TWI830034B - 零件頂起裝置及零件安裝裝置 - Google Patents
零件頂起裝置及零件安裝裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI830034B TWI830034B TW110126899A TW110126899A TWI830034B TW I830034 B TWI830034 B TW I830034B TW 110126899 A TW110126899 A TW 110126899A TW 110126899 A TW110126899 A TW 110126899A TW I830034 B TWI830034 B TW I830034B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- wafer
- lifting
- magnet
- mentioned
- adsorption
- Prior art date
Links
- 238000009434 installation Methods 0.000 title description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims abstract description 81
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 139
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67144—Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68354—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to support diced chips prior to mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68381—Details of chemical or physical process used for separating the auxiliary support from a device or wafer
- H01L2221/68386—Separation by peeling
- H01L2221/6839—Separation by peeling using peeling wedge or knife or bar
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
本發明之零件頂起裝置藉由自貼合於晶圓片之晶圓之下方將晶粒頂起而使該晶粒自晶圓片剝離。該零件頂起裝置具備:頂起工具,其包含對晶圓片之下表面進行負壓吸附之吸附面、及頂起銷,該頂起銷以能夠自該吸附面出沒於晶圓片側之方式設置,藉由自吸附面突出而將晶粒頂起;及支持構件,其以能夠沿晶圓進行相對移動之方式設置,支持頂起工具且使之能夠裝卸。於頂起工具及支持構件之任一者側具備磁鐵,並且另一者側中之至少上述磁鐵之對向面藉由磁性材料形成。
Description
本發明係關於一種自貼合於晶圓片之晶圓拾取晶粒(裸晶片)時自晶圓片之下方將晶粒頂起而使其剝離之零件頂起裝置、及具備該零件頂起裝置之零件安裝裝置。
已知一種自切割後之晶圓拾取晶粒(裸晶片)而安裝於基板之零件安裝裝置。該零件安裝裝置中,反覆進行以下動作:晶圓相機拍攝由晶圓供給機搬入至機內之特定位置(零件配置區)之晶圓且進行晶圓識別,然後由具備晶粒保持功能之頭拾取晶粒。
零件安裝裝置中具備零件頂起裝置,該零件頂起裝置藉由自貼合於晶圓片之晶圓之下方將晶粒頂起而於晶粒拾取之前使晶粒自晶圓片剝離。零件頂起裝置具備圓柱狀之吸附殼體、及於其中心部以能夠出沒之方式設置之頂起銷,在由吸附殼體自下表面吸附晶圓片之狀態下,藉由頂起銷將晶粒自下方頂起。
晶粒之尺寸多種多樣,對於零件頂起裝置,要求使用適合晶粒尺寸之吸附殼體及頂起銷。例如專利文獻1中,揭示有一種零件頂起裝置,其具備包含吸附殼體及頂起銷之各者之稱為吸附罐之單元,該吸附罐可更換。吸附罐中組裝有夾具機構,且能夠以槓桿操作相對於特定之安裝部進行裝卸、更換。
然而,專利文獻1之零件頂起裝置中,組裝入夾具機構會相應地導致吸附殼體或頂起銷之周邊構造變得複雜。又,於具備包含吸附殼體及頂起銷之能夠移動之頭,且該頭一面相對於晶圓移動一面將晶粒頂起之類型之零件頂起裝置之情形時,認為因組裝入夾具機構而導致之頭之高重量化成為產距時間損耗之要因。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-169321號公報
本發明係鑒於上述問題而完成,其目的在於,於零件頂起裝置中,能夠以更簡單之構成變更吸附殼體或頂起銷等頂起工具。
本發明之一態樣之零件頂起裝置係藉由自貼合於晶圓片之晶圓之下方將晶粒頂起而使該晶粒自上述晶圓片剝離者,具備:頂起工具,其包含對上述晶圓片之下表面進行負壓吸附之吸附面、及頂起銷,該頂起銷以能夠自該吸附面出沒於晶圓片側之方式設置,藉由自上述吸附面突出而將上述晶粒頂起;及支持構件,其以能夠沿上述晶圓進行相對移動之方式設置,支持上述頂起工具且使之能夠裝卸;且於上述頂起工具及上述支持構件之任一者側具備磁鐵,並且另一者側中之至少上述磁鐵之對向面藉由磁性材料形成。
又,本發明之一態樣之零件安裝裝置具備:零件供給部,其供被切割後貼合於晶圓片之狀態之晶圓配置;零件移載頭,其自配置於上述零件供給部之晶圓拾取晶粒且移載至基板;及上述零件頂起裝置,其於由上述零件移載頭進行晶粒拾取時,自上述晶圓片之下方將上述晶粒頂起。
以下,一面參照隨附圖式,一面對本發明之較佳之實施方式進行詳細敍述。
[零件安裝裝置之說明]
圖1係表示本發明之實施方式之零件安裝裝置1之整體構成之俯視下之俯視圖。零件安裝裝置1係將自晶圓7切割所得之晶粒7a(零件)安裝於基板P之裝置。零件安裝裝置1包含基台2、輸送機3、頭單元4、零件供給部5(零件配置區)、晶圓供給裝置6、相機單元32U及頂起單元40。圖2係表示頭單元4、及圖1中未表示出之頂起單元40之概略立體圖。
基台2係零件安裝裝置1所具備之各種機器之搭載基底。輸送機3係以於X方向延伸之方式設置於基台2上之基板P之搬送線。輸送機3自機外將基板P搬入至特定之安裝作業位置,且於安裝作業後將基板P自上述作業位置搬出至機外。再者,圖1中示出基板P之位置為上述安裝作業位置。零件供給部5將複數個晶粒7a以自晶圓7切割下之配置狀態而供給。
頭單元4於零件供給部5拾取晶粒7a,移動至上述安裝作業位置,並且將晶粒7a安裝於基板P。頭單元4具備於上述拾取時吸附並保持晶粒7a之複數個頭4H(本發明之「零件移載頭」)。頭4H能夠進行相對於頭單元4之朝Z方向之進退(升降)移動、及繞軸之旋轉移動。於頭單元4,搭載有拍攝基板P之基板識別相機31。自基板識別相機31之拍攝圖像識別標註於基板P之基準標記,於零件安裝時進行上述位置偏移之修正。
零件安裝裝置1具備驅動機構D1,該驅動機構D1使頭單元4能夠於零件供給部5與上述安裝作業位置處所保持之基板P之間沿水平方向(X及Y方向)移動。驅動機構D1具備+X側及-X側之一對Y軸固定軌道13、第1Y軸伺服馬達14及滾珠螺桿軸15、及架設於一對上述Y軸固定軌道13間之支持框架16。滾珠螺桿軸15螺合於上述支持框架16所配備之螺母17。又,驅動機構D1具備搭載於支持框架16之省略圖示之導引構件、第1X軸伺服馬達18及滾珠螺桿軸19。上述導引構件支持頭單元4且使之能夠沿X方向移動,滾珠螺桿軸19螺合於上述頭單元4中所配備之未圖示之螺母。
藉由以上驅動機構D1之作動,頭單元4沿水平方向(X方向及Y方向)移動。亦即,藉由第1Y軸伺服馬達14而使滾珠螺桿軸15旋轉驅動,藉此,頭單元4與支持框架16一體地沿Y方向移動。又,藉由第1X軸伺服馬達18而使滾珠螺桿軸19旋轉驅動,藉此,頭單元4相對於支持框架16沿X方向移動。
零件供給部5具備將複數個晶粒7a以晶圓7之形態供給至特定之零件取出作業位置(晶圓平台10)之晶圓供給裝置6。晶圓供給裝置6包含保持晶圓片8a之晶圓保持框8。於晶圓片8a上,貼合有將晶圓7切割成柵格狀而形成之多個晶粒7a、7a…之集合體。晶圓供給裝置6以更換晶圓保持框8之態樣,將晶粒7a供給至上述零件取出作業位置。
晶圓供給裝置6包含晶圓收納升降機9、晶圓平台10及晶圓輸送機11。晶圓收納升降機9將貼合有晶圓7之晶圓片8a以保持於晶圓保持框8之狀態收納於上下多層。晶圓平台10於晶圓收納升降機9之-Y側之位置,設置於基台2上。相對於成為基板P之停止位置之上述安裝作業位置,將晶圓平台10配置於在+Y側並排之位置。晶圓輸送機11將晶圓保持框8自晶圓收納升降機9拉出至晶圓平台10上。
相機單元32U係能夠沿X方向及Y方向移動之單元,其具備晶圓相機32。晶圓相機32拍攝定位於晶圓平台10上之晶圓7之一部分、亦即相機視野內之晶粒7a。基於該拍攝圖像而進行拾取對象之晶粒7a之位置識別。零件安裝裝置1具備驅動機構D2,該驅動機構D2能夠使相機單元32U於零件供給部5與特定之待機位置之間沿水平方向(X及Y方向)移動。
驅動機構D2具備+X側及-X側之一對Y軸固定軌道33、配置於+X側之第2Y軸伺服馬達34及滾珠螺桿軸35、及架設於上述一對Y軸固定軌道33間之支持框架36。滾珠螺桿軸35螺合於支持框架36中所配備之螺母37。又,驅動機構D2具備搭載於支持框架36之省略圖示之導引構件、第2X軸伺服馬達38及滾珠螺桿軸39。上述導引構件支持相機單元32U且使之能夠沿X方向移動,滾珠螺桿軸39螺合於上述相機單元32U中所配備之未圖示之螺母。
藉由以上驅動機構D2之作動,相機單元32U沿水平方向(X及Y方向)移動。亦即,藉由第2Y軸伺服馬達34而使滾珠螺桿軸35旋轉驅動,藉此,相機單元32U與支持框架36一體地沿Y方向移動。又,藉由第2X軸伺服馬達38使滾珠螺桿軸39旋轉驅動,藉此,相機單元32U相對於支持框架36沿X方向移動。
頂起單元40配置於零件供給部5之下方,將頭4H欲吸附之晶粒7a自晶圓片8a之下表面側頂起。頂起單元40以能夠遍及與晶圓平台10對應之程度之範圍沿XY方向移動之方式配置於基台2上。零件安裝裝置1具備能夠使頂起單元40移動之驅動機構D3。
驅動機構D3具備能夠沿著於Y方向延伸之一對導引軌道41移動之支持框架42、於Y方向延伸之滾珠螺桿軸43、及第3Y軸伺服馬達44。滾珠螺桿軸43螺合於支持框架42中所配備之未圖示之螺母。X方向移動機構具備搭載於支持框架42之省略圖示之導引構件、第3X軸伺服馬達46及滾珠螺桿軸45。上述導引構件支持頂起單元40且使之能夠沿X方向移動,滾珠螺桿軸45螺合於上述頂起單元40中所配備之未圖示之螺母。
藉由以上驅動機構D3之作動,頂起單元40沿水平方向(X及Y方向)移動。亦即,藉由第3Y軸伺服馬達44而使滾珠螺桿軸43旋轉驅動,藉此,頂起單元40與支持框架42一體地沿Y方向移動。又,藉由第3X軸伺服馬達46而使滾珠螺桿軸45旋轉驅動,藉此,頂起單元40相對於支持框架42沿X方向移動。
如以下詳細敍述,頂起單元40具有2個頂起頭50A、50B,其等分別具備將晶粒7a頂起之頂起銷71(圖2中僅圖示頂起銷71)。頂起單元40於頭4H對晶粒7a進行吸附時,使頂起銷71上升,經由晶圓片8a將晶粒7a頂起。再者,本例中,上述頂起單元40及驅動機構D3相當於本發明之「零件頂起裝置」。
於基台2裝配有零件識別相機30。零件識別相機30在將吸附於頭單元4之頭4H之晶粒7a安裝於基板P之前自下側拍攝該晶粒7a。基於該拍攝圖像而判定頭4H對晶粒7a之吸附異常或誤吸附等。
以上零件安裝裝置1之基本動作如下。首先,自晶圓收納升降機9將晶圓保持框8藉由晶圓輸送機11拉出。藉此,將貼合有多個晶粒7a、7a…之集合體(晶圓7)之晶圓片8a與晶圓保持框8一起配置於晶圓平台10。
其次,相機單元32U移動至晶圓平台10之上空而拍攝晶圓7。相機單元32U之拍攝用於對其後之拾取動作中由頭4H所吸附之晶粒7a群加以識別。
晶粒7a群之拍攝完成後,一方面相機單元32U自晶圓平台10之上空進行退避移動,另一方面將頭單元4配置至晶圓平台10之上空,並將頂起單元40配置於晶圓7之下方。繼而,頭4H自晶圓7拾取利用相機單元32U之拍攝所識別之晶粒7a群。此時,頂起單元40之頂起銷71上升,經由晶圓片8a將晶粒7a頂起。
於晶粒7a拾取後,頭單元4自晶圓平台10之上空經由零件識別相機30移動至安裝作業位置之基板P之上空。藉此,將由頭4H吸附之晶粒7a安裝於基板P。
再者,於晶粒7a拾取後,若頭單元4自晶圓平台10之上空移動,則與此同步,相機單元32U朝晶圓平台10之上空進行進入移動。其後,於晶圓平台10之上空,頭單元4與相機單元32U以依序交替之方式移動,反覆進行晶粒7a之拾取及相對於基板P之安裝動作。
[頂起單元40之詳細構造]
圖3係頂起單元40之立體圖,圖4係頂起單元40之主要部分放大立體圖。又,圖5係頂起單元40中所配備之頂起頭50A、50B之立體圖,圖6係頂起頭50A、50B之剖視圖。
頂起單元40具有連結於上述驅動機構D3之基底框架47。於基底框架47,包含一對頂起頭50A、50B、切換頂起頭50A、50B之切換機構D4、使頂起頭50A、50B沿Z方向進行進退(升降)移動之第1升降機構D5、及使頂起頭50A、50B中所配備之下述頂起銷71沿Z方向進行進退(升降)移動之第2升降機構D6。
頂起頭50A、50B係於頭4H吸附晶粒7a時,經由晶圓片8a將晶粒7a頂起者。頂起頭50A、50B除下述頂起工具60之種類不同之外,基本上為相同之構造。
如圖5及圖6所示,頂起頭50A(50B)具備基底構件52、及安裝於該基底構件52之頂起工具60。頂起工具60包含用以自下方吸附晶圓片8a之吸附殼體62、及銷固持器63。銷固持器63由頂部密封之圓筒形狀之固持器本體70、及保持於其上端部之頂起銷71而構成。該頂起銷71將晶粒7a頂起。
銷固持器63中所配備之頂起銷71之數量及配置、頂起銷71之尺寸(直徑、長度)及前端形狀之最佳態樣根據晶粒7a之尺寸或形成於該晶粒7a之電路等而不同。因此,自複數種銷固持器63中選擇具備與晶粒7a對應之最佳頂起銷71之銷固持器63且組裝於頂起頭50A(50B)。
頂起頭50A(50B)具備能夠升降地支持於基底構件52之頂起主軸74。上述銷固持器63能夠裝卸地固定於該頂起主軸74之上端部。頂起主軸74為花鍵軸,其升降自如(沿Z方向移動自如)地支持於被形成在基底構件52之貫通孔55內所固定之花鍵軸承75。於頂起主軸74之上端部附近,以使該頂起主軸74稍許朝上方突出之狀態(稱為突出部74a)固定有圓筒狀之銷基底72。
銷基底72具備基底本體部72a、及積層配置於其上端之固定磁體72b。固定磁體72b為於Z方向扁平之環形狀,以上述突出部74a貫通其中心之狀態配置於基底本體部72a上,防止相對於上述突出部74a(頂起主軸74)脫離。
上述銷固持器63係於上述突出部74a插入至固持器本體70之內側,且相對於該突出部74a於圓周方向定位之狀態下,配置於銷基底72上。固持器本體70之整體、或固持器本體70中之至少與銷基底72(固定磁體72b)對向之面係由鐵等磁性材料形成。亦即,銷固持器63藉由固定磁體72b之磁力而固定於銷基底72。銷固持器63(固持器本體70)與銷基底72具有同等之外徑,於銷固持器63固定於銷基底72之狀態下,其等形成一體之圓柱形狀。
上述頂起主軸74之下端部自基底構件52朝下方突出,且於該下端部,設置有圓柱狀之從動構件76。於頂起主軸74中之從動構件76與基底構件52之下表面之間,安裝有螺旋彈簧78。藉由該螺旋彈簧78之彈力而朝下(-Z方向)對頂起主軸74施力,其結果,頂起主軸74保持在銷基底72抵接於花鍵軸承75之下降端位置(圖6之位置)。
上述吸附殼體62具備:於上端部具備吸附晶圓片8a之吸附面66之頂部密封之圓筒部65、及連設於圓筒部65之下端部之凸緣部67。吸附殼體62經由凸緣部67而安裝於基底構件52之上表面54。於基底構件52之上表面54中之上述貫通孔55之周圍突設有圓環狀之凸座部53,另一方面,於凸緣部67之下表面形成有與該凸座部53對應之凹部67b。吸附殼體62於使上述凸座部53嵌合(嵌入)至該凹部67b之狀態下配置於基底構件52之上表面54。於凸緣部67之周緣部形成有切口部67a,立設於上述上表面54之定位銷69插入至該切口部67a。藉此,吸附殼體62相對於基底構件52於圓周方向定位。
再者,於基底構件52之上表面54中之凸座部53之周圍,沿圓周方向等間隔地配置有複數個固定磁體68。該等固定磁體68以其等之上表面與基底構件52之上表面54成為同一平面之方式埋設於基底構件52。另一方面,吸附殼體62之整體、或吸附殼體62中之至少與基底構件52(固定磁體68)對向之面由鐵等磁性材料形成。亦即,吸附殼體62藉由固定磁體68之磁力而固定於基底構件52。
於吸附殼體62之圓筒部65之內部頂面與銷固持器63之固持器本體70之間,形成有容許銷固持器63升降之間隙。若頂起主軸74自上述下降端位置上升,且銷固持器63上升至抵接於圓筒部65之上述頂面之位置或其附近之位置,則頂起銷71自形成於吸附面66(頂面)之銷孔66a突出。藉由該突出而能夠使頂起銷71將晶粒7a頂起。另一方面,於將銷固持器63與頂起主軸74一起配置於下降端位置之狀態下,頂起銷71退避至銷固持器63內。再者,頂起銷71之自吸附面66之突出量根據晶粒7a之種類等而變更(設定)。
再者,本例中,基底構件52及銷基底72相當於本發明之「支持構件」。詳細而言,基底構件52相當於「基底部」,銷基底72相當於「可動部」。
頂起頭50A(50B)具備用以吸附晶圓片8a之負壓供給機構。該負壓供給機構包含配備於基底構件52下部之負壓埠部57、及形成於基底構件52內部之負壓通路56。負壓埠部57經由未圖示之管而連接於負壓產生器58(參照圖3)。負壓通路56將供給至負壓埠部57之負壓導入至上述貫通孔55內。藉此,經由貫通孔55將負壓供給至吸附殼體62(圓筒部65)之內部。
於上述吸附面66,形成有形成為同心圓狀之複數個環狀槽、及將各環狀槽與吸附殼體62內部分別連通之未圖示之開口。形成於吸附殼體62與銷固持器63之間之負壓通路通往各開口,且經由各開口將負壓供給至各環狀槽(經由各環狀槽抽吸晶圓片8a),藉此將晶圓片8a吸附於吸附面66。
如圖3及圖4所示,頂起單元40具備可動框架48,該可動框架48能夠相對於基底框架47沿X方向移動。頂起頭50A、50B以橫向排列於X方向之狀態搭載於該可動框架48。可動框架48連結於被固定在基底框架47之第1氣缸49之作動軸49a,藉由該第1氣缸49之作動,可動框架48沿X方向進退移動。若可動框架48配置於前進位置,則其中之一頂起頭50A配置於特定之作業位置Wp(圖3所示之狀態),若可動框架48配置於後退位置,則另一頂起頭50B配置於上述作業位置Wp。藉此,進行用於晶粒7a之頂起之頂起頭50A、50B之切換。藉由該等可動框架48及第1氣缸49而構成上述切換機構D4。
頂起頭50A、50B升降自如地支持於被設置在可動框架48且於Z方向延伸之一對導引軌道51。使頂起頭50A、50B升降之第1升降機構D5包含上述一對導引軌道51、第1上推構件81、第2氣缸80、及未圖示之凸輪機構。第1上推構件81能夠升降地設置於被配置在作業位置Wp之頂起頭50A(50B)之下方位置。第1上推構件81藉由利用第2氣缸80產生之凸輪機構之作動而升降,使配置於作業位置Wp之頂起頭50A(50B)於上升位置與下降位置之間升降。上升位置係吸附殼體62之吸附面66抵接或接近於被配置在晶圓平台10之晶圓保持框8之晶圓片8a之下表面之高度位置。
使頂起銷71升降之第2升降機構D6包含第2上推構件82、Z軸伺服馬達84、及傳動機構83。第2升降機構D6之各要素組裝於被固定在第1上推構件81之未圖示之支架。因此,第2升降機構D6與第1上推構件81一起升降。
第2上推構件82配置於在作業位置Wp所配置之頂起頭50A(50B)之下方且上述第1上推構件81之-Y側。第2上推構件82係具有平坦之上表面部之塊狀構件。第2上推構件82能夠升降地支持於被固定在上述支架之未圖示之導引構件,藉由Z軸伺服馬達84經由包含螺桿進給機構等之傳動機構83驅動,沿上述導引構件升降。
於第2上推構件82配置於下降端位置之狀態下,如圖6所示,其上表面與配置於作業位置Wp之頂起頭50A(50B)之頂起主軸74之從動構件76之下表面隔著微小之間隙對向。若第2上推構件82上升,則頂起主軸74會隨之抵抗螺旋彈簧78之作用力而被上推,銷固持器63(頂起銷71)隨著該頂起主軸74的上升而一起上升,頂起銷71自吸附殼體62之上述銷孔66a突出。其後,若第2上推構件82下降,則頂起主軸74隨之承受著螺旋彈簧78之作用力而下降,重設於原先之下降端位置。藉此,頂起銷71退避至吸附殼體62內。
再者,圖3中之符號58為固定於上述基底框架47之負壓產生器。負壓產生器58經由未圖示之配管而與頂起頭50A、50B之負壓埠部57連接。負壓產生器58對頂起頭50A、50B進行晶圓片吸附用之負壓供給及負壓供給停止(大氣開放)的切換。
[頂起單元40之動作與作用效果]
圖7(A)~(C)係頂起頭50A、50B對晶粒7a之頂起動作之說明圖。再者,圖7中,省略了晶粒7a(晶圓7)之圖示。如上所述,頂起單元40於自晶圓7拾取晶粒7a時,頭4H配置於晶圓7之下方且經由晶圓片8a將晶粒7a頂起。頂起單元40之具體動作如下。
首先,將二個頂起頭50A、50B中之用於頂起晶粒7a之頂起頭藉由切換機構D4之作動而配置於作業位置Wp。又,頂起單元40藉由上述驅動機構D3之作動而移動,將配置於作業位置Wp之頂起頭50A(50B)配置於欲頂起之晶粒7a之下方(圖7(A))。
其次,藉由第1升降機構D5之作動,配置於作業位置Wp之頂起頭50A(50B)上升(圖7(B))。藉此,吸附殼體62之吸附面66抵接或接近於晶圓片8a之下表面,藉由該吸附面66對晶圓片8a進行負壓吸附。該負壓吸附係與頂起頭50A(50B)到達上升端位置之時點大致同時(與吸附面66抵接或接近於晶圓片8a之下表面同時)進行。
繼而,藉由第2升降機構D6之作動,銷固持器63與頂起主軸74一起升降。藉此,頂起銷71自吸附殼體62(吸附面66)突出,貫通晶圓片8a而將晶粒7a頂起(圖7(C))。該情形時,頂起銷71(銷固持器63)之升降係與吸附殼體62對晶圓片8a之吸附同時或在較其稍滯後之時點進行。又,關於升降之態樣,以頂起銷71之上升與下降連續地進行之態樣、或頂起銷71上升後暫時停留於該位置之後下降之態樣之任一態樣進行。
若晶粒7a之拾取結束,則將頂起銷71(銷固持器63)重設於下降端位置,並且停止自負壓產生器58之負壓供給。該狀態下,頂起單元40藉由上述驅動機構D3之作動而移動,其次將頂起頭50A(50B)配置於欲頂起之晶粒7a之下方位置。亦即,頂起單元40以使吸附殼體62之吸附面66沿晶圓片8a之下表面滑動、且沿晶圓片8a之下表面接近之狀態移動。
其後,對晶圓片8a進行負壓吸附,頂起銷71(銷固持器63)藉由第2升降機構D6之作動而升降,將下一個晶粒7a頂起之後(圖7(C)),停止對晶圓片8a之負壓吸附。其後,以相同之方式反覆進行上述晶粒7a之頂起動作。
再者,上述頂起單元40中,將適於欲頂起之晶粒7a之頂起工具60組裝進頂起頭50A、50B,但要求根據晶圓7之變更等需要而更換各頂起頭50A(50B)之頂起工具60。該情形時,由於頂起工具60包含吸附殼體62與銷固持器63,故需對其等進行更換。
上述頂起單元40中,如上所述,吸附殼體62藉由固定磁體68固定於基底構件52。又,銷固持器63亦藉由固定磁體72b固定於銷基底72。因此,操作員僅將吸附殼體62及銷固持器63依此順序自基底構件52等上提而卸下,且將新的吸附殼體62及銷固持器63按相反順序設置於原先之位置,藉此便可簡單地更換頂起工具60而不特別使用工具。
該情形時,固定磁體68、72b之吸附力均於5~30 N之範圍內設定。該吸附力之範圍係試驗性地設定為能夠兼顧吸附殼體62及銷固持器63之吸附穩定性、與操作員之人工作業下之裝卸作業性的範圍。因此,操作員可將吸附殼體62或銷固持器63分別以一次完成之方式輕鬆地更換。
由此,根據上述頂起單元40之構成,相比於具備頂起工具更換用之夾具機構之先前構造(專利文獻1),能夠以簡單之構成進行頂起工具60(吸附殼體62及銷固持器63)之變更。而且,基本上為僅將固定磁體68、72b組裝進基底構件52之構成,故並未導致頂起頭50A(50B)之顯著之重量增大。因此,亦不會帶來因頂起頭50A(50B)之重量增加而於頂起單元40移動時易產生時間損耗之弊端。
進而,用以固定頂起工具60(吸附殼體62及銷固持器63)之固定磁體68、72b僅配置於基底構件52及銷基底72側。因此,可使固定磁體68、72b相對於複數種頂起工具60共通化,構成較為合理。
再者,上述說明中雖未提及,但上述頂起單元40中,將固定吸附殼體62之固定磁體68之磁極之方向、與固定銷固持器63之固定磁體72b之磁極之方向設定為相同。亦即,使固定磁體68與固定磁體72b之間反彈力不起作用。具體而言,如圖8所示,於固定磁體72b(銷固持器磁體)之上表面側為N極之情形時,將固定磁體68(吸附殼體磁體)之上表面側亦設定為N極(組合1)。又,於固定磁體72b之上表面側為S極之情形時,將固定磁體68之上表面側亦設定為S極(組合2)。
根據該構成,可避免因上述反彈力而產生如下之不良。如上所述,於頂起頭50A、50B移動至同一晶圓7之下一個晶粒7a之位置時,使吸附殼體62之吸附面66沿晶圓片8a之下表面滑動或接近於晶圓片8a之下表面而移動(圖7(B))。此時,上述頂起單元40中,固定銷固持器63之固定磁體72b(第2磁鐵)之位置位於固定吸附殼體62之固定磁體68(第1磁鐵)之位置之上方,故若上述反彈力發揮作用,則可引起吸附殼體62抵抗螺旋彈簧78之彈力而上升。該情形時,認為頂起銷71意外地自吸附殼體62突出而損傷晶圓片8a。關於該點,根據兩固定磁體68、72b之磁極方向相同之上述頂起單元40之構成,並無產生上述反彈力之餘地,從而可避免產生如上所述之不良。
以上說明之零件安裝裝置1為應用本發明之零件頂起裝置之零件安裝裝置之較佳實施方式之例示,其具體構成或零件頂起裝置之具體構成可於不脫離本發明之主旨之範圍適當變更。例如,亦可採用如下構成。
例如,實施方式中,用以固定頂起工具60(吸附殼體62及銷固持器63)之固定磁體68、72b配置於基底構件52及基底本體部72a側。然而,固定磁體68、72b亦可設置於頂起工具60(吸附殼體62及銷固持器63)側,亦可設置於上述兩者。例如,亦考慮到根據吸附殼體62(吸附面66)之尺寸而改變吸附力為較佳之情形,故該情形時,亦可於吸附殼體62側配備固定磁體68。此點對於銷固持器63與固定磁體72b之關係亦相同。
又,實施方式中,固定吸附殼體62之固定磁體68等間隔地設置於基底構件52之上表面54之凸座部53周圍,固定銷固持器63之固定磁體72b設置成環狀。然而,關於固定磁體68、72b之具體態樣,只要可以能夠裝卸之方式固定吸附殼體62或銷固持器63,則亦可為其他態樣。然而,如實施方式般,根據於頂起工具60之頂起中心之周圍以等間隔斷續地或呈環狀連續地設置有固定磁體之構成,有如下優點,即,可使磁力以良好的平衡作用於頂起工具60(吸附殼體62及銷固持器63),從而將該頂起工具60穩定地固定。
又,實施方式中,對將本發明之零件頂起裝置應用於零件安裝裝置之例進行了說明,但本發明之零件頂起裝置例如可應用於將自晶圓切下之晶粒收容於帶之編帶裝置、或將上述晶粒安裝於基板之零件安裝裝置等各種裝置。
[上述實施方式中包含之發明]
本發明之一態樣之零件頂起裝置係藉由自貼合於晶圓片之晶圓之下方將晶粒頂起而使該晶粒自上述晶圓片剝離者,且具備:頂起工具,其包含對上述晶圓片之下表面進行負壓吸附之吸附面、及頂起銷,該頂起銷以能夠自該吸附面出沒於晶圓片側之方式設置,藉由自上述吸附面突出而將上述晶粒頂起;及支持構件,其以能夠沿上述晶圓進行相對移動之方式設置,支持上述頂起工具且使之能夠裝卸;且於上述頂起工具及上述支持構件之任一者側具備磁鐵,並且另一者側中之至少上述磁鐵之對向面藉由磁性材料形成。
根據該零件頂起裝置之構成,與具備專用夾具機構之先前構造相比,能夠以簡單之構成進行頂起工具之變更(更換)。
上述零件頂起裝置中,更具體而言,上述支持構件包含基底部、及相對於該基底部進行相對升降之可動部,上述頂起工具具備:中空之吸附殼體,其於上端具備上述吸附面,能夠裝卸地支持於上述基底部;及銷固持器,其保持著上述頂起銷而配置於上述殼體之內部,能夠裝卸地支持於上述可動部,並與該可動部一起升降;且於上述吸附殼體及上述基底部中之任一者側具備上述磁鐵,並且另一者側中之至少該磁鐵之對向面藉由上述磁性材料形成,於上述銷固持器及上述可動部中之任一者側具備上述磁鐵,並且另一者側中之至少該磁鐵之對向面藉由上述磁性材料形成。
該零件頂起裝置能夠以簡單之構成變更(更換)作為頂起工具配備之複數個構件、即吸附殼體與銷固持器。
上述零件頂起裝置中,較理想為於上述支持構件側具備上述磁鐵。
根據該構成,使磁鐵相對於複數個頂起工具(吸附殼體及銷固持器)共通化,故成為合理之構成。
再者,於上述支持構件包含上述基底部與上述可動部,上述頂起工具具備上述吸附殼體與上述銷固持器之情形時,且該零件頂起裝置之構成為於上述銷固持器與上述可動部一起相對於上述吸附殼體下降之狀態下,相對於使上述吸附殼體固定於上述基底部之磁鐵即第1磁鐵,將使上述銷固持器固定於上述可動部之磁鐵即第2磁鐵配置於上方之情形時,較佳為上述第1磁鐵及上述第2磁鐵之磁極方向相同。
根據該構成,可避免反彈力(排斥力)作用於兩磁鐵之間而妨礙銷固持器之適當之動作,亦即,可避免銷固持器意外上升而使頂起銷突出。
再者,上述零件頂起裝置中,較佳為上述磁鐵等間隔且斷續地、或呈環狀連續地設置於上述頂起工具之頂起中心之周圍。
根據該構成,可使磁力以良好的平衡作用於頂起工具,從而將頂起工具穩定地固定。
又,上述零件頂起裝置中,較佳為上述磁鐵對上述頂起工具之吸附力為5~30 N之範圍內。
根據該構成,能夠兼顧頂起工具之吸附穩定性、與操作員之人工作業下之頂起工具之裝卸作業性。
另一方面,本發明之一態樣之零件安裝裝置具備:零件供給部,其供被切割後貼合於晶圓片之狀態之晶圓配置;零件移載頭,其自配置於上述零件供給部之晶圓拾取晶粒且移載至基板;及上述態樣中任一態樣之零件頂起裝置,其於由上述零件移載頭進行晶粒拾取時,自上述晶圓片之下方將上述晶粒頂起。
根據該零件安裝裝置之構成,具備如上所述之零件頂起裝置,故能夠以簡單之構成進行頂起工具之變更(更換)。
1:零件安裝裝置
2:基台
3:輸送機
4:頭單元
4H:頭
5:零件供給部
6:晶圓供給裝置
7:晶圓
7a:晶粒
8:晶圓保持框
8a:晶圓片
9:晶圓收納升降機
10:晶圓平台
11:晶圓輸送機
13:Y軸固定軌道
14:第1Y軸伺服馬達
15:滾珠螺桿軸
16:支持框架
17:螺母
18:第1X軸伺服馬達
19:滾珠螺桿軸
30:零件識別相機
31:基板識別相機
32:晶圓相機
32U:相機單元
33:Y軸固定軌道
34:第2Y軸伺服馬達
35:滾珠螺桿軸
36:支持框架
37:螺母
38:第2X軸伺服馬達
39:滾珠螺桿軸
40:頂起單元
41:導引軌道
42:支持框架
43:滾珠螺桿軸
44:第3Y軸伺服馬達
45:滾珠螺桿軸
46:第3X軸伺服馬達
47:基底框架
48:可動框架
49:第1氣缸
49a:作動軸
50A:頂起頭
50B:頂起頭
51:導引軌道
52:基底構件
53:凸座部
54:上表面
55:貫通孔
56:負壓通路
57:負壓埠部
58:負壓產生器
60:頂起工具
62:吸附殼體
63:銷固持器
65:圓筒部
66:吸附面
66a:銷孔
67:凸緣部
67a:切口部
67b:凹部
68:固定磁體
69:定位銷
70:固持器本體
71:頂起銷
72:銷基底
72a:基底本體部
72b:固定磁體
74:頂起主軸
74a:突出部
75:花鍵軸承
76:從動構件
78:螺旋彈簧
80:第2氣缸
81:第1上推構件
82:第2上推構件
83:傳動機構
84:Z軸伺服馬達
D1:驅動機構
D2:驅動機構
D3:驅動機構
D4:切換機構
D5:第1升降機構
D6:第2升降機構
P:基板
Wp:作業位置
圖1係表示本發明之實施方式之零件安裝裝置(具備本發明之零件頂起裝置之零件安裝裝置)之整體構成之俯視下之俯視圖。
圖2係表示頭單元及頂起單元之概略立體圖。
圖3係頂起單元之立體圖。
圖4係頂起單元之主要部分放大立體圖。
圖5係頂起頭之立體圖。
圖6係頂起頭之剖視圖。
圖7(A)~(C)係頂起頭對晶粒之頂起動作之說明圖。
圖8係表示吸附殼體之固定磁體與吸附殼體之固定磁體之磁極之關係之圖表。
50A:頂起頭
50B:頂起頭
52:基底構件
53:凸座部
54:上表面
55:貫通孔
56:負壓通路
57:負壓埠部
60:頂起工具
62:吸附殼體
63:銷固持器
65:圓筒部
66:吸附面
66a:銷孔
67:凸緣部
67a:切口部
67b:凹部
68:固定磁體
69:定位銷
70:固持器本體
71:頂起銷
72:銷基底
72a:基底本體部
72b:固定磁體
74:頂起主軸
75:花鍵軸承
76:從動構件
78:螺旋彈簧
82:第2上推構件
Claims (7)
- 一種零件頂起裝置,其係藉由自貼合於晶圓片之晶圓之下方將晶粒頂起而使該晶粒自上述晶圓片剝離者,且具備: 頂起工具,其包含對上述晶圓片之下表面進行負壓吸附之吸附面、及頂起銷,該頂起銷以能夠自該吸附面出沒於晶圓片側之方式設置,藉由自上述吸附面突出而將上述晶粒頂起;及 支持構件,其以能夠沿上述晶圓進行相對移動之方式設置,支持上述頂起工具且使之能夠裝卸;且 於上述頂起工具及上述支持構件之任一者側具備磁鐵,並且另一者側中之至少上述磁鐵之對向面藉由磁性材料形成。
- 如請求項1之零件頂起裝置,其中 上述支持構件包含基底部、及相對於該基底部進行相對升降之可動部, 上述頂起工具具備: 中空之吸附殼體,其於上端具備上述吸附面,能夠裝卸地支持於上述基底部;及 銷固持器,其保持著上述頂起銷而配置於上述殼體之內部,能夠裝卸地支持於上述可動部,並與該可動部一起升降;且 於上述吸附殼體及上述基底部中之任一者側具備上述磁鐵,並且另一者側中之至少該磁鐵之對向面藉由上述磁性材料形成, 於上述銷固持器及上述可動部中之任一者側具備上述磁鐵,並且另一者側中之至少該磁鐵之對向面藉由上述磁性材料形成。
- 如請求項1或2之零件頂起裝置,其中 於上述支持構件側具備上述磁鐵。
- 如請求項3之零件頂起裝置,其中 上述支持構件包含上述基底部與上述可動部,上述頂起工具具備上述吸附殼體與上述銷固持器, 該零件頂起裝置構成為,於上述銷固持器與上述可動部一起相對於上述吸附殼體下降之狀態下,相對於使上述吸附殼體固定於上述基底部之磁鐵即第1磁鐵,將使上述銷固持器固定於上述可動部之磁鐵即第2磁鐵配置於上方, 關於上述第1磁鐵及上述第2磁鐵,其等之磁極之方向相同。
- 如請求項1或2之零件頂起裝置,其中 上述磁鐵等間隔且斷續地、或呈環狀連續地設置於上述頂起工具之頂起中心之周圍。
- 如請求項1或2之零件頂起裝置,其中 上述磁鐵對上述頂起工具之吸附力為5~30 N之範圍內。
- 一種零件安裝裝置,其具備: 零件供給部,其供被切割後貼合於晶圓片之狀態之晶圓配置; 零件移載頭,其自配置於上述零件供給部之晶圓拾取晶粒且移載至基板;及 如請求項1或2之零件頂起裝置,其於由上述零件移載頭進行晶粒拾取時,自上述晶圓片之下方將上述晶粒頂起。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
WOPCT/JP2021/018640 | 2021-05-17 | ||
PCT/JP2021/018640 WO2022244071A1 (ja) | 2021-05-17 | 2021-05-17 | 部品突上げ装置及び部品実装装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202247317A TW202247317A (zh) | 2022-12-01 |
TWI830034B true TWI830034B (zh) | 2024-01-21 |
Family
ID=84141374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110126899A TWI830034B (zh) | 2021-05-17 | 2021-07-22 | 零件頂起裝置及零件安裝裝置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2022244071A1 (zh) |
KR (1) | KR20230158099A (zh) |
CN (1) | CN117280453A (zh) |
DE (1) | DE112021007307T5 (zh) |
TW (1) | TWI830034B (zh) |
WO (1) | WO2022244071A1 (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201934693A (zh) * | 2018-02-02 | 2019-09-01 | 南韓商Lg化學股份有限公司 | 用於半導體之黏著膜 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5825706B2 (ja) | 2011-02-10 | 2015-12-02 | 富士機械製造株式会社 | ダイ供給装置 |
JP5572241B2 (ja) * | 2013-04-04 | 2014-08-13 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
KR101585316B1 (ko) * | 2014-01-29 | 2016-01-13 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝팅 장치 |
-
2021
- 2021-05-17 WO PCT/JP2021/018640 patent/WO2022244071A1/ja active Application Filing
- 2021-05-17 CN CN202180097917.6A patent/CN117280453A/zh active Pending
- 2021-05-17 DE DE112021007307.9T patent/DE112021007307T5/de active Pending
- 2021-05-17 JP JP2023522019A patent/JPWO2022244071A1/ja active Pending
- 2021-05-17 KR KR1020237035708A patent/KR20230158099A/ko unknown
- 2021-07-22 TW TW110126899A patent/TWI830034B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201934693A (zh) * | 2018-02-02 | 2019-09-01 | 南韓商Lg化學股份有限公司 | 用於半導體之黏著膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230158099A (ko) | 2023-11-17 |
WO2022244071A1 (ja) | 2022-11-24 |
DE112021007307T5 (de) | 2024-01-25 |
TW202247317A (zh) | 2022-12-01 |
JPWO2022244071A1 (zh) | 2022-11-24 |
CN117280453A (zh) | 2023-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101666276B1 (ko) | 콜릿 및 다이 본더 | |
JP4333769B2 (ja) | チップ実装装置およびチップ実装装置における剥離促進ヘッドの交換方法 | |
JP5494588B2 (ja) | 電子部品実装装置用の下受けピンモジュールおよび基板下受け装置ならびに基板下受け方法 | |
JP5445534B2 (ja) | 電子部品実装装置および電子部品実装方法ならびに下受けピンモジュールの配置変更方法 | |
JP5941701B2 (ja) | ダイボンダ | |
JP6239364B2 (ja) | 真空チャック装置および同真空チャック装置を備えた立形精密加工機並びにダイシング装置 | |
KR20170039836A (ko) | 다이 본딩 장치 | |
TWI830034B (zh) | 零件頂起裝置及零件安裝裝置 | |
JP5186358B2 (ja) | 吸着ヘッドおよび部品移載装置 | |
KR102127695B1 (ko) | 반도체 다이 분리장치 | |
KR20220044410A (ko) | 유지 기구 | |
KR20140082417A (ko) | 서로 다른 픽업 방식의 픽업 툴 교체가 용이한 모터 캠 방식의 픽업장치 | |
JP4415326B2 (ja) | ボールマウント装置 | |
JP2008153457A (ja) | バックアップピンのセッティング作業用治具、基板支持装置、表面実装機、クリーム半田印刷装置、基板検査装置及びバックアップピンのセッティング方法 | |
JPH033712A (ja) | プリント基板穴明機による穴明け方法 | |
JP4147368B2 (ja) | マウントヘッド | |
JP7300040B2 (ja) | 作業ヘッド | |
CN218657986U (zh) | 用于数控加工设备的上下料装置及数控加工设备 | |
JP7194034B2 (ja) | 支持ピン及びそれを備える基板処理機 | |
JP2021077686A (ja) | ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置 | |
JP2008277612A (ja) | チップ移送装置 | |
KR200201149Y1 (ko) | 표면실장기의 헤드 | |
JP2023002052A (ja) | ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置 | |
JP2022183724A (ja) | ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置 | |
JPH11243103A (ja) | 導電性ボールの搭載装置および搭載方法 |