M438377 101年07月26日修正替換頁 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 [0001] 本創作是有關於一種有色膜結構，特別是有關於一種以 薄膜沉積法形成一層粗糙金屬層以減少光反射率之有色 膜結構。 【先前技術】 [0002] 目前，在各種樂器、家電與3C產品中，擁有光鮮亮麗的 . 外觀不但可以提升買氣，更可以提升產品本身的工藝價 值。因此，各家廠商都必須在產品表面的色澤與質感上 下工夫，才能讓自家的產品能得到更多消費者的青睞。 習知外觀加工的方式有電鍍、烤漆或真空濺鍍，其中電 鍍大多只能電鍍於金屬材質的外殼上，電鍍加工的過層 中還會產生大量的電鍍廢水，以至汙染環境，且電鍍容 易在表面產生微顆粒而影響觀感。烤漆加工具有亮面、 色彩鮮豔與不易掉漆之優點，但其表面往往容易沾上指 紋而變髒，而增加清潔上之問題。真空濺鍍加工具有低 成本、產量大與符合環保法令之優點，但缺點是真空濺 锻加工往往無法呈現特定之顏色，例如白色。 【新型内容】 [0003] 有鑑於上述習知技藝之問題，本創作之目的就是在提供 一種色膜結構，以增加產品外觀之工藝價值。 [0004] 緣是，為達上述目的，本創作之有色膜結構，其包含： 一基板；一粗Μ金屬層，此粗縫金屬層位於基板上，此 粗縫金屬層之表面具有一粗縫度，用以降低光反射率； 以及一顯色層，此顯色層係位於粗縫金屬層之表面上， 1〇12〇6%#單編號删1 第3頁/共14頁 1013285711-0 M438377 [0005] [0006] [0007] [0008] [0009] 101年07月26日修正替換頁 有色膜結構藉以使有色膜結構顯現一顏色；—保護層， 此保護層係位於顯色層上，藉以保護顯色層於大氣或其 他環境下不會產生氧化現象或化學變化現象。 其中，此保護層之膜厚範圍係10nm(奈米）至1〇〇〇nm，該 保護層之材質係為氧化石夕（Si〇x)或氡化銘（Αίο ),且乂 X 係為一有理數。 其中，此基板之材質係為玻璃、金屬、不鏽鋼或高分子 材料。該基板可選擇性與粗糙金屬層之間沉積一緩衝層， ，用以緊密結合該基板與該粗糙金屬層，該緩衝層之材 讀 質係為錄、絡、各種錄合金或各種路合金。 其中’此粗糙金屬層之材質係為錫、鋅、銦、各種錫合 金、各種銦合金或各種辞合金，該粗糙金屬層之膜厚範 圍係5mn至l〇〇〇nm，該粗糙金屬層之平均表面粗糙度 (Ra)範圍係為可例如為約0.06微米Um)至約〇 25微米 之間。 其中，該顯色層之材質係為銅、鋁、銀、鎳、鉻、锆、· 姑、氧化銅 '氧化IS、氧化銀、氧化錄、氧化絡、氧化 锆、氧化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化錯、氮化鈦或不鏽 鋼’顯色層之膜厚範圍係3011111至550011111。 承上所述，依本創作之有色膜結構，其可具有一或多個 下述優點： (1) 此有色膜結構可藉由粗糙金屬層減少光反射率，藉 此形成特定顏色。 (2) 此有色膜結構具有一保護層保護顯色層，藉此避免有 1012069#單编號 A〇101 第4頁/共14頁 1013285711-0 M43'8377 101年07月26日修正替換頁 色膜結構之顯色層變質並可提升有色膜硬度。 【實施方式】 [0010] 請參閱第1圖，其係為本創作之有色膜結構之示意圖。圖 中，有色膜結構包含基板10，此基板10係例如為玻璃、 金屬、不鏽鋼或高分子材料等材料。此基板10上設有粗 糖金屬層12，粗Μ金屬層12之表面具有一粗棱度，用以 降低反射率。粗糙金屬層12上設有顯色層14，藉以使有 色膜結構顯現一顏色。顯色層14上設有保護層16，藉以 保護顯色層14。其中，基板10與該粗糙金屬層12之間可 選擇性具有一緩衝層18，此緩衝層18用以使基板10與粗 糙金屬層12具有更好之接合效果。此外，粗糙金屬層12 之厚度範圍例如5至1 000奈米（nm)，較佳為100至500奈 米（nm);顯色層14之厚度範圍例如30至5500奈米（run) ，較佳為350至1500奈米（nm);保護層16之厚度範圍例 如10至1 000奈米（nm)，較佳為30至110奈求（nm)。 [0011] 請參閱第2圖，其係為本創作之有色膜結構之粗糙金屬層 之示意圖。圖中，粗糙金屬層12之表面121具有一粗糙度 ，此表面121可使光線進行反複反射，藉以吸收光線降低 反射率，並避免發生例如全反射之情況。其中，此粗糙 金屬層12之材質係例如為錫、鋅、銦、各種錫合金、各 種鋅合金或各種銦合金之金屬，藉由例如薄膜沉積法， 且例如濺鍍法，形成於該基板10上，藉此產生一粗糙金 屬層12。此外，基板10與粗糙金屬層12之間可選擇性具 有一緩衝層18，此緩衝層18之材質係例如為鎳、鉻、各 種錄合金或各種絡合金。此粗縫金屬層12之表面121之平 10120696^單編號 A〇101 第5頁/共14頁 1013285711-0 M438377 101年07月26日修正替換頁 均表面粗輕度（Ra)範圍係為可例如為約0.06微米（#«0 至約0. 25微米之間，較佳為約0. 08微米（ym)至約〇. 13 微米之間》 [0012] 請參閱第4圖，其係為本創作之平均反射率示意圖。如第 1圖與第4圖所示，以玻璃為基板10之材質，於此基板1〇 濺鍍一層銦（In)形成粗糙金屬層12，再於粗糙金屬層12 濺鑛一層銀（Ag)為顯色層14，此有色膜結構在可見光波 長400奈米至800奈米之間平均反射率為84. 22%。以玻璃 為基板10之材質，於此基板10藏鍍一層銀（Ag)為顯色層 14而不濺鍍粗糙金屬層12，此有色膜結構在可見光波長 400奈米至800奈米之間平均反射率為94. 84%。由此可知 ，已形成粗糙金屬層12之有色膜結構之平均光反射會小 於未形成粗糙金屬層12之有色膜結構。故，本創作於有 色膜結構中有形成一層粗链金屬層12，藉以吸收光線降 低反射率’並且避免發生例如全反射之情況。 [0013] 如第1圖與第2圖所示，顯色層14係形成於粗糙金屬層12 之上’此顯色層14係用以使有色膜結構顯現一顏色。此 顯色層14之成分例如為銅、鋁、銀、鎳、鉻、鉛、鈦、 氧化銅、氧化鋁、氧化銀、氧化鎳、氧化鉻、氧化鉛、 氧化欽、氮化鋁、氮化鉻、氮化锆、氮化鈦或不鏽鋼， 以及其他有色薄骐材料，此有色薄膜材料係以薄膜沉積 法，例如激鍍、蒸鍍、化學沉積（Cheraical Vapor Deposition, CVD)、電漿化學氣相沉積（Plasma enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)或 塗佈等方法’形成於粗棱金屬層12之上。 1012_#單編號 A〇101 第6頁/共14頁 1013285711-0 M438377 [0014]
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10Ϊ年.07月26日修正替換頁 如第1圖與第2圖所示，本創作之第一實施例如有色膜結 構之一粗糙金屬層12之材質為銦，此粗糙金屬層12之厚 度為350奈米（nm)，此粗敍金屬層12之表面121之平均表 面粗糙度（Ra)為0. 103微米（/zm)。此粗糙金屬層12上之 此顯色層14之材質為鋁，所以此顯色層14之顏色為銀白 色，此顯色層14之厚度為800奈米（nm)。此顯色層14上 之保護層16之材質為矽氧化物（SiOx)，此保護層16之厚 度為55奈米（nm)。综前所述，此第一實施例之有色膜結 構係產生一銀白色澤。 如第1圖與第2圖所示，本創作之第二實施例如有色膜結 構之一粗糙金屬層12之材質為錫，此粗糙金屬層12之厚 度為350奈米（nra)，此粗縫金屬層12之表面121之平均表 面粗糙度（Ra)為0. 085微米（Mm)。此粗糙金屬層12上之 此顯色層14之材質為銀，所以此顯色層14之顏色為白色 ，此顯色層14之厚度為1200奈米（nm)。此顯色層14上之 保護層16之材質為矽氧化物（SiOx)，此保護層16之厚度 為55奈米（nra)。综前所述，此第一實施例之有色膜結構 係產生一珍珠白色澤。 [0016] 請參閱第3圖，其係為本創作之有色膜結構之製造方法之 流程圖。圖中，步驟S1係提供一基板10，此基板10係經 過清洗步驟，此基板10之材質係為玻璃、金屬、不鏽鋼 或高分子材料等材料。步驟S2係進行第一形成步驟，此 第一形成步驟係於基板10上例如以薄膜沉積法，例如濺 鍍、蒸鍍、化學沉積（CVD)、電漿化學氣相沉積（PECVD) 或塗佈，形成一層粗糖金屬層12，此粗縫金屬層12係為 101206%#單編號 A0101 第7頁/共14頁 1013285711-0 M438377 101年07月26日核正替換頁 低熔點金屬，例如錫、鋅、銦、各種錫合金、各種鋅合 金或各種銦合金。步驟S3係進行第二形成步驟，此第二 形成步驟係於粗糙金屬層12上形成一顯色層14 »此顯色 層14之形成方法係例如以薄膜沉積法，例如濺鍵、蒸錢 、化學沉積（CVD)、電漿化學氣相沉積（PECVD)或塗佈形 成一層有色薄膜於粗糙金屬層12上，此有色薄膜之材質 例如為銅、鋁、銀'鎳、鉻、鍅、鈦、氧化銅' 氧化鋁 、氧化銀、氧化鎳、氧化鉻、氧化結、氧化鈦、氮化銘 、氮化鉻、氮化錯、氮化鈦或不鏽鋼，以及其他有色薄 膜材料。步驟S4係進行第三形成步驟，此第三形成步驟 · 係於顯色層14上形成一保護層16，此保護層16之形成方 法例如以薄膜沉積法，例如濺鍍、蒸鍍、化學沉積（CVD) 、電漿化學氣相沉積（PECVD)或塗佈，形成一層矽氧化物 (SiOx)或铭氧化物（ΑίΟχ)於顯色層14上，且X係為一有 理數。其中，可選擇性於第一形成步驟中，係先形成一 層緩衝層18，再於此緩衝層18上形成粗糙金屬層12。此 緩衝層18之形成方法例如以薄膜沉積法，例如濺鑛法， 形成一層鎳、鉻、各種鎳合金或各種鉻合金於基板1〇上 < 〇 [0017] 以上所述僅為舉例性，而非為限制性者❶任何未脫離本 創作之精神與範疇，而對其進行之效修改或變更，均應 包含於後附之申請專利範圍中。 【圖式簡單說明】 [0018] 第1圖係為本創作之有色膜結構之示意圖。 第2圖係為本創作之有色膜結構之粗糙金屬層之示意圍。 10120696#單编號 A〇101 第8頁/共14頁 1013285711-0 M438377 101年07月26日梭正替換頁 第3圖係為本創作之有色膜結構之製造方法之流程圖。 第4圖係為本創作之平均反射率示意圖。 【主要元件符號說明】 [0019] 10 :基板 12 :粗糙金屬層 121 :表面 14 :顯色層 16 :保護層 18 :緩衝層 51 :提供基板 52 :進行第一形成步驟 53 :進行第二形成步驟 . S4 :進行第三形成步驟 101206%#料號 A0101 第9頁/共14頁 1013285711-0