TWI790406B - 發光裝置、發光模組、發光裝置及發光模組之製造方法 - Google Patents

發光裝置、發光模組、發光裝置及發光模組之製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明之課題在於實現小型化且確實並穩定地進行外部連接。 本發明之發光裝置具備：發光元件2，其係於同一面側設置一對電極柱2c而成；被覆構件3，其係覆蓋發光元件2之電極面2b且供設置電極柱2c之露出部而成；一對電極層5，其等係設置於被覆構件3之表面並電性連接於電極柱2c之露出部而成；及一對電極端子6，其等係電性連接於電極層5且設置於被覆構件3之表面而成；且一對電極端子6較電極層5厚且以較一對電極柱2c之間隔大之間隔配置。

Description

發光裝置、發光模組、發光裝置及發光模組之製造方法
本發明係關於一種發光裝置、安裝該發光裝置而成之發光模組、發光裝置及發光模組之製造方法。
已開發有一種發光裝置，其係藉由被覆構件被覆設置有一對電極柱之發光元件之電極面，且於露出於被覆構件之電極柱連接有薄膜之電極層(參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-124443號公報
[發明所欲解決之問題]
以上之發光裝置係藉由電極層進行外部連接，但由於電極層極薄，故而外部連接極其困難且耗費工夫，進而難以穩定並確實地進行連接。
本發明係為了消除以上缺點而開發者，本發明之目的在於提供一種可實現小型化並且確實並穩定地進行外部連接之發光裝置及其製造方法。 [解決問題之技術手段]
本發明之實施形態之發光裝置具備：發光元件，其係於同一面側設置一對電極柱而成；被覆構件，其係覆蓋發光元件且供設置電極柱之露出部而成；一對電極層，其等係設置於被覆構件之表面並電性連接於電極柱之露出部而成；及一對電極端子，其等係電性連接於電極層且設置於被覆構件之表面而成。一對電極端子較電極層厚且以較一對電極柱之間隔大之間隔配置。
本發明之實施形態之發光模組具備：以上之發光裝置；及透光性之導光板，其係於成為向外部放射光之發光面之第1主面之相反側的第2主面設置凹部而成；且於導光板之凹部配置有發光裝置。
本發明之實施形態之發光裝置之製造方法包括如下步驟：準備中間體，該中間體係由被覆構件覆蓋在同一面側具備一對電極柱之發光元件且於被覆構件設置電極柱之露出部而成；於被覆構件之表面形成電性連接於中間體之電極柱之露出部的一對電極層；及電極形成步驟，其係將電性連接於一對電極層之一對電極端子設置為較電極層厚且以較一對電極柱之間隔大之間隔設置。
進而，本發明之實施形態之發光模組之製造方法包括如下步驟：準備藉由以上方法製造而成之發光裝置、以及具備成為發光面之第1主面、及位於與第1主面相反之側且設置凹部而成之第2主面的導光板；將發光裝置固著於凹部；於導光板之第2主面，設置供埋設發光裝置之光反射性構件；以及對光反射性構件進行研磨使電極端子露出，並於該露出之電極端子之表面形成導電膜。 [發明之效果]
本發明之發光裝置及藉由本發明之方法製造之發光裝置具有可實現小型化並且確實並穩定地進行外部連接之特徵。
本發明之發光模組及其製造方法具有如下特徵：可使發光裝置小型化，並且將其安裝於導光板之固定位置而確實並穩定地進行外部連接。
以下，基於圖式對本發明詳細地進行說明。再者，於以下說明中，視需要使用表示特定方向或位置之用語(例如「上」、「下」、及包含該等用語之其他用語)，但該等用語之使用係為了易於參照圖式理解發明，並非由該等用語之含義限制本發明之技術範圍。又，複數個圖式所表示之同一符號之部分表示同一或同等之部分或構件。
進而，以下所示之實施形態係表示本發明之技術思想之具體例者，並非將本發明限定於以下者。又，除非有特定記載，否則以下所記載之構成零件之尺寸、材質、形狀、其相對配置等並非將本發明之範圍僅限定於此之主旨，而是意欲例示本發明之範圍者。又，於一實施形態、實施例中說明之內容亦可應用於其他實施形態、實施例。又，有時為了使說明明確，而將圖式所表示之構件之大小或位置關係等誇大。
發光裝置具備：發光元件，其係於同一面側設置一對電極柱而成；被覆構件，其係覆蓋設置一對電極柱而成之發光元件之電極面且供設置電極柱之露出部而成；一對電極層，其等係設置於被覆構件之表面並電性連接於電極柱之露出部而成；及一對電極端子，其等係電性連接於電極層且設置於被覆構件之表面而成。一對電極端子較電極層厚且以較一對電極柱之間隔大之間隔配置。 ＜實施形態1＞
將實施形態1之發光裝置1表示為圖1A之剖視圖、圖1B之自斜下方(圖1A之斜下方)觀察所得之立體圖、及圖1C之自斜上方(圖1A之斜上方)觀察所得之立體圖。發光裝置1具備發光元件2、被覆構件3、透光性構件4、電極層5、及電極端子6。發光元件2具備積層有半導體層之積層構造體2a、及設置於作為積層構造體2a之一面(於圖1A中為下表面)之電極面2b之一對電極柱2c。於圖1A之剖視圖中，發光裝置1向上方放射光。
發光元件2具有半導體之積層構造體2a。積層構造體2a包含發光層、以及隔著發光層之n型半導體層及p型半導體層，於電極面2b設置有n側及p側之電極柱2c。作為發光元件2，縱、橫及高度之尺寸並無特別限制，較佳為使用俯視下縱及橫之尺寸為1000 μm以下之積層構造體2a，更佳為縱及橫之尺寸為500 μm以下，進而較佳為縱及橫之尺寸為200 μm以下。若使用此種發光元件2，則於進行液晶顯示器裝置之區域調光時可實現高精細之影像。又，若使用縱及橫之尺寸為500 μm以下之發光元件2，則可低價地提供發光元件2，故而可使發光模組變得低價。再者，縱及橫之尺寸兩者均為250 μm以下之發光元件2由於發光元件2之光放射面2d之面積變小，故而來自發光元件2之側面之光之出射量相對地變多。即，此種發光元件2由於配向特性容易變成蝙蝠翼型，故而可較佳地用於發光元件2接合於導光板且發光元件2與導光板之距離極短之本實施形態之發光模組。
被覆構件3設置為以使一對電極柱2c之表面露出之方式覆蓋發光元件2之電極面2b及側面。被覆構件3位於發光元件2之周圍且供埋設發光元件2，使發光元件2之電極柱2c露出於表面。被覆構件3使外周面與透光性構件4之外周面為同一平面，亦密接於透光性構件4。被覆構件3係與發光元件2及透光性構件4接合為一體構造而製作成發光裝置1。
被覆構件3例如較佳為以聚矽氧樹脂、聚矽氧改性樹脂、環氧樹脂、酚系樹脂等聚合物為主成分之樹脂構件。被覆構件3較佳為設為光反射性之樹脂構件。所謂光反射性樹脂係指對來自發光元件2之光之反射率為70%以上之樹脂材料。例如，較佳為白色樹脂等。到達至被覆構件3之光被反射後朝向發光裝置1之發光面，藉此，可提高發光裝置1之光提取效率。又，於如中間體8之形狀之情形時，作為被覆構件3，較佳為設為透光性之樹脂構件。此情形時之被覆構件3可使用與下述透光性構件4同樣之材料。
透光性構件4係以覆蓋發光元件2之光放射面2d(於圖1A中為上表面且為與形成有電極柱2c之電極面2b對向之面)之方式設置，使自光放射面2d出射之光透過。透光性構件4藉由包含下述螢光體，可將來自發光元件2之發光色調整後放射。透光性構件亦可由複數層形成。
透光性構件4可使用透光性樹脂、玻璃等。尤佳為透光性樹脂，可使用聚矽氧樹脂、聚矽氧改性樹脂、環氧樹脂、酚系樹脂等聚合物、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、甲基戊烯樹脂、聚降冰片烯樹脂等熱塑性樹脂。尤其是，耐光性、耐熱性優異之聚矽氧樹脂為宜。
透光性構件4亦可包含螢光體。螢光體使用可由自發光元件之發光激發者。例如，作為可由藍色發光元件或紫外線發光元件激發之螢光體，可列舉藉由鈰而活化之釔-鋁-石榴石系螢光體(YAG：Ce)；藉由鈰而活化之鎦-鋁-石榴石系螢光體(LAG：Ce)；藉由銪及/或鉻而活化之含氮鋁矽酸鈣系螢光體(CaO-Al2 O3 -SiO2 )；藉由銪而活化之矽酸鹽系螢光體((Sr,Ba)2 SiO4 )；β賽隆螢光體、CASN(calcium aluminum silicon nitroge，鈣鋁矽氮)系螢光體、SCASN((strontium,calcium) aluminum silicon nitroge，(鍶,鈣)鋁矽氮)系螢光體等氮化物系螢光體；KSF系螢光體(K2 SiF6 ：Mn)；硫化物系螢光體、量子點螢光體等。藉由將該等螢光體與藍色發光元件或紫外線發光元件組合，可製成各種顏色之發光裝置1(例如白色系之發光裝置1)。
又，出於調整黏度等目的，於透光性構件4中亦可含有各種填料等。
透光性構件4可採用各種態樣。例如於圖1D之剖視圖中表示透光性構件4之變化例。於圖1D所示之發光裝置1D中，具備覆蓋第1透光性構件4A之放射面(於圖1D中為上表面且為與發光元件2相反之側之面)之第2透光性構件4B。第1透光性構件4A接合於發光元件2之光放射面2d，使自發光元件2之光放射面2d出射之光透過。第1透光性構件4A亦可包含螢光體。第2透光性構件4B係使透過光擴散之光擴散部。透光性構件4係將第1透光性構件4A與第2透光性構件4B接合，且將第1透光性構件4A配置於發光面側。透光性構件亦可積層複數個第1透光性構件或第2透光性構件。
透光性構件4可進而採用另一態樣。於圖1E之剖視圖中表示透光性構件4之另一變化例。於圖1E所示之發光裝置1E之例中，透光性構件4係以覆蓋發光元件2之光放射面2d及積層構造體2a之側面之方式設置，使自光放射面2d及積層構造體2a之側面出射之光透過。亦可於透光性構件4之上表面設置光擴散部。
於圖1E中，被覆構件3設置為以使一對電極柱2c之表面露出之方式覆蓋透光性構件4之與上表面為相反側之面(於圖1E中為下表面)、發光元件2之電極面2b及電極柱2c側面。被覆構件3使外周面與透光性構件4之外周面為同一平面，亦密接於透光性構件4。被覆構件3係與發光元件2及透光性構件4接合為一體構造而製作成發光裝置1。
一對電極層5分別電性連接於一對電極柱2c。各電極層5之面積大於各電極柱2c之面積。換言之，電極層5係以連續覆蓋發光元件2之電極柱2c及被覆構件3之方式設置。
電極端子6積層並電性連接於電極層5之表面。電極端子6較電極層5厚，進而分開為較一對電極柱2c之間隔大之間隔而配置。間隔較大之電極端子6可在防止端子間短路等弊端的同時進行外部連接，又，較厚之電極端子6之發光裝置1可確實並穩定地電性連接於外部。
如圖1A所示，透光性接著構件16被覆發光元件2之側面及透光性構件4之一部分。再者，透光性接著構件16之外側面較佳為自發光元件2之側面朝向透光性構件4擴大之傾斜面，更佳為向發光元件2側呈凸狀之曲面。藉此，可將自發光元件2之側面發出之光進一步向透光性構件4導引，從而可提高光提取效率。
又，亦可於發光元件2之光放射面2d與透光性構件4之間具有透光性接著構件16。藉此，例如藉由在透光性接著構件16中含有擴散劑等，自發光元件2之光放射面2d發出之光藉由透光性接著構件16而擴散並進入至透光性構件4，藉此可減少亮度不均。透光性接著構件16可使用與下述透光性接合構件12相同之構件。
此種發光裝置1可藉由以下步驟而形成。 包括如下步驟：(1)準備中間體8之步驟，該中間體8具備在電極面2b具備一對電極柱2c之發光元件2、及以使各電極柱2c之表面之一部分露出之方式覆蓋發光元件2之被覆構件3； (2)積層步驟，其係形成電性連接於露出之一對電極柱2c並連續覆蓋電極柱2c及被覆構件3的金屬層9； (3)分割步驟，其係對金屬層9照射雷射光將金屬層9之一部分去除，分離為一對電極層5，而形成相互隔開並且面積大於一對電極柱2c之各者之一對電極層5；以及 (4)電極形成步驟，其係將電性連接於一對電極層5之一對電極端子6設置為較電極層5厚且以較一對電極柱2c之間隔大之間隔設置。
以下，使用圖2A～圖2E對發光裝置之製造步驟進行詳細說明。 (準備中間體之步驟)
如圖2A所示，準備具備發光元件2及被覆構件3之中間體8。發光元件2具備積層構造體2a，且於積層構造體2a之同一面側具備一對電極柱2c。被覆構件3以使一對電極柱2c之表面之一部分露出之方式被覆發光元件2。1個中間體8具備複數個發光元件2，各發光元件2以於縱向及橫向上規律地排列之狀態，由被覆構件3一體地被覆。再者，於對步驟進行說明之圖(例如圖2A～圖2E)中，為了便於說明，而例示出2個發光元件2，但個數並不限定於此。
發光元件2間之距離可根據作為目標之發光裝置1之大小、發光元件2之大小等適當選擇。但是，於在後續步驟中將被覆構件3切斷而分割為複數個發光裝置1之方法中，亦考慮該切斷部分之寬度(切斷刀之寬度)等進行配置。
又，於圖2A中，例示出在發光元件2之下表面(為光放射面2d且為與電極面2b對向之面)具有透光性構件4之中間體8。然而，未必需要透光性構件4，亦可將該透光性構件4省略。中間體8係使未形成電極柱2c之側之面(於圖2A中為形成有透光性構件4之面)與支持構件30對向而載置於該支持構件30上。 (形成金屬層9之積層步驟)
其次，如圖2B所示，形成連續覆蓋露出之一對電極柱2c及被覆構件3之金屬層9。金屬層9可藉由濺鍍、蒸鍍、原子層堆積(Atomic Layer Deposition；ALD)法或有機金屬化學氣相沈積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition；MOCVD)法、電漿CVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition；PECVD)法、大氣壓電漿成膜法等形成。
金屬層9較佳為例如最表面之層為Au、Pt等鉑族元素之金屬。又，亦可將焊接性良好之Au用於最表面。
金屬層9可僅由單一材料之一層構成，亦可積層不同材料之層而構成。尤佳為使用高熔點之金屬層9，例如可列舉Ru、Mo、Ta等。又，藉由將該等高熔點之金屬設置於發光元件2之電極柱2c與最表面之層之間，可製成防擴散層，該防擴散層能夠減少焊料中所包含之Sn擴散至電極柱2c或靠近電極柱2c之層。作為具備此種防擴散層之積層構造之例，可列舉Ni/Ru/Au、Ti/Pt/Au等。又，作為防擴散層(例如Ru)之厚度，較佳為10 Å～1000 Å左右。
關於金屬層9之厚度，可進行各種選擇。可設為選擇性地引起雷射剝蝕之程度，例如較佳為1 μm以下，更佳為1000 Å以下。又，較佳為可減少電極柱2c之腐蝕之厚度、例如5 nm以上。此處，於積層複數層而構成金屬層9之情形時，所謂金屬層9之厚度係指該複數層之合計厚度。 (形成電極間狹縫之分割步驟)
如圖2C所示，對金屬層9照射雷射光，而設置不具有金屬層9(電極層5)之電極間狹縫作為絕緣區域10。雷射光係照射至設置於發光元件2之一對電極柱2c之間之絕緣區域10。圖3之俯視圖示出配置於電極層5之間之絕緣區域10。絕緣區域10不僅延伸至發光元件2之一對電極柱2c之間，而且亦延伸至位於其延長方向上之被覆構件3之表面，而將金屬層9分割。
電極間狹縫之絕緣區域10之寬度與發光元件2之電極柱2c間之寬度大致相同。圖3之發光裝置1係使絕緣區域10之寬度略微大於電極柱2c之寬度。絕緣區域10係藉由雷射剝蝕被去除金屬層9。金屬層9於絕緣區域10被去除，從而被覆構件3呈狹縫狀露出於發光元件2之一對電極柱2c之間。
雷射光可藉由使其照射點於構件上連續地或逐次移動，而照射至金屬層9。雷射光可連續照射，亦可脈衝照射。可考慮被覆構件3或金屬層9之熱導率及其等之熱導率差等，以於被覆構件3上之金屬層9產生雷射剝蝕之方式設定雷射光之強度、照射點之直徑及照射點之移動速度。
雷射光之波長較佳為選擇對金屬層9之反射率較低之波長、例如反射率為90%以下之波長。例如，於金屬層9之最表面為Au之情形時，相較於紅色區域(例如640 nm)之雷射，較佳為使用較綠色區域(例如550 nm)短之發光波長之雷射。藉此，可高效率地產生剝蝕，從而提高量產性。
圖3之俯視圖所示之發光裝置1由於使用包含複數個發光元件2之中間體8，故而如圖2C及圖3所示，藉由照射雷射光將金屬層9之一部分去除，於1個發光元件2之一對電極柱2c間金屬層9成為分斷之狀態，但該金屬層9係與覆蓋鄰接之複數個發光元件2之電極柱2c之金屬層9連續之狀態。圖3之中間體8係於下述分離為發光裝置之步驟中，藉由將金屬層9於鄰接之發光元件間(圖2E之虛線X所表示之切斷線)切斷，而金屬層9被分割為電極層5。再者，於形成電極間狹縫之分割步驟中，將雷射光亦照射至發光元件間之切斷線X、Y，藉此僅藉由雷射照射便可使金屬層9成為分別獨立之電極層5。
圖3之中間體8係藉由雷射光將金屬層9呈狹縫狀去除而設置絕緣區域10，從而於絕緣區域10之兩側形成一對電極層5。該圖之中間體8係將配置於發光元件2之電極面2b之中央部分的電極間狹縫之絕緣區域10設為於電極面2b之對角方向上延伸之傾斜狹縫10a，於傾斜狹縫10a之兩端部連結有平行狹縫10b。設置於兩端部之平行狹縫10b以相互平行之姿勢，於與電極面2b之對向之2邊平行之方向上延伸。圖3之發光裝置1係將設置於電極面2b之一對電極柱2c之對向緣配置於四邊形之電極面2b之對角方向，並與該對向緣平行地設置有傾斜狹縫10a。即，將傾斜狹縫10a與電極柱2c之對向緣設為平行之姿勢，於電極層5之間配置有絕緣區域10。
圖3之中間體8由於電極柱2c略微向電極層5之絕緣區域10突出，故而設置於各發光裝置1之傾斜狹縫10a之寬度略微大於電極柱2c之間隔。傾斜狹縫10a與平行狹縫10b之連結角(α)為鈍角，於電極間狹縫之絕緣區域10之兩側設置包含寬幅部5A及窄幅部5B之一對電極層5，而於絕緣區域10之對向之兩側(於圖中為左右兩側)設置有一對電極層5。 (電極端子6之形成步驟)
圖2D之步驟係於金屬層9之表面塗佈導電膏而設置電極端子6。導電膏係於黏合劑中混合金屬粉末而成者，黏合劑以未硬化之液狀或膏狀於金屬層9之表面塗佈為固定厚度。塗佈於金屬層9之表面之導電膏係黏合劑硬化後將導電性之電極端子6電性連接於金屬層9而形成。導電膏例如為將作為金屬粉末之銀或銅粉末混合於作為黏合劑之聚合物中而成者，使黏合劑之聚合物硬化而形成導電性之電極端子6。將紫外線硬化樹脂或光硬化樹脂用於黏合劑之導電膏具有如下特徵：於塗佈之狀態下照射紫外線或特定波長之光可使黏合劑於短時間內硬化。導電膏係使用金屬遮罩塗佈於電極面2b之特定位置。金屬遮罩係於供設置電極端子6之位置設置貫通孔。於將金屬遮罩積層於電極面2b之狀態下塗佈導電膏，而將導電膏塗佈於設置電極端子6之位置。照射紫外線或光，使所塗佈之導電膏於短時間內硬化而形成電極端子6。該方法可藉由金屬遮罩之厚度調整電極端子6之膜厚。其原因在於：填充於金屬遮罩之貫通孔之導電膏硬化而成為電極端子6。 (分離為發光裝置之步驟)
具備複數個發光裝置1之中間體8於設置電極端子6之後，如圖2E及圖3所示，沿切斷線X、Y切斷而分離為發光裝置1。分離所得之發光裝置1被安裝至導光板而成為發光模組。
所獲得之發光裝置1具備金屬層9作為電極層5。電極層5分別連接於發光裝置1之一對電極柱2c，並且面積大於一對電極柱2c。又，藉由將金屬層9切斷而獲得之電極層5以到達發光裝置1之端部、即到達發光裝置1之側面之方式形成。藉此，可製成面積更大之電極層5。
電極端子6較金屬層9厚，例如設為金屬層9之10倍以上。電極端子6之厚度係藉由塗佈導電膏之厚度而進行調整。電極端子6積層設置於薄膜之金屬層9。膜厚例如為500埃左右之金屬層9可減少被覆構件3之損傷且可藉由雷射光去除。
積層設置於電極層5之較厚之電極端子6之發光裝置1可將電極端子6穩定並確實地連接於外部。積層設置於電極層5之電極端子6之厚度例如較佳設為10 μm以上，最佳設為20 μm～40 μm。又，發光裝置1於安裝至導光板等之步驟中，於表面積層塑膠等光反射性構件而電性連接於導電膜。光反射性構件係於對表面進行研磨或研削，使電極端子6露出並加工成與光反射性構件為同一平面之狀態下，電性連接於導電膜。對光反射性構件之表面進行研磨而使電極端子6露出於同一平面之步驟中，電極端子6之表面亦被去除一部分。較厚之電極端子6於絕緣層之研磨步驟中不會產生破損，表面之一部分被研磨後可加工成與光反射性構件為同一平面。
不具有電極端子6之發光裝置於被安裝於導光板之狀態下，極難進行光反射性構件之研磨。其原因在於：為了對例如埋設有500埃左右之極薄之電極層5之光反射性構件的表面進行研磨，使薄膜之電極層5在不受損傷之情況下露出，要求極高之研磨精度。
配置於面積大於電極柱2c之電極層5之表面的電極端子6能夠以大於電極柱2c之面積並且以大於電極柱2c之間隔，形成於電極層5之表面。導電膏以特定形狀塗佈於電極層5表面之特定位置，而可形成電極端子6。導電膏將電極層5之表面遮蔽，塗佈於特定區域。
圖1A之發光裝置1係於狹縫狀之絕緣區域10之兩側，配置有於平行狹縫10b之延伸方向上延伸之形狀之電極端子6。該發光裝置1係於電極層5之寬幅部5A之兩側部，與平行狹縫10b平行地配置有長方形之電極端子6。該發光裝置1由於將一對電極端子6分開配置於方形狀之電極面2b之外周緣之對稱位置，故而能以相較於電極柱2c之間隔而言相當大之間隔配置該一對電極端子6，又，可設置相較於電極柱2c而言相當大之電極端子6。較電極柱2c之間隔大、且較電極柱2c大、進而較電極層5厚之電極端子6之發光裝置1於安裝至特定位置而製成發光模組之步驟中，可確實地電性連接於導電膜。 ＜變化例1＞
圖4表示變化例1之發光裝置1。該發光裝置1係電極端子6之形狀及位置不同之變化例，其他構造與實施形態1相同。實施形態1之發光裝置1中，將細長之長方形之電極端子6與平行狹縫10b平行地配置於電極面2b之點對稱之位置，但該發光裝置1中，將電極端子6配置於方形狀之被覆構件3之對向之角部且除中央部以外之區域。具體而言，於位於方形狀之電極面2b之點對稱之位置的兩個角部配置有電極端子6。電極端子6之外形係於方形狀之一個角部設置有切口部6a之形狀，且將切口部6a配置於對向之位置。一對電極端子6係將切口部6a以對向之姿勢配置，且於兩切口部6a之間配置有電極柱2c。進而，電極端子6之兩個外周緣配置於被覆構件之外周緣。該電極端子6能以較大之面積配置於被覆構件3之角部。因此，該電極端子6大於電極柱2c，進而大於電極面2b。 ＜實施形態2＞
實施形態2之發光裝置1之電極端子6之形狀與實施形態1不同。如圖5之俯視圖所示，進行網版印刷而將與實施形態1不同之電極端子6形成於電極層5之表面。網版印刷係將導電膏塗佈於被覆構件3之特定位置之後使之硬化而製成電極端子6。該實施形態之發光裝置1係於藉由與實施形態1相同之步驟形成金屬層9之後，對金屬層9照射雷射光，將金屬層9分割。照射雷射光而設置之絕緣區域10、及電極端子6與實施形態1不同。雷射光係沿著分割為一對電極層5之區域、及發光裝置1之對向之上下2邊照射。雷射光將金屬層9去除而設置狹縫之絕緣區域10，從而將電極層5分割。進而，於圖5中，在發光裝置1之上緣及下緣設置去除金屬層9而成之絕緣區域10。
圖5之發光裝置1中，設置有自電極面2b之中央部沿對角方向延伸之傾斜狹縫10a作為將金屬層9去除而形成之狹縫之絕緣區域10。進而，亦設置有連結於傾斜狹縫10a之兩端部之平行狹縫10b。平行狹縫10b相互平行地配置，且沿著方形狀之電極面2b之對向之2邊(圖中為各發光裝置1之上下2邊)之外周緣平行地配置。傾斜狹縫10a與平行狹縫10b之連結角(α)為銳角，傾斜狹縫10a與平行狹縫10b之連結部位於被覆構件3之角部。該發光裝置1係於圖5中方形狀之被覆構件3之兩側部，設置在與平行狹縫10b交叉之方向上延伸之形狀且為直角三角形狀或梯形狀之電極層5，並於傾斜狹縫10a之兩側配置有一對電極端子6。
圖5之發光裝置1係於電極面2b之兩側以特定橫寬設置有電極端子6。配置於切斷線Y之兩側之電極端子6連續為一地設置為帶狀。該等電極端子6沿切斷線Y被切斷而分離。但是，配置於切斷線Y兩側之鄰接之電極端子亦能夠以設置間隔而分離之狀態設置並且於其等之間沿切斷線Y切斷，雖未對此進行圖示。於此情形時，分離後之電極端子之間隔較佳為大於切斷線Y之切斷寬度。該發光裝置由於自外周緣向內側隔開地配置電極端子，故而於沿切斷線Y切斷之步驟中，電極端子不會被切斷。因此，該發光裝置可減少於沿切斷線Y切斷之步驟中電極端子6或電極層5損傷、例如剝離之弊端。 ＜實施形態3＞
如圖6之俯視圖所示，實施形態3之發光裝置1係將電極層5之形狀設為與實施形態2不同之形狀。該實施形態之發光裝置1係與圖5所示之發光裝置1同樣地對金屬層9照射雷射光而分割金屬層9，但沿著發光裝置1之對向之上下2邊形成之平行狹縫10b之寬度與實施形態2不同。圖6所示之發光裝置1中，使連結於自電極面2b之中央部沿對角方向延伸之傾斜狹縫10a之兩端部的平行狹縫10b之寬度較傾斜狹縫10a之寬度寬。換言之，使對向地形成於方形狀之電極面2b之兩側的俯視梯形狀之電極層5之寬度(圖中為上下寬度)較實施形態2所示之電極層5窄。圖中所示之電極層5之上下寬度設為大於發光元件2之1邊而可被覆電極面2b之電極柱2c之寬度，且設為發光裝置1之1邊之1/2以下。進而，圖6所示之發光裝置1於方形狀之被覆構件3之對向之角部且除中央部以外之區域配置有電極端子6。該等電極端子6係設為與圖4所示之電極端子6同樣之形狀。如圖所示，配置於被覆構件3之對向之角部且點對稱之位置之一對電極端子6橫跨電極層5及被覆構件3之表面而形成。 (發光模組11)
藉由以上步驟製造而成之發光裝置可藉由以下步驟安裝至導光板而製成發光模組。
如圖7之剖視圖所示，發光模組11係於設置於透光性之導光板7之凹部7a安裝有發光裝置1。導光板7於成為向外部放射光之發光面之第1主面7c之相反側的第2主面7d設置有凹部7a。導光板7以特定間距設置有多個凹部7a。於各凹部7a安裝發光裝置1。發光模組11藉由安裝於導光板7之各凹部7a之多個發光裝置1，而自第1主面7c均勻地放射光。 (導光板7)
導光板7係使自光源入射之光以面狀向外部放射之透光性構件。圖7之導光板7於第2主面7d設置複數個凹部7a，且於鄰接之凹部7a之間設置有V型槽7e。於凹部7a內安裝有發光裝置1。導光板7可設置複數個凹部7a並於各凹部7a配置發光裝置1而製成發光模組11，或者，雖未圖示但可於具有一個凹部之導光板配置一個發光裝置而製成發光塊，並將複數個發光塊配置成平面狀而製成發光模組。如圖7所示，設置有複數個凹部7a之導光板7於凹部7a之間設置有格子狀之V型槽7e。
V型槽7e供設置反射光之下述光反射性構件14。填充於V型槽7e之光反射性構件14較佳為反射光之白色樹脂，白色樹脂之光反射性構件14防止發光裝置1之發光入射至由V型槽7e劃分之相鄰導光板7，從而防止各發光裝置1之光洩漏至相鄰處。
導光板7之大小係根據凹部7a之個數設定為最佳大小，例如於具有複數個凹部7a之導光板7中，一邊可設為1 cm～200 cm左右，較佳為3 cm～30 cm左右。厚度可設為0.1 mm～5 mm左右，較佳為0.5 mm～3 mm。導光板7之平面形狀例如可設為大致矩形或大致圓形等。
作為導光板7之材料，可使用丙烯酸、聚碳酸酯、環狀聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯等熱塑性樹脂、環氧、聚矽氧等熱固性樹脂等樹脂材料或玻璃等光學透明材料。尤其是，熱塑性之樹脂材料由於可藉由射出成型高效率地製造，故而較佳。其中，較佳為透明性較高且低價之聚碳酸酯。於製造步驟中，不暴露於如回流焊之高溫環境而製造之發光模組11亦可使用如聚碳酸酯之熱塑性且耐熱性較低之材料。
導光板7例如可藉由射出成型或轉注成形而成形。導光板7藉由模具形成為具有凹部7a之形狀，可減少凹部7a之位置偏移並且低價地大量生產。但是，導光板7亦可於成形為板狀之後，藉由NC(numerical control，數值控制)加工機等進行切削加工而設置凹部7a。
本實施形態之發光模組之導光板能以單層形成，亦可積層複數個透光性之層而形成。於積層複數個透光性之層之情形時，較佳為於任意層間設置折射率不同之層、例如空氣層等。藉此，可製成使光更容易擴散且減少亮度不均之發光模組。此種構成例如可藉由在任意複數個透光性之層之間設置間隔件使該等複數個透光性之層隔開並設置空氣層而實現。又，亦可於導光板7之第1主面7c上設置透光性之層，並於導光板7之第1主面7c與透光性之層之間設置折射率不同之層、例如空氣層等。藉此，可製成使光更容易擴散且減少亮度不均之液晶顯示器裝置。此種構成例如可藉由在任意導光板7與透光性之層之間設置間隔件使該導光板7與透光性之層隔開並設置空氣層而實現。
導光板7於第1主面7c側設置有具有來自發光裝置1之光之反射或擴散功能的光學功能部7b。該導光板7可將來自發光裝置1之光向側方擴散而使導光板7之面內之發光強度平均化。光學功能部7b例如可具有將光於導光板7之面內擴散之功能。光學功能部7b例如為設置於第1主面7c側之圓錐或四角錐、六角錐等多角錐形等之凹陷、或者圓錐台(參照圖7)或多角錐台等之凹陷。藉此，可使用在導光板7、位於光學功能部7b內之折射率不同之材料(例如空氣)及凹陷之傾斜面之界面將所照射之光向發光元件2之側方方向反射者。又，例如亦可為於具有傾斜面之凹陷設置有光反射性之材料(例如金屬等之反射膜或白色之樹脂)等者。光學功能部7b之傾斜面於剖視下可為平面亦可為曲面。進而，考慮上述凹部7a之深度而決定作為光學功能部7b之凹陷之深度。即，光學功能部7b與凹部7a之深度可於其等隔開之範圍內適當設定。
於圖8A～圖8C及圖9A～圖9B所示之步驟中，發光裝置1被安裝至導光板7之凹部7a。如圖8A及圖8B所示，導光板7係將聚碳酸酯等熱塑性樹脂成形，於第2主面7d成形凹部7a並於第1主面7c設置圓錐台狀之光學功能部7b。將發光裝置1接合於該導光板7之凹部7a。發光裝置1係將發光面側之一部分、於圖中為透光性構件4於厚度方向上插入至塗佈有在未硬化狀態下為液狀之透光性接合構件12的凹部7a，並使透光性接合構件12硬化而固著於導光板7。將透光性接合構件12準確地插入至凹部7a之中心，並使透光性接合構件12硬化，而將發光裝置1接合於導光板7。塗佈於凹部7a之處於未硬化狀態之透光性接合構件12係於將發光裝置1接合於導光板7之狀態下向凹部7a之內側被擠出而填充於凹部7a。但是，未硬化狀態之透光性接合構件亦可於將發光裝置1接合於導光板7之後填充於凹部7a。
將透光性構件4接合於凹部7a之底面之透光性接合構件12於未硬化狀態下密接於兩者之表面，硬化後將透光性構件4之表面接合於凹部7a之底面。進而，自透光性構件4與凹部7a之底面之間擠出之透光性接合構件12將透光性構件4之外周接合於凹部7a之內周面。該製造方法係將填充於凹部7a之未硬化時為液狀之透光性接合構件12向凹部7a之內部擠出而進行接合。該方法將填充於凹部7a之透光性接合構件12作為接合劑。
又，藉由調整塗佈於凹部7a內之透光性接合構件12之塗佈量，而將透光性接合構件12自凹部7a之內側面與發光裝置1之外側面之間之間隙擠出至凹部7a之外側。自凹部7a擠出之透光性接合構件12攀附至與被覆構件3之側面相接之位置，而將被覆構件3之側面被覆。進而，透光性接合構件12擴展至與第2主面7d相接之位置，而被覆第2主面7d之一部分。於此狀態下，透光性接合構件12之上表面於垂直剖視下自發光裝置1之上端部朝向外側形成傾斜面12a。藉此，可將透過透光性接合構件12入射至傾斜面12a之光以均勻之狀態向發光面側反射。透光性接合構件12之傾斜面12a係以如下方式形成：將與被覆構件3之外側面之間所成之角設為銳角，較佳為傾斜角β成為5°～85°。
進而，透光性接合構件12亦可攀附至與電極端子6之側面相接之位置而將被覆構件及電極端子6之側面被覆。圖10所示之透光性接合構件12被覆電極端子6之整個外側面。藉此，可擴大傾斜面12a之面積而反射更多之光。又，透光性接合構件12亦可被覆除設置有電極端子6之區域以外之電極層5及絕緣區域10之表面。
關於透光性接合構件12，亦可將傾斜面12a設為剖視下為曲面。圖11所示之透光性接合構件12係將傾斜面12a設為朝向凹部7a側成為凸狀之曲面。該傾斜面12a可使傾斜面12a中之反射光之行進方向成為較廣之範圍而減少亮度不均。
進而，圖11所示之接合構件12之傾斜面12a相較於圖7所示之狀態更加被覆至導光板7之第2主面7d之外側。詳細而言，較佳為：於剖視下，透光性接合構件12更多地被覆第2主面7d。但是，於1個導光板7具有複數個發光裝置1之情形時，透光性接合構件12較佳為不與被覆鄰接之發光裝置1之透光性接合構件12相接。
藉此，可擴大傾斜面12a之面積而反射更多之光。又，該圖所示之透光性接合構件12亦可藉由將傾斜面12a設為於剖視下朝向凹部7a側呈凸狀之曲面，而將反射光擴散至較廣之範圍，從而減少亮度不均。
於圖中，透光性構件4使自發光元件2入射之光透過，並將光入射至供安裝發光裝置1之導光板7。出於使發光模組11薄型化之目的，透光性構件4較佳為如圖所示般位於所安裝之導光板7之凹部7a之內側，不自第2主面7d向表面側突出地配置於凹部7a內。圖7之透光性構件4係設為與凹部7a之深度相等之厚度，使其表面與第2主面7d配置於同一平面。但是，透光性構件4亦可設為位於凹部之內側並自導光板7之第2主面略微向表面側突出的厚度，雖對此未進行圖示。
將發光裝置1固著於導光板7之凹部7a之後，於圖8C所示之步驟中，於導光板7之第2主面7d形成光反射性構件14。光反射性構件14係使用白色樹脂，形成為將發光裝置1埋設於內部之厚度。光反射性構件14密接於被埋設之發光裝置1之側面，而將相互鄰接之發光裝置1彼此以絕緣狀態固定。
於圖9A所示之步驟中，對硬化後之光反射性構件14之表面進行研磨，使電極端子6露出於表面。
於圖9B所示之步驟中，在光反射性構件14之表面形成導電膜15。於該步驟中，藉由印刷、濺鍍等，於發光裝置1之電極端子6及光反射性構件14之上形成Cu/Ni/Au之金屬膜。
複數個發光裝置1亦可分別以獨立驅動之方式被配線。又，亦可將導光板7分割為複數個範圍，將安裝於1個範圍內之複數個發光裝置1設為1組，並將該1組內之複數個發光裝置1彼此藉由串聯或並聯地電性連接而連接於相同電路，且具備複數個此種發光裝置組。藉由進行此種分組，可製成能夠進行區域調光之發光模組11。於圖12中，在導光板7排列有複數個發光模組11，且於其外側設置有一對對準標記18。對準標記18例如設置為2個隔開之凹處。藉由沿通過該2個凹處之間之切斷線Z、例如按照Z1、Z2、Z3之順序進行切斷，可分割為發光模組11。該發光模組11中，發光裝置1配置成4列4行之矩陣狀。
可將1個發光模組11用作1個液晶顯示器裝置之背光裝置。又，亦可將複數個發光模組排列而用作1個液晶顯示器裝置之背光裝置。藉由製作複數個較小之發光模組並分別進行檢查等，與製作較大地安裝之發光裝置之數量較多之發光模組的情形相比，可提高良率。
可將1個發光模組11接合於1個配線基板。又，亦可將複數個發光模組11接合於1個配線基板。藉此，可彙集與外部之電性連接端子(例如連接器)(即，無需逐一準備發光模組)，故而可簡化液晶顯示器裝置之構造。
又，亦可將該接合有複數個發光模組之1個配線基板排列複數個而製成一個液晶顯示器裝置之背光裝置。此時，例如可將複數個配線基板載置於框架等，並分別使用連接器等與外部之電源連接。
再者，亦可於導光板7上進而積層具有擴散等功能之透光性之構件。於此情形時，若光學功能部7b為凹陷，則較佳為以堵塞凹陷之開口(即靠近導光板7之第1主面7c之部分)但不將凹陷掩埋之方式設置透光性之構件。藉此，可於光學功能部7b之凹陷內設置空氣層，從而可將來自發光裝置1之光良好地擴散。
以上，對本發明之若干實施形態進行了例示，但當然本發明並不限定於上述實施形態，只要不脫離本發明之主旨則可設為任意實施形態。
本說明書之揭示內容可包含以下態樣。 (態樣1)
一種發光裝置，其特徵在於，具備： 發光元件2，其係於同一面側設置一對電極柱2c而成； 被覆構件3，其係覆蓋設置一對電極柱2c而成之發光元件2之電極面2b且供設置電極柱2c之露出部而成； 一對電極層5，其等係設置於被覆構件3之表面並電性連接於電極柱2c之露出部而成；及 一對電極端子6，其等係電性連接於電極層5且設置於被覆構件3之表面而成；且 一對電極端子6係較電極層5厚且以較一對電極柱2c之間隔大之間隔配置而成。 (態樣2)
如態樣1之發光裝置，其特徵在於： 設置一對電極柱2c而成之上述發光元件之上述電極面2b為方形狀，且 一對電極端子6配置於電極面2b之外周緣之對稱位置。 (態樣3)
如態樣1或2之發光裝置，其特徵在於： 設置一對電極柱2c而成之發光元件2之電極面2b為方形狀， 於電極面2b，設置有不具有電極層5之絕緣區域10，且 絕緣區域10為電極間狹縫。 (態樣4)
如態樣3之發光裝置，其特徵在於： 配置於電極面2b而成之絕緣區域10之電極間狹縫具有自電極面2b之中央部於對角方向上延伸之傾斜狹縫10a。 (態樣5)
如態樣4之發光裝置，其特徵在於： 作為絕緣區域10之電極間狹縫具有連結於傾斜狹縫10a之兩端部而成之平行狹縫10b，且 平行狹縫10b為相互平行之姿勢，並於與電極面2b之對向之2邊平行之方向上延伸。 (態樣6)
如態樣5之發光裝置，其特徵在於： 傾斜狹縫10a與平行狹縫10b所成之角度為鈍角，且 電極層5設置於狹縫之兩側，具有寬幅部5A及窄幅部5B。 (態樣7)
如態樣5或6之發光裝置，其特徵在於： 一對電極端子6係於平行狹縫10b之延伸方向上延伸之形狀。 (態樣8)
如態樣5或6之發光裝置，其特徵在於： 一對上述電極端子配置於上述被覆構件之對向之角部且除中央部以外之區域。 (態樣9)
如態樣6之發光裝置，其特徵在於： 電極端子6配置於方形狀之電極面2b之對向之角部且除中央部以外之區域，且於電極面2b之中央部配置有電極柱2c。 (態樣10)
如態樣1至9中任一態樣之發光裝置，其特徵在於： 電極端子6之厚度為電極層5之厚度之10倍以上。 (態樣11)
一種發光模組，其具備： 如態樣1至10中任一態樣之發光裝置1；及 透光性之導光板7，其係於成為向外部放射光之發光面之第1主面7c之相反側的第2主面7d設置凹部7a而成；且 發光裝置1配置於導光板7之凹部7a。 (態樣12)
一種發光裝置之製造方法，其包括如下步驟： 準備中間體8，該中間體8係由被覆構件3覆蓋在同一面側具備一對電極柱2c之發光元件2且於被覆構件3設置電極柱2c之露出部而成； 於被覆構件3之表面，形成電性連接於中間體8之電極柱2c之露出部之一對電極層5；及 電極形成步驟，其係將電性連接於一對電極層5之一對電極端子6設置為較電極層5厚且以較一對電極柱2c之間隔大之間隔設置。 (態樣13)
如態樣12之發光裝置之製造方法，其特徵在於： 將電極層5設為金屬之薄膜，並於電極層5之表面塗佈金屬膏而設置電極端子6。 (態樣14)
如態樣12或13之發光裝置之製造方法，其特徵在於： 於形成電極層5之步驟中，在被覆構件3之表面形成金屬層9，且 對金屬層9照射雷射光將金屬層9之一部分去除，而分離為一對電極層5。 (態樣15)
一種發光模組之製造方法，其包括如下步驟： 準備發光裝置及導光板7，該發光裝置係藉由如態樣12至14中任一態樣之方法製造而成， 該導光板7具備成為發光面之第1主面7c、及位於與第1主面7c相反之側且設置凹部7a而成之第2主面7d； 將發光裝置1固著於凹部7a； 於導光板7之第2主面7d，設置供埋設發光裝置1之光反射性構件；以及 對光反射性構件進行研磨使電極端子6露出，並於露出之電極端子6之表面形成導電膜15。 [產業上之可利用性]
本發明之發光裝置、發光模組、發光裝置及發光模組之製造方法可有效地用作面狀體。
1:發光裝置 1D:發光裝置 1E:發光裝置 2:發光元件 2a:積層構造體 2b:電極面 2c:電極柱 2d:光放射面 3:被覆構件 4:透光性構件 4A:第1透光性構件 4B:第2透光性構件 5:電極層 5A:寬幅部 5B:窄幅部 6:電極端子 6a:切口部 7:導光板 7a:凹部 7b:光學功能部 7c:第1主面 7d:第2主面 7e:V型槽 8:中間體 9:金屬層 10:絕緣區域 10a:傾斜狹縫 10b:平行狹縫 11:發光模組 12:透光性接合構件 12a:傾斜面 14:光反射性構件 15:導電膜 16:透光性接著構件 18:對準標記 30:支持構件 X:切斷線 Y:切斷線 Z:切斷線 Z1:切斷線 Z2:切斷線 Z3:切斷線 α:連結角 β:傾斜角
圖1A係一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。 圖1B係自一實施形態之發光裝置之斜下方觀察所得之概略立體圖。 圖1C係自一實施形態之發光裝置之斜上方觀察所得之概略立體圖。 圖1D係另一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。 圖1E係另一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。 圖2A～圖2E係表示圖1A之發光裝置之積層步驟之概略剖視圖。 圖3係一實施形態之發光裝置之概略俯視圖。 圖4係另一實施形態之發光裝置之概略俯視圖。 圖5係另一實施形態之發光裝置之概略俯視圖。 圖6係另一實施形態之發光裝置之概略俯視圖。 圖7係一實施形態之發光模組之局部放大概略剖視圖。 圖8A～圖8C係表示一實施形態之發光模組之製造步驟之概略剖視圖。 圖9A～圖9B係表示一實施形態之發光模組之製造步驟之概略剖視圖。 圖10係另一實施形態之發光模組之局部放大概略剖視圖。 圖11係另一實施形態之發光模組之局部放大概略剖視圖。 圖12係一實施形態之發光模組之概略俯視圖。
1:發光裝置
2:發光元件
2a:積層構造體
2b:電極面
2c:電極柱
2d:光放射面
3:被覆構件
4:透光性構件
5:電極層
6:電極端子
8:中間體
10:絕緣區域
16:透光性接著構件

Claims (16)

  1. 一種發光裝置，其具備：發光元件，其係於同一面側設置一對電極柱而成；被覆構件，其係覆蓋設置一對上述電極柱而成之上述發光元件之電極面且供設置上述電極柱之露出部而成；一對電極層，其等係設置於上述被覆構件之表面並電性連接於上述電極柱之露出部而成，並具有與上述發光元件對向之第1面、及位於上述第1面之相反側之第2面；及一對電極端子，其等係電性連接於上述電極層且設置於上述電極層之第2面而成；且一對上述電極端子較上述電極層厚且以較一對上述電極柱之間隔大之間隔配置，上述電極層之第2面之一部分露出於外部；上述被覆構件於一對上述電極層之間具有雷射損傷區域；設置一對上述電極柱而成之上述發光元件之上述電極面為方形狀；於上述電極面設置有不具有上述電極層之絕緣區域；上述絕緣區域為電極間狹縫；配置於上述電極面而成之上述絕緣區域之上述電極間狹縫具有自上述電極面之中央部於對角方向上延伸之傾斜狹縫。
  2. 如請求項1之發光裝置，其中設置一對上述電極柱而成之上述發光元件之上述電極面為方形狀，且 一對上述電極端子配置於上述電極面之外周緣之對稱位置。
  3. 如請求項1之發光裝置，其中作為上述絕緣區域之上述電極間狹縫具有連結於上述傾斜狹縫之兩端部而成之平行狹縫，且上述平行狹縫為相互平行之姿勢，且於與上述電極面之對向之2邊平行之方向上延伸。
  4. 如請求項1之發光裝置，其中上述傾斜狹縫與上述平行狹縫所成之角度為鈍角，且上述電極層設置於上述狹縫之兩側，具有寬幅部及窄幅部。
  5. 如請求項3之發光裝置，其中一對上述電極端子係於上述平行狹縫之延伸方向上延伸之形狀。
  6. 如請求項4之發光裝置，其中一對上述電極端子係於上述平行狹縫之延伸方向上延伸之形狀。
  7. 如請求項3之發光裝置，其中一對上述電極端子配置於上述被覆構件之對向之角部且除中央部以外之區域。
  8. 如請求項4之發光裝置，其中 一對上述電極端子配置於上述被覆構件之對向之角部且除中央部以外之區域。
  9. 如請求項4之發光裝置，其係將上述電極端子配置於方形狀之上述電極面之對向之角部且除中央部以外之區域，且於上述電極面之中央部配置上述電極柱而成。
  10. 如請求項1或2之發光裝置，其中上述電極端子之厚度為上述電極層之厚度之10倍以上。
  11. 如請求項1之發光裝置，其中上述電極端子之連接面及側面露出於外部。
  12. 如請求項1之發光裝置，其中上述傾斜狹縫之寬度較上述電極柱之間隔大。
  13. 一種發光模組，其具備：發光裝置，其具有：發光元件，其係於同一面側設置一對電極柱而成；被覆構件，其係覆蓋設置一對上述電極柱而成之上述發光元件之電極面且供設置上述電極柱之露出部而成；一對電極層，其等係設置於上述被覆構件之表面並電性連接於上述電極柱之露出部而成；及一對電極端子，其等係電性連接於上述電極層且設置於上述電極層之表面而成；一對上述電極端子較上述電極層厚且以較一對上述電極柱之間隔大之間隔配置，上 述被覆構件於一對上述電極層之間具有雷射損傷區域；透光性之導光板，其係於成為向外部放射光之發光面之第1主面之相反側的第2主面設置凹部而成；及光反射性構件，其於上述發光裝置配置於上述導光板之上述凹部之狀態下，設置於上述導光板之上述第2主面，並與上述導電層及上述電極端子之側面相接；且上述導光板具有V型槽，上述V型槽供配置上述光反射性構件。
  14. 一種發光裝置之製造方法，其包括如下步驟：準備中間體，該中間體係由被覆構件覆蓋在同一面側具備一對電極柱之發光元件之電極面且於上述被覆構件設置上述電極柱之露出部而成；於上述被覆構件之表面形成一對電極層，該一對電極層電性連接於上述中間體之上述電極柱之露出部；及電極端子形成步驟，其係將電性連接於一對上述電極層之一對電極端子設置為較上述電極層厚且以較一對上述電極柱之間隔大之間隔設置；於形成上述電極層之步驟中，在上述被覆構件之表面形成金屬層，且對上述金屬層照射雷射光，將上述金屬層之一部分去除，而分離為一對上述電極層，於上述金屬層之一部分去除之上述被覆構件形成雷射損傷區域，於上述電極端子形成步驟中，使用金屬遮罩於上述電極層之表面塗佈導電膏，使所塗佈之上述導電膏硬化而形成上述電極端子；設置一對上述電極柱而成之上述發光元件之上述電極面為方形狀； 於上述電極面設置有不具有上述電極層之絕緣區域；上述絕緣區域為電極間狹縫；配置於上述電極面而成之上述絕緣區域之上述電極間狹縫具有自上述電極面之中央部於對角方向上延伸之傾斜狹縫。
  15. 如請求項14之發光裝置之製造方法，其中於上述電極端子形成步驟中，上述導電膏係將金屬粉末混合於作為黏合劑之聚合物中而成者，該黏合劑使用紫外線硬化樹脂或光硬化樹脂，於塗佈之狀態下照射紫外線或特定波長之光而使黏合劑硬化。
  16. 一種發光模組之製造方法，其包括如下步驟：準備發光裝置及導光板，該發光裝置係藉由如請求項14或15之方法製造而成，該導光板具備成為發光面之第1主面、及位於與上述第1主面相反之側且設置凹部而成之第2主面；將上述發光裝置固著於上述凹部；於上述導光板之上述第2主面，設置供埋設上述發光裝置之光反射性構件；以及對上述光反射性構件進行研磨使上述電極端子露出，並於該露出之電極端子之表面形成導電膜。
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