TWI820690B - 功率模組及其製造方法 - Google Patents

Abstract

一種功率模組及其製造方法。所述功率模組包括絕緣基板、第一導電層、第二導電層、第一熱介面材料層、第三導電層、第一晶片、第二晶片以及導熱層。所述絕緣基板具有彼此相對的第一表面與第二表面。所述第一導電層與所述第二導電層設置於所述第一表面上且彼此電性分離。所述第一熱介面材料層設置於所述第一導電層上。所述第三導電層設置於所述第一熱介面材料層上。所述第一晶片設置於所述第三導電層上，且與所述第三導電層電性連接。所述第二晶片設置於所述第二導電層上，且與所述第二導電層電性連接。所述導熱層設置於所述第二表面上。

Description

功率模組及其製造方法

本發明是有關於一種功率模組及其製造方法。

一般來說，為了提高功率元件的功率密度並達成低成本的需求，將多個半導體元件結合在一個封裝結構中以形成功率模組（power module），藉此在小體積的封裝結構下提供高輸出功率。

此外，隨著功率的增加，電流與電壓提升，且並聯晶片的需求也隨之增加。如此一來，電流路徑拉長，除了使得元件佈局面積大幅增加，也導致寄生電感提高，進而影響了元件效能。

本發明的功率模組包括絕緣基板、第一導電層、第二導電層、第一熱介面材料層、第三導電層、第一晶片、第二晶片以及導熱層。所述絕緣基板具有彼此相對的第一表面與第二表面。所述第一導電層與所述第二導電層設置於所述第一表面上且彼此電性分離。所述第一熱介面材料層設置於所述第一導電層上。所述第三導電層設置於所述第一熱介面材料層上。所述第一晶片設置於所述第三導電層上，且與所述第三導電層電性連接。所述第二晶片設置於所述第二導電層上，且與所述第二導電層電性連接。所述導熱層設置於所述第二表面上。

本發明的功率模組的製造方法包括以下步驟。提供具有彼此相對的第一表面與第二表面的絕緣基板。於所述第一表面上形成第一導電層與第二導電層，其中所述第一導電層與所述第二導電層彼此電性分離。於所述第二表面上形成導熱層。於所述第一導電層上依序形成第一熱介面材料層與第三導電層。於所述第三導電層上形成第一晶片，其中所述第一晶片與所述第三導電層電性連接。於所述第二導電層上形成第二晶片，其中所述第二晶片與所述第二導電層電性連接。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合附圖作詳細說明如下。

下文列舉實施例並配合附圖來進行詳細地說明，但所提供的實施例並非用以限制本發明所涵蓋的範圍。此外，附圖僅以說明為目的，並未依照原尺寸作圖。為了方便理解，在下述說明中相同的元件將以相同的符號標示來說明。

關於本文中所提到「包含」、「包括」、「具有」等的用語均為開放性的用語，也就是指「包含但不限於」。

當以「第一」、「第二」等的用語來說明元件時，僅用於將這些元件彼此區分，並不限制這些元件的順序或重要性。因此，在一些情況下，第一元件亦可稱作第二元件，第二元件亦可稱作第一元件，且此不偏離本發明的範疇。

此外，在本文中，由「一數值至另一數值」表示的範圍是一種避免在說明書中逐一列舉所述範圍中的所有數值的概要性表示方式。因此，某一特定數值範圍的記載涵蓋了所述數值範圍內的任意數值，以及涵蓋由所述數值範圍內的任意數值界定出的較小數值範圍。

圖1A至圖1C為本發明第一實施例的功率模組的製造流程剖面示意圖。首先，參照圖1A，提供絕緣基板100。絕緣基板100具有彼此相對的第一表面100a與第二表面100b。在本實施例中，絕緣基板100為陶瓷基板。絕緣基板100可用以承載晶片，並將晶片在運作時產生的熱傳導出來。然後，於絕緣基板100的第一表面100a上形成彼此電性分離的第一導電層102與第二導電層104，以及於絕緣基板100的第二表面100b上形成導熱層106。第一導電層102與第二導電層104作為絕緣基板100上的線路圖案。在本實施例中，第一導電層102與第二導電層104可為金屬層，例如銅層，但本發明實施例不限於此。在本實施例中，導熱層106可為金屬層，例如銅層，但本發明實施例不限於此。在一些實施例中，導熱層106除了導熱之外，還可視實際需求而作為電極層。

在本實施例中，絕緣基板100的厚度例如介於0.385 mm至0.635 mm之間，且絕緣基板100、第一導電層102、第二導電層104與導熱層106構成覆銅陶瓷（direct bonded cooper，DBC）基板。在其他實施例中，覆銅陶瓷基板也可以鍍銅陶瓷基板（direct plated copper，DPC）基板來替代。

接著，參照圖1B，於第一熱介面材料層108上壓合第三導電層110。在本實施例中，第一熱介面材料層108的材料可以是矽、氧化矽、氧化鋁、氮化鋁、氮化硼或其組合。第一熱介面材料層108的厚度例如介於100 μm至150 μm之間。第一熱介面材料層108的熱傳導係數例如介於3 W/mK至15 W/mK之間，甚至更高。此外，在本實施例中，第三導電層110可為金屬層，例如銅層，但本發明實施例不限於此。在本實施例中，將第三導電層110壓合至第一熱介面材料層108的壓合溫度不超過120 °C。第一熱介面材料層108與第三導電層110構成絕緣金屬基板（insulating metal substrate，IMS）。此外，與一般的絕緣金屬基板不同，在本實施例中，第一熱介面材料層108的僅一個表面上壓合有導電層，因此本實施例的絕緣金屬基板可具有較薄的厚度。

然後，將本實施例的絕緣金屬基板壓合至絕緣基板100。詳細地說，在本實施例中，以第一熱介面材料層108朝向絕緣基板100的第一表面100a的方式，將第一熱介面材料層108壓合至第一導電層102上。在本實施例中，將第一熱介面材料層108壓合至第一導電層102的壓合溫度不超過160 °C。

之後，參照圖1C，於第三導電層110上形成第一晶片112以及於第二導電層104上形成第二晶片114，以形成本實施例的功率模組10。詳細地說，在將本實施例的由第一熱介面材料層108與第三導電層110構成的絕緣金屬基板壓合至絕緣基板100之後，於第二導電層104與第三導電層110上形成導電黏著層113。然後，將第一晶片112固設於位於第三導電層110上的導電黏著層113上，以使第一晶片112通過導電黏著層113而與第三導電層110電性連接，以及將第二晶片114固設於位於第二導電層104上的導電黏著層113上，以使第二晶片114通過導電黏著層113而與第二導電層104電性連接。在本實施例中，導電黏著層113例如為銲料層。此外，在其他實施例中，導電黏著層113也可以是將銀或銅進行燒結所形成的接合層。

在功率模組10中，第一熱介面材料層108與第三導電層110構成絕緣金屬基板，且所述絕緣金屬基板設置在由絕緣基板100、第一導電層102、第二導電層104與導熱層106構成的覆銅陶瓷基板上。由於所述絕緣金屬基板僅具有一層導電層（第三導電層110），因此可有效地減少功率模組10的整體厚度。進一步說，由於功率模組10的整體厚度減少，因此在高功率密度下，第一晶片112與第二晶片114的熱阻差異可有效地減小，且第一晶片112與第二晶片114的熱容量差異也可減小。此外，由於功率模組10的整體厚度減少，功率模組10中的互感現象可更為顯著。另外，在本實施例的功率模組10中，絕緣金屬基板設置在覆銅陶瓷基板上，因此避免了將陶瓷基板堆疊時由於應力釋放而造成的翹曲度過大的問題。

此外，在功率模組10的製造過程中，在設置晶片（第一晶片112以及第二晶片114）之前，先將絕緣金屬基板壓合至覆銅陶瓷基板，因此可避免晶片經受多次的回焊處理，因而可有效地避免晶片的可靠度降低。

另外，功率模組10中，第一晶片112在運作時所產生的熱可通過導電黏著層113、第三導電層110、第一熱介面材料層108、第一導電層102、絕緣基板100以及導熱層106而傳送至功率模組10的外部，且第二晶片114在運作時所產生的熱可通過導電黏著層113、第二導電層104、絕緣基板100以及導熱層106而傳送至功率模組10的外部。

在本實施例中，絕緣金屬基板壓合至覆銅陶瓷基板上，亦即採用陶瓷基板來作為絕緣基板100，但本發明實施例不限於此。在其他實施例中，絕緣基板100也可以是熱介面材料基板，以進一步減少功率模組的整體厚度。在絕緣基板100為熱介面材料基板的實施例中，絕緣基板100的材料可以是矽、氧化矽、氧化鋁、氮化鋁、氮化硼或其組合，絕緣基板100的厚度例如介於100 μm至150 μm之間，且絕緣基板100的熱傳導係數例如介於3 W/mK至15 W/mK之間，甚至更高。

取決於實際應用，本實施例的功率模組還可包括其他構件，以下將對此進行說明。

圖2為本發明第二實施例的功率模組的剖面示意圖。在本實施例中，與第一實施例相同的元件將以相同的元件符號表示，於此不再另行描述。參照圖2，在功率模組20中，第一晶片112可通過第一打線200而與第二導電層104電性連接，且第二晶片114可通過第二打線202而與第一導電層102電性連接。此外，第一端子204與第三導電層110連接，第二端子206與第一導電層102連接，且第三端子208與第二導電層104連接。第一端子204、第二端子206以及第三端子208可各自連接至外部裝置。包封體210包覆絕緣基板100、第一導電層102、第二導電層104、部分導熱層106、第一熱介面材料層108、第三導電層110、第一晶片112、導電黏著層113、第二晶片114、第一打線200、第二打線202、部分第一端子204、部分第二端子206以及部分第三端子208，但本發明實施例不限於此。在功率模組20的底部，包封體210暴露出導熱層106的表面，以利於將第一晶片112與第二晶片114在運作時產生的熱傳送至功率模組20的外部。

在功率模組20的運作過程中，電流可自第一端子204流入並通過第三導電層110與導電黏著層113而提供至第一晶片112。通過第一打線200、第二導電層104與導電黏著層113，電流可自第一晶片112提供至第二晶片114。通過第二打線202與第一導電層102，電流可自第二晶片114提供至第二端子206，並經由第二端子206而傳送至外部裝置。此外，電流也會通過第二導電層104與第三端子208而傳送至外部裝置。藉由此方式，可提供垂直互感路徑，以達到降低電感的目的。

將功率模組20（絕緣金屬基板堆疊在覆銅陶瓷基板上）與覆銅陶瓷基板堆疊在覆銅陶瓷基板上的一般功率模組進行模擬測試，在模擬結果中，相較於一般功率模組（電感值為2.99 nH），功率模組20具有較低的電感值（2.01 nH）。由此可知，本發明實施例的功率模組可具有較低的寄生電感。

圖3為本發明第三實施例的功率模組的剖面示意圖。在本實施例中，與第二實施例相同的元件將以相同的元件符號表示，於此不再另行描述。參照圖3，功率模組30與功率模組20的差別在於：在功率模組30中，經由導線架（lead frame），電流可提供至功率模組30，或自功率模組30傳導出。詳細地說，在功率模組30中，導線架（未圖示）的第一引腳（lead）300可作為第一端子而與第三導電層110連接，導線架的第二引腳302可作為第二端子而與第一導電層102連接，且導線架的第三引腳304可作為第三端子而與第二導電層104連接。

圖4為本發明第四實施例的功率模組的剖面示意圖。在本實施例中，與第二實施例相同的元件將以相同的元件符號表示，於此不再另行描述。參照圖4，在功率模組40中，導熱承載基板400設置於導熱層106上，且通過導熱黏著層402而固設至導熱層106。在本實施例中，導熱承載基板400例如為金屬基板，且導熱黏著層402例如為銲料層，但本發明實施例不限於此。此外，在本實施例中，導熱承載基板400的尺寸大於絕緣基板100的尺寸，因此殼體404可設置於導熱承載基板400的邊緣區域以圍繞絕緣基板100以及設置於其上的元件。

此外，在本實施例中，第一端子204與第三導電層110連接，第二端子406設置於殼體404上且通過第三打線408而與第一導電層102電性連接，且第三端子410設置於殼體404上且通過第四打線412而與第二導電層104電性連接。第一端子204、第二端子406以及第三端子410可各自連接至外部裝置。包封體210設置於殼體404的內部。在本實施例中，包封體210包覆絕緣基板100、第一導電層102、第二導電層104、導熱層106、第一熱介面材料層108、第三導電層110、第一晶片112、導電黏著層113、第二晶片114、第一打線200、第二打線202、部分第一端子204、部分第二端子406、部分第三端子408、第三打線408、第四打線412以及導熱黏著層402，但本發明實施例不限於此。

在另一實施例中，第一端子204可設置在殼體404上，並與第三導電層110電性連接。

在上述各實施例中，第一晶片112與第一導電層102之間設置有第一熱介面材料層108與第三導電層110，且第一晶片112通過導電黏著層113固設於第三導電層110上，而第二晶片114通過導電黏著層113固設於第二導電層104上。因此，第一晶片112與第二晶片114位於不同的水平高度處，但本發明實施例不限於此。在其他實施例中，第一晶片112與第二晶片114可位於相同的水平高度處。

圖5為本發明第五實施例的功率模組的剖面示意圖。在本實施例中，與第一實施例相同的元件將以相同的元件符號表示，於此不再另行描述。參照圖5，功率模組50與功率模組10的差別在於：在功率模組50中，第二晶片114與第二導電層104之間設置有第二熱介面材料層500與第四導電層502，且第二晶片114通過導電黏著層113固設於第四導電層502上。在本實施例中，第二熱介面材料層500的材料可以是矽、氧化矽、氧化鋁、氮化鋁、氮化硼或其組合。第二熱介面材料層500的厚度例如介於100 μm至150 μm之間。第二熱介面材料層500的熱傳導係數例如介於3 W/mK至15 W/mK之間，甚至更高。第二熱介面材料層500可與第一熱介面材料層108相同或不同，本發明實施例不對此作限定。此外，第四導電層502可為金屬層，例如銅層，但本發明實施例不限於此。在本實施例中，第二熱介面材料層500以及第四導電層502可與第一熱介面材料層108以及第三導電層110在同一個製程步驟中各別形成於第一導電層102與第二導電層104上，但本發明實施例不限於此。

如此一來，在功率模組50中，第一晶片112與第二晶片114可位於相同的水平高度處，可視實際情況而有利於功率模組的佈局設計。

綜上所述，在本發明實施例的功率模組中，將由熱介面材料層與僅一層導電層構成的絕緣金屬基板設置在由絕緣基板以及位於絕緣基板的上側與下側的導電層構成的覆銅陶瓷基板上，可有效地減少功率模組的整體厚度。此外，由於功率模組的整體厚度減少，因此在高功率密度下，不同的晶片之間的熱阻差異以及熱容量差異可有效地減小，且功率模組中的互感現象可更為顯著。

另外，在本發明實施例的功率模組中，由於絕緣金屬基板設置在覆銅陶瓷基板上，因此可避免在堆疊陶瓷基板時由於應力釋放而造成的翹曲度過大的問題。

再者，在實施例的功率模功率模組的製造過程中，在設置晶片之前將絕緣金屬基板壓合至覆銅陶瓷基板，因此可避免晶片經受多次的回焊處理，進而可避免晶片的可靠度降低。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視所附的申請專利範圍所界定者為準。

10、20、30、40、50：功率模組 100：絕緣基板 100a：第一表面 100b：第二表面 102：第一導電層 104：第二導電層 106：導熱層 108：第一熱介面材料層 110：第三導電層 112：第一晶片 113：導電黏著層 114：第二晶片 200：第一打線 202：第二打線 204：第一端子 206、406：第二端子 208、410：第三端子 210：包封體 300：第一引腳 302：第二引腳 304：第三引腳 400：導熱承載基板 402：導熱黏著層 404：殼體 408：第三打線 412：第四打線 500：第二熱介面材料層 502：第四導電層

圖1A至圖1C為本發明第一實施例的功率模組的製造流程剖面示意圖。 圖2為本發明第二實施例的功率模組的剖面示意圖。 圖3為本發明第三實施例的功率模組的剖面示意圖。 圖4為本發明第四實施例的功率模組的剖面示意圖。 圖5為本發明第五實施例的功率模組的剖面示意圖。

10：功率模組 100：絕緣基板 100a：第一表面 100b：第二表面 102：第一導電層 104：第二導電層 106：導熱層 108：第一熱介面材料層 110：第三導電層 112：第一晶片 113：導電黏著層 114：第二晶片

Claims (20)

1. 一種功率模組，包括：絕緣基板，具有彼此相對的第一表面與第二表面；第一導電層與第二導電層，設置於所述第一表面上且彼此電性分離；第一熱介面材料層，設置於所述第一導電層上；第三導電層，設置於所述第一熱介面材料層上；第一晶片，設置於所述第三導電層上，且與所述第三導電層電性連接；導電黏著層，設置於所述第一晶片與所述第三導電層之間；第二晶片，設置於所述第二導電層上，且與所述第二導電層電性連接；以及導熱層，設置於所述第二表面上，其中所述第一熱介面材料層與所述第三導電層構成絕緣金屬基板。
2. 如請求項1所述的功率模組，其中所述絕緣基板包括陶瓷基板或熱介面材料基板。
3. 如請求項1所述的功率模組，其中所述第一熱介面材料層的材料包括矽、氧化矽、氧化鋁、氮化鋁、氮化硼或其組合。
4. 如請求項1所述的功率模組，其中所述第一熱介面材料層的厚度介於100μm至150μm之間。
5. 如請求項1所述的功率模組，還包括： 第一打線，連接所述第一晶片與所述第二導電層；第二打線，連接所述第二晶片與所述第一導電層；第一端子，與所述第三導電層電性連接；第二端子，與所述第一導電層電性連接；以及第三端子，與所述第二導電層電性連接。
6. 如請求項5所述的功率模組，其中所述第一端子包括與所述第三導電層連接的第一引腳，所述第二端子包括與所述第一導電層連接的第二引腳，且所述第三端子包括與所述第二導電層連接的第三引腳。
7. 如請求項1所述的功率模組，還包括：第二熱介面材料層，設置於所述第二晶片與所述第二導電層之間；以及第四導電層，設置於所述第二晶片與所述第二熱介面材料層之間。
8. 如請求項1所述的功率模組，還包括導熱承載基板，設置於所述導熱層上。
9. 如請求項1所述的功率模組，還包括包封體，包覆所述第一導電層、所述第二導電層、所述第一熱介面材料層、所述第三導電層、所述第一晶片與所述第二晶片。
10. 一種功率模組的製造方法，包括：提供具有彼此相對的第一表面與第二表面的絕緣基板；於所述第一表面上形成第一導電層與第二導電層，其中所述 第一導電層與所述第二導電層彼此電性分離；於所述第二表面上形成導熱層；於所述第一導電層上依序形成第一熱介面材料層與第三導電層，其中所述第一熱介面材料層與所述第三導電層構成絕緣金屬基板；於所述第三導電層上依序形成導電黏著層與第一晶片，使得所述第一晶片與所述第三導電層電性連接；以及於所述第二導電層上形成第二晶片，其中所述第二晶片與所述第二導電層電性連接。
11. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，其中於所述第一導電層上依序形成所述第一熱介面材料層與所述第三導電層的方法包括：於所述第一熱介面材料層上壓合所述第三導電層；以及將所述第一熱介面材料層壓合至所述第一導電層上。
12. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，其中所述絕緣基板包括陶瓷基板或熱介面材料基板。
13. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，其中所述第一熱介面材料層的材料包括矽、氧化矽、氧化鋁、氮化鋁、氮化硼或其組合。
14. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，其中所述第一熱介面材料層的厚度介於100μm至150μm之間。
15. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，還包括： 形成連接所述第一晶片與所述第二導電層的第一打線；形成連接所述第二晶片與所述第一導電層的第二打線；形成與所述第三導電層電性連接的第一端子；形成與所述第一導電層電性連接的第二端子；以及形成與所述第二導電層電性連接的第三端子。
16. 如請求項15所述的功率模組的製造方法，其中所述第一端子包括與所述第三導電層連接的第一引腳，所述第二端子包括與所述第一導電層連接的第二引腳，且所述第三端子包括與所述第二導電層連接的第三引腳。
17. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，其中在形成所述第二晶片之前，還包括於所述第二導電層上依序形成第二熱介面材料層與第四導電層。
18. 如請求項17所述的功率模組的製造方法，其中於所述第二導電層上依序形成所述第二熱介面材料層與所述第四導電層的方法包括：於所述第二熱介面材料層上壓合所述第四導電層；以及將所述第二熱介面材料層壓合至所述第二導電層上。
19. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，還包括於所述導熱層上形成導熱承載基板。
20. 如請求項10所述的功率模組的製造方法，其中在形成所述導熱層之後，還包括形成包覆所述第一導電層、所述第二導電層、所述第一熱介面材料層、所述第三導電層、所述第一晶 片與所述第二晶片的包封體。

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