TWI839474B - 光學層及包含該光學層的積層體 - Google Patents

光學層及包含該光學層的積層體 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種光學層，係由組成物所形成者，該組成物包含分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；
Figure 109106045-A0202-11-0001-195
[式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基]。

Description

光學層及包含該光學層的積層體
本發明係關於光學層及包含該光學層的積層體。
有機EL顯示裝置等顯示裝置(FPD：平面面板顯示器)中有使用有機EL元件、液晶單元(liquid crystal cell)等顯示元件、偏光板等光學膜等的各種構件。被用於該等構件的有機EL化合物及液晶化合物等，在有機物中大多使用耐候性差的化合物，因此不僅是紫外線(UV)，也容易有因波長380至420nm以下的短波長的可見光造成劣化的間題。為了解決如此的間題，例如於專利文獻1記載形成有包含下述式表示的化合物的黏著劑層的光學積層體。
Figure 109106045-A0202-12-0001-198
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本公開專利特開2017-48340號公報
但是，專利文獻1記載的光學積層體，還是有未充分抑制有機元件、液晶化合物的劣化的情況。
本發明包含以下的發明。
[1]一種光學層，係由組成物所形成者，該組成物包含分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；
[式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；
R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基]。
[2]如[1]記載的光學層，其中，分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物為式(I)表示的化合物至式(VIII)表示的化合物中之任一者；
Figure 109106045-A0202-12-0003-199
Figure 109106045-A0202-12-0004-200
[式(I)至式(VIII)中，
環W1及R3表示與前述相同的意義；
環W2、環W3、環W4、環W5、環W6、環W7、環W8、環W9、環W10、環W11及環W12分別獨立地表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素的環結構；
環W111表示具有至少2個氮原子作為構成要素的環；
環W112及環W113分別獨立地表示具有至少1個氮原子作為構成要素的環；
R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102及R112分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、 氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-COO-、-OCO-、-CONR13A-、-NR14A-CO-、-S-、-SO-、-CF2-或-CHF-取代；
R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113分別獨立地表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A、R11A、R12A、R13A及R14A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基；
R4、R14、R24、R34、R44、R54、R64、R74、R84、R94、R104、R114、R5、R15、R25、R35、R75及R85分別獨立地表示吸電子基；
R1及R2可互相鍵結而形成環；
R41及R42可互相鍵結而形成環；
R51及R52可互相鍵結而形成環；
R61及R62可互相鍵結而形成環；
R91及R92可互相鍵結而形成環；
R101及R102可互相鍵結而形成環；
R111及R112可互相鍵結而形成環；
R2及R3可互相鍵結而形成環；
R12及R13可互相鍵結而形成環；
R42及R43可互相鍵結而形成環；
R52及R53可互相鍵結而形成環；
R62及R63可互相鍵結而形成環；
R72及R73可互相鍵結而形成環；
R82及R83可互相鍵結而形成環；
R92及R93可互相鍵結而形成環；
R102及R103可互相鍵結而形成環；
R112及R113可互相鍵結而形成環；
R4及R5可互相鍵結而形成環；
R14及R15可互相鍵結而形成環；
R24及R25可互相鍵結而形成環；
R34及R35可互相鍵結而形成環；
R74及R75可互相鍵結而形成環；
R84及R85可互相鍵結而形成環；
R6及R8分別獨立地表示2價連結基；
R7表示單鍵或2價連結基；
R9及R10分別獨立地表示3價連結基；
R11表示4價連結基]。
[3]如[2]記載的光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、氟烷基、氟芳基、-CO-O-R222、-SO2-R222或-CO-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)。
[4]如[2]或[3]記載的光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為硝基、氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)。
[5]如[2]至[4]中任一項記載的光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)。
[6]如[2]至[5]中任一項記載的光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為氰基。
[7]如[2]至[6]中任一項記載的光學層，其中，R4為氰基；
R5為氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)。
[8]如[2]至[7]中任一項記載的光學層，其中，R4及R5皆為氰基。
[9]如[2]至[8]中任一項記載的光學層，其中，R1及R2分別獨立為可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基。
[10]如[2]至[8]中任一項記載的光學層，其中，R1及R2互相鍵結而形成環。
[11]如[10]記載的光學層，其中，R1及R2互相鍵結而形成的環為脂肪族環。
[12]如[2]至[11]中任一項記載的光學層，其中，環W2、環W3、環W4、環W5、環W6、環W7、環W8、環W9、環W10、環W11及環W12分別獨立為不具芳香族性的環。
[13]如[1]至[12]中任一項記載的光學層，其中，R3為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、氟烷基、氟芳基、-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)。
[14]如[1]至[13]中任一項記載的光學層，其中，R3為氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)。
[15]如[1]至[14]中任一項記載的光學層，其中，R3為氰基。
[16]如[1]至[15]中任一項記載的光學層，係滿足下述式(a)；
A(395)>0.5 (a)
[A(395)表示光學層在波長395nm的吸光度]。
[17]如[1]至[16]中任一項記載的光學層，係滿足下述式(b)；
A(395)/A(430)≧10 (b)
[A(395)表示光學層在波長395nm的吸光度；A(430)表示光學層在波長430nm的吸光度]。
[18]如[1]至[17]中任一項記載的光學層，其膜厚為1至500μm。
[19]如[1]至[18]中任一項記載的光學層，係由組成物所形成，該組成物包含：
分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；
玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂；以及
交聯劑。
[20]如[1]至[18]中任一項記載的光學層，係由組成物所形成，該組成物包含：
分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；
光硬化性成分；以及
光聚合起始劑。
[21]如[1]至[18]中任一項記載的光學層，係由組成物所形成者，該組成物包含：
分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；以及
選自下述群組A的至少一種樹脂；
群組A：纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂。
[22]一種光學積層體，包含如[1]至[21]中任一項記載的光學層及偏光片。
[23]一種圖像顯示裝置，包含如[22]記載的光學積層體。
[24]一種組成物，包含：分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；
玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂；以及
交聯劑；
Figure 109106045-A0202-12-0010-201
[式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；
R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基]。
[25]一種組成物，包含：分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；
光硬化性成分；以及
光聚合起始劑；
Figure 109106045-A0202-12-0011-303
[式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；
R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基]。
[26]一種組成物，包含：分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；以及
選自下述群組A的至少一種樹脂；
群組A：纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂；
Figure 109106045-A0202-12-0012-203
[式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；
R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基]。
本發明提供具有良好耐候性的光學層。
1,2,3:光學層
4:接著劑層
5:偏光片
6:黏接著劑層
6a:黏著劑層
7,8:保護膜
10,10A,10B,10C,10D,10E:光學積層體
20:表面處理層
30:發光元件
40:光學膜
50,50a:1/4波長相位差層
60:黏接著劑層
70:1/2波長相位差層
80:正型C層
100:偏光板
第1圖係表示本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖。
第2圖係表示本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖。
第3圖係表示本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖。
第4圖係表示本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖。
第5圖係表示本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖。
第6圖係表示本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖。
本說明書之「(甲基)丙烯醯基」係指選自丙烯醯基及甲基丙烯醯基中的至少一者。「(甲基)丙烯醯氧基」、「(甲基)丙烯酸」、「(甲基)丙烯酸酯」等亦同理。
〈光學層〉
本發明的光學層係吸收及/或穿透光的層。光學層可為包含於顯示裝置、攝影裝置等的光學構件的層。本發明的光學層對波長395nm附近的短波長的可見光顯示高吸收性，相反地對波長430nm附近的光的吸收性低，可抑制對顯示裝置的色調的影響。
本發明的光學層係由包含分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物(以下有稱為化合物(X)的情況)的組成物所形成。
藉由包含化合物(X)，可得到具有良好耐候性及對波長390nm附近的短波長的可見光有高吸收選擇性的光學層。
本發明的光學層滿足下述式(a)較理想。
A(395)≧0.5 (a)
[A(395)表示光學層在波長395nm的吸光度]。
A(395)的值越大，表示波長395nm的吸收高。A(395)的值未達0.5時，波長395nm的吸收低，短波長的可見光之相位差膜、有機EL元件等的顯示裝置的劣化的抑制效果小。A(395)的值，從抑制耐候劣化的觀點，較理想為0.6以上，更理想為0.8以上，特別理想為1.0以上。上限無特別限制，通常為10.0以下。
本發明的光學層滿足下述式(b)更理想。
A(395)/A(430)≧10 (b)
[A(395)表示光學層在波長395nm的吸光度；A(430)表示光學層在波長430nm的吸光度]。
A(395)/A(430)的值表示波長395nm的吸光度的大小相對於波長430nm的吸光度的大小的比例，該值越大表示在395nm附近的波長區域具有特殊吸收，可抑制對顯示裝置的色調的影響。A(395)/A(430)的值為15以上較理想，20以上更理想，特別理想為30以上。
本發明的光學層的厚度，通常為1至500μm，較理想為2至100μm，更理想為2.5至50μm，更加理想為3至30μm。
作為本發明的光學層，例如偏光片、保護膜、相位差膜、黏著劑層、接著劑層、硬塗層等表面處理層、增亮膜等。本發明的光學層，例如可藉由將包含化合物(X)的組成物成形為薄片狀而得。而且，在本發明的光學層積層其他的光學層，可成為光學積層體。於光學層彼此積層的情況，可積層本發明的光學層彼此，亦可使本發明的光學層與不包含化合物(X)的層積層。
〈化合物(X)〉
本發明的光學層包含分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0015-204
[式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；
R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基。]
於本說明書，碳數不包含取代基的碳數，於-CH2-或-CH=被例如上述取代的情況為被取代前的碳數。
環W1只要是具有1個以上雙鍵作為環的構成要素的環且不具芳香族性的環，無特別限制。環W1可為單環，亦可為縮合環。
環W1可為包含雜原子(例如氧原子、硫原子、氮原子等)作為環的構成要素的雜環，亦可為由碳原子與氫原子所構成的脂肪族烴環。
環W1具有1個以上雙鍵作為環的構成要素，但環W1所含的雙鍵通常為1至4個，較理想為1至3個，更理想為1或2個，更加理想為1個。
環W1通常為碳數5至18的環，5至7員環結構較理想，6員環結構更理想。
環W1為單環較理想。
環W1可具有取代基。作為前述取代基，例如：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵原子；甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基等碳數1至12的烷基；氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、2-氟乙基、2,2-二氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、1,1,2,2,2-五氟乙基等碳數1至12的鹵化烷基；甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基等碳數1至12的烷氧基；甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基、戊硫基、己硫基等碳數1至12的烷硫基；單氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、2-氟乙氧基、1,1,2,2,2-五氟乙氧基等碳數1至12的氟化烷氧基；胺基、甲基胺基、乙基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、可被甲基乙基等碳數1至6的烷基取代的胺基；甲基羰基氧基、乙基羰基氧基等碳數2至12的烷基羰基氧基；甲基磺醯基、乙基磺醯基等碳數1至12的烷基磺醯基；苯基磺醯基等碳數6至12的芳基磺醯基；氰基；硝基；羥基；硫醇基；羧基；-SF5；-SF3等。
環W1可具有的取代基，較理想為碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、碳數1至12的烷硫基或可被碳數1至6的烷基取代的胺基。
作為W1，例如下述記載的基。
Figure 109106045-A0202-12-0017-205
Figure 109106045-A0202-12-0018-206
[式中，＊1表示與氮原子的鍵結鍵，＊2表示與碳原子的鍵結鍵。]
作為R3表示的雜環基，例如吡啶基、吡咯烷基(Pyrrolidyl)、四氫呋喃甲基、四氫噻吩基、吡咯基、呋喃基、噻吩基(thiopheno)、哌啶基、四氫哌喃基、四氫硫代哌喃基、硫代哌喃基、咪唑啉基、吡唑基、噁唑基、噻唑基、二噁環己基(dioxanyl)、嗎啉基、噻嗪基、三唑基、四唑基、二噁環戊基(dioxolanyl)、噠嗪基(pyridazinyl)、嘧啶基、吡嗪基、吲哚基、 異吲哚基、苯并咪唑基、嘌呤基、苯并三唑基、喹啉基、異喹啉基、喹唑啉基、喹噁啉基(quinoxalinyl)、肉桂基(cinnolinyl)、蝶啶基(pteridinyl)、苯并哌喃基、蒽基、吖啶基、黃嘌呤基(xanthenyl)、咔唑基、稠四苯基、卟啉基(porphynyl)、二氫卟吩基(chlorin group)、胆鹼基基(cholinyl)、腺苷基(adenosyl group)、胍基(guanyl group)、胞基(cytosyl group)、胸腺嘧啶基(thyminyl group)、脲嘧啶基(uracil group)、喹啉基、苯硫基(thiophenyl)、咪唑基、噁唑基、噻唑基等碳數3至16的脂肪族雜環及碳數3至16的芳香族雜環，較理想為吡咯烷基、哌啶基、四氫呋喃甲基、四氫哌喃基、四氫噻吩基、四氫硫代哌喃基或吡啶基。
作為R3表示的碳數1至25的脂肪族烴基，例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、異戊基、正己基、異己基、正辛基、異辛基、正壬基、異壬基、正癸基、異癸基、正十二烷基、異十二烷基、十一烷基、月桂基、肉荳蔻基、十六烷基、硬脂基等碳數1至25的直鏈狀或分支鏈狀的烷基；環丙基、環丁基、環戊基、環己基等碳數3至25的環烷基；環己基甲基等碳數4至25的環烷基烷基等。
R3表示的碳數1至25的脂肪族烴基，較理想為碳數1至15的烷基，更理想為碳數1至12的烷基。
作為R3表示的脂肪族烴基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基、硝基、氰基、-SO3H等。
R3表示的碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、- NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被取代的情況，較理想為被-O-、-S-、-CO-O-或-SO2-取代。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-O-取代的情況，該脂肪族烴基為-O-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的烷氧基較理想。而且，可為聚伸乙烷氧基、聚伸丙烷氧基等聚伸烷氧基。作為-O-R’表示的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、-OCF3-基等。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-S-取代的情況，該脂肪族烴基為-S-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的烷硫基較理想。而且，可為聚伸乙烷硫基、聚伸丙烷硫基等聚伸烷硫基。作為-S-R’表示的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、-SCF3基、聚伸乙烷硫基、聚伸丙烷硫基等。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-COO-取代的情況，該脂肪族烴基為-COO-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的基較理想，可為-SO2CHF2基、-SO2CH2F基等。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-SO2-取代的情況，該脂肪族烴基為-SO2-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的基較理想。
作為R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A表示的碳數1~6的烷基例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基等直鏈狀或分支鏈狀的碳數1至6的烷基。
作為R3表示的碳數6至18的芳香族烴基，例如：苯基、萘基、蒽基、稠四苯基、并五苯基、菲基(phenathryl)、
Figure 109106045-A0202-12-0021-193
基(chrysenyl)、三并苯基(triplenylenyl)、四苯基、芘基(pyrenyl)、苝基(perylenyl)、冠烯基(coronenyl)、聯苯基等碳數6至18的芳基；苯甲基、苯乙基、萘甲基等碳數7至18的芳烷基等，碳數6至18的芳基較理想，苯基或苯甲基更理想。
作為R3表示的碳數6至18的芳香族烴基可具有的取代基，例如：鹵原子；羥基；硫醇基；胺基；硝基；氰基；-SO3H等。
R3表示的碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代。
前述碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=被取代的情況，較理想為被-O-或-SO2-取代。
前述碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=被-O-取代的情況，該芳香族烴基為苯氧基等碳數6至17的芳香氧基；苯氧基乙基、苯氧基二乙醇基、苯氧基聚烷二醇基的芳基烷氧基等較理想。
前述碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=被-SO2-取代的情況，該芳香族烴基為-SO2-R”(R”為碳數6至17的芳基或碳數7至17的芳烷基)表示的基較理想。
作為R3表示的鹵原子，例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
R3較理想為：硝基；氰基；鹵原子；-OCF3；-SCF3；-SF5；-SF3；氟烷基(較理想為碳數1至25)；氟芳基(較理想為碳數6至18)；-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)。
更理想為：氰基；氟原子；氯原子；-OCF3；-SCF3；氟烷基(較理想為碳數1至12)；-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)。
特別理想為氰基。
化合物(X)的分子量為2500以下較理想，更理想為2000以下，更加理想為1500以下，特別理想為1000以下。而且，較理想為100以上，可為150以上，可為200以上。
化合物(X)只要是分子量為3000以下，可為共聚物，較理想為單體。
化合物(X)在波長370nm以上420nm以下顯示最大吸收波長較理想。化合物(X)在波長370nm以上420nm以下顯示最大吸收波長 時，可有效率地吸收波長380nm以上400nm以下的範圍的紫外光至近紫外光。化合物(X)的最大吸收波長(λmax)為波長375nm以上415nm以下較理想，更理想為波長375nm以上410nm以下，更加理想為波長380nm以上400nm以下。
化合物(X)的λmax之克吸光係數ε為0.5以上較理想，更理想為0.75以上，特別理想為1.0以上。上限無特別限制，一般為10以下。再者，λmax表示化合物(X)的最大吸收波長。
化合物(X)的λmax之克吸光係數ε為0.5以上時，即使是少量的添加量，亦可有效率地吸收波長380至400nm的範圍的紫外光至近紫外光。
化合物(X)的ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為5以上較理想，更理想為10以上，特別理想為20以上。上限無特別限制，一般為1000以下。ε(λmax)表示化合物(X)的最大吸收波長[nm]的克吸光係數，ε(λmax+30nm)表示化合物(X)的(最大吸收波長[nm]+30nm)的波長[nm]的克吸光係數。
ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為5以上時，因420nm以上的波長的副吸收可為最小化，不易產生著色。
再者，克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。
作為化合物(X)，較理想為式(I)表示的化合物至式(VIII)表示的化合物，更理想為式(I)表示的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0024-207
Figure 109106045-A0202-12-0025-208
[式(I)至式(VIII)中，
環W1及R3表示與前述相同的意義；
環W2、環W3、環W4、環W5、環W6、環W7、環W8、環W9、環W10、環W11及環W12分別獨立地表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素的環結構；
環W111表示具有至少2個氮原子作為構成要素的環；
環W112及環W113分別獨立地表示具有至少1個氮原子作為構成要素的環；
R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102及R112分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、 氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-COO-、-OCO-、-CONR13A-、-NR14A-CO-、-S-、-SO-、-CF2-或-CHF-取代；
R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113分別獨立地表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；
R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A、R11A、R12A、R13A及R14A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基；
R4、R14、R24、R34、R44、R54、R64、R74、R84、R94、R104、R114、R5、R15、R25、R35、R75及R85分別獨立地表示吸電子基；
R1及R2可互相鍵結而形成環；
R41及R42可互相鍵結而形成環；
R51及R52可互相鍵結而形成環；
R61及R62可互相鍵結而形成環；
R91及R92可互相鍵結而形成環；
R101及R102可互相鍵結而形成環；
R111及R112可互相鍵結而形成環；
R2及R3可互相鍵結而形成環；
R12及R13可互相鍵結而形成環；
R42及R43可互相鍵結而形成環；
R52及R53可互相鍵結而形成環；
R62及R63可互相鍵結而形成環；
R72及R73可互相鍵結而形成環；
R82及R83可互相鍵結而形成環；
R92及R93可互相鍵結而形成環；
R102及R103可互相鍵結而形成環；
R112及R113可互相鍵結而形成環；
R4及R5可互相鍵結而形成環；
R14及R15可互相鍵結而形成環；
R24及R25可互相鍵結而形成環；
R34及R35可互相鍵結而形成環；
R74及R75可互相鍵結而形成環；
R84及R85可互相鍵結而形成環；
R6及R8分別獨立地表示2價連結基；
R7表示單鍵或2價連結基；
R9及R10分別獨立地表示3價連結基；
R11表示4價連結基。]
環W2、環W3、環W4、環W5、環W6、環W7、環W8、環W9、環W10、環W11及環W12只要分別獨立地為具有至少1個雙鍵作為環構成要素的環，無特別限制。環W2至環W12分別可為單環，可為縮合環。而且，環W2至環W12可為脂肪族環，亦可為芳香環。
環W2至環W12亦可為包含雜原子(例如氧原子、硫原子、氮原子等)作為環的構成要素的雜環。
環W2至環W12具有至少1個雙鍵作為環構成要素，環W2至環W12所含的雙鍵分別獨立地通常為1至4個，1至3個較理想，1或2個更理想，1個更加理想。
環W2至環W12分別獨立地通常為碳數5至18的環，5至7員環結構較理想，6員環結構更理想。
環W2至環W12分別獨立地為單環較理想。而且，環W2至環W12分別獨立地為不具芳香族性的環較理想。
環W2至環W12可具有取代基。作為前述取代基，例如與環W1可具有的取代基相同者。
作為環W2至環W12可具有的取代基，較理想為碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、碳數1至12的烷硫基或可被碳數1至6的烷基取代的胺基。
作為環W2至環W12的具體例，例如與環W1的具體例相同者。
環W111為包含2個氮原子作為環構成要素的環。環W111可為單環，可為縮合環，單環較理想。
環W111通常為5至10員環，較理想為5至7員環，更理想為5員環或6員環。
環W111可具有取代基。作為環W111可具有的取代基，例如：羥基；硫醇基；醛基；甲基、乙基等碳數1至6的烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1至6的烷氧基；甲硫基、乙硫基等碳數1至6的烷硫基；胺基、甲基胺基、二甲基胺基、可被甲基乙基等碳數1至6的烷基取代的胺基；-CONR1fR2f(R1f及R2f分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基)；-COSR3f(R3f表示碳數1至6的烷基)；-CSSR4f(R4f表示碳數1至6的烷基)；-CSOR5f(R5f表示碳數1至6的烷基)；-SO2R6f(R6f表示碳數6至12的芳基或可具有氟原子的碳數1至6的烷基)等。
作為環W111，例如下述記載的環。
Figure 109106045-A0202-12-0029-209
環W112及環W113分別獨立為包含1個氮原子作為環構成要素的環。環W112及環W113分別獨立地可為單環，亦可為縮合環，單環較理想。
環W112及環W113分別獨立地通常為5至10員環，較理想為5至7員環，更理想為5員環或6員環。
環W112及環W113可具有取代基。作為環W112及環W113可具有的取代基，例如與環W1的取代基相同者。
作為環W112及環W113，例如下述記載的環。
Figure 109106045-A0202-12-0030-210
作為R4、R14、R24、R34、R44、R54、R64、R74、R84、R94、R104、R114、R5、R15、R25、R35、R75及R85表示的吸電子基，例如鹵原子、硝基、氰基、羧基、鹵化烷基、鹵化芳基、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、-SO2CF3、-SO2CHF2、-SO2CH2F、式(X-1)表示的基。
*-X1-R222 (X-1)
[式(X-1)中，
X1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSS-、-COS-、-CSO-、-SO2-、-NR223CO-或-CONR224-。
R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基。
R223及R224分別獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基。
＊表示鍵結鍵。]
作為鹵原子，例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為鹵化烷基，例如三氟甲基、五氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基及全氟己基等氟烷基等，全氟烷基較理想。作為鹵化烷基的碳數，通常為1至25，較理想為碳數1至12。鹵化烷基可為直鏈狀，亦可為分支鏈狀。
作為鹵化芳基，例如氟苯基、氯苯基、溴苯基等，氟芳基較理想，全氟芳基更理想。作為包含鹵原子的芳基的碳數，通常為6至18。較理想為碳數6至12。
X1為-COO-或-SO2-較理想。
作為R222表示的碳數1至25的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等直鏈狀或分支鏈狀的碳數1至25的烷基。R222為碳數1至12的烷基較理想。
作為R222表示的碳數1至25的烷基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基等。
作為R222表示的碳數6至18的芳香族烴基，例如：苯基、萘基、蒽基、聯苯基等碳數6至18的芳基；苯甲基、苯乙基、萘甲基等碳數7至18的芳烷基等。
作為R222表示的碳數6至18的芳香族烴基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基等。
作為R223及R224表示的碳數1至6的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基等。
作為R4、R14、R24、R34、R44、R54、R64、R74、R84、R94、R104、R114、R5、R15、R25、R35、R75及R85表示的吸電子基，分別獨立地為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、氟烷基(較理想為碳數1至25)、氟芳基(較理想為碳數6至18)、-CO-O-R222或-SO2-R222或-CO-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)較理想；
硝基、氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)更理想；氰基更加理想。
R4及R5中的至少一者為氰基較理想，R4為氰基且R5為氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222分別獨立地表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)更理想。
R4及R5可互相鍵結而形成環。R4及R5互相鍵結而形成的環，可為單環，亦可為縮合環，單環較理想。而且，R4及R5互相鍵結而形成的環，可包含雜原子(氮原子、氧原子、硫原子)作為環的構成要素。
R4及R5互相鍵結而形成的環，通常為3至10員環，5至7員環較理想，5員環或6員環更理想。
作為R4及R5互相鍵結而形成的環，例如下述記載的結構。
Figure 109106045-A0202-12-0033-211
[式中，＊表示與碳原子的鍵結鍵。R1E至R16E分別獨立地表示氫原子或取代基。]
R4及R5互相鍵結而形成的環，可具有取代基(上述式中的R1E至R16E)。前述取代基，例如與環W1可具有的取代基相同者。前述R1E至R16E分別獨立地較理想為碳數1至12的烷基，更理想為碳數1至6的烷基，更加理想為甲基。
R14及R15互相鍵結而形成的環，例如與R4及R5互相鍵結而形成的環相同者。
R24及R25互相鍵結而形成的環，例如與R4及R5互相鍵結而形成的環相同者。
R34及R35互相鍵結而形成的環，例如與R4及R5互相鍵結而形成的環相同者。
R74及R75互相鍵結而形成的環，例如與R4及R5互相鍵結而形成的環相同者。
R84及R85互相鍵結而形成的環，例如與R4及R5互相鍵結而形成的環相同者。
作為R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102、R112、R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113表示的雜環基，例如與R3表示的雜環基相同者，較理想為吡咯烷基、哌啶基、四氫呋喃甲基、四氫哌喃基、四氫噻吩基、四氫硫代哌喃基或吡啶基。
作為R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102、R112、R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113表示的碳數1至25的脂肪族烴基，例如與R3表示的碳數1至25的脂肪族烴基相同者。
前述碳數1至25的脂肪族烴基，較理想為碳數1至15的烷基，更理想為碳數1至12的烷基。
作為R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102、R112、R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113表示的碳數1至25的脂肪族烴基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基、硝基、氰基、-SO3H等。
而且，R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102及R112表示的碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-COO -、-OCO-、-CONR13A-、-NR14A-CO-、-S-、-SO-、-CF2-或-CHF-取代。
R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113表示的碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被取代的情況，被-O-、-S-、-CO-O-或-SO2-取代較理想。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-O-取代的情況，該脂肪族烴基為-O-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的烷氧基較理想。而且，可為聚伸乙烷氧基、聚伸丙烷氧基等聚伸烷氧基。作為-O-R’表示的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、-OCF3-基等。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-S-取代的情況，該脂肪族烴基為-S-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的烷硫基較理想。而且，可為聚伸乙烷硫基、聚伸丙烷硫基等聚伸烷硫基。作為-S-R’表示的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、-SCF3基、聚伸乙烷硫基、聚伸丙烷硫基等。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-COO-取代的情況，該脂肪族烴基為-COO-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的基較理想。
前述碳數1至25的脂肪族烴基所含的-CH2-或-CH=被-SO2-取代的情況，該脂肪族烴基為-SO2-R’(R’為可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)表示的基較理想，可為-SO2CHF2基、-SO2CH2F基等。
作為R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A、R11A、R12A、R13A及R14A表示的碳數1至6的烷基，例如與R1A表示的碳數1至6的烷基相同者。
作為R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102、R112、R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113表示的碳數6至18的芳香族烴基，例如與R3表示的碳數6至18的芳香族烴基相同者，較理想為碳數6至18的芳基，更理想為苯基或苯甲基。
作為前述碳數6至18的芳香族烴基可具有的取代基，例如鹵原子；羥基；硫醇基；胺基；硝基；氰基；-SO3H等。
R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102及R112的碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-COO-、-OCO-、-CONR13A-、-NR14A-CO-、-S-、-SO-、-CF2-或-CHF-取代。
R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113表示的碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代。
前述碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=被取代的情況，較理想為被-O-或-SO2-取代。
前述碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=被-O-取代的情況，該芳香族烴基為：苯氧基等碳數6至17的芳香氧基；苯氧基乙基、苯氧基二乙醇基、苯氧基聚烷二醇基的芳基烷氧基等較理想。
前述碳數6至18的芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=被-SO2-取代的情況，該芳香族烴基為-SO2-R”(R”為碳數6至17的芳基或碳數7至17的芳烷基)表示的基較理想。
作為R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A、R11A、R12A、R13A及R14A表示的碳數1至6的烷基，例如上述者。
R2及R3可互相連結形成的環。R2及R3互相連結所形成的環的構成要素係包含構成環W1的雙鍵。亦即，R2及R3互相連結所形成的環與環W1形成縮合環。作為R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環，具體地例如以下記載的環結構。
Figure 109106045-A0202-12-0038-212
R12及R13互相連結所形成的環係包含構成環W2的雙鍵作為R12及R13互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R12及R13互相連結所形成的環與環W2形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R42及R43互相連結所形成的環係包含構成環W5的雙鍵作為R42及R43互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R42及R43互相連結所形成的環與環W5形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R52及R53互相連結所形成的環係包含構成環W6的雙鍵作為R52及R53互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R52及R53互相連結所形成的環與環W6形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R62及R63互相連結所形成的環係包含構成環W7的雙鍵作為R62及R63互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R62及R63互相連結所形成的環與環W7形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R72及R73互相連結所形成的環係包含構成環W8的雙鍵作為R72及R73互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R72及R73互相連結所形成的環與 環W8形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R82及R83互相連結所形成的環係包含構成環W9的雙鍵作為R82及R83互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R82及R83互相連結所形成的環與環W9形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R92及R93互相連結所形成的環係包含構成環W12的雙鍵作為R92及R93互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R92及R93互相連結所形成的環與環W12形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R102及R103互相連結所形成的環係包含構成環W10的雙鍵作為R102及R103互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R102及R103互相連結所形成的環與環W10形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R112及R113互相連結所形成的環係包含構成環W11的雙鍵作為R112及R113互相連結所形成的環的構成要素。亦即，R112及R113互相連結所形成的環與環W11形成縮合環。具體地，例如與R2及R3互相連結所形成的環與環W1所形成的縮合環相同者。
R1及R2可互相鍵結而形成環。R1及R2互相鍵結而形成的環係包含1個氮原子作為環的構成要素。R1及R2互相鍵結而形成的環可為單環，亦可為縮合環，單環較理想。R1及R2互相鍵結而形成的環可更包 含雜原子(氧原子、硫原子、氮原子等)作為環的構成要素。R1及R2互相鍵結而形成環，較理想為脂肪族環，更理想為無不飽和鍵的脂肪族環。
R1及R2互相鍵結而形成的環，通常為3至10員環，5至7員環較理想，5員環或6員環更理想。
R1及R2互相鍵結而形成的環可具有取代基，例如與環W2至環W12可具有的取代基相同者。
作為R1及R2互相鍵結而形成的環，例如以下記載的環。
Figure 109106045-A0202-12-0040-213
R41及R42互相鍵結而形成環，例如與R1及R2互相鍵結而形成的環相同者。
R51及R52互相鍵結而形成環，例如與R1及R2互相鍵結而形成的環相同者。
R61及R62互相鍵結而形成環，例如與R1及R2互相鍵結而形成的環相同者。
R91及R92互相鍵結而形成環，例如與R1及R2互相鍵結而形成的環相同者。
R101及R102互相鍵結而形成環，例如與R1及R2互相鍵結而形成的環相同者。
R111及R112互相鍵結而形成環，例如與R1及R2互相鍵結而形成的環相同者。
作為R6、R7及R8表示的2價連結基係表示可具有取代基的碳數1至18的2價脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的2價芳香族烴基。前述2價脂肪族烴基及2價芳香族烴基所含之-CH2-，可被-O-、-S-、-NR1B-(R1B表示氫原子或碳數1至6的烷基)、-CO-、-SO2-、-SO-、-PO3-取代。
而且，作為前述2價脂肪族烴基及2價芳香族烴基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基、羧基、胺基等。
R6、R7及R8表示的2價連結基分別獨立地為可具有取代基的碳數1至18的2價脂肪族烴基較理想，可具有取代基的碳數1至12的2價脂肪族烴基更理想。
作為R6、R7及R8表示的2價連結基的具體例，例如以下記載的連結基。式中，＊表示鍵結鍵。
Figure 109106045-A0202-12-0042-214
Figure 109106045-A0202-12-0043-215
Figure 109106045-A0202-12-0043-216
Figure 109106045-A0202-12-0044-217
Figure 109106045-A0202-12-0044-218
Figure 109106045-A0202-12-0045-219
Figure 109106045-A0202-12-0045-220
R6及R7分別獨立地為可具有取代基的碳數1至18的2價脂肪族烴基或下述式表示的連結基較理想，可具有取代基的碳數1至12的2價脂肪族烴基或下述式表示的連結基更理想。
Figure 109106045-A0202-12-0046-221
R8較理想為可具有取代基的碳數1至18的2價脂肪族烴基或下述式表示的連結基。
Figure 109106045-A0202-12-0046-222
作為R9及R10表示的3價連結基，分別獨立地例如為可具有取代基的碳數1至18的3價脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的3價芳香族烴基。前述3價脂肪族烴基所含的-CH2-可被-O-、-S-、-CS-、-CO-、-SO-、-NR11B-(R11B表示氫原子或碳數1至6的烷基)取代。
作為前述3價脂肪族烴基及前述3價芳香族烴基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基、羧基、胺基等。
R9及R10表示的3價連結基分別獨立地為可具有取代基的碳數1至12的3價脂肪族烴基。
作為R9及R10表示的3價連結基的具體例，例如以下記載的連結基。
Figure 109106045-A0202-12-0047-223
作為R11表示的4價連結基，例如為可具有取代基的碳數1至18的4價脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的4價芳香族烴基。前述4價脂肪族烴基所含的-CH2-可被-O-、-S-、-CS-、-CO-、-SO-、-NR11C-(R11C表示氫原子或碳數1至6的烷基)取代。
作為前述4價脂肪族烴基及前述4價芳香族烴基可具有的取代基，例如鹵原子、羥基、羧基、胺基等。
作為R11表示的4價連結基分別獨立地為可具有取代基的碳數1至12的4價脂肪族烴基較理想。
作為R11表示的4價連結基的具體例，例如以下記載的連結基。
Figure 109106045-A0202-12-0048-224
R1為碳數1至15的烷基較理想，碳數1至10的烷基更理想。
R2為碳數1至15的烷基較理想，碳數1至10的烷基更理想。
R1及R2互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R3為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、氟烷基(較理想為碳數1至25)、氟芳基(較理想為碳數6至18)、-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)較理想；
氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)更理想；氰基、氟原子更加理想；特別理想為氰基。
R4及R5分別獨立地為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、氟芳基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)較理想；
硝基、氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)更理想；
氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)更加理想；氰基特別理想。
R4及R5之至少一者為氰基較理想，R4為氰基，且R5為氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基)更加理想。
R4及R5具有相同的結構較理想。
R4及R5皆為氰基較理想。
R41、R51、R61、R91、R101及R111分別獨立地為碳數1至15的烷基較理想，碳數1至10的烷基更理想。
R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102及R112分別獨立地為碳數1至15的烷基較理想，碳數1至10的烷基更理想。
R41及R42互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R51及R52互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R61及R62互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R91及R92互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R101及R102互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R111及R112互相連結形成環較理想，形成脂肪族環更理想，不具有不飽和鍵的脂肪族環更加理想，具有吡咯烷環或哌啶環結構特別理想。
R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113分別獨立地為：硝基；氰基；鹵原子；-OCF3；-SCF3；-SF5；-SF3；碳數1至25的氟烷基；碳數6至18的氟芳基；-CO-O-R111A或-SO2 -R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)較理想；
氰基；氟原子；氯原子；-OCF3；-SCF3；碳數1至12的氟烷基；-CO-O-R111A或-SO2-R112A(R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基)更理想；
氰基特別理想。
R14、R24、R34、R44、R54、R64、R74、R84、R94、R104、R114、R15、R25、R35、R75及R85分別獨立地為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、-CO-O-R222、-SO2-R222(R222表示可具有鹵原子的碳數1至25的烷基)、碳數1至25的氟烷基或碳數6至18的氟芳基較理想；
硝基、氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示可具有鹵原子的碳數1至25的烷基)更理想；
氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222(R222表示可具有鹵原子的碳數1至25的烷基)更加理想；
氰基特別理想。
R14及R15為相同結構較理想。
R24及R25為相同結構較理想。
R34及R35為相同結構較理想。
R74及R75為相同結構較理想。
R84及R85為相同結構較理想。
式(I)表示的化合物為式(I-1A)表示的化合物、式(I-2A)表示的化合物或式(I-3A)表示的化合物的任一者更理想。
Figure 109106045-A0202-12-0052-225
[式中，R1、R2、R3、R4及R5表示與上述相同的意義。
Rx1、Rx2、Rx3、Rx4、Rx5、Rx6、Rx7及Rx8分別獨立地表示氫原子或取代基。
m1表示0至4的整數，m2表示0至5的整數。]
作為Rx1至Rx8表示的取代基，例如與環W1可具有的取代基相同者。
m1及m2分別獨立地為0或1較理想。
式(II)表示的化合物為式(II-A)表示的化合物較理想。
Figure 109106045-A0202-12-0052-226
[式中，R2、R3、R4、R5、R6、R12、R13、R14及R15表示與上述相同的意義。
Rx9、Rx10、Rx11及Rx12分別獨立地表示氫原子或取代基。]
作為Rx9至Rx12表示的取代基，例如與環W1可具有的取代基相同者。
式(III)表示的化合物為式(III-A)表示的化合物較理想。
Figure 109106045-A0202-12-0053-227
[式中，R3、R4、R5、R23、R24及R25表示與上述相同的意義。
Rx13、Rx14、Rx15及Rx16分別獨立地表示氫原子或取代基。]
作為Rx13至Rx16表示的取代基，例如與環W1可具有的取代基相同者。
作為式(I)表示的化合物(以下有稱為化合物(I)的情況)，例如以下記載的化合物。
化合物(I)為式(1-1)至式(1-4)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-10)、式(1-12)、式(1-20)至式(1-25)、式(1-54)至式(1-57)、式(1-59)、式(1-63)至式(1-68)、式(1-70)至式(1-78)、式(1-80)、式(1-124)至式(1-132)、式(1-135)、式(1-137)至式(1-142)、式(1-158)至式(1-172)、式(1-218)至式(1-229)表示的化合物較理想；
式(1-1)、式(1-2)、式(1-4)、式(1-7)、式(1-10)、式(1-12)、式(1-20)、式(1-22)、式(1-54)至式(1-56)、式(1-59)、式(1-63)至式(1-65)、式(1-66)、式(1-71)、式(1-124)、式(1-125)、式(1-126)、式(1-128)、式(1-131)、式(1-158)、式(1-160)、式(1-164)、式(1-169)、式(1-218)至式(1-227)表示的化合物更理想；
式(1-54)至式(1-56)、式(1-59)、式(1-64)、式(1-125)、式(1-218)至式(1-229)表示的化合物更加理想。
Figure 109106045-A0202-12-0054-228
Figure 109106045-A0202-12-0055-229
Figure 109106045-A0202-12-0056-230
Figure 109106045-A0202-12-0057-231
Figure 109106045-A0202-12-0058-232
Figure 109106045-A0202-12-0059-233
Figure 109106045-A0202-12-0060-234
Figure 109106045-A0202-12-0061-235
Figure 109106045-A0202-12-0061-236
作為式(II)表示的化合物(以下有稱為化合物(II)的情況)，例如以下記載的化合物。
作為化合物(II)，較理想為式(2-1)、式(2-2)、式(2-5)至式(2-12)、式(2-24)至式(2-28)、式(2-32)、式(2-33)、式(2-38)至式(2-44)、式(2-70)、式(2-71)、式(2-103)至式(2-106)表示的化合物較理想，式(2-1)、式(2-2)、式(2-5)至式(2-10)、式(2-103)至式(2-106)表示的化合物更理想。
Figure 109106045-A0202-12-0063-237
Figure 109106045-A0202-12-0064-238
Figure 109106045-A0202-12-0065-239
Figure 109106045-A0202-12-0066-240
Figure 109106045-A0202-12-0067-241
Figure 109106045-A0202-12-0068-242
Figure 109106045-A0202-12-0069-243
Figure 109106045-A0202-12-0069-244
作為式(III)表示的化合物(以下有稱為化合物(III)的情況)，例如以下記載的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0069-245
作為式(IV)表示的化合物(以下有稱為化合物(IV)的情況)，例如以下記載的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0070-246
作為式(V)表示的化合物(以下有稱為化合物(V)的情況)，例如以下記載的化合物。
作為化合物(V)，較理想為式(5-1)至式(5-3)、式(5-6)、式(5-7)、式(5-9)、式(5-15)、式(5-21)、式(5-23)、式(5-25)、式(5-26)、式(5-32)、式(5-36)、式(5-38)表示的化合物，更理想為式(5-1)至式(5-3)、式(5-21)、式(5-25)、式(5-36)表示的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0071-247
Figure 109106045-A0202-12-0072-248
Figure 109106045-A0202-12-0073-249
Figure 109106045-A0202-12-0074-250
Figure 109106045-A0202-12-0075-251
Figure 109106045-A0202-12-0075-252
作為式(VI)表示的化合物(以下有稱為化合物(VI)的情況)，例如以下記載的化合物。
作為化合物(VI)，較理想為式(6-1)、式(6-2)、式(6-4)、式(6-5)、式(6-7)、式(6-8)、式(6-9)、式(6-12)、式(6-15)、式(6-18)、式(6-19)、式(6-22)、式(6-23)、式(6-50)、式(6-57)、式(6-69)、式(6-80)、式(6-85)、式(6-94)表示的化合物，更理想為式(6-1)、式(6-2)、式(6-4)、式(6-8)、式(6-15)、式(6-22)、式(6-80)表示的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0077-253
Figure 109106045-A0202-12-0078-254
Figure 109106045-A0202-12-0079-255
Figure 109106045-A0202-12-0080-256
Figure 109106045-A0202-12-0081-257
Figure 109106045-A0202-12-0082-258
Figure 109106045-A0202-12-0083-259
Figure 109106045-A0202-12-0084-260
Figure 109106045-A0202-12-0085-261
Figure 109106045-A0202-12-0086-262
作為式(VII)表示的化合物(以下有稱為化合物(VII)的情況)，例如以下記載的化合物。
作為化合物(VII)，較理想為式(7-1)至式(7-9)、式(7-12)、式(7-14)、式(7-17)、式(7-42)至式(7-44)、式(7-57)表示的化合物，更理想為式(7-1)至式(7-8)表示的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0087-263
Figure 109106045-A0202-12-0088-264
Figure 109106045-A0202-12-0089-265
Figure 109106045-A0202-12-0090-266
Figure 109106045-A0202-12-0091-267
Figure 109106045-A0202-12-0092-268
Figure 109106045-A0202-12-0093-269
Figure 109106045-A0202-12-0094-270
作為式(VIII)表示的化合物(以下有稱為化合物(VIII)的情況)，例如以下記載的化合物。
作為化合物(VIII)，較理想為式(8-1)、式(8-2)、式(8-4)、式(8-5)、式(8-11)、式(8-13)至式(8-17)、式(8-25)、式(8-26)、式(8-47)、式(8-48)表 示的化合物，更理想為式(8-1)、式(8-4)、式(8-5)、式(8-15)、式(8-17)、式(8-25)表示的化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0095-271
Figure 109106045-A0202-12-0096-272
Figure 109106045-A0202-12-0097-273
Figure 109106045-A0202-12-0098-274
Figure 109106045-A0202-12-0099-275
Figure 109106045-A0202-12-0100-276
Figure 109106045-A0202-12-0101-277
Figure 109106045-A0202-12-0102-278
Figure 109106045-A0202-12-0103-279
Figure 109106045-A0202-12-0104-280
〈化合物(I)的製造方法〉
化合物(I)例如可藉由使式(I-1)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-1)的情況)與式(I-2)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-2)的情況)反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0105-281
[式中，環W1、R1至R5表示與前述相同的意義。]
化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應，通常藉由混合化合物(I-1)與化合物(I-2)而實施，以在化合物(I-1)添加化合物(I-2)較理想。
而且，化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應，以在鹼及甲基化劑的存在下混合化合物(I-1)與化合物(I-2)較理想；
混合化合物(I-1)、化合物(I-2)、鹼及甲基化劑較理想；
在化合物(I-1)與甲基化劑的混合物中，混合化合物(I-2)及鹼更理想；
在化合物(I-1)與甲基化劑的混合物中，添加化合物(I-2)與鹼的混合物更加理想。
作為鹼，例如：氫氧化鈉、氫氧化鋰、氫氧化鉀、氫氧化銫、氫氧化銣、氫氧化鈣、氫氧化鋇、氫氧化鎂等金屬氫氧化物(較理想為鹼金屬氫氧化物)；甲醇鈉、甲醇鉀、甲醇鋰、乙醇鈉、異丙醇鈉、第三丁醇鈉、第三丁醇鉀等金屬醇鹽(較理想為鹼金屬醇鹽)；氫化鋰、氫化鈉、氫化鉀、氫化鋰鋁、氫化硼鈉、氫化鋁、氫化鋁鈉等金屬氫化物；氧化鈣、氧化鎂等金屬氧化物；碳酸氫鈉、碳酸鈉、碳酸鉀等金屬碳酸鹽(較理想為鹼土金屬碳酸鹽)；正丁基鋰、第三丁基鋰、甲基鋰、格氏試劑等有機烷基金屬化合物；氨、三乙基胺、二異丙基乙基胺、乙醇胺、吡咯烷、哌啶、二氮雜雙環十一烯、二氮雜雙環壬烯、胍、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、吡 啶、苯胺、二甲氧基苯胺、乙酸銨、β-丙胺酸等胺化合物(較理想為三乙基胺、二異丙基乙基胺等三級胺)；二異丙基醯胺鋰、醯胺鈉、六甲基二矽疊氮化鉀等金屬醯胺化合物(較理想為鹼金屬醯胺)；三甲基氫氧化鋶等鋶化合物；氫氧化二苯基錪等錪化合物；膦腈鹼等。
相對對化合物(I-1)1莫耳，鹼的使用量通常為0.1至5莫耳，0.5至2莫耳較理想。
作為甲基化劑，例如碘甲烷、硫酸二甲酯、甲烷磺酸甲酯、氟磺酸甲酯、對甲苯磺酸甲酯、三氟甲烷磺酸甲酯、三甲基氧鎓四氟硼酸等。
相對於化合物(I-1)1莫耳，甲基化劑的使用量通常為0.1至5莫耳，0.5至2莫耳較理想。
化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如乙腈、苯、甲苯、丙酮、乙酸乙酯、氯仿、二氯乙烷、單氯苯、甲醇、乙醇、異丙醇、第三丁醇、2-丁酮、四氫呋喃、二乙醚、二甲基亞碸、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、水等。較理想為乙腈、四氫呋喃、氯仿、二氯甲烷、二乙醚，更理想為乙腈、四氫呋喃、氯仿，更加理想為乙腈。
而且，溶劑為去水溶劑較理想。
化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應時間，通常為0.1至10小時，較理想為0.2至3小時。
化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應溫度，通常為-50至150℃，較理想為-20至100℃。
相對於化合物(I-1)1莫耳，化合物(I-2)的使用量通常為0.1至10莫耳，較理想為0.5至5莫耳。
作為化合物(I-1)，例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0107-282
化合物(I-2)可使用市售品，例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0107-283
化合物(I-1)例如可藉由使式(I-3)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-3)的情況)與式(I-4)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-4)的情況)反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0107-284
[式(I-3)中，環W1、R1、R2及R3表示與前述相同的意義。E1表示脫離基。]
作為E1表示的脫離基，例如鹵原子、對-甲苯磺醯基、三氟甲基磺醯基等。
化合物(I-3)與化合物(I-4)的反應，通常藉由混合化合物(I-3)與化合物(I-4)而實施。
相對於化合物(I-3)1莫耳，化合物(I-4)的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
化合物(I-3)與化合物(I-4)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如乙腈、苯、甲苯、丙酮、乙酸乙酯、氯仿、二氯乙烷、單氯苯、甲醇、乙醇、異丙醇、第三丁醇、2-丁酮、四氫呋喃、二乙醚、二甲基亞碸、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、水等。較理想為乙腈、四氫呋喃、氯仿、二氯甲烷、二乙醚，更理想為乙腈、四氫呋喃、氯仿，更加理想為乙腈。
化合物(I-3)與化合物(I-4)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-3)與化合物(I-4)的反應溫度，通常為-50至150℃。
作為化合物(I-3)，例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0108-285
化合物(I-4)可使用市售品。例如氯氰、溴氰、對甲苯磺醯氰、三氟甲烷磺醯氰、1-氯甲基-4-氟-1,4-二疊氮雙環[2.2.2]辛烷雙(四氟硼酸鹽)(亦稱為Selectfluor(空氣化工產品公司的註冊商標))、苯甲醯基(苯基錪)(三氟甲烷磺醯基)甲烷化物、2,8-二氟-5-(三氟甲基)-5H-二苯并[b,d]噻吩-5-三氟甲烷磺酸銦、N-溴琥珀醯亞胺、N-氯琥珀醯亞胺、N-碘琥珀醯亞胺等。
化合物(I-3)例如可藉由使式(I-5)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-5)的情況)與式(I-6)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-6)的情況)反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0109-286
[式中，環W1、R1及R2表示與前述相同的意義。]
化合物(I-5)與化合物(I-6)的反應，通常藉由混合化合物(I-5)與化合物(I-6)而實施。
相對於化合物(I-5)1莫耳，化合物(I-6)的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
化合物(I-5)與化合物(I-6)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如乙腈、苯、甲苯、丙酮、乙酸乙酯、氯仿、二氯乙烷、單氯苯、甲醇、乙醇、異丙醇、第三丁醇、2-丁酮、四氫呋喃、二乙醚、二甲基亞碸、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、水等。較理想為苯、甲苯、乙醇、乙腈。
化合物(I-5)與化合物(I-6)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-5)與化合物(I-6)的反應溫度，通常為-50至150℃。
作為化合物(I-5)，例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0110-287
作為化合物(I-6)，例如：氨；甲基胺、乙基胺、乙醇胺、4-羥基丁基胺等1級胺；二甲基胺、二乙基胺、二丁基胺、吡咯烷、哌啶、3-羥基吡咯烷、4-羥基哌啶、氮雜環丁烷等2級胺。
而且，化合物(I-1)可藉由使式(I-5-1)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-5-1)的情況)與化合物(I-6)反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0110-288
[式(I-5-1)中，環W1及R3表示與前述相同的意義。]
化合物(I-5-1)與化合物(I-6)的反應，通常藉由混合化合物(I-5-1)與化合物(I-6)而實施。
相對於化合物(I-5-1)1莫耳，化合物(I-6)的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
化合物(I-5-1)與化合物(I-6)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如乙腈、苯、甲苯、丙酮、乙酸乙酯、氯仿、二氯乙烷、單氯苯、甲醇、乙醇、異丙醇、第三丁醇、2-丁酮、四氫呋喃、二乙醚、二甲基亞碸、 N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、水等。較理想為苯、甲苯、乙醇、乙腈。
化合物(I-5-1)與化合物(I-6)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-5-1)與化合物(I-6)的反應溫度，通常為-50至150℃。
作為化合物(I-5-1)，例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0111-289
化合物(I)例如可藉由使式(I-7)表示的化合物(以下有稱為化合物(I-7)的情況)與化合物(I-6)反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0111-290
[式(I-7)中，環W1、R3、R4及R5表示與上述相同的意義。]
化合物(I-7)與化合物(I-6)的反應，通常藉由混合化合物(I-7)與化合物(I-6)而實施，以在化合物(I-7)中添加化合物(I-6)較理想。
而且，化合物(I-7)與化合物(I-6)的反應，在鹼及甲基化劑的存在下藉由混合化合物(I-7)與化合物(I-6)而實施較理想；
以混合化合物(I-7)、化合物(I-6)、鹼及甲基化劑更理想；
以在化合物(I-7)與甲基化劑及鹼的混合物中混合化合物(I-6)更加理想。
作為鹼，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的鹼相同者。
相對於化合物(I-7)1莫耳鹼的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
作為甲基化劑，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的甲基化劑相同者。
相對於化合物(I-7)1莫耳，甲基化劑的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
相對於化合物(I-7)1莫耳，化合物(I-6)的使用量通常為0.1至10莫耳，較理想為0.5至5莫耳。
化合物(I-7)與化合物(I-6)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的溶劑相同者等。較理想為甲醇、乙醇、異丙醇、甲苯、乙腈。
化合物(I-7)與化合物(I-6)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-7)與化合物(I-6)的反應溫度，通常為-50至150℃。
作為化合物(I-7)，例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0113-291
化合物(I-7)可藉由使式(I-8)表示的化合物與化合物(I-4)反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0113-292
[式(I-8)中，環W1、R4及R5表示與上述相同的意義。]
化合物(I-8)與化合物(I-4)的反應，通常藉由混合化合物(I-8)與化合物(I-4)而實施。
化合物(I-8)與化合物(I-4)的反應，以在鹼的存在下進行較理想。作為鹼，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的鹼相同者。較理想為金屬氫氧化物(更理想為鹼金屬氫氧化物)、金屬烷氧化物(更理想為鹼金屬烷氧化物)、胺化合物、金屬醯胺化物(更理想為鹼金屬醯胺)。
相對於化合物(I-8)1莫耳，鹼的使用量通常為0.1至10莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
化合物(I-8)與化合物(I-4)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的溶劑相同者等。較理想為甲苯、乙腈、甲醇、乙醇、異丙醇。
化合物(I-8)與化合物(I-4)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-8)與化合物(I-4)的反應溫度，通常為-50至150℃。
化合物(I-8)例如下述記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0114-293
化合物(I-8)可藉由使化合物(I-5)與化合物(I-2)反應而得。化合物(I-5)與化合物(I-2)的反應，可藉由混合化合物(I-5)與化合物(I-2)而實施。
化合物(I-5)與化合物(I-2)的反應，以在鹼的存在下進行較理想。作為鹼，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的鹼相同者。相對於化合物(I-5)1莫耳，鹼的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
化合物(I-5)與化合物(I-2)的反應，可在溶劑的存在下進行。作為溶劑，例如與化合物(I-1)與化合物(I-2)的反應所使用的溶劑相同者等。較理想為甲醇、乙醇、異丙醇、甲苯、乙腈。
化合物(I-5)與化合物(I-2)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-5)與化合物(I-2)的反應溫度，通常為-50至150℃。
相對於化合物(I-5)1莫耳，化合物(I-2)的使用量通常為0.1至10莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
而且，化合物(I-7)可藉由使化合物(I-5-1)與化合物(I-2)反應而得。
化合物(I-5-1)與化合物(I-2)的反應，可藉由混合化合物(I-5-1)與化合物(I-2)而實施。
相對於化合物(I-5-1)1莫耳，化合物(I-2)的使用量通常為0.1至5莫耳，較理想為0.5至2莫耳。
化合物(I-5-1)與化合物(I-2)的反應，可在溶劑的存在下進行。例如乙腈、苯、甲苯、丙酮、乙酸乙酯、氯仿、二氯乙烷、單氯苯、甲醇、乙醇、異丙醇、第三丁醇、2-丁酮、四氫呋喃、二乙醚、二甲基亞碸、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、水等。較理想為苯、甲苯、乙醇、乙腈。
化合物(I-5-1)與化合物(I-2)的反應時間，通常為0.1至10小時。
化合物(I-5-1)與化合物(I-2)的反應溫度，通常為-50至150℃。
〈化合物(II)至化合物(VIII)的製造方法〉
化合物(II)例如可藉由使化合物(I-7)2莫耳當量與式(II-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0115-295
[式中，R2、R12及R6表示與前述相同的意義。]
作為式(II-1)表示的化合物，例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0115-294
化合物(III)例如可藉由使化合物(I-7)2莫耳當量與式(III-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0116-299
[式中，環W111表示與前述相同的意義。]
作為式(III-1)表示的化合物，例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0116-296
化合物(IV)例如可藉由使化合物(I-7)2莫耳當量與式(IV-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0116-300
[式中，環W112、環W113、R7表示與前述相同的意義。]
作為式(IV-1)表示的化合物，例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0116-297
化合物(V)例如可藉由使化合物(I-1)2莫耳當量與式(V-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0116-301
[式中，R4、R8及R44表示與前述相同的意義。]
化合物(V-1)例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0116-298
化合物(VI)例如可藉由使化合物(I-1)3莫耳當量與式(VI-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0117-176
[式中，R4、R8、R54及R64表示與前述相同的意義。]
作為式(VI-1)表示的化合物，例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0117-179
化合物(VII)例如可藉由使化合物(I-7)3莫耳當量與式(VII-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0117-177
[式中，R2、R10、R72及R82表示與前述相同的意義。]
作為式(VII-1)表示的化合物，例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0117-178
化合物(VIII)例如可藉由使化合物(I-7)4莫耳當量與式(VIII-1)表示的化合物1莫耳當量反應而得。
Figure 109106045-A0202-12-0117-180
[式中，R4、R11、R94、R104及R114表示與前述相同的意義。]
作為式(VIII-1)表示的化合物，例如以下記載的化合物等。
Figure 109106045-A0202-12-0118-51
〈偏光片〉
偏光片為具有從自然光取出直線偏光的功能的膜。偏光片例如可為吸附有二色性色素的延伸膜，亦可為包含經水平配向的聚合性液晶化合物與經水平配向的二色性色素的組成物的硬化物。
作為吸附有二色性色素的延伸膜，例如在聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向碘、二色性有機染料等二色性色素的偏光膜。聚乙烯醇系樹脂可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除屬於乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯外，例如可與乙酸乙烯酯共聚合的單體及乙酸乙烯酯的共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚合的單體，例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類以及具有銨基的丙烯醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85莫耳%至100莫耳%以上，較理想為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改性，可使用例如經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度，通常為1,000至10,000，較理想為1,500~5,000。
聚乙烯醇系樹脂製膜者通常被使用作為偏光片的胚膜。聚乙烯醇系樹脂可用習知的方法製膜。前述胚膜的厚度通常為1至150μm，考慮延伸的容易度，其膜厚10μm以上較理想。
吸附有二色性色素的延伸膜的偏光片，例如可實施對胚膜進行一軸延伸的步驟、用二色性色素染色膜而使其吸附二色性色素的步驟、用硼酸水溶液處理膜的步驟以及水洗膜的步驟，最後使其乾燥而製造。偏光片的膜厚通常為1至30μm。而且，吸附有二色性色素的延伸膜的偏光片，也可用日本公開專利特開平10-186133號公報、特表2006-509250號公報記載的製造方法等製造。
於本發明的光學層為吸附有二色性色素的延伸膜的情況，例如用包含二色性色素及化合物(X)的溶液染色胚膜，藉由使二色性色素及化合物(X)吸附於胚膜而得。
化合物(X)的含量無特別限制，從對偏光片的色調的影響的觀點，相對於坯材樹脂膜100質量份，通常為0.01至50質量份，較理想為0.1至10質量份，更理想為0.2至7質量份，更加理想為0.5至5質量份。
本發明的光學層為包含經水平配向的聚合性液晶化合物與經水平配向的二色性色素的組成物的硬化物亦即偏光片的情況，係由包含聚合性液晶化合物、二色性色素及化合物(X)的組成物(以下有稱為組成物(A)的情況)形成。
聚合性液晶化合物較理想為熱致性液晶化合物，更理想為顯示層列型液晶相的熱致性液晶化合物。聚合性液晶化合物為具有至少1個聚合性基的液晶化合物。所謂聚合性基係指會藉由聚合起始劑所產生的活性自由基、 酸等而參與聚合反應的基，例如乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧雜環丙烷基、氧雜環丁烷基等。
作為聚合性液晶化合物，具體地例如日本公開專利特開2017-107232號公報、日本專利第4719156號記載的聚合性液晶化合物。
二色性色素較理想為在300至700nm的範圍具有最大吸收波長者。例如吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素，較理想為偶氮色素。
作為二色性色素，例如日本公開專利特開2017-107232號公報記載的二色性色素。
組成物(A)中的聚合性液晶化合物的含量，在組成物(A)的固體成分100質量%中通常為70至99.9質量%，較理想為90至99.9質量%。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，化合物(X)的含量通常為0.01至20質量份，較理想為0.1至10質量份，更理想為0.5至5質量份。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，二色性色素的含量通常為0.1至50質量份，較理想為0.1至20質量份，更理想為0.1至10質量份。
組成物(A)可更包含聚合起始劑、調平劑、光增感劑、溶劑等。作為聚合起始劑及調平劑，例如日本公開專利特開2017-107232號公報記載的聚合起始劑及調平劑。
由組成物(A)形成偏光片的方法，例如形成組成物(A)的塗膜，將前述塗膜升溫後，使聚合性液晶化合物相轉移成液晶狀態(較理想為 層列型液晶狀態)而保持液晶狀態(較理想為層列型液晶狀態)下使聚合性液晶化合物聚合的方法等。
組成物(A)的塗膜的形成，例如可藉由在基材上塗佈組成物(A)進行。塗佈的方法例如旋轉塗佈法、棒塗法、塗敷器法等的習知的方法。
於組成物(A)包含溶劑的情況，藉由在聚合性液晶化合物不會聚合的條件下乾燥溶劑等而除去，形成乾燥塗膜。再者，為了使聚合性液晶化合物相轉移，將聚合性液晶化合物升溫至會相轉移成液相的溫度以上後降溫，使該聚合性液晶化合物相轉移成液晶狀態(較理想為層列型液晶狀態)。如此的相轉移可在除去前述塗膜中的溶劑後進行，亦可與除去溶劑同時進行。藉由在保持聚合性液晶化合物的液晶狀態下使聚合性液晶化合物聚合，形成作為組成物(A)的硬化層的偏光片。聚合方法為光聚合法較理想。
由組成物(A)形成的偏光片的厚度，較理想為0.5至10μm，更理想為0.5至3μm。
由組成物(A)形成的偏光片，較理想為形成於配向膜上。該配向膜係具有使聚合性液晶化合物往所期望的方向進行液晶配向的配向控制力者。作為配向膜，例如包含配向性聚合物的配向膜、光配向膜及表面具有凹凸圖形或複數條溝槽的溝槽配向膜、在配向方向延伸的延伸膜等，光配向膜較理想。
作為配向膜的具體例，例如日本公開專利特開2017-107232號公報記載的配向膜。
〈保護膜〉
保護膜為以保護偏光片等的其他光學層為目的所設置的層。作為保護膜，例如由透明樹脂膜形成的膜，於本發明的光學層為保護膜的情況，係由透明樹脂膜及包含化合物(X)的組成物所形成。
作為透明樹脂，例如纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚碸系樹脂等。
〈透明樹脂〉
纖維素系樹脂較理想為纖維素酯系樹脂，亦即纖維素的羥基的至少一部分乙酸酯化的樹脂，亦可為一部分乙酸酯化且一部分被其他酸酯化的混合酯。纖維素酯系樹脂較理想為乙醯基纖維素系樹脂。作為乙醯基纖維素系樹脂的具體例，例如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
乙醯基纖維素的原料棉可使用發明協會公開技法2001-1745等習知的木漿、棉絨等的纖維素原料。而且，乙醯基纖維素也可用木材化學180至190頁(共立出版、右田他、1968年)等記載的方法合成。
作為乙醯基纖維素的市售品，例如富士薄膜公司製的商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」等。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，例如甲基丙烯酸烷酯或丙烯酸烷酯的單獨聚合物、甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯的共聚物等。作為甲基丙烯酸烷酯，具體地例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯等，此外，作為丙烯酸烷酯，具體地例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯等。如此的(甲基)丙烯酸系樹脂可使用廣泛被使用作為(甲基)丙烯 酸系樹脂的市售品。(甲基)丙烯酸系樹脂可使用被稱為耐衝擊(甲基)丙烯酸樹脂者。
而且，作為(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，例如三菱麗陽(Rayon)公司的「ACRYPET VH」、「ACRYPET VRL20A」等。
聚酯系樹脂為主鏈具有酯鍵的重複單元的聚合物樹脂，一般為多元羧酸或其衍生物與多元醇或其衍生物的縮聚物而得。
作為得到聚酯的多元羧酸或其衍生物，例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、2,6-萘二羧酸、二苯基二羧酸、二苯基碸二羧酸、二苯氧基乙烷二羧酸、5-鈉碸二羧酸等芳香族二羧酸、草酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、二聚酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸等脂肪族二羧酸、1,4-環己烷二羧酸等脂環族二羧酸、對羥基苯甲酸等含氧羧酸以及該等的衍生物。作為二羧酸的衍生物，例如對苯二甲酸二甲酯、對苯二甲酸二乙酯、對苯二甲酸2-二羥基乙基甲酯、2,6-萘二羧酸二甲酯、間苯二甲酸二甲酯、己二酸二甲酯、馬來酸二乙酯、二聚酸二甲酯等酯化物。其中從成型性、處理性的點，使用對苯二甲酸、間苯二甲酸、2,6-萘二羧酸、1,4-環己烷二羧酸以及該等的酯化物較理想。
作為得到聚酯的多元醇或其衍生物，例如乙二醇、二乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、新戊二醇等脂肪族二羥基化合物、二乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇等聚烷二醇、1,4-環己烷二甲醇、螺旋二醇等脂環族二羥基化合物、雙酚A、雙酚S等芳香族二羥基化合物以及該等的衍生物。其中從成形性、處理性 的點，使用乙二醇、二乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,4-環己烷二甲醇較理想。
作為聚酯系樹脂，例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。該等之中，較理想為聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等。
作為聚烯烴系樹脂，係有聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、環烯烴系樹脂等，較理想為環烯烴系樹脂。
環烯烴系樹脂為具有包含如降莰烯、多環降莰烯系單體的環狀烯烴(環烯烴)所成的單體單元的熱塑性樹脂，也稱為熱塑性環烯烴系樹脂。該環烯烴系樹脂可為上述環烯烴的開環聚合物或使用2種以上的環烯烴的開環共聚物的氫化物，亦可為環烯烴與鏈狀烯烴或具有如乙烯基的聚合性雙鍵的芳香族化合物等的加成聚合物。於環烯烴系樹脂可導入極性基。
於使用環烯烴與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物構成保護膜的情況，作為鏈狀烯烴，例如乙烯、丙烯等，此外，作為具有乙烯基的芳香族化合物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、核烷基取代苯乙烯等。於如此的共聚物，包含環烯烴的單體單元可為50莫耳%以下，較理想為15至50莫耳%程度。特別是在使用環烯烴、鏈狀烯烴及具有乙烯基的芳香族化合物的三元共聚物構成保護膜的情況，包含環烯烴的單體單元可為比上述少的量。於如此的三元共聚物，包含鏈狀烯烴的單體單元通常為5至80莫耳%，包含具有乙烯基的芳香族化合物的單體單元通常為5至80莫耳%。
環烯烴系樹脂可使用合適的市售品。例如POLYPLASTIC公司販售的「TOPAS」、JSR公司販售的「ARTON」、日本ZEON(股)公司販售的「ZEONOR」及「ZEONEX」、三井化學(股)公司販售的「APEL」(以上皆為商品名)等。
聚醯胺系樹脂為在重複單元包含醯胺鍵作為主鏈的聚合物樹脂，例如藉由醯胺鍵與芳香環骨架鍵結的芳香族聚醯胺(芳綸)、藉由醯胺鍵與脂肪族骨架鍵結的脂肪族聚醯胺等。一般可藉由多元羧酸或其衍生物與多胺的聚合反應等而得。
作為得到聚醯胺的多元羧酸或其衍生物，例如對苯二甲醯氯、2-氯-對苯二甲醯氯、間苯二甲醯二氯、萘二甲醯氯、聯苯乙醯氯、三聯苯乙醯氯等。
作為得到聚醯胺的多胺，例如4,4’-二胺基二苯基醚、3,4’-二胺基二苯基醚、4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、2,2’-二(三氟甲基)-4.4’-二胺基聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷等，較理想為例如4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、2,2’-二(三氟甲基)-4.4’-二胺基聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、1,4-環己烷二胺、1,4-降莰烯二胺。
聚醯亞胺系樹脂為在重複單元包含醯亞胺鍵作為主鏈的聚合物樹脂，一般係以二胺類與四羧酸二酐為起始原料，並藉由縮聚合所得的縮合型聚醯亞胺。二胺類可使用芳香族二胺類、脂環式二胺類、脂肪族 二胺類等。作為四羧酸二酐，例如芳香族四羧酸二酐、脂環式四羧酸二酐、非環式脂肪族四羧酸二酐等。二胺類及四羧酸二酐分別可單獨使用，亦可併用2種以上使用。亦可使用醯氯化合物等選自四羧酸化合物類似物的四羧酸化合物取代四羧酸二酐，作為起始原料。
從透明性、機械強度、成形加工性的觀點，透明樹脂較理想為三乙醯基纖維素系樹脂、環烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂或聚酯系樹脂的任一者。
透明樹脂於23℃的儲存彈性模數E’通常為100MPa以上，較理想為300MPa以上，更理想為500MPa以上，特別理想為1000MPa以上。上限無限制，通常為100000MPa以下。
相對於透明樹脂100質量份，化合物(X)的含量通常為0.01至50質量份，較理想為0.1至20質量份，更理想為0.2至10質量份，特別理想為0.5至5質量份。
於形成保護膜的情況，可將至少包含化合物(X)及透明樹脂的組成物(以下有稱為樹脂組成物(1)的情況)以任意適合的成形加工方法形成。具體地，例如壓縮成形法、轉移成形法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、鑄塗法(例如流注法)、壓延成形法、熱壓法等。由於所得之光學層的平滑性高、可得到良好的光學均勻性，較理想為擠出成形法或鑄塗法。成形條件係依據所使用的樹脂的組成、種類、所期望的特性等適當地設定。
保護膜可更包含塑化劑、有機酸、色素、抗靜電劑、界面活性劑、潤滑劑、阻燃劑、填充劑、橡膠粒子、相位差調整劑、紫外線吸收劑、調平劑等。
〈相位差膜〉
相位差膜為顯示光學各向異性的光學膜，例如從延伸膜形成的相位差膜，或藉由塗佈/配向液晶性化合物於基材而顯現光學各向異性的相位差膜。
作為延伸膜，例如藉由將由聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、皂化乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯等所構成的高分子膜延伸至1.01至6倍的程度所得的延伸膜等。延伸膜中，較理想為將乙醯基纖維素、聚酯、聚碳酸酯膜、環烯烴系樹脂膜進行一軸延伸或二軸延伸後的高分子膜。
本發明的光學層為從延伸膜所形成的相位差膜的情況，可從包含形成前述高分子膜的樹脂與化合物(X)的樹脂組成物形成。例如對至少包含具有任意固定複折射值的樹脂及化合物(X)的組成物進行熔融擠出或鑄塗成形所得之未延伸膜，藉由延伸而製造。延伸可為一軸延伸，亦可為二軸延伸。延伸時，在比樹脂的玻璃轉移溫度更高的溫度下延伸較理想。而且，延伸後，以進行使膜的殘留應力熱緩和的步驟較理想。而且，例如日本公開專利特開2013-205500號公報記載的方法等。
再者，於本說明書，相位差膜包含零遲滯膜，亦包含被稱為一軸性相位差膜、低光彈性率相位差膜、廣視角相位差膜等的膜。
所謂零遲滯膜係指正面的遲滯值Re與厚度方向的遲滯值Rth皆為-15至15nm之光學上等向的膜。作為零遲滯膜，例如從包含纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環狀烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂的樹脂膜所形成的膜，由於容易控制遲滯值，故較理想為從纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂形成。
零遲滯膜可藉由與前述由延伸膜所形成的相位差膜相同的製作方法，調整延伸倍率而製作。而且，亦可藉由將組合具有正負不同的固有複折射的樹脂之未延伸膜進行延伸而製作。
於本發明，相位差膜較理想為藉由塗佈/配向液晶性化合物而顯現光學各向異性的相位差膜。
藉由塗佈/配向液晶性化合物而顯現光學各向異性的相位差膜，可從包含液晶性化合物及化合物(X)的組成物(以下有稱為組成物(B)的情況)形成。組成物(B)可更包含光聚合起始劑。
作為組成物(B)所含的液晶性化合物，例如液晶手冊(液晶手冊編輯委員會編、丸善(股)平成12年10月30日發佈)的「3.8.6網狀(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」記載的化合物中具有聚合性基的化合物，以及日本公開專利特開2010-31223號公報、特開2010-270108號公報、特開2011-6360號公報、特開2011-207765號公報、特開2011-162678號公報、特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及特表2011-207765號公報記載的聚合性液晶化合物等。
在組成物(B)的固體成分100質量%中，組成物(B)中的液晶性化合物的含量通常為50至99質量%，較理想為75至90質量%。
相對於液晶性化合物100質量份，化合物(X)的含量通常為0.01至20質量份，較理想為0.1至10質量份，更理想為0.5至5質量份。
從組成物(B)製造相位差膜的方法，例如日本公開專利特開2010-31223號公報記載的方法等。
作為藉由液晶性化合物的塗佈/配向而顯現光學各向異性的相位差膜，例如以下的第一形態至第五形態。
第一形態：棒狀液晶化合物相對於支撐基材往水平方向配向的相位差膜；
第二形態：棒狀液晶化合物相對於支撐基材往垂直方向配向的相位差膜；
第三形態：棒狀液晶化合物在面內以螺旋狀改變配向的方向的相位差膜；
第四形態：圓盤狀液晶化合物傾斜配向的相位差膜；
第五形態：圓盤狀液晶化合物相對於支撐基材往垂直方向配向的二軸性相位差膜。
例如作為被用於有機電激發光顯示器的光學膜，適合使用第一形態、第二形態、第五形態。而且，亦可使該等的形態的相位差膜積層而使用。
於相位差膜為包含聚合性液晶化合物的配向狀態之聚合物的層(以下也有稱為「光學各向異性層」的情況)的情況，相位差膜具有逆波長分散性較理想。所謂逆波長分散性係指在短波長的液晶配向面內相位差值，比在長波長的液晶配向面內相位差值更小的光學特性，較理想為相位 差膜滿足下述式(7)及式(8)。再者，Re(λ)表示對於波長λ nm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
於本發明的光學層，相位差膜為第一形態且具有逆波長分散性的情況，因減少顯示裝置的黑色顯示時的著色，因而較理想，在前述式(7)中，若為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93更理想。又，120≦Re(550)≦150較理想。
於第二形態的情況，正面相位差值Re(550)調整為0至10nm的範圍，較理想為為0至5nm的範圍即可，厚度方向的相位差值Rth調整為-10至-300nm的範圍，較理想為-20至-200nm的範圍即可。意指厚度方向的折射率異向性之厚度方向的相位差值Rth，可從使面內的快軸傾斜50度作為傾斜軸所測定的相位差值R50與面內相位差值R0算出。亦即，厚度方向的相位差值Rth，可從面內相位差值R0、使快軸傾斜50度作為傾斜軸所測定的相位差值R50、相位差膜的厚度d及相位差膜的平均折射率n0，由以下的式(10)至(12)，求得nx、ny及nz並帶入式(9)而算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
Figure 109106045-A0202-12-0130-192
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)
此處，
Figure 109106045-A0202-12-0130-193
Figure 109106045-A0202-12-0131-194
相位差膜可為具有2層以上的層之多層膜。例如在相位差膜的單面或雙面積層保護膜者、使2層以上的相位差膜隔著黏著劑或接著劑積層者。
〈黏著劑層〉
黏著劑層具有黏著性(感壓接著性)，可用於貼合光學層彼此、光學層與其他層或其他層彼此，或固定光學層於其他物體。
黏著劑層例如由包含玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂、化合物(X)及交聯劑的黏著劑組成物(以下有稱為黏著劑組成物(3)的情況)形成。玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂使用例如橡膠系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂，從透明性、耐久性、功能調整的容易性等的觀點，較理想為(甲基)丙烯酸系樹脂。
((甲基)丙烯酸系樹脂)
黏著劑組成物中的(甲基)丙烯酸系樹脂，較理想為以來自(甲基)丙烯酸酯的構成單元為主成分(較理想為包含50質量%以上)的聚合物。來自(甲基)丙烯酸酯的構成單元也可包含1種以上的來自(甲基)丙烯酸酯以外的單體的構成單元(例如來自具有極性官能基的單體的構成單元)。
作為(甲基)丙烯酸酯，例如下述式(Y)表示的(甲基)丙烯酸酯。
Figure 109106045-A0202-12-0131-52
[式(Y)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1至14的烷基或碳數7至20的芳烷基，該烷基或該芳烷基的氫原子可被碳數1至10的烷氧基取代。]
R2較理想為碳數1至14的烷基，更理想為碳數1至8的烷基。
作為式(Y)表示的(甲基)丙烯酸酯，例如：
(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸的直鏈狀烷酯；
(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸的分支狀烷酯；
(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二烷基酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸的含有脂環骨架的烷酯；
(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸的含有芳香環骨架的酯；等。
而且，例如在(甲基)丙烯酸烷酯的烷基導入有取代基的含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯。含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯的取代基，為取代烷基的氫原子的基，其具體例包含苯基、烷氧基、苯氧基。作為含有取代基的 (甲基)丙烯酸烷酯，具體地例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)酯等。
該等的(甲基)丙烯酸酯可分別單獨使用外，亦可使用不同的複數種。
(甲基)丙烯酸系樹脂較理想為含有來自同元聚合物的玻璃轉移溫度Tg未達0℃的丙烯酸烷酯(a1)的構成單元以及來自同元聚合物的玻璃轉移溫度Tg為0℃以上的丙烯酸烷酯(a2)的構成單元。含有來自丙烯酸烷酯(a1)的構成單元以及來自丙烯酸烷酯(a2)的構成單元，有利於黏著劑層的高溫耐久性之提高。(甲基)丙烯酸烷酯的同元聚合物的Tg，例如可採用聚合物手冊(Wiley-Interscience)等的文獻值。
作為丙烯酸烷酯(a1)的具體例，例如丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯及丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯及丙烯酸異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯及丙烯酸異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正辛酯及丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正壬酯及丙烯酸異壬酯、丙烯酸正癸酯及丙烯酸異癸酯、丙烯酸正十二烷基酯等烷基的碳數為2至12左右的(甲基)丙烯酸烷酯，較理想為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
丙烯酸烷酯(a1)可併用2種以上。
丙烯酸烷酯(a2)的具體例為丙烯酸烷酯(a1)以外的丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯(a2)的具體例，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異 莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等，較理想為包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯等，更理想包含丙烯酸甲酯。
丙烯酸烷酯(a2)可併用12種以上。
來自式(Y)表示的(甲基)丙烯酸酯的構成單元，在(甲基)丙烯酸系樹脂所含的全部構成單元中，較理想為50質量%以上，更理想為60至95質量%以上，更加理想為65至95質量%以上。
作為來自(甲基)丙烯酸酯以外的單體的構成單元，較理想為來自具有極性官能基的單體的構成單元，更理想為來自具有極性官能基的(甲基)丙烯酸酯的構成單元。作為極性官能基，例如羥基、羧基、取代或無取代的胺基、環氧基等雜環基等。
作為具有極性官能基的單體，例如：
(甲基)丙烯酸1-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥基己酯、(甲基)丙烯酸5-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、 (甲基)丙烯酸6-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸9-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十七烷基酯等具有羥基的單體；
(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基烷酯(例如(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯)、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、2-丁烯酸等具有羧基的單體；
丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、己內酯改性丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯 酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基的單體；
(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有取代或無取代的胺基的單體。
其中，從(甲基)丙烯酸酯與交聯劑的反應性的點，較理想為具有羥基的單體或/及具有羧基的單體，包含具有羥基的單體或具有羧基的單體的任一者更理想。
具有羥基的單體較理想為丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸6-羥基己酯。特別是藉由使用丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯及丙烯酸5-羥基戊酯，可得到良好的耐久性。
具有羧基的單體係以使用丙烯酸較理想。
而且，(甲基)丙烯酸系樹脂，較理想為實質上不包含來自具有胺基的單體的構成單元。此處所謂實質上不包含，係指構成(甲基)丙烯酸系樹脂的全部構成單元100質量份中為0.1質量份以下之情形。
來自具有極性官能基的單體的構成單元的含量，從黏著劑的耐久性(高溫時的剝離、內聚破壞)的觀點，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂的全部構成單元100質量份，較理想為20質量份以下，更理想為0.5質量份以上15質量份以下，更加理想為0.5質量份以上10質量份以下，特別理想為1質量份以上7質量份以下。另一方面，從所含有的化合物(X)的耐滲出性的觀點，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂的全部構成單元100質量份，較理想為0.5質量份以上，更理想為1質量份以上，更加理想為5質量份以上， 特別理想為7.5質量份以上。為了獲得耐久性及耐滲出性的平衡，依據化合物(X)的含量調整極性官能基的量較理想。
來自具有芳基的單體的構成單元的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂的全部構成單元100質量份，較理想為20質量份以下，更理想為4質量份以上20質量份以下，更加理想為4質量份以上16質量份以下。
作為來自(甲基)丙烯酸酯以外的單體的構成單元，例如來自苯乙烯系單體的構成單元、來自乙烯系單體的構成單元、來自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體的構成單元、來自(甲基)丙烯醯胺系單體的構成單元等。
作為苯乙烯系單體，例如：苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；以及二乙烯基苯。
作為乙烯系單體，例如：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯；偏二氯乙烯等偏二鹵乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；以及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
作為分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體，例如：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙 二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基的單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基的單體。
作為(甲基)丙烯醯胺系單體，例如N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑啉基)乙基](甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺等。其中，較理想為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺以及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量(Mw)，較理想為50萬至250萬，更理想為60萬至180萬，更加理想為70萬至170萬，特別理想為100萬至160萬。而且，以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)的比表示的分子量分佈(Mw/Mn)，通常為2至10，較理想為3至8，更理想為3至6。重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析儀分析，且為換算標準聚苯乙烯的值。
將(甲基)丙烯酸系樹脂溶解於乙酸乙酯成為濃度20質量%的溶液時，於25℃的黏度為20Pa‧s較理想，更理想為0.1至15Pa‧s。在該範圍的黏度時，從塗佈黏著劑組成物(3)時的塗佈性的觀點有利。再者，黏度可藉由布氏黏度計測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度(Tg)例如為-60至20℃，較理想為-50至15℃，更理想為-45至10℃，特別是可為-40至0℃。再者，玻璃轉移溫度可藉由示差掃描熱量計(DSC)測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂可藉由例如溶液聚合法、本體聚合法、懸浮聚合法、乳液聚合法等的習知方法製造，特別是溶液聚合法較理想。
(甲基)丙烯酸系樹脂的含量在黏著劑組成物(3)100質量%中，通常為60質量%至99.9質量%，較理想為70質量%至99.5質量%,更理想為80質量%至99質量%。
相對於玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂100質量份，化合物(X)的含量通常為0.01至50質量份，較理想為0.1至20質量份，更理想為0.2至10質量份，特別理想為0.5至5質量份。
交聯劑係與樹脂中的極性官能基(例如羥基、胺基、羧基、雜環基等)反應。交聯劑與樹脂等形成交聯結構，形成對耐久性有利的交聯結構。
作為交聯劑，例如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、金屬螫合物系交聯劑等，從黏著劑組成物的作業時間及從黏著劑組成物所形成的光學層的耐久性、交聯速度等的觀點，較理想為異氰酸酯系交聯劑。
異氰酸酯系化合物較理想為分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)的化合物，例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(異佛酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲苯異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。而且，交聯劑可為前述異氰酸酯化合物的藉由多元醇化合物所得的加成物(adduct)[例如藉由丙三醇、三羥甲基丙烷等所得的加成物]、與三聚異氰酸酯化合物、縮二脲型化合物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等加成反應而得的胺酯預聚物型異氰酸酯化合物等的衍生物。交聯劑可單獨或組合2種以上使用。該等之中，代表地例如芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)或與該等的多元醇化合物(例如丙三醇、三羥甲基丙烷)的加成物或三聚異氰酸酯。交聯劑為芳香族異氰酸酯系化合物及/或該等的多元醇化合物或三聚異氰酸酯的加成物時，因有利於形成最適合的交聯密度 (或交聯結構)，而可提高黏著劑組成物(3)所形成的光學層的耐久性。特別是甲苯二異氰酸酯系化合物及/或該等的多元醇化合物的加成物時，可提高耐久性。
相對於玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂(較理想為(甲基)丙烯酸系樹脂)100質量份，交聯劑的含量通常為0.01至15質量份，較理想為0.05至10質量份，更理想為0.1至5質量份。
黏著劑組成物(3)可更含有矽烷化合物(D)。
作為矽烷化合物，例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物可為聚矽氧寡聚物。聚矽氧寡聚物的具體例，以單體彼此組合的形態表示時，如以下。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基丙基的寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基甲基的寡聚物；3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘 油氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有3-縮水甘油氧基丙基的寡聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基的寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有丙烯醯氧基丙基的寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙 烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有乙烯基的寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有胺基的寡聚物等。
矽烷化合物可為下述式(d1)表示的矽烷化合物。
Figure 109106045-A0202-12-0143-53
(式中，B表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基的-CH2-可被-O-或-CO-取代，Rd7表示碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12分別獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基。)
於式(d1)中，B表示：亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1至20的烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20的2價脂環式烴基或 構成該等烷二基及前述脂環式烴基的-CH2-被-O-或-CO-取代後的基。較理想的B為碳數1至10的烷二基。Rd7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基等碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12分別獨立地表示前述R3例示的碳數1至5的烷基或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等碳數1至5的烷氧基。較理想的Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12分別獨立地為碳數1至5的烷氧基。該等的矽烷化合物(d)可單獨或組合2種以上使用。
作為式(d1)表示的矽烷化合物，例如：(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基二C1-5烷基矽基)C1-10烷等。該等之中，較理想為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙 (三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10烷，特別是1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷較理想。
相對於玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂(較理想為(甲基)丙烯酸系樹脂)100質量份，矽烷化合物的含量通常為0.01至10質量份，較理想為0.03至5質量份，更理想為0.05至2質量份，更加理想為0.1至1質量份。
黏著劑組成物(3)可更含有抗靜電劑。
作為抗靜電劑，例如界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，較理想為離子性化合物。作為離子性化合物，例如慣用者。作為構成離子性化合物的陽離子，例如有機陽離子、無機陽離子等。作為有機陽離子，例如吡啶陽離子、吡咯啶陽離子、哌啶陽離子、咪唑陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。作為無機陽離子，例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子、鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。特別是從與(甲基)丙烯酸系樹脂的相溶性的觀點，較理想為吡啶陽離子、咪唑陽離子、吡咯啶陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。作為構成離子性化合物的陰離子，可為無機陰離子及有機陰離子的任一者，從帶電防止功能的點，較理想為包含氟原子的陰離子成分。作為包含氟原子的陰離子成分，例如六氟磷酸鹽陰離子(PF6 -)、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]等。該等的離子性化合物可單獨或組合2種以上使用。特別是雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺 醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]較理想。
從由黏著劑組成物(3)所形成的光學層的帶電防止功能的歷久安定性的點，較理想為在室溫為固體的離子性化合物。
相對於玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂(較理想為(甲基)丙烯酸系樹脂)100質量份，抗靜電劑的含量例如為0.01至20質量份，較理想為0.1至10質量份，更理想為1至7質量份。
黏著劑組成物(3)可更含有1種或2種以上的溶劑、交聯觸媒、增黏劑、塑化劑、柔軟劑、顏料、防鏽劑、無機填充劑、光散射性微粒子等的添加劑。
作為由黏著劑組成物(3)形成黏著劑層的方法，例如將其溶解或分散於溶劑而作成含有溶劑的組成物，然後將其塗佈於基材(塑膠膜等)、其他光學層的表面使其乾燥的方法等。
黏著劑層可在離型膜上形成黏著劑層後，貼合於其他層，而在剝離離型膜後，使黏著劑層的離型膜經剝離的面進一步與其他層貼合。而且，黏著劑層在離型膜上形成黏著劑層後，再貼合於其他離型膜，在被離型膜彼此夾住的狀態下保管，使用時剝離離型膜而與光學層貼合。
〈接著劑層〉
接著劑層可用於貼合光學層彼此、光學層與其他層或其他層彼此，或固定光學層於其他物體。接著劑層可藉由使接著劑組成物硬化而形成，可使用使熱硬化性成分加熱硬化而進行固定之熱硬化型接著劑、或照射活性能量線於活性能量線組成物而硬化之活性能量線硬化型接著劑。
〈活性能量線硬化型組成物〉
所謂活性能量線硬化型接著劑，係指受到活性能量線的照射而硬化的組成物。作為活性能量線，例如紫外線、電子束、X射線、可見光等，較理想為紫外線。紫外線光源較理想為於波長400nm以下具有發光分佈的光原，例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
形成本發明的光學層的活性能量線硬化型組成物(以下有稱為「活性能量線硬化型組成物(2)」的情況)，係以至少包含光硬化性成分及化合物(X)且包含光起始劑較理想。
作為光硬化性成分，例如藉由活性能量線的照射使其因自由基聚合反應而硬化的化合物或寡聚物(自由基聚合性化合物)以及藉由活性能量線的照射使其因陽離子聚合反應而硬化的化合物(陽離子聚合性化合物)、因陰離子聚合反應而硬化的化合物等。光硬化性成分可併用自由基聚合性化合物、陽離子聚合性化合物及陰離子聚合性化合物。
〈自由基聚合性化合物〉
作為自由基聚合性化合物，例如自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物等。於本說明書，所謂「(甲基)丙烯酸系化合物」係指分子內具有1個以上的(甲基)丙烯醯基的化合物。活性能量線硬化型接著劑組成物，可含有1種或2種以上的自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物。
作為(甲基)丙烯酸系化合物，例如分子內具有至少1個以上的(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體、(甲基)丙烯醯胺單體及分子內具有至少2個的(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸寡聚物等含有(甲基)丙烯醯基的化合 物。(甲基)丙烯酸寡聚物較理想為為分子內具有至少2個的(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物。(甲基)丙烯酸系化合物可使用單獨1種或併用2種以上。
作為(甲基)丙烯酸酯單體，例如分子內具有1個(甲基)丙烯醯氧基的單官能基(甲基)丙烯酸酯單體、分子內具有2個(甲基)丙烯醯氧基的2官能基(甲基)丙烯酸酯單體、分子內具有3個以上(甲基)丙烯醯氧基的多官能基(甲基)丙烯酸酯單體。
作為官能基(甲基)丙烯酸酯單體，例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸烷酯；(甲基)丙烯酸苯甲酯等(甲基)丙烯酸芳烷酯；(甲基)丙烯酸異莰酯等萜烯醇的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯等具有四氫呋喃甲基結構的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環己基甲酯、丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、1,4-環己烷二甲醇單丙烯酸酯等於烷基部位具有環烷基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸胺基烷酯；(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等於烷基部位具有醚鍵的(甲基)丙烯酸酯等。
此外，作為單官能基(甲基)丙烯酸酯單體，例如：於烷基部位具有羥基的單官能基(甲基)丙烯酸酯；於烷基部位具有羧基的單官能基(甲基)丙烯酸酯。作為於烷基部位具有羥基的單官能基(甲基)丙烯酸酯，例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-或3-羥基丙酯、(甲基)丙烯 酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇單(甲基)丙烯酸酯。作為於烷基部位具有羧基的單官能基(甲基)丙烯酸酯，例如(甲基)丙烯酸2-羧基乙酯、ω-羧基聚己內酯(n=2)單(甲基)丙烯酸酯、1-[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]鄰苯二甲酸、1-[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]六氫鄰苯二甲酸、1-[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]琥珀酸、4-[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]偏苯三甲酸、N-(甲基)丙烯醯氧基-N’,N’-二羧基甲基-對苯二胺等。
作為(甲基)丙烯醯胺單體，例如N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-正丁基(甲基)丙烯醯胺、N-第三丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等N-烷基(甲基)丙烯醯胺；N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺等N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺；N-羥基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺等羥基烷基(甲基)丙烯醯胺；N-丙烯醯基吡咯烷、3-丙烯醯基-2-噁唑烷酮、4-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶等。
作為2官能基(甲基)丙烯酸酯單體，例如：
乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；
二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、 聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯及聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚氧烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；
四氟乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等鹵素取代烷二醇的二(甲基)丙烯酸酯；
三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯等脂肪族多元醇的二(甲基)丙烯酸酯；
氫化二環戊二烯基二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯等氫化二環戊二烯或三環癸烷二烷醇的二(甲基)丙烯酸酯；
1,3-二噁烷-2,5-二基二(甲基)丙烯酸酯〔別名：二噁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯〕等二噁烷二醇或二噁烷二烷醇的二(甲基)丙烯酸酯；
雙酚A環氧乙烷加成物二丙烯酸酯、雙酚F環氧乙烷加成物二丙烯酸酯等雙酚A或雙酚F的環氧烷加成物二(甲基)丙烯酸酯；
雙酚A二縮水甘油醚的丙烯酸加成物、雙酚F二縮水甘油醚的丙烯酸加成物等雙酚A或雙酚F的環氧基二(甲基)丙烯酸酯；聚矽氧二(甲基)丙烯酸酯；
羧基三甲基乙酸新戊二醇酯的二(甲基)丙烯酸酯；
2,2-雙[4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基苯基]丙烷；
2,2-雙[4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基環己基]丙烷；
2-(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-5-乙基-5-羥基甲基-1,3-二噁烷]的二(甲基)丙烯酸酯；
三(羥基乙基)三聚異氰酸酯二(甲基)丙烯酸酯；等。
作為3官能基以上的多官能基(甲基)丙烯酸酯單體，例如：丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、烷氧基化丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙 烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等3官能基以上的脂肪族多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯；3官能基以上的鹵素取代多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯；丙三醇的環氧烷加成物的三(甲基)丙烯酸酯；三羥甲基丙烷的環氧烷加成物的三(甲基)丙烯酸酯；1,1,1-三[(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基]丙烷；三(羥基乙基)三聚異氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯等。
作為(甲基)丙烯酸寡聚物，例如胺酯(甲基)丙烯酸寡聚物、聚酯(甲基)丙烯酸寡聚物、環氧基(甲基)丙烯酸寡聚物等。
所謂胺酯(甲基)丙烯酸寡聚物，係指分子內具有胺酯鍵(-NHCOO-)及至少2個(甲基)丙烯醯基的化合物。具體地為分子內分別具有至少1個(甲基)丙烯醯基及至少1個羥基的含有羥基的(甲基)丙烯酸單體與聚異氰酸酯的胺酯化反應生成物、聚酯與聚異氰酸酯反應所得之末端含有異氰酸酯基的胺酯化合物與分子內分別具有至少1個(甲基)丙烯醯基及至少1個羥基的(甲基)丙烯酸單體的胺酯化反應生成物等。
上述胺酯化反應所使用的含有羥基的(甲基)丙烯酸單體，例如可為含有羥基的(甲基)丙烯酸酯單體，其具體例包括(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。含 有羥基的(甲基)丙烯酸酯單體以外的具體例，包括N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺單體。
作為供予與含有羥基的(甲基)丙烯酸單體的胺酯化反應的聚異氰酸酯，例如六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、該等二異氰酸酯中的芳香族異氰酸酯類經氫化所得之二異氰酸酯(例如氫化甲苯二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯)、三苯基甲烷三異氰酸酯、二苯甲基苯三異氰酸酯等二-或三-異氰酸酯以及使上述二異氰酸酯多量化所得之聚異氰酸酯等。
而且，作為藉由與聚異氰酸酯反應而成為末端含有異氰酸酯基的胺酯化合物所使用的多元醇，除芳香族、脂肪族或脂環式多元醇外，可使用聚酯多元醇、聚醚多元醇等。作為脂肪族及脂環式多元醇，例如1,4-丁二醇、1,6-己二醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二(三羥甲基)丙烷、新戊四醇、二新戊四醇、二羥甲基庚烷、二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸、丙三醇、氫化雙酚A等。
聚酯多元醇為藉由上述的多元醇與多元羧酸或其酸酐的脫水縮合反應所得者。若對可成為酸酐者標註「(酐)」來表示多元羧酸或其酸酐之例，則有琥珀酸(酐)、己二酸、順丁烯二酸(酐)、亞甲基丁二酸(酐)、偏苯三甲酸(酐)、均苯四甲酸(酐)、鄰苯二甲酸(酐)、間苯二甲酸(酐)、對苯二甲酸(酐)、六氫鄰苯二甲酸(酐)等。
聚醚多元醇除聚烷二醇外，有上述多元醇或二羥基苯類與環氧烷的反應所得之聚環氧烷改性多元醇等。
所謂聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物，係指分子內具有酯鍵及至少2個(甲基)丙烯醯氧基的寡聚物。
聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物可藉由例如(甲基)丙烯酸、多元羧酸或其酸酐與多元醇脫水反應而得。
作為多元羧酸或其酸酐，例如琥珀酸酐、己二酸、順丁烯二酸酐、亞甲基丁二酸酐、偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、鄰苯二甲酸、琥珀酸、順丁烯二酸、亞甲基丁二酸、偏苯三甲酸、均苯四甲酸、六氫鄰苯二甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸等。
作為多元醇，例如1,4-丁二醇、1,6-己二醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二(三羥甲基)丙烷、新戊四醇、二新戊四醇、二羥甲基庚烷、二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸、丙三醇、氫化雙酚A等。
環氧基(甲基)丙烯酸寡聚物，可藉由聚縮水甘油醚與(甲基)丙烯酸的加成反應而得。環氧基(甲基)丙烯酸寡聚物係分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基。
作為聚縮水甘油醚，例如乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、三丙二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、雙酚A二縮水甘油醚等。
〈陽離子聚合性化合物〉
陽離子聚合性化合物為藉由紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線的照射、加熱而進行陽離子聚合反應並硬化的化合物或寡聚物。作 為陽離子聚合性化合物，例如環氧化合物、氧雜環丁烷化合物、乙烯基化合物等。陽離子聚合性化合物可單獨使用，亦可併用複數種。
陽離子聚合性化合物較理想為環氧化合物。所謂環氧化合物係指分子內具有1個以上(較理想為2個以上)的環氧基的化合物。
作為環氧化合物，例如脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物、氫化環氧化合物、脂肪族環氧化合物等。
脂環式環氧化合物為分子內具有1個以上的鍵結於脂環式環的環氧基的化合物。作為鍵結於脂環式環的環氧基，例如環氧基環戊烷結構、環氧基環己烷結構等。作為脂環式環氧化合物，例如：3,4-環氧基環己基羧酸3,4-環氧基環己基甲酯；3,4-環氧基-6-甲基環己基羧酸3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯；伸乙烯基雙(3,4-環氧基環己基羧酸酯)；己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯；己二酸雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基)酯；二乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)；乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)；2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧雜三螺環[5.2.2.5.2.2]二十一烷；3-(3,4-環氧基環己基)-8,9-環氧基-1,5二氧螺環[5.5]十一烷；4-乙烯基環己烯二氧化物；檸檬烯二氧化物；雙(2,3-環氧基環戊基)醚；二環戊二烯二氧化物等。
芳香族環氧化合物為分子內具有芳香族環及環氧基的化合物。作為芳香族環氧化合物，例如：雙酚A的二縮水甘油醚、雙酚F的二縮水甘油醚、雙酚S的二縮水甘油醚等雙酚型環氧化合物或其寡聚物；酚酚醛樹脂環氧樹脂、甲酚酚醛樹脂環氧樹脂、羥基苯甲醛酚酚醛樹脂環氧樹脂等酚醛樹脂型環氧樹脂；2,2’,4,4’-四羥基二苯基甲烷的縮水甘油醚、 2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮的縮水甘油醚等多官能基型環氧化合物；環氧基化聚乙烯基酚等多官能基型環氧樹脂等。
氫化環氧化合物為具有脂環式環的多元醇的縮水甘油醚，可為芳香族多元醇在觸媒存在下及加壓下選擇性地進行氫化反應所得之核氫化聚羥基化合物經縮水甘油醚化者。芳香族多元醇的具體例，包括：例如雙酚A、雙酚F、雙酚S等雙酚型化合物；酚酚醛樹脂、甲酚酚醛樹脂、羥基苯甲醛酚酚醛樹脂等酚醛樹脂型樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯甲酮、聚乙烯基酚等多官能基型化合物。使芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應所得之脂環式多元醇，與環氧氯丙烷反應，藉此可成為縮水甘油醚。氫化環氧化合物中較理想者為氫化的雙酚A的二縮水甘油醚。
脂肪族環氧化合物為分子內具有至少1個鍵結於脂肪族碳原子的環氧乙烷環(3員環醚)的化合物。例如：丁基縮水甘油醚、2-乙基己基縮水甘油醚等單官能基的環氧化合物；1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚等2官能基的環氧化合物；三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、新戊四醇四縮水甘油醚等3官能基以上的環氧化合物；4-乙烯基環己烯二氧化物、檸檬烯二氧化物等具有1個直接鍵結於脂環式環的環氧基及鍵結於脂肪族碳原子的環氧乙烷環的環氧化合物等。
氧雜環丁烷化合物為分子內含有1個以上的氧雜環丁烷環(氧雜環丁烷基)的化合物。作為氧雜環丁烷化合物，例如3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、2-乙基己基氧雜環丁烷、1,4-雙[{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}甲基]苯、3-乙基-3[{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}甲基]氧雜環 丁烷、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(環己氧基)甲基-乙基氧雜環丁烷等。
作為乙烯基化合物，例如脂肪族或脂環式的乙烯基醚化合物。作為乙烯基化合物，例如：正戊基乙烯基醚、異戊基乙烯基醚、正己基乙烯基醚、正辛基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、正十二烷基乙烯基醚、硬脂基乙烯基醚、油基乙烯基醚等碳數5至20的烷基或烯基醇的乙烯基醚；2-羥基乙基乙烯基醚、3-羥基丙基乙烯基醚、4-羥基丁基乙烯基醚等含有羥基的乙烯基醚；環己基乙烯基醚、2-甲基環己基乙烯基醚、環己基甲基乙烯基醚、苯甲基乙烯基醚等具有脂肪族環或芳香族環的單醇的乙烯基醚；丙三醇單乙烯基醚、1,4-丁二醇單乙烯基醚、1,4-丁二醇二乙烯基醚、1,6-丁二醇二乙烯基醚、新戊二醇二乙烯基醚、新戊四醇二乙烯基醚、新戊四醇四乙烯基醚、三羥甲基丙烷二乙烯基醚、三羥甲基丙烷三乙烯基醚、1,4-二羥基甲基環己烷單乙烯基醚、1,4-二羥基甲基環己烷二乙烯基醚、1,4-二羥基甲基環己烷單乙烯基醚、1,4-二羥基甲基環己烷二乙烯基醚等多元醇的單至聚乙烯基醚；二乙二醇二乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、二乙二醇單丁基單乙烯基醚等聚烷二醇單至二乙烯基醚；縮水甘油基乙烯基醚、乙二醇乙烯基醚甲基丙烯酸酯等。
相對於活性能量線硬化性組成物(2)的固體成分100質量%，光硬化性成分的含量通常為50至99.5質量%，較理想為70至97質量%。
相對於光硬化性成分100質量份，化合物(X)的含量通常為0.01至50質量份，較理想為0.1至20質量份，更理想為0.5至10質量份，更加理想為0.5至5質量份。
〈光聚合起始劑〉
(光自由基聚合起始劑)
於光硬化性成分為自由基聚合化合物的情況，光聚合起始劑含有光自由基聚合起始劑。而且，可更含有熱自由基聚合起始劑。光自由基聚合起始劑係會藉由如可見光、紫外線、X射線或電子束的活性能量線的照射而引發自由基硬化性化合物的聚合反應者。
作為光自由基聚合起始劑及熱自由基聚合起始劑，可使用傳統習知者。作為光自由基聚合起始劑，例如：苯乙酮、3-甲基苯乙酮、苯甲基二甲基縮酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基-2-嗎啉基]丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等苯乙酮系起始劑；二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4,4’-二胺基二苯甲酮等二苯甲酮系起始劑；安息香丙基醚、安息香甲基醚、安息香乙基醚等安息香醚系起始劑；4-異丙基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮系起始劑；氧雜蒽酮、茀酮、樟腦醌、苯甲醛、蒽醌等；1-[4-(苯硫基)苯基]-,2-(鄰苯甲醯肟)-1,2-辛烷二酮、1-[9-乙基-6-(2-甲基安息香)-9H-咔唑-3-基]-,1-(o-乙醯肟)-乙酮等肟酯系起始劑等。
光自由基聚合起始劑可併用2種以上。
相對於自由基聚合性化合物100質量份，光自由基聚合起始劑的含量通常為0.01至20質量份，較理想為0.1至10質量份，更理想為0.5至5 質量份。藉由含有0.5質量份的光自由基聚合起始劑，可充分地使自由基聚合性化合物硬化。
(光陽離子聚合起始劑)
於光硬化性成分為陽離子聚合性化合物的情況，光聚合起始劑為光陽離子聚合起始劑。光陽離子聚合起始劑係藉由如可見光、紫外線、X射線或電子束的活性能量線的照射產生陽離子物質或路易斯酸而引發陽離子硬化性化合物的聚合反應者。作為藉由活性能量線的照射而產生陽離子物質或路易斯酸的化合物，例如：芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽等鎓鹽；芳香族重氮鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。
芳香族錪鹽為具有二芳基錪陽離子的化合物，作為該陽離子，典型地例如二苯基錪陽離子。芳香族鋶鹽為具有三芳基鋶陽離子的化合物，典型地例如三苯基鋶陽離子、4,4’-雙(二苯基鋶)二苯硫醚陽離子等。芳香族重氮鎓鹽為具有重氮鎓陽離子的化合物，作為該陽離子，典型地例如苯二重氮鎓陽離子。而且鐵-芳烴錯合物典型地例如環戊二烯基鐵(II)芳烴陽離子錯合物鹽。
上述的陽離子係與陰離子成對，構成光陽離子聚合起始劑。若列舉構成光陽離子聚合起始劑的陰離子之例，係有特殊磷系陰離子[(Rf)nPF6-n]-、六氟磷酸根陰離子PF6 -、六氟銻酸根陰離子SbF6 -、五氟羥基銻酸根陰離子SbF5(OH)-、六氟砷酸根陰離子AsF6 -、四氟硼酸根陰離子BF4 -、四(五氟苯基)硼酸根陰離子B(C6H5)4 -等。其中，從陽離子聚合性化合物的硬化性及所得之光學層的安全性的觀點，較理想為特殊磷系陰離子 [(Rf)nPF6-n]-、六氟磷酸根陰離子PF6 -、四(五氟苯基)硼酸根陰離子B(C6H5)4 -。
光陽離子聚合起始劑可併用2種以上。其中，芳香族鋶鹽由於即使在300nm附近的波長區域也具有紫外線吸收特性，故硬化性佳，可得到良好的機械強度、接著強度的硬化物，所以較理想。
相對於陽離子聚合性化合物100質量份，光陽離子聚合起始劑的含量通常為0.01至20質量份，較理想為0.1至10質量份，更理想為0.5至5質量份。藉由含有0.5質量份的光陽離子聚合起始劑，可充分地使陽離子聚合性化合物硬化。
從接著劑組成物的硬化性、硬化時著色影響的控制的觀點，接著劑組成物包含自由基聚合性硬化成分較理想，包含自由基聚合性(甲基)丙烯酸系成分較理想。而且，從硬化性的觀點，包含肟酯系光自由基聚合起始劑較理想。而且較理想為無溶劑系。
熱硬化型接著劑可使用具有會因熱而反應的官能基的熱硬化性化合物。熱硬化性化合物可為單體、寡聚物或聚合物的任一種。作為會因熱而反應的官能基，例如環氧基、羥基、羧基、胺基、硫醇基、異氰酸酯基、矽烷醇基、烷氧基矽烷基、氰酸酯基、醯胺基、酸酐基、醛基、乙醯乙醯基、二酮基等。
熱硬化性成分可只使用單一官能基種類，但為了在更低溫下有效率地硬化，組合複數的官能基種類較理想。而且可另外併用交聯劑。
接著劑組成物可依需要包含添加劑。作為添加劑，例如離子捕捉劑、鏈轉移劑、聚合促進劑、增感劑、增感助劑、填充劑、流動調整 劑、塑化劑、消泡劑、調平劑、透光性微粒子、有機溶劑等溶劑、熱聚合起始劑、封端劑、防污劑、表面活性記、硬化劑、黏度調整劑、防污劑、增滑劑、折射率調整劑、分散劑等。
〈硬塗層〉
硬塗層為具有防止光學層、其他層遭受刮傷、凹陷的功能的層，且大多積層於保護膜等。
硬塗層可由與前述的黏著劑組成物相同的成分形成。形成硬塗層的組成物較理想為活性能量線硬化型組成物(2)。
由於硬塗層的耐擦傷性、硬度及柔軟性的功能調整容易性，故包含光自由基聚合性成分較理想，包含(甲基)丙烯酸系成分更理想。而且由於容易充分地提高耐擦傷性、硬度，故包含3官能基以上的多官能基(甲基)丙烯酸酯較理想。而且，為了賦予柔軟性，包含胺酯丙烯酸寡聚物較理想。再者，包含光自由基起始劑較理想。從硬化性的觀點，光自由基起始劑為肟酯系起始劑較理想。再者，從塗佈基材時的液體表面的調平性的觀點，包含調平劑較理想。
作為調平劑，例如氟系調平劑、聚矽氧系調平劑、丙烯酸系調平劑等的習知者。於含有調平劑的情況，相對於光硬化性成分100質量份，0.01至1質量份較理想。
形成硬塗層的組成物，可為有機溶劑、水、無溶劑的任一者。從容易控制黏度的點或可溶解的硬化成分的種類豐富的點、調平性的觀點，包含有機溶劑較理想。
作為有機溶劑，例如：己烷、環己烷、辛烷等脂肪族烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲醇、乙醇、1-丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苯甲醇、乙二醇、環己醇等醇類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯的酯類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚等二醇醚類；乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯化二醇醚類；2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇等賽璐蘇(cellosolve)類；2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等卡必醇類；己烷、環己烷等脂肪族烴類；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等鹵化烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯烷酮等醯胺類；二乙基醚、二噁烷、四氫呋喃等醚類；1-甲氧基-2-丙醇等醚醇類等。
該等有機溶劑可依需要混合複數種使用。於活性能量線硬化型組成物(2)包含有機溶劑的情況，必須在塗佈後使該有機溶劑蒸發。因此，期望有機溶劑為具有60至160℃的範圍的沸點者。而且，於20℃的飽和蒸氣壓為0.1kPa至20kPa的範圍較理想。
塗佈活性能量線硬化型組成物(2)於基材(塑膠膜等)、其他光學層上而形成塗膜，並依需要使其乾燥後，使上述塗膜硬化，藉此可形成本發明的光學層。亦即，活性能量線硬化型組成物(2)的硬化物為本發明的光學層。
作為塗佈活性能量線硬化型組成物(2)而形成塗膜的方法，例如旋轉塗佈法、浸塗法、噴塗法、模塗法(die coating)、棒塗法、滾輪塗佈法、液體 凹面塗佈法、柔版印刷法(flexo printing)、網版印刷法、液滴塗佈法等的習知的各種方法。
作為乾燥方法，無特別限制。乾燥溫度通常為30至120℃，乾燥時間可以30至300秒進行。
塗佈活性能量線硬化型組成物(2)於基材等之後，藉由對塗膜進行活性能量線的照射，可使塗膜硬化。活性能量線的照射強度係依據活性能量線硬化型組成物(2)的調配而決定，但以設成對光聚合起始劑的活性化有效的波長區域的光照射強度成為0.1至2000mW/cm2較理想。而且，對活性能量線硬化型組成物(2)的塗膜的光照射時間，也依據活性能量線硬化型組成物(2)的調配而決定，光照射強度與光照射時間的乘積所表示的累積光量以設定為10至5000mJ/cm2較理想。
於由活性能量線硬化型組成物(2)所形成的光學層為硬塗層的情況，硬塗層的厚度為0.5至20μm較理想，1至10μm更理想，2至7μm更加理想，3至5μm特別理想。
而且，於由活性能量線硬化型組成物(2)所形成的光學層為硬塗層的情況，相對於光硬化性成分100質量份，化合物(X)的含量通常為0.01至50質量份，較理想為0.1至20質量份，更理想為0.5至10質量份，更加理想為0.5至5質量份。
〈光學積層體〉
本發明亦包括包含本發明的光學層及其他層的光學積層體。其他層可為前述任意的光學層。積層的複數層光學層中，包含化合物(X)的光學層可為任一層，亦可為複數層。
於積層光學層的情況，隔著接著劑層或黏著劑層積層較理想。於隔著接著劑層積層的情況，例如塗佈接著劑組成物於任一光學層，並與另一光學層貼合後，藉由加熱或活性能量線的照射而使其硬化，可形成積層體。於使用溶劑系、水系的接著劑組成物的情況，塗佈於光學層後，可進行乾燥而除去溶劑後與光學層貼合，亦可貼合後乾燥除去溶劑。
於隔著黏著劑層積層的情況，與接著劑層同樣地，塗佈黏著劑組成物於一光學層後貼合，但可預先形成黏著劑層於離型膜並轉印至光學層後，藉由剝離離型膜，貼合於光學層。
再者，接著劑層及黏著劑層可為由習知的接著劑組成物所形成的接著劑層，亦可為由習知的黏著劑組成物所形成的黏著劑層，也可為本發明的光學層。
本發明的光學積層體的一例的剖面示意圖表示於第1圖至第6圖。
第1圖記載的光學積層體10為包含光學膜40、光學層3、發光元件30的積層體。此處，光學層3為由黏著劑組成物(3)所形成的黏著劑層較理想。光學層3可為具有黏著性功能的黏著劑層。
第2圖記載的光學積層體10A為包含本發明的光學層1、接著劑層4、偏光片5、黏接著劑層6、保護膜7的積層體。此處，本發明的光學層1為由樹脂組成物(1)所形成的光學層較理想。光學層1具有作為偏光片的保護膜的功能。再者，保護膜7也可為本發明的光學層或習知的保護膜。而且，接著劑層4只要是習知的接著劑層，無特別限制，可為習知的水系接著劑，亦可為習知的活性能量線硬化型接著劑。
第3圖記載的光學積層體10B為包含保護膜7、接著劑層4、偏光片5、本發明的光學層2、保護膜8的積層體。此處，光學層2為由活性能量線硬化型組成物(2)所形成的光學層較理想，該光學層為具有接著性功能的接著劑層。
第4圖記載的光學積層體10C為包含光學層2、保護膜7、接著劑層4、偏光片5、黏接著劑層6、保護膜8的積層體。此處，光學層2為由活性能量線硬化型組成物(2)所形成的光學層較理想，該光學層可為表面處理層。
第5圖記載的光學積層體10D及第6圖記載的光學積層體10E為包含表面處理層20、保護膜7、接著劑層4、偏光片5、黏接著劑層6、光學膜40、黏著劑層6a、發光元件30(液晶單元、有機EL單元)的光學積層體。
第5圖及第6圖記載的光學積層體為包含多層的相位差膜的積層體的例。例如第5圖表示的積層體包括相位差膜110，該相位差膜110係將對穿透光賦予1/4波長份的相位差的1/4波長相位差層50及對穿透光賦予1/2波長份的相位差的1/2波長相位差層70隔著接著劑層或黏著劑層60積層而成者。而且，第6圖表示的積層體例如為包括光學膜40的構成，該光學膜40係將1/4波長相位差層50a及正型C層80隔著黏接著劑層60積層而成者。
第5圖之賦予1/4波長份的相位差的1/4波長相位差層50以及對穿透光賦予1/2波長份的相位差的1/2波長相位差層70可為上述第一形態的相位差膜，亦可為第五形態的相位差膜。於第4圖的構成的情況，至少一者為第五形態更理想。
第6圖的1/4波長相位差層50a為上述第一形態的光學膜較理想，且以滿足式(7)、式(8)更理想。
於第5圖及第6圖中，表面處理層20、保護膜7、接著劑層4、黏接著劑層6、黏著劑層6a的任一者只要是本發明的光學層即可。表面處理層20可為由上述的活性能量線硬化型組成物(2)所形成的光學層，亦可為習知的表面處理層。再者，表面處理層20例如為硬塗層。接著劑層4可為由上述的活性能量線硬化型組成物(2)所形成的光學層，亦可為由習知的接著劑組成物所形成的接著劑。黏接著劑層6可為接著劑層，亦可為黏著劑層。於黏接著劑層6為接著劑層的情況，可為由上述的活性能量線硬化型組成物所形成的光學層，亦可為由習知的接著劑組成物所形成的接著劑層。於黏接著劑層6為黏著劑層的情況，可為由上述的黏著劑組成物所形成的黏著劑層，亦可為由習知的黏著劑組成物所形成的黏著劑層。保護膜7可為由上述樹脂組成物(1)所形成的光學層，亦可為習知的保護膜。黏著劑層6a可為由上述的黏著劑組成物(3)所形成的光學層，亦可為由習知的黏著劑組成物所形成的黏著劑層。於如第5圖或第6圖的光學積層體的情況，表面處理層20或黏接著劑層6為本發明的光學層較理想，黏接著劑層6為上述的黏著劑組成物(3)所形成的黏著劑層更理想。
〈圖像顯示裝置〉
本發明的光學層及包含該光學層的光學積層體可積層於有機EL元件、液晶單元等顯示元件而作為有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等圖像顯示裝置(FPD：平面顯示器)。
於使用本發明的光學層作為光學積層體、圖像顯示裝置的情況，積層體中的光學層與其他光學層積層的順序無特別限制，從抑制液晶系相位差膜、有機EL發光元件的耐光劣化的觀點，包含化合物(X)的光學層係以配置在比液晶系相位差膜、有機EL發光元件更靠近觀看側較理想。
[實施例]
以下顯示實施例及比較例來更具體地說明本發明，但本發明不限於該等例。例中，只要沒有特別說明，則表示含量或使用量的%及份為質量基準。
(合成例1)式(UVA-1)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0166-54
將已安裝蛇形冷凝管(Dimroth condenser)及溫度計的300mL-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入2-甲基-1,3-環己二酮5份、哌啶3.7份、甲苯50份，並使其回流攪拌5小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-1)表示的化合物6.8份。
在氮氣環境下，混合所得之式(M-1)表示的化合物、硫酸二甲酯1.3份及乙腈4份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加丙二腈0.75份、三乙基胺1.2份及異丙醇4份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-1)表示的化合物0.3份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-1)表示的化合物。
1H-NMR(氘代二甲基亞碸(以下有稱為氘代DMSO的情況))δ：1.68-1.75(m,8H),2.16(s,3H),2.50-2.62(dt,4H),3.40-3.43(t,4H)
LC-MS；[M+H]+=242.5
〈最大吸收波長及克吸光係數ε的測定〉
將所得之式(UVA-1)表示的化合物的2-丁酮溶液(0.006g/L)放入1cm的石英槽，將石英槽設置於分光光度計UV-2450(島津製作所公司製)，藉由雙光束法，每隔1nm步距測定300至800nm的波長範圍的吸光度。從所得之吸光度的值、溶液中式(UVA-1)表示的化合物的濃度、石英槽的光程長，算出各波長的克吸光係數。
ε(λ)=A(λ)/CL
〔式中，ε(λ)表示於波長λ nm的式(UVA-1)表示的化合物的克吸光係數(L/(g‧cm))，A(λ)表示於波長λ nm的吸光度，C表示濃度(g/L)，L表示石英槽的光程長(cm)。〕
所得之式(UVA-1)表示的化合物的最大吸收波長為412.9nm。所得之式(UVA-1)表示的化合物ε(λmax)為1.946L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.138L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為14.1。
(合成例2)式(UVA-2)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0167-55
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的300毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入2-甲基-1,3-環己二酮5份、哌啶4.2份、甲苯50份，並使其回流攪拌5小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-2)表示的化合物4份。
Figure 109106045-A0202-12-0168-56
在氮氣環境下，混合所得之式(M-2)表示的化合物、硫酸二甲酯1.7份及乙腈4.5份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加(2-乙基丁基)氰基乙酸酯2.4份、三乙基胺1.4份及異丙醇4.5份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-2)表示的化合物1.5份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-2)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.89-0.93(t,6H),1.36-1.48(m,4H),1.52-1.62(m,2H),1.69-1.71(m,6H),2.22(s,3H),2.57-2.60(t,2H),3.15-3.18(t,2H),3.53-3.55(t,4H),4.05-4.06(d,2H)
LC-MS；[M+H]+=331.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-2)表示的化合物的最大吸收波長為382.6nm。所得之式 (UVA-2)表示的化合物ε(λmax)為1.9L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.057L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為33.3。
(合成例3)式(UVA-3)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0169-57
在氮氣環境下，混合所得之式(M-2)表示的化合物2份、硫酸二甲酯1.5份及乙腈4份，在20至30℃攪拌3小時。再者，在所得之混合物添加丙二腈0.8份、三乙基胺1.2份及異丙醇4份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-3)表示的化合物1.7份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-3)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.69-1.74(m,6H),2.19(s,3H),2.65-2.81(dt,4H),3.57-3.59(t,4H)
LC-MS；[M+H]+=228.5(+H)
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-3)表示的化合物的最大吸收波長為376.8nm。所得之式(UVA-3)表示的化合物ε(λmax)為2.81L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.058L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為48.4。
(合成例4)式(UVA-4)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0170-58
在氮氣環境下，混合1,7-二甲基-1-2,3,4,5,6,7,8-六氫喹啉-5(1H)-酮1.5份、硫酸二甲酯1.1份及乙腈9份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加丙二腈0.6份、三乙基胺0.9份及異丙醇9份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-4)表示的化合物1.2份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-4)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.08-1.09(d,3H),1.76-2.13(m,5H),2.55-2.59(dd,1H),2.66-2.74(m,1H),2.81-2.93(m,2H),3.12(s,3H),3.28-3.37(m,2H)
LC-MS；[M+H]+=228.2
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-4)表示的化合物的最大吸收波長為401.8nm。所得之式(UVA-4)表示的化合物ε(λmax)為2.76L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.055L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為50.1。
(合成例5)式(UVA-5)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0170-59
在氮氣環境下，混合1,7-二甲基-1-2,3,4,5,6,7,8-六氫喹啉-5(1H)-酮1.5份、硫酸二甲酯1.1份及乙腈9份，在20至30℃，攪拌3小時。在所得之混合物，添加(2-乙基丁基)氰基乙酸酯1.6份、三乙基胺0.9份及異丙醇9份，在20至30℃，攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-5)表示的化合物1份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-5)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.89-0.93(t,6H),1.07-1.08(d,3H),1.36-1.48(m,4H),1.57-1.62(m,3H),1.82-2.04(m,4H),2.04-2.21(dd,1H),2.52-2.57(dd,1H),2.73(m,1H),3.09(s,3H),3.30-3.33(t,2H),4.04-4.06(dd,2H)
LC-MS；[M+H]+=331.2
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-5)表示的化合物的最大吸收波長為412.7nm。所得之式(UVA-5)表示的化合物ε(λmax)為1.36L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.202L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為6.74。
(合成例6)式(UVA-6)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0171-60
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的500毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入雙甲酮20份、吡咯烷11.2份及甲苯200份，並使其回流攪拌5小時。 從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-3)表示的化合物27.4份。
Figure 109106045-A0202-12-0172-61
在氮氣環境下，混合所得之式(M-3)表示的化合物1.0份、對甲苯磺醯氰2.8份及乙腈10份。所得之混合物在0至5℃，攪拌5小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-4)表示的化合物0.6份。
Figure 109106045-A0202-12-0172-62
在氮氣環境下，混合所得之式(M-4)表示的化合物4.8份、三氟甲磺酸甲酯4.6份及乙腈24份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加丙二腈1.9份、三乙基胺3份及乙腈24份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-6)表示的化合物2.9份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-6)表示的化合物。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.99(s,6H),1.90-1.96(m,4H),2.48-2.51(m,4H),3.70-3.88(dt,4H)
LC-MS；[M+H]+=284.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-6)表示的化合物的最大吸收波長為380nm。所得之式(UVA-6)表示的化合物ε(λmax)為1.75L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.032L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為54.53。
(合成例7)式(UVA-7)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0173-63
在氮氣環境下，混合所得之式(M-4)表示的化合物1份、三氟甲磺酸甲酯0.6份及乙腈10份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加氰基乙酸乙酯5.2份、三乙基胺4.6份及乙腈10份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-7)表示的化合物0.5份。
與上述同樣地進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-7)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.960-0.994(d,6H),1.20-1.26(m,3H),1.93(m,4H),2.53-2.91(m,4H),3.77-3.81(m,4H),4.10-4.19(m,2H)
LC-MS；[M+H]+=314.5(+H)
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-7)表示的化合物的最大吸收波長為382.7nm。所得之式 (UVA-7)表示的化合物ε(λmax)為1.08L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.153L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為7.04。
(合成例8)式(UVA-8)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0174-64
在氮氣環境下，混合所得之式(M-4)表示的化合物0.5份、硫酸二甲酯0.5份及乙腈5份，在20至30℃攪拌3小時。再者，在所得之混合物，添加三甲基乙醯基乙腈0.4份、三乙基胺0.5份及乙腈5.0份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-8)表示的化合物0.07份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-8)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.92(s,6H),1.26(s,9H),1.90(s,4H),2.55(m,4H),3.64-3.71(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=326.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-8)表示的化合物的最大吸收波長為377.4nm。所得之式(UVA-8)表示的化合物ε(λmax)為0.66L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.395L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為1.68。
(合成例9)式(UVA-9)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0175-67
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的300毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入雙甲酮70.0份、丙二腈10.4份、二異丙基乙胺40.6份、乙醇100.0份，並使其加熱回流攪拌3小時。反應結束後，蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-5)表示的化合物15.1份。
Figure 109106045-A0202-12-0175-66
在氮氣環境下，混合所得之式(M-5)表示的化合物5份、對甲苯磺醯氰5.8份、第三丁氧基鉀3份及乙醇50份。所得之混合物在0至5℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-6)表示的化合物3.3份。
Figure 109106045-A0202-12-0175-65
在氮氣環境下，混合所得之式(M-6)表示的化合物1份、三氟甲磺酸甲酯1份、二異丙基乙胺0.8份及乙腈20份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加哌啶1.4份及乙腈20份，在20至30℃攪拌3小時。從 所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-9)表示的化合物0.5份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-9)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.99(s,6H),1.60(m,6H),2.71(s,2H),3.80(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=281.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-9)表示的化合物的最大吸收波長為385.6nm。所得之式(UVA-9)表示的化合物ε(λmax)為1.65L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.088L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為18.8。
(合成例10)式(UVA-A1)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0176-68
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的200毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入參考日本特開2014-194508號公報所合成的式(M-7)表示的化合物10份、乙酸酐3.6份、(2-丁基辛基)氰基乙酸酯6.9份及乙腈60份，在20至30℃攪拌。在所得之混合物，花1小時滴入二異丙基乙基胺4.5份，並攪拌2小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-A1)表示的化合物4.6份。
(合成例11)式(UVA-A2)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0177-71
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的100毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入式(M-8)表示的化合物6份、二丁基胺14.2份、異丙醇31.3份，並使其加熱回流後，攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-A2)表示的化合物4.6份。
(合成例12)式(UVA-A3)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0177-70
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的300毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，放入丙二醛二苯胺鹽酸鹽30份、米氏酸(Meldrum's acid)18.4份、三乙基胺12.9份及甲醇90份，在20至30℃攪拌反應3小時。反應結束後，蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-8)表示的化合物24.4份。
Figure 109106045-A0202-12-0177-69
混合式(M-8)表示的化合物6份、二苯甲基胺21.7份、異丙醇31.3份，加熱回流後，攪拌3小時使其反應。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-A3)表示的化合物3.5份。
(合成例13)式(UVA-A4)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0178-72
將已安裝蛇形冷凝管及溫度計的100毫升-四口燒瓶內設為氮氣環境，混合2-苯基-1-甲基吲哚-3羧基醛5份、哌啶1.8份、丙二腈1.5份及乙醇20份，加熱回流後，攪拌18小時。將所得之混合物加熱至80℃，在80℃保溫18小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-A4)表示的化合物4.9份。
(實施例1)光選擇性吸收組成物(1)的調製
以下述比例混合各成分，調製光選擇性吸收組成物(活性能量線硬化性樹脂組成物)(1)
Figure 109106045-A0202-12-0178-73
(實施例2)光選擇性吸收組成物(2)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-2)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(2)。
(實施例3)光選擇性吸收組成物(3)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-3)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(3)。
(實施例4)光選擇性吸收組成物(4)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-4)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(4)。
(實施例5)光選擇性吸收組成物(5)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-5)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(5)。
(實施例6)光選擇性吸收組成物(6)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-6)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(6)。
(實施例7)光選擇性吸收組成物(7)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-7)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(7)。
(實施例8)光選擇性吸收組成物(8)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-8)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(8)。
(實施例9)光選擇性吸收組成物(9)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-9)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(9)。
(調製例1)光選擇性吸收組成物(A1)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-A1)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(A1)。
(調製例2)光選擇性吸收組成物(A2)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-A2)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(A2)。
(調製例3)光選擇性吸收組成物(A3)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-A4)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(A3)。
(實施例10)附硬化層的膜(1)的製作
在厚度23μm的由環狀聚烯烴系樹脂所成的樹脂膜〔商品名「ZEONOR」、日本ZEON(股)製〕的表面實施電暈放電處理，在其電暈放電處理面，使用棒塗器塗佈光選擇性吸收組成物(6)。將塗佈的膜放入100℃的乾燥烘箱，乾燥2分鐘。乾燥後的塗佈膜放入氮氣取代箱，在箱內封入氮氣1分鐘後，從塗佈面側照射紫外線，得到附硬化層的膜(6)。再者，硬化層的膜厚約為6.0μm。
紫外線照射裝置係使用附帶式傳送機的紫外線照射裝置〔燈是使用FUSION UV SYSTEM公司製的「H bulb」〕，以使累積光量成為400mJ/cm2(UVB)的方式照射紫外線。
(比較例1)附硬化層的膜(A1)的製作
除以光選擇性吸收組成物(A1)取代光選擇性吸收組成物(6)以外，與實施例10同樣地，得到附硬化層的膜(A1)。
(比較例2)附硬化層的膜(A2)的製作
除以光選擇性吸收組成物(A2)取代光選擇性吸收組成物(6)以外，與實施例10同樣地，得到附硬化層的膜(A2)。
(比較例3)附硬化層的膜(A3)的製作
除以光選擇性吸收組成物(A3)取代光選擇性吸收組成物(6)以外，與實施例10同樣地，得到附硬化層的膜(A3)。
〈附硬化層的膜的吸光度測定〉
將實施例10所得之附硬化層的膜(1)的裁切為30mm×30mm的大小，作為試樣(1)。將所得之試樣(1)與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕隔著丙烯酸系黏著劑貼合，作為試樣(2)。將作成的試樣(2)於波長300至800nm範圍的吸光度，每隔1nm步距使用分光光度計(UV-2450：島津製作所公司製)進行測定。將所測定的於波長395nm及波長430nm的吸光度，作為附硬化層的膜(1)於波長395nm及波長430nm的吸光度。結果表示於表1。再者，無鹼玻璃於波長395nm及波長430nm的吸光度幾乎為0，由環狀聚烯烴系樹脂所構成的樹脂膜於波長395nm及波長430nm的吸光度幾乎為0，丙烯酸系黏著劑於波長395nm及波長430nm的吸光度幾乎為0。
〈附硬化層的膜的吸光度保持率的測定〉
吸光度測定後的試樣(2)放入溫度63℃、相對濕度50%RH的條件的日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)48小時，實施耐候性測試。耐候性測試後的試樣(2)的吸光度用與上述相同的方法測定。從測定的吸光度，根據下述式，求得於波長395nm的試樣(2)的吸光度保持率。結果表示於表1。 吸光度保持率越接近100的值，表示沒有光選擇性吸收功能的劣化，具有良好的耐候性。A(395)表示於波長395nm的吸光度。
吸光度保持率(%)=(耐候性測試後的A(395)/耐候性測試前的A(395))×100
分別使用附硬化層的膜(A1)、附硬化層的膜(A2)、附硬化層的膜(A3)取代附硬化層的膜(1)，與附硬化層的膜(1)同樣地進行評價。結果表示於表1。
[表1]
Figure 109106045-A0202-12-0182-74
(實施例11)光學膜(1)的製作
將包含由聚甲基丙烯酸甲酯樹脂(住友化學公司製：SUMIPEX MH)70份、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂(PMMA)/聚丙烯酸丁酯樹脂(PBA)的核殼結構所構成的粒徑250nm的橡膠粒子30份、式(UVA-6)表示的化合物2份及2-丁酮所成的樹脂溶液(固體成分濃度：25質量%)放入混合罐進行攪拌，溶解各成分。
將所得之溶解物使用塗敷器均勻地流注在玻璃支撐體，在40℃的烘箱乾燥10分鐘，進一步在80℃的烘箱乾燥10分鐘。乾燥後，從玻璃支撐體 剝離光學膜(1)，得到具有光選擇性吸收功能的光學膜(1)。乾燥後的光學膜(1)的膜厚為30μm。
(實施例12)光學膜(2)的製作
將包含纖維素三乙酸酯(乙醯基取代度：2.87)100份、式(UVA-6)表示的化合物2份及氯仿與乙醇的混合溶液(以質量比計，氯仿：乙醇=90：10)所構成的樹脂溶液(固體成分濃度：7質量%)放入混合罐進行攪拌，溶解各成分。
將所得之溶解物使用塗敷器均勻地流注在玻璃支撐體，在40℃的烘箱乾燥10分鐘，進一步在80℃的烘箱乾燥10分鐘。乾燥後，從玻璃支撐體剝離光學膜(2)，得到具有光選擇性吸收功能的光學膜(2)。乾燥後的光學膜(2)的膜厚為30μm。
(實施例13)光學膜(3)的製作
將包含環烯烴聚合物樹脂(JSR製：ARTON F4520)100份、式(UVA-6)表示的化合物2份及二氯甲烷與甲苯的混合溶液(以質量比計，二氯甲烷：甲苯=50：50)的樹脂溶液(固體成分濃度：20質量%)放入混合罐進行攪拌，溶解各成分。
將所得之溶解物使用塗敷器均勻地流注在玻璃支撐體，在40℃的烘箱乾燥10分鐘，進一步在80℃的烘箱乾燥10分鐘。乾燥後，從玻璃支撐體剝離光學膜(3)，得到具有光選擇性吸收功能的光學膜(3)。乾燥後的光學膜(3)的膜厚為30μm。
(比較例4)光學膜(4)的製作
除將式(UVA-6)表示的化合物變更為式(UVA-A1)表示的化合物外，與實施例11同樣地製作光學膜(4)。
(比較例5)光學膜(5)的製作
除將式(UVA-6)表示的化合物變更為式(UVA-A1)表示的化合物外，與實施例12同樣地製作光學膜(5)。
(比較例6)光學膜(6)的製作
除將式(UVA-6)表示的化合物變更為式(UVA-A4)表示的化合物外，與實施例11同樣地製作光學膜(6)。
(比較例7)光學膜(7)的製作
除將式(UVA-6)表示的化合物變更為式(UVA-A4)表示的化合物外，與實施例12同樣地製作光學膜(7)。
〈光學膜的吸光度測定〉
對實施例11所得之光學膜(1)的單面實施電暈放電處理後，藉由積層機貼合丙烯酸黏著劑，在溫度23℃、相對濕度65%RH的條件下進行熟成7天，得到附黏著劑的光學膜(1)。然後，將附黏著劑的光學膜(1)裁切為30mm×30mm的大小，貼合於無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名”EAGLE XG”〕，製作試樣(3)。將作成的試樣(3)於波長300至800nm範圍的吸光度，每隔1nm步距使用分光光度計(UV-2450：島津製作所公司製)進行測定。將所測定的於波長395nm及波長430nm的吸光度，作為光學膜(1)於波長395nm及波長430nm的吸光度。結果表示於表2。再者，無鹼玻璃於波長395nm及波長430nm的吸光度幾乎為0，丙烯酸系黏著劑於波長395nm及波長430nm的吸光度幾乎為0。
將吸光度測定後的試樣(3)以溫度63℃、相對濕度50%RH的條件放入日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)，實施200小時的耐候性測試。將耐候性測試後的試樣(3)的吸光度用與上述相同的方法測定。從測定的吸光度，根據下述式，求得於波長395nm的試樣的吸光度保持率。結果表示於表2。吸光度保持率越接近100的值，表示沒有光選擇性吸收功能的劣化，具有良好的耐候性。
吸光度保持率(%)=(耐候性測試後的A(395)/耐候性測試前的A(395))×100
分別使用光學膜(2)至光學膜(7)取代光學膜(1)，與光學膜(1)同樣地進行評價。結果表示於表2。
[表2]
Figure 109106045-A0202-12-0185-75
(實施例14)黏著劑組成物(1)的製作
〈丙烯酸樹脂(A)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、丙烯酸2-羥基乙酯1.0份、丙烯酸0.6份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內 溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/hr的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並且在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為142萬，Mw/Mn為5.2。將其作為丙烯酸樹脂(A)。
〈黏著劑組成物(1)的調製〉
於上述合成的丙烯酸樹脂(A)的乙酸乙酯溶液(1)(樹脂濃度：20%)的固體成分100份，混合交聯劑(甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固體成分濃度75%)、TOSOH公司製、商品名「CORONATE L」)0.5份、矽烷化合物(3-環氧丙氧基三甲氧基矽烷、信越化學工業公司製、商品名「KBM403」)0.5份、式(UVA-1)表示的化合物2.0份，並添加乙酸乙酯以使固體成分濃度成為14%，得到黏著劑組成物(1)。再者，上述交聯劑的調配量為作為有效成分的質量份數。
(實施例15)黏著劑組成物(2)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-2)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(2)。
(實施例16)黏著劑組成物(3)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-3)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(3)。
(實施例17)黏著劑組成物(4)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-4)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(4)。
(實施例18)黏著劑組成物(5)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-5)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(5)。
(實施例19)黏著劑組成物(6)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-6)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(6)。
(實施例20)黏著劑組成物(7)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-7)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(7)。
(實施例21)黏著劑組成物(8)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-8)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(8)。
(實施例22)黏著劑組成物(9)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-9)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(9)。
(比較例8)黏著劑組成物(10)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-A1)表示的化合物外，與實施例14同樣地得到黏著劑組成物(10)。
(實施例23)黏著劑層(1)及黏著劑片(1)的製作
將所得之黏著劑組成物(6)，使用塗敷器塗佈於已施以離型處理的由聚對苯二甲酸乙二酯所構成的分隔膜〔LINTEC公司取得之商品名「PLR-382190」〕的離型處理面，在100℃乾燥1分鐘，製作黏著劑層(1)。所得之黏著劑層的厚度為15μm。
將所得之黏著劑層(1)藉由積層機貼合於23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜〔日本ZEON公司取得之商品名「ZEONOR」〕後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下進行熟成7天，得到黏著劑片(1)。
(實施例24)黏著劑層(2)及黏著劑片(2)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(7)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(2)及黏著劑片(2)。
(比較例9)黏著劑層(3)及黏著劑片(3)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(10)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(3)及黏著劑片(3)。
〈黏著劑片的吸光度測定〉
將所得之黏著劑片(1)裁切為30mm×30mm的大小，剝離分隔膜，並將黏著劑層(1)與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕貼合，將其作為試樣(4)。將作成的試樣(4)的於波長300至800nm範圍的吸光度，每隔1nm步距使用分光光度計(UV-2450：島津製作所公司製)進行測定。將所測定的於波長395nm及波長430nm的吸光度，作為黏著劑片(1)於波長395nm及波長430nm的吸光度。結果表示於表3。再者，環烯烴膜單體及無鹼玻璃單體於波長395nm及波長430nm的吸光度皆為0。
〈黏著劑片的吸光度保持率的測定〉
吸光度測定後的試樣(4)以溫度63℃、相對濕度50%RH的條件放入日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)200小時，實施耐候性測試。將取出的試樣(4)的吸光度用與上述相同的方法測定。從測定的吸光度，根據下述式，求得於波長395nm的試樣的吸光度保持率。結果表示於表3。吸光度保持率越接近100的值，表示沒有光選擇性吸收功能的劣化，具有良好的耐候性。
吸光度保持率(%)=(耐候性測試後的A(395)/耐候性測試前的A(395))×100
分別使用黏著劑片(2)及黏著劑片(3)取代黏著劑片(1)，與黏著劑片(1)同樣地進行評價。結果表示於表3。
[表3]
Figure 109106045-A0202-12-0189-76
(合成例14)式(UVA-10)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0189-77
在氮氣環境下，混合式(M-9)表示的化合物2.5份、苯甲醯基(苯基氫碘基)(三氟甲烷磺醯基)甲烷化物15.1份、氯化銅(I)0.4份及二噁烷100 份。將所得之混合物在30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-10)表示的化合物1.7份。
Figure 109106045-A0202-12-0190-79
在氮氣環境下，混合式(M-10)表示的化合物1.5份、三氟甲磺酸甲酯1.4份及乙腈10份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加二異丙基乙基胺1.3份、丙二腈0.7份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-10)表示的化合物1.0份。
與上述同樣地進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-10)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.00(s,3H),1.15(s,3H),1.86(m,2H),2.18(m,2H),2.32~2.91(m,4H),3.50~4.20(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=343.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-10)表示的化合物的最大吸收波長為384.2nm。所得之式(UVA-10)表示的化合物ε(λmax)為1.29L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.075L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為17.2。
(合成例15)式(UVA-11)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0191-80
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物5份、三氟甲磺酸甲酯4.9份、二異丙基乙基胺3.8份及乙腈10份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加二甲基胺5份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-11)表示的化合物3.1份。
與上述同樣地進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-11)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.08(s,6H),2.42(s,2H),2.55(s,2H),3.40(m,6H)
LC-MS；[M+H]+=241.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-11)表示的化合物的最大吸收波長為379.4nm。所得之式(UVA-11)表示的化合物ε(λmax)為1.93L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.063L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為30.6。
(合成例16)式(UVA-12)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0191-81
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物5份、三氟甲磺酸甲酯4.9份、二異丙基乙基胺3.8份及乙腈10份，在20至30℃攪拌3小時。在所 得之混合物，添加二乙基胺8.4份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-12)表示的化合物2.9份。
與上述同樣地進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-12)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.08(s,6H),1.39(t,6H),2.44(s,2H),2.58(s,2H),3.74(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=269.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-12)表示的化合物的最大吸收波長為380.5nm。所得之式(UVA-12)表示的化合物ε(λmax)為1.75L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.098L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為17.6。
(合成例17)式(UVA-13)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0192-82
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物5份、三氟甲磺酸甲酯4.9份、二異丙基乙基胺3.8份及乙腈10份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加二丁基胺14.8份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-13)表示的化合物2.5份。
與上述同樣地進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-13)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.99(t,6H),1.07(s,6H),1.32~1.46(m,4H),1.70(m,4H),2.40(s,2H),2.57(s,2H),3.32~3.85(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=325.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-13)表示的化合物的最大吸收波長為382.8nm。所得之式(UVA-13)表示的化合物ε(λmax)為1.42L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.095L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為14.9。
(合成例18)式(UVA-14)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0193-83
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物5份、碳酸鉀3.6份、三氟甲磺酸甲酯7.7份及甲基乙基酮40份，在0至5℃攪拌4小時。在所得之混合物添加氮雜環丁烷2份，在0至5℃攪拌10分鐘。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-14)表示的化合物2.6份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-14)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.05(s,6H),2.14(s,2H),2.45~2.53(m,4H),4.36(t,2H),4.91(t,2H)
LC-MS；[M+H]+=253.3
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-14)表示的化合物的最大吸收波長為377.2nm。所得之式 (UVA-14)表示的化合物ε(λmax)為1.93L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.028L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為68.9。
(合成例19)式(UVA-15)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0194-85
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物4.0份、三氟甲磺酸甲酯3.7份及乙腈40份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加二異丙基乙基胺2.9份、甲基胺溶解於四氫呋喃而成的溶液40份(甲基胺的濃度；7質量%)，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-15)表示的化合物1.9份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-15)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.98(s,6H),2.48~2.58(m,4H),3.03(s,3H),9.15(s,1H)
LC-MS；[M+H]+=226.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-15)表示的化合物的最大吸收波長為364.8nm。所得之式(UVA-12)表示的化合物ε(λmax)為1.86L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.066L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為28.2。
(合成例20)式(UVA-16)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0195-87
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物4.0份、三氟甲磺酸甲酯3.7份及乙腈40份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加二異丙基乙基胺2.9份、乙基胺溶解於四氫呋喃而成的溶液40份(乙基胺的濃度；10質量%)，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-16)表示的化合物1.5份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-16)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.98(s,6H),2.48~2.58(m,4H),3.03(t,3H),4.21(m,2H),9.15(s,1H)
LC-MS；[M+H]+=240.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-16)表示的化合物的最大吸收波長為364.8nm。所得之式(UVA-12)表示的化合物ε(λmax)為1.80L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.074L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為24.4。
(合成例21)式(UVA-17)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0195-86
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物1.7份、三氟甲磺酸甲酯1.6份及乙腈17份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加二異丙基乙基胺1.2份、氨溶解於四氫呋喃的溶液100份(氨的濃度；0.4莫耳%),在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-17)表示的化合物0.7份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-17)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.98(s,6H),2.48~2.58(m,4H),9.15(m,2H)
LC-MS；[M+H]+=213.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-17)表示的化合物的最大吸收波長為352.6nm。所得之式(UVA-17)表示的化合物ε(λmax)為1.75L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.11L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為15.9。
(合成例22)式(UVA-18)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0196-88
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物3.5份、三氟甲磺酸甲酯3.2份及乙腈35份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加碳酸鉀2.2份、N,N’-二甲基伸乙基二胺0.8份，在20至30℃攪拌3小時。從所 得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-18)表示的化合物0.4份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-18)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.98(s,12H),2.67(m,4H),3.44(m,8H),4.05(m,6H)
LC-MS；[M+H]+=479.7
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-18)表示的化合物的最大吸收波長為391.4nm。所得之式(UVA-18)表示的化合物ε(λmax)為1.52L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.036L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為42.2。
(合成例23)式(UVA-19)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0197-89
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物3.5份、三氟甲磺酸甲酯3.2份及乙腈35份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物，添加碳酸鉀2.2份、N,N’-二甲基三亞甲基二胺1.0份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-19)表示的化合物0.2份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-19)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.99(s,12H),2.50(m,8H),2.66(m,6H),3.32(m,6H)
LC-MS；[M+H]+=493.7
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-19)表示的化合物的最大吸收波長為384.9nm。所得之式(UVA-19)表示的化合物ε(λmax)為1.63L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.036L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為45.3。
(實施例25)光選擇性吸收組成物(10)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物將為式(UVA-10)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(10)。
(實施例26)光選擇性吸收組成物(11)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物將為式(UVA-11)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(11)。
(實施例27)光選擇性吸收組成物(12)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-12)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(12)。
(實施例28)光選擇性吸收組成物(13)的調製
除將式(UVA-1)表示的化合物設為式(UVA-13)表示的化合物以外，與實施例1同樣地，調製光選擇性吸收組成物(13)。
(實施例29)附硬化層的膜(2)的製作
除以光選擇性吸收組成物(11)取代光選擇性吸收組成物(1)以外，與實施例10同樣地，得到附硬化層的膜(2)。
(實施例30)附硬化層的膜(3)的製作
除以光選擇性吸收組成物(12)取代光選擇性吸收組成物(1)以外，與實施例10同樣地，得到附硬化層的膜(3)。
〈附硬化層的膜的吸光度測定及吸光度保持率的測定〉
除使用附硬化層的膜(2)及附硬化層的膜(3)取代附硬化層的膜(1)以外，與上述〈附硬化層的膜的吸光度測定〉同樣地測定吸光度。
而且，除將於日光耐候試驗機的放入時間設為75小時外，與上述〈附硬化層的膜的吸光度保持率的測定〉同樣地，測定實施例10所得之附硬化層的膜(1)及比較例3所得之附硬化層的膜(A3)吸光度保持率。
再者，除使用附硬化層的膜(2)及附硬化層的膜(3)取代附硬化層的膜(1)，及將於日光耐候試驗機的放入時間設為75小時以外，與上述〈附硬化層的膜的吸光度保持率的測定〉同樣地測定吸光度保持率。
該等的結果表示於表4。於表4也顯示實施例10所得之附硬化層的膜(1)及比較例3所得之附硬化層的膜(A3)吸光度的值。
[表4]
Figure 109106045-A0202-12-0200-90
(實施例31)黏著劑組成物(11)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-10)表示的化合物以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(11)。
(實施例32)黏著劑組成物(12)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-11)表示的化合物以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(12)。
(實施例33)黏著劑組成物(13)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-12)表示的化合物以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(13)。
(實施例34)黏著劑組成物(14)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-13)表示的化合物以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(14)。
(實施例35)黏著劑層(4)及黏著劑片(4)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(9)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(4)及黏著劑片(4)。
(實施例36)黏著劑層(5)及黏著劑片(5)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(11)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(5)及黏著劑片(5)。
(實施例37)黏著劑層(6)及黏著劑片(6)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(12)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(6)及黏著劑片(6)。
(實施例38)黏著劑層(7)及黏著劑片(7)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(13)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(7)及黏著劑片(7)。
(實施例39)黏著劑層(8)及黏著劑片(8)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(14)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(8)及黏著劑片(8)。
(實施例40)黏著劑組成物(15)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-18)表示的化合物，及將其含量相對於丙烯酸樹脂(A)100質量份設為1.0質量份以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(15)。
(實施例41)黏著劑層(9)及黏著劑片(9)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(15)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(9)及黏著劑片(9)。
〈黏著劑片的吸光度測定及吸光度保持率的測定〉
除使用黏著劑片(4)至黏著劑片(9)取代黏著劑片(1)以外，與上述〈黏著劑片的吸光度測定〉及〈黏著劑片的吸光度保持率的測定〉同樣地測定吸光度及吸光度保持率。結果表示於表5。
[表5]
Figure 109106045-A0202-12-0202-91
(合成例24)式(UVA-20)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0202-181
在氮氣環境下，混合式(M-3)表示的化合物17份、碳酸鉀12.2份、1-氯甲基-4-氟-1,4-重氮雙環[2.2.2]辛烷雙(四氟硼酸酯)(Selectfluor、空氣化工產品公司的註冊商標)15.9份及甲基乙基酮85份，在冰浴中攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-11)表示的化合物3.7份。
Figure 109106045-A0202-12-0202-182
在氮氣環境下，混合式(M-11)表示的化合物18份、三氟甲磺酸甲酯28份及甲基乙基酮90份，在20至30℃攪拌3小時。在所得之混合物添加碳 酸鉀13.0份、丙二腈8.4份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-20)表示的化合物5.8份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-20)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.08(s,6H),1.97(m,4H),2.40(d,2H),2.50(d,2H),3.53(m,2H),3.86(m,2H)
LC-MS；[M+H]+=260.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-20)表示的化合物的最大吸收波長為407.5nm。所得之式(UVA-20)表示的化合物ε(λmax)為2.30L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.041L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為56.0。
(合成例25)式(UVA-21)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0203-184
在氮氣環境下，混合3-羥基哌啶5份、第三丁基二苯基氯矽烷13.6份、咪唑6.7份及二氯甲烷40份，在20至30℃攪拌4小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(M-12)表示的化合物10.5份。
Figure 109106045-A0202-12-0203-186
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物4.0份、二異丙基乙基胺3.2份、三氟甲磺酸甲酯4.0份及乙腈80份，在20至30℃攪拌4小時。在所得之混合物，添加式(M-12)表示的化合物8.3份，在20至30℃攪拌3小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-21)表示的化合物6.5份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-21)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.97(s,6H),1.04(s,9H),1.70(m,2H),1.85(m,2H),2.48(s,2H),2.65(s,2H),3.72(m,2H),3.94(m,2H),4.13(m,1H),7.42~7.52(m,6H),7.61~7.64(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=535.9
(合成例26)式(UVA-22)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0204-187
在氮氣環境下，混合式(UVA-21)表示的化合物4.2份及四丁基氟化銨/四氫呋喃1M溶液50份，在20至30℃攪拌40小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-22)表示的化合物1.8份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-22)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.98(s,6H),1.59(m,2H),1.92(m,2H),2.67(s,2H),3.68~3.95(m,4H),4.97(m,1H)
LC-MS；[M+H]+=297.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-22)表示的化合物的最大吸收波長為384.6nm。所得之式(UVA-22)表示的化合物ε(λmax)為1.43L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.085L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為16.8。
(合成例27)式(UVA-23)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0205-188
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物5.0份、碳酸鉀3.6份、三氟甲磺酸甲酯7.7份及乙腈40份，在20至30℃攪拌4小時。在所得之混合物添加氮雜環丁烷2.0份，在20至30℃攪拌4小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-23)表示的化合物2.3份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-23)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.05(s,6H),2.14(s,2H),2.45~2.53(m,4H),4.36(t,2H),4.91(t,2H)
LC-MS；[M+H]+=253.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-23)表示的化合物的最大吸收波長為377.2nm。所得之式(UVA-23)表示的化合物ε(λmax)為1.93L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.028L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為68.9。
(合成例28)式(UVA-24)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0206-189
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物2.5份、碳酸鉀1.6份、三氟甲磺酸甲酯2.3份、乙腈25份，在20至30℃攪拌4小時。在所得之混合物，添加哌啶0.6份，在20至30℃攪拌4小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-24)表示的化合物1.0份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-24)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.93(s,2H),1.01(s,12H),1.24(s,2H),2.65(s,4H),4.09(m,8H)
LC-MS；[M+H]+=477.5
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-24)表示的化合物的最大吸收波長為390.5nm。所得之式(UVA-24)表示的化合物ε(λmax)為1.92L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.033L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為58.2。
(合成例29)式(UVA-25)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0206-190
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物2.5份、碳酸鉀1.6份、三氟甲磺酸甲酯2.3份、甲基乙基酮25份，在20至30℃攪拌4小時。在所 得之混合物添加1,4-雙胺基甲基環己烷1.0份，在20至30℃攪拌4小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-25)表示的化合物1.0份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-25)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：0.98(m,12H),1.38~1.78(m,10H),2.67(m,6H),3.40(m,2H),9.15(m,2H)
LC-MS；[M+H]+=533.6
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-25)表示的化合物的最大吸收波長為372.7nm。所得之式(UVA-25)表示的化合物ε(λmax)為1.59L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.036L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為44.1。
(合成例30)式(UVA-26)表示化合物的合成
Figure 109106045-A0202-12-0207-191
在氮氣環境下，混合式(M-6)表示的化合物2.5份、碳酸鉀1.6份、三氟甲磺酸甲酯2.3份、甲基乙基酮25份，在20至30℃攪拌4小時。在所得之混合物添加1,2-雙(乙基胺基)乙烷0.8份，在20至30℃攪拌4小時。從所得之混合物蒸餾除去溶劑，進行精製，得到式(UVA-26)表示的化合物0.9份。
進行LC-MS測定及1H-NMR分析，確認生成式(UVA-26)表示的化合物。
1H-NMR(氘代DMSO)δ：1.00(s,12H),1.29(t,6H),2.56(s,4H),2.70(s,4H),3.85(m,4H),4.05(m,4H)
LC-MS；[M+H]+=507.7
而且，與上述同樣地，測定最大吸收波長及克吸光係數。所得之式(UVA-26)表示的化合物的最大吸收波長為390.7nm。所得之式(UVA-26)表示的化合物ε(λmax)為1.30L/(g‧cm)，ε(λmax+30nm)為0.048L/(g‧cm)，ε(λmax)/ε(λmax+30nm)為27.1。
(實施例42)黏著劑組成物(16)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-23)表示的化合物，及將其含量相對於丙烯酸樹脂(A)100份設為0.5份以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(16)。
(實施例43)黏著劑組成物(17)的製作
除將式(UVA-1)表示的化合物變更為式(UVA-26)表示的化合物，及將其含量相對於丙烯酸樹脂(A)100份設為0.2份以外，與實施例14同樣地，得到黏著劑組成物(17)。
(實施例44)黏著劑層(10)及黏著劑片(10)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(16)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(10)及黏著劑片(10)。
(實施例45)黏著劑層(11)及黏著劑片(11)的製作
除將黏著劑組成物(6)變更為黏著劑組成物(17)以外，與實施例23同樣地，製作黏著劑層(11)及黏著劑片(11)。
〈黏著劑片的吸光度測定及吸光度保持率的測定〉
除使用黏著劑片(10)及黏著劑片(11)取代黏著劑片(1)以外，與上述〈黏著劑片的吸光度測定〉及〈黏著劑片的吸光度保持率的測定〉同樣地測定吸光度及吸光度保持率。結果表示於表6。
[表6]
Figure 109106045-A0202-12-0209-92
(實施例46)黏著劑組成物(18)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-2)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯96份、丙烯酸2-羥基乙酯3份、丙烯酸1份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並且在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%， 調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為140萬。Mw/Mn為4.8。將其作為丙烯酸樹脂(A-2)。
〈黏著劑組成物(18)的調製〉
於上述合成的丙烯酸樹脂(A-2)的乙酸乙酯溶液(1)(樹脂濃度：20%)的固體成分100份，混合交聯劑(甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固體成分濃度75%)、TOSOH公司製、商品名「CORONATE L」)0.5份、矽烷化合物(1,6-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、信越化學工業公司製、商品名「KBM3066」)0.3份、式(UVA-6)表示的化合物3份，並添加乙酸乙酯以使固體成分濃度成為14%，得到黏著劑組成物(18)。再者，上述交聯劑的調配量為作為有效成分的質量份數。
(實施例47)黏著劑組成物(19)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-3)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸甲酯60份、丙烯酸2-羥基乙酯10份、丙烯酸10份及丙烯酸2-苯氧基乙酯20份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節 丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為92萬。Mw/Mn為7.8。將其作為丙烯酸樹脂(A-3)。
〈黏著劑組成物(19)的調製〉
除使用上述合成的丙烯酸樹脂(A-3)取代丙烯酸樹脂(A-2)以外，與實施例46同樣地得到黏著劑組成物(19)。
(實施例48)黏著劑組成物(20)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-4)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯10份、丙烯酸甲酯60份、丙烯酸2-羥基乙酯10份、丙烯酸10份及丙烯酸2-苯氧基乙酯10份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為94萬。Mw/Mn為8.5。將其作為丙烯酸樹脂(A-4)。
〈黏著劑組成物(20)的調製〉
除使用上述合成的丙烯酸樹脂(A-4)取代丙烯酸樹脂(A-2)以外，與實施例46同樣地得到黏著劑組成物(20)。
(實施例49)黏著劑組成物(21)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-5)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯20份、丙烯酸甲酯50份、丙烯酸2-羥基乙酯10份、丙烯酸10份及丙烯酸2-苯氧基乙酯10份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為91萬。將其作為丙烯酸樹脂(A-5)。
〈黏著劑組成物(21)的調製〉
除使用上述合成的丙烯酸樹脂(A-5)取代丙烯酸樹脂(A-2)以外，與實施例46同樣地得到黏著劑組成物(21)。
(實施例50)黏著劑組成物(22)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-6)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯50份、丙烯酸甲酯10份、丙烯酸2-羥基乙酯10份、丙烯酸10份及丙烯酸2-苯氧基乙酯20份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為120萬。將其作為丙烯酸樹脂(A-6)。
〈黏著劑組成物(22)的調製〉
除使用上述合成的丙烯酸樹脂(A-6)取代丙烯酸樹脂(A-2)以外，與實施例46同樣地得到黏著劑組成物(22)。
(實施例51)黏著劑組成物(23)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-7)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯60份、丙烯酸甲酯10份、丙烯酸2-羥基乙酯10份、丙烯酸10份及丙烯酸2-苯氧基乙酯10份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於 乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並在乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為118萬。將其作為丙烯酸樹脂(A-7)。
〈黏著劑組成物(23)的調製〉
除使用上述合成的丙烯酸樹脂(A-7)取代丙烯酸樹脂(A-2)以外，與實施例46同樣地得到黏著劑組成物(23)。
(實施例52)黏著劑組成物(24)的製作
〈丙烯酸樹脂(A-8)的調製〉
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，添加作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體的丙烯酸丁酯70份、丙烯酸2-羥基乙酯10份、丙烯酸10份及丙烯酸2-苯氧基乙酯10份的混合溶液，以氮氣取代反應容器內的空氣而設為不含氧氣，同時將內溫提高至55℃。然後，添加全部量的將偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份而成的溶液。添加起始劑後保持該溫度1小時，然後一邊保持內溫為54至56℃，一邊以17.3份/小時的速度連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時點，停止乙酸乙酯的添加，並在從乙酸乙酯的添加開始起經過12小時以內保持在該溫度。最後，添加乙酸乙酯，調節丙烯酸樹脂的濃度成為20%，調製丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之 丙烯酸樹脂之藉由GPC所得的換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為110萬。將其作為丙烯酸樹脂(A-8)。
〈黏著劑組成物(24)的調製〉
除使用上述合成的丙烯酸樹脂(A-8)取代丙烯酸樹脂(A-2)以外，與實施例46同樣地得到黏著劑組成物(24)。
〈黏著劑層的析出結晶(耐滲出性)的評價〉
將所得之黏著劑組成物(18)使用塗敷器塗佈於已施以離型處理的由聚對苯二甲酸乙二酯所構成的分隔膜〔LINTEC公司取得之商品名「PLR-382190」〕的離型處理面，在100℃乾燥1分鐘，製作黏著劑層。於該黏著劑層的另一面進一步積層分隔膜，得到兩面附分隔膜的黏著劑層。所得之黏著劑層的厚度為15μm。
將所得之兩面附分隔膜的黏著劑層在溫度23℃、相對濕度65%RH的條件下進行熟成7天。對熟成後的兩面附分隔膜的黏著劑層使用顯微鏡確認面內的化合物是否有結晶析出。於沒有結晶析出的情況評價為a，有結晶析出的情況評價為b。評價結果表示於表7的「熟成後」欄。
此外，將所得之兩面附分隔膜的黏著劑層在溫度40℃的空氣下保管1個月。對保管後的兩面附分隔膜的黏著劑層使用顯微鏡確認面內的化合物是否有結晶析出。於沒有結晶析出的情況評價為a，有結晶析出的情況評價為b。評價結果表示於表7的「40℃ 1M」欄。
除以黏著劑組成物(19)至黏著劑組成物(24)取代黏著劑組成物(18)以外，同樣地確認是否有結晶析出。結果表示於表7。
[表7]
Figure 109106045-A0202-12-0216-93
(實施例53)黏著劑層(12)及黏著劑片(12)的製作
將所得之黏著劑組成物(18)使用塗敷器塗佈於已施以離型處理的由聚對苯二甲酸乙二酯所構成的分隔膜〔LINTEC公司取得之商品名「PLR-382190」〕的離型處理面，在100℃乾燥1分鐘，製作黏著劑層(12)。所得之黏著劑層的厚度為15μm。
將所得之黏著劑層(12)藉由積層機貼合於23μm的不含紫外線吸收劑的環烯烴膜後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下進行熟成7天，得到黏著劑片(12)。
(實施例54)黏著劑層(13)及黏著劑片(13)的製作
除將黏著劑組成物(18)變更為黏著劑組成物(19)以外，與實施例53同樣地，製作黏著劑層(13)及黏著劑片(13)。
(實施例55)黏著劑層(14)及黏著劑片(14)的製作
除將黏著劑組成物(18)變更為黏著劑組成物(20)以外，與實施例53同樣地，製作黏著劑層(14)及黏著劑片(14)。
(實施例56)黏著劑層(15)及黏著劑片(15)的製作
除將黏著劑組成物(18)變更為黏著劑組成物(21)以外，與實施例53同樣地，製作黏著劑層(15)及黏著劑片(15)。
(實施例57)黏著劑層(16)及黏著劑片(16)的製作
除將黏著劑組成物(18)變更為黏著劑組成物(22)以外，與實施例53同樣地，製作黏著劑層(16)及黏著劑片(16)。
(實施例58)黏著劑層(17)及黏著劑片(17)的製作
除將黏著劑組成物(18)變更為黏著劑組成物(23)以外，與實施例53同樣地，製作黏著劑層(17)及黏著劑片(17)。
(實施例59)黏著劑層(18)及黏著劑片(18)的製作
除將黏著劑組成物(18)變更為黏著劑組成物(24)以外，與實施例53同樣地，製作黏著劑層(18)及黏著劑片(18)。
〈黏著劑片的吸光度測定及吸光度保持率的測定〉
將所得之黏著劑片(12)裁切為30mm×30mm的大小，剝離分隔膜，並將黏著劑層(12)與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名”EAGLE XG”〕貼合，將其作為試樣(5)。對作成的試樣(5)的於波長300至800nm範圍的吸光度，每隔1nm步距使用分光光度計(UV-2450：島津製作所公司製)進行測定。將所測定的於波長400nm的吸光度，作為黏著劑片(12)於波長400nm的吸光度。結果表示於表8。再者，環烯烴膜單體及無鹼玻璃單體的波長400nm的吸光度皆為0。
將吸光度測定後的試樣(5)放入溫度63℃、相對濕度50% RH的條件的日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)150小時，實施耐候性測試。取出的試樣(5)的吸光度用與上述相同的方法測定。從測定的吸光度，根據下述式，求得於波長400nm的試樣的吸光度保持率。結果表示於表8。吸光度保持率越接近100的值，表示沒有光選擇性吸收功能的劣化，具有良好的耐候性。
而且，也求取將試樣(5)以溫度63℃、相對濕度50%RH的條件放入日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)225小時的情況之吸光度保持率。
吸光度保持率(%)=(耐候性測試後的A(400)/耐候性測試前的A(400))×100
除分別使用黏著劑片(13)至黏著劑片(18)取代黏著劑片(12)以外，同樣地測定吸光度保持率。結果表示於表8。
[表8]
Figure 109106045-A0202-12-0218-94
(實施例60)黏著劑片(19)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例53同樣地製作黏著劑片(19)。
(實施例61)黏著劑片(20)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例54同樣地製作黏著劑片(20)。
(實施例62)黏著劑片(21)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例55同樣地製作黏著劑片(21)。
(實施例63)黏著劑片(22)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例56同樣地製作黏著劑片(22)。
(實施例64)黏著劑片(23)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例57同樣地製作黏著劑片(23)。
(實施例65)黏著劑片(24)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例58同樣地製作黏著劑片(24)。
(實施例66)黏著劑片(25)的製作
除將不含紫外線吸收劑的環烯烴膜變更為23μm的含有紫外線吸收劑的環烯烴膜以外，與實施例59同樣地製作黏著劑片(25)。
〈黏著劑片的吸光度測定及吸光度保持率的測定〉
將所得之黏著劑片(19)裁切為30mm×30mm的大小，剝離分隔膜，並將黏著劑層(19)與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名”EAGLE XG”〕貼合，將其作為試樣(6)。將作成的試樣(6)的於波長300至800nm範圍的吸光度，每隔1nm步距使用分光光度計(UV-2450：島津製作所公司製)進行測定。將所測定的於波長405nm的吸光度，作為黏著劑片(19)於波長405nm的吸光度。結果表示於表9。再者，無鹼玻璃單體於波長405nm的吸光度為0。
將吸光度測定後的試樣(6)以溫度63℃、相對濕度50%RH的條件放入日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)150小時，實施耐候性測試。將取出的試樣(6)的吸光度用與上述相同的方法測定。從測定的吸光度，根據下述式，求得波長405nm的試樣的吸光度保持率。結果表示於表9。吸光度保持率越接近100的值，表示沒有光選擇性吸收功能的劣化，具有良好的耐候性。
而且，也求取將試樣(6)以溫度63℃、相對濕度50%RH的條件放入日光耐候試驗機(SUGA測試機公司製)225小時的情況之吸光度保持率。
吸光度保持率(%)=(耐候性測試後的A(405)/耐候性測試前的A(405))×100
分別使用黏著劑片(20)至黏著劑片(25)取代黏著劑片(19)，同樣地測定吸光度保持率。結果表示於表9。
[表9]
Figure 109106045-A0202-12-0221-95
本發明的光學層即使在耐候性測試後，於波長380至400nm的光吸收功能亦良好，具有良好的耐候性(耐久性)。因此，本發明的光學膜可維持因短波長的可見光造成相位差膜或有機EL元件的劣化的抑制功能。
[產業上的可利用性]
本發明的光學膜適合用於液晶面板及液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。
Figure 109106045-A0202-11-0002-197

Claims (23)

  1. 一種光學層，係由組成物所形成者，該組成物包含分子量為3000以下且為式(I)至式(VIII)之任一者表示的化合物；
    Figure 109106045-A0305-02-0225-1
    Figure 109106045-A0305-02-0226-3
     式(I)至式(VIII)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；環W2、環W3、環W4、環W5、環W6、環W7、環W8、環W9、環W10、環W11及環W12分別獨立地表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素的環結構；環W111表示具有至少2個氮原子作為構成要素的環；環W112及環W113分別獨立地表示具有至少1個氮原子作為構成要素的環； R1、R41、R51、R61、R91、R101、R111、R2、R12、R42、R52、R62、R72、R82、R92、R102及R112分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-COO-、-OCO-、-CONR13A-、-NR14A-CO-、-S-、-SO-、-CF2-或-CHF-取代；R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；R13、R23、R33、R43、R53、R63、R73、R83、R93、R103及R113分別獨立地表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A -CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A、R11A、R12A、R13A及R14A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基；R4、R14、R24、R34、R44、R54、R64、R74、R84、R94、R104、R114、R5、R15、R25、R35、R75及R85分別獨立地表示鹵原子、硝基、氰基、羧基、鹵化烷基、鹵化芳基、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、-SO2CF3、-SO2CHF2、-SO2CH2F、式(X-1)表示的基；*-X1-R222 (X-1)式(X-1)中，X1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSS-、-COS-、-CSO-、-SO2-、-NR223CO-或-CONR224-；R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基；R223及R224分別獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基；＊表示鍵結鍵；R1及R2可互相鍵結而形成脂肪族環；R41及R42可互相鍵結而形成環；R51及R52可互相鍵結而形成環；R61及R62可互相鍵結而形成環； R91及R92可互相鍵結而形成環；R101及R102可互相鍵結而形成環；R111及R112可互相鍵結而形成環；R2及R3可互相鍵結而形成環；R12及R13可互相鍵結而形成環；R42及R43可互相鍵結而形成環；R52及R53可互相鍵結而形成環；R62及R63可互相鍵結而形成環；R72及R73可互相鍵結而形成環；R82及R83可互相鍵結而形成環；R92及R93可互相鍵結而形成環；R102及R103可互相鍵結而形成環；R112及R113可互相鍵結而形成環；R4及R5可互相鍵結而形成環；R14及R15可互相鍵結而形成環；R24及R25可互相鍵結而形成環；R34及R35可互相鍵結而形成環；R74及R75可互相鍵結而形成環；R84及R85可互相鍵結而形成環；R6及R8分別獨立地表示2價連結基；R7表示單鍵或2價連結基；R9及R10分別獨立地表示3價連結基； R11表示4價連結基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、氟烷基、氟芳基、-CO-O-R222、-SO2-R222或-CO-R222，R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為硝基、氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R222或-SO2-R222，R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222，R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，選自R4及R5之至少一者為氰基。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，R4為氰基；R5為氰基、-CO-O-R222或-SO2-R222，R222表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25的烷基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，R4及R5皆為氰基。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，R1及R2分別獨立為可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基。
  9. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，環W2、環W3、環W4、環W5、環W6、環W7、環W8、環W9、環W10、環W11及環W12分別獨立為不具芳香族性的環。
  10. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，R3為硝基、氰基、鹵原子、-OCF3、-SCF3、-SF5、-SF3、氟烷基、氟芳基、-CO-O-R111A或-SO2-R112A，R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基。
  11. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其中，R3為氰基、氟原子、氯原子、-OCF3、-SCF3、氟烷基、-CO-O-R111A或-SO2-R112A，R111A及R112A分別獨立地表示可具有鹵原子的碳數1至24的烷基。
  12. 如申請專利範圍第1或2項中任一項所述之光學層，其中，R3為氰基。
  13. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，係滿足下述式(a)；A(395)≧0.5 (a)A(395)表示光學層在波長395nm的吸光度。
  14. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，係滿足下述式(b)；A(395)/A(430)≧10 (b)A(395)表示光學層在波長395nm的吸光度；A(430)表示光學層在波長430nm的吸光度。
  15. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，其膜厚為1至500μm。
  16. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，係由組成物所形成，該組成物包含：分子量為3000以下且為式(I)至式(VIII)之任一者表示的化合物；玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂；以及交聯劑；其中，玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂為選自橡膠系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂及聚矽氧系樹脂之至少一者，相對於玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂100質量份，式(I)至式(VIII)之任一者表示的化合物的含量為0.01至50質量份。
  17. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，係由組成物所形成，該組成物包含：分子量為3000以下且為式(I)至式(VIII)之任一者表示的化合物；光硬化性成分；以及光聚合起始劑；其中， 光硬化性成分為選自自由基聚合性化合物、陽離子聚合性化合物及陰離子聚合性化合物之至少一者，相對於組成物的固體成分100質量%，光硬化性成分的含量為50至99.5質量%。
  18. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學層，係由組成物所形成，該組成物包含：分子量為3000以下且為式(I)至式(VIII)之任一者表示的化合物；以及選自下述群組A的至少一種樹脂；其中，相對於樹脂100質量份，式(I)至式(VIII)之任一者表示的化合物的含量為0.01至50質量份；群組A：纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂。
  19. 一種光學積層體，包含如申請專利範圍第1項至第18項中任一項所述之光學層及偏光片。
  20. 一種圖像顯示裝置，包含如申請專利範圍第19項所述之光學積層體。
  21. 一種組成物，包含：分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂；以及交聯劑；其中，玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂為選自橡膠系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂及聚矽氧系樹脂之至少一者， 相對於玻璃轉移溫度為30℃以下的樹脂100質量份，具有式(X)表示的部分結構的化合物的含量為0.01至50質量份；
    Figure 109106045-A0305-02-0234-4
     式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基。
  22. 一種組成物，包含：分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；光硬化性成分；以及 光聚合起始劑；其中，光硬化性成分為選自自由基聚合性化合物、陽離子聚合性化合物及陰離子聚合性化合物之至少一者，相對於組成物的固體成分100質量%，光硬化性成分的含量為50至99.5質量%；
    Figure 109106045-A0305-02-0235-6
     式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代；R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基。
  23. 一種組成物，包含：分子量為3000以下且具有式(X)表示的部分結構的化合物；以及選自下述群組A的至少一種樹脂；其中，相對於樹脂100質量份，具有式(X)表示的部分結構的化合物的含量為0.01至50質量份；群組A：纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂；
    Figure 109106045-A0305-02-0236-7
     式(X)中，環W1表示具有至少1個雙鍵作為環構成要素且不具芳香族性的環結構；R3表示雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、硫醇基、羧基、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基，該脂肪族烴基或芳香族烴基所含的-CH2-或-CH=可被-O-、-S-、-NR1A-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CONR2A-、-O-CO-NR3A-、-NR4A-CO-、-NR5A-CO-O-、-NR6A-CO-NR7A-、-CO-S-、-S-CO-S-、-S-CO-NR8A-、-NR9A-CO-S-、-CS-、-O-CS-、-CS-O-、-NR10A-CS-、-NR11A-CS-S-、-S-CS-、-CS-S-、-S-CS-S-、-SO-或-SO2-取代； R1A、R2A、R3A、R4A、R5A、R6A、R7A、R8A、R9A、R10A及R11A分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基。
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