JP2009215593A - 装飾部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Ti、Zr、Hfのうちから一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物もしくは炭窒化物で構成された下地層と、Au、または任意組成のAu−Ni合金、Au−Cu−Pd合金などAu合金からなる仕上層と、Ti、Zr、Hfのうちから一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物もしくは炭窒化物から成る保護層とから構成される硬化層を形成させることにより、効果的に金固有の光沢と色調を有し、耐摩耗性に優れた高品位の金色装飾部品が達成される。
【選択図】図1
Description
硬化層の構造を種々検討した結果、以下に記す構造を採用することにより、効果的に金固有の色調を有し、明度の高い高品位の金色色調の硬化層を形成させられることを見出した。
摩耗による傷の目立ちやすさは傷の侵入深さに依存し、深いほどはっきりとした傷となり目立ちやすくなる。下地層であるTiNやHfCNなどの層はいずれも傷の侵入深さ0.01μm以下の極めて高硬度な膜であり、キズはほとんど認められない。
しかし、Au色調を確保するために仕上層を設けると、AuまたはAu合金は低硬度のため、深い傷が入りやすく、目立ちやすくなる。そこで仕上層の上にこの層よりも傷の目立ちにくい層、すなわち高硬度で深い傷の入りにくい保護層を設けることによって耐摩耗性において格別な効果が得られる。
8729 (1)式により規定されている。一方下限値未満の場合、傷の侵入深さに変化が乏しく、保護層としての効果が薄れてしまう。
このように仕上層より硬度の高い保護層が加えることで、硬度の低い仕上層を傷から保護し、外観の向上にあたり格別な効果を得ることができる。
図面を参照して本発明の第1の実施形態を説明する。図1は基材からなる平板の表面に下地層13、仕上層12、保護層11からなる硬化層を形成した断面模式図である。任意の基材14を真空装置内に配置し、真空装置内を真空排気した後にArと窒素を導入してArと窒素の混合ガスプラズマを発生させ、圧力を0.2Paに保った混合ガスプラズマ雰囲気中で、Tiを使用しDCスパッタ法により任意の基材14の表面に下地層13としてTiN層を形成させた。さらに、同一圧力の同一ガスプラズマ雰囲気中でDCスパッタ法により下地層13上に、仕上層12を形成させた。さらに、同一圧力の同一ガスプラズマ雰囲気中で、AuまたはAu合金を使用しDCスパッタ法により下地層13上に、仕上層12を形成させた。さらに、同一圧力の同一ガスプラズマ雰囲気中で、Hf、TiまたはZrを使用しDCスパッタ法により仕上層12上に、保護層11を形成させた。膜厚は設定値で下地層13を構成するTiCN層が0.8μmとなるように、Au合金からなる仕上層12が0.02μm(20nm)、合計で膜厚が0.82μmとなるように成膜時間を調整し成膜を行なった。任意の基材としては800番研磨紙により仕上げた算術平均粗さRa=150Å(15nm)に相当するSUS304からなる時計ケースを使用した。ある時計ケースを使用した。
実施例1と同様に、真空装置内を真空排気した後にArと窒素を導入してArと窒素の混合ガスプラズマを発生させ、圧力を0.2Paに保った混合ガスプラズマ雰囲気中でHf、TiまたはZrを使用しDCスパッタ法により任意の基材の下地層としてHfN、TiNTiCNまたはZrN層を、形成して下地層13を形成させた。さらに、同一圧力の同一ガスプラズマ雰囲気中で、AuまたはAu合金を使用しDCスパッタ法により下地層13上に、仕上層12を形成させた。さらに、同一圧力の同一ガスプラズマ雰囲気中で、Hf、TiまたはZrを使用しDCスパッタ法により仕上層12上に、保護層11を形成させた。膜厚は設定値で、下地層13を構成するHfN、TiN、TiCNまたはZrN
層が0.8μm、仕上層12を構成するAuまたはAu合金層が0.002μmから0.1μm、保護層12を構成するHfN、TiN、TiCNまたはZrN層が0.001μm〜0.01μmとなるように調整し、合計で膜厚が0.803μmから0.910μmとなるように成膜時間を調整し成膜を行なった。任意の基材には時計ケース、時計バンド、時計ベゼル、裏蓋、中留を使用し、基材材質には800番研磨紙により仕上げた算術平均粗さRa=200Åに相当するTi、Ti合金、SUS304およびSUS316Lを使用した。また仕上層にはAu、または任意組成のAu−Ni合金、Au−Cu−Pd合金を使用した。
本発明の実施形態の比較例1〜5としてTi、Ti合金、SUS304及びSUS316Lからなる装飾部品である時計ケース、時計バンド、時計ベゼル、裏蓋、または中留などの多様な形状の時計外装部品の表面に、下地層としてTiN、ZrN、TiCN、HfCN,ZrCN、HfNを形成し、その後下地層上に組成任意のAuまたはAu合金を形成、保護層は設けずに合計0.84〜0.90μmとなるよう時間を調整してDCスパッタ法により被覆して仕上げ層を形成させた。
本発明の実施形態の比較例6〜10として、第1の実施形態と同様に、Ti、Ti合金、SUS304およびSUS316Lからなる装飾部品である時計ケース、時計バンド、時計ベゼル、裏蓋、または中留などの多様な形状の時計外装部品の表面に、下地層としてHfN層、TiN層、TiCN層、またはZrN層を形成し、その後下地層上に仕上層としてのAuまたは任意組成Au合金を形成させ、最表面に保護層としてHfN層、TiN層、TiCN層、またはZrN層を形成させる手法を採用した。ここで仕上層と保護層の厚みは任意の厚みとして調整し、合計で膜厚が0.84μmから1.00μmとなるように成膜時間を調整し成膜を行なった。
◎:被膜表面に傷の発生が全く認められない。
○:被膜表面に傷の発生がほとんど認められない。
×:被膜表面に傷の発生が認められる。または、被膜の剥離が認められる。
また、傷の侵入深さはKLA・Tencor社 a-stepにより測定し、傷深さが0.05μm未満であり、なおかつ下地層が露出していないものを合格とした。以上4項目を合格したものを総合評価結果で○とした。
00ÅのTi、Ti合金、SUS304、SUS316Lを使用の下、L*=80以上で合格であり、従って総合評価は実施例1〜48の全てが合格であった。
基材材質として各実施形態でTi、Ti合金、SUS304およびSUS316Lを使用したが、基材材質はこれらに限らずAlおよび各種のAl合金、各種のステンレス鋼、各種のTi合金、銅合金などからなる材料に適用可能である。
12 仕上層
13 下地層
14 基材
Claims (2)
- 表面に硬化層を有し、該硬化層は、Ti、ZrまたはHfのうちから1種類以上の金属からなる窒化物、炭化物または炭窒化物で構成された下地層と、AuまたはAu合金からなる仕上層と、最表層にTi、ZrまたはHfのうちから1種類以上の金属からなる窒化物、炭化物または炭窒化物で構成された保護層とを有する装飾部品。
- 前記保護層がHfからなる窒化物、炭化物または炭窒化物で構成されることを特徴とする請求項1に記載の装飾部品。
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