TWM547545U - 具工件導正效果的氣浮結構 - Google Patents
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Description
本創作係涉及一種薄型片體的輸送機構,尤其是指一種能以氣流導正工件的具工件導正效果的氣浮結構。
隨著面板製作技術的日益成熟,大尺寸的面板也開始能進行大量的生產,為了在避免刮傷面板的條件下,使面板能在各個製作流程之間運送,越來越多的面板製作廠商開始採用氣浮的方式來運送面板。
現有的氣浮結構如圖7、圖8及圖9所示,其包括有一主體70、多個出氣孔排80及多個非接觸式吸取結構90;其中,每一出氣孔排80包括有多數個出氣孔81,各出氣孔80沿著垂直方向延伸設於該主體70;各非接觸式吸取結構90裝設於該主體70內且包括有一進氣孔91、一噴嘴92、一擋件93及一流道94,該進氣孔91連通該噴嘴92,且該噴嘴92係呈漸擴狀,該擋件93穿置於該進氣孔91與該噴嘴92且包括有對應該噴嘴92來設置的一皿頭部931,該皿頭部931容置於該噴嘴92內,該流道94形成於該噴嘴92與該擋件93的皿頭部931之間,該流道94環形且斜向地設置。
氣體自該主體70經由多個該出氣孔80噴出而支撐一工件W,且注入多個該非接觸式吸取結構90的氣體,經由多個該非接觸式吸取結構90的多個流道94加速後噴出後,會在該工件W與該主體70之間產生負壓,大氣壓力施加於該工件W、讓該工件W保持在固定位置。如圖9所示,現有的氣浮結構所裝設之非接觸式吸取結構90,其無法提供該工件W側向的控制作用,無法在該工件W在遭受側向外力而偏移時,修正該工件W偏移的狀況;為了能產生修正該
工件W偏移的功效、避免該工件W在運送的過程中產生偏移,現有的氣浮結構在結構設計上仍有改良與進步的空間。
為了解決現有的氣浮結構,其無法提供工件側向的控制作用,且無法修正工件偏移的問題。本創作提出一種具工件導正效果的氣浮結構,其導正氣流輸出部靠近主體的邊緣且斜向地延伸,能在工件與主體間形成負壓、以大氣壓力保持工件在固定位置,以及在工件兩側形成氣牆,達到能導正工件的目的。
本創作解決技術問題所提出的具工件導正效果的氣浮結構,其包括一主體,該主體包括有一垂直軸、多個出氣孔及相平行的二導正氣流輸出部,該多個出氣孔位於該主體的中間,各出氣孔沿著該垂直軸而延伸,各導正氣流輸出部係為一個以上的開口,各導正氣流輸出部靠近該主體的邊緣且斜向地延伸而遠離多個該出氣孔,該多個出氣孔介於兩該導正氣流輸出部之間。
所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中各導正氣流輸出部之延伸方向與所述主體之垂直軸間形成一夾角,該夾角為三十度以上,六十度以下。
所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中所述之主體包括有二側壁及介於兩該側壁之間的一擋件,所述多個出氣孔貫穿設於該擋件,兩所述導正氣流輸出部分別形成於兩該側壁與該擋件之間。
所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中所述之主體包括有一主容氣空間及二副容氣空間,該主容氣空間與兩該副容氣空間設於該主體的內部,所述多個出氣孔連通設於該主容氣空間,兩所述導正氣流輸出部分別連通設於兩該副容氣空間。
所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中各導正氣流輸出部包括有多個開口。
本創作的技術手段可獲得的功效增進在於:
1.本創作之具工件導正效果的氣浮結構,其所設的兩導正氣流輸出部能加速、噴出斜向的氣流,而在工件的兩側形成氣牆來限制工件;此外,兩導正氣流輸出部噴出斜向的氣流還能反覆地對工件的兩側施力,進而對產生偏移之工件產生導正的功效。
2.本創作將導正氣流輸出部之延伸方向與主體之垂直軸間的夾角設為三十度以上,六十度以下(30°≦θ≦60°),能縮減了工件在受到外力時所能偏移的空間。
10‧‧‧主體
11‧‧‧側壁
12‧‧‧擋件
13‧‧‧出氣孔
14‧‧‧導正氣流輸出部
141‧‧‧開口
70‧‧‧主體
80‧‧‧出氣孔
90‧‧‧非接觸式吸取結構
91‧‧‧進氣孔
92‧‧‧噴嘴
93‧‧‧擋件
931‧‧‧皿頭部
94‧‧‧流道
D‧‧‧距離
S1‧‧‧主容氣空間
S2‧‧‧副容氣空間
W‧‧‧工件
X‧‧‧垂直軸
θ‧‧‧夾角
圖1係本創作第一較佳實施例之外觀俯視示意圖。
圖2係本創作第一較佳實施例之剖面示意圖。
圖3係本創作第一較佳實施例之剖面的使用示意圖。
圖4係本創作第一較佳實施例之局部的剖面使用示意圖。
圖5A~5D係本創作之剖面使用示意圖。
圖6係本創作第二較佳實施例之外觀俯視示意圖。
圖7係現有氣浮式輸送結構之外觀俯視示意圖。
圖8係現有氣浮式輸送結構的斷面示意圖。
圖9係現有氣浮式輸送結構之斷面的使用示意圖。
為能詳細瞭解本創作的技術特徵及實用功效,並可依照創作內容來實現,玆進一步以如圖式所示的較佳實施例,詳細說明如后:
如圖1及圖2所示,本創作之具工件導正效果的氣浮結構之第一較佳實施例包括:一主體10,該主體10包括有一垂直軸X、二側壁11、一擋件12、多個出氣孔13、一主容氣空間S1、二導正氣流輸出部14及二副容氣空間S2;其中,該主體10的垂直軸X朝向該主體10的上、下方延伸;兩該周壁11靠近該主體10的邊緣且朝向同一方向延伸;該擋件12介於兩該側壁11之間;該多個出氣孔13位於該主體10的中間,在本創作的較佳實施例中,該多個出氣孔13貫穿設於該擋件12,各出氣孔13沿著該主體10的垂直軸X而延伸且連通設於該主體10內部的主容氣空間S1;兩該導正氣流輸出部14分別形成於兩該側壁11與該擋件12之間且相平行,該多個出氣孔13介於兩該導正氣流輸出部14之間,各導正氣流輸出部14係為一個以上的開口;在本創作的第一較佳實施例中,兩該導正氣流輸出部14係為二個長形的開口,兩該導正氣流輸出部14由下而上且分別地斜向兩該側壁11的外部,兩該導正氣流輸出部14朝向遠離該多個出氣孔13的方向延伸,且兩該導正氣流輸出部14分別連通設於該主體10內部的兩該副容氣空間S2,各導正氣流輸出部14的延伸方向與該主體10的垂直軸X間形成一夾角θ;在本創作的較佳實施例中,該夾角θ的角度為四十五度,應用上,該夾角θ的角度應設為三十度以上,六十度以下(30°≦θ≦60°)。
如圖3及圖4所示,氣體引入該主體10內部的主容氣空間S1後,經過該多個出氣孔13而形成沿著該主體10之垂直軸X而向上噴出的多道氣流來支撐該工件W,氣體引入該主體10內部的兩該副容氣空間S1後,兩該副容氣空間S1內的氣體分別經過兩該導正氣流輸出部14而斜向噴出的兩氣流則能在該工件W的兩側形成氣牆,當該工件W遭受外力而產生偏移時,經過該導正氣流輸出部14而斜向噴出的氣流能產生限位、導正該工件W的功效;本創作的各出氣孔13沿著該主體10的垂直軸X而延伸,經過各出氣孔13而噴出的氣流垂直地支撐該工件W且不會施加側向力於該工件W;本創作將該導正氣流輸出部14之延
伸方向與該主體10之垂直軸X間的夾角θ設為三十度以上,六十度以下(30°≦θ≦60°),能減小經過該導正氣流輸出部14之氣流與該工件W周緣間的一距離D,同時也縮減了該工件W所能偏移的空間。
如圖5A、5B所示,該工件W受多個該出氣孔13所噴出的氣流支撐,當該工件W受到側向的力量而朝向圖5A的右側偏移時,靠近圖5B右側的一該導正氣流輸出部14加速噴出氣流且對該工件W的右邊部份施力,令該工件W的右邊部份微幅抬升;如圖5C所示,接著,該工件W由於重力的作用而斜下往圖5C的左側移動;如圖5D所示,該工件W的左邊部份受到靠近圖5D左側的一該導正氣流輸出部14所噴出之氣流的施力,該工件W的左邊部份微幅抬升後,再次斜下往圖5D的左側移動;該工件W反覆地進行圖5A至5D的流程、受到兩該導正氣流輸出部14所噴出之氣流的導正而逐漸回復至中間位置。
如圖6所示,本創作的第二較佳實施例與第一較佳實施例大致相同,第二較佳實施例同樣包括有一該主體10,該主體10同樣包括有兩該側壁11、一該檔件12、多個該出氣孔13、連通多個該出氣孔13的一該主容氣空間、兩該導正氣流輸出部14及分別連通兩該導正氣流輸出部14的兩該副容氣空間;第二較佳實施例與第一較佳實施例的差異在於:各導正氣流輸出部14係包括有多個開口141,各導正氣流輸出部14的多個開口141沿著兩該側壁11的延伸方向而間隔地排列。
與裝設有多個非接觸式吸取結構的現有的氣浮結構相比,在本創作的第一與第二較佳實施例中,本創作經由兩該導正氣流輸出部14而加速噴出的氣流能反覆在該工件W的右側部份與左側部份施力,逐漸導正該工件W回覆至中間位置,本創作經由兩該導正氣流輸出部14而斜向噴出的氣流,不但能在該工件W的兩側形成氣牆來限制該工件W,即使該工件W受到側向外力作用而偏移,經由兩該導正氣流輸出部14而斜向噴出的氣流亦能對該工件W產生導
正的功效;最後,如上所述,本創作將該導正氣流輸出部14之延伸方向與該主體10之垂直軸X間的夾角θ設為三十度以上,六十度以下(30°≦θ≦60°),而能縮減了該工件W在受到外力時所能偏移的空間。
10‧‧‧主體
11‧‧‧側壁
12‧‧‧擋件
13‧‧‧出氣孔
14‧‧‧導正氣流輸出部
S1‧‧‧主容氣空間
S2‧‧‧副容氣空間
X‧‧‧垂直軸
θ‧‧‧夾角
Claims (6)
- 一種具工件導正效果的氣浮結構,其包括一主體,該主體包括有一垂直軸、多個出氣孔及相平行的二導正氣流輸出部,該多個出氣孔位於該主體的中間,各出氣孔沿著該垂直軸而延伸,各導正氣流輸出部係為一個以上的開口,各導正氣流輸出部靠近該主體的邊緣且斜向地延伸而遠離多個該出氣孔,該多個出氣孔介於兩該導正氣流輸出部之間。
- 如請求項1所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中各導正氣流輸出部之延伸方向與所述主體之垂直軸間形成一夾角,該夾角為三十度以上,六十度以下。
- 如請求項2所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中所述的主體包括有二側壁及介於兩該側壁之間的一擋件,所述多個出氣孔貫穿設於該擋件,兩所述導正氣流輸出部分別形成於兩該側壁與該擋件之間。
- 如請求項3所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中所述的主體包括有一主容氣空間及二副容氣空間,該主容氣空間與兩該副容氣空間設於該主體的內部,所述多個出氣孔連通設於該主容氣空間,兩所述導正氣流輸出部分別連通設於兩該副容氣空間。
- 如請求項1或4所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中各導正氣流輸出部係為二長形的開口。
- 如請求項1或4所述之具工件導正效果的氣浮結構,其中各導正氣流輸出部係為間隔排列的多個開口。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW106203792U TWM547545U (zh) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | 具工件導正效果的氣浮結構 |
Applications Claiming Priority (1)
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TW106203792U TWM547545U (zh) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | 具工件導正效果的氣浮結構 |
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Publication Number | Publication Date |
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TWM547545U true TWM547545U (zh) | 2017-08-21 |
Family
ID=60188840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW106203792U TWM547545U (zh) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | 具工件導正效果的氣浮結構 |
Country Status (1)
Country | Link |
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TW (1) | TWM547545U (zh) |
-
2017
- 2017-03-17 TW TW106203792U patent/TWM547545U/zh unknown
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