TWM573076U - Flat porous nozzle device - Google Patents

Abstract

一種平面式多孔吸嘴裝置，包含有一固定基座與一吸嘴；其中，該固定基座上設有氣孔，固定基座下側面設有複數個與氣孔連通之氣流通道，固定基座下側面之左、右兩端分別向下延伸設有左側壁與右側壁，該左側壁與右側壁之內側面由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面，使左側壁與右側壁間形成鳩尾狀容置空間；該吸嘴直立佈設有複數的氣體通孔，該吸嘴之左、右兩側壁由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面，並令吸嘴可嵌合榫接於固定基座之鳩尾狀容置空間中；藉此，俾提供一種具有製造方便性、穩定性高之平面式多孔吸嘴裝置。

Description

平面式多孔吸嘴裝置

本創作係為一種平面式多孔吸嘴裝置，特別是一種具有製造方便性、穩定性高之平面式多孔吸嘴裝置。

按，目前有關晶圓、晶片、晶粒…等工件之半導體封裝，其在完成封裝製程後，會利用吸嘴裝置將工件吸取取出放置，以進行後續之作業及封裝處理。另外，由於目前半導體之晶圓、晶片有越來越薄化之趨勢，因此必須使吸嘴裝置與晶圓、晶片完全貼合，使吸嘴裝置可均勻施力來吸取晶圓、晶片，以避免晶圓、晶片掉落、破損。

而如第1圖所示，其包含有一固定座10與吸嘴20；其中，該固定座10設有貫通之氣孔11，固定座10下側凸設有若干的定位柱12，該吸嘴20係由具彈性之材質所製成(如：橡膠)，吸嘴20設有複數個貫通之氣體通孔21，且吸嘴20上側設有定位槽22，該定位槽22係與固定座10之定位柱12相對應，令吸嘴20得藉由定位槽22與定位柱12之結合而可使吸嘴20定位結合於固定座10下側，且吸嘴20之下側面係呈平面狀；藉此，可提供一種可與晶圓、晶片平面貼合之吸嘴裝置。

惟查，由於上述之固定座10與吸嘴20間係利用定位柱12插設於定位槽22中之方式來結合定位，而因該吸嘴20必須挖設定位槽22， 而會挖空、破壞其結構，造成吸嘴20承載力不足、穩定性不高之缺失；有鑑於此，逐有業者設計出一種如公告第M537712號新型專利的吸嘴裝置，該種吸嘴裝置係在夾座底部之側面環設有定位凹槽，吸嘴之側面則環設有定位凸部，使吸嘴緊密配合地設置於該夾座下方；然而，由於該種吸嘴多由具彈性之材質所製成，而其所環設之定位凸部係以垂直凸出之方式設置於吸嘴側面，因此當吸嘴置入夾座時，定位凸部與吸嘴側面之連接處會因應力集中，造成定位凸部很容易斷裂損壞，而使吸嘴無法與夾座緊密配合；尤其，該夾座之定位凹槽與吸嘴側面所設定位凸部之組裝配合精度必須很高，才可使吸嘴與夾座緊密配合，因此實有製造、裝配作業上之繁瑣與不方便性。

本創作之目的，即在於改善上述吸嘴裝置所具有之缺失，俾提供一種具有製造方便性、穩定性高之平面式多孔吸嘴裝置。

為達到上述目的，本創作之平面式多孔吸嘴裝置，包含有一固定基座與一吸嘴；其中：固定基座，其上設有貫通之氣孔，固定基座下側面設有複數的氣流通道，該氣流通道並與氣孔連通；該固定基座下側面之左、右兩端分別向下延伸設有左側壁與右側壁，該左側壁與右側壁之內側面由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面，使左側壁與右側壁間形成鳩尾狀容置空間；吸嘴，係由具彈性之材質所製成，該吸嘴之頂面及底面係呈平面狀，該吸嘴上直立佈設有複數的氣體通孔，該吸嘴之左、右兩側面由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面，而使其概呈鳩尾狀，並令該吸嘴之左、 右兩側面與固定基座之左側壁與右側壁相對應，令該吸嘴可嵌合榫接於固定基座之鳩尾狀容置空間中；藉此俾提供一種具有製造方便性、穩定性高之平面式多孔吸嘴裝置。

10‧‧‧固定座

11‧‧‧氣孔

12‧‧‧定位柱

20‧‧‧吸嘴

21‧‧‧氣體通孔

22‧‧‧定位槽

30‧‧‧固定基座

31‧‧‧氣孔

32‧‧‧氣流通道

33‧‧‧左側壁

331‧‧‧傾斜面

332‧‧‧垂直面

34‧‧‧右側壁

341‧‧‧傾斜面

342‧‧‧垂直面

35‧‧‧鳩尾狀容置空間

40‧‧‧吸嘴

41‧‧‧氣體通孔

42‧‧‧左側壁

421‧‧‧傾斜面

422‧‧‧垂直面

43‧‧‧右側壁

431‧‧‧傾斜面

432‧‧‧垂直面

50‧‧‧晶片

第1圖係習用吸嘴裝置之剖視構造圖。

第2圖係本創作之分解立體圖。

第3圖係本創作之分解剖視構造圖。

第4圖係本創作之組合立體圖。

第5圖係本創作之組合剖視構造圖。

第6圖係本創作之組合剖視構造圖，及抽氣吸取晶片之示意圖。

有關本創作為達到目的所應用之技術手段及其構造，茲謹再配合第2圖至第6圖所示之實施例，詳細說明如下：如第2圖所示，實施例中之平面式多孔吸嘴裝置，包含有一固定基座30與一吸嘴40；其中：固定基座30(請同時參閱第3、4圖所示)，其上設有貫通之氣孔31，固定基座30下側面設有複數的氣流通道32，該氣流通道32並與氣孔31連通；該固定基座30下側面之左、右兩端分別向下延伸設有左側壁33與右側壁34，該左側壁33與右側壁34之內側面由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面331、341，使左側壁33與右側壁34間形成鳩尾狀容置空 間35。

吸嘴40(請同時參閱第3、4圖所示)，係由具彈性之材質所製成，該吸嘴40之頂面及底面係呈平面狀，該吸嘴40上直立佈設有複數的氣體通孔41，該吸嘴40之左、右兩側壁42、43由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面421、431，而使其概呈鳩尾狀，並令該吸嘴40之左、右兩側面42、43與固定基座30之左側壁33與右側壁34相對應，令該吸嘴40可嵌合榫接於固定基座30之鳩尾狀容置空間35中。

承上述，較佳之實施例是，該吸嘴40係由橡膠材質所製成。

承上述，較佳之實施例是，如第2、3、5圖所示，該固定基座30之左側壁33與右側壁34之下半端形成垂直面332、342，且該吸嘴40之左、右兩側壁42、43之下半端形成垂直面422、432；藉此，其可提高固定基座30與吸嘴40間鳩尾榫接之嵌合效果。

藉由上述構造，當欲將吸嘴40承設、放置於固定基座30下方時，該吸嘴40可由固定基座30之側邊插入固定基座30下方之鳩尾狀容置空間35中(如第4圖所示)；此時，如第3、5圖所示，由於吸嘴40之左、右兩側壁42、43與固定基座30之左側壁33與右側壁34相對應，使吸嘴40可緊密嵌合於固定基座30之鳩尾狀容置空間35中，且吸嘴40之頂面可與固定基座30之下側面貼合；藉此，當本創作進行吸取作業時，固定基座30連接抽氣裝置(圖中未揭示)進行抽氣，使氣體由吸嘴40之氣體通孔41經固定基座30之氣流通道32、氣孔31輸出，使吸嘴40之氣體通孔41產生真空吸力，晶片50(晶圓或晶粒)即可被吸引而貼附吸嘴40之下側面，即可進行吸取作業(如第6圖所示)；待晶片50(晶圓或晶粒)將移動至預 定位置後，該抽氣裝置(圖中未揭示)即停止抽氣，使吸引晶片50(晶圓或晶粒)之真空吸力消失，即可放置晶片50(晶圓或晶粒)至預定位置，完成吸取放置作業。

由是，從以上所述可知，本創作具有如下之優點：

(一)由於本創作之固定基座30之左側壁33與右側壁34及吸嘴40之左、右兩側壁42、43皆為由上往下向內側收攏傾斜，使固定基座30與吸嘴40呈鳩尾榫接，而具有組合連接之方便性，且吸嘴40不易自固定基座30脫落。

(二)由於本創作固定基座30之左、右側壁32、33及吸嘴40之左、右側壁42、43為鳩尾狀，其構造簡單，製造方便，且吸嘴40亦不會有應力集中之情事，而不容易破裂損壞，實可提供後續吸取放置作業之順利性。

(三)再，由於本創作吸嘴40之左、右側壁42、43為由上往下向內收攏傾斜而概呈鳩尾狀，該吸嘴40並未有定位槽之設置，而未有破壞結構之情事，因此本創作之吸嘴40具有高強度、高承載力與高穩定性，實可提供晶片、晶圓或晶粒後續吸取放置作業之順利性。

(四)又，由於本創作固定基座30及吸嘴40為鳩尾榫接，該吸嘴40可受固定基座30所設傾斜狀左、右側壁32、33之推升而向上，使得該吸嘴40之頂面可與固定基座40之下側面緊密貼合，實可避免氣體外洩，提高真空吸力，以確實吸取晶片50(晶圓或晶粒)。

由是，從以上所述可知，本創作相較於先前技術，確具有顯著之進步性，且其構造確為未曾有過，誠已符合新型專利之要件，爰依法 提出專利申請，並祈賜專利為禱，至感德便。

惟以上所述，僅為本創作之可行實施例，該實施例主要僅在於用以舉例說明本創作為達到目的所運用之技術手段及其構造，因此並不能以之限定本創作之保護範圍，舉凡依本創作說明書及申請專利範圍所為之等效變化或修飾，皆應仍屬本創作所涵蓋之保護範圍者。

Claims (2)

1. 一種平面式多孔吸嘴裝置，包含有一固定基座與一吸嘴；其中：固定基座，其上設有貫通之氣孔，固定基座下側面設有複數的氣流通道，該氣流通道並與氣孔連通；該固定基座下側面之左、右兩端分別向下延伸設有左側壁與右側壁，該左側壁與右側壁之內側面由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面，使左側壁與右側壁間形成鳩尾狀容置空間；吸嘴，係由具彈性之材質所製成，該吸嘴之頂面及底面係呈平面狀，該吸嘴上直立佈設有複數的氣體通孔，該吸嘴之左、右兩側壁由上往下向內側收攏傾斜形成傾斜面，而使其概呈鳩尾狀，並令該吸嘴之左、右兩側壁與固定基座之左側壁與右側壁相對應，令該吸嘴可嵌合榫接於固定基座之鳩尾狀容置空間中。
2. 如請求項1所述之平面式多孔吸嘴裝置，其中該固定基座之左側壁與右側壁之下半端形成垂直面，且該吸嘴之左、右兩側壁之下半端形成垂直面。