JP4872803B2 - 装飾層、それを設けた加熱調理器用ガラストッププレート、及び加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法 - Google Patents
装飾層、それを設けた加熱調理器用ガラストッププレート、及び加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明は、ガラス板、磁器、琺瑯基板等の基材に形成する装飾層、それを設けた加熱調理器用ガラストッププレート、装飾層の形成方法、及び加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法に関する。
例えば、ガラス板の基材に装飾を施したものとして、電磁調理器やガス調理器等の調理器の上部に設置されている、ガラス板よりなる加熱調理器用ガラストッププレートが挙げられる。
この加熱調理器用ガラストッププレートには、ナベ等の被加熱物が設置され、該被加熱物は調理器内部の加熱装置により加熱調理できる。特に、電磁調理器は、安全性が高いため、近年ますますその需要が増加する傾向にあり、それに伴い加熱調理器用ガラストッププレートの需要も増大している。
この加熱調理器用ガラストッププレートには、ナベ等の被加熱物が設置され、該被加熱物は調理器内部の加熱装置により加熱調理できる。特に、電磁調理器は、安全性が高いため、近年ますますその需要が増加する傾向にあり、それに伴い加熱調理器用ガラストッププレートの需要も増大している。
上記加熱調理器の需要が増加するにつれて、加熱調理器用ガラストッププレートには、耐衝撃性等の物理的特性の他に、様々な特性が要求されるようになってきた。例えば、基板ガラスの表面に様々な模様を施した意匠性に優れたガラストッププレートがある（特許文献１）。
また、基材に金属表面のような光沢（金属調光沢効果）を付与しようとする場合には、一般的に、メタリック顔料（パール顔料）を使用した装飾が行われてきた。
しかしながら、パール顔料を使用する場合には、基材表面がガサガサとなり、汚れが溜まり易くなったり、汚れが取れにくくなったり、摩耗強度が低下し、洗浄作業時の摩耗や鍋等の接触により表面が摩耗し易くなる欠点があった。
しかしながら、パール顔料を使用する場合には、基材表面がガサガサとなり、汚れが溜まり易くなったり、汚れが取れにくくなったり、摩耗強度が低下し、洗浄作業時の摩耗や鍋等の接触により表面が摩耗し易くなる欠点があった。
また、基材は、全く無欠点の基材を作製することは難易度が高く、基材表面にピンホールや、筋キズや、汚れ等の何らかの欠点が観察される場合がある。上記ピンホールとは、基板の結晶化工程中に使用される球状粒子が基材表面に食い込み、それがとれるためにできる、大きさが１ｍｍ前後までの円形状の穴である。また、上記筋キズとは、基材表面に直線状に凹んだキズが残ったものであり、幅も長さも様々である。
そして、このような欠点を有する基材に対して装飾を行う場合には、装飾によってその欠点が強調される場合があり、製品の質感が劣るおそれがあった。そして、それを防ぐために、基材の表面の欠点を十分調査する必要があり、コスト的に高いものになるという問題があった。
また、このような問題は、基材がガラス板である場合だけに限らず、磁器、琺瑯基板等の基材に装飾層を設ける場合にも同様である。
また、このような問題は、基材がガラス板である場合だけに限らず、磁器、琺瑯基板等の基材に装飾層を設ける場合にも同様である。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたものであって、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い装飾層、それを有する加熱調理器用ガラストッププレート、及び加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法を提供しようとするものである。
第１の発明は、加熱調理器用ガラストッププレートの基板ガラスの調理面に設けてなる装飾層であって、
該装飾層は、上記基板ガラスの上記調理面の全面又は一部を覆うように積層してなるガラス装飾層と、
該ガラス装飾層全面又は一部を覆うように更に積層してなる高反射膜と、
上記高反射膜の一部を覆うように更に積層してなる絵付けガラス装飾層とからなり、
上記ガラス装飾層は、ガラス組成物からなり、厚みが０．５〜１５μｍであると共に、表面粗さＲａが１．５μｍ以下であり、
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とし、厚みが２０〜３００ｎｍであり、
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍであることを特徴とする装飾層にある（請求項１）。
該装飾層は、上記基板ガラスの上記調理面の全面又は一部を覆うように積層してなるガラス装飾層と、
該ガラス装飾層全面又は一部を覆うように更に積層してなる高反射膜と、
上記高反射膜の一部を覆うように更に積層してなる絵付けガラス装飾層とからなり、
上記ガラス装飾層は、ガラス組成物からなり、厚みが０．５〜１５μｍであると共に、表面粗さＲａが１．５μｍ以下であり、
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とし、厚みが２０〜３００ｎｍであり、
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍであることを特徴とする装飾層にある（請求項１）。
本発明の装飾層の最も注目すべき点は、基板ガラスの調理面に表面粗さの低いガラス装飾層を形成し、その表面の全面又は一部を覆うように高反射膜を形成し、その一部を覆うように更に絵付けガラス装飾層を形成することにある。これにより、高い摩耗強度を有すると共に、安定した意匠特性を有する装飾層を得ることができる。
上記ガラス装飾層は、ガラス組成物からなり、厚みが０．５〜１５μｍであると共に、表面粗さＲａが１．５μｍ以下である。
上記基板ガラスが表面にピンホールや、筋キズ、汚れ等の欠点を有する場合でも、上記ガラス装飾層が形成されていることにより、その欠点を隠したり目立たなくして質感を向上することができ、また、上述のように、表面粗さＲａが１．５μｍ以下である平坦な面上に上記高反射膜を形成することができる。そのため、幅広い種類の基板ガラスに対して、安定した意匠特性を付与することができる。
また、上記基板ガラスの表面粗さが粗い場合には、上記ガラス装飾層を形成することにより、その表面粗さを低くすることもできる。
上記基板ガラスが表面にピンホールや、筋キズ、汚れ等の欠点を有する場合でも、上記ガラス装飾層が形成されていることにより、その欠点を隠したり目立たなくして質感を向上することができ、また、上述のように、表面粗さＲａが１．５μｍ以下である平坦な面上に上記高反射膜を形成することができる。そのため、幅広い種類の基板ガラスに対して、安定した意匠特性を付与することができる。
また、上記基板ガラスの表面粗さが粗い場合には、上記ガラス装飾層を形成することにより、その表面粗さを低くすることもできる。
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍである。
上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、及びＺｒＯ2は屈折率が高く、表面粗さＲａが１．５μｍ未満の平坦な表面を有するガラス装飾層に、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする高反射膜を形成すると、基板ガラス表面に安定した所望の意匠表現を付与することができる。
上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、及びＺｒＯ2は屈折率が高く、表面粗さＲａが１．５μｍ未満の平坦な表面を有するガラス装飾層に、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする高反射膜を形成すると、基板ガラス表面に安定した所望の意匠表現を付与することができる。
上記所望の意匠表現としては、輝度の高い金属表面のような質感を有する金属調光沢や、マットな金属表面のような質感を有するつや消し金属調等がある。これらの意匠表現は、ガラス装飾層及び高反射膜の装飾条件を調整することによって発現させることができ、その装飾条件は、実験によって導き出すことができる。
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍである。
これにより、この絵付けガラス装飾層が、基板ガラス表面上では高反射膜よりも高い位置に存在することとなり、他の物と装飾層表面とが接触する際に、高反射膜が上記物と直接接触することを抑制することができ、上記高反射膜の摩耗を抑制することができる。
これにより、この絵付けガラス装飾層が、基板ガラス表面上では高反射膜よりも高い位置に存在することとなり、他の物と装飾層表面とが接触する際に、高反射膜が上記物と直接接触することを抑制することができ、上記高反射膜の摩耗を抑制することができる。
また、絵付けガラス装飾層がなく上記高反射膜が露出した部分は上記高反射膜による上述の所望の意匠、又は後述するホログラム調の奥行きのある意匠が、上記基板ガラスの欠点を隠して安定して表現され、上記高反射膜の上に絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢のない表現となる。そのため、上記装飾層全体としては、上記高反射膜と上記絵付けガラス装飾層のコントラストにより、意匠に多様性を付与することができる。
このように、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い装飾層を得ることができる。
このように、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い装飾層を得ることができる。
第２の発明は、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、第１の発明の装飾層を積層してなることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートにある（請求項７）。
すなわち、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートは、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、第１の発明の優れた装飾層を設けたものである。
すなわち、絵付けガラス装飾層がなく上記高反射膜が露出した部分は、上記高反射膜による所望の意匠又はホログラム調の奥行きのある意匠が、基板ガラス表面の欠点を隠して安定して表現され、上記高反射膜の上に絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢のない表現となっている。
すなわち、絵付けガラス装飾層がなく上記高反射膜が露出した部分は、上記高反射膜による所望の意匠又はホログラム調の奥行きのある意匠が、基板ガラス表面の欠点を隠して安定して表現され、上記高反射膜の上に絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢のない表現となっている。
また、上記絵付けガラス装飾層は、調理面上では高反射膜よりも高い位置に存在することとなり、高反射膜が鍋等の被加熱物と直接接触することを抑制することができる。そのため、基板ガラス本来の強度を低下させることなく、上記高反射膜の摩耗を抑制することができる。
このように、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い、加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。なお、上記調理面とは、加熱調理器を使用する際に、鍋などを置く面である。
このように、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い、加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。なお、上記調理面とは、加熱調理器を使用する際に、鍋などを置く面である。
参考発明は、ガラス組成物と有機樹脂とからなるガラス装飾層用ペーストを基材の表面の全面又は一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することによりガラス装飾層を形成し、
Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより高反射膜を形成し、
ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成することを特徴とする装飾層の形成方法にある。
Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより高反射膜を形成し、
ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成することを特徴とする装飾層の形成方法にある。
上記参考発明の装飾層の形成方法は、まず、組成物と有機樹脂とからなるガラス装飾層用ペーストを基材の表面の全面又は一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することによりガラス装飾層を形成する。
これにより、上記基材表面の欠点に影響されることなく、基板表面の欠陥を隠し、所定の表面粗さを有するガラス装飾層を形成することができる。
これにより、上記基材表面の欠点に影響されることなく、基板表面の欠陥を隠し、所定の表面粗さを有するガラス装飾層を形成することができる。
そして、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成する。これにより、基材の欠点を隠し、所定の表面粗さを有する上記ガラス装飾層上にＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする高反射膜を形成することができる。そのため、安定した意匠特性を発揮する高反射膜を形成することができる。
そして、上記高反射膜を形成した後、ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の上に該高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、ガラス組成物からなる絵付けガラス装飾層を形成する。そのため、上記高反射膜の摩耗を抑制すると共に、意匠に多様性を付与する装飾層を形成することができる。
このように、参考発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い装飾層を形成することができる。
このように、参考発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い装飾層を形成することができる。
第３の発明は、第２の発明の加熱調理器用ガラストッププレートを製造する方法であって、
ガラス組成物と有機樹脂とからなるガラス装飾層用ペーストを上記基板ガラスにおける上記調理面の全面又は一部に塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、厚みが０．５〜１５μｍであると共に表面粗さＲａ１．５μｍ以下のガラス装飾層を形成するガラス装飾層形成工程と、
Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上を金属の主成分とする金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより、ＴｉＯ 2 、ＣｅＯ 2 、ＺｒＯ 2 のうち１種以上を主成分とし、厚みが２０〜３００ｎｍの高反射膜を形成する高反射膜形成工程と、
ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、厚み１〜１５μｍの絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程とを有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法にある（請求項９）。
ガラス組成物と有機樹脂とからなるガラス装飾層用ペーストを上記基板ガラスにおける上記調理面の全面又は一部に塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、厚みが０．５〜１５μｍであると共に表面粗さＲａ１．５μｍ以下のガラス装飾層を形成するガラス装飾層形成工程と、
Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上を金属の主成分とする金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより、ＴｉＯ 2 、ＣｅＯ 2 、ＺｒＯ 2 のうち１種以上を主成分とし、厚みが２０〜３００ｎｍの高反射膜を形成する高反射膜形成工程と、
ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、厚み１〜１５μｍの絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程とを有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法にある（請求項９）。
本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法は、基材として低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスを用いて、その調理面に、上記参考発明と同一の装飾層の形成方法によって装飾層を形成することにより、第２の発明の加熱調理器用ガラストッププレートを製造する方法である。
そのため、基板ガラスの調理面に、基板ガラス表面の欠点を隠し、所定の表面粗さを有するガラス装飾層と、所望の意匠を発揮する高反射膜と、該高反射膜の摩耗を抑制すると共に、意匠に多様性を付与する装飾層とからなる装飾層を形成することができる。
このように、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い、加熱調理器用ガラストッププレートを製造することができる。
このように、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い、加熱調理器用ガラストッププレートを製造することができる。
第１の発明の装飾層は、上述したように、基板ガラスの調理面に、該調理面の全面又一部を覆うように積層してなるガラス装飾層と、該ガラス装飾層の全面又一部を覆うように更に積層してなる高反射膜と、上記高反射膜上に、該高反射膜の一部を覆うように更に積層してなる絵付けガラス装飾層とからなる。
すなわち、上記装飾層は、少なくとも、基板ガラスからなる基材の調理面に上記ガラス装飾層と上記高反射膜が積層されて、これが露出している部分と、該ガラス装飾層と高反射膜が積層された上に更に絵付けガラス装飾層が積層された部分が存在することとなる。また、基材表面が露出した部分があってもよいし、上記ガラス装飾層が露出した部分があってもよいし、基材表面の上に高反射膜もしくは絵付けガラス装飾層のみが形成された部分があってもよい。
上記ガラス装飾層は、ガラス組成物からなり、厚みが０．５〜１５μｍである。
上記ガラス装飾層の厚みが０．５μｍ未満の場合には、ガラス装飾層の膜厚が十分ではなく、基材表面のピンホールや筋キズ等の欠点を十分に隠すことができず、高反射膜を形成すると、その欠点が強調されるおそれがある。一方、上記ガラス装飾層の厚みが１５μｍを超える場合には、基材から上記ガラス装飾層が剥離するという問題がある。
上記ガラス装飾層の厚みは、好ましくは、１〜１０μｍである。
上記ガラス装飾層の厚みが０．５μｍ未満の場合には、ガラス装飾層の膜厚が十分ではなく、基材表面のピンホールや筋キズ等の欠点を十分に隠すことができず、高反射膜を形成すると、その欠点が強調されるおそれがある。一方、上記ガラス装飾層の厚みが１５μｍを超える場合には、基材から上記ガラス装飾層が剥離するという問題がある。
上記ガラス装飾層の厚みは、好ましくは、１〜１０μｍである。
また、上記ガラス装飾層は、表面粗さＲａが１．５μｍ以下である。
そして、上記ガラス装飾層の表面が平坦であるほど、上記高反射膜を設けた際に所望の意匠特性を付与することができる。上記ガラス装飾層の表面粗さＲａが１．５μｍを超える場合には、高反射膜を形成しても、表面が平坦でなく光が乱反射するため、所望の意匠特性を得ることができないという問題がある。
より好ましくは、上記ガラス装飾層の表面は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満である。
なお、ここでいう表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠するものである。
そして、上記ガラス装飾層の表面が平坦であるほど、上記高反射膜を設けた際に所望の意匠特性を付与することができる。上記ガラス装飾層の表面粗さＲａが１．５μｍを超える場合には、高反射膜を形成しても、表面が平坦でなく光が乱反射するため、所望の意匠特性を得ることができないという問題がある。
より好ましくは、上記ガラス装飾層の表面は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満である。
なお、ここでいう表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠するものである。
上記ガラス組成物としては、リサイクル性などを考慮し、無鉛ガラス組成物であることが好ましい。
また、上記ガラス組成物は、軟化点が６５０℃以下であることが好ましい。また、上記ガラス組成物は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、及びＫ2Ｏを必須成分として含有し、必要に応じてＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2うち１種以上を添加成分として含有し、７５０〜１２００℃で熱処理することにより熔着する無鉛ガラス組成物を用いることがより好ましい。
また、上記ガラス組成物の熱処理温度は７８０〜９３０℃がより好ましい。更に好ましくは、上記ガラス組成物の熱処理温度は７９０〜８９０℃である。
また、上記ガラス組成物は、軟化点が６５０℃以下であることが好ましい。また、上記ガラス組成物は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、及びＫ2Ｏを必須成分として含有し、必要に応じてＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2うち１種以上を添加成分として含有し、７５０〜１２００℃で熱処理することにより熔着する無鉛ガラス組成物を用いることがより好ましい。
また、上記ガラス組成物の熱処理温度は７８０〜９３０℃がより好ましい。更に好ましくは、上記ガラス組成物の熱処理温度は７９０〜８９０℃である。
また、上記装飾層の上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする。
上記高反射膜において、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、焼成後の高反射膜全体の重量を１００％とすると（以下同様）、５０〜１００％の範囲であることが好ましい。
上記含有量が５０％未満の場合には、反射率が低下し、十分な意匠特性を得ることができないおそれがある。上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、より好ましくは、８０〜１００％である。
上記高反射膜において、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、焼成後の高反射膜全体の重量を１００％とすると（以下同様）、５０〜１００％の範囲であることが好ましい。
上記含有量が５０％未満の場合には、反射率が低下し、十分な意匠特性を得ることができないおそれがある。上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、より好ましくは、８０〜１００％である。
また、高反射膜は、その意匠特性を妨げない範囲で、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、遷移金属元素（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｃｒ等）の金属酸化物、貴金属元素（Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等）等のうち１種又は２種以上を含有してもよい。
また、上記高反射膜は厚みが２０〜３００ｎｍである。
上記高反射膜の厚みが２０ｎｍ未満の場合には、所望の意匠特性が十分に表現得られないという問題があり、一方、上記厚みが３００ｎｍを超える場合には、ガラス装飾層と高反射膜の熱膨張差によりクラックが発生し、光の乱反射により所望の意匠特性が得られなくなったり、剥離が発生するという問題がある。
また、上記高反射膜の厚みは、更に好ましくは、４０〜１１０ｎｍである。
上記高反射膜の厚みが２０ｎｍ未満の場合には、所望の意匠特性が十分に表現得られないという問題があり、一方、上記厚みが３００ｎｍを超える場合には、ガラス装飾層と高反射膜の熱膨張差によりクラックが発生し、光の乱反射により所望の意匠特性が得られなくなったり、剥離が発生するという問題がある。
また、上記高反射膜の厚みは、更に好ましくは、４０〜１１０ｎｍである。
また、上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍである。
上記絵付けガラス装飾層の膜厚が１μｍ未満の場合には、物と装飾層とが接触する際に、物と上記高反射膜の位置が近くなり、直接接触により、上記高反射膜が剥がれ易くなり、耐摩耗性が低下するという問題がある。一方、上記膜厚が１５μｍを超える場合には、上記絵付けガラス装飾層が剥離するという問題がある。
また、上記絵付けガラス装飾層の厚みは、更に好ましくは２〜１０μｍである。
上記絵付けガラス装飾層の膜厚が１μｍ未満の場合には、物と装飾層とが接触する際に、物と上記高反射膜の位置が近くなり、直接接触により、上記高反射膜が剥がれ易くなり、耐摩耗性が低下するという問題がある。一方、上記膜厚が１５μｍを超える場合には、上記絵付けガラス装飾層が剥離するという問題がある。
また、上記絵付けガラス装飾層の厚みは、更に好ましくは２〜１０μｍである。
上記ガラス組成物としては、上述のガラス組成物と同様のものを用いることが好ましい。
また、上記絵付けガラス装飾層は、透明であってもよいし、ガラス組成物のほかに無機顔料等を含有して着色されていてもよい。
上記絵付けガラス装飾層が透明である場合には、上記高反射膜の上にこの絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢がなく、ガラス装飾層あるいは基材の色を呈するよう構成することができる。
また、上記絵付けガラス装飾層は、透明であってもよいし、ガラス組成物のほかに無機顔料等を含有して着色されていてもよい。
上記絵付けガラス装飾層が透明である場合には、上記高反射膜の上にこの絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢がなく、ガラス装飾層あるいは基材の色を呈するよう構成することができる。
上記無機顔料としては、例えば、白色無機顔料、黒色無機顔料、灰色無機顔料、黄色無機顔料、茶色無機顔料、緑色無機顔料、青色無機顔料、桃色無機顔料、赤色無機顔料等がある。
具体的には、上記白色無機顔料としては、例えば、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＺｒＳｉＯ4、Ａｌ2Ｏ3、３Ａｌ2Ｏ3−２ＳｉＯ2、Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−８ＳｉＯ2、Ａｌ2ＴｉＯ6等が挙げられる。
具体的には、上記白色無機顔料としては、例えば、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＺｒＳｉＯ4、Ａｌ2Ｏ3、３Ａｌ2Ｏ3−２ＳｉＯ2、Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−８ＳｉＯ2、Ａｌ2ＴｉＯ6等が挙げられる。
また、上記黒色無機顔料としては、例えば、Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｍｎ系酸化物等が挙げられる。
また、上記灰色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｓｂ系酸化物、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記灰色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｓｂ系酸化物、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記黄色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｖ系酸化物、Ｚｒ−Ｖ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｐｒ系酸化物、Ｔｉ−Ｃｒ−Ｓｂ系酸化物等が挙げられる。
また、上記茶色無機顔料としては、例えば、Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｚｎ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、上記茶色無機顔料としては、例えば、Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｚｎ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、緑色無機顔料としては、例えば、Ｃａ−Ｃｒ−Ｓｉ系酸化物、Ｃｒ−Ａｌ系酸化物、Ｃｏ−Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｐｒ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記青色粉末としては、例えば、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ系酸化物、Ｃｏ−Ａｌ系酸化物、Ｃｏ−Ｓｉ系酸化物等が挙げられる。
また、上記青色粉末としては、例えば、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ系酸化物、Ｃｏ−Ａｌ系酸化物、Ｃｏ−Ｓｉ系酸化物等が挙げられる。
また、上記桃色無機顔料としては、例えば、Ｍｎ−Ａｌ系酸化物、Ｃａ−Ｓｎ−Ｓｉ−
Ｃｒ系酸化物、Ｓｎ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、上記赤色無機顔料としては、例えば、Ｆｅ2Ｏ3等が挙げられる。
Ｃｒ系酸化物、Ｓｎ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、上記赤色無機顔料としては、例えば、Ｆｅ2Ｏ3等が挙げられる。
また、上記絵付けガラス装飾層は、上記高反射膜の意匠特性を発揮させるために、ある面積以上のベタ面積で形成されていることが好ましいが、任意のパターンとなるように形成されていてもよい。上記任意のパターンとしては、例えば、石目状、ライン状、ドット状等がある。
また、上記高反射膜は、上記基板ガラス表面よりも反射率が高いことが好ましい（請求項２）。
この場合には、上記高反射膜の意匠表現は、輝度の高い金属表面のような質感を有する金属調光沢となる。
この場合には、上記高反射膜の意匠表現は、輝度の高い金属表面のような質感を有する金属調光沢となる。
そして、この場合には、上記装飾層は、絵付けガラス装飾層がなく上記高反射膜が露出した部分は上記高反射膜による金属調光沢が上記基板ガラスの欠点を隠して安定して表現され、上記高反射膜の上に絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢のない表現となる。
また、上記高反射膜は、上記基板ガラス表面よりも反射率が低いことが好ましい（請求項３）。
この場合には、上記高反射膜の意匠表現は、マットな金属表面のような質感を有するつや消し金属調となる。
この場合には、上記高反射膜の意匠表現は、マットな金属表面のような質感を有するつや消し金属調となる。
そして、この場合には、上記装飾層は、絵付けガラス装飾層がなく上記高反射膜が露出した部分は上記高反射膜によるつや消し金属調、又は後述するホログラム調の奥行きのある意匠が上記基板ガラスの欠点を隠して安定して表現され、上記高反射膜の上に絵付けガラス装飾層が形成されている部分は、光沢のない表現となる。
上記ホログラム調の奥行きのある意匠とは、装飾層の表面に光を当てた際に、上記高反射膜が露出した部分において、上記絵付けガラス装飾層の柄が立体的に見える意匠表現が発現するものである。
ここで、ホログラムとは、物体から反射する光で二次元の物体が立体的に見える現象である。
ここで、ホログラムとは、物体から反射する光で二次元の物体が立体的に見える現象である。
また、上記ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現するメカニズムは明確ではないが、ガラス装飾層、高反射膜、絵付けガラス装飾層の三層構造を有し、さらに、各々の材料、膜厚等が特定条件を満たす場合に、ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現する。
本発明の構成範囲内で、特に、上記ガラス装飾層の厚み、上記ガラス装飾層を構成する上記ガラス組成物の種類、後述する無機顔料の種類及び含有量を調整した場合や、上記高反射膜が、主成分がＴｉＯ2であり、厚みが３０〜１１０ｎｍの範囲である場合、また、上記ガラス装飾層と上記高反射膜とが重なる面積のうち、上記絵付けガラス装飾層が９０％以下の形状パターン面積で形成されている場合等に、上記ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現している。
ただし、上述したごとく、ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現するメカニズムは明確ではなく、必要十分な条件の範囲についても現在のところ明確ではない。
ただし、上述したごとく、ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現するメカニズムは明確ではなく、必要十分な条件の範囲についても現在のところ明確ではない。
また、上記装飾層のガラス装飾層は、ガラス組成物のほかに、無機顔料を含有することが好ましい（請求項４）。
従来のように、メタリック顔料（パール顔料）を使用して金属のような質感を得る場合には、表面がガサガサになり汚れ易く、摩耗強度が低く、耐熱性が不十分で、色調が限られていたが、この場合には、上記無機顔料の配合を調整することにより所望の色を表現することができ、また、ガラス装飾層の表面はガサガサとなることがないため、種々の色の所望の意匠特性を付与することができると共に、耐摩耗性を有することが可能である。
上記無機顔料としては、上述の無機顔料と同様のものを用いることができる。
従来のように、メタリック顔料（パール顔料）を使用して金属のような質感を得る場合には、表面がガサガサになり汚れ易く、摩耗強度が低く、耐熱性が不十分で、色調が限られていたが、この場合には、上記無機顔料の配合を調整することにより所望の色を表現することができ、また、ガラス装飾層の表面はガサガサとなることがないため、種々の色の所望の意匠特性を付与することができると共に、耐摩耗性を有することが可能である。
上記無機顔料としては、上述の無機顔料と同様のものを用いることができる。
また、上記絵付けガラス装飾層が上記基板ガラスの表面に占める割合は、１０〜９０％であることが好ましい（請求項５）。
この場合には、意匠性を損なうことなく、摩耗強度を維持することができる。
上記絵付けガラス装飾層の上記基板ガラス表面に占める割合とは、基板ガラス表面における上記絵付けガラス装飾層が形成されている部分の面積率である。
この場合には、意匠性を損なうことなく、摩耗強度を維持することができる。
上記絵付けガラス装飾層の上記基板ガラス表面に占める割合とは、基板ガラス表面における上記絵付けガラス装飾層が形成されている部分の面積率である。
上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合が１０％未満の場合には、上記高反射膜が剥がれ易くなるおそれがあり、一方、上記割合が９０％を超える場合には、上記高反射膜の露出部分が小さくなり、意匠性が低下するおそれがある。
上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合は、より好ましくは、２０〜８０％である。
上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合は、より好ましくは、２０〜８０％である。
また、上記ガラス装飾層、上記高反射膜、上記絵付けガラス装飾層の合計膜厚の最大値は１５μｍ以下であることが好ましい（請求項６）。
上記合計膜厚の最大値が１５μｍを超える場合には、上記ガラス装飾層、上記高反射膜、及び上記絵付けガラス装飾層が積層した部分、もしくは単独で存在する部分が剥離するおそれがある。
上記合計膜厚の最大値が１５μｍを超える場合には、上記ガラス装飾層、上記高反射膜、及び上記絵付けガラス装飾層が積層した部分、もしくは単独で存在する部分が剥離するおそれがある。
第２の発明の加熱調理器用ガラストッププレートは、上述したように、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、第１の発明に記載の装飾層を積層している。
上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０−7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）であることが好ましい（請求項８）。
上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０−7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）であることが好ましい（請求項８）。
上記基板ガラスの線熱膨張係数が−１０〜８０×１０−7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）の範囲から外れる場合には、加熱調理器用ガラストッププレートに用いる基板ガラスとして適していないというおそれがある。
また、上記基板ガラスは、β−石英及びβ−スポジューメンの少なくとも一方を主結晶とすることが好ましい。
また、上記基板ガラスは、β−石英及びβ−スポジューメンの少なくとも一方を主結晶とすることが好ましい。
また、上記基板ガラスは、特に限定されるものではないが、白色、半透明、透明、又は黒色である基板ガラスを用いることが好ましい。
ここで、上記白色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが７０以上である場合を言う。
また、上記半透明とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０以上７０未満である場合をいう。
ここで、上記白色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが７０以上である場合を言う。
また、上記半透明とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０以上７０未満である場合をいう。
また、上記透明とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０未満であり、かつ、ＪＩＳＲ３１０６に準じ算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の可視光透過率・可視光反射率より算出した可視光吸収率が５０％以下の場合をいう。
また、黒色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０未満であり、かつ、ＪＩＳＲ３１０６に準じ算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の可視光透過率・可視光反射率より算出した可視光吸収率が８０％を超える場合をいう。
また、黒色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０未満であり、かつ、ＪＩＳＲ３１０６に準じ算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の可視光透過率・可視光反射率より算出した可視光吸収率が８０％を超える場合をいう。
＜白色度＞
上記白色度Ｗとは、酸化マグネシウム標準白板の光の反射量を１００、真黒を０とし、光の反射量の割合により示される数値である。具体的には、測色色差計（例えば、日本電色工業株式会社製ＺＥ２０００）により、Ｃ２光源でＬ，ａ，ｂ値を測定し、次式Ｗ（白色度）＝１００−［（１００−Ｌ）2＋ａ2＋ｂ2］1/2より求められた値である。
上記白色度Ｗとは、酸化マグネシウム標準白板の光の反射量を１００、真黒を０とし、光の反射量の割合により示される数値である。具体的には、測色色差計（例えば、日本電色工業株式会社製ＺＥ２０００）により、Ｃ２光源でＬ，ａ，ｂ値を測定し、次式Ｗ（白色度）＝１００−［（１００−Ｌ）2＋ａ2＋ｂ2］1/2より求められた値である。
＜可視光吸収率＞
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０及び積分球装置ＩＳＮ−４７０を使用することにより透過・反射スペクトルの測定を行った。この場合の透過・反射スペクトルは積分球を使用することで、試料に入射し、あらゆる方向に透過・反射した殆どの光を取り込んで求めた値である。得られた透過・反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・日射取得率試験方法」ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準拠し、可視光透過率・可視光反射率を求め、次式、可視光吸収率＝１００−可視光透過率−可視光反射率より求められた値である。
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０及び積分球装置ＩＳＮ−４７０を使用することにより透過・反射スペクトルの測定を行った。この場合の透過・反射スペクトルは積分球を使用することで、試料に入射し、あらゆる方向に透過・反射した殆どの光を取り込んで求めた値である。得られた透過・反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・日射取得率試験方法」ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準拠し、可視光透過率・可視光反射率を求め、次式、可視光吸収率＝１００−可視光透過率−可視光反射率より求められた値である。
そして、上記黒色の基板ガラスとしては、大別して、黒色着色低膨張結晶化ガラスと、黒薄膜透明低膨張結晶化ガラスの２種類を挙げることができる。
上記黒色着色低膨張結晶化ガラスは、ガラス自体にＣｏ、Ｍｎ、Ｖ等の遷移金属元素の酸化物着色剤を含有しているものである。この場合には、ガラス自体が紫色又は茶色に着色され、反射光で見ると黒色に見える黒色ガラス（例えば、ドイツＳｃｈｏｔｔ社製結晶化ガラス 商品名Ｃｅｒａｎ）となる。
上記黒色着色低膨張結晶化ガラスは、ガラス自体にＣｏ、Ｍｎ、Ｖ等の遷移金属元素の酸化物着色剤を含有しているものである。この場合には、ガラス自体が紫色又は茶色に着色され、反射光で見ると黒色に見える黒色ガラス（例えば、ドイツＳｃｈｏｔｔ社製結晶化ガラス 商品名Ｃｅｒａｎ）となる。
上記黒薄膜透明低膨張結晶化ガラスは、透明低膨張結晶化ガラスの裏側面に金属ペースト（ラスターペースト）を塗布して焼成し、薄膜化したものである。この場合には、反射光が黒色になるガラスとなる。
ここで、基板ガラスの裏側面とは、加熱調理器を使用する際に、鍋などを置く面である調理面とは反対の加熱装置側（下側）の面である。
ここで、基板ガラスの裏側面とは、加熱調理器を使用する際に、鍋などを置く面である調理面とは反対の加熱装置側（下側）の面である。
上記参考発明の装飾層の形成方法、及び第３の発明の加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法は、上述したように、まず、ガラス組成物と有機樹脂とからなるガラス装飾用ペーストを、加熱調理器用ガラストッププレートの基板ガラスの調理面の全面又は一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することによりガラス装飾層を形成する。
上記ガラス組成物としては、上述のガラス組成物を用いることが好ましい。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記ガラス装飾用ペーストは、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記ガラス装飾用ペーストは、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。
上記ガラス装飾用ペーストは、上記基板ガラスの調理面の表面の全面又は一部を覆うように塗布する。これは、スクリーン印刷法等により塗布することにより、容易に対応することが可能である。
上記ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法を行うことが好ましい。
上記ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法を行うことが好ましい。
上記焼成の温度が７５０℃未満の場合には、ガラス装飾層の焼付けが十分に行われ難く、焼き付け後にガラス装飾層が基板ガラスから剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が１２００℃を超える場合には、基板ガラス自体の軟化による変形等により、表面粗さＲａが１．５μｍを超えるおそれがある。
また、上記焼成の温度は、より好ましくは７９０〜８９０℃である。
また、上記焼成の温度は、より好ましくは７９０〜８９０℃である。
また、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上を金属の主成分とする金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより高反射膜を形成する。
上記金属レジネートは、有機金属化合物の希釈液であり、分散性が良好な液体であるため、高反射膜を形成する際に、均一な膜を形成することができる。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
上記高反射膜用ペーストは、上記ガラス装飾層全面又は一部を覆うように塗布する。これは、スクリーン印刷法等により塗布することにより、容易に対応することが可能である。
上記高反射膜用ペーストを塗布する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ディッピング法、スクリーン印刷法、及びバーコート印刷法等が挙げられる。
上記高反射膜用ペーストを塗布する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ディッピング法、スクリーン印刷法、及びバーコート印刷法等が挙げられる。
上記焼成の温度が６００℃未満の場合には、密着力が十分な均一な膜が形成できないというおそれがある。一方、上記焼成温度が１２００℃を超える場合には、基材自体の軟化による変形等により、高反射膜の効果がなくなるおそれがある。
また、上記焼成の温度は、より好ましくは７００〜９００℃である。
また、上記焼成の温度は、より好ましくは７００〜９００℃である。
また、ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の上に該高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成する。
上記ガラス組成物としては、上述のガラス組成物を用いることが好ましい。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記ペーストは、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記ペーストは、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。
絵付けガラス装飾層用ペーストは、高反射膜の一部を覆うように塗布する。これは、スクリーン印刷法等により塗布することにより、容易に対応することが可能である。
上記ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法を行うことが好ましい。
上記ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法を行うことが好ましい。
上記焼成の温度が７５０℃未満の場合には、絵付けガラス装飾層の焼付けが十分に行われ難く、焼付け後に絵付けガラス装飾層が高反射膜から剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が１２００℃を超える場合には、基材自体の軟化による変形等により、高反射膜の効果がなくなるおそれがある。
また、上記焼成の温度は、より好ましくは７９０〜８９０℃である。
また、上記焼成の温度は、より好ましくは７９０〜８９０℃である。
また、第３の発明において、上記基板ガラスとして、透明基板ガラス、半透明基板ガラス、あるいは白色以外の着色基板ガラスを用いる場合には、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７５０〜９００℃であり、上記高反射膜形成工程の焼成温度は６００〜９００℃であり、上記絵付けガラス装飾層形成工程の焼成温度は７５０〜９００℃であることが好ましい。
また、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度が７５０℃未満の場合には、ガラス装飾層の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に絵付けガラス装飾層が高反射膜から剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、基板ガラスの結晶化が進行して白濁し、基板ガラスが変色するおそれがある。より好ましくは、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７９０〜８９０℃である。
上記高反射膜形成工程の焼成温度が６００℃未満の場合には、上記反射膜の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に高反射膜が剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、基板ガラスの結晶化が進行して白濁し、基板ガラスが変色するおそれがある。より好ましくは、上記高反射膜形成工程の焼成温度は７００〜９００℃である。
また、上記絵付けガラス装飾層形成工程の焼成温度が７５０℃未満の場合には、絵付けガラス装飾層の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に絵付けガラス装飾層が高反射膜から剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、基板ガラスの結晶化が進行して白濁し、基板ガラスが変色するおそれがある。より好ましくは、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７９０〜８９０℃である。
（実施例１）
本例は、本発明にかかる実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート１（試料Ｅ１）を作製した。
図１に示すように、本例の加熱調理器用ガラストッププレート１は、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラス（基材）２の調理面（表面）２１に、該調理面２１上に積層したガラス装飾層３と、該ガラス装飾層３上に積層した高反射膜４と、該高反射膜４の一部を覆うように積層した絵付けガラス装飾層５とからなる装飾層６を形成している。
以下、これを詳説する。
本例は、本発明にかかる実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート１（試料Ｅ１）を作製した。
図１に示すように、本例の加熱調理器用ガラストッププレート１は、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラス（基材）２の調理面（表面）２１に、該調理面２１上に積層したガラス装飾層３と、該ガラス装飾層３上に積層した高反射膜４と、該高反射膜４の一部を覆うように積層した絵付けガラス装飾層５とからなる装飾層６を形成している。
以下、これを詳説する。
上記基板ガラス２としては、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
上記ガラス装飾層用ペーストとしては、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス装飾層用ペーストとしては、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
高反射膜用ペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとしては、ガラス組成物９２重量％と白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとしては、ガラス組成物９２重量％と白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
次に、製造方法を説明する。
まず、上記基板ガラス２の調理面２１全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層３を形成した。
次に、上記ガラス装飾層３の全面にステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜４を形成した。高反射膜の表面は、白色のつや消し金属調の表現であった。
まず、上記基板ガラス２の調理面２１全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層３を形成した。
次に、上記ガラス装飾層３の全面にステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜４を形成した。高反射膜の表面は、白色のつや消し金属調の表現であった。
次に、上記高反射膜４上に、テトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、面積率で調理面２１の５０％を占める絵付けガラス装飾層５を形成した。絵付けガラス装飾層５が存在せず、上記高反射膜４が露出した部分は、シルバー色のホログラム調の奥行きのある意匠が表現され、絵付けガラス装飾層５が存在する部分は、白色の表現となっている。
また、本例において、上記ガラス装飾層及び上記高反射膜４は基板ガラス２の調理面２１全面に形成したが、一部分でもよい。
また、本例では、基材として基板ガラスを用いたが、磁器、琺瑯基板等の他の基材の表面に上述の装飾層を形成しても同様の安定した意匠特性、及び耐摩耗性を得ることができる。
また、本例において、上記ガラス装飾層及び上記高反射膜４は基板ガラス２の調理面２１全面に形成したが、一部分でもよい。
また、本例では、基材として基板ガラスを用いたが、磁器、琺瑯基板等の他の基材の表面に上述の装飾層を形成しても同様の安定した意匠特性、及び耐摩耗性を得ることができる。
（実施例２）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ２）を作製した。
上記試料Ｅ２の基板ガラスとして、熱膨張係数が１１×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２０μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ２）を作製した。
上記試料Ｅ２の基板ガラスとして、熱膨張係数が１１×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２０μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．７５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を１００重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６０重量％、Ａｌ2Ｏ3：８重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：２重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を１００重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６０重量％、Ａｌ2Ｏ3：８重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：２重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面にステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、７００℃で焼成を行った。これにより、膜厚６０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記ガラス装飾層の全面にステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、７００℃で焼成を行った。これにより、膜厚６０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、上記高反射膜の一部を覆うようにステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、７９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が９μｍであり、面積率で調理面の２０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の意匠が表現されている。
（実施例３）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ３）を作製した。
上記試料Ｅ３の基板ガラスとしては、熱膨張係数が１５×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物８５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ３）を作製した。
上記試料Ｅ３の基板ガラスとしては、熱膨張係数が１５×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物８５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：７重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：４重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＢａＯ：２重量％、ＣａＯ：２重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：７重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：４重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＢａＯ：２重量％、ＣａＯ：２重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が６μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚４０ｎｍの高反射膜を形成した。金属調光沢の表現であった。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚４０ｎｍの高反射膜を形成した。金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の８０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢効果が発揮され、絵付けガラス装飾層４が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例４）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ４）を作製した。
上記試料Ｅ４の基板ガラスとして、熱膨張係数が１４×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６８μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ４）を作製した。
上記試料Ｅ４の基板ガラスとして、熱膨張係数が１４×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６８μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９２重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂２００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９２重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂２００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８８０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１５０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、白色のつや消し金属調の表現であった。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８８０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１５０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、白色のつや消し金属調の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、９２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１μｍであり、面積率で調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色のホログラム調の奥行きのある意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例５）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ５）を作製した。
上記試料Ｅ５の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２３μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ５）を作製した。
上記試料Ｅ５の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２３μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、ジルコニウムレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度２．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤７重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤７重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８１０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス１６５メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、６００℃で焼成を行った。これにより、膜厚３００ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス１６５メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、６００℃で焼成を行った。これにより、膜厚３００ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚が６μｍであり、面積率で調理面の１０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例６）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ６）を作製した。
上記試料Ｅ６の基板ガラスとして、熱膨張係数が−２×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．１７μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ６）を作製した。
上記試料Ｅ６の基板ガラスとして、熱膨張係数が−２×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．１７μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、セリウムレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＣｅ濃度０．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚２０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚２０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１μｍであり、面積率で調理面の３５％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例７）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ７）を作製した。
上記試料Ｅ７の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、黒薄膜用のラスター彩として、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ７）を作製した。
上記試料Ｅ７の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、黒薄膜用のラスター彩として、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物８５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．０重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９０重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤７重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９０重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤７重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの裏側面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記黒薄膜用のラスター彩を塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより黒薄膜を形成した。
そして、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が３μｍの白色ガラス装飾層を形成した。
そして、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が３μｍの白色ガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８４０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の２５％を占める絵付けガラス装飾層を形成した絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
次に、上記高反射膜上に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の２５％を占める絵付けガラス装飾層を形成した絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例８）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ８）を作製した。
上記試料Ｅ８の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６５μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、黒薄膜用のラスター彩として、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ８）を作製した。
上記試料Ｅ８の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６５μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、黒薄膜用のラスター彩として、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を８５重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１２重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を８５重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１２重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの裏側面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記黒薄膜用のラスター彩を塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより黒薄膜を形成した。
そして、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、７８０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
そして、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、７８０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの白色のガラス装飾層を形成した。
次に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚１３５ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の１５％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の１５％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、シルバー色の金属調光沢の意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例９）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ９）を作製した。
上記試料Ｅ９の基板ガラスとして、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ９）を作製した。
上記試料Ｅ９の基板ガラスとして、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と青色顔料Ｃｏ−Ａｌ系酸化物からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍの青色のガラス装飾層を形成した。
次に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、青色のつや消し金属調の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、テトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、面積率で調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、青色のホログラム調の奥行きのある意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
次に、上記高反射膜上に、テトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、面積率で調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、青色のホログラム調の奥行きのある意匠が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例１０）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１０）を作製した。
上記試料Ｅ１０の基板ガラスとして、熱膨張係数が１５×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１０）を作製した。
上記試料Ｅ１０の基板ガラスとして、熱膨張係数が１５×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と黄色顔料Ｔｉ−Ｃｒ−Ｓｂ系酸化物からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９５重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：７重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：４重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＢａＯ：２重量％、ＣａＯ：２重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９５重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：７重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：４重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＢａＯ：２重量％、ＣａＯ：２重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が６μｍ黄色のガラス装飾層を形成した。
次に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚４０ｎｍの高反射膜を形成した。高反射膜の表面は、黄色の金属調光沢の表現であった。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の８０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、黄色の金属調光沢が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の８０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在せず、上記高反射膜が露出した部分は、黄色の金属調光沢が表現され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（比較例１）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ１）を用意した。
上記試料Ｃ１は、基板ガラスとして、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０７μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。これをそのまま加熱調理器用ガラストッププレートとした。すなわち、上記基板ガラスの調理面には、ガラス装飾層、高反射膜、絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ１）を用意した。
上記試料Ｃ１は、基板ガラスとして、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０７μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。これをそのまま加熱調理器用ガラストッププレートとした。すなわち、上記基板ガラスの調理面には、ガラス装飾層、高反射膜、絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
（比較例２）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ２）を用意した。
上記試料Ｃ２の基板ガラスとして、熱膨張係数が１１×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．７μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ２）を用意した。
上記試料Ｃ２の基板ガラスとして、熱膨張係数が１１×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．７μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍのガラス装飾層を形成した。そして、これを加熱調理器用ガラストッププレートとした。すなわち、基板ガラスの調理面には、高反射膜及び絵付けガラス装飾層を形成しなかった。
（比較例３）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ３）を作製した。
上記試料Ｃ３の基板ガラスとして、熱膨張係数が１４×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ３）を作製した。
上記試料Ｃ３の基板ガラスとして、熱膨張係数が１４×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．０重量％のペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．０重量％のペーストを用意した。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が６μｍのガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。
そして、絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。
そして、絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
（比較例４）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ４）を作製した。
上記試料Ｃ４の基板ガラスとして、熱膨張係数が１１×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６５μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ４）を作製した。
上記試料Ｃ４の基板ガラスとして、熱膨張係数が１１×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６５μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、セリウムレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＣｅ濃度０．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物１００重量％に、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物１００重量％に、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍのガラス装飾層を形成した。
次に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８１０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８１０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、７９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が９μｍであり、面積率で調理面の２０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
（比較例５）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ５）を作製した。
上記試料Ｃ５の基板ガラスとして、熱膨張係数が−２×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．１７μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ５）を作製した。
上記試料Ｃ５の基板ガラスとして、熱膨張係数が−２×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．１７μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９０重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、ジルコニウムレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度４重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３５５メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８１０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍのガラス装飾層を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚３２０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、上記ガラス装飾層の全面に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚３２０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、上記高反射膜上に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１μｍであり、面積率で調理面の３５％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
（比較例６）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ６）を作製した。
上記試料Ｃ６の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６５μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、黒薄膜用のラスター彩として、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ６）を作製した。
上記試料Ｃ６の基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．６５μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用意した。
そして、黒薄膜用のラスター彩として、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
また、ガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物９５重量％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．５重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を８５重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１２重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を８５重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１２重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるものを用いた。
まず、上記基板ガラスの裏側面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記黒薄膜用のラスター彩を塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより黒薄膜を形成した。
そして、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１２μｍのガラス装飾層を形成した。
次に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚１３５ｎｍの高反射膜を形成した。
そして、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記ガラス装飾層用ペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１２μｍのガラス装飾層を形成した。
次に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚１３５ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、７９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、面積率で調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
（比較例７）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ７）を作製した。
上記試料Ｃ７の基板ガラスとして、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ７）を作製した。
上記試料Ｃ７の基板ガラスとして、熱膨張係数が１０×１０−7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。
また、高反射膜用ペーストとして、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１重量％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
また、絵付けガラス装飾層用ペーストとして、ガラス組成物を９２重量％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤５重量％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３重量％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００重量％を加えたペーストを用意した。
上記ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるものを用いた。
本例では、ガラス装飾層を形成せず、まず、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用ペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、上記高反射膜上に、テトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用ペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、面積率で調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
ここで、表１に上記実施例１〜１０の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ１０）、表２に比較例１〜７の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ１〜試料Ｃ７）について、基板ガラス（基材）の材料、熱膨張係数、表面粗さ、黒薄膜の有無、及び表面（調理面）の可視光反射率、基板ガラス表面の欠点の有無と種類、装飾層の、ガラス装飾層の膜厚、表面粗さＲａ、色調、高反射膜の主成分、膜厚、可視光反射率、及び絵付けガラス装飾層の膜厚を示す。表面粗さ及び可視光反射率の測定は以下のようにして行った。
＜表面粗さ＞
株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ１３０を用いて、基板ガラスの表面の表面粗さＲａを測定した。
株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ１３０を用いて、基板ガラスの表面の表面粗さＲａを測定した。
＜可視光反射率＞
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０、及び一回反射測定装置ＳＬＭ−４６８を使用することにより反射スペクトルの測定を行った。この場合の反射スペクトルは鏡面反射するアルミ蒸着鏡に対する相対反射スペクトルである。可視光反射率は、得られた相対反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」ＪＩＳＲ３１０６に準拠し、可視光反射率として求められた値である。
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０、及び一回反射測定装置ＳＬＭ−４６８を使用することにより反射スペクトルの測定を行った。この場合の反射スペクトルは鏡面反射するアルミ蒸着鏡に対する相対反射スペクトルである。可視光反射率は、得られた相対反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」ＪＩＳＲ３１０６に準拠し、可視光反射率として求められた値である。
＜欠点の有無＞
欠点の有無は、基材表面を目視にて観察し、ピンホールや筋キズ等の欠点の有無を判断した。
欠点の有無は、基材表面を目視にて観察し、ピンホールや筋キズ等の欠点の有無を判断した。
（実験例）
本例では、上記実施例１〜１０、及び比較例１〜７の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ１０、及び試料Ｃ１〜試料Ｃ７）について、以下の項目を評価した。結果を表３に示す。
本例では、上記実施例１〜１０、及び比較例１〜７の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ１０、及び試料Ｃ１〜試料Ｃ７）について、以下の項目を評価した。結果を表３に示す。
得られた加熱調理器用ガラストッププレートについて、欠点の有無、意匠特性を評価することにより、意匠性を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
（意匠の評価基準）
○：欠点の有無、意匠特性のいずれも合格である場合。
×：欠点の有無、意匠特性のいずれか一方でも不合格である。
（意匠の評価基準）
○：欠点の有無、意匠特性のいずれも合格である場合。
×：欠点の有無、意匠特性のいずれか一方でも不合格である。
＜欠点の有無＞
欠点の有無は、装飾層の表面を目視にて観察し、ピンホールや筋キズ等の欠点の有無を判断した。欠点が確認されない場合を合格とし、表３には「無」と示した。欠点が確認された場合を不合格とし、表３には、「有」を示し、さらにその欠点の種類を示した。
欠点の有無は、装飾層の表面を目視にて観察し、ピンホールや筋キズ等の欠点の有無を判断した。欠点が確認されない場合を合格とし、表３には「無」と示した。欠点が確認された場合を不合格とし、表３には、「有」を示し、さらにその欠点の種類を示した。
＜意匠特性＞
意匠特性は、金属調光沢、及びつや消し金属調あるいはホログラム効果の評価を行い、いずれか一方が合格の場合を合格（評価○）とし、いずれも不合格の場合を不合格（評価×）とした。
（金属調光沢）
金属調光沢は、高反射膜の可視光反射率の値により評価を行った。基板ガラスの可視光反射率よりも高反射膜の可視光反射率が向上した場合を合格（評価○）とし、基板ガラスの可視光反射率よりも可視光反射率が低下した場合を不合格（評価×）とした。
意匠特性は、金属調光沢、及びつや消し金属調あるいはホログラム効果の評価を行い、いずれか一方が合格の場合を合格（評価○）とし、いずれも不合格の場合を不合格（評価×）とした。
（金属調光沢）
金属調光沢は、高反射膜の可視光反射率の値により評価を行った。基板ガラスの可視光反射率よりも高反射膜の可視光反射率が向上した場合を合格（評価○）とし、基板ガラスの可視光反射率よりも可視光反射率が低下した場合を不合格（評価×）とした。
（つや消し金属調あるいはホログラム効果）
つや消し金属調あるいはホログラム効果は、装飾層表面を目視にて観察し、高反射膜の表面が、つや消し金属調、あるいは装飾層の表面に光を当てた際に、絵付けガラス装飾層の柄が立体的に見えるホログラム調の奥行きのある意匠表現が確認された場合を合格（評価○）、つや消し金属調、ホログラム効果のいずれも確認されない場合を不合格（評価×）とした。
つや消し金属調あるいはホログラム効果は、装飾層表面を目視にて観察し、高反射膜の表面が、つや消し金属調、あるいは装飾層の表面に光を当てた際に、絵付けガラス装飾層の柄が立体的に見えるホログラム調の奥行きのある意匠表現が確認された場合を合格（評価○）、つや消し金属調、ホログラム効果のいずれも確認されない場合を不合格（評価×）とした。
＜高反射膜の摩耗強度＞
高反射膜の摩耗強度は、実際に調理する場合を想定して、フライパンで調理面を所定回数擦った時の削れ具合を観察することにより評価した。
まず、鍋擦れ試験機に試料を置き、その上に、２６ｃｍフライパンを設置し、更に調理物を想定した１ｋｇ荷重のおもりをのせ、１２ｃｍのストロークで４０回／分の速度で、７時間（１６８００往復）往復運動を行い、試験終了後、表面の汚れを水で軽く洗浄し、目視により、調理面表面を観察し、高反射膜の摩耗強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
高反射膜の摩耗強度は、実際に調理する場合を想定して、フライパンで調理面を所定回数擦った時の削れ具合を観察することにより評価した。
まず、鍋擦れ試験機に試料を置き、その上に、２６ｃｍフライパンを設置し、更に調理物を想定した１ｋｇ荷重のおもりをのせ、１２ｃｍのストロークで４０回／分の速度で、７時間（１６８００往復）往復運動を行い、試験終了後、表面の汚れを水で軽く洗浄し、目視により、調理面表面を観察し、高反射膜の摩耗強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
（評価基準）
○：高反射膜が剥がれた痕跡が全く認められない場合。
×：高反射膜が剥がれた痕跡が認められた場合。
○：高反射膜が剥がれた痕跡が全く認められない場合。
×：高反射膜が剥がれた痕跡が認められた場合。
＜剥離強度＞
市販のセロハン粘着テープを絵付けガラス装飾層表面に貼り付け、爪等で強くこすりつけた後、斜め４５°方向に勢いよくはがし、装飾層の剥離強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
市販のセロハン粘着テープを絵付けガラス装飾層表面に貼り付け、爪等で強くこすりつけた後、斜め４５°方向に勢いよくはがし、装飾層の剥離強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
（評価基準）
○：装飾層の剥離が認められない場合。
×：装飾層の剥離が認められた場合。
○：装飾層の剥離が認められない場合。
×：装飾層の剥離が認められた場合。
表３より知られるごとく、実施例としての試料Ｅ１〜試料Ｅ１０は、意匠、高反射膜の摩耗強度、及び絵付けガラス装飾層の剥離強度のいずれの項目においても、良好な結果を示した。
また、本発明の試料Ｅ１、試料Ｅ４、試料Ｅ９は、ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現している。
これにより、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
また、本発明の試料Ｅ１、試料Ｅ４、試料Ｅ９は、ホログラム調の奥行きのある意匠表現が発現している。
これにより、本発明によれば、安定した意匠特性を有し、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
また、比較例としての試料Ｃ１は、ガラス装飾層、高反射膜、及び絵付けガラス装飾層を形成していないため、意匠特性が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ２は、高反射膜及び絵付けガラス装飾層を形成していないため、意匠特性が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ２は、高反射膜及び絵付けガラス装飾層を形成していないため、意匠特性が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ３は、絵付けガラス装飾層を形成していないため、高反射膜の摩耗強度が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ４は、高反射膜の膜厚が本発明の下限を下回るため、所望の意匠表現を得ることができず、意匠特性が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ４は、高反射膜の膜厚が本発明の下限を下回るため、所望の意匠表現を得ることができず、意匠特性が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ５は、高反射膜の膜厚が本発明の上限を上回るため、基板ガラスと高反射膜との熱膨張差でクラックが発生したため、所望の意匠表現を得ることができず、意匠特性が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ６は、上記ガラス装飾層、上記高反射膜、上記絵付けガラス装飾層の厚み合計の最大値が、本発明の好ましい範囲の上限を上回るため、上記ガラス装飾層、高反射膜、及び絵付けガラス装飾層が積層した部分の剥離強度が不合格であった。また、ガラス装飾層の表面粗さＲａが本発明の上限を上回るため、所望の意匠表現が得られず、意匠特性が不十分であった。
また、比較例としての試料Ｃ７は、ガラス装飾層を設けていないため、基材の欠点であるピンホールが高反射膜により、より強調されてしまい欠点が目立つため、不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ６は、上記ガラス装飾層、上記高反射膜、上記絵付けガラス装飾層の厚み合計の最大値が、本発明の好ましい範囲の上限を上回るため、上記ガラス装飾層、高反射膜、及び絵付けガラス装飾層が積層した部分の剥離強度が不合格であった。また、ガラス装飾層の表面粗さＲａが本発明の上限を上回るため、所望の意匠表現が得られず、意匠特性が不十分であった。
また、比較例としての試料Ｃ７は、ガラス装飾層を設けていないため、基材の欠点であるピンホールが高反射膜により、より強調されてしまい欠点が目立つため、不合格であった。
１ 加熱調理器用ガラストッププレート
２ 基板（基板ガラス）
２１ 表面（調理面）
３ ガラス装飾層
４ 高反射膜
５ 絵付けガラス装飾層
６ 装飾層
２ 基板（基板ガラス）
２１ 表面（調理面）
３ ガラス装飾層
４ 高反射膜
５ 絵付けガラス装飾層
６ 装飾層
Claims (9)
- 加熱調理器用ガラストッププレートの基板ガラスの調理面に設けてなる装飾層であって、
該装飾層は、上記基板ガラスの上記調理面の全面又は一部を覆うように積層してなるガラス装飾層と、
該ガラス装飾層全面又は一部を覆うように更に積層してなる高反射膜と、
上記高反射膜の一部を覆うように更に積層してなる絵付けガラス装飾層とからなり、
上記ガラス装飾層は、ガラス組成物からなり、厚みが０．５〜１５μｍであると共に、表面粗さＲａが１．５μｍ以下であり、
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とし、厚みが２０〜３００ｎｍであり、
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍであることを特徴とする装飾層。 - 請求項１において、上記高反射膜は、上記基板ガラス表面よりも反射率が高いことを特徴とする装飾層。
- 請求項１において、上記高反射膜は、上記基板ガラス表面よりも反射率が低いことを特徴とする高反射膜。
- 請求項１〜３のいずれか１項において、上記ガラス装飾層は、無機顔料を含有することを特徴とする装飾層。
- 請求項１〜４のいずれか１項において、上記絵付けガラス装飾層が上記基板ガラスの表面に占める割合は、１０〜９０％であることを特徴とする装飾層。
- 請求項１〜５のいずれか１項において、上記ガラス装飾層、上記高反射膜、上記絵付けガラス装飾層の厚み合計の最大値が１５μｍ以下であることを特徴とする装飾層。
- 低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、請求項１〜６のいずれか１項に記載の装飾層を積層してなることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項７において、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０−7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項７又は８に記載の加熱調理器用ガラストッププレートを製造する方法であって、
ガラス組成物と有機樹脂とからなるガラス装飾層用ペーストを上記基板ガラスにおける上記調理面の全面又は一部に塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、厚みが０．５〜１５μｍであると共に表面粗さＲａ１．５μｍ以下のガラス装飾層を形成するガラス装飾層形成工程と、
Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上を金属の主成分とする金属レジネートと有機樹脂とからなる高反射膜用ペーストを上記ガラス装飾層の全面又は一部を覆うように塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより、ＴｉＯ 2 、ＣｅＯ 2 、ＺｒＯ 2 のうち１種以上を主成分とし、厚みが２０〜３００ｎｍの高反射膜を形成する高反射膜形成工程と、
ガラス組成物と有機樹脂とからなる絵付けガラス装飾層用ペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、厚み１〜１５μｍの絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程とを有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法。
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