TWI787821B - X射線分析裝置 - Google Patents

X射線分析裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI787821B
TWI787821B TW110117615A TW110117615A TWI787821B TW I787821 B TWI787821 B TW I787821B TW 110117615 A TW110117615 A TW 110117615A TW 110117615 A TW110117615 A TW 110117615A TW I787821 B TWI787821 B TW I787821B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
sample
container
opening
film
analysis device
Prior art date
Application number
TW110117615A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202202834A (zh
Inventor
森久祐司
克里恩卡莫爾 坦特拉卡恩
小林寛治
鈴木桂次郎
Original Assignee
日商島津製作所股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商島津製作所股份有限公司 filed Critical 日商島津製作所股份有限公司
Publication of TW202202834A publication Critical patent/TW202202834A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI787821B publication Critical patent/TWI787821B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/2204—Specimen supports therefor; Sample conveying means therefore
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076—X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/307—Accessories, mechanical or electrical features cuvettes-sample holders

Abstract

本發明提供一種X射線分析裝置，具備：試樣容器（10），收納試樣（S）；載置部（24），可載置試樣容器（10）；X射線照射源，從載置部（24）之下方，對試樣（S）照射X射線；檢測器，在載置部之下方，檢測從試樣（S）產生的螢光X射線；以及架座（50），載置於載置部（24），收納試樣容器（10）。於載置部（24），設置開口部（24h）。試樣容器（10），包括：容器本體（12），包圍試樣（S）且具有於下方開口的形狀；以及容器膜（14），封閉容器本體（12）之開口且支持試樣（S）。架座（50），包括：包圍筒（52），具有較開口部（24h）更大的外形並包圍試樣容器（10），且具有於下方開口的形狀；以及架座膜（54），封閉包圍筒（52）之開口。

Description

X射線分析裝置
本發明係關於一種X射線分析裝置。
過去，已知有用來分析從受到X射線照射之試樣產生的螢光X射線的X射線分析裝置。例如，於日本特開2018－63196號公報揭露之X射線分析裝置，具備：殼體部，具有可載置試樣的載置部；X射線管球，通過設置於載置部的開口部，對試樣照射X射線；以及檢測器，檢測從試樣產生的螢光X射線。X射線管球及檢測器，配置於載置部之下方。試樣，隔著膜而載置於載置部。 [習知技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2018－63196號公報
[本發明所欲解決的問題]
在如日本特開2018－63196號公報記載之X射線分析裝置，有時因膜之破損等而造成試樣的一部分通過開口部掉落，並附著於檢測器之情況。此一情況，存在有分析精度降低的疑慮。
本發明之目的在於提供一種可抑制試樣之從載置部的掉落之X射線分析裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明之第1態樣係關於一種X射線分析裝置，其具備：試樣容器，收納試樣；載置部，可載置該試樣容器；X射線照射源，從該載置部之下方，對該試樣容器內之該試樣照射X射線；檢測器，在該載置部之下方，檢測從該試樣產生的螢光X射線；以及架座，載置於該載置部，收納該試樣容器；於該載置部，設置用於使從該X射線照射源照射的X射線通過之開口部；該試樣容器，具備：容器本體，包圍該試樣且具有於下方開口的形狀；以及容器膜，封閉該容器本體之開口且支持該試樣；該架座，具備：包圍筒，具有較該開口部更大的外形並包圍該試樣容器，且具有於下方開口的形狀；以及架座膜，封閉該包圍筒之開口。 [本發明之效果]
該X射線分析裝置，於支持試樣的容器膜之下方進一步配置架座膜，故即便為容器膜破損等的情況，仍抑制試樣之從載置部的掉落。
針對本發明之實施形態，參考圖式而予以說明。另，以下參考之圖式，對於相同或與其相當之構件，給予相同符號。
圖1係概略顯示本發明之一實施形態的X射線分析裝置之構成的圖。如圖1所示，X射線分析裝置1，具備：試樣容器10、殼體20、X射線照射源30、檢測器40、及架座50。
試樣容器10，係收納試樣S之容器。如圖2所示，試樣容器10，具備容器本體12及容器膜14。
容器本體12，包圍試樣S且具有於下方開口的形狀。容器本體12，例如由聚丙烯（PP）構成。
容器膜14，封閉容器本體12之開口12a（參考圖2），且支持試樣S。在本實施形態，容器膜14，由聚丙烯構成。容器膜14，熔接於容器本體12之下端部。另，容器膜14，亦可由聚對苯二甲酸乙二酯（PET）等形成。
殼體20，收納試樣容器10等。殼體20，由金屬構成。如圖1所示，殼體20，具備收納部22、載置部24、及蓋部26。
收納部22，係以殼體20之下部構成。收納部22，收納X射線照射源30及檢測器40。收納部22，具有於上方開口的形狀。
載置部24，與收納部22之上端部連接。載置部24，係載置試樣容器10之部位。於載置部24，設置用於使從X射線照射源30照射的X射線通過之開口部24h。開口部24h，設定為較容器本體12之外形更小。換而言之，容器本體12之外形，較開口部24h更大。
蓋部26，包圍試樣容器10。蓋部26之下端部，與載置部24之外緣部連接。
X射線照射源30，收納於收納部22。X射線照射源30，從載置部24之下方，對配置於試樣容器10內之試樣S照射X射線。作為X射線照射源30，例如可列舉X射線管球。
檢測器40，收納於收納部22。檢測器40，在載置部24之下方，檢測從接收到由X射線照射源30照射的X射線之試樣S產生的螢光X射線。從提高試樣S的分析精度之觀點來看，檢測器40，宜配置於開口部24h的附近。
架座50，載置於載置部24，收納試樣容器10。架座50，構成為可從載置部24卸下。如圖2所示，架座50，具備包圍筒52及架座膜54。
包圍筒52，具有較開口部24h更大的外形。包圍筒52，包圍試樣容器10，且具有於下方開口的形狀。在本實施形態，包圍筒52，形成為圓筒狀。包圍筒52，例如由聚丙烯構成。包圍筒52之高度，較試樣容器10之高度更大。包圍筒52，藉由未圖示的定位機構，決定相對於開口部24h的位置。包圍筒52之內周面52S，亦可隨著接近載置部24而逐漸縮徑。如此一來，則在從包圍筒52之上方將試樣容器10配置於包圍筒52內時，將試樣容器10往既定位置引導。
架座膜54，封閉包圍筒52之開口52a（參考圖2）。亦即，於開口部24h之上方，疊層2片膜（容器膜14及架座膜54）。架座膜54，例如由聚丙烯構成。架座膜54，熔接於包圍筒52之下端部。架座膜54之厚度，與容器膜14之厚度為相同程度。例如，架座膜54之厚度，宜設定為容器膜14之厚度的0.5倍以上2倍以下。另，架座膜54，亦可由聚對苯二甲酸乙二酯（PET）等形成。
如同上述說明，本實施形態之X射線分析裝置1，於支持試樣S的容器膜14之下方進一步配置架座膜54，故即便為容器膜14破損等的情況，仍抑制試樣S之從載置部24的掉落。因此，抑制檢測器40之弄髒等。
另，本次揭露之實施形態，應知曉其全部內容皆為例示，而非用於限制本發明。本發明之範圍，係由發明申請專利範圍揭露，而非由上述實施形態之說明內容揭露，進一步包含與發明申請專利範圍均等之含義及範圍內的全部變更。
例如，如圖3所示，架座50，亦可進一步具備夾持環56。於此例中，架座膜54之外形，設定為較包圍筒52之外形更大。夾持環56，於該夾持環56的內周面與包圍筒52的外周面之間，夾持架座膜54之邊緣部。
此外，如圖4所示，試樣容器10，亦可進一步具備夾持環16。於此例中，容器膜14之外形，設定為較容器本體12之外形更大。夾持環16，於該夾持環16的內周面與容器本體12的外周面之間，夾持容器膜14之邊緣部。
[態樣] 由所屬技術領域中具有通常知識者，理解上述複數個例示性實施形態，為以下態樣之具體例。
（第1項）一態樣之該X射線分析裝置，具備：試樣容器，收納試樣；載置部，可載置該試樣容器；X射線照射源，從該載置部之下方，對該試樣容器內之該試樣照射X射線；檢測器，在該載置部之下方，檢測從該試樣產生的螢光X射線；以及架座，載置於該載置部，收納該試樣容器；於該載置部，設置用於使從該X射線照射源照射的X射線通過之開口部；該試樣容器，包括：容器本體，包圍該試樣且具有於下方開口的形狀；以及容器膜，封閉該容器本體之開口且支持該試樣；該架座，包括：包圍筒，具有較該開口部更大的外形並包圍該試樣容器，且具有於下方開口的形狀；以及架座膜，封閉該包圍筒之開口。
該X射線分析裝置，於支持試樣的容器膜之下方進一步配置架座膜，故即便在容器膜破損等的情況中，仍抑制試樣之從載置部的掉落。
（第2項）如第1項記載之X射線分析裝置，其中，該架座膜，亦可熔接於該包圍筒之下端部。
在此態樣，省略架座膜之對包圍筒的安裝作業。 （第3項）如第1項記載之X射線分析裝置，其中，該架座，亦可進一步具備安裝於該包圍筒之周圍的夾持環；該夾持環，亦可於該夾持環的內周面與該包圍筒的外周面之間，夾持該架座膜之邊緣部。
在此態樣，可將由對於包圍筒熔接困難之材料（例如，與構成包圍筒之材料不同之材料）構成的架座膜，安裝於包圍筒。
（第4項）如第1項至第3項中任一項記載之X射線分析裝置，其中，該架座，宜構成為可從該載置部卸下。
如此一來，則可進行架座膜之清洗或架座本身之更換等，而不對X射線照射源或檢測器造成損傷。
（第5項）如第1項至第4項中任一項記載之X射線分析裝置，其中，該容器本體之外形，宜較該開口部更大。
如此一來，則即便在並未於包圍筒安裝架座膜的情況中，藉由將試樣容器載置於載置部仍可分析試樣。
1:X射線分析裝置 10:試樣容器 12:容器本體 12a:開口 14:容器膜 16:夾持環 20:殼體 22:收納部 24:載置部 24h:開口部 26:蓋部 30:X射線照射源 40:檢測器 50:架座 52:包圍筒 52a:開口 52S:內周面 54:架座膜 56:夾持環 S:試樣
圖1係概略顯示本發明之一實施形態的X射線分析裝置之構成的圖。 圖2係試樣容器及架座之附近的放大圖。 圖3係概略顯示架座之變形例的剖面圖。 圖4係概略顯示試樣容器之變形例的剖面圖。
10:試樣容器
12:容器本體
12a:開口
14:容器膜
24:載置部
24h:開口部
50:架座
52:包圍筒
52a:開口
52S:內周面
54:架座膜
S:試樣

Claims (5)

  1. 一種X射線分析裝置，包含：試樣容器，收納試樣；載置部，可載置該試樣容器；X射線照射源，從該載置部之下方，對該試樣容器內之該試樣照射X射線；檢測器，在該載置部之下方，檢測從該試樣產生的螢光X射線；以及架座，載置於該載置部，收納該試樣容器；於該載置部，設置用於使從該X射線照射源照射的X射線通過之開口部；該試樣容器，包括；容器本體，包圍該試樣且具有於下方開口的形狀；以及容器膜，封閉該容器本體之開口且支持該試樣；該架座，包括；包圍筒，具有較該開口部更大的外形並包圍該試樣容器，且具有於下方開口的形狀；以及架座膜，封閉該包圍筒之開口；該包圍筒之內周面，包括隨著接近該載置部而逐漸縮徑之部位。
  2. 如請求項1之X射線分析裝置，其中，該架座膜，熔接於該包圍筒之下端部。
  3. 如請求項1之X射線分析裝置，其中，該架座，更包括安裝於該包圍筒之周圍的夾持環； 該夾持環，在該夾持環的內周面與該包圍筒的外周面之間，夾持該架座膜之邊緣部。
  4. 如請求項1至3中任一項之X射線分析裝置，其中，該架座，構成為可從該載置部卸下。
  5. 如請求項1之X射線分析裝置，其中，該容器本體之外形，較該開口部更大。
TW110117615A 2020-07-01 2021-05-17 X射線分析裝置 TWI787821B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2020/025763 WO2022003850A1 (ja) 2020-07-01 2020-07-01 Ｘ線分析装置
WOPCT/JP2020/025763 2020-07-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202202834A TW202202834A (zh) 2022-01-16
TWI787821B true TWI787821B (zh) 2022-12-21

Family

ID=79315789

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110117615A TWI787821B (zh) 2020-07-01 2021-05-17 X射線分析裝置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20230236142A1 (zh)
EP (1) EP4177600A4 (zh)
JP (1) JPWO2022003850A1 (zh)
CN (1) CN115715365A (zh)
TW (1) TWI787821B (zh)
WO (1) WO2022003850A1 (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04355355A (ja) * 1991-05-31 1992-12-09 Rigaku Denki Kogyo Kk 蛍光ｘ線分析装置における窓材の汚染検出方法
JP2006317153A (ja) * 2005-05-10 2006-11-24 Rigaku Industrial Co 蛍光ｘ線分析用試料保持具ならびにそれを用いる蛍光ｘ線分析方法および装置
JP2011013027A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Horiba Ltd 蛍光ｘ線分析装置
JP2011089794A (ja) * 2009-10-20 2011-05-06 Rigaku Corp 蛍光ｘ線分析用試料保持具ならびにそれを用いる蛍光ｘ線分析方法および装置
TW201606296A (zh) * 2014-08-01 2016-02-16 黑爾穆特佛雪爾電子學和計量技術公司 用於ｘ射線螢光分析之手持器具及行動裝置
CN107957430A (zh) * 2016-10-14 2018-04-24 株式会社岛津制作所 X射线分析装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2838172B2 (ja) * 1991-05-03 1998-12-16 株式会社 堀場製作所 蛍光ｘ線分析装置
US5351281A (en) * 1993-04-15 1994-09-27 Angelo M. Torrisi Handling support for X-ray spectroscopic analysis
CN100464182C (zh) * 2003-03-28 2009-02-25 理学电机工业株式会社 荧光x射线分析装置
JP5907375B2 (ja) * 2011-12-28 2016-04-26 株式会社テクノエックス 蛍光ｘ線分析装置及び蛍光ｘ線分析方法
CN108956672B (zh) * 2018-05-15 2021-12-17 江苏天瑞仪器股份有限公司 使用食品快检仪专用样品杯进行重金属检测的检测方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04355355A (ja) * 1991-05-31 1992-12-09 Rigaku Denki Kogyo Kk 蛍光ｘ線分析装置における窓材の汚染検出方法
JP2006317153A (ja) * 2005-05-10 2006-11-24 Rigaku Industrial Co 蛍光ｘ線分析用試料保持具ならびにそれを用いる蛍光ｘ線分析方法および装置
JP2011013027A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Horiba Ltd 蛍光ｘ線分析装置
JP2011089794A (ja) * 2009-10-20 2011-05-06 Rigaku Corp 蛍光ｘ線分析用試料保持具ならびにそれを用いる蛍光ｘ線分析方法および装置
TW201606296A (zh) * 2014-08-01 2016-02-16 黑爾穆特佛雪爾電子學和計量技術公司 用於ｘ射線螢光分析之手持器具及行動裝置
CN107957430A (zh) * 2016-10-14 2018-04-24 株式会社岛津制作所 X射线分析装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN115715365A (zh) 2023-02-24
TW202202834A (zh) 2022-01-16
JPWO2022003850A1 (zh) 2022-01-06
EP4177600A4 (en) 2024-03-06
EP4177600A1 (en) 2023-05-10
WO2022003850A1 (ja) 2022-01-06
US20230236142A1 (en) 2023-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2838172B2 (ja) 蛍光ｘ線分析装置
JP4854005B2 (ja) 蛍光ｘ線分析装置
US9810649B2 (en) X-ray fluorescence analyzer
TWI787821B (zh) X射線分析裝置
RU2010126726A (ru) Предварительно покрытые пленкой ячейки точного дозирования для рентгеноструктурного анализатора
US20180189944A1 (en) Inline x-ray measurement apparatus and method
JP2018155680A (ja) カセット装填装置
US8475044B2 (en) Analyzing apparatus
CN107957430B (zh) X射线分析装置
JP2011203102A (ja) 試料ホルダ及び試料分析方法
CN111925930B (zh) 一种病毒检测仪
JP3726161B2 (ja) 蛍光ｘ線分析装置
JP2943063B2 (ja) 蛍光ｘ線分析装置
JP2010066121A (ja) Ｘ線回折装置およびｘ線回折方法
JP5458742B2 (ja) 電子線マイクロアナライザ
JP3510568B2 (ja) 中性子発生施設およびその保守点検方法
JP5524521B2 (ja) 蛍光ｘ線分析装置
JP2011013029A (ja) 蛍光ｘ線分析装置
JPWO2022003850A5 (zh)
JP2006518534A5 (zh)
KR200167931Y1 (ko) 감마선측정용 게르마늄반도체 검출기 보호대
JP2551757Y2 (ja) 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ
JP2014038035A (ja) Ｘ線検出装置、及び試料載置体
JP5072704B2 (ja) 放射線検査装置
JP2022181989A (ja) Ｘ線分析装置