TWI794953B - 檢查電路板之未經授權修改 - Google Patents

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TWI794953B
TWI794953B TW110132748A TW110132748A TWI794953B TW I794953 B TWI794953 B TW I794953B TW 110132748 A TW110132748 A TW 110132748A TW 110132748 A TW110132748 A TW 110132748A TW I794953 B TWI794953 B TW I794953B
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溫楷誠
威州 陳
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佩祥 楊
振之 周
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Abstract

藉由一影像獲取系統獲得一目標電路板之一目標影像及一黃金電路板之一黃金影像。在該目標影像上及該黃金影像上定位基準點。使用該目標影像上之該等基準點作為參考來對該目標影像執行透視變換且使用該黃金影像上之該等基準點作為參考來對該黃金影像執行透視變換。在透視變換之後，藉由識別在該目標影像與該黃金影像之間具有不同強度之像素來識別該目標影像之一異常區段，該異常區段指示對該目標電路板之一未經授權修改。

Description

檢查電路板之未經授權修改
本發明大體而言係關於電路板製造，且更特定而言但不排他地係關於電路板之檢查。
電氣電路可實施於一電路板上。取決於電氣電路，一電路板可具有許多組件，包含積體電路晶片、離散組件(例如，電容器、電阻器、電感器)、開關、跳接線、跡線等。電路板之實例包含在電腦系統及其他電子裝置中使用之母板(亦稱為主要電路板)及子板。不僅出於功能性而且出於安全性原因，按照設計規範製造一電路板係關鍵的。舉例而言，對一網路裝置之一電路板之一未經授權修改(例如，添加一駭侵晶片)可能允許一網路犯罪分子潛入一電腦網路。
在一項實施例中，藉由一影像獲取系統獲得一目標電路板之一目標影像及一黃金電路板之一黃金影像。在該目標影像上及該黃金影像上定位基準點。使用該目標影像上之該等基準點作為參考來對該目標影像執行透視變換且使用該黃金影像上之該等基準點作為參考來對該黃金影像執行透視變換。在透視變換之後，藉由識別在該目標影像與該黃金影像 之間具有不同強度之像素來識別該目標影像之一異常區段，該異常區段指示對該目標電路板之一未經授權修改。
熟習此項技術者在閱讀包含附圖及申請專利範圍之本發明之全文之後將容易地明瞭本發明之此等及其他特徵。
100:檢查系統
101:黃金電路板
102:目標電路板
103:黃金影像
103-1:黃金影像
104:目標影像
104-1:目標影像
110:影像獲取系統
120:電腦
121:處理器
122:記憶體
123:影像處理庫
124:修改偵測器
200:方法
201:步驟
202:步驟
203:步驟
204:步驟
205:步驟
206:步驟
207:步驟
208:步驟
209:步驟
210:步驟
211:步驟
212:步驟
250:方法
251:步驟
252:步驟
253:步驟
254:步驟
255:步驟
256:步驟
257:步驟
258:步驟
259:步驟
271:箭頭/將黃金影像之寬度增加至200×150個像素
272:箭頭/將黃金影像之高度增加至200×150個像素
301:箭頭/將黃金影像及目標影像之畫布大小設定為同一畫布大小
302:箭頭/將灰階影像轉換為經反轉二進制影像
303:箭頭/擴大經反轉二進制影像
304:箭頭/侵蝕經擴大影像之白色部分
305:箭頭/找到經侵蝕影像上之輪廓
306:箭頭/移除較小定界矩形及其輪廓
307:箭頭/在影像之每一象限上定位基準點
308:箭頭/給經定位基準點指派數字名稱
351-1:灰階影像/影像
351-2:經反轉二進制影像
351-3:經擴大影像
351-4:經侵蝕影像
351-5:影像
351-6:影像
352:虛線圓圈
353:虛線圓圈
371:基準點/經定位基準點/先前經定位基準點
372:基準點/經定位基準點/先前經定位基準點
373:基準點/經定位基準點/先前經定位基準點
374:基準點/經定位基準點/先前經定位基準點
375:主要中心點
401:箭頭/在影像上識別先前經定位基準點
402:箭頭/對影像執行透視變換
403:箭頭/自黃金影像減去目標影像
421:四邊形
422:四邊形
451-1:經透視變換之影像/影像
501:目標影像
502:黃金影像
503:差影像
505:標記
506:經增強視圖
507:特徵
圖1展示根據本發明之一實施例之一檢查系統之一邏輯圖。
圖2展示根據本發明之一實施例之檢查電路板之未經授權修改之一方法之一流程圖。
圖3展示根據本發明之一實施例之在一影像上定位基準點之一方法之一流程圖。
圖4至圖11用圖片圖解說明根據本發明之一實施例之檢查電路板之未經授權修改之一方法。
在不同圖式中使用之相同參考標籤指示相同或相似組件。
在本發明中，提供諸如系統、組件及方法之實例等諸多特定細節以提供對本發明之實施例之一透徹理解。然而，熟習此項技術者將認識到，可在無需該等特定細節中之一或多者之情況下實踐本發明。在其他例項中，未展示或闡述眾所周知之細節以避免使本發明之態樣模糊。
圖1展示根據本發明之一實施例之一檢查系統100之一邏輯圖。檢查系統100經組態以偵測對一目標(亦即，正被檢查的)電路板102之未經授權修改。檢查系統100可包括一影像獲取系統110及一電腦120。在圖1之實例中，檢查系統100經組態以基於一目標電路板102與一黃金電路 板101之各別影像而偵測該目標電路板與該黃金電路板之間的一或多個差。黃金電路板101係「黃金的」，乃因其係一已知良好電路板，亦即，被驗證為按照設計規範來製造。期望目標電路板102按照與黃金電路板101相同之設計規範來製造。存在於目標電路板102中但未存在於黃金電路板101中之一特徵(例如，組件、跡線)被視為目標電路板102之一未經授權修改。
在圖1之實例中，一影像獲取系統110經組態以獲得諸如一電路板之一拍攝對象之一影像。在一項實施例中，影像獲取系統110包括一X射線成像機器，且黃金影像103及目標影像104中之每一者係一X射線影像。一X射線成像機器有利地擷取電路板之相對較小特徵(例如，跡線)。取決於應用，亦可使用其他適合成像機器，包含自動化光學檢查(AOI)機器。
在圖1之實例中，影像獲取系統110獲得黃金電路板101之一影像以產生一黃金影像103且獲得目標電路板102之一影像以產生一目標影像104。在一項實施例中，黃金影像103及目標影像104係呈灰階形式之X射線影像。黃金影像103及目標影像104可以TIFF或另一影像檔案格式來表示。
電腦120可包括一工作站、伺服器電腦、一桌上型電腦或其他運算裝置。電腦120包含一處理器121(例如，中央處理單元)、一記憶體122(例如，隨機存取記憶體、固態硬碟)及未展示之其他電腦組件(例如，鍵盤、網路介面卡、顯示螢幕、I/O埠)。在圖1之實例中，記憶體122儲存一影像處理庫123及一修改偵測器124之指令。儲存於記憶體122中之指令在由處理器121執行時致使電腦120執行其功能，如下文所闡述。
影像處理庫123包括用於影像處理之函式或其他程式碼。在一項實施例中，影像處理庫123包括OpenCV庫。亦可採用用於影像處理之其他適合影像處理庫或程式碼。如可瞭解，使用影像處理庫123很大程度上係為了方便。人們總是可以撰寫他或她自己的程式碼來執行一影像處理步驟。
修改偵測器124經組態以偵測對一目標電路板之未經授權修改。在圖1之實例中，黃金影像103及目標影像104被接收於電腦120中。黃金影像103及目標影像104可作為影像檔案而被接收，影像檔案之內容隨後被載入於記憶體122中以由修改偵測器124處理。修改偵測器124可連同影像處理庫123執行下文所闡述之影像處理演算法，以偵測相對於黃金影像103對目標影像104之未經授權修改。
圖2展示根據本發明之一實施例之檢查電路板之未經授權修改之一方法200之一流程圖。可由電腦120中之修改偵測器124執行方法200。在圖2之實例中，以順序次序對黃金影像103及目標影像104執行方法200之步驟。舉例而言，在步驟206中處理之影像已經被設定為同一畫布大小(如在步驟202中)、使用經定位基準點作為參考(如在步驟203中)而進行了透視變換(如在步驟204中)，且已被模糊處理(如在步驟205中)。
在步驟201中，將黃金影像103及目標影像104載入於記憶體122中以用於處理。舉例而言，黃金影像103及目標影像104可使用OpenCV庫之「imread」函式自其各別檔案被載入。
在步驟202中，將黃金影像103及目標影像104設定為具有同一畫布大小。在一項實施例中，畫布大小係指以像素為單位的一影像之寬度及高度。更特定而言，黃金影像103及/或目標影像104可按比例增大 或減小，使得兩個影像具有相同寬度及高度。將該兩個影像設定為具有同一畫布大小包含調整一個或兩個影像之一個或兩個尺寸(亦即，寬度及/或高度)。一影像可具有在邊緣處之周圍白色部分，該等周圍白色部分展示並非電路板之一部分的部分。該等白色部分可被放大使得黃金影像103及目標影像104具有同一畫布大小。
在步驟203中，在黃金影像103及目標影像104中之每一者上定位基準點。一基準點係一影像上之一參考點。在一項實施例中，在每一影像上定位四個基準點(一個隅角上一個基準點)。舉例而言，該等基準點可係一電路板之每一隅角上之安裝孔(例如，螺絲孔)。
在步驟204中，對黃金影像103及目標影像104中之每一者執行透視變換。黃金電路板101及目標電路板102係在其各別影像上以兩個維度來表示之三維物件。透視變換校正或最少化因將三維電路板投影至二維影像而導致之誤差。在步驟204中找到之基準點可用來藉由透視變換將黃金影像103及目標影像104校準及對準為具有同一大小及縱橫比。亦即，可使用一影像上之經定位基準點作為參考來執行該影像之透視變換。舉例而言，可連同OpenCV庫之「getPerspectiveTransform」函式採用在步驟203中定位之四個基準點來對黃金影像103及目標影像104執行透視變換。
在步驟205中，對黃金影像103及目標影像104進行模糊處理以降低該等影像之雜訊位準。該模糊處理步驟使諸如雙列直插記憶體模組(DIMM)承窩、散熱器等雙列直插封裝(DIP)組件之邊界邊緣平滑化。該模糊處理步驟有利地減小此等組件在其出現在影像上時之不必要位移容差。
在步驟206中，比較黃金影像與目標影像之對應像素之強 度。在一項實施例中，自黃金影像103減去目標影像104以產生一差影像。在一灰階影像中，每一像素具有一矩陣位置及一強度。在一8位元強度之情形中，該強度可在0至255之範圍中。在一項實施例中，一零強度被指定為最小強度且一255強度被指定為最大強度，其中一1至254強度係最小強度與最大強度之間的一明暗度。在一項實施例中，具有最小強度之一像素在影像上表現為黑色，而具有最大強度之一像素在影像上表現為白色。
對於每一像素，該減法步驟將目標影像104之一像素之強度自黃金影像103之一對應像素(亦即，相同矩陣位置)之強度減去。當黃金影像103與目標影像104之對應像素具有相同強度時，差影像之一像素具有一零強度。在一項實施例中，具有一零強度的差影像之一像素指示沒有修改且將在差影像上表現為全黑，亦即，最小強度。在一項實施例中，具有一負強度的差影像之一像素出於偵測未經授權修改之目的而被忽略，因為負強度指示裝配誤差(例如，遺漏組件)而非未經授權修改(此通常涉及將組件(例如，駭侵晶片)添加至目標電路板102)。
在一項實施例中，當黃金影像103與目標影像104之對應像素具有不同強度時，差影像之一像素將具有一非零強度。在彼情形中，比較該非零強度與一強度臨限值，且在該非零強度超過該強度臨限值時將該非零強度轉換為最大強度。該強度臨限值可經調整以強調或撤銷強調在目標影像104與黃金影像103上具有不同強度之像素區段(步驟207)。亦即，在臨限值化之後，具有滿足(亦即，等於或大於)強度臨限值之強度的差影像之像素將表現為更顯著的，從而使其更容易與具有低於強度臨限值之強度之像素區分開。
具有滿足強度臨限值之強度之像素區段指示目標影像104與黃金影像103之間的差且因此指示未經授權修改。可用標記識別在本文中亦稱為異常區段之此等像素區段(步驟208)。可將該等標記疊加在目標影像104上(步驟209)以在目標影像104上定位異常區段(步驟210)。可增強目標影像104之一部分(例如，象限)(其中一標記識別一未經授權修改)以促進識別未經授權修改(步驟211)。該增強可涉及放大具有未經授權修改之區段。
回應於偵測到一未經授權修改，可發出一警告(步驟212)以通知檢查人員在目標電路板102上偵測到未經授權修改。該警告可係視覺的(例如，閃光燈、彩色按鈕或一介面上之圖標)、聽覺的(例如，警報聲音)、文字的(例如，文字訊息、電子郵件、記錄項目、訊息視窗、一介面上之字符)，或呈某一其他形式。
圖3展示根據本發明之一實施例之在一影像上定位基準點之一方法250之一流程圖。可將方法250執行為方法200(參見圖2)之在黃金影像103及目標影像104中之每一者上定位基準點之步驟203。在已將兩個影像設定為具有同一畫布大小之後(亦即，在方法200之步驟202之後)執行方法250。在圖3之實例中，以順序次序執行方法250之步驟。
在步驟251中，將一影像自一灰階影像轉換為二進制影像。一灰階影像具有介於自最小強度(例如，「0」)至最大強度(例如，「255」)之範圍內之像素強度之一光譜分佈。在該光譜分佈中，每一強度具有相關聯數目個具有彼強度之像素。自最大強度下至一截止強度之一強度累積促使一像素數目比整個影像之總像素計數之一百分比大。截止強度可用作用於將灰階影像轉換為二進制影像之一極限。舉例而言，可將低於 截止強度之一強度轉換為最小強度，且可將等於或大於截止強度之一強度轉換為最大強度。二進制影像上之每一像素將導致具有兩個可能強度中之一者，亦即，最小強度或最大強度。此後將二進制影像反轉以產生一經反轉二進制影像(步驟252)。可藉由將二進制影像之每一像素之強度反轉(亦即，自最大強度至最小強度且反之亦然)而產生經反轉二進制影像。
在步驟253中，擴大影像以使影像之白色部分擴展一預定因子。該擴大步驟致使影像之白色部分變得更大，藉此自影像移除某些雜訊。亦即，擴展影像之白色部分會移除影像上之較小黑色部分。舉例而言，可使用OpenCV庫之「擴大」函式來執行該擴大步驟。
在步驟254中，侵蝕影像之白色部分以增強影像之白色部分與黑色部分之間的對比度。在一項實施例中，一電路板上之安裝孔用作基準點。該侵蝕步驟在影像上之經增強對比度之情況下使該等安裝孔表現為更顯著的。舉例而言，可使用OpenCV庫之「侵蝕」函式執行該侵蝕步驟。
在步驟255中，找到影像之輪廓。一輪廓係將沿著一邊界具有相同強度之連續點結合起來之一曲線。影像之輪廓展示影像上之特徵。舉例而言，可使用OpenCV庫之「findContours」函式來找到影像上之所有輪廓。
在步驟256中，藉由一矩形來對影像之每一輪廓定界。一輪廓具有在本文中亦稱為「輪廓中心點」之一中心點。針對每一輪廓，可藉由找到輪廓中心點且產生具有覆蓋輪廓之一周界之一矩形來找到一定界矩形。一定界矩形之一最小面積可經指定使得可移除具有不滿足(亦即，小於)該最小面積之定界矩形之輪廓而不予以檢查考量。舉例而言，可使 用OpenCV庫之「boundingRect」函式藉由矩形來對影像之輪廓進行定界。
在步驟257中，找到整個影像之一主要中心點。在一項實施例中，整個影像之主要中心點係影像上之最大輪廓之輪廓中心點。
在步驟258中，相對於主要中心點來定位基準點。在一項實施例中，相對於主要中心點將一影像劃分成四個象限。針對每一象限，計算自主要中心點至輪廓中心點之距離(例如，使用勾股定理(Pythagorean Theorem))，且選擇距主要中心點具有最大距離之輪廓中心點作為彼象限上之基準點。可執行步驟258以在影像之每一隅角上定位基準點。
在步驟259中，給影像上之每一經定位基準點指派一名稱。在一項實施例中，在自影像之左上角開始之一順時針方向上給基準點指派自1至4之數字名稱。
圖4至圖11用圖片圖解說明根據本發明之一實施例之檢查電路板之未經授權修改之一方法。
參考圖4之實例，展示自影像獲取系統110接收之一黃金影像103及一目標影像104。黃金影像103及目標影像104之畫布大小被設定為同一畫布大小(參見箭頭301)。一畫布大小可就以像素為單位之寬度及高度而言。在一項實施例中，畫布大小之一寬度被設定為黃金影像103與目標影像104之間的最大畫布寬度且畫布大小之一高度係黃金影像103與目標影像104之間的最大畫布高度。在圖4之實例中，黃金影像103具有100×100個像素之一畫布大小且目標影像104具有200×150個像素之一畫布大小。因此，黃金影像103藉由將其寬度(參見箭頭271)及高度(參見箭 頭272)增加至200×150個像素來比例增大。應注意，為了便於圖解說明而給出前述畫布大小。大體而言，可使用可用之最高解析度影像。黃金影像103被再次標示為「103-1」且目標影像104被再次標示為「104-1」以指示其已被比例縮放至同一畫布大小。
根據本發明之一實施例，圖5至圖7用圖片圖解說明在一影像上定位基準點且圖8用圖片圖解說明使用經定位基準點作為參考來對影像執行透視變換。可對圖4之黃金影像103-1及目標影像104-1中之每一者執行圖5至圖8中所圖解說明之影像處理步驟。
參考圖5之實例，一灰階影像351-1被轉換為一經反轉二進制影像351-2(參見箭頭302)。灰階影像351-1可係圖4中所展示之黃金影像103-1或目標影像104-1。灰階影像351-1可被轉換為二進制影像，且可將該二進制影像反轉以產生經反轉二進制影像351-2。應注意，係一空隙之一安裝孔(例如，參見虛線圓圈352)將在二進制影像中表現為白色(未展示)。將二進制影像反轉會使安裝孔在經反轉二進制影像351-2上表現為黑色(例如，參見虛線圓圈353)。經反轉二進制影像351-2因此促進用作基準點之安裝孔之定位。
在圖6之實例中，擴大經反轉二進制影像351-2以擴展經反轉二進制影像351-2上之白色部分(參見箭頭303)。該擴大步驟自經反轉二進制影像351-2移除小黑點，從而產生經擴大影像351-3。此後，侵蝕經擴大影像351-3之白色部分以增加黑色部分之可見性及對比度(參見箭頭304)，從而產生經侵蝕影像351-4。找到經侵蝕影像351-4上之輪廓(參見箭頭305)。用矩形來對輪廓進行定界，其中移除較小定界矩形及其輪廓而不予以檢查考量(參見箭頭306)。在一項實施例中，用於移除較小定界矩 形之臨限值基於基準點之大小。作為一特定實例，當安裝孔用作基準點時，移除具有比一安裝孔小之一面積之定界矩形而不予以檢查考量。
在圖6之實例中，影像351-5係用定界矩形(其被圖解說明為小正方形)展示之經侵蝕影像351-4且影像351-6係在移除較小定界矩形之情況下展示之經侵蝕影像351-4。應注意，定界矩形不必須展示於一影像上，而是出於圖解說明目的展示於影像351-5及351-6上。
在圖7之實例中，在影像351-6之每一象限上定位基準點(參見箭頭307)。影像351-6之主要中心點375(其亦被標示為原點(0,0))僅出於圖解說明目的而位於影像之中間。應注意，在一項實施例中，主要中心點375係最大輪廓之輪廓中心點，其未必位於影像之中間。影像351-6之象限I、II、III及IV係相對於主要中心點375的。將基準點371、372、373及374定位為相對於同一象限上之其他輪廓中心點距主要中心點375最遠之輪廓中心點。在自影像351-6之左上角開始之一順時針方向上給經定位基準點371、372、373及374指派數字名稱(參見箭頭308)。
在圖8之實例中，對影像351-1執行透視變換(亦在圖5中展示)。如先前所述，影像351-1可係圖4中所展示之黃金影像103-1或目標影像104-1。在圖8之實例中，出於圖解說明目的而放大影像351-1之透視誤差。在影像351-1上識別先前經定位基準點371、372、373及374(參見箭頭401)。隅角位於基準點371、372、373及374上之四邊形421圖解說明在透視變換之前影像351-1上之透視誤差。使用基準點371、372、373及374作為參考，對影像執行透視變換(參見箭頭402)以產生經透視變換之影像451-1。隅角位於基準點371、372、373及374上之四邊形422圖解說明相對於影像351-1之透視變換(比較四邊形422與四邊形421)。可出於雜訊減 少目的而對影像451-1進行模糊處理。
在圖9之實例中，一黃金影像502及一目標影像501分別表示在透視變換及模糊處理之後圖4之黃金影像103-1及目標影像104-1。自黃金影像502減去目標影像501以產生一差影像503(參見箭頭403)。差影像503之每一像素具有一強度，該強度係黃金影像502與目標影像501之對應像素之強度之間的差。在圖9之實例中，具有零強度之一像素表現為黑色。因此，在差影像503上，黑色像素區段指示沒有修改，而較淺色像素區段指示一修改。可執行一臨限值化步驟以識別滿足一強度臨限值之像素，使得可增加彼等經識別像素之強度(例如，至最大強度)以增強可見性。在圖9之實例中，一白色像素區段係識別一未經授權修改之一位置之一異常區段。如圖10中所圖解說明，用疊加於目標影像501上之一標記505來標記異常像素區段。
可增強在標記505附近的目標影像501之部分以增加未經授權修改之可見性。在圖11之實例中，一經增強視圖506係在標記505附近的目標影像501之區域之一放大。如在經增強視圖506中更明顯，識別出未存在於黃金影像502上之一特徵507。特徵507可係一跳接線、表面安裝組件或未經授權位於目標電路板102上之其他特徵。
已揭示用於檢查電路板之未經授權修改之系統及方法。雖然已提供本發明之特定實施例，但應理解，此等實施例係出於圖解說明目的而非限制性的。閱讀本發明之熟習此項技術者將明瞭許多額外實施例。
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Claims (20)

  1. 一種檢查電路板之未經授權修改之方法，該方法包括： 獲取一目標電路板之一影像以產生一目標影像且獲取一黃金電路板之一影像以產生一黃金影像，該黃金電路板係一已知良好電路板； 在該目標影像上及該黃金影像上定位複數個基準點； 使用該目標影像上之該等基準點作為參考來對該目標影像執行透視變換且使用該黃金影像上之該等基準點作為參考來對該黃金影像執行透視變換； 在對該目標影像且對該黃金影像執行透視變換之後，識別該目標影像之一異常像素區段，該目標影像之該異常像素區段具有與該黃金影像之一對應像素區段之強度不同之強度；及 回應於識別出該異常像素區段而發佈一警告。
  2. 如請求項1之方法，其中識別該目標影像之該異常像素區段包括： 自該黃金影像之像素強度減去該目標影像之像素強度以產生一差影像；及 在該差影像上識別具有非零強度之像素。
  3. 如請求項2之方法，其進一步包括： 用一標記來標記具有該等非零強度之該等像素；及 將該標記疊加在該目標影像上。
  4. 如請求項1之方法，其進一步包括： 增強包含該異常像素區段的該目標影像之一部分。
  5. 如請求項1之方法，其中在該目標影像上及該黃金影像上定位該複數個基準點包括： 針對該目標影像及該黃金影像中之每一者： 將該影像自灰階轉換為二進制以產生二進制影像； 將該二進制影像反轉以產生一經反轉影像； 擴大該經反轉影像以產生一經擴大影像； 侵蝕該經擴大影像以產生一經侵蝕影像； 找到該經侵蝕影像之一主要中心點；及 針對該經侵蝕影像之每一象限，將一基準點定位為相對於該象限上之其他點距該主要中心點最遠之一點。
  6. 如請求項5之方法，其中找到該經侵蝕目標影像之該主要中心點包括： 找到該經侵蝕目標影像上之複數個輪廓，其中該主要中心點係該複數個輪廓當中最大之一輪廓之一中心點。
  7. 如請求項6之方法，其進一步包括： 利用定界矩形對該複數個輪廓進行定界；及 移除定界矩形具有比一最小面積小之一面積之輪廓而不予以檢查考量。
  8. 如請求項1之方法，其中該目標影像及該黃金影像中之每一者係一X射線影像。
  9. 一種用於偵測對電路板之未經授權修改之系統，該系統包括： 一影像獲取系統，其經組態以獲得一目標電路板之一影像以產生一目標影像且獲得一黃金電路板之一影像以產生一黃金影像，該黃金電路板係一已知良好電路板；及 一電腦，其包括一處理器及一記憶體，該記憶體儲存在由該處理器執行時致使該電腦進行以下操作之指令： 在該目標影像上及該黃金影像上定位複數個基準點； 使用該目標影像上之該複數個基準點作為參考來對該目標影像執行透視變換且使用該黃金影像上之該複數個基準點作為參考來對該黃金影像執行透視變換；及 在該目標影像及該黃金影像之該透視變換之後，識別該目標影像之一異常像素區段，該目標影像之該異常像素區段具有與該黃金影像之一對應像素區段之強度不同之強度。
  10. 如請求項9之系統，其中該影像獲取系統包括一X射線成像機器。
  11. 如請求項9之系統，其中該等指令在由該處理器執行時致使該電腦藉由以下方式識別該異常像素區段： 自該黃金影像之像素強度減去該目標影像之像素強度以產生一差影像；及 在該差影像上識別具有非零強度之像素。
  12. 如請求項9之系統，其中該等指令在由該處理器執行時致使該電腦進行以下操作： 用一標記來標記該異常像素區段；及 將該標記疊加在該目標影像上。
  13. 如請求項9之系統，其中該等指令在由該處理器執行時致使該電腦增強包含該異常區段的該目標影像之一區域。
  14. 如請求項9之系統，其中該等指令在由該處理器執行時致使該電腦藉由以下方式在該目標影像上及該黃金影像上定位該複數個基準點： 針對該目標影像及該黃金影像中之每一者： 將該影像自灰階轉換為二進制以產生二進制影像； 將該二進制影像反轉以產生一經反轉影像； 擴大該經反轉影像以產生一經擴大影像； 侵蝕該經擴大影像以產生一經侵蝕影像； 找到該經侵蝕影像之一主要中心點；及 針對該經侵蝕影像之每一象限，將一基準點定位為相對於該象限上之其他點距該主要中心點最遠之一點。
  15. 一種檢查電路板之未經授權修改之方法，該方法包括： 在目標電路板之一目標影像上及一黃金電路板之一黃金影像上定位基準點，該黃金電路板係一已知良好電路板； 使用該目標影像上之該等基準點作為參考來對該目標影像執行透視變換且使用該黃金影像上之該等基準點作為參考來對該黃金影像執行透視變換； 在對該目標影像且對該黃金影像執行透視變換之後，將該目標影像之像素之強度自該黃金影像之對應像素之強度減去；及 藉由識別具有不同強度的該目標影像之像素及該黃金影像之對應像素而偵測對該目標電路板之一未經授權修改。
  16. 如請求項15之方法，其中該目標影像及該黃金影像中之每一者係一X射線影像。
  17. 如請求項15之方法，其進一步包括： 在對該目標影像且對該黃金影像執行透視變換之後但在將該目標影像之像素之該等強度自該黃金影像之對應像素之強度減去之前，對該目標影像且對該黃金影像執行雜訊減少。
  18. 如請求項15之方法，其中在該目標影像上及該黃金影像上定位該等基準點包括： 針對該目標影像及該黃金影像中之每一者： 找到該影像上之輪廓之輪廓中心點； 找到該影像之一主要中心點；及 針對該影像之每一象限，選擇一基準點作為相對於該象限上之其他輪廓中心點距該主要中心點最遠之一輪廓中心點。
  19. 如請求項18之方法，其中該影像之該主要中心點係該影像上之一最大輪廓之一輪廓中心點。
  20. 如請求項19之方法，其中該等基準點包括安裝孔。
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