TWM543826U - 連接吸嘴的組裝結構(二) - Google Patents

Description

連接吸嘴的組裝結構(二)

本創作係提供一種用以連接晶片吸嘴的組裝結構，尤指一種可自動調整整體結構垂直的偏移及水平定位的組裝結構。

在半導體的封裝製程中需要將切割、研磨後的晶片作吸取與放置的動作，所以會有一裝置去完成吸取與放置的處理，而此裝置上與晶片的吸取與放置的接觸會有一固定座與吸嘴。

隨著晶片的厚度越來越薄，現在市場上常見的規格約在30~50um，而且可能越來越薄，造成吸取與放置的作業會產生因為人為裝置吸嘴疏忽無法平壓，或因為吸嘴無法均勻施力造成晶片與接觸面產生空氣或無法與底膠完全接合，而造成晶片的破損，致使原本吸取與放置的固定座與吸嘴已無法符合生產的需求，除了在吸嘴上以要求平面方式製作外，更有各種不同為解決薄型晶片的固定座與吸嘴產生。

習用常見用來與吸嘴連接組裝的結構，其中之一是在固定座上設有一夾爪，並將吸嘴直接嵌入在夾爪中，但正是因吸嘴是嵌入在固定座上方的夾爪中，使得吸嘴在安裝嵌入後不易取出，造成更換上的難度，於安裝吸嘴時，難免會碰到吸嘴的吸晶面，而造成吸嘴污染，並易有因疏忽而未將吸嘴推置到底，使其與固定座接面平貼呈傾斜，無法確保安裝吸嘴後一定是平面，會造成晶片破裂，且因夾爪與吸嘴之間是以組裝上的緊配來固定，容易使吸嘴會因為夾爪的壓力產生形變，造成晶片壓傷破損。

在習用與吸嘴連接組裝的結構中，另有固定座以其位於真空孔底部的凸接結構來與設置在吸嘴的對應內凹結構，雖較夾爪更容易安裝吸嘴，但因吸嘴上需另設有對應的內凹結構，易於其生產過程中變形，也同樣在安裝時有吸嘴污染的問題。再者，吸嘴因其材質，於其製造時易有較大的公差，雖預設有對應凹凸的結構關係，但容易滑動與變形，造成晶片壓傷破損。

對應的緊配關係來固定吸嘴的組裝結構，亦可在固定座下方延伸出定位腳與吸嘴上定位孔搭配，但亦會因定位腳與吸嘴之間的緊配結構，在吸嘴的安裝與取出上都有難度，且吸嘴與固定座間以緊配合來定位，無法進行結構上的調整，並在安裝時有接觸污染吸嘴的機會。

習用組裝結構中，也有針對上述以對應的緊配關係來固定吸嘴進行改良，而在固定座上鑲嵌有一磁鐵，並在吸嘴上加設有可供磁吸的鐵片或不銹鋼片，來取代緊配合的組裝結構，雖能改善緊配合結構的組裝問題，但也造成其他技術問題，固定座與吸嘴之間的鐵片或不銹鋼片無法完全緊密結合，有洩漏真空之可能性情況，且磁鐵與吸嘴上鐵片或不銹鋼片之間的磁性吸附結構沒有相應的定位處，會造成吸嘴組裝上水平偏移問題。

又，習用以緊配關係來固定吸嘴的組裝結構都是著眼在組裝後吸嘴平面度的問題，但針對所吸取的晶片如果發生有與吸嘴非呈平面的垂直偏移(傾斜)的問題，上述僅對吸嘴與固定座間平面度的結構上改良無法解決垂直偏移(傾斜)的問題，尤其當晶片厚度越來越薄時，此一問題之影響會越來越明顯。

有鑑於此，係針對習用結構進行改良，提供一種連接吸嘴的組裝結構，用以供吸嘴裝設，該組裝結構包括一固定座，該固定座具有一導磁的本體並於上端面設有一接合部，該接合部具有一真空通道，該固定座下端面設有一中空的導接柱，該導接柱相通於該真空通道並於其外周設有至少一定位凸點；一吸嘴底座，具有一導磁的本體並裝設有該吸嘴，該吸嘴底座設有一貫穿其本體的定位部，且該定位部對應該導接柱設有一導接部，該導接部內部對應該定位凸點設有一定位凹槽，該定位部藉該定位凹槽對應該定位凸點的位置而容置該導接柱於該導接部內部，以將該吸嘴底座組接於該固定座，並限制該固定座與該吸嘴底座組裝結構上的水平位移，以利該吸嘴的操作使用。

所述的定位凹槽之數目係多於該定位凸點之數目，以供該吸嘴底座能選擇性利用該定位凹槽對應該定位凸點的位置而組接於該固定座。

所述的定位凸點係具有一呈弧曲狀的表面。

所述的定位凸點係以一鋼珠之部分連接於該導接柱外周或是在該導接柱設一開孔以容置一鋼珠於其中。

所述的吸嘴底座設有一凹部，用以設置一磁鐵，該定位部係相對位在該凹部範圍內並凸出於該凹部底面，使該固定座與該吸嘴底座之間透過磁性吸附而組合連接，且可防止磁力由該吸嘴下面端外漏，該吸嘴底座設有一密封槽，該密封槽係圍繞在該凹部外側，並於該密封槽設置有一密封件，該密封件係採用具彈性的材料，並確保該固定座與該吸嘴底座之間真空密閉性。

所述的組裝結構於該固定座與該吸嘴底座之間夾設有一密封件，該導接部係具有一上窄下寬的錐狀孔道，該定位凹槽位於該錐狀孔道內部，且該定位部藉由該錐狀孔道相對較寬的孔道來提供該吸嘴底座傾斜時該導接柱所需的相對位移空間，以利該吸嘴下端面貼合於一呈傾斜的晶片表面，並利用該密封件維持該固定座與該吸嘴底座組裝結構的密合度，該錐狀孔道具有一與垂直線夾有1度至5度的傾斜面，該傾斜面與垂直線之夾角較佳的範圍是在2度至2.5度之間。

所述的吸嘴底座設有一密封槽與一凹部，該定位部係相對位在該凹部範圍內並凸出於該凹部底面，且該凹部設置有一磁鐵，使該固定座與該吸嘴底座之間透過磁性吸附而組合連接，且並可防止磁力由該吸嘴下面端外漏，該密封槽係圍繞在該凹部外側，該密封件設置於該密封槽，該密封件係採用具彈性的材料，以確保真空密閉性。

所述的密封件係高出該吸嘴底座且其高度係配合於該固定座下端面與該吸嘴底座上端面之間所預留之一調整空間，該調整空間的高度係用以補償因傾斜而產生的高度落差。

所述的吸嘴底座兩側各設有一把手，以便於裝卸。

本創作所採行的另一技術手段為該組裝結構包括一固定座，該固定座具有一導磁的本體並於上端面設有一接合部，該接合部具有一真空通道，該固定座下端面設有一中空的導接柱，該導接柱相通於該真空通道；一吸嘴底座，具有一導磁的本體並裝設有該吸嘴，該吸嘴底座對應該導接柱設有一貫穿其本體的定位部，且以該定位部對接於該導接柱，以將該吸嘴底座組裝於該固定座，並限制該固定座與該吸嘴底座組裝結構上的水平位移，以利該吸嘴的操作使用。

所述的定位部係具有一上窄下寬的錐狀孔道，並分別於該吸嘴底座的上下端面形成有一上端孔與下端孔，且該吸嘴底座係以該上端孔對接於該導接柱，於該固定座與該吸嘴底座之間夾設有一密封件，且該定位部以該錐狀孔道相對位在該上端孔下方的孔道來提供在該吸嘴底座傾斜時，該導接柱所需的相對位移空間，以利該吸嘴下端面貼合於一呈傾斜的晶片表面，並利用該密封件維持該固定座與該吸嘴底座組裝結構的密合度，該錐狀孔道具有複數與垂直線夾有1度至5度且相接的傾斜面，且該傾斜面之數目與該導接柱側柱面的數目相同，該傾斜面與垂直線之夾角較佳的範圍是在2度至2.5度之間。

所述的導接柱具有一呈凸四邊形或三角形之一的剖面形狀。

所述的吸嘴底座設有一凹部，用以設置一磁鐵，該定位部係相對位在該凹部範圍內並凸出於該凹部底面，使該固定座與該吸嘴底座之間透過磁性吸附而組合連接，並可防止磁力由該吸嘴下面端外漏，該吸嘴底座設有一密封槽，該密封槽係圍繞在該凹部外側，並於該密封槽設置有一密封件，該密封件係採用具彈性的材料，以確保該固定座與該吸嘴底座之間真空密閉性，該密封件係採用具彈性的材料，以確保真空密閉性。

所述的密封件係高出該吸嘴底座且其高度係配合於該固定座下端面與該吸嘴底座上端面之間所預留之一調整空間，該調整空間的高度係用以補償因傾斜而產生的高度落差。

所述的吸嘴底座兩側各設有一把手，以便於裝卸。

本創作相較與先前技術具有以下功效：

本創作的組裝結構，其固定座利用在導接柱上所設的定位凸點，配合吸嘴底座的定位凹槽，以定位凸點對應插置於定位凹槽的對應結構關係作為組裝固定座以及吸嘴底座的水平定位，使吸嘴不會有水平位移問題。

再者，因為吸嘴是直接平貼在吸嘴底座上，取代先前技術中以緊配合組裝吸嘴的結構，而不會有吸嘴變形的問題。

組裝結構中的吸嘴底座在密封槽中設置有密封件，利用密封件的彈性可將固定座、吸嘴、吸嘴底座、晶片或其吸附物等相關可能產生各種不平整或傾斜進行修正，讓吸嘴可以平整吸附或平貼在晶片或吸附物上，以確保平面度。

由於組裝結構中的吸嘴底座設有磁鐵，配合有導磁性的固定座，使固定座與吸嘴底座之間能透過磁性吸附而組合連接，且因為吸嘴底座設有把手，利用把手來操作組裝吸嘴底座，讓操作人員在不碰觸到吸嘴下端面的情況下，能夠快速、方便地將吸嘴底座連同吸嘴安裝到固定座上或是由固定座拆下，且不會汙染吸嘴用以吸晶的下端面，亦無需拆下的固定座來安裝或卸除。

操作環境的溫度雖有機會影響磁鐵的磁力，但因吸嘴使用期限較短，在其需要被更換前，溫度對磁力之影響，不至於會影響到對晶片的吸取放置作業，除非在吸嘴其使用期限到達前，磁鐵已因居禮溫度而造成其完全消磁。

於吸嘴底座中，其導接部具有的錐狀孔道，錐狀孔道以其傾斜面所圍繞之上窄下寬的錐狀結構空間，提供吸嘴底座在傾斜時，因固定座位置不變，其導接柱所需的相對位移空間，使吸嘴底座能配合密封件，藉由傾斜來對應修正因整體組裝以及晶片本身或其他因素等可能產生的垂直偏移問題進行修正。吸嘴底座的錐狀孔道，其傾斜面與垂直線的角度乃考量固定座、吸嘴、晶片所有可能產生的垂直偏移最大傾斜度所設計，以利垂直偏移發生時與密封件搭配，修正垂直偏移度為平整。

在吸嘴底座傾斜時，其與固定座會因傾斜而有高度上的落差，密封件可用來保持兩者之間的密合度。

由於固定座的導接柱與吸嘴底座的錐狀孔道係設在固定座與吸嘴底座之中央處，因此，固定座的規格可以簡化成一種，當晶片尺寸變更時，只需要修改吸嘴底座與吸嘴即可，而不必變更固定座的規格，所以固定座不必隨晶片尺寸來更換，而可長期使用。

請參閱第1至3圖，為本創作第一實施例之立體圖及分解圖，本創作連接吸嘴的組裝結構中之組裝結構包括一固定座10、一吸嘴底座20，並於吸嘴底座20下方黏合裝設有一吸嘴30，吸嘴30是以其下端面吸咐一晶片40。

該固定座10具有一金屬本體，並於其上端面設置有一接合部11，用以接合一真空吸氣機(未圖示)，且接合部11具有一真空通道111，真空通道111貫穿接合部11以及下方的固定座10。

如第3圖中所示，固定座10在下端面設有一中空的導接柱12，導接柱12相通於真空通道111，且於其外周設有至少一定位凸點13。

於本實施例中，導接柱12係為一呈圓柱狀的中空柱體，定位凸點13係為一具有弧曲狀表面的凸點並一體成形於導接柱12外周，依實際需要，定位凸點13亦可以鋼珠之部分連接於導接柱12外周或是另設一開孔容置鋼珠於其中，而提供足以在導接柱12外周形成有弧曲狀表面的結構，導接柱12亦可為一呈橢圓柱狀的中空柱體。

吸嘴底座20設有一貫穿其本體的定位部21，且以定位部21相通於固定座10的真空通道111。定位部21包括有一導接部22與一定位凹槽23，定位部21對應導接柱12設置導接部22，且於導接部22內部對應定位凸點13設置定位凹槽23。

如第6圖中所示，第6圖中的剖面為第4圖之B-B剖面示意圖，因為剖面位置而剛好切在固定座10的定位凸點13，由圖中可以顯示出吸嘴底座20用來對應定位凸點13的定位凹槽23以及用來容置導接柱12的導接部22，同參第6A圖中所示，導接部22的錐狀孔道220與導接柱12之間具有與垂直線夾有一角度θ的傾斜面，而定位凹槽23與定位凸點13之間係呈垂直的相接面，以利結構對應而定位。

吸嘴底座20於兩側各設有一把手25，且另在下端面設有一相通於定位部21的一固定凹部26，固定凹部26可供吸嘴30黏固密合固定。由於吸嘴30因為是平貼固定在吸嘴底座20下方，可確保吸嘴30的平面度。

吸嘴底座20利用定位部21對應設置於固定座10的下方，同參第6A圖中所示，定位部21藉其定位凹槽23對應定位凸點13的位置而容置導接柱12於導接部22內部，以將吸嘴底座20組接於固定座10，並以定位凸點13與定位凹槽23之間相應的形狀限制固定座10與吸嘴底座20組裝結構上的水平位移，使兩者相對位置受限而不能再左右移動，以利吸嘴30於真空下的操作使用。

於本實施例中，定位凸點13與定位凹槽23係為一對一相應設置，依需求，亦可選擇性增加相應的結構數目，或是以一定位凸點13對應二定位凹槽23而供選擇以不同的吸嘴底座20方向來組接於固定座10下方。

同參第5、5A圖中所示，導接部22係貫穿固定座10，並具有一上窄下寬的錐狀孔道220，且錐狀孔道220內部係與定位凹槽23相接，以共同形成如第7圖中定位部21的開孔形狀。

第5圖中的剖面為第4圖之A-A剖面示意圖，因為剖面線沒有切經固定座10的定位凸點13，所以在圖中只有顯示用來容置導接柱12的導接部22，同參第5A圖中所示，因為錐狀孔道220具有與垂直線夾有角度θ的傾斜面，使導接部22相對在導接柱12兩側均呈上窄下寬的傾斜面，圖中以虛線表示在另一面上的定位凸點13。導接部22的錐狀孔道220具有一與垂直線夾有1度至5度的傾斜面。依實際需求，錐狀孔道220的傾斜面與垂直線之夾角θ可為2度、2.5度、3度、3.5度、4度或是4.5度，其夾角θ較佳的範圍是在2度至2.5度之間。

本實施例中的固定座10與吸嘴底座20同樣具有導磁性，且吸嘴底座20於上端面設有一密封槽27與一凹部28，同參第3、7圖中所示，定位部21係相對位在凹部28範圍內並相對凸出於凹部28底面，並以一磁鐵29設置於凹部28，使固定座10與吸嘴底座20之間利用磁性吸附而組合連接，且由於固定座10及吸嘴底座20皆為導磁材質，可防止磁力由吸嘴30下面端外漏。

再者，吸嘴底座20以磁性吸附於固定座10，能改善習用嵌入式的組合結構，在安裝易有因疏忽而未將吸嘴底座推置於最底部以與固定座接面平貼，使得吸嘴底座所組裝的吸嘴也一併呈傾斜，於作業時造成所吸附的晶片破裂的問題。

吸嘴底座20的密封槽27設置在凹部28外側，且如第3圖所示，密封槽27係圍繞在凹部28外側(如第7圖中所示)，並在密封槽27中黏固密合設置有一密封件271。密封件271上端接合於固定座10之底面，且於組裝後係夾設於固定座10與吸嘴底座20之間。密封件271與密封槽27係對應設成相同外形。

第7圖中的剖面為第1圖之C-C剖面示意圖，因為剖面線係橫向切經整個吸嘴底座20，在圖中顯示有定位部21所具有共同由導接部22以及定位凹槽23相接而形成的開孔形狀，且磁鐵29是被凸出凹部28底面的定位部21與密封件271所內外圍繞。

由於密封件271的材質也具有彈性，同時也能確保固定座10與吸嘴底座20之間的結構氣密性(如第6、8圖中所示)，使於真空操作下能維持兩者間的真空度，以利吸嘴30於真空下的操作使用。密封件271本身材質的彈性可以將固定座10、吸嘴底座20、吸嘴30以及晶片40相關之可能產生各種結構上不平整或傾斜進行修正，讓吸嘴30可以平整地吸附或平貼在晶片40上。

實際上，溫度有機會影響吸嘴底座20中的磁鐵29，進而影響其磁力，但因吸嘴30使用期限較短，在吸嘴30需要被更換前，溫度對磁鐵29磁力之影響，不會影響到吸取放置作業，除非在吸嘴30其使用期限到達前，磁鐵29已因居禮溫度而造成其完全消磁。

同參第5、6、8圖中所示，吸嘴底座20下端面固定有吸嘴30，吸嘴30頂面設置通道31與複數貫穿吸嘴30的流通孔32，流通孔32經通道31相通於固定座10下端面的導接柱12而與真空通道111相互連通，使得真空通道111與流通孔32形成氣流通道，使吸嘴30利用真空吸氣機(圖中未示)透過真空通道111吸氣時所產生的真空吸力來拾取一晶片40。此時，晶片40會貼合於吸嘴30組裝後用以吸取晶片40的下端面33。

在通常的操作情況下，吸嘴30能夠以其下端面33直接貼合於晶片40，但在如晶片40本身表面不平整或是晶片40在非正常置放等例外情況下，會造成晶片40表面相對與吸嘴30的下端面33係呈現傾斜狀態。

在上述情況下，為使吸嘴30的下端面33貼合於相對呈傾斜的晶片40表面，吸嘴30及吸嘴底座20需配合傾斜，以在不損晶片40結構的情況下仍能保持與晶片40貼合。

本實施例的組裝結構中，導接部22其錐狀孔道220相對在定位凸點13下方具有逐漸加寬孔徑的孔道，如第5、5A圖中所示，此即為錐狀孔道220的傾斜面所圍繞之上窄下寬的錐狀結構空間，由於在吸嘴底座20傾斜時，固定座10是維持原位，其導接柱12不會隨之傾斜，所以利用其錐狀孔道220提供吸嘴底座20在傾斜時，導接柱12所需的相對位移空間，使吸嘴底座20依傾斜方向而能對應上下垂直調整。

在吸嘴底座20傾斜時，其與固定座10會因傾斜而有高度上的落差，此時利用夾設於固定座10與吸嘴底座20之間的密封件271來保持兩者之間的密合度。

密封件271高出吸嘴底座20上端面之高度係配合於固定座10下端面與吸嘴底座20上端面間所預留之一調整空間14，其高度係綜合考量晶片40本身以及與晶片40吸取放置相關所需各元件組合之公差來設定，同時利用密封件271的彈性，可用來補償因相對傾斜而產生的垂直高度落差，以在吸嘴底座20傾斜時保持整體結構上的氣密度，並能自動修正因組裝所累積的垂直公差偏移。

導接部22的錐狀孔道220可配合密封件271，修正因結構上組裝公差的垂直偏移，亦可在晶片40表面與吸嘴30呈傾斜的使用情況下搭配調整操作，且以錐狀孔道220所相接的定位凹槽23與導接柱12外周上的定位凸點13之間對應的結構關係同時可讓整體組裝結構無相對水平位移。錐狀孔道220的傾斜面與垂直線之角度θ係綜合考量固定座10、吸嘴底座20、吸嘴30與晶片40等可能產生垂直偏移最大傾斜度所設置

於組裝第一實施例的組裝結構時，先將密封件271置入密封槽27，其次將磁鐵29置於吸嘴底座20的凹部28，再將吸嘴30黏固在吸嘴底座20的固定凹部26，最後，用手抓住吸嘴底座20兩側所設置的把手25，以定位凹槽23對準定位凸點13的位置，而將導接部22套接於導接柱12處，並藉磁鐵29的吸引力，將吸嘴底座20連同黏固的吸嘴30吸附於固定座10下方。反之，於拆卸時，僅用手抓住吸嘴底座20的把手25而向下拔出，即可將吸嘴底座20及吸嘴30一併卸下。

利用吸嘴底座20的把手25，可讓操作人員在不碰觸到吸嘴30下端面33的情況下，而將吸嘴30直接安裝到固定座10上或是由固定座10取下，不會汙染吸嘴30的下端面33，也不需要拆下設備上的固定座10就可以快速、方便將吸嘴30安裝到固定座10上。

請參閱第9圖，其係顯示本創作第二實施例相關圖面，該實施例之結構與第一實施例大部份相同並具有相同功能，為簡化起見，故標以相同符號並省略相關說明。

第二實施例與第一實施例的差異在於：第二實施例的吸嘴底座20A的定位部21A在其導接部22內部相接有二定位凹槽231、232，並可選擇以定位凹槽231或是定位凹槽232對應定位凸點13，而容置導接柱12於導接部22內部，同樣可用來引導吸嘴底座20相對組接於固定座10下方。

請參閱第10、11圖，其係顯示本創作第三實施例相關圖面，該實施例之結構與第一實施例大部份相同並具有相同功能，為簡化起見，故標以相同符號並省略相關說明。

第三實施例與第一實施例的差異在於：第三實施例的固定座10B，其導接柱12B係為一呈方柱狀的中空柱體，且導接柱12B的側柱面上不具有第一實施中的定位凸點13。

吸嘴底座20B的定位部21B為了能與導接柱12B相互對接而設置為與導接柱12B對應的形狀，且如第11、11A圖中所示呈方形的定位部21B係具有一如金字塔般上窄下寬的錐狀孔道210B，並分別於吸嘴底座20B的上、下端面形成有一上端孔211B與下端孔212B，且吸嘴底座20以孔徑較小的上端孔211B對接於導接柱12B。

定位部21B的錐狀孔道210B為四個相接的傾斜面，傾斜面之數目與導接柱12B所具有之側柱面的數目相同，且錐狀孔道210B的傾斜面與垂直線之夾角θ與第一實施例相同。第三實施例中的導接柱12B其柱體依需求可預設為具有呈凸四邊形或三角形之一的剖面形狀。

固定座10B與吸嘴底座20B之間同樣夾設有一密封件28，同參第11、11A圖中所示，定位部21B的錐狀孔道210B相對在上端孔211B下方具有較寬孔道，並在吸嘴底座20傾斜時，以此較寬孔道提供導接柱12B所需的相對位移空間，以利吸嘴30的下端面33貼合於一呈傾斜的晶片表面，並利用密封件28維持固定座10B與吸嘴底座20B組裝結構的密合度。

本創作中的組裝結構，由於導接柱12、12B與定位部21、21B都是預設在固定座10、10B與吸嘴底座20、20A、20B中央處，因此，固定座的規格可以簡化成一種，當晶片40尺寸變更時，只需要對應更換為適當的吸嘴底座20、20A、20B與吸嘴30即可，而不必變更固定座10、10B的規格，使固定座10、10B能夠長期使用，因此可以節省更換固定座10、10B的工時及成本。

以上所述僅為本創作之較佳實施例而已，非因此即侷限本創作之專利範圍，故舉凡運用本創作說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化，均應同理包含於本創作之專利範圍內。

10、10B‧‧‧固定座

11‧‧‧接合部

111‧‧‧真空通道

12、12B‧‧‧導接柱

13‧‧‧定位凸點

14‧‧‧調整空間

20、20A、20B‧‧‧吸嘴底座

21、21A、21B‧‧‧定位部

22‧‧‧導接部

220、22B‧‧‧錐狀孔道

23、231、232‧‧‧定位凹槽

25‧‧‧把手

26‧‧‧固定凹部

27‧‧‧密封槽

271‧‧‧密封件

28‧‧‧凹部

29‧‧‧磁鐵

30‧‧‧吸嘴

31‧‧‧通道

32‧‧‧流通孔

33‧‧‧下端面

40‧‧‧晶片

第1圖為本創作第一實施例之立體示意圖； 第2圖為本創作第一實施例之底視示意圖； 第3圖為本創作第一實施例之分解示意圖； 第4圖為本創作第一實施例之剖面示意圖； 第5圖為第4圖之A-A剖面示意圖； 第5A圖為第5圖之局部放大示意圖； 第6圖為第4圖之B-B剖面示意圖； 第6A圖為第6圖之局部放大示意圖； 第7圖為第1圖之C-C剖面示意圖； 第8圖為本創作第一實施例之調整垂直偏移剖面示意圖； 第8A圖為第8圖之局部放大示意圖； 第9圖為本創作第二實施例之分解示意圖； 第10圖為本創作第三實施例之分解示意圖； 第11圖為本創作第三實施例之剖面示意圖； 第11A圖第11圖之局部放大示意圖。

10‧‧‧固定座

11‧‧‧接合部

111‧‧‧真空通道

20‧‧‧吸嘴底座

25‧‧‧把手

30‧‧‧吸嘴

Claims (21)

1. 一種連接吸嘴的組裝結構，以供一吸嘴裝設，包括：一固定座，該固定座具有一導磁的本體並於上端面設有一接合部，該接合部具有一真空通道，該固定座下端面設有一中空的導接柱，該導接柱相通於該真空通道並於其外周設有至少一定位凸點；一吸嘴底座，具有一導磁的本體並裝設有該吸嘴，該吸嘴底座設有一貫穿其本體的定位部，且該定位部對應該導接柱設有一導接部，該導接部內部對應該定位凸點設有一定位凹槽，該定位部藉該定位凹槽對應該定位凸點的位置而容置該導接柱於該導接部內部，以將該吸嘴底座組接於該固定座，並限制該固定座與該吸嘴底座組裝結構上的水平位移，以利該吸嘴的操作使用。
2. 如請求項1所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該定位凹槽之數目係多於該定位凸點之數目，以供該吸嘴底座能選擇性利用該定位凹槽對應該定位凸點的位置而組接於該固定座。
3. 如請求項1所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該定位凸點係具有一呈弧曲狀的表面。
4. 如請求項1所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該定位凸點係以一鋼珠之部分連接於該導接柱外周或是在該導接柱設一開孔以容置一鋼珠於其中。
5. 如請求項1所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該吸嘴底座設有一凹部，用以設置一磁鐵，該定位部係相對位在該凹部範圍內並凸出於該凹部底面，使該固定座與該吸嘴底座之間透過磁性吸附而組合連接，且可防止磁力由該吸嘴下面端外漏。
6. 如請求項5所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該吸嘴底座設有一密封槽，該密封槽係圍繞在該凹部外側，並於該密封槽設置有一密封件，該密封件係採用具彈性的材料，並確保該固定座與該吸嘴底座之間真空密閉性。
7. 如請求項1所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該組裝結構於該固定座與該吸嘴底座之間夾設有一密封件，該導接部係具有一上窄下寬的錐狀孔道，該定位凹槽位於該錐狀孔道內部，且該定位部藉由該錐狀孔道相對較寬的孔道來提供該吸嘴底座傾斜時該導接柱所需的相對位移空間，以利該吸嘴下端面貼合於一呈傾斜的晶片表面，並利用該密封件維持該固定座與該吸嘴底座組裝結構的密合度。
8. 如請求項7所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該錐狀孔道具有一與垂直線夾有1度至5度的傾斜面。
9. 如請求項8所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該傾斜面與垂直線之夾角θ較佳的範圍是在2度至2.5度之間。
10. 如請求項7所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該吸嘴底座設有一密封槽與一凹部，該定位部係相對位在該凹部範圍內並凸出於該凹部底面，且該凹部設置有一磁鐵，使該固定座與該吸嘴底座之間透過磁性吸附而組合連接，且並可防止磁力由該吸嘴下面端外漏，該密封槽係圍繞在該凹部外側，該密封件設置於該密封槽。
11. 如請求項10所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該密封件係採用具彈性的材料，以確保真空密閉性。
12. 一種連接吸嘴的組裝結構，以供一吸嘴裝設，包括： 一固定座，該固定座具有一導磁的本體並於上端面設有一接合部，該接合部具有一真空通道，該固定座下端面設有一中空的導接柱，該導接柱相通於該真空通道；一吸嘴底座，具有一導磁的本體並裝設有該吸嘴，該吸嘴底座對應該導接柱設有一貫穿其本體的定位部，且以該定位部對接於該導接柱，以將該吸嘴底座組裝於該固定座，並限制該固定座與該吸嘴底座組裝結構上的水平位移，以利該吸嘴的操作使用。
13. 如請求項12所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該定位部係具有一上窄下寬的錐狀孔道，並分別於該吸嘴底座的上下端面形成有一上端孔與下端孔，且該吸嘴底座係以該上端孔對接於該導接柱，於該固定座與該吸嘴底座之間夾設有一密封件，且該定位部以該錐狀孔道相對位在該上端孔下方的孔道來提供在該吸嘴底座傾斜時，該導接柱所需的相對位移空間，以利該吸嘴下端面貼合於一呈傾斜的晶片表面，並利用該密封件維持該固定座與該吸嘴底座組裝結構的密合度。
14. 如請求項13所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該錐狀孔道具有複數與垂直線夾有1度至5度且相接的傾斜面，且該傾斜面之數目與該導接柱側柱面的數目相同。
15. 如請求項14所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該傾斜面與垂直線之夾角θ較佳的範圍是在2度至2.5度之間。
16. 如請求項12或13或14所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該導接柱具有一呈凸四邊形或三角形之一的剖面形狀。
17. 如請求項12或13所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該吸嘴底座設有一凹部，用以設置一磁鐵，該定位部係相對位在該凹部範圍內並 凸出於該凹部底面，使該固定座與該吸嘴底座之間透過磁性吸附而組合連接，並可防止磁力由該吸嘴下面端外漏。
18. 如請求項17所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該吸嘴底座設有一密封槽，該密封槽係圍繞在該凹部外側，並於該密封槽設置有一密封件，該密封件係採用具彈性的材料，以確保該固定座與該吸嘴底座之間真空密閉性。
19. 如請求項18所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該密封件係採用具彈性的材料，以確保真空密閉性。
20. 如請求項6或7或10所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該密封件係高出該吸嘴底座且其高度係配合於該固定座下端面與該吸嘴底座上端面之間所預留之一調整空間，該調整空間的高度係用以補償因傾斜而產生的高度落差。
21. 如請求項1或5或6或7或10或12或13所述之連接吸嘴的組裝結構，其中，該吸嘴底座兩側各設有一把手，以便於裝卸。