TWM537712U - 吸嘴裝置 - Google Patents

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TWM537712U
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TW
Taiwan
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substrate
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air flow
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TW105215314U
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English (en)
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guo-zhen Qian
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Unitech Tech Yeh Corp
Greatwin Co Ltd
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Description

吸嘴裝置
本創作係一種吸嘴裝置,尤指用以提供晶粒吸取及放置之吸嘴裝置。
隨著科技進步,現今之半導體產業的產品也隨著科技的進步而日漸精密,更逐漸縮小了產品之體積,因此在進行半導體元件的製程時,會藉由一真空吸附式晶粒吸放裝置提供晶粒的吸取及放置功能,使晶粒吸放裝置在機械手臂的帶動下,並搭配真空抽氣裝置,用以將所述晶粒自預備區移動至預定之加工區域。
而現今有二種晶粒吸放裝置,請參閱圖5,其中一種晶粒吸放裝置包含一中空之夾座90及一軟質彈性材質之吸嘴80,該夾座90的頂端形成一貫通之通氣孔91,該吸嘴80係緊配合地卡設於該夾座90內,該吸嘴80的頂面形成多數間隔排列之通孔81,該些通孔81皆連通該通氣孔91。
請參閱圖6,另一種晶粒吸放裝置係如臺灣新型專利證書M435042號所揭露之晶粒吸放裝置,其包含一基座70及一軟質彈性材質之吸嘴60,該基座70的頂端形成一貫通之通氣孔71,該基座70底面凸伸形成複數固定桿72,該些固定桿72的末端形成凸部73,該吸嘴60形成複數縱向的固定孔61以及多數縱向且貫通之通孔62,該些固定孔61係分別對應該些固定桿72,該吸嘴60係設置於該基座70的底部,且該吸嘴60緊密地貼抵該基座70的頂面,該些固定桿72係分別伸入該些固定孔61中,並藉由該些固定桿72之凸部73提供限位,該些通孔62皆連通該通氣孔71。
如圖5、圖6所示,上述二種之晶粒吸放裝置皆係裝設於一機械手臂上,且所述通氣孔71、91係連通一真空抽氣裝置之抽氣口,當在進行晶粒之吸取作業時,該晶粒吸放裝置可透過該真空抽氣裝置抽氣,使該些通孔62、81處產生真空吸力,所述晶粒會因為真空吸力而吸附於吸嘴60、80之通孔62、81處,並貼抵吸嘴60、80,接著所述晶粒吸放裝置在機械手臂的帶動下移動至預定之工作區域後,在停止該真空抽氣裝置運作,使該些通孔62、81處之真空吸力消失,即可達到放置晶粒之效果。
其中,上述之第一種晶粒吸放裝置之吸嘴80僅以緊配合的方式卡設於該夾座90上,而沒有設置任何提供吸嘴80定位之結構,故在長時間的作業下,導致所述吸嘴80容易自所述夾座90上脫落;而另一種晶粒吸放裝置係透過基座70底端凸伸出的固定桿72,並藉由該些固定桿72伸入該吸嘴60的固定孔61中,以達到固定之效果,然而所述晶粒吸放裝置在環境溫度變化等因素下,容易因為該晶粒吸放裝置之基座上之固定桿72與該吸嘴60之膨脹係數不同,而使該吸嘴60有鬆動甚至脫落之情形,且由於該基座70並未包覆該吸嘴60,故當該吸嘴60有鬆動之情形時,會有產生漏氣之情形,導致有吸取晶粒之吸力不足之問題。
本創作之主要目的在於提供一吸嘴裝置,希藉此改善現今之晶粒吸放裝置之吸嘴容易因為環境溫度變化等因素而有鬆動或脫落之情形。
為達成前揭目的,本創作所提出之吸嘴裝置包含: 一中空的夾座,其頂端形成一貫通之通氣孔,該夾座之內頂面形成一氣流道,該氣流道連通該通氣孔,該夾座內側面環繞形成一定位凹槽;以及 一軟質彈性材質之吸嘴,其係緊配合地設置於該夾座,該吸嘴的外側面環繞形成一環形的定位凸部,所述定位凸部係對應並伸入該夾座之定位凹槽,該吸嘴形成多數縱向且間隔排列的通孔,該些通孔係連通該氣流道。
本創作另外提出之吸嘴裝置,其包含: 一中空的夾座,其頂端形成一貫通之通氣孔,該夾座之內頂面形成一氣流道,該氣流道連通該通氣孔,該夾座內側面環繞形成複數間隔排列的定位凹槽;以及 一軟質彈性材質之吸嘴,其係緊配合地設置於該夾座,該吸嘴的外側面環繞形成複數間隔排列的定位凸部,所述定位凸部係對應並伸入該夾座之定位凹槽,該吸嘴形成多數縱向且間隔排列的通孔,該些通孔係連通該氣流道。
本創作吸嘴裝置係設置於一機械手臂上,且該吸嘴裝置之通氣孔連通一真空抽氣裝置之抽氣口,當在吸取或放置晶粒時,可藉由啟動或停止所述真空抽氣裝置,以達到吸附晶粒及放置晶粒之效果,其中,該夾座與吸嘴之間呈氣密結合,並本創作吸嘴裝置之吸嘴係藉由將所述定位凸部伸入夾作之定位凹槽中,使所述吸嘴與該夾座相互凹凸配合,以達到定位效果,並可增加該吸嘴與該夾座之結合強度,且當有環境溫度變化時,由於所述吸嘴之膨脹係數較該夾座大,使得所述吸嘴會與該夾座之間更加緊密,故仍不易脫落。
請參閱圖1、圖2,為本創作吸嘴裝置之第一種較佳實施例,其包含一中空的夾座10及一軟質彈性材質之吸嘴20。
該夾座10之頂端形成一貫通之通氣孔11,該夾座10之內頂面形成一氣流道12,該氣流道12連通該通氣孔11,該夾座10內側面環繞形成一定位凹槽13,其中該夾座10包含一基板14、一組接部15及一側壁16,該組接部15係形成於該基板14的頂面,該側壁16係環設於該基板14的外圍,並凸伸出該基板14的底面,所述通氣孔11係形成於該組接部15的頂端,並貫通該基板14,所述氣流道12係形成於該基板14的底面,所述定位凹槽13係形成於該側壁16的內側面。
該吸嘴20係緊配合地設置於該夾座10,該吸嘴20的外側面環繞形成一環形的定位凸部21,所述定位凸部21係對應並伸入該夾座10之定位凹槽13,且該吸嘴20的底部凸伸出該夾座10,該吸嘴20形成多數縱向且間隔排列的通孔22,該些通孔22係連通該氣流道12。
請參閱圖3,為本創作吸嘴裝置之第二種較佳實施例,其包含一中空的夾座10及一軟質彈性材質的吸嘴20。
如圖3所示,該夾座10頂端形成一貫通之通氣孔11,該夾座10之內頂面形成一氣流道12,該氣流道12連通該通氣孔11,該夾座10內側面環繞形成複數間隔排列的定位凹槽13a,其中該夾座10包含一基板14、一組接部15及一側壁16,該組接部15係形成於該基板14的頂面,該側壁16係環設於該基板14的外圍,並凸伸出該基板14的底面,所述通氣孔11係形成於該組接部15的頂端,並貫通該基板14,所述氣流道12係形成於該基板14的底面,所述定位凹槽13a係形成於該側壁16的內側面。
如圖3所示,該吸嘴20係緊配合地設置於該夾座10,該吸嘴20的外側面環繞形成複數間隔排列的定位凸部21a,所述定位凸部21a係對應並伸入該夾座10之定位凹槽13a,且該吸嘴20的底部凸伸出該夾座10,該吸嘴20形成多數縱向且間隔排列的通孔22,該些通孔22係連通該氣流道12。
如圖1所示,本創作吸嘴裝置係設置於一機械手臂(圖未示)上,且該夾座10的組接部15係連接一真空抽氣裝置(圖未示),且所述通氣孔11連通該真空抽氣裝置之抽氣口,當在吸取晶粒時,所述真空抽氣裝置會啟動並進行抽氣,使氣體自該些通孔22流經該氣流道12,並自該通氣孔11流入該抽氣孔中,進而使該些通孔22處產生真空吸力,使晶粒被吸取且貼附於該吸嘴20的底面,接著所述吸嘴裝置會在該機械手臂的帶動下移動至預定之工作區域後,所述該真空抽氣裝置會停止運作,使吸附所述晶粒之真空吸力消失,以達到置放晶粒之效果。
如圖4所示,本創作吸嘴裝置之夾座10的側壁16係環繞該吸嘴20,且該夾座10與吸嘴20之間呈氣密結合,並藉由所述定位凸部21伸入夾作之定位凹槽13中,使所述吸嘴20與該夾座10相互凹凸配合,以達到定位效果,可有效增加該吸嘴20與夾座10之結合強度,故不易有鬆脫或掉落之情形,且當有環境溫度變化時,由於所述吸嘴20之膨脹係數較該夾座10之膨脹係數大,且所述吸嘴20位於該夾座10內,使得所述吸嘴20會與該夾座10之間更加緊密,故仍不易脫落。
綜上所述,本創作吸嘴裝置可藉由所述定位凸部21及所述定位凹槽13提供定位效果,可有效增加吸嘴20與夾座10之結合強度,使該吸嘴20不易鬆動或掉落,且即便環境溫度變化,該吸嘴20仍可與該夾座10緊密結合。
10‧‧‧夾座
11‧‧‧通氣孔
12‧‧‧氣流道
13、13a‧‧‧定位凹槽
14‧‧‧基板
15‧‧‧組接部
16‧‧‧側壁
20‧‧‧吸嘴
21、21a‧‧‧定位凸部
22‧‧‧通孔
60‧‧‧吸嘴
61‧‧‧固定孔
62‧‧‧通孔
70‧‧‧基座
71‧‧‧通氣孔
72‧‧‧固定桿
73‧‧‧凸部
80‧‧‧吸嘴
81‧‧‧通孔
90‧‧‧夾座
91‧‧‧通氣孔
圖1:為本創作吸嘴裝置之第一種較佳實施例之側視剖面示意圖。 圖2:為本創作吸嘴裝置之第一種較佳實施例之分解示意圖。 圖3:為本創作吸嘴裝置之第二種較佳實施例之分解示意圖。 圖4:為本創作吸嘴裝置之第一種較佳實施例之使用狀態示意圖。 圖5:為一習用之晶粒吸放裝置之側視剖面示意圖。 圖6:為另一習用之晶粒吸放裝置之側視剖面示意圖。
10‧‧‧夾座
11‧‧‧通氣孔
12‧‧‧氣流道
13‧‧‧定位凹槽
14‧‧‧基板
15‧‧‧組接部
16‧‧‧側壁
20‧‧‧吸嘴
21‧‧‧定位凸部
22‧‧‧通孔

Claims (4)

  1. 一種吸嘴裝置,其包含:一中空的夾座,其頂端形成一貫通之通氣孔,該夾座之內頂面形成一氣流道,該氣流道連通該通氣孔,該夾座內側面環繞形成一定位凹槽;以及一軟質彈性材質的吸嘴,其係緊配合地設置於該夾座,該吸嘴的外側面環繞形成一環形的定位凸部,所述定位凸部係對應並伸入該夾座之定位凹槽,且該吸嘴的底部凸伸出該夾座,該吸嘴形成多數縱向且間隔排列的通孔,該些通孔係連通該氣流道。
  2. 如請求項1所述之吸嘴裝置,其中該夾座包含一基板、一組接部及一側壁,該組接部係形成於該基板的頂面,該側壁係環設於該基板的外圍,並凸伸出該基板的底面,所述通氣孔係形成於該組接部的頂端,並貫通該基板,所述氣流道係形成於該基板的底面,所述定位凹槽係形成於該側壁的內側面。
  3. 一種吸嘴裝置,其包含:一中空的夾座,其頂端形成一貫通之通氣孔,該夾座之內頂面形成一氣流道,該氣流道連通該通氣孔,該夾座內側面環繞形成複數間隔排列的定位凹槽;以及一軟質彈性材質的吸嘴,其係緊配合地設置於該夾座,該吸嘴的外側面環繞形成複數間隔排列的定位凸部,所述定位凸部係對應並伸入該夾座之定位凹槽,且該吸嘴的底部凸伸出該夾座,該吸嘴形成多數縱向且間隔排列的通孔,該些通孔係連通該氣流道。
  4. 如請求項3所述之吸嘴裝置,其中該夾座包含一基板、一組接部及一側壁,該組接部係形成於該基板的頂面,該側壁係環設於該基板的外圍,並凸伸出該基板的底面,所述通氣孔係形成於該組接部的頂端,並貫通該基 板,所述氣流道係形成於該基板的底面,所述定位凹槽係形成於該側壁的內側面。
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TWI726389B (zh) * 2019-08-15 2021-05-01 大陸商業成科技(成都)有限公司 吸嘴裝置

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