JP5572241B2 - 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 - Google Patents
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Description
ディスペンサのノズルから吐出させたダイボンディング用のペーストを実装ベース上に供給した後、前記実装ベース上に前記ペーストを介して半導体チップを実装する工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記ディスペンサは、吸入ポートと吐出ポートとを備えたブロックと、前記ブロック上に固定され、前記ブロックに接する下面と前記下面に対抗する上面とを備えたシールディスクと、前記シールディスクの前記上面に当接して摺動回転する下面を備えると共に、その上下面を貫通するプランジャ挿入孔を備えたバルブディスクと、上下方向に移動可能に支持されると共に、その一部が前記バルブディスクの前記プランジャ挿入孔に挿入されるプランジャとを備え、
前記シールディスクは、前記ブロックの前記吸入ポートに連通される吸入孔と、前記ブロックの前記吐出ポートに連通される吐出孔とを備え、
前記シールディスクの前記上面には、前記吸入孔に接続される吸入溝と、前記吐出孔に接続される吐出溝とが形成され、
前記シールディスクの前記吸入溝は、前記シールディスクの上面において、前記吐出溝の周囲全体を囲むように形成されている。
(a)半導体ウエハの裏面にダイシングフィルムを貼り付ける工程と、
(b)前記工程(a)の後、前記半導体ウエハをダイシングすることによって、前記半導体ウエハを複数個の半導体チップに分割する工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記ダイシングフィルムの裏面をピックアップ手段で突き上げることによって、前記半導体チップを前記ダイシングフィルムから剥離する工程と、
(d)ディスペンサのノズルから吐出させたダイボンディング用のペーストを実装ベース上に供給する工程と、
(e)前記工程(c)でピックアップされた前記半導体チップを、前記ペーストを介して前記実装ベース上に実装する工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記ディスペンサは、吸入ポートと吐出ポートとを備えたブロックと、前記ブロック上に固定され、前記ブロックに接する下面と前記下面に対抗する上面とを備えたシールディスクと、前記シールディスクの前記上面に当接して摺動回転する下面を備えると共に、その上下面を貫通するプランジャ挿入孔を備えたバルブディスクと、上下方向に移動可能に支持されると共に、その一部が前記バルブディスクの前記プランジャ挿入孔に挿入されるプランジャとを備え、
前記シールディスクは、前記ブロックの前記吸入ポートに連通される吸入孔と、前記ブロックの前記吐出ポートに連通される吐出孔とを備え、
前記シールディスクの前記上面には、前記吸入孔に接続される吸入溝と、前記吐出孔に接続される吐出溝とが形成され、
前記シールディスクの前記吸入溝は、前記シールディスクの上面において、前記吐出溝の周囲全体を囲むように形成されている。
(a)半導体ウエハの裏面にダイシングフィルムを貼り付ける工程と、
(b)前記工程(a)の後、前記半導体ウエハをダイシングすることによって、前記半導体ウエハを複数個の半導体チップに分割する工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記ダイシングフィルムの裏面をピックアップ手段で突き上げることによって、前記半導体チップを前記ダイシングフィルムから剥離する工程とを含む半導体装置の製造方法であって、
前記ピックアップ手段は、前記ダイシングフィルムの裏面に接する先端部を有する複数本の針と、前記複数本の針の後端部を固定する磁石と、前記針の直径よりも僅かに大きい内径を有する複数の貫通孔を備え、前記複数の貫通孔のそれぞれに挿入された前記針を姿勢制御する針ホルダとを有し、
前記工程(c)は、前記ダイシングフィルムの裏面を前記複数本の針で突き上げる第1の工程と、前記第1の工程の後、前記ダイシングフィルムの裏面を、前記複数本の針の一部でさらに突き上げる第2の工程とを含んでいる。
本発明の実施の形態1である半導体装置の製造方法を図1〜図21を用いて工程順に説明する。
前記実施の形態1では、主としてダイアタッチフィルム4を用いたチップ1のダイボンディング方法について説明したが、本実施の形態では、ペーストを用いたチップ1のダイボンディング方法について説明する。
1A 半導体ウエハ
1A’ チップ領域
3 バックグラインドテープ
4 ダイアタッチフィルム
5 ダイシングテープ
6 ウエハリング
7 ダイシングブレード
10 ピックアップ装置
11 支持リング
12 エキスパンドリング
13 吸着駒
15 ピックアップユニット
16 針
17 永久磁石
18 磁石ホルダ
19 貫通穴
20 針ホルダ
21 溝
22 ピン
23 ガイド穴
24 押さえ板
25 ホルダ
26 ゴムチューブ
27、28 ブロック
29 フランジ
30 吸引口
31 長溝
33 吸着コレット
34 吸着口
35 コレット駆動部
40、41 配線基板
50 ディスペンサ
51 シールディスク
52 吸入孔
53 吐出孔
54 吸入溝
55 吐出溝
56 エッジ
57 ペースト
60 ディスペンサ
61 主筒
62 キャップ
63 ブロック
64 吸入ポート
65 吐出ポート
66 ノズル
67 液送チューブ
68 シリンジ
69 シールディスク
70 吸入孔
71 吐出孔
72 吸入溝
73 吐出溝
74 バルブディスク
75 プランジャ挿入孔
76 プランジャ
Claims (4)
- (a)半導体ウエハの裏面にダイアタッチフィルムとダイシングフィルムとを貼り付ける工程と、
(b)前記工程(a)の後、前記半導体ウエハと前記ダイアタッチフィルムとをダイシングすることによって、前記半導体ウエハを複数個の半導体チップに分割する工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記ダイシングフィルムをその中心から周辺方向に第1の張力で引っ張ることによって、前記ダイアタッチフィルムを半導体チップ単位で切断する工程と、
(d)前記工程(c)の後、前記ダイシングフィルムをその中心から周辺方向に、前記第1の張力よりも小さい第2の張力で引っ張りながら、前記ダイシングフィルムの裏面をピックアップ手段で突き上げることによって、前記半導体チップを前記ダイアタッチフィルムと共に前記ダイシングフィルムから剥離する工程とを含む半導体装置の製造方法であって、
前記ピックアップ手段は、前記ダイシングフィルムの裏面に接する先端部を有する複数本の針と、前記複数本の針の後端部を固定する一つの磁石と、前記針の直径よりも僅かに大きい内径を有する複数の貫通孔を備え、前記複数の貫通孔のそれぞれに挿入された前記針の姿勢を制御する針ホルダとを有する突き上げ手段を用い、
前記複数本の針の後端部は、磁性体からなり、前記一つの磁石に吸引され、
剥離対象の前記半導体チップは、前記ダイシングフィルムと前記ダイアタッチフィルムを介して、前記複数本の針で同時に突き上げられることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記ピックアップ手段に装着する前記針の本数は、前記半導体チップのサイズに応じて増減されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- ダイシングフィルムに接着された複数個の半導体チップの内の、剥離対象の前記半導体チップを複数本の針で同時に突き上げるピックアップ手段を備えた半導体製造装置であって、
前記ピックアップ手段は、前記剥離対象の前記半導体チップに対応して、前記ダイシングフィルムの裏面に接する先端部を有する前記複数本の針と、前記複数本の針の後端部を固定する一つの磁石と、前記針の直径よりも僅かに大きい内径を有する複数の貫通孔を備え、前記複数の貫通孔のそれぞれに挿入された前記針の姿勢を制御する針ホルダとを有することを特徴とする半導体製造装置。 - 前記ピックアップ手段に装着する前記針の本数は、前記半導体チップのサイズに応じて増減されることを特徴とする請求項3記載の半導体製造装置。
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