TWI788380B - 覆瓦狀顯示器及其製造方法 - Google Patents

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TWI788380B
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道格拉斯艾德華 布萊克雷
亞歷山大李 坤諾
史考特文菲爾德 戴明
尚恩馬修 卡諾
格瑞格利史考特 葛萊思曼
卡列特安卓 皮耶希
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美商康寧公司
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Abstract

一種覆瓦狀顯示器，其具有按列和行排列的像素，並包括第一和第二覆瓦。覆瓦包括承載著以像素間距排列的像素矩陣的基板。基板包括在深度方向上在相對面之間延伸的邊緣。基板邊緣具有互補的形狀，並且彼此面對以形成接縫。在接縫處保持像素間距。第二覆瓦的像素不插入第一覆瓦的像素之間。互補形狀包括與像素列傾斜的接縫的區段，或者在深度方向上成形的第一覆瓦的基板邊緣，由此，邊緣的至少一部分不與該等面垂直。覆瓦狀顯示器可以以高解析度保持接縫處的像素間距(例如，小於0.5mm的像素間距)。

Description

覆瓦狀顯示器及其製造方法
本申請基於專利法要求於2017年7月11日提交的美國臨時申請案編號第62/531,110號的優先權，其內容被本案所依靠且藉由引用整體併入本文。
本公開一般涉及大格式顯示器。更具體地，本發明涉及包括兩個或更多個顯示覆瓦的覆瓦狀顯示器以及用於從兩個或更多個顯示覆瓦形成覆瓦狀顯示器的方法。
許多顯示技術已經取得了當前的市場成功，例如液晶顯示器(LCD)、發光二極體(LED)背光LCD、LED顯示器、有機發光二極體(OLED)顯示器、電子紙顯示器等。每個顯示技術領域內的製造商已經在某些形狀因子或尺寸的大規模生產中投入了大量資金，這些形狀因子或尺寸已經獲得了廣泛的消費者認可。然而，一些終端用戶應用需要比通常可用於特定顯示技術的顯示尺寸大得多的所需顯示區域。雖然製造商當然可以創造單個大面積顯示器，但是生產成本顯著增加(與生產傳統形狀因子或尺寸相關的成本相比)。例如，因為所期望的大面積顯示器的尺寸可以比現有的生產設備的處理能力大得 多，可能需要對設備或甚至新的、專門的設備的昂貴的改變。此外，大顯示器尺寸的產量遠低於較小的顯示器面板產量。
鑑於上述情況，用於創造大面積顯示器的公認的，成本有效的方法是將兩個或更多個小格式顯示器定位或組裝在彼此靠近的位置，從而給出大面積顯示器的外觀。該技術通常被稱為「覆瓦化」，並且單獨的較小格式的顯示器被稱為「覆瓦」，其組合以生成大面積的覆瓦狀顯示器。常規地，並且不管所採用的顯示技術如何，矩形覆瓦或面板會以陣列佈置以產生覆瓦狀顯示器，每個覆瓦的邊緣緊鄰並面向相鄰覆瓦的邊緣。相鄰覆瓦邊緣之間的界面面積或區域通常被稱為「接縫」。由覆瓦狀顯示器生成的圖像的視覺外觀可能受到跨越接縫的像素間距的偏差的負面影響。作為參考，覆瓦狀顯示器的每個覆瓦包括或承載著按行和列排列的像素或像素元素矩陣(由特定顯示技術生成)；像素在行方向和列方向上均勻地彼此間隔(中心到中心)，這種像素間距或距離被指定為「間距」或「像素間距」(像素間距類似於顯示解析度)。與列相關聯的像素間距可以與行的像素間距不同。或者，像素間距可以沿顯示器中的其他線性方向定義。雖然覆瓦狀顯示器的每個覆瓦將具有相同的像素間距，但如果在接縫上不保持相同的像素間距，則接縫將是可見的並且使圖像劣化。例如，如果形成接縫的兩個相鄰覆瓦的均勻像素間距是0.8mm並且在接縫的相對側處的緊鄰像素之間的距離 是3mm，則由接縫處的覆瓦生成的組合圖像中的「中斷」將在視覺上引人注目(特別是在更近的距離)。另外，如果相鄰的覆瓦(並且因此相應的像素列或行)相對於彼此錯誤配準，則組合圖像的品質將受到影響(例如，組合圖像中的視覺上可察覺的「移位」可能出現在接縫處)。
跨越接縫的像素間距偏差的可能性和/或覆瓦到覆瓦的配準中的誤差在很大程度上取決於所涉及的顯示技術，並且解決這些問題的期望取決於最終用途應用。例如，傳統的LCD技術可以提供大約0.25mm的像素間距，並且框架或邊框圍繞顯示器本身的可用顯示區域。在許多情況下，由於邊框的存在(以及其他固有的技術限制)，非常難以佈置矩形的平邊邊緣面板，以便將接縫的相對側的像素定位在彼此0.25mm內。在大面積覆瓦LCD顯示器中視覺上可感知的圖像劣化是不可接受的情況下(例如，在視野中接近)，光學增強製品可以應用於接縫上方或接縫上。相反地，當前的LED顯示技術提供大約1mm的像素間距。藉由使相鄰LED覆瓦的印刷電路板彼此鄰接，可以在覆瓦化的LED顯示器的接縫上保持該像素間距。雖然覆瓦LED顯示器不太關注接縫可見性，但對於特定的最終用途應用，相應的解析度可能不令人滿意。
高解析度覆瓦狀顯示器退出，但覆瓦接縫係高度可見的(例如，覆瓦LCD顯示器)。另一方面，沒有明顯覆瓦接縫的覆瓦狀顯示器係可用的，但解析度相對較 低(例如，覆瓦LED顯示器)。此外，傳統的覆瓦化技術結合了相同尺寸和形狀的矩形覆瓦陣列，導致連續的接縫在覆瓦狀顯示器的整個長度和寬度上運行；這些連續的接縫會引起機械穩定性問題，使得覆瓦隨著時間的推移更容易相對於彼此而移動。
因此，本文公開了覆瓦狀顯示器，用於產生覆瓦狀顯示器的覆瓦以及組裝覆瓦狀顯示器的方法。
本公開的一些實施例涉及覆瓦狀顯示器。覆瓦狀顯示器具有排列成多列和多行的像素陣列。覆瓦狀顯示器包括第一和第二覆瓦。第一覆瓦包括承載著像素矩陣的基板，像素矩陣沿著限定的線性方向以均勻的像素間距佈置。基板包括相對的主面和在沿基板的深度方向上在主面之間延伸的邊緣。像素矩陣包括最靠近第一邊緣的第一像素。第二覆瓦還包括承載著像素矩陣的基板，像素矩陣沿著限定的線性方向以均勻的像素間距佈置。第二覆瓦的基板包括在深度方向上在相對的主面之間延伸的邊緣。第一覆瓦的基板邊緣和第二覆瓦的基板邊緣具有互補的形狀。此外，覆瓦狀顯示器的最終組裝步驟包括將第一和第二覆瓦的基板邊緣彼此面對，以在它們之間建立接縫。第一覆瓦的像素與第二覆瓦的像素配準，並且沿著限定的線性方向在接縫上保持均勻的像素間距。第一覆瓦的第一像素與像素陣列的第一列對準和與像素陣列的第一行對準。此外，第二覆瓦的像素至少沿第一列和第一行不插入 第一覆瓦的像素之間。最後，基板邊緣的互補形狀包括以下至少一個：接縫的區段與像素陣列的列傾斜，或者第一覆瓦的基板邊緣在深度方向上成形，使得至少一部分邊緣不垂直於相應的相對的主面的平面。利用這種結構，覆瓦狀顯示器沿著限定的線性方向在覆瓦接縫處保持均勻的像素間距，並且以高解析度(例如，不大於0.5mm的像素間距)保持覆瓦到覆瓦的配準。在一些實施例中，覆瓦結合了微LED顯示技術，每個像素包括一個或多個微LED。在其他實施例中，覆瓦可以包含當前已知或將來開發的任何其他顯示技術(例如，LCD、OLED、LED、電子紙等)。在一些實施例中，一個或多個覆瓦的基板邊緣具有非線性形狀，非線性形狀的範圍小於像素間距。在一些實施例中，深度方向上的基板邊緣輪廓包括階梯形狀。
本公開的其他實施例涉及組裝覆瓦狀顯示器的方法。第一覆瓦放在參考表面上。第一覆瓦包括承載著像素矩陣的基板，所述像素矩陣沿著限定的線性方向以均勻的像素間距佈置，並且對準特徵，其設置為與第一覆瓦的任何周邊邊緣分開。第二覆瓦放在參考表面上。第二覆瓦包括承載著沿著限定的線性方向以均勻像素間距佈置的像素矩陣的基板，以及與第二覆瓦的任何周邊邊緣分開設置的對準特徵。至少第二覆瓦係沿著參考表面相對於第一覆瓦被操縱，使得第一覆瓦的邊緣面向第二覆瓦的邊緣以建立接縫。第一覆瓦的對準特徵與第二覆瓦的對準特徵 對準，使得第一覆瓦的像素與第二覆瓦的像素配準。在對準步驟之後，在接縫上保持均勻的像素間距。利用這些和相關方法，相鄰覆瓦之間的像素直接對準，而不依賴於覆瓦之間的邊緣到邊緣接觸。在一些實施例中，對準特徵可包括像素元件(例如，微LED)、薄膜電晶體(TFT)或電子互連圖案、圖案化對準標記等。相鄰覆瓦的對準可以基於已經精確地放置或產生在覆瓦的基板上的特徵，並且不依賴於邊緣或位置或形狀變化。
附加的特徵和優點將在隨後的詳細描述中闡述，並且部分地對於本領域技術人員來說將從該描述中顯而易見，或者透過實踐本文描述的實施方式，包括下面的詳細描述、申請專利範圍，以及附圖。
應理解，前面的一般性描述和以下的詳細描述都描述了各種實施方式，並且旨在提供用於理解所要求保護的主題的性質和特性的概述或框架。包括附圖以提供對各種實施例的進一步理解，並且附圖被併入並構成本說明書的一部分。附圖示出了本文描述的各種實施例，並且與說明書一起用於解釋所要求保護的主題的原理和操作。
52:顯示設備
54:控制器
92:矩陣
50:接縫
44:像素
42:基板
32:覆瓦
20:覆瓦狀顯示器
80:像素矩陣
46:像素陣列
40:基板
30:覆瓦
64:邊緣
90:邊緣
44a:像素
44a':像素
44e':像素
44e':像素
R:列
R1:列
C:行
C1:行
60:主面
70:邊緣
66:邊緣
68:邊緣
44c:像素
44d:像素
44e:像素
44f:像素
44g:像素
62:主面
44:像素
P1:主平面
P2:主平面
120:覆瓦狀顯示器
136:覆瓦
130:覆瓦
170:邊緣
166:接縫
154:基板
134:覆瓦
164:接縫
140:覆瓦
132:覆瓦
152:基板
180:邊緣
162:接縫
150:基板
160:像素陣列
138:覆瓦
142:覆瓦
44b:像素
44b':像素
220:覆瓦狀顯示器
244:基板
236:覆瓦
246:基板
230:覆瓦
240:基板
250:陣列
232:覆瓦
242:基板
252:接縫
336:覆瓦
346:基板
330:覆瓦
340:基板
352:接縫
350:陣列
344:基板
334:覆瓦
332:覆瓦
342:基板
320:覆瓦狀顯示器
400:覆瓦狀顯示器
410:覆瓦
430:主面
420:基板
432:主面
434:邊緣
424:接縫
444:邊緣
442:主面
422:基板
440:主面
412:覆瓦
P1b:主平面
P2b:主平面
P1a:主平面
P2a:主平面
450:覆瓦狀顯示器
460:覆瓦
480:主面
482:主面
470:基板
484:邊緣
464:框架元件
494:邊緣
472:基板
492:主面
490:主面
462:覆瓦
474:接縫
500:覆瓦狀顯示器
510:覆瓦
530:主面
532:主面
520:基板
534:邊緣
524:接縫
544:邊緣
522:基板
540:主面
546:邊緣
542:主面
512:覆瓦
550:覆瓦狀顯示器
560:覆瓦
580:主面
582:主面
570:基板
584:邊緣
596:底板
594:邊緣
572:基板
592:主面
590:主面
562:覆瓦
574:接縫
586:頭部
600:覆瓦狀顯示器
610:覆瓦
630:主面
632:主面
620:基板
636:槽
644:邊緣
646:肋
622:基板
642:主面
640:主面
612:覆瓦
624:接縫
634:邊緣
654:覆瓦
660:對準槽
656:主面
670:參考表面
672:參考凹槽
680:銷
682:銷
674:參考凹槽
652:參考片
650:基板
662:對準槽
654:覆瓦
706:主面
720:參考表面
722:凹槽
724:凹槽
702:參考片
700:基板
712:凸塊
704:覆瓦
710:凸塊
690a:覆瓦
690:覆瓦
692:對準槽
694:對準槽
690b:覆瓦
690c:覆瓦
696:覆瓦狀顯示器
690d:覆瓦
690e:覆瓦
690f:覆瓦
754:覆瓦狀顯示器
750a:覆瓦
770:參考表面
760a:基板
780:接縫
760b:基板
752:參考片
760c:基板
750c:覆瓦
750b:覆瓦
770:參考表面
790a:對準特徵
790b:對準特徵
圖1是根據本公開的原理的包括一覆瓦狀顯示器的簡化前視平面圖的顯示裝置的示意圖；圖2A是圖1的覆瓦狀顯示器的覆瓦的放大的簡化前視平面圖；圖2B是圖2A的覆瓦的放大的簡化側視圖； 圖3是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的簡化前視平面圖；圖4是根據本發明公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的簡化前視平面圖；圖5是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的簡化前視平面圖；圖6是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的一部分的簡化端視圖；圖7是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的一部分的簡化端視圖；圖8是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的一部分的簡化端視圖；圖9是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的一部分的簡化端視圖；圖10是根據本公開的原理的另一覆瓦狀顯示器的一部分的簡化端視圖；圖11是根據本公開的原理的安裝在覆瓦狀顯示器組件中的參考片的覆瓦的一部分的簡化剖視圖；圖12A~12C示出了使用圖11的參考片組裝覆瓦狀顯示器的方法；圖13是根據本公開的方法的在覆瓦狀顯示器的組件中安裝到參考片的覆瓦的一部分的簡化剖視圖；圖14是根據本公開的原理的在形成覆瓦狀顯示器時由參考片支撐的覆瓦的簡化端視圖；和 圖15A~15C示出了使用圖14的佈置來組裝覆瓦狀顯示器的方法。
現在將詳細參考覆瓦狀顯示器的各種實施例，製造覆瓦狀顯示器的方法，以及與覆瓦狀顯示器一起使用的覆瓦。本發明的整個覆瓦狀顯示器可具有至少一個不小於0.1m的線性尺寸，或者不小於0.5m，或者不小於1m，或者不小於2m，或者不小於5m，或者不小於10m。只要有可能，在整個附圖中將使用相同的附圖標記來表示相同或相似的部分。
在圖1中以簡化形式示出了根據本發明原理的覆瓦狀顯示器20的一個實施例。本公開的覆瓦狀顯示器通常包括兩個或更多個覆瓦，例如圖1中標識的第一和第二覆瓦30、32。如下面更詳細描述的，覆瓦30、32之每一者分別包括承載著一個或多個像素或像素元件44的基板40、42。覆瓦30、32相對於彼此佈置，使得在覆瓦狀顯示器20的最終組裝時，形成像素陣列46，陣列46的像素44共同地佈置或對準在兩個線性方向上，例如多個列R和多個垂直於列R的行C。或者，像素陣列可以由其他線性方向限定，例如多個列和多個對角線，其中對角線不垂直於列。由陣列46建立像素間距，其中「像素間距」被定義為在陣列46的指定線性方向上相鄰或緊鄰像素44之間的標稱或平均中心到中心距離(例如，在每個列R的方向上(或沿著每個列R)的所有成對的相鄰像素 44之間的標稱或平均中心到中心距離，或者在每個行C的方向上(或沿著每個行C)的所有成對的相鄰像素44之間的標稱或平均中心到中心距離)。可以理解，在指定的線性方向上的一對特定的相鄰像素44之間的實際中心到中心距離可以與指定的像素間距略微偏離或變化。然而，陣列46的特徵在於具有均勻的像素間距，其中「均勻像素間距」被定義為在指定的線性方向上任何特定對相鄰像素44之間的中心到中心距離從指定的像素間距偏離或變化不大於50%(即，從指定線性方向上所有對相鄰像素44的標稱或平均像素間距)，或者不大於40%，或者不大於30%，或者不大於20%，或者不大於10%，或者不大於5%，並且在一些實施方案中不大於1%。在本公開的一些實施例中，基板40、42包含一個或多個互補特徵，這些互補特徵促進像素間距被保持著橫跨在覆瓦30、32之間形成的接縫50，或者所需的覆瓦到覆瓦配準(例如，配準誤差不大於像素間距的50%，或者不大於40%，或者不大於30%，或者不大於20%，或者不大於10%，或者不大於5%，並且一些實施方案不大於1%)或兩者皆具。例如，互補特徵可包括基板40、42，其被以以下方式塑形：至少形成一區段，在該區段接縫50傾斜於列R的方向和/或基板40、42之一或二者的邊緣，基板40、42係在深度(Z)方向上成形。作為參考，覆瓦狀顯示器20可以是顯示設備52的一部分，顯示設備52還包括控制器54，控制器54電連接到每個覆瓦30、32並且 被編程為在顯示協調圖像時驅動覆瓦30、32的操作，如本領域所知。
本公開的覆瓦可以結合當前已知或將來開發的任何顯示技術，例如磷光、電致發光、有機或無機發射、透射、反射或其他已知技術。因此，每個覆瓦30、32的像素44可以由例如微LED、LCD、OLED、LED、電子紙等提供。可替代地，可以採用顯示技術的組合，例如在LCD設備內使用的覆瓦微LED背光。利用該非限制性示例，微LED背光陣列的像素間距可以與組合LCD的像素間距不同。可以理解，在數位成像中，像素是光柵圖像中的實體點，或者是顯示裝置中的最小可尋址顯示元件；換句話說，像素是顯示器上表示的圖像或圖像的最小可控元素。像素的地址對應於其實體坐標。利用諸如LED和微LED之類的一些顯示技術，像素44實際上可以是由三個(或更多個)「子像素」組成的表面安裝燈，每個子像素是單獨的LED(或微LED)，包括紅色、綠色和藍色元素(例如，二極體或顏色轉換)。利用其他顯示技術，例如LCD，每個像素由在兩個透明電極之間對準的一層分子，以及產生紅色、綠色和藍色子像素的偏振濾光器和濾色器組成。在一些實施例中，本公開的覆瓦(例如覆瓦30、32)的像素間距的標稱值，及因此覆瓦狀顯示器20的標稱值不大於1.0mm，或者不大於0.5mm，或者不大於0.4mm，或者不大於0.3mm，或者不大於0.2mm，並且在一些實施例中不大於0.1mm(例如使用一些微 LED顯示技術)。在採用發射顯示技術的情況下，覆瓦30、32可以具有頂部發射或底部發射格式。而且，覆瓦30、32可以具有頂部發射區域或底部發射區域或混合陣列。
考慮到上述情況，設置有每個覆瓦30、32的基板40、42可以呈現各種形式，並根據所採用的特定顯示技術提供各種功能。例如，在一些實施例中，基板40、42可以提供安裝或附接像素元件(例如，LED、微LED等)的表面。在其他實施例中，基板40、42可以是顯示技術構建的必要子組件(例如，典型的LCD顯示器技術構建包括前板、晶體層、後板、偏振器、光散射器和背光源；利用這些非限制性示例，基板40、42可以被配置和格式化以用作為前板、後板或後光源以及其他未以相同方式覆瓦或不完全覆瓦化的子組件(或作為其一部分)。或者，基板40、42可以是可用於特定顯示技術(例如，LCD)的薄膜電晶體(TFT)組件的支撐層。在其他實施例中，基板40、42可以是蓋板，可以是添加到所採用的顯示技術的傳統結構中的部件等等。考慮到這些一般性解釋，在一些實施例中，基板40、42可以是單層、多層或複合結構，其中至少一種材料是玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷。根據特定的顯示技術，基板40可以是透明的、散射的或不透明的。在一些實施例中，基板被構造為尺寸穩定的，例如表現出熱膨脹係數(CTE)不大於10ppm/℃，或者不大於8ppm/℃，或者不大於6ppm/℃，或者不大於4ppm/℃。 任選地，基板40、42的楊氏模量不小於50GPa，或者不小於60GPa，或者不小於70GPa。可選地，基板40的可選尺寸穩定性的特徵在於可以藉由基板40被配置為在水或溶劑的存在下會經歷低尺寸變化(即，在存在水或溶劑的情況下基板經歷小於10%的尺寸變化。)在一些實施例中，基板40、42的厚度不大於2mm，或者不大於1mm，或者不大於0.7mm，或者不大於0.5mm，或者不大於0.3mm，或者不是大於0.2mm。基板40、42可各自具有至少一個不小於0.05m的線性尺寸，或者不小於0.1m，或者不小於0.5m，並且在其它實施例中不小於1m。在一些實施方案中，並且取決於顯示技術應用要求，基材40、42的組合物可以基本上不含鹼(即，不超過1%的鹼)或可以是含鹼的，以便(例如是)分別與一些TFT製造或離子交換過程兼容。
基材形狀
如上所述，在一些實施例中，包括覆瓦狀顯示器的兩個或更多個覆瓦(例如覆瓦30、32)可以包含互補形狀的基板(例如基板40、42)和像素佈置，該像素佈置促進保持穿過接縫50的均勻像素間距和/或覆瓦到覆瓦配準，其具有誤差不大於像素間距的50%，或者不大於40%，或者不大於30%，或者不大於20%，或者不大於10%，或者不大於5%，在一些實施方案中不大於1%。藉由進一步參考，圖2A和2B示出了隔離的第一覆瓦30以及圖1的坐標系。圖2A和2B的非限制性實施例可以 類似於可能的微LED顯示技術構造，其中每個像素44由一個(或多個)微LED限定。像素44佈置在基板40的表面上，基板40限定覆瓦30的最外邊界或周邊。應當理解，覆瓦30可以包括適合於以期望的方式操作像素44的一個或多個附加部件，例如電路跡線或連接器(可以或可以不形成在基板40上、基板40內或穿過基板40)、覆蓋片、偏光鏡等。無論如何，基板40可被視為限定相對的第一和第二主面60、62。主面60、62中的一個或兩個可以在X-Y(或顯示器)平面中基本上是平坦的或平面的(即，在橫跨覆瓦30上的真正平坦表面的5%內)，並且基板40的邊緣在Z或深度方向上在主面60、62之間延伸。例如，第一、第二、第三和第四邊緣64、66、68、70在圖2A中標識，第一、第二和第三邊緣64、66、68在圖2B中可見。像素44可以位於第一主面60上，並且佈置在具有均勻像素間距的矩陣80中(即，如上所述，在指定線性方向(例如，X方向和/或Y方向)上的相鄰像素44之間的中心到中心距離在矩陣80上是均勻的。)X方向和Y方向上的像素間距可以相同或不同。另外，像素矩陣80可以由諸如X方向和對角線的非正交線性方向限定。
邊緣64、66、68、70組合起來以限定基板40的形狀(在X-Y平面中)，並且在一些實施例中，邊緣64、66、68、70中的至少一個的至少一區段是非線性的。例如，利用圖2A的非限制性實施例，第一邊緣64在X-Y平面中是非線性的(例如，彎曲的或波浪形的)，而 第二、第三和第四邊緣66、68、70是線性的。利用這種結構，矩陣80中最靠近非線性第一邊緣64的兩個或更多個像素44(例如，在圖2A中的44a~44g處識別的像素)位於距第一邊緣64不同的距離處。例如，第一像素44a和非線性第一邊緣64之間的距離大於第五像素44e和非線性第一邊緣64之間的距離。利用本公開的一些實施例，像素44中的一個或多個可以非常靠近基板40的邊緣加以定位(例如，距離或間距不大於0.3mm，或者不大於0.2mm，或者不大於0.1mm)。無論如何，覆瓦狀顯示器20(圖1)的一個或多個其他覆瓦可以包含特徵，該特徵補償非線性第一邊緣64的形狀和矩陣80的像素44相對於非線性第一邊緣64的位置。
例如，並且另外參考圖1，第二覆瓦32的基板42可以高度類似於如上所述的第一覆瓦30的基板40。在覆瓦狀顯示器20的最終組裝時，第一覆瓦30的基板40的第一邊緣64面向第二覆瓦32的基板42的第一邊緣90，以產生接縫50。第二覆瓦基板42的第一邊緣90在X-Y平面中具有非線性形狀，其與第一覆瓦基板40的第一邊緣64的形狀互補或模仿。此外，第二覆瓦32的像素44佈置在具有與第一覆瓦30相同的均勻像素間距的矩陣92中，並且矩陣92以與第一覆瓦30的像素矩陣80相對於對應的第一邊緣64的對準相對應的方式相對於第一邊緣90對準(應理解為第一覆瓦像素矩陣80和第二覆瓦像素矩陣92組合起來以產生覆瓦狀顯示器20的像素陣列46。)利用 這種結構，互補的非線性第一邊緣64、90會促進第一和第二覆瓦30、32相對於彼此的適當的、一致的放置和配準(例如，第一覆瓦基板40的第一邊緣64容易地「匹配」或與第二覆瓦基板42的第一邊緣90配合)。所得到的接縫50模仿互補的第一邊緣64、90的非線性形狀。在這方面，可選的非線性形狀接縫50可呈現多種其他形狀，並且接縫50的部分可為線性的。更一般地，在本公開的一些實施例中，由相鄰覆瓦的相對邊緣形成的接縫50可被描述為包括至少一個與像素陣列46的多個列R傾斜的區段。然而，在其他實施例中，整個接縫可以與列R平行或垂直。在該非限制性示例中，覆瓦邊緣64、90可以彼此實體接觸或可以不彼此實體接觸。
覆瓦30、32進一步構造成使得在最終組裝時，覆瓦30、32的均勻像素間距保持在接縫50上。換句話說，在接縫50的相對側處的經對準的像素之間的中心到中心間距對應於(即，在10%內)在各個覆瓦30、32內建立的均勻像素間距。因此，例如，在最終組裝時，第一覆瓦30的第一像素44a與第二覆瓦30的第一像素44a'對準，並且第一覆瓦30的第五像素44e與第二覆瓦32的第五像素44e'對準。當第一覆瓦30的第一像素44a與對應的第一邊緣64之間的距離大於第五像素44e的距離時，第一和第五像素44a'、44e'相對於對應的第一邊緣90具有相反的關係。因此，在最終組裝時，相鄰的第一像素44a、44a'之間的(要不然是位於接縫50的相對 側的)中心到中心距離對應於或保持均勻的像素間距，在相鄰的第五像素44e、44e'之間中心到中心距離也是如此。
對於在其中覆瓦狀顯示器的兩個相鄰覆瓦包括互補的非線性邊緣(例如，利用圖1的非限制性示例覆瓦30、32)的實施例，相應的基板40、42可以被配置為使得非線性度包含在像素間距內，並且不產生交叉指型像素。也就是說，第一邊緣64、90中的任何非線性(或與線性的偏差)小於像素間距(標稱值或平均值)。可選地，可以例如參考最接近接縫50的一個或多個像素44來描述該可選特徵。例如，利用圖1的配置，第一覆瓦30的第五像素44e是最接近相應的第一邊緣64(並因此以及接縫50)的第一覆瓦像素。在得到的覆瓦狀顯示器20的像素陣列46中，第一覆瓦30的第五像素44e與第一列R1和第一行C1對準。上述不存在交叉指型像素意味著第二覆瓦32的像素44不沿第一列R1或第一行C1中的任一者插入第一覆瓦30的像素44之間。利用這種可選結構，基板邊緣非線性相對薄弱，並且最小化了在處理期間基板損壞或破裂的可能性(例如，在基板邊緣形成具基本非線性的情況下，基板的非線性區域在處理過程中會更容易損壞或破裂)。
而圖1的覆瓦狀顯示器20已經被描述為包括兩個覆瓦30、32，在其他實施例中，可以提供三個或更多個覆瓦。此外，一個或多個覆瓦基板40、42的多於一 個邊緣可以包含如上所述的非線性形狀；包括覆瓦狀顯示器的覆瓦可以具有或不具有相同的形狀或尺寸。朝向一個覆瓦到覆瓦接縫的線性方向上的像素間距可以與交替線性方向上的像素間距不同。
非線性邊緣是根據本公開原理的互補形狀特徵的一個非限制性示例。在其他實施例中，覆瓦基板可以被配置和成形為在線性接縫處接合，同時保持跨接縫的像素間距並提供有益的覆瓦到覆瓦配準。例如，本公開的另一個實施例覆瓦狀顯示器120在圖3中以簡化形式示出並且包括多個覆瓦，例如第一、第二、第三、第四、第五、第六和第七覆瓦130、132、134、136、138、140、142。覆瓦130~142每個包括與上面的描述一致的基板，例如，圖3中標識的基板150、152、154，其分別用於第一、第二和第三覆瓦130、132、134。覆瓦130~142可以結合先前描述的任何顯示技術，其中相應的基板(例如，基板150~154)承載著多個像素或像素元件44。作為參考，為了便於說明，沒有示出第六和第七覆瓦140、142的像素；在一些實施例中，少於本公開的覆瓦狀顯示器的所有覆瓦包括像素。無論如何，在覆瓦狀顯示器120的最終組裝時，像素44共同佈置在陣列160中，陣列160包括多個列R和行C，其每者具有如上所述的相同的均勻像素間距。兩個(或更多個)相鄰覆瓦130~142具有互補的形狀特徵和像素排列，其保持在其間形成的接縫上的像素間距。陣列160的均勻像素間距可以是在一個 線性方向上的像素間距值，其與交替線性方向上的像素間距值相同或不同。
例如，第一和第二覆瓦基板150、152具有互補的形狀，以便在最終組裝時在它們之間限定第一接縫162。特別地，第一和第二覆瓦基板150、152經尺寸和形狀調整使得在最終組裝時，第一覆瓦基板150的第一邊緣170補充並面向第二覆瓦基板152的第一邊緣180以形成第一接縫162。邊緣170、180可以或可以不彼此實體接觸。第一覆瓦130的像素44在第一覆瓦基板150處以矩陣佈置，第一覆瓦130的像素矩陣具有均勻的像素間距。第二覆瓦132的像素44也以矩陣佈置在第二覆瓦基板152處而具有均勻的像素間距。還提供了第一和第二覆瓦130、132中的每一個的像素44分別相對於對應的基板第一邊緣170、180的互補關係。利用這些互補形狀和像素佈置，在第一接縫162的相對側處的相鄰像素44之間的像素間距對應於覆瓦130、132的均勻像素間距(並且因此對應於覆瓦狀顯示器120的像素陣列160)。例如，第一覆瓦130的像素44包括靠近第一邊緣180的第一和第二像素44a、44b。第二覆瓦的像素44包括第一和第二像素44a'、44b'。在最終組裝時，第一覆瓦130的第一像素44a與第二覆瓦132的第一像素44a'(作為行C之一的一部分)和第二覆瓦132的第二像素44b'(作為列R之一的一部分)對準。所述第一覆瓦130的第一像素44a和第二覆瓦132的第一像素44a'之間的中心到中心的距離 (在行方向)對應於均勻像素間距，在第一覆瓦130的第一像素44a和第二覆瓦132的第二像素44b'之間的中心到中心的距離(在列方向上)亦如此。類似地，第一覆瓦130的第二像素44b與第二覆瓦132的第二像素44b'(行方向)之間的中心到中心距離對應於均勻像素間距。在最後組裝時，建立類似的關係橫跨第一覆瓦基板150的邊緣和第三覆瓦基板154的邊緣之間限定的第二接縫164(即，橫跨於第二接縫164的第一和第三覆瓦130、134的相鄰像素44之間的中心到中心的距離對應於均勻的像素間距)以及覆瓦狀顯示器120的其他接縫(例如，限定在第二覆瓦基板152的邊緣和第三覆瓦基板154的邊緣之間的第三接縫166)。
與前面的實施例一樣，至少兩個覆瓦基板的互補形狀使相應接縫的至少一區段朝向列R傾斜。例如，整個第一接縫162和整個第二接縫164傾斜於列R(應當理解，覆瓦狀顯示器120的其他接縫可以與列R垂直或平行；例如，第三接縫166)。此外，在最終組裝時，相鄰覆瓦的像素44不是交叉指型的(例如，第二覆瓦132、第三覆瓦134和第四覆瓦136的像素44沒有插入行C或列R之任一者中的第一覆瓦130的像素之間。)另外，雖然幾個接縫相交(例如，第一、第二和第三接縫162、164、166彼此相交)，但是覆瓦狀顯示器120的交叉接縫中沒有一個建立與列R或行C平行的連續線性接縫或線。該可選佈置可以促進覆瓦狀顯示器120的整體機械穩 定性，藉由該整體機械穩定性，各個覆瓦130~136不太可能隨時間相對於彼此移位。
根據本公開的原理，圖3的基板形狀(和對應的像素佈置)是非限制性示例。在其他實施例中，覆瓦基板可具有多個其他周邊形狀，例如矩形、六邊形、三角形或任何其他單元形狀，當在形成覆瓦狀顯示器時相對於彼此組裝時，不會在像素陣列內留下空隙。整個組裝的覆瓦狀顯示器內的所有單獨的覆瓦不需要具有相同的形狀或尺寸，但是在一些實施例中確實具有相似的形狀。考慮到這一點，覆瓦狀顯示器220的另一個非限制性實施例在圖4中以簡化形式示出。覆瓦狀顯示器220可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，例如第一、第二、第三和第四覆瓦230、232、234、236。覆瓦230~236每個(與上面的描述一致)包括基板，例如分別為基板240、242、244、246。覆瓦230~236可以結合之前描述的任何顯示技術而一些或所有相應的基板240~246承載著多個所述像素或像素元件44。為了便於說明，第四覆瓦236未示出像素。在覆瓦狀顯示器220的最終組裝時，像素44共同佈置在陣列250中，陣列250包括多個列R和行C，其每者具有如上所述的相同的均勻像素間距。列R中的像素間距可以與行C中的像素間距相同或不同。兩個(或更多個)相鄰覆瓦230~236具有互補的形狀特徵和像素排列，其保持在其間形成的接縫上的像素間距。
例如，第一和第二覆瓦基板240、242具有互補的形狀，以便在最終組裝時在它們之間限定第一接縫252。第一接縫252傾斜於列R。此外，並且與上面的描述相對應，第一和第二覆瓦230、232被配置(例如，基板形狀和像素佈置)，使得跨越第一接縫252的像素間距(在列R的方向上和在行C的方向上)對應於每個單獨覆瓦230、232(以及因此覆瓦狀顯示器220)的均勻像素間距，並且第一覆瓦230的像素44和第二覆瓦232的像素44相對於彼此配準(例如，在指定的線性方向上的像素間距的配準誤差不大於50%，或者不大於40%，或者不大於30%，或者不大於20%，或者不大於10%，或者不大於5%，在一些實施方案中不大於1%)。在覆瓦狀顯示器220的其他接縫處建立類似的關係。另外，當幾個接縫相交時，覆瓦狀顯示器220的交叉接縫中沒有一個建立與列R或行C平行的連續線性接縫或線。
覆瓦狀顯示器320的另一個非限制性實施例在圖5中以簡化形式示出。覆瓦狀顯示器320可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，例如第一、第二、第三和第四覆瓦330、332、334、336。覆瓦330~336每個包括與上面的描述(例如分別為基板340、342、344、346)一致的基板。覆瓦330~336可以結合先前描述的任何顯示技術，相應的基板340~346中一些或全部承載著多個像素或像素元件44。為了便於說明，未示出具有第三和第四覆瓦334、336的像素。在覆瓦狀顯示器320 的最終組裝時，像素44共同佈置在陣列350中，陣列350包括多個列R和行C，其每者具有如上所述的相同的均勻像素間距。列R中的像素間距可以與行C中的像素間距相同或不同。兩個(或更多個)相鄰覆瓦330~336具有互補的形狀特徵和像素排列，其保持在其間形成的接縫上的像素間距。
例如，第一和第二覆瓦基板340、342具有互補的形狀，以便在最終組裝時在它們之間限定第一接縫352。與上面的描述相對應，配置第一和第二覆瓦330、332(例如，基板形狀和像素佈置)，使得跨越第一接縫352的像素間距(在行C的方向上)對應於每個單獨的覆瓦330、332的均勻的像素間距(以及因此的覆瓦狀顯示器320)，且第一覆瓦330的像素44和第二覆瓦332的像素44相對於彼此配準(例如，不大於均勻像素間距的50%的配準誤差)。可以在覆瓦狀顯示器220的其他接縫處建立類似的關係。另外，當幾個接縫相交時，覆瓦狀顯示器320的交叉接縫中沒有一個建立與行C平行的連續線性接縫或線。
可以透過適合於特定基板材料的已知製造技術將上述任何形狀賦予相應的基板。例如，產生所需基板形狀的方法可包括機械劃線、雷射切割、蝕刻、熱成形等。而且，可以使用多個處理來產生所描述的基板形狀。例如，最初可以對基板進行機械劃線，然後進行蝕刻。
基板邊緣輪廓
另外，或作為替代，對於上述基板形狀，在本公開的一些實施例中，結合到覆瓦狀顯示器的覆瓦中的互補特徵可包括基板邊緣輪廓。參考圖2B，「邊緣輪廓」是參照在相對的主面60、62之間的Z方向或深度方向上延伸的一個或多個基板的邊緣64、66、68的形狀。相對於圖2B的視圖的有利位置，第一和第三邊緣64、68的邊緣輪廓最突出地可見，並且可以關於第一主面60的主平面P1和第二主面62的主平面P2來描述(應理解，在一些實施例中，主平面P1、P2是平行的。)利用圖2B的結構，第一邊緣64的輪廓使得在深度方向Z上的整個第一邊緣64垂直於主面60、62的主平面P1、P2。第三邊緣68具有類似的邊緣輪廓(即，在深度方向Z上完全垂直於主面60、62的主平面P1、P2)。
針對上述背景，在本公開的其他實施例中，在深度方向Z上的覆瓦基板的至少一個邊緣的至少一部分輪廓不垂直(即，與真實垂直的關係具有至少2度的偏差，或者至少3度，或者至少5度，並且在一些實施例中至少10度)到主平面P1、P2中的一個或兩個。例如，根據本公開的原理的另一實施例覆瓦狀顯示器400的部分在圖6中以簡化形式示出。覆瓦狀顯示器400可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，例如第一和第二覆瓦410、412。覆瓦410、412各自包括與上述描述一致的基板，例如基板420、422。覆瓦410、412可以結合先前描述的任何顯示技術，相應的基板420、422承載著多 個像素或像素元件44。在覆瓦狀顯示器400的最終組裝時，像素44共同排列成陣列，陣列包括多個列和行，每個列和行具有如上所述的均勻像素間距。列R中的像素間距可以與行C中的像素間距相同或不同。相鄰的第一和第二覆瓦410、412具有互補的形狀特徵(例如，邊緣輪廓特徵)和像素佈置，其保持在其間形成的接縫424上的均勻像素間距。
第一覆瓦基板420限定相對的第一和第二主面430、432以及在Z或深度方向上在主面430、432之間延伸的第一邊緣434。相對的主面430、432各自限定主平面P1a、P2a。第一邊緣434的整個邊緣輪廓不垂直於主平面P1a、P2a。例如，第一邊緣434和第一主面430的交叉點限定銳角，並且第一邊緣434和第二主面432的交叉點限定鈍角。第二覆瓦基板422還限定相對的第一和第二主面440、442以及在Z或深度方向上在主面440、442之間延伸的第一邊緣444。相對的主面440、442各自限定主平面P1b、P2b。第一邊緣444的整個邊緣輪廓不垂直於主平面P1b、P2b。此外，第二覆瓦第一邊緣444的空間取向與第一覆瓦第一邊緣434的空間取向互補。例如，第一邊緣444和第一主面440的交叉點限定鈍角，第一邊緣444和第二主面442的交叉點限定銳角。在圖6的組裝佈置中，第一覆瓦第一邊緣434面向第二覆瓦第一邊緣444以限定接縫424，並且第一邊緣434、444基本上平行(即，在真正平行關係的5度內)。相對於圖6的方 向，第一覆瓦第一邊緣434可被視為覆蓋第二覆瓦第一邊緣444。
圖6進一步反映出在一些實施例中，在覆瓦狀顯示器400的最終組裝時，相鄰覆瓦(諸如第一覆瓦410和第二覆瓦412)彼此不實體接觸(例如，第一覆瓦基板420和第二覆瓦基板422彼此實體分離，使得接縫424是間隙或空間。)如下所述，可以將材料佈置或填充到間隙中。在其他實施例中，覆瓦410、412在最終組裝時處於實體接觸。無論如何，互補邊緣輪廓使得致使相鄰的覆瓦410、412能互補配合，使得覆瓦狀顯示器400的均勻像素間距保持在接縫424上。互補邊緣輪廓還可以實現像素44和/或相鄰覆瓦的基板(例如，第一覆瓦基板420和第二覆瓦基板422)的垂直對準。
根據本公開的原理的另一個實施例覆瓦狀顯示器450的部分在圖7中以簡化形式示出。覆瓦狀顯示器450可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，諸如第一和第二覆瓦460、462以及一個或多個框架元件，諸如框架元件464。覆瓦460、462各自包括與上述描述一致的基板，例如基板470、472。覆瓦460、462可以結合先前描述的任何顯示技術，相應的基板470、472承載著多個像素或像素元件44。在覆瓦狀顯示器450的最終組裝時，像素44共同排列成陣列，陣列包括多個列和行，每個列和行具有如上所述的均勻像素間距。列R中的像素間距可以與行C中的像素間距相同或不同。相鄰的第一和 第二覆瓦460、462具有互補的形狀特徵和像素佈置，其與框架元件464組合，在其間形成的接縫474(通常標記為)上保持均勻的像素間距。
第一覆瓦基板470限定相對的第一和第二主面480、482以及在Z或深度方向上在主面480、482之間延伸的第一邊緣484。相對的主面480、482每一個限定一個主平面P1a、P2a。第一邊緣484的邊緣輪廓的全部不垂直於所述主平面P1a、P2a。例如，第一邊緣484和第一主面480的交叉點限定銳角，並且第一邊緣484和第二主面482的交叉點限定鈍角。第二覆瓦基板472還限定相對的第一和第二主面490、492以及在Z或深度方向上在主面490、492之間延伸的第一邊緣494。相對的主面490、492每一個限定一個主平面P1b、P2b。第一邊緣494的邊緣輪廓的全部不垂直於所述主平面P1b、P2b。例如，第一邊緣494和第一主面490的交叉點限定銳角，並且第一邊緣494和第二主面492的交叉點限定銳角。
框架元件464的尺寸和形狀根據第一邊緣484、494的互補輪廓而定。在圖7的組裝佈置中，第一覆瓦第一邊緣484面向第二覆瓦第一邊緣494以限定接縫474。框架元件464位於接縫474中或沿接縫474定位，並且使第一和第二覆瓦460、462相對於彼此保持(例如，第一和第二覆瓦基板470、472可以固定到框架元件464)。如框架元件464所指示的，互補的邊緣輪廓，每 個覆瓦460、462的像素44相對於對應的第一邊緣484、494的佈置，以及邊緣484、494相對於彼此的空間佈置組合到保持橫跨接縫474的均勻像素間距(即，在指定線性方向上在接縫474的相對側處的相鄰像素44之間的中心到中心距離對應於在每個覆瓦460、462處建立的均勻像素間距，並且因此對應於在指定的線性方向上的覆瓦狀顯示器450。)如上所述，本公開的覆瓦狀顯示器可以將可選的互補基板邊緣輪廓與彼此間隔開的相鄰覆瓦結合(例如，利用圖6和圖7的非限制性實施例)。在其他實施例中，具有互補輪廓邊緣的覆瓦在沿著延伸長度的界面或在離散位置進行最終組裝時可以彼此接觸。例如，根據本公開的原理的另一實施例覆瓦狀顯示器500的部分在圖8中以簡化形式示出。覆瓦狀顯示器500可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，例如第一和第二覆瓦510、512。覆瓦510、512各自包括與上述描述一致的基板，例如基板520、522。覆瓦510、512可以結合先前描述的任何顯示技術，相應的基板520、522承載著多個像素或像素元件44。在覆瓦狀顯示器500的最終組裝時，像素44共同排列成陣列，陣列包括多個列和行，每個列和行具有如上所述的均勻像素間距。列中的像素間距可以與行中的像素間距相同或不同。相鄰的第一和第二覆瓦510、512具有互補的形狀特徵和像素佈置，其保持在其間形成的接縫524上的均勻像素間距。
第一覆瓦基板520限定相對的第一和第二主面530、532以及在Z或深度方向上在主面530、532之間延伸的第一邊緣534。相對的主面530、532每一個限定一個主平面P1a、P2a。第一邊緣534的邊緣輪廓的至少一部分不垂直於主平面P1a、P2a。例如，第一邊緣534可具有圓形或「子彈」形狀的輪廓，如圖所示。第二覆瓦基板522還限定相對的第一和第二主面540、542以及在Z或深度方向上在主面540、542之間延伸的第一邊緣544。相對的主面540、542各自限定主平面P1b、P2b。利用圖8的實施例，第二覆瓦第一邊緣544的邊緣輪廓垂直於主平面P1b、P2b(應理解，第二覆瓦基板522的相對的第二邊緣546可具有如上所述的圓形輪廓)。
在圖8的組裝佈置中，第一覆瓦第一邊緣534面向第二覆瓦第一邊緣544以限定接縫524。在一些實施例中，覆瓦510、512被配置成使得第一覆瓦第一邊緣534鄰接或接觸第二覆瓦第一邊緣544。互補的邊緣輪廓使得相鄰的覆瓦510、512能夠互補配合。這種互補的配合連同像素44相對於相應的基板第一邊緣534、544的佈置相結合，以沿接口長度連續地或在離散位置保持橫跨接縫524的均勻像素間距。在這方面，圖8標識在最終組裝覆瓦狀顯示器500時的第一覆瓦510的第一像素44a(要不然是最接近對應的第一邊緣534者)，以及第二覆瓦512的第二像素44b(要不然是最接近對應的第一邊緣544者且被配準或對準於第一像素44a)(即，第一和第 二像素44a、44b是在接縫524的相對側的相鄰像素)。由於第一覆瓦第一邊緣534的圓形輪廓，可能無法將第一像素44a定位在非常靠近第一覆瓦第一邊緣534的端面的位置(並因此無法到達所得到的接縫524)。相反，第二覆瓦第一邊緣544的邊緣輪廓允許第二像素44b位於非常靠近接縫524的位置。利用該可選構造，第一像素44a和接縫524之間的距離不同於第二像素44b和接縫524之間的距離，並且第一和第二覆瓦510、512被配置為使得在接縫524的相對側的指定線性方向上的相鄰像素44a、44b之間的中心至中心距離對應於在每個覆瓦510、512處(並且因此在指定的線性方向上在覆瓦狀顯示器500處)建立的均勻像素間距。
根據本公開的原理的另一個實施例覆瓦狀顯示器550的部分在圖9中以簡化形式示出。覆瓦狀顯示器550可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，例如第一和第二覆瓦560、562。覆瓦560、562各自包括與上述描述一致的基板，例如基板570、572。覆瓦560、562可以結合先前描述的任何顯示技術，相應的基板570、572承載著多個像素或像素元件44。在覆瓦狀顯示器550的最終組裝時，像素44共同排列成陣列，陣列包括多個列和行，每個列和行具有如上所述的均勻像素間距。列R中的像素間距可以與行C中的像素間距相同或不同。相鄰的第一和第二覆瓦560、562具有互補的形狀特徵和像素佈置，其保持在其間形成的接縫574上的均勻像素間距。
第一覆瓦基板570限定相對的第一和第二主面580、582以及在Z或深度方向上在主面580、582之間延伸的第一邊緣584。相對的主面580、582每一個限定一個主平面P1a、P2a。第一邊緣584的邊緣輪廓的至少一部分不垂直於主平面P1a、P2a。例如，第一邊緣584可具有階梯形輪廓，形成突出頭部586(例如，頭部586表示第一主面580的延續，並且頭部586的厚度或Z方向尺寸小於主要面580、582之間的基板的厚度)。第二覆瓦基板572還限定相對的第一和第二主面590、592以及在Z或深度方向上在主面590、592之間延伸的第一邊緣594。相對的主面590、592每一個限定一個主平面P1b、P2b。第一邊緣594的邊緣輪廓的至少一部分不垂直於主平面P1b、P2b。特別地，第二覆瓦第一邊緣594可具有階梯形輪廓，其與第一覆瓦第一邊緣584的輪廓互補，形成突出的底板596。
在覆瓦狀顯示器550的最終組裝時，第一覆瓦第一邊緣584面向第二覆瓦第一邊緣594以限定接縫574，並且頭部586和底板596經調整尺寸和形狀使得頭部586覆蓋並接觸底板596。互補邊緣輪廓使得致使相鄰覆瓦560、562能互補配合且像素44能垂直對準。另外，該互補配合連同像素44相對於對應的基板第一邊緣584、594的佈置相結合，以在指定的線性方向上保持與上述描述相當的穿過接縫574的均勻像素間距。
在圖10中以簡化形式示出了根據本公開原理的另一實施例覆瓦狀顯示器600的部分。覆瓦狀顯示器600可以類似於上面的描述，並且包括多個覆瓦，例如第一覆瓦610和第二覆瓦612。覆瓦610、612各自包括與上述描述一致的基板，例如基板620、622。覆瓦610、612可以結合先前描述的任何顯示技術，相應的基板620、622承載著多個像素或像素元件44。在覆瓦狀顯示器600的最終組裝時，像素44共同排列成陣列，陣列包括多個列和行，每個列和行具有如上所述的均勻像素間距。列R中的像素間距可以與行C中的像素間距相同或不同。相鄰的第一和第二覆瓦610、612具有互補的形狀特徵和像素佈置，其保持在其間形成的接縫624上的均勻像素間距。
第一覆瓦基板620限定相對的第一和第二主面630、632以及在Z或深度方向上在主面630、632之間延伸的第一邊緣644。相對的主面630、632每一個限定一個主平面P1a、P2a。第一邊緣634的邊緣輪廓的至少一部分不垂直於主平面P1a、P2a。例如，第一邊緣634的輪廓可以形成槽636。第二覆瓦基板622還限定相對的第一和第二主面640、642以及在Z或深度方向上在主面640、642之間延伸的第一邊緣644。相對的主面640、642每一個限定一個主平面P1b、P2b。第一邊緣644的邊緣輪廓的至少一部分不垂直於主平面P1b、P2b。特別 地，第二覆瓦第一邊緣644的輪廓可以形成肋646。槽636和肋646可具有互補配置。
在覆瓦狀顯示器600的最終組裝時，第一覆瓦第一邊緣634面向第二覆瓦第一邊緣644以限定接縫624，並且肋646嵌套在槽636內。互補邊緣輪廓使得致使相鄰覆瓦610、612能互補配合且像素44能垂直對準。邊緣634、644可以或可以不彼此實體接觸。另外，該互補配合連同像素44相對於對應的基板第一邊緣634、644的佈置相結合，以在指定的線性方向上保持與上述描述相當穿過接縫624的均勻像素間距。
以上關於圖6~10描述的互補基板邊緣輪廓是本公開所設想的可選邊緣輪廓的一些非限制性示例。基板邊緣輪廓可以是正方形、圓形、成角度的，或具有非線性輪廓。此外，特定基板的所有邊緣可以具有或不具有相同的輪廓。在一些實施例中，一個或多個邊緣輪廓可具有額外的塗層以管理實體接觸和/或光學效應。邊緣輪廓可以以各種方式賦予特定基板。例如，產生本公開的邊緣輪廓的一些方法包括機械劃線、雷射切割、蝕刻、熱成形、研磨等。此外，可以使用多個過程來創建期望的邊緣輪廓。例如，最初可以對基板進行機械劃線，然後進行蝕刻。如上所述，由覆瓦狀顯示器的相鄰覆瓦的基板承載著的像素(例如，發射元件)可以位於沿著周邊與相應的基板邊緣距不同的距離處。在一些實施例中，例如，取決於所採用的邊緣輪廓形成過程，該配置可能是有益的。例如，具 有兩個機械劃線邊緣和兩個接地邊緣的單個覆瓦基板可以具有位於距實際基板蝕刻不同距離處的像素(例如，微LED)。然而，當組裝相鄰的覆瓦時，保持覆瓦到覆瓦的像素間距。
基板切割/形成過程
如上所述，可以使用各種技術將可選的基板形狀和/或基板邊緣輪廓賦予特定的基板。在一些實施例中，可以通過非衍射光束切割產生一個或兩個特徵。使用非衍射光束切割技術，可以對本公開的覆瓦有用的玻璃基板進行雷射切割，或雷射切割和化學蝕刻，以形成上述精確的覆瓦形狀和/或輪廓和尺寸。例如，在名稱為「Method and Device for the Laser-Based Machining of Sheet-Like Substrates」的美國申請公開號：No.2014/0199519中描述了非衍射光束切割，其全部教導藉由引用結合於此。通過這些和其他處理，可以在大的基板(尺寸大於500mm)上切割尺寸精度小於20μm的覆瓦基板，或者在較小的基板(尺寸大約100mm的量級)上切割小於10μm的尺寸精度。為保持相鄰覆瓦之間的位置誤差小於50%的像素間距(它可以是200μm或更小的量級上)，這種精確度可以是重要的。使用這種可選的雷射處理和玻璃基板，玻璃切割邊緣通常可以具有延伸基板的整個厚度的薄垂直條紋，條紋之間的間距在2~25μm的範圍內。這些相同的雷射切割處 理或雷射切割加酸蝕刻處理可進一步用於製造更複雜的邊緣輪廓特徵，例如圖9和10中所示的那些。
在其他實施例中，雷射穿孔和化學蝕刻的相關處理可用於在本公開的覆瓦基板中或上形成可選的所需特徵。例如，並且如上所述，對於一些顯示技術，可能希望通過覆瓦基板的厚度形成一個或多個孔(例如，允許金屬化和電信號傳導通過基板的穿玻璃通孔)。替代地或另外地，可期望賦予用於部分平移放置或旋轉取向的對準孔。在蝕刻部件的情況下，雷射形成過程的特徵可能仍然是明顯的，但是它們通過蝕刻過程而改變，這對於普通技術人員來說是顯而易見的。
組裝方法
可以採用各種方法從多個覆瓦組裝覆瓦狀顯示器。在本公開的一些實施例中，例如，如圖6所示，可以以在相鄰覆瓦之間產生實體分離的方式組裝覆瓦。聚合物或其他實體間隔物可任選地設置在該實體分離內。覆瓦基板之間的間隙內的材料還可以起到光學功能，以儘量減少會使相應接縫光學地可見的光。光學效應可包括折射率匹配材料或黑色矩陣材料。在覆瓦基板之間的間隙中的諸如聚合物的柔軟材料也可以被配置為用作襯墊，當覆瓦彼此接觸時防止碎裂或其他可靠性損害缺陷。圍繞覆瓦邊緣的這種材料可以重新施加到單獨的覆瓦上，或者可以在組裝後應用到多覆瓦狀顯示器中。覆瓦基板之間的材料也可以是或包括黏合劑。
無論覆瓦是否彼此實體地間隔開，本公開的一些方法包括佈置覆瓦使得在覆瓦狀顯示器的背面上存在重疊的電路板或機械安裝。背面上的這些重疊的電路板或機械安裝不需要在構成覆瓦狀顯示器的所有經組裝的覆瓦下完全延伸，而是應該延伸到至少兩個相鄰覆瓦的部分上。而且，覆瓦的機械對準可以以各種方式實現，例如通過對準銷和通孔。在相關實施例中，可以提供運動安裝或耦合。例如，圖11以簡化形式示出了根據本公開的一些方法的基板650到參考片652的動態安裝，其作為覆瓦狀顯示器的組裝的一部分。基板650被提供作為覆瓦654的一部分，覆瓦654可以具有上述任何結構(例如，基板650承載著多個像素(未示出))。基板650通常可以採用前面描述的任何格式；在圖11的實施例中，一個或多個對準特徵形成在基板650的主面656中，例如第一和第二對準凹槽660、662。參考片652的尺寸和形狀可以根據所得到的覆瓦狀顯示器的預期尺寸加以調整(即，在生成覆瓦狀顯示器時要被組裝的多個覆瓦會全部放置在參考片652上)。參考片652可以在整個組裝的覆瓦狀顯示器上延伸，或者可以不在構成覆瓦狀顯示器的所有經組裝的覆瓦下完全延伸(但是至少在至少兩個相鄰覆瓦的部分上延伸)。利用本公開的一些方法，參考片652限定參考表面670，參考表面670包括或提供一個或多個參考特徵，例如第一和第二參考凹槽672、674，其對應於基板650的對準特徵。對準凹槽660、662和參考凹槽672、674可 以具有基本相似的形狀和尺寸，每個通常構造成分別接收銷680、682的一部分，原因在下面清楚說明。
利用圖11的配置，覆瓦狀顯示器的製造可以包括將多個覆瓦654組裝到參考片652，其中每個覆瓦654相對於參考片652(並且相對於彼此)的佈置由與銷680、682的界面決定。例如，在將每個覆瓦654放置在參考片652上之前，將銷裝入參考凹槽中(例如，將銷680、682分別裝載到參考凹槽672、674中)。然後將覆瓦654在空間上佈置並放置在參考片652上，使得銷680、682分別容納在對準凹槽660、662內。對剩餘的覆瓦重複相同的處理以完成覆瓦狀顯示器。考慮到這一點，參考/對準特徵和銷可以被配置成在深度(Z)方向和顯示平面(圖1的X-Y平面)中提供覆瓦相對於彼此的對準或配準中的一或兩者。通過將每個對準凹槽660、662和每個參考凹槽672、674的形狀與每個銷680、682的直徑相關聯，可以便於在深度方向上的對準。參考凹槽672、674精確地形成在參考片652中，其中相應的銷680、682因此突出超過參考表面670的預定距離。對準凹槽660、662精確地形成在基板650中，使得當與對應的銷680、682對準並放置在對應的銷680、682上時，基板650將被支撐並保持在參考片652上方距預定距離處(在深度或Z方向上)。此時剩下的覆瓦被類似地支撐和保持，並且與參考片652保持相同的預定距離。因此，覆瓦狀顯示器的覆瓦在深度方向上共同對準。
藉由在相對於由相對於周邊形狀的基板承載著的像素矩陣的預期排列的預定的空間位置處(在X-Y平面中)在每個覆瓦基板650中形成對準凹槽660、662，可以有助於在顯示平面(圖1的X-Y平面)中對準或配準覆瓦狀顯示器的覆瓦。參考凹槽(例如，參考凹槽672、674)在參考片652中且在預定的空間位置處所形成，所述預定的空間位置對應於將共同地形成覆瓦狀顯示器的每個覆瓦的周邊形狀以及期望的覆瓦到覆瓦配準。在這方面，覆瓦狀顯示器的相鄰覆瓦將各自具有預期的周邊形狀和相對於該周邊形狀的預期像素矩陣佈置。基於這種理解，參考凹槽以圖案佈置，該圖案係為待形成的覆瓦狀顯示器的每個覆瓦而提供，並且每個覆瓦的對準凹槽係根據圖案而形成在沿著相應覆瓦的位置處。作為藉非限制性示例，圖12A是參考片652的簡化表示，包括第一和第二參考凹槽672、674(應當理解，任何其他數量的參考凹槽，無論大或小，都是同樣可接受的)。如上所述，銷(未示出)與每個參考凹槽672、674一起定位。還提供多個覆瓦690(通常參考)用於在參考片652上組裝。每個覆瓦690的基板形成對準凹槽，該對準凹槽佈置成當與參考片652的對應的參考凹槽672、674對準或配準時將對應的像素矩陣定位在預定位置處。例如，示出用於第一覆瓦690a的第一和第二對準凹槽692、694。對準凹槽692、694被定位和佈置成與參考凹槽672、674中的相應凹槽對應，使得當放置在參考片652上時，第一覆瓦690a將 被佈置在相對於參考片652的已知取向上。(即，由對準凹槽692、694藉參考凹槽672、674的對準所指示的第一覆瓦690a相對於參考片652的已知取向在圖12A中以虛線示出)。基於該已知取向，第一覆瓦690a的像素44(一般參考)相對於對準凹槽692、694(或反之亦然)和第一覆瓦690a的周邊形狀佈置和定位(或反之亦然)這樣，使得在將第一覆瓦690a組裝在參考片652上時，像素44將相對於參考片652以預定的期望的方式在空間上佈置。
圖12B示出了部分組裝狀態，其中第一覆瓦690a以及第二和第三覆瓦690b、690c已經組裝在參考片652上。與上面的描述相對應，每個覆瓦690a~690c的基板的對準凹槽(隱藏)與對應的參考凹槽672、674配合或對準。因這種協調佈置，像素44(一般參考)和第一~第三覆瓦690a~690c的邊緣在顯示(X-Y)平面中配準並對準。剩餘的覆瓦690d~690f類似地組裝在參考片652上，從而產生完整的覆瓦狀顯示器696，如圖12C所示。
使用圖11~12C所示的組裝方法，參考片652可以配置為臨時使用；一旦組裝在參考片652上，覆瓦可以彼此黏附或以其他方式固定，然後從參考片652移除。利用這些和類似技術，參考片652可呈現多種形式，並且可由各種材料形成，而無需考慮覆瓦狀顯示器操作。在其他實施例中，參考片652可以被配置為用作最終覆瓦 狀顯示器的永久部分，因此可以具有適當的機械、電氣和/或光學性質(例如，參考片652可以用作覆瓦狀顯示器的覆蓋片或板，且可以是強化玻璃)。對於其中覆瓦狀顯示器是背光的一些實施例，參考片652可以是在至少兩個相鄰背光覆瓦的部分上延伸的相關液晶單元。參考片652可以是整個薄片，其橫跨整個覆瓦狀顯示器延伸。或者，可以存在多個參考片652，其用於組裝顯示覆瓦。在相關實施例中，參考片652本身可以是被覆瓦化的。
本公開的可選動態安裝技術和方法可以採用其他形式。例如，圖13以簡化形式示出了根據本公開的一些方法的基板700到參考片702的動態安裝，其作為覆瓦狀顯示器。基板700被提供作為覆瓦704的一部分，覆瓦704可以具有上述任何結構(例如，基板700承載著多個像素(未示出))。基板700通常可以採用前面描述的任何格式；在圖13的實施例中，一個或多個對準特徵形成在基板700的主面706中，例如第一和第二凸塊710、712(任何其他數量的凸塊，或者更大或更小，同樣可接受)。參考片702的尺寸和形狀可以根據所得到的覆瓦狀顯示器的預期尺寸加以調整(即，在生成覆瓦狀顯示器時要被組裝的多個覆瓦會全部放置在參考片702上)。利用本公開的一些方法，參考片702限定參考表面720，參考表面720包括或提供一個或多個參考特徵，例如第一和第二凹槽722、724，其對應於基板700的對準特徵。凸塊710、712被配置為容納在凹槽722、724中的相應一個 凹槽中並由其支撐。在一些實施例中，參考表面720還可包括凸起的脊或圍繞每個凹槽722、724的類似結構，其用於引導凸塊710、712與對應的凹槽722、724完全接合。類似於上面關於圖11~12C的描述。如所示，兩個或更多個覆瓦(例如覆瓦704)在由凹槽圖案(例如凹槽722、724)和凸塊之間的界面(例如凸塊710、712)指示的預定位置處被組裝在參考片702上，且該等凹槽導致在深度(Z)方向和顯示平面(圖1的X-Y平面)中的覆瓦對覆瓦對準或配準中的一個或兩個。
利用圖11~13的實施例，可以實現覆瓦到覆瓦的配準，而不依賴於相鄰覆瓦的邊緣之間的直接對準接觸。沿著這些相同的線，藉由圖14的簡化圖示反映了根據本公開的原理的其他覆瓦狀顯示器組裝方法，其中多個覆瓦(例如覆瓦750a、750b、750c)安裝到參考片752上以形成覆瓦狀顯示器754。覆瓦750a、750b、750c中的每一個可以採用上述任何形式(例如，可以結合任何前述顯示技術)，並且可以是具有基本筆直邊緣和基本矩形輪廓或任何其他形狀的均勻矩形覆瓦。此外，覆瓦750a、750b、750c中的每一個分別包括承載著多個像素44的基板760a、760b、760c。基板760a~760c還可以具有上述任何結構，並且在一些實施例中，基板760a~760c被配置為具有尺寸穩定性，例如玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷。每個覆瓦750a~750c還包括一個或多個對準特徵。如下面更詳細描述的，對準特徵是與對應的覆瓦750a ~750c的任何周邊邊緣分開設置的(即，與圖14的實施例相關聯的覆瓦對準特徵不是相應基板760a~760c的邊緣或相應的覆瓦750a~750c的任何其他周邊邊緣)。參考片752可以根據所得到的覆瓦狀顯示器754的預期尺寸來調整其尺寸和形狀，並提供參考表面770。參考表面770可以在所有組裝的覆瓦上延伸，或者可以覆蓋至少兩個相鄰覆瓦的至少一部分。參考表面770本身可以是被覆瓦化的。一般而言，覆瓦狀顯示器754的製造包括將每個覆瓦750a~750c單獨地放置在參考表面770上，沿著參考表面770操縱覆瓦750a~750c以大致以相鄰的覆瓦的方式將覆瓦750a~750c佈置在彼此附近，以及藉對準相應的對準特徵來配準相鄰覆瓦的像素44。圖14的組裝方法直接在顯示平面(圖1的X-Y平面)中實現相鄰覆瓦(例如，相鄰的第一和第二覆瓦750a、750b以及相鄰的第二和第三覆瓦750b、750c)之間的像素44的配準或對準；不依賴於相鄰覆瓦之間的邊緣到邊緣接觸來進行組裝和像素配準。不需要基於覆瓦750a~750c的邊緣的配準。相反，像素配準係基於已經精確地放置/創建在每個基板760a~760c上的特徵，並且不依賴於邊緣位置或形狀變化。因此，覆瓦邊緣的直線度或粗糙度的任何不可避免的統計變化不會影響期望的像素配準。
隨每個覆瓦750a~750c提供的對準特徵可呈現各種形式。例如，隨每個覆瓦750a~750c的一個(或多個)提供的像素44可以用作對準特徵。在這方面，覆 瓦750a~750c包含微LED或LED顯示技術(例如，圖14中的每個像素44包括一個或多個微LED或LED)，在組裝處理中，可以照射(電或光激發)指定為特定覆瓦的對準特徵的單個或多個微LED(或LED)。利用這些和相關的實施例，配準相鄰的第一和第二覆瓦750a、750b的像素44的步驟可以包括照射每個覆瓦750a、750b的所選擇的一個(或多個)微LED像素44以及接著光學地對準受照射的微LED像素44。隨每個覆瓦750a~750c而提供的對準特徵可呈現其他形式，例如TFT內的結構(如果提供)或電子互連圖案化，圖案化的對準標記等。對準特徵可以被創建以與視覺系統和如下所述的主動對準方法結合使用。或者，對準特徵可以是如上所述的物理運動結構，其使得覆瓦能夠可行地對準。儘管如此(且如上所述)與圖14的實施例相關聯的對準特徵是與相應的覆瓦750a~750c的周邊邊緣不同的東西。
除了對準特徵之外，圖14的實施例所涉及的覆瓦(例如，覆瓦750a~750c)可具有上述任何結構。覆瓦可以是矩形、六邊形、三角形或任何其他單元形狀，當相對於彼此組裝時，不會在所得像素陣列內留下空隙。整個組裝的覆瓦狀顯示器內的所有單獨的覆瓦可以具有或不具有相同的形狀或尺寸。在一些實施例中，相對於所得到的覆瓦狀顯示器754的所期望的外部尺寸，有目的地使各個覆瓦尺寸較小。例如，每個覆瓦750a~750c(特別是每個相應的基板760a~760c)被設計成理論上具有 相同的長度(X方向)。組合的基板長度(X方向)被設計為小於覆瓦狀顯示器754的所需長度(X方向)。換句話說，覆瓦750a~750c被設計成使得相鄰覆瓦在最終組裝時將彼此略微間隔開(例如，在圖14的視圖中，第一覆瓦750a和第二覆瓦750b的相對邊緣在接縫780處彼此被間隔開。)利用該可選的方法，跨越相鄰覆瓦(例如，跨越接縫780)的期望像素配準不會受到覆瓦邊緣(例如，基板760a~760c的邊緣)的(要不然會有的)其他預期直線度和/或粗糙度特性的不可避免的變化的不利影響。在其他實施例中，相鄰的覆瓦可以彼此接觸。
參考片752可呈現適於促進本文所述的組裝方法的各種形式(例如，沿著參考表面770操縱(例如滑動)覆瓦750a~750c)。例如，參考片752可以是連續體(例如，玻璃片)或可以是非連續的框架結構。參考片752可以具有與基板760a~760c的厚度(深度方向)相同的厚度，可以比基板760a~760c的厚度(深度方向)更薄或者可以更厚。在一些實施例中，為了在與參考表面770接觸的同時幫助移動(或不移動)覆瓦750a~750c，參考表面770可以由以所需方式影響相對的摩擦力的材料形成或塗覆。例如，可以將諸如SAM(自組裝單層)的低摩擦係數塗層施加到參考表面770以促進覆瓦750a~750c的相對於參考表面770的滑動(例如，與基板760a~760c的低摩擦、滑動界面)。替代地或另外地，覆瓦基板760a~760c中的一個或多個可具有塗層或材 料，其以期望的方式影響與參考表面770的摩擦界面。在一些實施例中，參考片752還可包括一個或多個配準特徵(未示出)，其佈置在與各個覆瓦750a~750c相對於參考表面770的預期放置相對應的位置處。利用這些和相關實施例，本公開的方法可任選地進一步包括藉由將對應覆瓦750a~750c的對準特徵與配準特徵中的相應一個加以對準來執行覆瓦到參考表面的對準(例如，可以透過與參考片752的配準特徵對準來執行相鄰覆瓦的粗略對準，然後透過對準相鄰覆瓦的對準特徵來進行精細對準。)通過以上描述涉及的覆瓦狀顯示器組件的一些方法可以包括首先將覆瓦單獨地放置在參考表面770上，然後通過相應的對準特徵一個接一個地對準覆瓦(尤其是像素)。例如，圖15A描繪了組裝的初始階段，其中第一和第二覆瓦750a、750b已經放置在參考表面770上。在一些實施例中，取決於覆瓦750a、750b的抗彎剛度(例如，相應的基板760a、760b(圖14)的抗彎剛度)，可以以滾動/彎曲、垂直、水平或組合運動將覆瓦750a、750b引入參考表面770。無論如何，然後相對於第一覆瓦750a(和/或反之亦然)操縱第二覆瓦750b(例如，沿著參考表面770滑動)，使得第一覆瓦750a和第二覆瓦750b以邊緣彼此相鄰，同時第一覆瓦750a面向第二覆瓦750b的邊緣，以通常在其間建立接縫780，如圖15B中所示。如上所述，在一些實施例中，可以參考可選地設置有參考片752的參考特徵(未示出)來進行覆瓦 750a、750b的粗略對準。參考表面770上的對準特徵也可用於最終的覆瓦對準。或者，在一些實施例中，可以通過覆瓦750a、750b的邊緣之間的實體接觸來促進粗略對準。在該組裝階段，第一和第二覆瓦750a、750b的像素44可以或可以不彼此配準。另外，然後對準第一和第二覆瓦750a、750b的對準特徵以將第一覆瓦750a的像素44與第二覆瓦750b的像素44配準。例如，圖15C示出了第一覆瓦750a的對準特徵790a和第二覆瓦750b的對準特徵790b；該非限制性示例的對準特徵790a、790b是隨相應的覆瓦750a、750b而提供的像素44中的選定像素。識別對準特徵790a、790b(例如，包括每個對準特徵790a、790b的像素被照射)，然後對準(例如，光學對準)。在該對準步驟之後，第一和第二覆瓦750a、750b的像素44相對於彼此配準，包括對應於在每個覆瓦750a、750b處建立的均勻像素間距的跨越接縫780的像素間距。然後可以以類似的方式將第三覆瓦750c(圖14)放置在參考表面770上並相對於第二覆瓦750b進行配準。在其他實施例中，多個單獨的覆瓦可以放置在參考表面770上，然後是可以放置在用於在平行組裝過程中執行多個覆瓦的對準的機械/機器視覺系統。整體而言，可以透過使用覆瓦到覆瓦配準特徵和/或覆瓦到參考圖紙對準特徵來執行覆瓦750a~750c的配準。
回到圖14所示，一旦經對準且配準，覆瓦(例如，覆瓦750a~750c)相對於彼此固定以完成覆瓦狀顯 示器754。在覆瓦750a~750c以在它們之間產生實體分離的方式組裝的情況下，實體分離可以具有聚合物或其他實體間隔元件，其防止如上所述的機械接觸。在一些實施例中，參考片752可以配置為臨時使用；一旦組裝在參考片752上，則覆瓦750a~750c可以彼此黏附或以其他方式固定，然後從參考片752移除。利用這些和類似技術，參考片752可呈現多種形式，並且可由各種材料形成，而無需考慮覆瓦狀顯示器操作。在其他實施例中，參考片752可以被配置為用作最終覆瓦狀顯示器754的永久部分，因此可以具有適當的機械、電氣和/或光學性質(例如，參考片752可以用作覆瓦狀顯示器的覆蓋片或板，且可以是強化玻璃)。如果覆瓦狀顯示器是背光，則參考片752可以是在至少兩個相鄰背光覆瓦的部分上延伸的相關液晶單元。在一些實施例中，如果需要彎曲(非平坦)的覆瓦狀顯示器，則可以在參考片752是平坦的同時組裝覆瓦狀顯示器754；在組裝覆瓦狀顯示器754之後，參考片752可以冷彎曲成所需形狀以產生非平面顯示器。或者，參考片752最初可具有彎曲形狀，其中覆瓦750a~750c被組裝到該彎曲形狀。最終的彎曲顯示器的曲率半徑可以不大於0.1m，或者不大於0.5m，或者不大於1m，或者不大於5m，並且在一些實施例中不大於10m。除了能夠在X-Y平面中配準和組裝覆瓦之外，參考表面770還可以在Z方向上提供覆瓦。例如，在一些實施例中，參考表面770能夠實現覆瓦放置，其中相鄰覆瓦在Z方向上 偏移不超過覆瓦基板厚度的50%，或者不超過40%，或者不超過30%，或者不超過20%，或者不超過10%，或者不超過5%，並且在一些實施方案中不超過1%。
在不脫離所要求保護的主題的範圍的情況下，可以對這裡描述的實施例進行各種修改和變化。因此，本說明書旨在涵蓋本文所述的各種實施例的修改和變化，只要這些修改和變化落入所附請求項及其等同物的範圍內。
R:列
C:行
44a:像素
44a':像素
120:覆瓦狀顯示器
136:覆瓦
130:覆瓦
170:邊緣
166:接縫
154:基板
134:覆瓦
164:接縫
140:覆瓦
132:覆瓦
152:基板
180:邊緣
162:接縫
150:基板
160:像素陣列
138:覆瓦
142:覆瓦
44b:像素
44b':像素

Claims (28)

  1. 一種覆瓦狀顯示器，該覆瓦狀顯示器具有在一X-Y平面中排列成多個列和多個行的一像素陣列，該覆瓦狀顯示器包括：一第一覆瓦，該第一覆瓦包括承載著在該X-Y平面中以一均勻像素間距佈置的一像素矩陣的一基板，其中：該基板包括相對的一第一主面和一第二主面以及在該基板的一深度方向上在相對的該第一主面和該第二主面之間延伸的一第一邊緣，該像素矩陣包括最靠近該第一邊緣的一第一像素；和一第二覆瓦，該第二覆瓦包括承載著在該X-Y平面中以該均勻像素間距佈置的一像素矩陣的一基板，該第二覆瓦的該基板包括相對的主面和在該第二覆瓦的該基板的一深度方向上延伸的一第一邊緣；其中該第一覆瓦的該第一邊緣與該第二覆瓦的該第一邊緣具有一互補形狀；並且其中該覆瓦狀顯示器的最終組裝包括：彼此面對的該第一覆瓦的該第一邊緣與該第二覆瓦的該第一邊緣，以在該第一覆瓦的該第一邊緣與該第二覆瓦的該第一邊緣之間建立一第一接縫， 該第一覆瓦的像素與該第二覆瓦的像素配準，並且在一指定的線性方向上橫跨該第一接縫而保持該均勻像素間距，該第一像素在該X-Y平面中在該多個列的一第一列和該多個行的一第一行內對準，該第二覆瓦的該等像素不沿該第一列或該第一行中的任一者插入該第一覆瓦的像素之間；且其中該互補形狀包括：該第一接縫的至少一區段在該X-Y平面中傾斜於該多個列，並且該第一覆瓦的該第一邊緣在該深度方向上成形，使得該第一覆瓦的該第一邊緣的至少一部分不垂直於相應的該等相對的主面的一平面。
  2. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該基板還包括在相應的該等主面之間延伸的一第二邊緣，該第二邊緣與該第一覆瓦的該第一邊緣形成一拐角，並且進一步地，其中該第一覆瓦的該像素矩陣還包括位於最靠近該第二邊緣處的一第二像素，該覆瓦狀顯示器還包括：一第三覆瓦，該第三覆瓦包括承載著在該X-Y平面中以該均勻像素間距佈置的一像素矩陣的一基板，該第三覆瓦的該基板包括相對的主面和在該等相對的主 面之間延伸的一第一邊緣；其中，該第一覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第一邊緣具有一互補形狀；並且進一步地，其中該覆瓦狀顯示器的最終組裝包括：該第一覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第一邊緣彼此面對，以在它們之間建立一第二接縫，該第一覆瓦的像素與該第三覆瓦的像素配準，並且在該指定的線性方向上橫跨該第二接縫而保持該均勻像素間距。
  3. 如請求項2所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第一邊緣的該互補形狀包括選自由以下所組成的群組的至少一種特徵：該第二接縫的至少一區段在該X-Y平面中傾斜於該多個列；並且該第一覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第一邊緣各自在該深度方向上成形，使得該第一覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第一邊緣的各自的至少一部分不垂直於相應的該等相對的主面的一平面。
  4. 如請求項2所述的覆瓦狀顯示器，其中該第二覆瓦的該基板和該第三覆瓦的該基板各自還包括一 第二邊緣，其中該第三覆瓦的該第二邊緣和該第二覆瓦的該第二邊緣具有一互補形狀，並且進一步地，其中該覆瓦狀顯示器的最終組裝包括：該第二覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第二邊緣彼此面對，以在它們之間建立一第三接縫；和該第二覆瓦的像素與該第三覆瓦的像素配準，並且在該指定的線性方向上橫跨該第三接縫而保持該均勻像素間距。
  5. 如請求項4所述的覆瓦狀顯示器，其中該第二覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第二邊緣的該互補形狀包括選自由以下所組成的群組的至少一個特徵：該第三接縫的至少一區段在該X-Y平面中傾斜於該多個列；並且該第二覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第二邊緣各自在該深度方向上成形，使得該第二覆瓦的該第二邊緣和該第三覆瓦的該第二邊緣的各自的至少一部分不垂直於相應的該等相對的主面的一平面。
  6. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一接縫的該區段是非線性的。
  7. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該等第一邊緣之每一者在與相應的該等相對的主面的一平 面平行的一平面中是非線性的。
  8. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一接縫是線性的。
  9. 如請求項8所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一接縫的整體在該X-Y平面中傾斜於該多個列。
  10. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該第一邊緣與相應的該第一主面形成一鈍角，且與相應的該第二主面形成一銳角。
  11. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中，該第一覆瓦的該第一邊緣與相應的該第一主面形成一銳角，且與相應的該第二主面形成一鈍角。
  12. 如請求項11所述的覆瓦狀顯示器，還包括一框架元件，該框架元件設置在該第一接縫內，將該第一覆瓦的該第一邊緣從該第二覆瓦的該第一邊緣分開。
  13. 如請求項10所述的覆瓦狀顯示器，其中，該第二覆瓦的該第一邊緣與相應的該第一主面形成一銳角，並與相應的該第二主面形成一鈍角。
  14. 如請求項13所述的覆瓦狀顯示器，其中該覆瓦狀顯示器的最終組裝包括該第一覆瓦的該第一邊緣與該第二覆瓦的該第一邊緣平行。
  15. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該 第一覆瓦的該第一邊緣在相應的該等相對的主面之間彎曲，並且其中該第二覆瓦的該第一邊緣在相應的該等相對的主面之間是線性的。
  16. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一邊緣包括互補的階梯形狀。
  17. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該第一邊緣限定一凹口，並且進一步地其中該第二覆瓦的該第一邊緣限定一肋，並且甚至進一步地其中該覆瓦狀顯示器的該最終組裝包括與該凹口對準的該肋。
  18. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，還包括設置在該第一覆瓦的該第一邊緣和該第二覆瓦的該第一邊緣之間的一間隔物。
  19. 如請求項18所述的覆瓦狀顯示器，其中該間隔物包括一聚合物材料。
  20. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該基板的該第一主面包括用於安裝到一底板上的一凹槽和一凸塊中的至少一個。
  21. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該均勻像素間距不大於0.5mm。
  22. 如請求項21所述的覆瓦狀顯示器，其中該均勻像素間距不大於0.4mm。
  23. 如請求項22所述的覆瓦狀顯示器，其中該均勻像素間距不大於0.3mm。
  24. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦還包括多個微LED。
  25. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該覆瓦狀顯示器的最終組裝包括該第一覆瓦的像素，該第一覆瓦的像素與該第二覆瓦的像素配準而具有一配準誤差，該配準誤差不大於該指定線性方向上的該均勻像素間距的50%。
  26. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該基板包括選自由玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷所組成的群組的一材料。
  27. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中，該第一覆瓦的該基板表現出不大於10ppm/℃的一熱膨脹係數。
  28. 如請求項1所述的覆瓦狀顯示器，其中該第一覆瓦的該基板表現出不小於50GPa的楊氏模量。
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