CN202705477U - 一种有色膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型揭露了一种有色膜,包含经喷砂处理的玻璃基板、具有颜色的显色层以及透明的保护层。其中玻璃基板具有粗糙面以降低显色层的光反射率,显色层覆盖于玻璃基板的粗糙面上,使得有色玻璃显示显色层的颜色,且使得有色玻璃的颜色更加精确。此外,保护层覆盖于显色层上,藉以保护显色层于大气下不发生氧化或化学变化。并且通过沉积或涂布的方式取代高温烧制的方式以形成本实用新型的有色玻璃,藉以降低成本,并且降低能源损耗,进而达到节能环保的效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及装饰材料制作技术,特别是有关于一种以薄膜沉积法形成一层粗糙金属层以减少光反射率的有色膜。
背景技术
目前,在各种乐器、家电与信息家电产品中,拥有光鲜亮丽的外观不但引人注目,更可以提升产品本身的工艺价值。因此,各家厂商都必须在产品表面的色泽与质感上下工夫,才能让自家的产品能得到更多消费者的青睐。现有外观加工的方式有电镀、烤漆或真空溅镀,其中电镀大多只能电镀于金属材质的外壳上,电镀加工的过层中还会产生大量的电镀废水,以至污染环境,且电镀容易在表面产生微颗粒而影响观感。烤漆加工具有亮面、色彩鲜艳与不易掉漆之优点,但其表面往往容易沾上指纹而变脏,而增加清洁上之问题。真空溅镀加工具有低成本、产量大与符合环保法令之优点,但缺点是真空溅镀加工往往无法呈现特定之颜色,例如白色。
发明内容
有鉴于上述技术技艺问题,本实用新型目的就是在提供一种色膜,以增加产品外观的工艺价值。
为达上述目的,本实用新型的有色膜,其结构包含:基板;粗糙金属层,此粗糙金属层位于基板上,此粗糙金属层的表面具有一粗糙表面,用以降低光反射率;以及显色层,此显色层位于粗糙金属层的表面上,以使有色膜显现颜色;还包括保护层,此保护层位于显色层上,以保护显色层在大气或其它环境下不会产生氧化现象或化学变化现象。
其中,此保护层的厚度范围为10nm至1000nm,该保护层之材质系为硅氧化物(SiOx)或铝氧化物(AlOx),且x系为一正有理数。
其中,此基板的材质为玻璃、金属、不锈钢或高分子材料。该基板可选择性与粗糙金属层之间沉积一缓冲层,用以紧密结合该基板与该粗糙金属层,该缓冲层的材质系为镍、铬、各种镍合金或各种铬合金。
其中,此粗糙金属层的材质为锡、锌、铟、各种锡合金、各种铟合金或各种锌合金,该粗糙金属层的厚度范围系5nm至1000nm,该粗糙金属层表面的平均粗糙度(Ra)范围系为可例如为0.06μm至0.25μm之间。
其中,该显色层的材质为铜、铝、银、镍、铬、锆、钛、氧化铜、氧化铝、氧化镍、氧化铬、氧化锆、氧化钛、氮化铝、氮化铬、氮化锆、氮化钛或不锈钢,所述显色层的厚度范围为30nm至5500nm。
综上所述,本实用新型的有色膜结构,其可具有一或多个下述优点:
(1)此有色膜结构中含有粗糙金属层,可以减少光反射率,形成特定颜色。
(2)此有色膜结构具有保护层保护显色层,以避免有色膜结构中显色层变质并可提升有色膜硬度。
附图说明
图1为本实用新型有色膜的结构示意图。
图2为本实用新型有色膜中粗糙金属层的结构示意图。
图3为本实用新型有色膜的制造方法流程图。
图4为本实用新型有色膜平均反射率示意图。
其中:
10:基板;12:粗糙金属层;121:表面;14:显色层;16:保护层;18:缓冲层;S1:提供基板;S2:进行第一形成步骤;S3:进行第二形成步骤;S4:进行第三形成步骤。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作详细说明。
请参阅图1、图2,有色膜包含基板10,此基板10的材质为玻璃、金属、不锈钢或高分子材料等材料。此基板10上设有粗糙金属层12,粗糙金属层12的表面121具有一定的粗糙度的粗糙表面,用以降低反射率。粗糙金属层12上设有显色层14,以使有色膜显现颜色。显色层14上设有保护层16,以保护显色层14。其中,基板10与该粗糙金属层12之间可选择性具有缓冲层18。此缓冲层18用以使基板10与粗糙金属层12具有更好的结合效果。此外,粗糙金属层12的厚度范围为5nm至1000nm,较佳为100nm至500nm;显色层14的厚度范围为30nm至5500nm,较佳为350nm至1500nm;保护层16的厚度范围为10nm至1000nm,较佳为30nm至110nm。
请参阅图2,粗糙金属层12的表面121具有一定粗糙度,可使光线进行反复反射,以吸收光线降低反射率,并避免发生全反射的情况。其中,此粗糙金属层12是由薄膜沉积法(例如溅镀法),形成在基板10上。所述粗糙金属层12的材质为锡、锌、铟、各种锡合金、各种锌合金或各种铟合金的金属材料。此粗糙金属层12表面121平均粗糙度(Ra)范围为0.06μm至0.25μm之间,较佳为0.08μm至0.13μm之间。
此外,基板10与粗糙金属层12之间可选择性具有一缓冲层18,此缓冲层18的材质为镍、铬、各种镍合金或各种铬合金。
如图1与图4所示,以玻璃为基板10的材质,并在此基板10上溅镀一层铟(In)形成粗糙金属层12。再在粗糙金属层12溅镀一层银(Ag)形成显色层14。此有色膜对于波长400nm至800nm之间的可见光,平均反射率为84.22%。
作为对比实例,以玻璃为基板10的材质,在此基板10溅镀一层银(Ag)为显色层14而不溅镀粗糙金属层12,此有色膜结构对于波长400nm至800nm之间的可见光,平均反射率为94.84%。由此可知,已形成粗糙金属层12的有色膜对可见光的平均反射率会小于未形成粗糙金属层12的有色膜。因此本实用新型有色膜结构中有形成一层粗糙金属层12,可以吸收光线降低反射率,并且避免发生全反射的情况。
如图1与图2所示,显色层14形成于粗糙金属层12之上,此显色层14用以使有色膜结构显现颜色。此显色层14成分为铜、铝、银、镍、铬、锆、钛、氧化铜、氧化铝、氧化镍、氧化铬、氧化锆、氧化钛、氮化铝、氮化铬、氮化锆、氮化钛或不锈钢。这些有色薄膜组成材料以薄膜沉积法,例如溅镀、蒸镀、化学沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)、电浆化学气相沉积(Plasma enhancedChemical Vapor Deposition,PECVD)或涂布等方法,形成于粗糙金属层12之上。
下面介绍几种有色膜的实施例。
实施例1
如图1与图2所示,本实施例的有色膜结构中粗糙金属层12的材质为铟,厚度为350nm,此粗糙金属层12表面121的平均粗糙度(Ra)为0.103μm。此粗糙金属层12上的显色层14材质为铝,厚度为800nm,所以此显色层14颜色为银白色。此显色层14上的保护层16材质为硅氧化物(SiOx),厚度为55nm。综上所述,本实施例有色膜显示出银白色泽。
实施例2
如图1与图2所示,本实施例有色膜结构中粗糙金属层12材质为锡,厚度为350nm。此粗糙金属层12表面121的平均粗糙度(Ra)为0.085μm。此粗糙金属层12上的显色层14材质为银,厚度为1200nm,所以此显色层14颜色为白色。此显色层14上的保护层16材质为硅氧化物(SiOx),厚度为55nm。综上所述,本实施例有色膜显示出珍珠白色泽。
下面介绍这种有色膜的制作方法。
请参阅图3,步骤S1系:提供一经过清洗的基板10。此基板10材质为玻璃、金属、不锈钢或高分子材料等材料。
步骤S2:进行第一形成步骤。即在基板10上采用以薄膜沉积法,例如溅镀、蒸镀、化学沉积(CVD)、电浆化学气相沉积(PECVD)或涂布等方法,形成一层粗糙金属层12。此粗糙金属层12为低熔点金属,例如锡、锌、铟、各种锡合金、各种锌合金或各种铟合金。
步骤S3:进行第二形成步骤。即在粗糙金属层12上形成一显色层14。此显色层14的形成方法是采用以薄膜沉积法,例如溅镀、蒸镀、化学沉积(CVD)、电浆化学气相沉积(PECVD)或涂布等方法。此显色层14材质为铜、铝、银、镍、铬、锆、钛、氧化铜、氧化铝、氧化镍、氧化铬、氧化锆、氧化钛、氮化铝、氮化铬、氮化锆、氮化钛或不锈钢,以及其它有色材料。
步骤S4:进行第三形成步骤。即在显色层14上形成保护层16,此保护层16的形成方法是以薄膜沉积法,例如溅镀、蒸镀、化学沉积(CVD)、电浆化学气相沉积(PECVD)或涂布等方式,在显色层14上形成一层硅氧化物(SiOx)或铝氧化物(AlOx),其中x系为一有理数。
其中,在步骤S2中,在基板10上先形成一层缓冲层18,再在此缓冲层18上形成粗糙金属层12。此缓冲层18形成方法采用薄膜沉积法,例如溅镀法,在基板10上形成一层镍、铬、各种镍合金或各种铬合金。
以上所述仅为举例性,而非为限制性者。任何未脱离本实用新型的精神与范畴,而对其进行的有效修改或变更,均应包含于本申请专利范围中。
Claims (12)
1.一种有色膜,其特征在于,包含:
基板;
粗糙金属层,所述粗糙金属层位于所述基板上,所述粗糙金属层的表面具有一粗糙表面,用以降低反射率;以及,
显色层,所述显色层位于所述粗糙金属层表面上,以使所述有色膜显现颜色。
2.根据权利要求1所述有色膜,其特征在于,还包含保护层,所述保护层位于所述显色层上,以保护所述显色层。
3.根据权利要求2所述有色膜,其特征在于,所述保护层厚度范围为10nm至1000nm。
4.根据权利要求3所述有色膜,其特征在于,所述保护层的材质为硅氧化物或铝氧化物。
5.根据权利要求1所述有色膜,其特征在于,所述基板的材质为玻璃、金属、不锈钢或高分子材料。
6.根据权利要求1所述有色膜,其特征在于,所述粗糙金属层的材质为锡、锌、铟、锡合金、锌合金或铟合金。
7.根据权利要求6所述有色膜,其特征在于,所述粗糙金属层表面的平均粗糙度为0.06μm至0.25μm。
8.根据权利要求7所述有色膜,其特征在于,所述粗糙金属层的厚度范围为5nm至1000nm。
9.根据权利要求1所述有色膜,其特征在于,所述显色层的材质为铜、铝、银、镍、铬、锆、钛、氧化铜、氧化铝、氧化镍、氧化铬、氧化锆、氧化钛、氮化铝、氮化铬、氮化锆、氮化钛或不锈钢。
10.根据权利要求9所述有色膜,其特征在于,所述显色层的膜厚范围系30nm至5500nm。
11.根据权利要求1~10任一项所述有色膜,其特征在于,所述基板与所述粗糙金属层的中间选择性具有一缓冲层,用以紧密结合所述基板与所述粗糙金属层。
12.根据权利要求11所述有色膜,其特征在于,所述缓冲层的材质为镍、铬、镍合金或铬合金。
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GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130130 Termination date: 20150521 |
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