TWI817247B - 層積鐵芯之加熱裝置 - Google Patents

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TWI817247B
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伊藤侑馬
上田修一
川見典央
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日商田中精密工業股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。 本發明係將層積之鐵芯18作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯18之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置10,該裝置10具備中心導件24,該中心導件24為外徑可變更之外徑可變夾盤機構。

Description

層積鐵芯之加熱裝置
本發明係關於一種層積鐵芯之加熱裝置。
層積鐵芯使用於馬達等。層積鐵芯藉由將鐵芯與鐵芯接著而獲得。該接著藉由將接著劑加熱處理而完成。作為為此使用之加熱裝置,已知有各種各樣者(例如參照專利文獻1(圖3))。
基於下圖說明專利文獻1。 圖8係說明先前之加熱裝置之基本構成之圖。 如圖8所示,加熱裝置100具備:基座101;中心導件102,其自該基座101向上延伸;底板103及下部板104,其等以包圍該中心導件102之方式,載置於基座101;感應加熱線圈105,其以包圍底板103、下部板104及中心導件102之方式配置;及頂板107及上部板108,其等由缸體106懸吊。
於下部板104,載置特定片數之鐵芯109。此時,中心導件102發揮引導鐵芯109之作用。又,中心導件102發揮防止鐵芯109向中心導件102之軸直角方向(圖式中為左右方向)移動之作用。
拉伸缸體106,使頂板107及上部板108下降,以上部板108按壓鐵芯109。
於該狀態下,對感應加熱線圈105通電。自感應加熱線圈105產生磁通。該磁通於鐵芯109之內部產生渦流。渦流藉由鐵芯109之電性電阻而產生焦耳熱。接著劑為熱塑性樹脂之情形時,藉由加熱而流動化,其後硬化。當停止通電後,鐵芯109自然冷卻。其後,將鐵芯109自中心導件102卸除。
圖9係圖8之重要部分放大剖視圖,即顯示先前之中心導件與鐵芯之關係之圖。 如圖9所示,鐵芯109一般將較薄之電磁鋼板(矽鋼板)沖孔而製造。因此,中央孔111之孔徑不可避免地偏差。考慮該偏差與作業性,於中心導件102與鐵芯109間設定間隙δ。該間隙δ例如為10 μm左右。
然而,若於圖8中將置放鐵芯109→加熱→冷卻→卸除鐵芯109設為1個生產週期,則該生產週期被重複。 中心導件102亦被重複加熱與冷卻,有時溫度未充分下降便開始後續之加熱。即,若生產週期被重複10次以上,則中心導件102之膨脹累積,致使鐵芯109之置放及卸除變得困難。
作為對策,將間隙δ增大30 μm左右。即使中心導件102之膨脹累積,亦可置放或卸除鐵芯109。但,若間隙δ變大,則於接著劑流動化之時點,一部分鐵芯109橫向偏移,使層積鐵芯之完成精度降低。
作為其他對策,延長1個生產週期中之冷卻時間、或重複10次生產週期後冷卻足夠長之時間。藉此消除膨脹之累積。但,冷卻時間愈長,生產性愈降低。
層積鐵芯之完成精度降低或生產性降低之情況並不理想。 因此,對中心導件102採取熱膨脹對策之加熱裝置備受期望。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平7-298567號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明之課題在於提供一種對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。 [解決問題之技術手段]
技術方案1之發明之特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且 具備底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,且上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製; 上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製; 具備:感應加熱線圈,其包圍上述鐵芯;筒型鐵氧體,其包圍該感應加熱線圈;下部鐵氧體,其自筒型鐵氧體之下端向上述下部板延伸;及上部鐵氧體,其自上述筒型鐵氧體之上端向上述上部板延伸; 具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件; 該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構; 該外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於上述滑塊之可動爪; 上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
技術方案2之發明之特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且 具備底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,且上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製; 上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製; 具備包圍上述鐵芯之感應加熱線圈; 具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件; 該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構; 該外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於上述滑塊之可動爪; 上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
技術方案3之發明之特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且 具備底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製; 上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製; 具備包圍上述鐵芯之感應加熱線圈; 具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件; 該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構; 該外徑可變夾盤機構具備導軌、由該導軌引導之滑塊、及安裝於滑塊之可動爪; 上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
技術方案4之發明如技術方案1至3中任一項之層積鐵芯之加熱裝置,其中 上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以120°間距配置之3個爪; 上述2個爪為固定爪,其餘1個為上述可動爪。
技術方案5之發明如技術方案4之層積鐵芯之加熱裝置,其中 上述固定爪與上述可動爪插入由上述感應加熱線圈予以加熱之上述鐵芯之上述中央孔; 為抑制上述固定爪與上述可動爪之至少一者之溫度變化,上述固定爪與上述可動爪之至少一者具有冷卻用冷媒通路。
技術方案6之發明如技術方案1至3中任一項之層積鐵芯之加熱裝置,其中 上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以180°間距配置之2個爪; 上述爪之1者為固定爪,其餘1者為上述可動爪。
技術方案7之發明如技術方案6之層積鐵芯之加熱裝置,其中 上述固定爪與上述可動爪插入由上述感應加熱線圈予以加熱之上述鐵芯之上述中央孔; 為抑制上述固定爪與上述可動爪之至少一者之溫度變化,上述固定爪與上述可動爪之至少一者具有冷卻用冷媒通路。 [發明之效果]
技術方案1之發明中,中心導件之外徑可變更。於縮小外徑之中心導件置放鐵芯。即使中心導件之溫度上升,亦不妨礙鐵芯之置放。 置放後,使中心導件之外徑與鐵芯之中央孔之孔徑一致。加熱處理中,鐵芯不移動。 自中心導件卸下鐵芯時,亦縮小外徑。即使中心導件之溫度上升,亦不妨礙鐵芯之卸除。 藉此,根據本發明,提供對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。
此外,技術方案1之發明中,由筒型鐵氧體將包圍鐵芯之感應加熱線圈包圍。感應加熱線圈產生之磁通之一部分藉由筒型鐵氧體促進活用。 但,自筒型鐵氧體延伸之磁通之一部分由底板或頂板阻斷。該阻斷包含磁通不易通過之情況。以下同樣。 作為對策,本發明中,將下部鐵氧體與上部鐵氧體附設於筒型鐵氧體。 自筒型鐵氧體延伸之磁通由下部鐵氧體與上部鐵氧體感應,供鐵芯之加熱。
本發明中,可將鐵芯以更短時間加熱至特定溫度。然而,由於加熱效率較佳,故中心導件之溫度上升提高,熱膨脹變大。但,若中心導件為外徑可變夾盤機構,則熱膨脹不成問題。 藉此,根據本發明,提供一種提高鐵芯之加熱效率,且對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。 進而此外,技術方案1之發明中,外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於滑塊之可動爪,上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
技術方案2之發明中,與技術方案1同樣,中心導件之外徑可變更。於縮小外徑之中心導件置放鐵芯。即使中心導件之溫度上升,亦不妨礙鐵芯之置放。 置放後,使中心導件之外徑與鐵芯之中央孔之孔徑一致。加熱處理中,鐵芯不移動。 自中心導件卸下鐵芯時,亦縮小外徑。即使中心導件之溫度上升,亦不妨礙鐵芯之卸除。 藉此,根據本發明,提供對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。
本發明中,可將鐵芯以更短時間加熱至特定溫度。然而,由於加熱效率較佳,故中心導件之溫度上升提高,熱膨脹變大。但,若中心導件為外徑可變夾盤機構,則熱膨脹不成問題。 藉此,根據本發明,提供一種提高鐵芯之加熱效率,且對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。 進而此外,技術方案2之發明中,外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於滑塊之可動爪,上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
技術方案3之發明中,與技術方案1同樣,中心導件之外徑可變更。於縮小外徑之中心導件置放鐵芯。即使中心導件之溫度上升,亦不妨礙鐵芯之置放。 置放後,使中心導件之外徑與鐵芯之中央孔之孔徑一致。加熱處理中,鐵芯不移動。 自中心導件卸下鐵芯時,亦縮小外徑。即使中心導件之溫度上升,亦不妨礙鐵芯之卸除。 藉此,根據本發明,提供對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。
本發明中,可將鐵芯以更短時間加熱至特定溫度。然而,由於加熱效率較佳,故中心導件之溫度上升提高,熱膨脹變大。但,若中心導件為外徑可變夾盤機構,則熱膨脹不成問題。 藉此,根據本發明,提供一種提高鐵芯之加熱效率,且對中心導件採取熱膨脹對策之層積鐵芯之加熱裝置。 進而此外,技術方案3之發明中,外徑可變夾盤機構具備導軌、由該導軌引導之滑塊、及安裝於該滑塊之可動爪,上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
技術方案4之發明中,外徑可變夾盤機構之重要部分以2個固定爪與1個可動爪構成。與將3個爪全部設為可變爪之構造相比,若僅將1個設為可動爪,則裝置變得簡單,可壓縮設備成本。
技術方案5之發明中,於爪設置冷媒通路。藉由將爪以水等冷卻,可抑制爪之溫度上升。與將爪以大氣自然冷卻之構造相比,若以冷媒強制冷卻,則可謀求縮短冷卻爪之時間,提高加熱裝置之運轉率。
技術方案6之發明中,外徑可變夾盤機構之重要部分以1個固定爪與1個可動爪構成。與將固定爪設為2個之構造相比,若將固定爪設為1個,則裝置變得進而簡單,可進而壓縮設備成本。
技術方案7之發明中,於爪設置冷媒通路。藉由將爪以水等冷卻,可抑制爪之溫度上升。與將爪以大氣自然冷卻之構造相比,若以冷媒強制冷卻,則可謀求縮短冷卻爪之時間,提高加熱裝置之運轉率。
以下基於隨附圖,說明本發明之實施形態。 [實施例]
如圖1所示,層積鐵芯之加熱裝置10具備台架基座11、載置於該台架基座11之門型基座12、載置於該門型基座12之底板13、載置於該底板13之下部板14、配置於該下部板14上方之上部板15、載置於該上部板15之頂板16、對該頂板16施加朝下之力之按壓機構17、以包圍鐵芯18之方式配置之感應加熱線圈19、以包圍該感應加熱線圈19之側面之方式配置之筒型鐵氧體21、以自該筒型鐵氧體21之下端向下部板14延伸之方式配置之下部鐵氧體22、以自筒型鐵氧體21之上端向上部板15延伸之方式配置之上部鐵氧體23、及將夾在下部板14及上部板15之間之鐵芯18進行定位之中心導件24。
另,自筒型鐵氧體21之下端延伸之下部鐵氧體22意指該下部鐵氧體22與筒型鐵氧體21之下端隔開特定距離而配置之構造、及下部鐵氧體22與筒型鐵氧體21之下端接觸配置之構造兩者。對於上部鐵氧體23亦同。
中心導件24為外徑可變夾盤機構30。 外徑可變夾盤機構30包含例如載置於台架基座11之導軌31、可移動地嵌入至該導軌31之滑塊32、驅動該滑塊32之氣缸33、自滑塊32向上延伸且貫通門型基座12、底板13、下部板14、鐵芯18及上部板15之柱狀可動爪34、及與該可動爪34平行配置,自底板13向上延伸貫通下部板14、鐵芯18及上部板15之柱狀固定爪35。
鐵芯18為0.2~0.5 mm厚度之矽鋼板(電磁鋼板),即內徑為50~150 mm且外徑為200~250 mm之空孔板。 於自矽鋼板之線圈以壓製沖孔形成之鐵芯18之上下面,局部(或整面)塗佈數 μm厚度之接著劑,將塗佈之空孔板疊放(層積)特定片數,獲得例如50~150 mm高度之層積鐵芯。
接著劑亦可為藉由加熱而流動化,以180°C左右硬化之熱硬化性樹脂,例如環氧系樹脂、丙烯酸系樹脂、矽橡膠系樹脂,可任意選擇。
下部板14與上部板15為碳鋼板。 較佳為與固定爪35或可動爪34確保數mm左右之間隙δ1。藉由該間隙δ1,阻斷或抑制自下部板14與上部板15向固定爪35或可動爪34之傳熱。
接著,對於下部鐵氧體22及上部鐵氧體23之有無、及底板13與頂板16之材質進行研討。
〇實例1:底板13與頂板16為碳鋼製,且無下部鐵氧體22及上部鐵氧體23之情形: 由感應加熱線圈19產生之磁通通過筒型鐵氧體21、下部板14及上部板15、底板13與頂板16。 由筒型鐵氧體21促進磁通之活用。 下部板14及上部板15由磁通加熱,向鐵芯18傳熱。
底板13及頂板16亦由磁通加熱。該熱之一部分朝向下部板14與上部板15,但大多向大氣散熱。該散熱招致鐵芯18之加熱效率降低。
〇實例2:底板13與頂板16為不鏽鋼製,且無下部鐵氧體22及上部鐵氧體23之情形: 由於底板13與頂板16未通過磁通,故由感應加熱線圈19產生之磁通通過筒型鐵氧體21、下部板14及上部板15。 由筒型鐵氧體21促進磁通之活用。 下部板14及上部板15由磁通加熱,向鐵芯18傳熱。
由於自底板13及頂板16向大氣之散熱消失或受抑制,故上述實例2較上述實例1更佳。
因此,底板13與頂板16設為不易通過磁通之不鏽鋼製。 不鏽鋼有奧氏體系、鐵氧體系、麻田散體系。鐵氧體系與麻田散體系為磁性體,能良好通過磁通,因而不適當。 另一方面,奧氏體系(例如SUS304)為非磁性體,不易通過磁通,因而較佳。
圖2(a)進而說明以上說明之實例2之構造,圖2(b)說明改良實例2後之構造。一併基於圖2(a)、(b),說明筒型鐵氧體21、下部鐵氧體22及上部鐵氧體23之作用。
圖2(a)中顯示比較例。如圖2(a)所示,筒型鐵氧體21發揮促進感應加熱線圈19產生之磁通之有效利用之作用。 一部分磁通26經由上部板15或下部板14通過鐵芯18。又,其他磁通27通往底板13或頂板16。底板13或頂板16會阻斷磁通27。因此,無法謀求磁通27之有效活用。
圖2(b)顯示實施例。如圖2(b)所示,磁通27由下部鐵氧體22及上部鐵氧體23感應。由於上部板15及下部板14為碳鋼板,故通過磁通27。 即,磁通27通過上部板15,且通過鐵芯18,並通過下部板14,返回至筒型鐵氧體21。結果,可謀求磁通27之有效活用。 藉此,於筒型鐵氧體21附設下部鐵氧體22及上部鐵氧體23是為有效。
如圖3所示,外徑可變夾盤機構30具有俯視時以120°間距配置之3個爪34、35、35,2個爪為固定爪35、35,其餘1個為由氣缸33驅動之可動爪34。
如圖4所示,於台架基座11載置導軌31,可向圖式表背方向移動地對該導軌31嵌入滑塊32,將可動爪34藉由螺栓等固定於該滑塊32。較佳為鋼球(Steel ball)36介置於導軌31與滑塊32之間。若介置鋼球36,則導軌31與滑塊32間之摩擦係數大幅減少,滑塊32及可動爪34不晃動地順暢移動。
另,亦可以左導桿與右導桿取代1條導軌31,以該等左導桿與右導桿引導滑塊32。藉此,圖4之構造適當變更亦無妨,總之只要可動爪34為不偏向或鬆動地順暢移動之構造即可。
基於圖5說明包含以上構成之外徑可變夾盤機構30之作用。 於置放鐵芯前,如圖5(a)所示,使可動爪34自固定爪35之外接圓37後退。
如圖5(b)所示,置放鐵芯18。此時,鐵芯18之中央孔38與外接圓37偏離。中央孔38可以不與3個爪34、35、35觸碰之方式置放。
如圖5(c)所示,使可動爪34前進。對該可動爪34始終賦予氣缸(圖1,符號33)之前進力。結果,2個固定爪35及1個可動爪34與鐵芯18緊密觸碰。於該狀態下進行加熱,使接著劑流動化、硬化。 於加熱過程中,鐵芯18未向圖式左右方向偏移,可獲得尺寸精度良好之層積鐵芯。
加熱結束後,如圖5(d)所示,使可動爪34後退。可動爪34自鐵芯18離開,鐵芯18自固定爪35離開。結果,鐵芯18可容易地卸除,作業效率提高。
接著,說明本發明之變更例。 如圖6(a)所示,外徑可變夾盤機構30亦可具有俯視時以180°間距配置之2個爪34、35,其中1個爪設為固定爪35,另1個設為由氣缸33驅動之可動爪34。 由於固定爪35為1個,故外徑可變夾盤機構30變得單純。
又,如圖6(b)所示,外徑可變夾盤機構30亦可具有俯視時以120°間距配置之3個可動爪34,由氣缸33驅動可動爪34之各者。 又,如圖6(c)所示,外徑可變夾盤機構30亦可具有俯視時以180°間距配置之2個可動爪34,由氣缸33驅動可動爪34之各者。
又,如圖7所示,亦可於固定爪35設置冷卻用冷媒通路35a,於可動爪34設置冷卻用冷媒通路34a。藉由使水或空氣通過冷媒通路34a、35a,可抑制固定爪35或可動爪34之溫度變化。
冷媒通路34a、35a非必須,但若於圖1所示之層積鐵芯之加熱裝置10連續重複10次生產週期,則固定爪35或可動爪34之溫度逐漸上升。 作為對策,例如當10次生產週期結束後,間隔「暫時冷卻時間」,其後重新開始下個10次生產週期。但,若採取該對策,則生產性略降低。 若為圖7所示之構造,則無須間隔「暫時冷卻時間」,生產性提高。
另,圖7中,除設置冷媒通路34a與冷媒通路35a之兩者外,亦可僅設置一者。需要對設置於可動爪34之冷媒通路34a連接可撓性軟管,使設備成本增大。若不設置冷媒通路34a,僅設置冷媒通路35a,則無需可撓性軟管,設備成本降低。 [產業上之可利用性]
本發明適於加熱附有接著劑之鐵芯而設為層積鐵芯之加熱裝置。
10:層積鐵芯之加熱裝置 11:台架基座 12:門型基座 13:底板 14:下部板 15:上部板 16:頂板 17:按壓機構 18:鐵芯 19:感應加熱線圈 21:筒型鐵氧體 22:下部鐵氧體 23:上部鐵氧體 24:中心導件 26:磁通 27:磁通 30:外徑可變夾盤機構 31:導軌 32:滑塊 33:氣缸 34:可動爪 34a:冷媒通路 35:固定爪 35a:冷媒通路 36:鋼球 37:外接圓 38:中央孔 100:加熱裝置 101:基座 102:中心導件 103:底板 104:下部板 105:感應加熱線圈 106:缸體 107:頂板 108:上部板 109:鐵芯 111:中央孔 δ:間隙 δ1:間隙
圖1係本發明之層積鐵芯之加熱裝置之剖視圖。 圖2係說明磁通之圖,(a)顯示比較例,(b)顯示實施例。 圖3係圖1之3-3線剖視圖。 圖4係圖1之4-4線剖視圖。 圖5(a)~(d)係說明外徑可變夾盤機構之動作之圖。 圖6(a)~(c)係說明外徑可變夾盤機構之變更例之圖。 圖7係說明冷媒通路之圖。 圖8係說明先前之加熱裝置之基本構成之圖。 圖9係圖8之重要部分放大剖視圖,即顯示先前之中心導件與鐵芯之關係之圖。
10:層積鐵芯之加熱裝置
11:台架基座
12:門型基座
13:底板
14:下部板
15:上部板
16:頂板
17:按壓機構
18:鐵芯
19:感應加熱線圈
21:筒型鐵氧體
22:下部鐵氧體
23:上部鐵氧體
24:中心導件
30:外徑可變夾盤機構
31:導軌
32:滑塊
33:氣缸
34:可動爪
35:固定爪
δ1:間隙

Claims (9)

  1. 一種層積鐵芯之加熱裝置,其特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且具備底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,且上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製;上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製;具備:感應加熱線圈,其包圍上述鐵芯;筒型鐵氧體,其包圍該感應加熱線圈;下部鐵氧體,其自筒型鐵氧體之下端向上述下部板延伸;及上部鐵氧體,其自上述筒型鐵氧體之上端向上述上部板延伸;具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件;該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構;該外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於上述滑塊之可動爪;上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
  2. 一種層積鐵芯之加熱裝置,其特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且具備台架基座、載置於該台架基座之門型基座、載置於該門型基座 之底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,且上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製;上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製;具備包圍上述鐵芯之感應加熱線圈;具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件;該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構;該外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於上述滑塊之1個可動爪;藉由移動上述滑塊之上述氣缸及引導上述滑塊之該導軌安裝於上述台架基座,上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
  3. 一種層積鐵芯之加熱裝置,其特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且具備台架基座、載置於該台架基座之門型基座、載置於該門型基座之底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製;上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製;具備包圍上述鐵芯之感應加熱線圈;具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件; 該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構;該外徑可變夾盤機構具備導軌、由該導軌引導之滑塊、及安裝於滑塊之1個可動爪;藉由引導上述滑塊之上述導軌安裝於上述台架基座,上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側。
  4. 如請求項1至3中任一項之層積鐵芯之加熱裝置,其中上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以120°間距配置之3個爪;上述3個爪中的2個為固定爪,其餘1個為上述可動爪。
  5. 如請求項4之層積鐵芯之加熱裝置,其中上述固定爪與上述可動爪插入由上述感應加熱線圈予以加熱之上述鐵芯之上述中央孔;為抑制上述固定爪與上述可動爪之至少一者之溫度變化,上述固定爪與上述可動爪之至少一者具有冷卻用冷媒通路。
  6. 如請求項1至3中任一項之層積鐵芯之加熱裝置,其中上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以180°間距配置之2個爪;上述2個爪中的1個為固定爪,其餘1個為上述可動爪。
  7. 如請求項6之層積鐵芯之加熱裝置,其中上述固定爪與上述可動爪插入由上述感應加熱線圈予以加熱之上述鐵芯之上述中央孔; 為抑制上述固定爪與上述可動爪之至少一者之溫度變化,上述固定爪與上述可動爪之至少一者具有冷卻用冷媒通路。
  8. 一種層積鐵芯之加熱裝置,其特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且具備底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,且上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製;上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製;具備包圍上述鐵芯之感應加熱線圈;具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件;該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構;該外徑可變夾盤機構具備氣缸、由該氣缸移動之滑塊、引導該滑塊之導軌、及安裝於上述滑塊之可動爪;上述氣缸、上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側;上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以120°間距配置之3個爪,上述3個爪中的2個為固定爪,其餘1個為上述可動爪;或者,上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以180°間距配置之2個爪,上述2個爪中的1個為固定爪,其餘1個為上述可動爪;上述固定爪與上述可動爪插入於由上述感應加熱線圈加熱之上述鐵芯之上述中央孔; 為了抑制上述固定爪與上述可動爪之至少一者之溫度變化,上述固定爪與上述可動爪之至少一者具有冷卻用冷媒通路。
  9. 一種層積鐵芯之加熱裝置,其特徵在於,其係將層積之鐵芯作為處理對象,將塗佈於上述鐵芯之接著劑進行加熱處理之層積鐵芯之加熱裝置,且具備底板、載置於該底板之下部板、由載置於該下部板之上述鐵芯所載置之上部板、及載置於該上部板之頂板,且上述底板與上述頂板設為不易通過磁通之不鏽鋼製;上述下部板與上述上部板設為通過磁通之碳鋼製;具備包圍上述鐵芯之感應加熱線圈;具備向設置於上述鐵芯之中央孔插入之中心導件;該中心導件為外徑可變更之外徑可變夾盤機構;該外徑可變夾盤機構具備導軌、由該導軌引導之滑塊、及安裝於滑塊之可動爪;上述滑塊及上述導軌配置於夾在上述底板與上述頂板之間之區域之外側;上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以120°間距配置之3個爪,上述3個爪中的2個為固定爪,其餘1個為上述可動爪;或者,上述外徑可變夾盤機構具有俯視時以180°間距配置之2個爪,上述2個爪中的1個為固定爪,其餘1個為上述可動爪;上述固定爪與上述可動爪插入於由上述感應加熱線圈加熱之上述鐵芯之上述中央孔; 為了抑制上述固定爪與上述可動爪之至少一者之溫度變化,上述固定爪與上述可動爪之至少一者具有冷卻用冷媒通路。
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