ プ 2 n 3 ) 。 判断結 粜が Y E S で あ る と 、 基 準光の 千渉縞が分離 し た も の と し 、 ス テ ッ プ 1 il 4 と 同様 に 発振準備 0 Κ を 示す信号が 出 力 さ れて ( ス テ ッ ブ 2 〔) 4 ) 、 以後上記 ス テ ッ プ 4 0 1 〜 4 Π 5 の ェ キ シ マ レ ー ザ光 の 発振 · 波長制御 の 処理が実行 さ れ る 。 な お 、 所要 の 温度セ ン サ を ハ ウ ジ ン グ 2 ] の 内 部 の 所 定筒所 に 配設 し て お き 、 上記水銀 ラ ン プ 2 2 の 雰囲気 温度 の 検出 を行 う よ う に すれば よ い 。
ま た 、 時 間管理 に よ っ て基準光の Τ-渉縞が分離 し た こ と を 検 出 す る 実施 も ま た 可能で あ る 。 す な わ ち 同 図
( c ) に 示 す よ う に ス テ ッ プ " 1 Π 1 , 1 Π 2 と 冋 様 な 水銀 ラ ン プ 2 2 、 ヒ ー 夕 2 3 の 起動処 51力; ' ス テ ッ プ 3 Π 1 実行 さ れ、 上記起動 と 同時 に 図示 し て い な い タ イ マ 力( ス タ ー 卜 さ れ る 。 そ し て 、 タ イ マ の 計時値 Τ が所 定 の 設定時間 Κ ( た と え ば 5 分程度) よ り 大 き い か δ か を調べ る ( ス テ ッ プ 3 0 2 ) 。 Τ > Κ と な る と ( ス テ ツ プ 3 0 2 の 判断結果 Y E S ) 、 基寧光 の 干渉縞が 分離 し た も の と し 、 ス テ ッ プ 1 ◦ 4 と 同様 に 発振準備 0 Κ を 示す信号が 出 力 さ れて ( ス テ ッ プ 3 0 3 ) 、 以 後上記 ス テ ッ プ 4 Π 1 ~ 4 0 5 の エ キ シ マ レ 一 ザ光 の 発振 ♦ 波長制御 の 処理が実行 さ れ る 。
水銀 ラ ン ブ部 2 ί) を第 3 図 に 示す構成 に し た 場 に も 、 こ れ ら 第 6 図 の 各 フ ロ ー チ ャ ー ト を適川 す る 二 と 力-;可能で あ る 。 た だ し 、 こ の 場 ^ に は 'ス テ ツ ブ 1 Π 2 , 2 0 2 お よ び ス テ ッ プ 3 0 1 に お け る ヒ ー ク 2 4 の 起 動処理力 省略 さ れ る こ と に な る 。 さ ら に 水銀 ラ ン ブ部 2 Π を第 4 図 に 示す構成 に し た 場 合 に も 、 こ れ ら 第 6 図 の 各 フ ロ ー チ ャ ー ト を適用 す る こ と がで き る 。 た だ し 、 こ の 場 合 に は ス テ ツ プ 1 Π 2 , 2 Π 2 お よ び ス テ ッ プ 3 0 1 に お い て ヒ ー 夕 2 4 の 起動処理 の 替 り に コ ン ト ロ 一 ラ 2 8 、 ヒ ー タ 回路 2 9 を起動す る 処理 を実 行すれば よ い。
こ の よ う に第 6 図 に 示す フ ロ ー チ ャ ー ト で は、 基準 光 (水銀 ラ ン プ 2 2 の 2 5 3 . 6 5 0 6 3 n m 発振線 ま た は 2 5 3 . 6 5 2 7 7 n m 発振線) と 被検 出光 ( K r F 狭帯域エ キ シ マ レ 一 ザの 波長 2 4 8 . 4 n m ) と の 波長が近 く 、 両者の 干渉縞を 同時 に 検 出す る こ と は困難 と な る の で、 基準光の 干渉縞 (分離 さ れ た - T-渉 縞) を検 出 し て か ら 、 エ キ シ マ レ ー ザ光 を発振 さ せ 、 そ の 干渉縞を検 出す る よ う に し て い る が、 両者 を 別 々 に検 出す る も の で は な く 、 場 合 に よ っ て は 同時 に 検 出 す る 実施 も 可能で あ る 。
上述 し た 実施例で は水銀 ラ ン プ 2 2 の 温度を上昇 さ せて、 干渉縞 8 a を第 1 の 水銀同位体 に 対応す る 干渉 縞 と 第 2 の 水銀 同位休 に 対応す る 千渉縞 と に 分離す る よ う に し て い る が、 要 は波長線幅の 狭い 第 5 図 ( b ) に 示す山 3 2 ま た は 3 3 を得 る こ と がで き れば よ い の で、 水銀 ラ ン プ 2 2 の 水銀蒸気 と し て第 "! の 水銀 inj 位体 ま た は第 2 の 水銀同位休の い ずれか一方 の み を封 入 し て お く よ う な 実施 も 可能で あ る 。 な お、 第 Ί の 水 銀 同 位 体 お よ び 第 2 の 水 銀 同 位 体 の 特 定 は 、 質 量数 1 9 6 . 1 9 8 . 1 9 s 2 0 0 、 2 Π 1 、 2 Π 2 、 2 ί) 4 の 各水銀 同位体 ご と に そ の 発振線 の 波長線幅を 調べ、 波長線幅の 狭 い 上位 2 つ の 同 位休 と し て選択 し て行え ば よ い 。 こ の 場 合 は 、 水銀 ラ ン プ 2 2 の 温度 を 上昇 さ せ る た め の 構成 (第 2 図 か ら 第 4 図) を 要す る こ と な く 、 第 5 図 ( b ) に 示す 山 3 2 ま た は 山 3 3 に 対 応す る 山 が形成 さ れ る 。 し た 力《 つ て 、 こ れ ら い ずれ かの il l の ビ ー ク 位置 を精度良 く 検 出す る こ と がで き 、 上述 し た 実施例 と 同様 に エキ シ マ レ ー ザ光 の 絶 対波 ¾ を 高精度 に 検 出 す る こ と がで き る 。
な お 、 こ の 実施例で は、 干渉縞 の 位置 を検 出 す る よ う に し て い る が、 干渉縞 の 直径 ま た は 径を 検 出 し て 被検 出光 の 絶対波長 を求 め る よ う に し て も よ い 。
と こ ろ で 、 上記実施例で は集光 レ ン ズ 7 と し て色収 差補正が施 さ れ た 色消 し レ ン ズ を 用 い 、 基準光 と 被検 出光の 結像位置 を一致 さ せ る よ う に し た が 、 集光 レ ン ズ 7 ま た は光検 出器 8 を光軸方向 に移動可能 な 構成 と し 、 こ れ に よ つ て結像位置 の 違 い を吸収す る よ う に し て も よ い 。
ま た 、 実施例で は基準光 と 被検 出光の 波長が近 い の で、 集光 レ ン ズ 7 と し て 色収差補 ΪΚ な し の レ ン ズを使 用 す る 実施 も ま た 可能で あ り 、 所定 の レ ベ ル以上 の 検 出 精度が確保 さ れ る こ と に な る 。
ま た 、 実施例で は被検出光 と し て K r F エ キ シ マ レ — ザ光を想定 し てい る が、 A r F エキ シ マ レ ー ザ光を 被検出光 と す る 実施 も も ち ろ ん可能で あ る 。 こ の 場 は集光 レ ン ズ 7 と し て波長 9 3 n m ( A r F エキ シ マ レ ー ザ光) と 波長 2 5 3 . 6 5 0 6 3 n m C ま た は
2 5 3 . 6 5 2 7 7 η m ) に対 し て色収差補 Π し た集 光 レ ン ズを用 い る と と も に 、 モ 二 夕 エ タ n ン 6 に 関 し て波長 1 9 3 n m線並びに波長 2 5 3 . 6 5 0 6 3 η m ( ま た は 2 5 3 . 6 5 2 7 7 η m線) の両方を反射 す る コ一テ ィ ン グ処理を施す よ う にすれは 问精度 に 絶対波長を検出す る こ と がで き る よ う に な る 。
な お、 実施例で は、 水銀 7f lを所定の温度以上 に上 昇 さ せ る と 、 2 5 3 . 7 n m 発 線が波 線 lmの狭い 第 1 の水銀同位体の 2 5 3 . 6 5 0 6 3 n m発振線 と 第 2 の水銀同位体の 2 5 3 . 6 5 2 7 7 n m発振線 と に分離す ¾合につ い 明 し たが、 木発明 と し て は こ れ に 限定 さ れ る こ と な く 波長線幅の狭い発振線 に分 離す る こ と がで き る のであれば、 同位休の種類 は任意 であ る o
さ ら に実施例で は、 波長線幅の狭い特定の 同位体の 発振線が得 ら れ る 元素 と し て水銀を想定 し て い る が、 木発明 と し て は水銀 に 限定 さ れ る こ と な く 同等の性質 を有 し た元素であ れば よ い。 産 業 上 の 利 用 分 野
以上説明 し た よ う に こ の発明 に よ れば、 水銀等複数 の 同位体 を 含む特定 の 元素の 蒸気 か ら の 発振線 を 基準 光 と し て使用 し た 場 台 に お い て 、 波長線幅 の 狭 い 発振 線 を得 て、 こ れを基準光 と し て用 い る よ う に し た の で 、 基準光の 干 渉縞 を 高精度 に検出す る こ と がで き 、 以て 絶対波長 を高精度 に 検 出 す る こ と がで き る 。
こ の た め本発明 の 波長検 出装置 を狭帯域発振 エ キ シ マ レ ー ザ に搭載す る こ と に よ っ て エ キ シ マ レ ー ザ光の 波長が精度 よ く 検 出 さ れ、 発振波長 を 高精度 に 安定化 す る こ と がで き る よ う に な る 。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 複数の 同位体を 含む特定の元素の蒸気か ら の発振 線を基準光 と し て被検出光の波長を検出す る 波長検出 装置に お い て、
前記蒸気を所定の温度以上に上昇 さ せ、 こ の結果分 離 し た特定の 同位体の発振線を前記基準光 と し た こ と を特徴 と す る 波長検出装置。
2 . 前記特定の元素は、 水銀であ り 、 前記分離す る 特 定の 同位体の発振線は、 特定の質量数の第 1 の水銀同 位体に対応す る 発振線お よ び前記第 1 の水銀同位体の 質量数 と 異な る 質量数の第 2 の水銀同位休 に対応す る 発振線で あ る 請求の範囲第 1 項記載の波: S検出装置。
3 . 前記波長検出装置 は、 前記基準光お よ び被検出光 を透過す る エ タ ロ ン と 、 該ェ 夕 ロ ン を透過 し た前記基 準光お よ び被検出光が入射 さ れ る 集光 レ ン ズ と 、 該集 光 レ ン ズの焦点面がそ の検出面 と 一致す る よ う に配設 さ れ、 前記集光 レ ン ズか ら 出射 さ れた前記基準光お よ び被検出光が前記検出面に結像す る こ と に よ り こ れ ら 光に それぞれ対応す る 第 1 お よ び第 2 の干渉縞が前記 検出面に形成 さ れ る 光検出器 と を 含み 、 前記基準光お よ び前記被検出光を前記エ タ 口 ン に入射す る こ と に よ り 前記光検出器で前記第 ] お よ び第 2 の干渉縞を それ ぞれ検出 し て、 該検出結果か ら 得 ら れ る 前記基準光に 対す る前記被検出光の相対波長 と前記基準光の既知の 波長 と に基づ き 前記被検出光の波長を検出す る も の で あ る 請求の範囲第 1 項記載の波長検 出装置。
4 . 前記基準光お よ び前記被検出光が前記エ タ ロ ン に 入射 さ れ る 時刻を そ れぞれ異な ら せ、 前記光検出器で 検出 さ れ る 前記第 1 の 干渉縞 と 前記第 2 の干渉縞 と を そ れぞれ別の時刻に検出す る よ う に し た請求の範囲第 1 項記載の波長検出装置。
5 . 前記蒸気の温度の上昇を開始す る と と も に該蒸気 か ら 発振 さ れ る 光の前記エ タ 口 ンへの 入射を開始 し て、 そ の後前記蒸気の温度が前記所定の温度に達 し た時点 で、 前記第 1 の干渉縞を前記光検出器で検出す る と と も に前記被検出光の前記エ タ 口 ン への 入射を開始す る も のであ る 請求の範囲第 4 項記載の波長検出装置。
6 . 前記蒸気の温度の上昇を開始す る と と も に該蒸気 か ら 発振 さ れ る 光の前記エ タ 口 ンへの入射を開始 し て、 そ の後前記蒸気の温度の上昇開始か ら 所定時間経過 し た時点で、 前記第 1 の干渉縞を前記光検出器で検出す る と と も に前記被検出光 前記ェ 夕 口 ンへの入射を開 始す る も のであ る 請求の範囲第 4 項記載の波長検出装 置 o
7 . 前記蒸気の温度の上昇を開始す る と と も に該蒸気 か ら 発振 さ れ る 光の前記エ タ 口 ン への入射を開始 し て、 そ の後前記光検出器 に よ っ て干涉縞の分離が検出 さ れ た時点で、 こ の分離 し た干渉縞を前記第 1 の千渉縞 と し て検出す る と と も に前記被検出光の前記エ タ 口 ン へ の入射を開始す る も のであ る 請求の範囲第 4 項記載の 波長検出装置。
8 . 水銀蒸気が封入 さ れた水銀ラ ン プを該水銀 ラ ン プ か ら の光が射出 さ れ る 射出 口 を残 し て囲繞 し 、 該水銀 ラ ン プをオ ンす る こ と に よ り 前記水銀蒸気の温度を前 記所定温度以上に上昇 さ せ る も のであ る 請求の範囲第 2 項記載の波長検出装置。
9 . 水銀蒸気が封入 さ れた水銀ラ ン プを加熱す る 加熱 手段を配設 し 、 前記水銀 ラ ン プ お よ び前記加熱手段を ォ ン す る こ と に よ り 前記水銀蒸気の温度を前記所定温 度以上に上昇 さ せ る も の で あ る 請求の範囲第 2 項記載 の波長検出装置。
1 0 . 前記被検出光は、 抉帯域発振エキ シ マ レ ー ザ光 であ り 、 前記波長検出装置で検出 し た波長を、 前記狭 帯域発振エキ シマ レ ー ザ先の発振波長を設定波長 に 固 定す る 制御 に用 い た請求の範囲第 1 項記載の波長検出
1 1 . 特定の元素の蒸気か ら の発振線を基準光 と し て 被検出光の波長を検出す る 波長検出装置 に お い て、 前記元素の う ち特定の 同位体を選択 し 、 該同位体の 蒸気か ら の光を前記基準光 と し た こ と を特徴 と す る 波 長検出装置。
1 2 . 前記特定の元素は、 水銀であ り 、 前記特定の 同 位体は、 特定の質量数の水銀同位体であ る 請求の範囲 第 1 1 項記載の波長検出装置。
1 3 . 前記波長検出装置 は、 前記基準光お よ び被検出 光を透過す る エ タ ロ ン と 、 該エ タ ロ ン を透過 し た前記 基準光お よ び被検出光が入射 さ れ る 集光 レ ン ズ と 、 該 集光 レ ン ズの焦点面がそ の検出面 と 一致す る よ う に配 設 さ れ、 前記集光 レ ン ズか ら 出射 さ れた前記基準光お よ び被検出光が前記検出面に結像す る こ と に よ り こ れ ら光に そ れぞれ対応す る 第 1 お よ び第 2 の干渉縞が前 記検出面に形成 さ れ る 光検出器 と を 含み、 前記基準光 お よ び前記被検出光を前記エ タ 口 ン に入射す る こ と に よ り 前記光検出器で前記第 ] お よ び第 2 の干渉縞を そ れぞれ検出 し て、 該検出結果か ら 得 ら れ る 前記基準光 に対す る 前記被検出光の相対波長 と 前記基準光の既知 の波長 と に基づ き 前記被検出光の波長を検出す る も の であ る 請求の範囲第 1 1 項記載の波長検出装置。
1 4 . 前記基準光お よ び前記被検出光が前記エ タ ロ ン に入射 さ れ る 時刻を そ れぞれ異な らせ、 前記光検出器 で検出 さ れ る 前記第 1 の干渉縞 と 前記第 2 の干渉縞 と を そ れぞれ別の時刻 に検出す る よ う に し た請求の範囲 第 1 3 項記載の波長検出装置。
1 5 . 前記被検出光は、 狭帯域発振エキ シ マ レ ー ザ光 で あ り 、 前記波長検出装置で検出 し た波長を、 前記狭 蒂域発振エキ シマ レ ー ザ光の発振波長を設定波長に 固 定す る 制御 に用 い た請求の範囲第 1 1 項記載の波長検 出装置。
PCT/JP1991/000185 1990-02-15 1990-02-15 Detecteur de longueur d'onde WO1991012499A1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2/34503 1990-02-15
JP2034503A JP2631569B2 (ja) 1990-02-15 1990-02-15 波長検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1991012499A1 true WO1991012499A1 (fr) 1991-08-22

Family

ID=12416060

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1991/000185 WO1991012499A1 (fr) 1990-02-15 1990-02-15 Detecteur de longueur d'onde

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5218421A (ja)
JP (1) JP2631569B2 (ja)
CA (1) CA2051398A1 (ja)
DE (1) DE4190243T (ja)
WO (1) WO1991012499A1 (ja)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07120326A (ja) * 1993-10-22 1995-05-12 Komatsu Ltd 波長検出装置
JP3690632B2 (ja) * 1998-03-17 2005-08-31 株式会社小松製作所 狭帯域モジュールの検査装置
US7006541B2 (en) * 1998-06-01 2006-02-28 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6160832A (en) 1998-06-01 2000-12-12 Lambda Physik Gmbh Method and apparatus for wavelength calibration
US6426966B1 (en) 1999-02-10 2002-07-30 Lambda Physik Ag Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth
US6269110B1 (en) 1998-10-05 2001-07-31 Lambda Physik Ag Internal wavelength calibration for tunable ArF-excimer laser using atomic carbon and molecular oxygen absorption lines
US6160831A (en) * 1998-10-26 2000-12-12 Lambda Physik Gmbh Wavelength calibration tool for narrow band excimer lasers
US6717973B2 (en) 1999-02-10 2004-04-06 Lambda Physik Ag Wavelength and bandwidth monitor for excimer or molecular fluorine laser
US6515741B1 (en) * 1999-03-17 2003-02-04 Lambda Physik Ag Optical device and method for line-narrowed excimer or molecular fluorine laser
US6667804B1 (en) 1999-10-12 2003-12-23 Lambda Physik Ag Temperature compensation method for wavemeters
US7075963B2 (en) 2000-01-27 2006-07-11 Lambda Physik Ag Tunable laser with stabilized grating
US6542243B2 (en) 2000-01-27 2003-04-01 Lambda Physik Ag Resonator optics monitoring method
US6597462B2 (en) 2000-03-01 2003-07-22 Lambda Physik Ag Laser wavelength and bandwidth monitor
US6738406B2 (en) 2000-06-19 2004-05-18 Lambda Physik Ag Precision measurement of wavelengths emitted by a molecular fluorine laser at 157nm
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US6539037B1 (en) 2000-08-01 2003-03-25 Komatsu Ltd. Laser apparatus
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device
AU2002232591A1 (en) 2000-12-21 2002-07-08 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Method and apparatus for stabilizing a broadband source
CN109314366A (zh) * 2016-07-22 2019-02-05 极光先进雷射株式会社 窄带化KrF准分子激光装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52103880A (en) * 1976-02-26 1977-08-31 Dainippon Toryo Co Ltd Low temperature fluorescent lamp
JPS539081A (en) * 1976-07-12 1978-01-27 Oce Van Der Grinten Nv Light conditioning device for gas discharge lamp
JPS5725503Y2 (ja) * 1975-07-24 1982-06-02
JPS6072152A (ja) * 1983-09-02 1985-04-24 ジ−・テイ−・イ−・プロダクツ・コ−ポレイシヨン 高効率ア−ク放電装置
JPS637426B2 (ja) * 1978-09-05 1988-02-16 Gte Prod Corp
JPH01183873A (ja) * 1988-01-18 1989-07-21 Mitsubishi Electric Corp レーザ波長の安定化方法及び波長安定化レーザ装置
JPH02307281A (ja) * 1989-05-23 1990-12-20 Komatsu Ltd 波長検出装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4289403A (en) * 1977-03-04 1981-09-15 Isco, Inc. Optical phase modulation instruments
JPS5725503A (en) * 1980-07-24 1982-02-10 Aida Eng Ltd Neumatic pressure regulator device
US4650329A (en) * 1984-11-29 1987-03-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Optical 3-d signature device for detecting chemical agents
JPS637426A (ja) * 1986-06-27 1988-01-13 Hitachi Constr Mach Co Ltd 作業機の振動抑制装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5725503Y2 (ja) * 1975-07-24 1982-06-02
JPS52103880A (en) * 1976-02-26 1977-08-31 Dainippon Toryo Co Ltd Low temperature fluorescent lamp
JPS539081A (en) * 1976-07-12 1978-01-27 Oce Van Der Grinten Nv Light conditioning device for gas discharge lamp
JPS637426B2 (ja) * 1978-09-05 1988-02-16 Gte Prod Corp
JPS6072152A (ja) * 1983-09-02 1985-04-24 ジ−・テイ−・イ−・プロダクツ・コ−ポレイシヨン 高効率ア−ク放電装置
JPH01183873A (ja) * 1988-01-18 1989-07-21 Mitsubishi Electric Corp レーザ波長の安定化方法及び波長安定化レーザ装置
JPH02307281A (ja) * 1989-05-23 1990-12-20 Komatsu Ltd 波長検出装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2631569B2 (ja) 1997-07-16
DE4190243T (ja) 1992-03-12
JPH03238329A (ja) 1991-10-24
US5218421A (en) 1993-06-08
CA2051398A1 (en) 1991-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1991012499A1 (fr) Detecteur de longueur d'onde
US6396582B1 (en) Wavelength reference for laser
US9185786B2 (en) Laser-driven light source
WO1989002175A1 (en) Device for controlling the output of excimer laser
WO1989003132A1 (en) Laser device
KR102062296B1 (ko) 극자외 광원을 위한 열 모니터
JP2013098239A (ja) レーザ装置
US10502623B2 (en) Line-narrowed KrF excimer laser apparatus
JPH11241946A (ja) レーザ出力測定装置
JP4197816B2 (ja) 波長検出装置
JP2997956B2 (ja) 波長検出装置
JP2003185502A (ja) レーザ装置及び波長検出方法
US20020141463A1 (en) Optical feedback system
JPH05190409A (ja) 被照明部材の温度制御方法およびその装置
JPH01155673A (ja) レーザー波長制御装置及びそれを用いた露光装置
JP2821956B2 (ja) 波長制御装置及び波長制御装置用低圧水銀ランプ
JPH02306679A (ja) レーザの波長制御装置
WO1991001579A1 (fr) Laser excimeur a oscillations a bande etroite et detecteur de longueurs d'ondes
KR20220156891A (ko) 반도체 리소그래피용 투영 노광 장치
JPH057045A (ja) 波長制御装置
JP2000131439A (ja) X線強度モニタ及びそのx線強度モニタを用いるx線利用装置
JP2002116088A (ja) 波長検出装置
JPH01191488A (ja) レーザの波長制御装置
JP2002122482A (ja) 波長検出装置

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): CA DE US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2051398

Country of ref document: CA

RET De translation (de og part 6b)

Ref document number: 4190243

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19920312

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 4190243

Country of ref document: DE