TWI777973B - 偏光板及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供一種即便在高溫高濕等的環境下亦顯示優異的耐久性之偏光板及其製造方法。

本發明之解決手段係提供一種偏光板，係包含偏光件、及在前述偏光件的至少一面經由接著劑層而層積的保護膜；其中，前述接著劑層係含有陽離子聚合性化合物、第1產酸劑及第2產酸劑之接著劑的硬化物；前述第1產酸劑係硬化溫度未達120℃的離子性化合物，而且，構成前述離子性化合物之相對陰離子係下述式(1)或(2)表示的陰離子；前述第2產酸劑係硬化溫度為120℃以上且藉由活性能量線而產生酸之離子性化合物。

Description

偏光板及其製造方法
本發明係有關於被使用在液晶顯示裝置等之偏光板及其製造方法。
關於在組裝光學零件等時所使用的接著劑，已知由陽離子聚合性樹脂、光聚合起始劑及熱聚合起始劑所調配而成之接著劑(專利文獻1及2)。此種接著劑，因為不僅是具有由光照射所致之硬化作用，亦具有由加熱所致之硬化作用，故即便在組裝光學構件等時會成為陰影的部分等亦能夠進行接著，所以，能夠利用在例如半導體雷射模組等的光學材料的組裝。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2013-95881號公報
[專利文獻2] 日本特開2003-96425號公報
另一方面，在液晶顯示裝置等所廣泛使用之偏光板中亦有使用接著劑，通常，偏光板係具有將保護膜經由接著劑而層積在偏光件(polarizer)的單面或兩面之構成。近年來，偏光板係被利用在各式各樣的用途，例如以智慧型手機和平板電腦型終端設備作為代表之可移動式機器用途等，而且例如有被置於高溫或高溫高濕環境下之情形。
因此，要求即使是在此種環境下亦可抑制接著劑與偏光件和保護膜之界面的浮起或剝離等、以及光學特性不產生劣化。尤其是因為偏光板在高溫環境下有強的收縮應力，所以相較於一般的光學構件等的組裝所使用之接著劑，偏光板所使用之接著劑係被要求更高的耐久性能。
因而，本發明之目的係提供一種即便在高溫高濕等的環境下亦顯示優異的耐久性之偏光板及其製造方法。
為了解決上述課題，本發明者進行專心研討，結果完成了本發明。亦即，本發明係包含以下項目。
[1]一種偏光板，係包含偏光件、及在前述偏光件的至少一面經由接著劑層而層積的保護膜；其中，前述接著劑層係含有陽離子聚合性化合物、第1產酸劑及第2產酸劑之接著劑的硬化物；前述第1產酸劑係硬化溫度未達120℃的離子性化合 物，而且，構成前述離子性化合物之相對陰離子係下述式(1)表示之陰離子、或下述式(2)表示之陰離子：
Figure 106129972-A0202-12-0003-5
 [式中，R1係可具有取代基之C6-14芳基或可具有取代基之C3-14芳香族雜環基，R2至R4係互相獨立地表示C1-18烷基、可具有取代基之C6-14芳基或可具有取代基之C3-14芳香族雜環基，前述取代基係C1-18烷基、鹵化C1-8烷基、C2-18烯基、C2-18炔基、C6-14芳基、C3-14芳香族雜環基、硝基、羥基、氰基、-OR5表示之烷氧基或芳氧基、R6CO-表示之醯基、R7COO-表示之醯氧基、-SR8表示之烷硫基或芳硫基、-NR9R10表示之胺基、或是鹵素原子，前述R5至R8為C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基，前述R9及R10為氫原子、C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基]
[(Rf)aPF6-a]- (2)[式中，Rf表示氫的80%以上被氟原子取代之相同或不同之烷基，a為1至5的整數]；前述第2產酸劑係硬化溫度為120℃以上且藉由活性能量線而產生酸之離子性化合物。
[2]如[1]所述之偏光板，其中，前述接著劑層係藉由對前述 接著劑照射活性能量線之後，進行加熱而硬化而成者。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板，其中，第1產酸劑係下述式(3)表示之離子性化合物：
Figure 106129972-A0202-12-0004-6
 [式中，R11及R12係互相獨立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族雜環基，R13表示可具有取代基之苯基，X-係如[1]中所記載之式(1)或式(2)表示之陰離子]。
[4]如[1]至[3]項中任一項所述之偏光板，其中，第2產酸劑的相對陰離子係前述式(1)或前述式(2)表示之陰離子、或是PF6 -。
[5]如[1]至[4]項中任一項所述之偏光板，其中，第2產酸劑的相對陽離子為鋶系陽離子。
[6]如[1]至[5]項中任一項所述之偏光板，其中，陽離子聚合性化合物係含有選自由環氧化合物、氧雜環丁烷化合物及乙烯系化合物所組成群組之至少1種化合物。
[7]如[1]至[6]項中任一項所述之偏光板，其中，保護膜係含有選自由纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂及聚碳酸酯系樹脂所組成群組之至少1種樹脂。
[8]一種偏光板的製造方法，係製造如[1]至[7]項中任一項所述之偏光板，該製造方法包含下列步驟：(a)將接著劑塗佈在偏光件及/或保護膜之步驟； (b)將偏光件及保護膜進行層積之步驟；(c)對步驟(b)所得到的積層體照射活性能量線之步驟；及(d)繼而將積層體加熱之步驟。
依照本發明，即便在高溫高濕等的環境下，亦能夠提供具有優異的耐久性之偏光板。
10‧‧‧第1保護膜
15‧‧‧第1接著劑層
20‧‧‧第2保護膜
25‧‧‧第2接著劑層
30‧‧‧偏光件
第1圖係顯示本發明之偏光板的層結構的一個例子之概略剖面圖。
<偏光板>
本發明的偏光板係包含：偏光件、及在前述偏光件的至少一面經由接著劑層而層積之保護膜。
第1圖係顯示本發明之偏光板的層結構的一個例子之概略剖面圖。第1圖所顯示之偏光板，係依序包含第1保護膜10、第1接著劑層15、偏光件30、第2接著劑層25、及第2保護膜20而構成。亦即，第1保護膜10係經由第1接著劑層15而被層積在偏光件30的一面，第2保護膜20係經由第2接著劑層25而被層積在偏光件30的另一面。
不被第1圖的例子所限定，本發明之偏光板亦能夠包含上述以外的其它層。若要舉出其它層的具體 例，則可舉例如：在第1保護膜10及/或第2保護膜20的外表面所層積之黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層；在該黏著劑層的外表面所層積之隔離膜(亦被稱為「剝離膜」)；在第1保護膜10及/或第2保護膜20的外表面所層積之保護膜(protect film)(亦被稱為「表面保護膜」)；在第1保護膜10及/或第2保護膜20的外表面經由接著劑層或黏著劑層而層積之光學功能性膜等。
本發明之偏光板，可為具有上述層結構之偏光板的長條物或其捲繞卷筒、從該長條物及捲繞卷筒切取之偏光板片體、或將該偏光板片體切取成更小尺寸之片體。
此外，在本說明書中，所謂耐久性係指：例如在高溫環境下、高溫高濕環境下、重複高溫及低溫的環境下等，在接著劑層和與其鄰接的偏光件或保護膜之界面，能夠抑制浮起和剝離之特性(有被稱為耐剝離性之情形)、能夠抑制光學特性劣化之特性(有被稱為耐劣化性之情形)、及能夠抑制偏光板翹曲(或卷曲)之特性(有被稱為耐卷曲性之情形)等。
[1]接著劑層
構成本發明的偏光板之接著劑層，係含有以下所記載的預定的陽離子聚合性化合物、第1產酸劑及第2產酸劑之接著劑的硬化物，較佳是以在照射活性能量線後藉由加熱而硬化之硬化物所構成。
(1)陽離子聚合性化合物
陽離子聚合性化合物，較佳係藉由照射活性能量線(例如紫外線、可見光、電子射線、X射線等)及加熱而進行陽離子聚合反應並硬化之化合物或寡聚物。陽離子聚合性化合物係例如可舉出：在分子內具有1個以上的環氧基之環氧化合物，在分子內具有1個以上的氧雜環丁烷環之氧雜環丁烷化合物、乙烯系化合物等。該等陽離子聚合性化合物係能夠單獨或組合2種以上而使用。該等之中，以選自由環氧化合物、氧雜環丁烷化合物及乙烯系化合物所組成群組之至少1種化合物為佳，尤其以環氧化合物及氧雜環丁烷化合物為特佳。環氧化合物係例如能夠舉出脂環式環氧化合物、脂肪族環氧化合物、芳香族環氧化合物、氫化環氧化合物等，從接著性及硬化速度的觀點而言，以脂環式環氧化合物、脂肪族環氧化合物等為佳。另外，在環氧化合物的分子內所存在的環氧基的數目，係例如可為1個，較佳為2個以上，特別是可為2個。使用2官能(環氧基的數目為2個)的環氧化合物時，因為對於偏光件的收縮應力亦具有較高的密著性，故有利於用以形成具有優異的耐剝離性等之偏光板。
脂環式環氧化合物，可為在分子內具有1個以上與脂環式環鍵結的環氧基之化合物。所謂「與脂環式環鍵結的環氧基」，在下述式(5)中係指含有氧原子-O-之3員環。下述式(5)中，m可為2至5的整數。
Figure 106129972-A0202-12-0008-7
脂環式環氧化合物，可為將「式(5)之(CH2)m中的1個或複數個氫原子被除去後的形式之基」鍵結在其它化學結構之化合物。具體而言，該脂環式環氧化合物，係將「式(5)之(CH2)m中的氫被除去後的形式之基」，直接、或是經由直鏈狀或分枝鏈狀伸烷基(例如直鏈狀或分枝鏈狀C1-12伸烷基)，而鍵結在1個或複數個式(5)的化合物。此外，構成前述直鏈狀或分枝鏈狀伸烷基之-CH2-係可被-O-或-CO-取代。另外，(CH2)m中的1個或複數個氫原子，亦可被甲基、乙基等直鏈狀或分枝鏈狀烷基適當地取代。該等之中，從接著性及硬化速度的觀點而言，係以具有環氧環戊烷結構[在上述式(5)中之m=3者]、環氧環己烷結構[在上述式(5)中之m=4者]之脂環式環氧化合物為有利。
以下，揭示較佳的2官能的脂環式環氧化合物(有被稱為2官能脂環式環氧化合物之情形)之具體例。在此，先舉出化合物名，隨後再揭示各自對應之化學式，並且對於化合物名與其對應之化學式附加相同符號。
1A：3,4-環氧環己烷甲酸3,4-環氧環己基甲酯、2A：3,4-環氧-6-甲基環己烷甲酸3,4-環氧-6-甲基環己基甲酯、3A：亞甲基雙(3,4-環氧環己烷甲酸酯)、4A：己二酸雙(3,4-環氧環己基甲基)酯、 5A：己二酸雙(3,4-環氧-6-甲基環己基甲基)酯、6A：二乙二醇雙(3,4-環氧環己基甲醚)、7A：乙二醇雙(3,4-環氧環己基甲醚)、8A：2,3,14,15-二環氧-7,11,18,21-四氧雜三螺[5.2.2.5.2.2]二十一烷、9A：3-(3,4-環氧環己基)-8,9-環氧-1,5-二氧雜螺[5.5]十一烷、10A：二氧化4-乙烯基環己烯、11A：二氧化薴烯(limonene dioxide)、12A：雙(2,3-環氧環戊基)醚、13A：二氧化二環戊二烯。
Figure 106129972-A0202-12-0009-8
Figure 106129972-A0202-12-0010-9
脂肪族環氧化合物，係指在分子內具有至少1個鍵結在脂肪族碳原子的環氧乙烷環(oxirane ring，其為3員的環狀醚)之化合物，例如可舉出：單官能的脂肪族環氧化合物(例如丁基環氧丙基醚(butyl glycidyl ether)、2-乙基己基環氧丙基醚等直鏈狀或分枝鏈狀C2-12烷基環氧丙基醚)；2官能的脂肪族環氧化合物(例如1,4-丁二醇二環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚等直鏈狀或分枝鏈狀C2-12烷基二環氧丙基醚、1,4-環己烷二甲醇二環氧丙基醚等環狀烷基二環氧丙基醚，較佳為直鏈狀或分枝鏈狀C2-6烷基二環氧丙基醚等)；3官能以上的脂肪族環氧化合物(例如三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、新戊四醇四環氧丙基醚等C1-12烷基環氧丙基醚等)；二氧化4-乙烯基環己烯、二氧化薴烯等具有1個「直接鍵結在脂環式環的環氧基」及「鍵結在脂肪族碳原子的環氧 乙烷環」之環氧化合物等。
較佳的2官能(在分子內所存在的環氧基的數目為2個)的脂肪族環氧化合物(有被稱為2官能脂肪族環氧化合物之情形)係例如能夠以下述式(6)表示。
Figure 106129972-A0202-12-0011-10
在上述式(6)中，Y係碳數2至12的伸烷基(較佳為碳數2至6的伸烷基)、有醚鍵隔介於其間且總碳數4至12的伸烷基、或具有脂環結構之碳數6至18的二價烴基，其中以碳數2至6的伸烷基為佳。
前述式(6)表示之脂肪族二環氧化合物，具體而言，係烷二醇的二環氧丙基醚、重複數目為4左右為止之寡聚烷二醇的二環氧丙基醚、或脂環式二醇的二環氧丙基醚。
將能夠形成前述式(6)表示的脂肪族二環氧化合物之二醇(glycol)的具體例揭示在以下。就烷二醇而言，例如有乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、3-甲基-2,4-戊二醇、2,4-戊二醇、1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、3,5-庚二醇、1,8-辛烷二醇、2-甲基-1,8-辛烷二醇、1,9-壬烷二醇等。就寡聚烷二醇而言，例如有二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇等。就脂 環式二醇而言，例如有環己烷二醇、環己烷二甲醇等。
芳香族環氧化合物係在分子內具有芳香族環及環氧基之化合物。其具體例，例如可舉出：雙酚A的二環氧丙基醚、雙酚F的二環氧丙基醚、雙酚S的二環氧丙基醚等雙酚型環氧化合物或其寡聚物；苯酚酚醛清漆(phenol novolac)環氧樹脂、甲酚酚醛清漆(cresol novolac)環氧樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆環氧樹脂等酚醛清漆型環氧樹脂；2,2’,4,4’-四羥基二苯基甲烷的環氧丙基醚、2,2’,4,4’-四羥基二苯基酮的環氧丙基醚等多官能型的環氧化合物；環氧化聚乙烯基苯酚等多官能型的環氧樹脂等。
氫化環氧化合物，可為具有脂環式環之多元醇的環氧丙基醚，亦可為將「將芳香族多元醇藉由在觸媒的存在下、加壓下選擇地對於芳香環進行氫化反應而得到的核氫化多羥基化合物」進行環氧丙基醚化而成者。芳香族多元醇的具體例，例如可舉出：雙酚A、雙酚F、雙酚S等雙酚型化合物；苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆樹脂等酚醛清漆型樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯基酮、聚乙烯基苯酚等多官能型的化合物等。藉由使表氯醇與「對於芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應而得到的脂環式多元醇」進行反應而可製成環氧丙基醚(glycidyl ether)。該等氫化環氧化合物之中，係以被氫化後之雙酚A的二環氧丙基醚等為佳。
環氧化合物的環氧當量係例如43至1500g/當量，較佳為700至1000g/當量，更佳為90至500g/當量， 特別是可為100至300g/當量。環氧當量為上述範圍內時，能夠形成具有優異的耐剝離性之偏光板。
相對於陽離子聚合性化合物100質量份，環氧化合物的比例為40至100質量份，較佳為60至99質量份，更佳為80至98質量份，尤其是亦可為90質量份至97質量份。在該等範圍時，對密著性(或接著性)為有利。此外，從將硬化速度最佳化且使密著性等提升之觀點等而言，亦能夠併用脂環式環氧化合物與脂肪族環氧化合物。此時，脂環式環氧化合物與脂肪族環氧化合物的比例(質量比)，係例如脂環式環氧化合物/脂肪族環氧化合物=95/5至5/95，以90/10至10/90為佳，較佳為80/20至20/80，更佳是能夠設為75/25至30/70。在該範圍時，有利於形成密著性及耐久性高的接著劑層。
屬於陽離子聚合性化合物之一之氧雜環丁烷化合物，可為在分子內含有1個以上的氧雜環丁烷環(氧雜環丁烷基)之化合物，例如可舉出單官能的氧雜環丁烷化合物[例如3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷(有被稱為氧雜環丁烷醇之情形)、2-乙基己基氧雜環丁烷、1,4-雙[{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}甲基]苯(有被稱為伸茬基雙氧雜環丁烷之情形)、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(環己氧基)甲基-3-乙基氧雜環丁烷；2官能的氧雜環丁烷化合物[例如3-乙基-3[{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}甲基]氧雜環丁烷等。該等氧雜環丁烷化合物之中，從接著性及硬化速度的觀點而言，係以2官能的氧雜環丁烷化合物為 佳。氧雜環丁烷化合物可作為陽離子聚合性化合物的主成分來使用，亦可與環氧化合物併用。特別是因為有能夠提高硬化性且提升耐剝離性、耐卷曲性等之情形，故以併用環氧化合物與氧雜環丁烷化合物為佳。此時，相對於環氧化合物100質量份，氧雜環丁烷化合物的比例係例如0.5至70質量份，較佳為1至30質量份，更佳是能夠設為3至10質量份。從密著性(或接著性)的觀點而言，氧雜環丁烷化合物的比例在為上限值以下時為有利，從對高溫等之耐久性的觀點而言，在為下限值以上時為有利。
能夠成為陽離子聚合性化合物之乙烯系化合物，係可舉出芳香族、脂肪族或脂環式的乙烯醚化合物，其具體例係例如可舉出：正戊基乙烯醚、異戊基乙烯醚、正己基乙烯醚、正辛基乙烯醚、2-乙基己基乙烯醚、正十二基乙烯醚、硬脂醯基乙烯醚、油醯基乙烯醚等碳數5至20的烷基或烯基醇的乙烯醚；2-羥基乙基乙烯醚、3-羥基丙基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚等含有羥基之乙烯醚；環己基乙烯醚、2-甲基環己基乙烯醚、環己基甲基乙烯醚、苄基乙烯醚等具有脂肪族環或芳香族環之單醇的乙烯醚；甘油一乙烯醚、1,4-丁二醇一乙烯醚、1,4-丁二醇二乙烯醚、1,6-己二醇二乙烯醚、新戊二醇二乙烯醚、新戊四醇二乙烯醚、新戊四醇四乙烯醚、三羥甲基丙烷二乙烯醚、三羥甲基丙烷三乙烯醚、1,4-二羥基環己烷一乙烯醚、1,4-二羥基環己烷二乙烯醚、1,4-二羥甲基環己烷一乙烯醚、1,4-二羥甲基環己烷二乙烯醚等多元醇的一至多乙烯醚； 二乙二醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯醚、二乙二醇一丁基一乙烯醚等聚烷二醇一至二乙烯醚；環氧丙基乙烯醚、乙二醇乙烯醚甲基丙烯酸酯等其它的乙烯醚等。乙烯系化合物可作為陽離子聚合性化合物的主成分來使用，亦可與環氧化合物、或環氧化合物及氧雜環丁烷化合物併用。因為有接著劑的低黏度化及能夠提升硬化速度之情形，亦可併用乙烯系化合物。
陽離子聚合型接著劑，可另含有例如環狀內酯化合物、環狀縮醛化合物、環狀硫醚化合物、螺原酸酯化合物等上述以外的其它陽離子聚合性化合物。
(2)第1產酸劑
第1產酸劑係硬化溫度未達120℃且可在預定溫度產生酸並使陽離子聚合性化合物聚合之離子性化合物。在此，本發明的「硬化溫度」，係表示依照實施例的<硬化溫度之測定>的項目所記載之方法，測定將第1產酸劑1質量份(固體成分)添加到屬於標準物質之3,4-環氧環己烷甲酸3’,4’-環氧環己基甲酯(Daicel股份有限公司製，商品名「CEL2021P」)100質量份中而成的硬化性組成物之差示掃描熱量計(DSC)的熱量成為最大時的溫度。此外，第1產酸劑係只要具有前述性質，即可有藉由活性能量線而得到的硬化性。亦即，可為藉由對接著劑照射活性能量線而產生預定量的酸之物質。
硬化溫度只要未達120℃即可，例如50℃ 至115℃，較佳為70℃至110℃，更佳為90℃至105℃，特別是可為95℃至105℃，較佳為95℃至117℃，更佳可為95℃至115℃。
若為上述範圍時，因為陽離子聚合性化合物容易硬化，故從偏光板的耐久性之觀點而言為有利，此外，因為加熱溫度較低，故從外觀而言亦為有利。
第1產酸劑係離子性化合物，構成前述離子性化合物之相對陰離子係下述式(1)表示之陰離子、或下述式(2)表示之陰離子：
Figure 106129972-A0202-12-0016-11
 [式中，R1係可具有取代基之C6-14芳基或可具有取代基之C3-14芳香族雜環基，R2至R4係互相獨立地表示C1-18烷基、可具有取代基之C6-14芳基或可具有取代基之C3-14芳香族雜環基，前述取代基係C1-18烷基、鹵化C1-8烷基、C2-18烯基、C2-18炔基、C6-14芳基、C3-14芳香族雜環基、硝基、羥基、氰基、-OR5表示之烷氧基或芳氧基、R6CO-表示之醯基、R7COO-表示之醯氧基、-SR8表示之烷硫基或芳硫基、-NR9R10表示之胺基、或是鹵素原子，前述R5至R8係C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基，前述R9及R10係氫原子、C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基]
[(Rf)aPF6-a]- (2)[式中，Rf表示氫的80%以上被氟原子取代而成之相同或不同之烷基，a為1至5的整數]。
在前述式(1)的R2至R4中，就C1-18烷基而言，例如可舉出：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正辛基、正癸基、正十二基、正十四基等直鏈狀C1-18烷基，較佳為直鏈狀C1-8烷基；異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基、異戊基、新戊基、第三戊基、異己基、2-乙基己基及1,1,3,3-四甲基丁基等分枝鏈狀C1-18烷基，較佳為分枝鏈狀C1-8烷基；環丙基、環丁基、環戊基、環己基等的C3-18環烷基，較佳為C3-8環烷基；降莰基、金剛烷基及蒎基等交聯環式烷基等。
在前述式(1)的R1至R4中，就C6-14芳基而言，例如可舉出：苯基等單環式C6-14芳基；萘基、蒽基、菲基、蒽醌基、茀基、萘醌基等縮合多環式C6-14芳基等。
在前述式(1)的R1至R4中，就C3-14芳香族雜環基而言，例如可舉出：噻吩基、呋喃基、吡喃基、吡咯基、
Figure 106129972-A0202-12-0017-27
唑基、噻唑基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基等單環式C3-14雜環；吲哚基、苯并呋喃基、異苯并呋喃基、苯并噻吩基、異苯并噻吩基、喹啉基、異喹啉基、喹
Figure 106129972-A0202-12-0017-28
啉基、喹唑啉基、咔唑基、吖啶基、啡噻嗪基、啡嗪基、二苯并哌喃基(xanthenyl)、噻蒽基(thianthrenyl)、啡
Figure 106129972-A0202-12-0017-29
嗪基、吩
Figure 106129972-A0202-12-0017-30
噻基、 二氫苯并哌喃基(chromanyl)、異二氫苯并哌喃基、香豆素基、二苯并噻吩基、氧雜蒽酮基(xanthonyl)、硫雜蒽酮基(thioxanthonyl)、二苯并呋喃基等縮合多環式C6-14雜環等C3-14芳香族雜環烴等。就C3-14芳香族雜環基而言，可為由單環式C3-5雜環所形成的一價基，亦可為由單環式C6-14雜環所形成的一價基。
另外，前述式(1)的R1至R4中之C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基，係可具有取代基(有被稱為取代基(A)之情形)。此外，R5至R10的C1-8烷基、C6-14芳基及C3-14芳香族雜環基，係可舉出在上述R1至R4例示的C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基。
就取代基(A)而言，例如可舉出：C1-18烷基[例如上述例示的C1-18烷基等]；鹵化C1-8烷基[例如三氟甲基、三氯甲基、五氟乙基、2,2,2-三氯乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1-二氟乙基、七氟正丙基、1,1-二氟正丙基、3,3,3-三氟正丙基、九氟正丁基、3,3,4,4,4-五氟正丁基、全氟正戊基、全氟正辛基等鹵化直鏈狀C1-8烷基；六氟異丙基、六氯異丙基、六氟異丁基、九氟第三丁基等鹵化分枝鏈狀C1-8烷基；五氟環丙基、九氟環丁基、全氟環戊基、全氟環己基等鹵化C3-8環烷基]；全氟金剛烷基等碳數C7-12鹵化交聯環式烷基；C2-18烯基[例如乙烯基、烯丙基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-甲基-1-丙烯基、1-甲基-2-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基及2-甲基-2-丙烯基等直鏈狀或分枝鏈狀C2-18烯基；2-環己烯基、3-環 己烯基等C2-18環烯基；苯乙烯基、桂皮基(cinnamyl)等C2-18芳烯基等]；C2-18炔基[例如乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、1-甲基-2-丙炔基、1,1-二甲基-2-丙炔基、1-戊炔基、2-戊炔基、3-戊炔基、4-戊炔基、1-甲基-2-丁炔基、3-甲基-1-丁炔基、1-癸炔基、2-癸炔基、8-癸炔基、1-十二炔基、2-十二炔基、10-十二炔基等直鏈狀或分枝鏈狀C2-18炔基；苯基乙炔基等C2-18芳炔基等]；C6-14芳基[例如上述例示的芳基等]；C3-14芳香族雜環基[例如上述例示的芳香族雜環基等]；硝基；羥基；氰基；-OR5表示之烷氧基[例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、正戊氧基、異戊氧基、新戊氧基、2-甲基丁氧基等C1-8烷氧基等]；-OR5表示之芳氧基[苯氧基、萘氧基等C6-14芳氧基等]；-COR6表示之醯基[例如乙醯基、丙醯基、丁醯基、三甲基乙醯基、苯甲醯基等C1-8烷基-羰基或C6-14芳基-羰基等]；-COOR7表示之醯氧基[例如乙醯氧基、丁醯氧基、苯甲醯氧基等C1-8烷基-羰氧基或C6-14芳基-羰氧基等]；-SR8表示之烷硫基[例如甲硫基、乙硫基、丁硫基、己硫基、環己硫基等C1-8烷硫基等]、-SR8表示之芳硫基[例如苯硫基、萘硫基等C6-14芳硫基等]；-NR9R10表示之胺基[例如甲胺基、乙胺基、丙胺基、二甲胺基、二乙胺基、甲基乙胺基、二丙胺基、二丙胺基、哌啶基等胺基等]；鹵素原子[例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子]等。
該等取代基(A)之中，係以鹵化C1-8烷基、 鹵素原子、硝基、氰基等為佳。尤其是從陽離子聚合性化合物的聚合性及硬化性等的觀點而言，以氟原子、氟化C1-8烷基為特佳。
R1係以可具有取代基之C6-14芳基為佳，又以可具有鹵素原子或鹵化C1-8烷基之C6-14芳基為較佳。
R2及R3係各自獨立且以可具有取代基之C6-14芳基為佳，又以可具有鹵素原子或鹵化C1-8烷基之C6-14芳基為較佳。
R4係以C1-18烷基或可具有取代基之C6-14芳基為佳。
R2及R3係以為相同基為佳，R1至R3係以為相同基為較佳，R1至R4係以全部為相同基為更佳。
前述式(1)中之相對陰離子的較佳態樣，例如可舉出：R1至R4各自為五氟苯基之陰離子；R1至R4各自為3,5-雙(三氟甲基)苯基之陰離子；R1至R4各自為3,4,5-三氟苯基之陰離子；R1至R3各自為四氟苯基且R4為苯基之陰離子；R1至R3各自為四氟苯基且R4為丁基之陰離子等。
在前述式(2)中，Rf的烷基可舉出上述例示的烷基等。尤其以甲基、乙基、丙基、丁基等C1-8烷基為佳。在式(2)中，a為1至5的整數，較佳可為2至4的整數。
構成本發明的第1產酸劑之相對陽離子，例如為鋶(例如三苯基鋶陽離子、4,4’-雙(二苯基鋶基)二苯基硫醚陽離子等三芳基鋶陽離子等)、錪(例如二苯基錪陽 離子等二芳基錪陽離子等)、重氮鎓(例如苯重氮鎓陽離子等)、氧鎓(oxonium)、銨、鏻等。該等之中，從聚合反應性的觀點而言，係以鋶、錪為佳，以鋶為特佳。
本發明的第1產酸劑，因為具有共軛酸的酸性度較高之式(1)又(2)表示的陰離子作為相對陰離子，所以能夠藉由加熱而促進陽離子聚合性化合物的硬化，即便在高溫高濕下亦能夠形成具有優異的耐剝離性和耐劣化性之偏光板。特別是式(1)表示之陰離子係能夠有效地促進硬化。又，相較於銻酸鹽陰離子(例如SbF6 -)等，式(1)或(2)表示之陰離子係在安全性方面亦較佳。
本發明的第1產酸劑之較佳態樣，可舉出下述式(3)表示之離子性化合物：
Figure 106129972-A0202-12-0021-13
 [式中，R11及R12係互相獨立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族雜環基，R13表示可具有取代基之苯基，X-係前述式(1)或前述式(2)表示之陰離子]。
在前述式(3)的R11及R12中，烷基係例如可舉出在前述R2至R4例示的烷基等，芳烷基係例如可舉出苄基、2-甲基苄基、1-萘基甲基、2-萘基甲基等C6-10芳基C1-8烷基等，芳基係例如可舉出在前述R1至R4例示的芳基等。芳香族雜環基係例如可舉出在前述R1至R4例示的芳香族雜環基等。在R13中之苯基，亦可被取代基(B)所取 代。
R11及R12的烷基係以甲基、乙基、丙基、丁基、戊基等C1-8烷基為佳，以C1-4烷基為較佳。R11及R12的芳烷基係以苄基、萘基苄基為佳，R11及R12的芳基係以苯基、萘基等為佳。
就取代基(B)而言，例如可舉出烷氧基[例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、己氧基、癸氧基、十二烷氧基及十八烷氧基等直鏈狀或分枝鏈狀C1-18烷氧基等]；芳基[例如苯基、甲苯基、二甲基苯基、萘基等C6-10芳基、C1-5烷基C6-10芳基等]；芳香族雜環基(噻吩基、呋喃基、吡咯基、吲哚基等C3-14芳香族雜環基)；芳氧基[例如苯氧基、萘氧基等C6-10芳氧基等]；烷羰基[例如乙醯基、丙醯基、丁醯基、2-甲基丙醯基、庚醯基、2-甲基丁醯基、3-甲基丁醯基、辛醯基、癸醯基、十二醯基及十八醯基等C2-18烷羰基等]；芳羰基[例如苯甲醯基、萘醯基等C7-11芳羰基等]；芳烷羰基[例如苄基羰基、2-甲基苄基羰基、1-萘基甲基羰基、2-萘基甲基羰基等C6-10芳基C1-8烷基-羰基等]；烷氧羰基[例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、異丙氧基羰基、丁氧基羰基、異丁氧基羰基、第二丁氧基羰基、第三丁氧基羰基、辛氧基羰基、十四烷氧基羰基、十八烷氧基羰基等直鏈狀或分枝鏈狀C2-19烷氧羰基等]；芳氧基羰基[苯氧基羰基及萘氧基羰基等C7-11芳氧基羰基等]等。
另外，就取代基(B)而言，例如可舉出：芳烷氧基羰基[例如苄氧基羰基、2-甲基苄氧基羰基、1-萘基甲氧基羰基、2-萘基甲氧基羰基等C6-10芳基C1-8烷氧基-羰基；烷基羰氧基[例如乙醯氧基、乙基羰氧基、丙基羰氧基、異丙基羰氧基、丁基羰氧基、異丁基羰氧基、第二丁基羰氧基、第三丁基羰氧基、辛基羰氧基、十四基羰氧基、十八基羰氧基等C2-19烷基羰氧基等]；芳基羰氧基[例如苯甲醯氧基、萘醯氧基等C7-11的芳基羰氧基等]、芳烷基羰氧基[例如苄基羰氧基、2-甲基苄基羰氧基、1-萘基甲基羰氧基、2-萘基甲基羰氧基等C6-10芳基C1-8烷基-羰基等]、烷氧基羰氧基[例如甲氧基羰氧基、乙氧基羰氧基、丙氧基羰氧基、異丙氧基羰氧基、丁氧基羰氧基、異丁氧基羰氧基、第二丁氧基羰氧基、第三丁氧基羰氧基、辛氧基羰氧基、十四烷氧基羰氧基及十八烷氧基羰氧基等直鏈狀或分枝鏈狀C2-19烷氧基羰氧基等]；芳氧基羰氧基[例如苯氧基羰氧基及萘氧基羰氧基等C7-11芳氧基羰氧基等]；芳烷氧基羰氧基[例如苄氧基羰氧基、2-甲基苄氧基羰氧基、1-萘基甲氧基羰氧基、2-萘基甲氧基羰氧基等C6-10的芳基C1-8烷氧基-羰氧基等]；芳硫基羰基[例如苯硫基羰基及萘氧基硫羰基等C7-11芳硫基羰基等]；芳硫基[例如苯硫基、2-甲基苯硫基、3-甲基苯硫基、4-甲基苯硫基、2-氯苯硫基、3-氯苯硫基、4-氯苯硫基、2-溴苯硫基、3-溴苯硫基、4-溴苯硫基、2-氟苯硫基、3-氟苯硫基、4-氟苯硫基、2-羥基苯硫基、4-羥基苯硫基、2-甲氧基苯硫基、4-甲氧基苯硫 基、1-萘硫基、2-萘硫基、4-[4-(苯硫基)苯甲醯基]苯硫基、4-[4-(苯硫基)苯氧基]苯硫基、4-[4-(苯硫基)苯基]苯硫基、4-(苯硫基)苯硫基、4-苯甲醯基苯硫基、4-苯甲醯基-2-氯苯硫基、4-苯甲醯基-3-氯苯硫基、4-苯甲醯基-3-甲硫基苯硫基、4-苯甲醯基-2-甲硫基苯硫基、4-(4-甲硫基苯甲醯基)苯硫基、4-(2-甲硫基苯甲醯基)苯硫基、4-(對甲基苯甲醯基)苯硫基、4-(對乙基苯甲醯基)苯硫基、4-(對異丙基苯甲醯基)苯硫基、4-(對第三丁基苯甲醯基)苯硫基等C6-20芳硫基等]；烷硫基[例如甲硫基、乙硫基、丙硫基、異丙硫基、丁硫基、異丁硫基、第二丁硫基、第三丁硫基、戊硫基、異戊硫基、新戊硫基、第三戊硫基、辛硫基、癸硫基、十二烷硫基、異十八烷硫基等直鏈狀或分枝鏈狀C1-18烷硫基等]等。
而且，就取代基(B)而言，可舉出雜環式烴基[例如噻吩基、呋喃基、吡喃基、吡咯基、
Figure 106129972-A0202-12-0024-31
唑基、噻唑基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基、吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、喹啉基、異喹啉基、喹
Figure 106129972-A0202-12-0024-32
啉基、喹唑啉基、咔唑基、吖啶基、啡噻嗪基、啡嗪基、二苯并哌喃基、噻蒽基、啡
Figure 106129972-A0202-12-0024-33
嗪基、吩
Figure 106129972-A0202-12-0024-34
噻基、二氫苯并哌喃基、異二氫苯并哌喃基、二苯并噻吩基、氧雜蒽酮基、硫雜蒽酮基及二苯并呋喃基等C3-20芳基雜環式烴基(即芳香族雜環基)等]；烷基亞磺醯基[例如甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、丙基亞磺醯基、異丙基亞磺醯基、丁基亞磺醯基、異丁基亞磺醯基、第二丁基亞磺醯基、第三丁基亞磺醯基、戊基亞磺醯 基、異戊基亞磺醯基、新戊基亞磺醯基、第三戊基亞磺醯基、辛基亞磺醯基及異十八基亞磺醯基等直鏈狀或分枝鏈狀C1-18烷基亞磺醯基等]；芳基亞磺醯基[例如苯基亞磺醯基、甲苯基亞磺醯基及萘基亞磺醯基等C6-10芳基亞磺醯基等]；烷基磺醯基[例如甲磺醯基、乙磺醯基、丙磺醯基、異丙磺醯基、丁磺醯基、異丁磺醯基、第二丁磺醯基、第三丁磺醯基、戊磺醯基、異戊磺醯基、新戊磺醯基、第三戊磺醯基、辛磺醯基、十八磺醯基等直鏈或分枝鏈C1-18烷基磺醯基等]；芳基磺醯基[例如苯磺醯基、甲苯基磺醯基(即甲苯磺醯基)及萘磺醯基等C6-10芳基磺醯基等]；羥基(聚)伸烷氧基[例如伸烷氧基的重複單元數為1至6之羥基(聚)伸烷氧基等]；胺基[例如甲胺基、二甲胺基、乙胺基、甲基乙胺基、二乙胺基、正丙胺基、甲基正丙胺基、乙基正丙胺基、正丙胺基、異丙胺基、異丙基甲胺基、異丙基乙胺基、二異丙胺基、苯胺基、二苯胺基、甲基苯胺基、乙基苯胺基、正丙基苯胺基及異丙基苯胺基等碳數1至15的取代胺基及胺基等]；鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、羥基等。
另外，較佳的X-係可舉出前述式(1)或(2)表示之陰離子的較佳態樣。
前述式(3)表示之第1產酸劑的具體例，例如可舉出：四(五氟苯基)硼酸苯基二甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-羥基苯基二甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-甲氧基羰氧基苯基二甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-乙醯氧基苯基二 甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-苄氧基羰氧基苯基二甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸苯基-甲基-苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-羥基苯基-甲基-苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-甲氧基羰氧基苯基-甲基-苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-乙醯氧基苯基-甲基-苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-苄氧基羰氧基苯基-甲基-苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸苯基-甲基-2-甲基苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-羥基苯基-甲基-2-甲基苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-甲氧基羰氧基苯基-甲基-2-甲基苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-乙醯氧基苯基-甲基-2-甲基苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-苄氧基羰氧基苯基-甲基-2-甲基苄基鋶、四(五氟苯基)硼酸苯基-甲基-1-萘基甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-羥基苯基-甲基-1-萘基甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-羥基苯基-甲基-2-萘基甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-甲氧基羰氧基苯基-甲基-1-萘基甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-乙醯氧基苯基-甲基-1-萘基甲基鋶、四(五氟苯基)硼酸4-苄氧基羰氧基苯基-甲基-1-萘基甲基鋶；將該等第1產酸劑的相對陰離子之四(五氟苯基)硼酸鹽替換成為參(五氟乙基)三氟磷酸鹽而成之離子性化合物等。該等第1產酸劑能夠單獨或組合2種以上而使用。
(3)第2產酸劑
前述第2產酸劑係藉由照射活性能量線(例如紫外線、可見光、電子射線、X射線等)而產生酸，並且能夠使前述陽離子聚合性化合物進行聚合之離子性化合物。第2 產酸劑係熱安定性較高且硬化溫度為120℃以上，例如120至350℃，以150至350℃為佳，較佳為200至320℃，更佳為250至300℃。此外，硬化溫度的定義係與第1產酸劑同樣，可依據在實施例的<硬化溫度之測定>之項目所記載的方法測定。
構成第2產酸劑之相對陰離子，係只要是使第2產酸劑的硬化溫度為120℃以上者，就沒有特別限制，可為：CF3SO3 -、C4F9SO3 -、CH3SO3 -等R-SO3 -(R表示碳數1至6的烷基或碳數1至6的氟化烷基)表示之陰離子；前述式(1)表示之陰離子、前述式(2)表示之陰離子、SbF6 -或PF6 -。尤其是在硬化性方面，係以前述式(1)表示之陰離子、前述式(2)表示之陰離子或PF6 -為佳。相較於銻酸鹽陰離子(例如SbF6 -)等，該等陰離子係在安全性方面為較佳。又，第2產酸劑的相對陰離子，可與第1產酸劑的相對陰離子為相同或不同。
例如可為第2產酸劑的陰離子為前述式(1)或(2)表示之陰離子，而且第1產酸劑的陰離子為PF6 -。
另外，構成第2產酸劑之相對陽離子，係只要是使第2產酸劑的硬化溫度為120℃以上者即可，例如可為鋶、錪(例如二苯基錪陽離子等二芳基錪陽離子等)、重氮鎓(例如苯重氮鎓陽離子等)、氧鎓、銨、鏻等。該等之中，從聚合反應性及硬化性的觀點而言，係以鋶、錪為佳，尤其以接著劑的熱安定性良好的鋶為佳。
就接著劑的硬化性而言，本發明的第2產 酸劑係以在300nm附近的波長區域具有紫外線吸收特性為佳，以在300nm附近顯示極大吸收為較佳。
第2產酸劑的較佳態樣，可舉出下述式(4)表示之離子性化合物：
Figure 106129972-A0202-12-0028-14
 [式中，R14及R15係互相獨立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族雜環基，R16表示可具有取代基之苯基，Y-係前述式(1)或前述式(2)表示之陰離子或是PF6 -]。
在R14及R15中，就烷基、芳烷基、芳基或芳香族雜環基而言，能夠例示前述R11及R12已例示的烷基、芳烷基、芳基或芳香族雜環基等。R14及R15係各自獨立且以苯基、萘基等芳基為佳。
R16為苯基，該苯基可具有取代基(C)。取代基(C)係例如可舉出在取代基(B)例示的基，特別是以芳硫基等為佳。
較佳的Y-係可舉出前述式(1)或(2)表示的較佳態樣或是PF6 -等，特別是以PF6 -或式(2)表示之陰離子為佳。
第2產酸劑亦可為市售品。第2產酸劑的市售品，係例如能夠舉出KAYARAD PCI-220(日本化藥股份有限公司製)、KAYARAD PCI-620(日本化藥股份有限公司製)、UVI-6990(Union Carbide公司製)、ADEKA OPTOMER SP-150(ADEKA股份有限公司製)、ADEKA OPTOMER SP-170(ADEKA股份有限公司製)、CI-5102(日本曹達股份 有限公司製)、CIT-1370(日本曹達股份有限公司製)、CIT-1682(日本曹達股份有限公司製)、CIP-1866S(日本曹達股份有限公司製)、CIP-2048S(日本曹達股份有限公司製)、CIP-2064S(日本曹達股份有限公司製)、DPI-101(MIDORI化學股份有限公司製)、DPI-102(MIDORI化學股份有限公司製)、DPI-103(MIDORI化學股份有限公司製)、DPI-105(MIDORI化學股份有限公司製)、MPI-103(MIDORI化學股份有限公司製)、MPI-105(MIDORI化學股份有限公司製)、BBI-101(MIDORI化學股份有限公司製)、BBI-102(MIDORI化學股份有限公司製)、BBI-103(MIDORI化學股份有限公司製)、BBI-105(MIDORI化學股份有限公司製)、TPS-101(MIDORI化學股份有限公司製)、TPS-102(MIDORI化學股份有限公司製)、TPS-103(MIDORI化學股份有限公司製)、TPS-105(MIDORI化學股份有限公司製)、MDS-103(MIDORI化學股份有限公司製)、MDS-105(MIDORI化學股份有限公司製)、DTS-102(MIDORI化學股份有限公司製)、DTS-103(MIDORI化學股份有限公司製)、PI-2074(Rhodia公司製)、CPI-100P(SAN-APRO股份有限公司製)、CPI-101A(SAN-APRO股份有限公司製)、CPI-200K(SAN-APRO股份有限公司製)、CPI-210S(SAN-APRO股份有限公司製)等。
第1產酸劑及第2產酸劑，可為溶解於不阻礙聚合等的溶劑中而成之溶液。就溶劑而言，例如可舉出：芳香族烴類[例如甲苯、二甲苯等]；碳酸酯類[例如碳 酸伸丙酯、碳酸伸乙酯、碳酸1,2-伸丁酯、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯等]；酮類[例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異戊基酮、2-庚酮等鏈狀酮類；環己酮等環狀酮類等]；醚[例如二
Figure 106129972-A0202-12-0030-35
烷等環狀醚類等]；酯類[例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等]；多元醇類及其衍生物[例如乙二醇、乙二醇一乙酸酯、二乙二醇、二乙二醇一乙酸酯、丙二醇、丙二醇一乙酸酯等]等。
相對於第1產酸劑或第2產酸劑1質量份，溶劑的比例係例如0.1至10質量份，較佳為0.5至5質量份左右。
在接著劑中，相對於陽離子聚合性化合物100質量份，第1產酸劑與第2產酸劑的總量之比例係例如0.1至30質量份，以0.2至20質量份為佳，較佳為0.5至10質量份，更佳為1至5質量份，特別是可為2至4質量份。第1產酸劑與第2產酸劑的總量為上述下限值以上時，能夠充分地進行接著劑的硬化，且能夠提升耐久性及接著性。另一方面，第1產酸劑與第2產酸劑的總量為上述的上限值以下時，能夠有效地抑制在將偏光板加熱時之偏光板之黃變。
又，第1產酸劑與第2產酸劑的比例(質量比)，係例如第1產酸劑/第2產酸劑(質量比)=95/5至5/95，以90/10至10/90為佳，較佳為80/20至20/80，更佳為75/25至25/75，特佳為70/30至30/70，尤其是可為60/40至40/60。若為該範圍時，能夠使陽離子聚合性化合物有效地 硬化，且能夠形成具有優異的耐久性之偏光板。又，從耐久性的觀點而言，第2產酸劑係以與第1產酸劑同量或含有更大量為佳，以比第1產酸劑含有更大量為較佳。
第1產酸劑可只使用一種，亦可組合而使用不同的二種以上。此外，第2產酸劑可只使用一種，亦可組合而使用不同的二種以上。
(4)添加劑
形成接著劑層之接著劑中，亦可視需要而含有添加劑。添加劑可舉出離子捕捉劑(例如粉末狀的鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系及該等混合系等的無機化合物等)、抗氧化劑(例如受阻酚系抗氧化劑等)、鏈轉移劑、聚合促進劑(多元醇等)、敏化劑、敏化助劑、光安定劑、黏著賦予劑、熱可塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、可塑劑、消泡劑、調平劑、矽烷偶合劑、色素、抗靜電劑、紫外線吸收劑等。
本發明的接著劑層係即便放置在高溫高濕下，保護膜與偏光件的密著性亦高且具有優異的耐剝離性。亦即，接著劑層的剝離力(密著力)係在抓具移動速度300mm/分鐘下例如為1.2至3，較佳可為1.5至2.5。此外，剝離力(密著力)係可依據實施例所記載的方法測定。
另外，接著劑係可藉由至少將前述陽離子聚合性化合物、前述第1產酸劑、前述第2產酸劑依據慣用的方法進行混合而調製。
接著劑層之在80℃之儲存彈性模數係以600MPa以上為佳。儲存彈性模數為600MPa以上時，在將偏光板放置在高溫環境下時能抑制偏光板的尺寸變化，而且在如冷熱衝撃試驗等有急遽溫度變化的耐久試驗中能抑制偏光件的破裂。在80℃之儲存彈性模數係以800MPa以上為佳，更佳為1000MPa以上。
包含本發明的接著劑層之偏光板，係使偏光件與保護膜具有優異的密著性及接著性，即便在偏光件產生強的收縮應力，亦能夠有效地抑制界面的剝離或浮起。而且，即便在高溫或高溫高濕下，亦能夠抑制光學特性劣化(例如偏光板的透射性的變化等)。此外，即便在以偏光板片體等的形態來使用時，亦不容易因從長條物及捲繞卷筒切取時之裁斷應力而導致在偏光件與保護膜之間產生剝離，而且，加工後之片體會不容易產生翹曲。因而，本發明的偏光板係即便在高溫高濕下等嚴酷的條件下，亦因具有優異的耐久性，所以能有用於作為在液晶顯示裝置等中之偏光板。
[2]偏光件
偏光件，係具有從自然光將某一方向的直線偏光選擇性地透射的功能之薄膜。例如可舉出：使聚乙烯醇系樹脂膜吸附/配向有碘之碘系偏光件；使聚乙烯醇系樹脂膜吸附/配向有二色性染料之染料系偏光件；以及將溶致性(lyotropic)液晶狀態的二色性染料塗佈並配向/固定化而成 之塗佈型偏光件等。因為該等偏光件係從自然光將某一方向的直線偏光選擇性地透射且將另一方向的直線偏光吸收，所以被稱為吸收型偏光件。偏光件係不限定於吸收型偏光件，若為「從自然光將某一方向的直線偏光選擇性地透射且將另一方向的直線偏光反射之反射型偏光件」或「將另一方向的直線偏光散射之散射型偏光件」亦無妨，但就視認性優異的觀點而言，以吸收型偏光件為佳。其中，以具有優異的偏光度及透射率之碘系偏光件為較佳。
就聚乙烯醇系樹脂而言，可使用將聚乙酸乙烯系樹脂予以皂化而成者。就聚乙酸乙烯系樹脂而言，可舉出：屬於乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯、以及由乙酸乙烯酯與可共聚合的其它單體所成之共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之例子，係包含不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度係通常為85至100莫耳%左右，以98莫耳%以上為佳。聚乙烯醇系樹脂亦可被改性，例如亦能夠使用被醛類改性而成之聚乙烯基縮甲醛(polyvinyl formal)或聚乙烯基縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係通常1000至10000左右，以1500至5000左右為佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係能夠依據JIS K 6726而求取。
將此種聚乙烯醇系樹脂製膜而成之物，係能夠作為偏光件的坯膜來使用。將聚乙烯醇系樹脂製膜之 方法係沒有特別限定，能夠採用眾所周知的方法。聚乙烯醇系坯膜的厚度係例如150μm以下，較佳為100μm以下(例如50μm以下)。
偏光件係能夠藉由包含下列步驟之方法來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由使用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使其吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜使用硼酸水溶液進行處理(交聯處理)之步驟；及在使用硼酸水溶液之處理後，進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸，係能夠在二色性色素的染色前、與染色同時、或染色之後進行。在染色之後進行單軸延伸時，該單軸延伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。此外，亦可在該等複數個階段中進行單軸延伸。
在單軸延伸時，可在周速不同的輥筒之間進行單軸延伸，亦可使用熱輥進行單軸延伸。此外，單軸延伸，可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為使用溶劑和水在使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤後的狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率係通常3至8倍左右。
使用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色之方法，係例如採用將該薄膜浸漬於含有二色性色素的水溶液中之方法。二色性色素係能夠使用碘和二色性有機染料。此外，聚乙烯醇系樹脂膜係以在染色處理之前先施行浸漬在水中之處理為佳。
使用碘之染色處理，係通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀的水溶液中之方法。在該水溶液中之碘的含量，係能夠是相對於每100質量份水而為0.01至1質量份左右。
碘化鉀的含量係能夠是相對於每100質量份水而為0.5至20質量份左右。另外，該水溶液的溫度係可為20至40℃左右。另一方面，使用二色性有機染料之染色處理，係通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有二色性有機染料的水溶液中之方法。含有二色性有機染料之水溶液，亦可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。在該水溶液中之二色性有機染料的含量，係相對於每100質量份水而可為1×10-4至10質量份左右。該水溶液的溫度可為20至80℃左右。
在使用二色性色素染色後的硼酸處理，通常採用將被染色後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有硼酸的水溶液中之方法。當使用碘作為二色性色素時，該含有硼酸的水溶液係以含有碘化鉀為佳。
在含有硼酸的水溶液中之硼酸的量，係相對於每100質量份水而可為2至15質量份左右。在該水溶液中之碘化鉀的量，係相對於每100質量份水而可為0.1至20質量份左右。該水溶液的溫度可為50℃以上，例如50至85℃。
在硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜，係通常經進行水洗處理。水洗處理，係例如可藉由將經硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在水中來進行。水洗處理中 之水的溫度係通常5至40℃左右。
在水洗後施行乾燥處理而得到偏光件。乾燥處理係能夠使用熱風乾燥機和遠紅外線加熱器而進行。藉由使用接著劑將保護膜貼合在該偏光件的兩面而能夠得到偏光板。
此外，關於偏光件的製造方法之其它例子，例如可舉出在日本特開2000-338329號公報和日本特開2012-159778號公報所記載之方法。該方法係將含有聚乙烯醇系樹脂的溶液塗佈在基材薄膜表面而設置樹脂層之後，將由基材薄膜及樹脂層所構成的積層膜進行延伸，其次施行染色處理、交聯處理等，而從樹脂層形成偏光件層。由基材薄膜及偏光件層所構成之該偏光性積層膜，係在將保護膜貼合在偏光件層面之後，將基材薄膜剝離除去，進而藉由將另一方的保護膜貼合在因基材薄膜的剝離而露出的偏光件層面，而能夠製成偏光板。
偏光件的厚度係能夠設為40μm以下，較佳為30μm以下(例如20μm以下)。此外，依照日本特開2000-338329號公報和日本特開2012-159778號公報所記載的方法時，能夠更容易地製造薄膜的偏光件，偏光件的厚度係例如20μm以下，進而亦能夠製成10μm以下。偏光件的厚度係通常2μm以上。「減少偏光件的厚度」係對於偏光板、進而對於影像顯示裝置的薄型化為有利的。
[3]保護膜
保護膜係可為具有透光性之(較佳為光學上透明的)熱 可塑性樹脂，例如能夠為鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂等的纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或由該等混合物、共聚物等所構成之樹脂膜。而且，所謂「(甲基)丙烯酸系」，係指甲基丙烯酸系及/或丙烯酸系，而且稱為「(甲基)丙烯酸酯」等的情況下之「(甲基)」亦為同樣的意思。該等之中，第1保護膜10及第2保護膜20(或該保護膜的主成分)係各自以含有選自由纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂及聚碳酸酯系樹脂所組成群組之至少1種樹脂為佳。
保護膜可為未經延伸的薄膜、或是經單軸或雙軸延伸的薄膜之任一種。雙軸延伸，可為在2個延伸方向同時延伸之同時雙軸延伸，亦可為在預定方向延伸後又在其它方向延伸之逐次雙軸延伸。保護膜亦可為兼具如相位差膜的光學功能之保護膜。相位差膜係以「為了補償由屬於影像顯示元件之液晶胞所引起的相位差等」作為目的而使用之光學功能性薄膜。例如，能夠藉由將由上述熱可塑性樹脂所構成的薄膜進行延伸(單軸延伸或雙軸延伸等)、或在該薄膜上形成液晶層等，而製成經賦予任意相位差值之相位差膜。
鏈狀聚烯烴系樹脂，係例如能夠舉出如聚 乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴的同元聚合物、以及由2種以上的鏈狀烯烴所構成之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係含有環狀烯烴作為聚合單元之樹脂的總稱，其中，該環狀烯烴係以降莰烯和四環十二烯(別名：二亞甲基八氫萘)或該等的衍生物作為代表例。若要舉出環狀聚烯烴系樹脂的具體例時，則有：環狀烯烴的開環(共)聚合物及其氫化物；環狀烯烴的加成聚合物；由環狀烯烴與乙烯、丙烯等鏈狀烯烴或具有乙烯基的芳香族化合物所成之共聚物；以及使用不飽和羧酸和其衍生物將該等進行改性而成之改性(共)聚合物等。該等之中，以使用降莰烯和多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴而成之降莰烯系樹脂係為較適用。
纖維素系樹脂，係以纖維素中之羥基的至少一部分被乙酸酯化而成之纖維素酯系樹脂為佳，亦可為一部分被乙酸酯化且一部分被其它酸所酯化而成之混合酯。纖維素酯系樹脂係較佳為乙酸纖維素系樹脂。乙酸纖維素系樹脂的具體例，例如可舉出三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
聚酯系樹脂係具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外的樹脂，通常係由多元羧酸或其衍生物與多元醇的聚縮合物所構成者。聚酯系樹脂的具體例，可舉出聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己 烷二甲酯等。該等之中，從機械性質、耐溶劑性、耐擦傷性、成本等的觀點而言，係適合使用聚對苯二甲酸乙二酯。所謂聚對苯二甲酸乙二酯，係指重複單元的80莫耳%以上為由對苯二甲酸乙二酯所構成之樹脂，且亦可包含源自其它共聚合成分之結構單元。
就其它共聚合成分而言，可舉出二羧酸成分和二醇成分。就二羧酸成分而言，可舉出間苯二甲酸、4,4’-二羧基二苯基、4,4’-二羧基二苯基酮、雙(4-羧基苯基)乙烷、己二酸、癸二酸、5-磺酸基間苯二甲酸鈉、1,4-二羧基環己烷等。就二醇成分而言，可舉出丙二醇、丁二醇、新戊二醇、二乙二醇、環己烷二醇、雙酚A的環氧乙烷加成物、聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇(Polytetramethylene glycol)等。二羧酸成分和二醇成分，係可視需要各自組合2種類以上而使用。此外，亦能夠與上述二羧酸成分和二醇成分一起併用對羥基苯甲酸、對β-羥基乙氧基苯甲酸等羥基羧酸。就其它共聚合成分而言，亦可少量使用具有醯胺鍵、胺甲酸酯鍵、醚鍵、碳酸酯鍵等之二羧酸成分及/或二醇成分。
聚碳酸酯系樹脂係由碳酸及二醇或雙酚所形成之聚酯。該等之中，從耐熱性、耐候性及耐酸性的觀點而言，在分子鏈具有二苯基烷之芳香族聚碳酸酯係能夠適合使用。就聚碳酸酯而言，可舉出2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(別名雙酚A)、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥 基苯基)乙烷等從雙酚衍生之聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂係可為以甲基丙烯酸酯作為主要單體(含有50質量%以上)之聚合物，又以將少量的其它共聚合成分與其共聚合而成之共聚物為佳。(甲基)丙烯酸系樹脂係較佳為甲基丙烯酸甲酯與丙烯酸甲酯之共聚物，亦可進一步使第三單官能單體共聚合。
就第三單官能單體而言，例如能夠舉出：甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸環己基、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯等甲基丙烯酸甲酯以外的甲基丙烯酸酯類；丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸環己基、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸2-羥基乙酯等丙烯酸酯類；2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯、2-(1-羥基乙基)丙烯酸甲酯、2-(羥基甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥基甲基)丙烯酸丁酯等羥烷基丙烯酸酯類；甲基丙烯酸、丙烯酸等不飽和酸類；氯苯乙烯、溴苯乙烯等鹵化苯乙烯類；如乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等取代苯乙烯類；丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈類；順丁烯二酸酐、檸康酸酐等不飽和酸酐類；苯基順丁烯二醯亞胺、環己基順丁烯二醯亞胺等不飽和醯亞胺類等。第三單官能單體可單獨或組合2種以上而使用。
(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可進一步使多官能單體共聚合。就多官能單體而言，例如可舉出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等使用(甲基)丙烯酸將乙二醇或其寡聚物的兩末端羥基進行酯化而成之物；使用(甲基)丙烯酸將丙二醇或其寡聚物的兩末端羥基進行酯化而成之物；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等使用(甲基)丙烯酸將二元醇的羥基進行酯化而成之物；使用(甲基)丙烯酸將雙酚A、雙酚A的環氧烷加成物、或該等之鹵素取代物的兩末端羥基進行酯化而成之物；使用(甲基)丙烯酸將三羥甲基丙烷、新戊四醇等多元醇進行酯化而成之物，以及使該等之末端羥基與(甲基)丙烯酸環氧丙酯的環氧基進行開環加成而成之物；使(甲基)丙烯酸環氧丙酯的環氧基與琥珀酸、己二酸、對苯二甲酸、鄰苯二甲酸、該等之鹵素取代物等二元酸及該等之環氧烷加成物等進行開環加成而成之物；(甲基)丙烯酸芳酯；二乙烯基苯等芳香族二乙烯系化合物等。該等之中，適合使用二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可為經進行共聚物所具有的官能基之間的反應且被改性而成之物。就其反應而言，例如可舉出：丙烯酸甲酯的甲酯基與2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯的羥基之間的高分子鏈內脫甲醇縮合反應、丙烯酸的羧基與2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯的羥基之間的高分子鏈內脫水縮合反應等。
(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度係較 佳為80至160℃。玻璃轉移溫度係能夠藉由調整甲基丙烯酸酯系單體與丙烯酸酯系單體之聚合比、各自的酯基的碳鏈長度及具有該等之官能基的種類、以及多官能單體相對於單體全體之聚合比來控制。
此外，關於用以提高(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度之手段，「將環結構導入至高分子的主鏈中」亦為有效。環結構係以環狀酸酐結構、環狀醯亞胺結構及內酯結構等雜環結構為佳。具體而言，可舉出：戊二酸酐結構、琥珀酸酐結構等環狀酸酐結構；戊二醯亞胺結構、琥珀醯亞胺結構等環狀醯亞胺結構；丁內酯及戊內酯等內酯環結構。若將主鏈中的環結構之含量越增大，則能夠越提高(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度。環狀酸酐結構及環狀醯亞胺結構，係能夠藉由下列方法而導入：使順丁烯二酸酐及順丁烯二醯亞胺等具有環狀結構之單體進行共聚合而導入之方法；藉由聚合後脫水/脫甲醇縮合反應而導入環狀酸酐結構之方法；使胺基化合物反應而導入環狀醯亞胺結構之方法等。具有內酯環結構之樹脂(聚合物)，係能夠藉由「調製在高分子鏈具有羥基及酯基之聚合物後，使所得到的聚合物之羥基與酯基藉由加熱且視需要在有機磷化合物等觸媒的存在下進行環化縮合而形成內酯環結構之方法」來得到。
(甲基)丙烯酸系樹脂亦可視需要而含有添加劑。添加劑係例如能夠舉出滑劑、抗黏結劑、熱安定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、耐光劑、耐衝撃性改良劑、界面活 性劑等。
從製造薄膜的製膜性、薄膜的耐衝撃性等的觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂亦可含有屬於衝撃性改良劑之丙烯酸系橡膠粒子。所謂丙烯酸系橡膠粒子，係指將以丙烯酸酯作為主體之彈性聚合物視為必要成分之粒子，可舉出實質上只由該彈性聚合物所構成之單層結構者、和將該彈性聚合物製成1層之多層結構者。該彈性聚合物的例子，可舉出以丙烯酸烷酯作為主成分，且和能夠與其共聚合的其它乙烯系單體及交聯性單體進行共聚合而成之交聯彈性共聚物。就屬於彈性聚合物的主成分之丙烯酸烷酯而言，例如可舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等烷基的碳數為1至8左右者，且適合使用具有碳數4以上的烷基之丙烯酸烷酯。關於能夠與該丙烯酸烷酯共聚合的其它乙烯系單體，能夠舉出在分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物，更具體地可舉出甲基丙烯酸甲酯等甲基丙烯酸酯、苯乙烯等芳香族乙烯系化合物、丙烯腈等乙烯基氰化合物等。就交聯性單體而言，能夠舉出在分子內具有至少2個聚合性碳-碳雙鍵之交聯性化合物，更具體地可舉出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯酸烯丙酯等(甲基)丙烯酸的烯酯、二乙烯基苯等。
亦能夠將「由不含有橡膠粒子的(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之薄膜」及「由含有橡膠粒子的(甲基)丙 烯酸系樹脂所構成之薄膜」之積層物作為保護膜。此外，亦能夠將「在由與(甲基)丙烯酸樹脂不同的樹脂所構成的相位差顯現層之一面或兩面，形成(甲基)丙烯酸系樹脂層，而顯現相位差之物」作為保護膜。
保護膜亦可含有紫外線吸收劑。將偏光板應用在如液晶顯示裝置等影像顯示裝置時，藉由將含有紫外線吸收劑之保護膜配置在影像顯示元件(例如液晶胞)的視認側，而能夠抑制影像顯示元件因紫外線而劣化。就紫外線吸收劑而言，可舉出柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
在第1圖中，第1保護膜10及第2保護膜20可為由相同樹脂所構成之薄膜，亦可為由互相不同的樹脂所構成之薄膜。此外，第1保護膜10及第2保護膜20係在厚度、有無添加劑和其種類、相位差特性等可相同亦可不同。
第1保護膜10及/或第2保護膜20亦可在其外表面(與偏光件30為相反側的表面)具有如硬塗層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗佈層)。
第1保護膜10及第2保護膜20的厚度係各自通常為5至200μm，以10至120μm為佳，較佳為10至85μm。「將保護膜的厚度減小」係對偏光板、進而對影像顯示裝置的薄型化為有利的。
<偏光板的製造方法>
本發明之偏光板係依據包含下列步驟之方法來製造：(a)將接著劑塗佈在偏光件及/或保護膜之步驟；(b)將偏光件與保護膜進行層積之步驟；(c)對步驟(b)所得到的積層體照射活性能量線之步驟；及(d)繼而將積層體加熱之步驟。
例如，第1圖顯示之偏光板，係能夠藉由「經由第1接著劑層15而將第1保護膜10層積接著在偏光件30的一面，並經由第2接著劑層25而將第2保護膜20層積接著在偏光件30的另一面」來形成。第1保護膜10及第2保護膜20(以下，有將該等總稱而僅稱為「保護膜」之情形)可階段性地以單面逐次進行層積接著，亦可將兩面的保護膜以一階段進行層積接著。
具體而言，將接著劑塗佈在偏光件30的貼合面及/或保護膜的貼合面(步驟(a))，經由接著劑的塗佈層而將兩者的薄膜重疊，使用例如貼合輥等而從上下按壓以進行貼合層積(步驟(b))。其次，照射活性能量線(步驟(c)，稱為「活性能量線照射步驟」)之後，更進一步藉由加熱(步驟(d)，稱為「加熱步驟」)使接著劑層硬化而形成偏光板。此外，在形成接著劑的塗佈層之前，亦可對偏光件30及保護膜的貼合面之一方或雙方，施行皂化處理、電暈放電處理、電漿處理、火焰處理、底漆處理、錨固塗佈處理等易 接著處理。
在本發明的偏光板之製造方法，活性能量照射步驟(c)中，主要是前述第2產酸劑發揮作用，而使前述陽離子聚合性化合物硬化。而且，在加熱步驟(d)中，主要是第1產酸劑發揮作用，而使在活性能量照射步驟未硬化或硬化不充分的離子聚合性化合物更進一步硬化。如前所述，在本發明中，因為是將預定的陽離子聚合性化合物與預定的第2產酸劑組合而構成接著劑，所以，可藉由活性能量照射步驟而形成密著性等較高的接著劑層，但因更進一步藉由加熱步驟，使具有其共軛酸的酸性度較高的相對陰離子之第1產酸劑發揮作用而促進硬化，故能夠形成具有優異的耐剝離性、耐卷曲性及耐劣化性(耐濕熱性)等之偏光板。
在步驟(a)及(b)中，接著劑的塗佈層之形成，係例如能夠利用刮刀(doctor blade)、線棒(wire bar)、模具塗佈器(die coater)、逗點式塗佈器(comma coater)、凹版塗佈器等各種的塗佈方式。此外，亦能夠採用「將偏光件30及保護膜以使兩者的貼合面成為內側之方式一邊連續地供給一邊使接著劑在其間流延」之方式。
從塗佈性的觀點而言，形成第1接著劑層15及第2接著劑層25之接著劑係以其黏度為較低為佳。具體而言，在25℃之黏度係以1000mPa．s以下為佳，較佳為500mPa．s以下，更佳為100mPa．s以下。接著劑能夠為無溶劑型，亦可含有有機溶劑以將黏度調整成適於所採用 的塗佈方式。
在步驟(c)中，活性能量線的光源只要是例如會產生紫外線、電子射線、X射線等者即可，較佳為紫外線。紫外線光源係以在波長400nm以下具有發光分布之光源為佳，例如能夠舉出低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、鹵化金屬燈等。
對接著劑層之活性能量線照射強度，係取決於各接著劑，但對第2產酸劑的活性化有效的波長區域之光照射強度係以0.1至1000mW/cm2為佳。光照射強度太小時，反應時間會變太長，另一方面，光照射強度太大時，由於從燈發射的熱及接著劑聚合時的發熱，會有產生接著劑層黃變、偏光件30劣化、或保護膜表面不良之可能性。此外，對接著劑的光照射時間亦是依各接著劑來進行控制，但以光照射強度與光照射時間的乘積所表示之累計光量係例如10至3000mJ/cm2，以10至1000mJ/cm2為佳，較佳為50至500mJ/cm2，更佳是以成為100至300mJ/cm2之方式設定。累計光量為上限值以下時，光照射時間不會變為太長，對提升生產性提升為有利，在下限值以上時，產酸劑(特別是第2產酸劑)能夠有效地產生酸，能夠使接著劑層充分地硬化。
活性能量線係可從保護膜和偏光膜的任一側照射，通常係從第2產酸劑的吸收波長附近之透射率較高的薄膜側照射。
因為本發明係併用第1產酸劑，所以即便是隔著「在320nm的透射率為85%以下(較佳為70%以下)且在300nm的透射率為50%以下(較佳為10%以下)之透射率較低的保護膜」來照射活性能量線時，仍會藉由加熱而使第1產酸劑發揮作用，使接著劑的硬化充分地進行，且使偏光板的耐久性提升。此外，本發明係即便隔著「在320nm的透射率為85%以下(較佳為70%以下)，在300nm的透射率為50%以下(較佳為10%以下)且在350nm的透射率為85%以下之透射率較低的保護膜」來照射活性能量線，亦使耐久性提升。
在步驟(d)中，係至少只要將接著劑層加熱即可，例如，可將保護膜10及20、接著劑層15及25、以及偏光件30的積層體加熱。就加熱方法而言，例如能夠舉出：依次使長條的保護膜和積層體通過紅外線加熱器等發出輻射熱的裝置之方法；以及使用送風機等將加熱後的氣體吹附在長條的保護膜和積層體之方法等。加熱溫度係能夠依照第1產酸劑的硬化溫度而適當地選擇。具體而言，第1產酸劑係以容易產生酸的溫度為佳，例如硬化溫度±30℃，較佳為硬化溫度±20℃，更佳是能夠設為硬化溫度±10℃。在該範圍時，因為可藉由活性能量照射步驟而使未硬化或硬化不充分之陽離子聚合性化合物有效地硬化，所以能夠提升偏光件與保護膜的密著性。具體的加熱溫度係例如50至150℃，較佳為70至120℃，更佳為80至100℃，特別是能夠設為85至95℃。在該範圍時，能夠抑制偏光 板的熱劣化，且同時從陽離子聚合性化合物的聚合性和硬化性的觀點而言亦是有利。
又，在本發明中，因為使用預定的第1產酸劑，所以硬化速度較快。因此，加熱步驟的加熱時間係例如1秒至1小時，較佳為10秒至30分鐘(例如20秒至10分鐘)，更佳為30秒至5分鐘，特別是能夠設為50秒至2分鐘。
將保護膜經由接著劑15或25的塗佈層而層積在偏光件3之時序、以及使塗佈層硬化之時序，係沒有特別限制。例如，能夠層積一方的保護膜10之後，繼而使塗佈層硬化，隨後，層積另一方的保護膜20，使塗佈層硬化。或者是，亦可逐次或同時層積雙方的保護膜之後，同時使兩面的塗佈層硬化。此外，在步驟(c)中，活性能量線的照射可從任一保護膜側進行。
硬化後的接著劑層之厚度(例如第1及第2接著劑層15、25的厚度)係通常20μm以下，較佳為10μm以下，更佳為5μm以下，特佳為3μm以下。接著劑層的厚度係通常為0.01μm以上，較佳為0.1μm以上。此外，第1接著劑層15與第2接著劑層25之厚度可相同亦可不同。
<偏光板的其它構成要素> (1)光學功能性薄膜
偏光板亦可具備「偏光件30以外的其它光學功能性薄膜」以用來賦予所需要的光學功能，其較佳的一例為相位差膜。例如，在第1圖顯示之偏光板中，第1保護膜10 及/或第2保護膜20亦可兼作為相位差膜，但也可在保護膜以外亦層積相位差膜。在後者的情況時，相位差膜係能夠經由黏著劑層和接著劑層而層積在第1保護膜10及/或第2保護膜20的外表面。
相位差膜的具體例，係包含：由具有透光性的熱可塑性樹脂的延伸膜所構成之雙折射性薄膜；將碟狀液晶或向列液晶配向固定而成之薄膜；及將上述液晶層形成在基材薄膜上而成者。基材薄膜係通常為熱可塑性樹脂膜，熱可塑性樹脂係可適合使用三乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂。
形成雙折射性薄膜之熱可塑性樹脂，係能夠使用針對保護膜而記載者。例如，若要舉出使用纖維素酯系樹脂的情況作為例子時，能夠藉由下列方法來得到雙折射性薄膜：從使纖維素酯系樹脂含有具有相位差調整功能的化合物者來形成薄膜之方法；將具有相位差調整功能的化合物塗佈在纖維素酯系樹脂膜表面之方法；及將纖維素酯系樹脂進行單軸或雙軸延伸之方法。形成雙折射性薄膜之熱可塑性樹脂，亦能夠使用如聚乙烯醇系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚芳香酯(polyarylate)系樹脂、聚醯胺系樹脂等其它熱可塑性樹脂。
以寬頻帶化等光學特性的控制作為目的，相位差膜亦可組合2片以上而使用。此外，不限於具有光學異方性之薄膜，亦能夠使用實質上為光學等向的零遲滯值薄膜(zero retardation film)作為相位差膜。所謂零遲滯值 薄膜，係指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth皆為-15至15nm之薄膜。在此，所謂面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係指在波長590nm之值。
面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係各自以下述式來定義：Re=(nx-ny)×d
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d式中，nx為薄膜面內的慢軸方向(x軸方向)之折射率，ny為薄膜面內的快軸方向(在面內對x軸為正交之y軸方向)之折射率，nz為薄膜厚度方向(對薄膜面為垂直的z軸方向)之折射率，d為薄膜厚度。
零遲滯值薄膜係能夠使用針對保護膜和雙折射性薄膜而記載的熱可塑性樹脂，例如能夠使用由如纖維素酯系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂所構成之樹脂膜。其中，尤其是因為容易控制相位差值且取得亦容易，故能夠適合使用纖維素酯系樹脂、聚烯烴系樹脂。
在偏光板中所能夠含有的其它光學功能性薄膜(光學構件)之例子，有聚光板、亮度提升膜、反射層(反射膜)、半透射反射層(半透射反射膜)、光擴散層(光擴散膜)等。該等係通常在「偏光板為被配置在液晶胞的背面側(背光板側)之偏光板」的情況下被設置。
聚光板之使用目的係光程(optical path)控制等，能夠為稜鏡陣列片(prism array sheet)、透鏡陣列片 (lens array sheet)、附設有點(dot)的薄片等。
亮度提升膜之使用目的係使應用偏光板的液晶顯示裝置之亮度提升。具體而言，可舉出：將折射率的異方性互為不同之薄膜層積複數片且以在反射率產生異方性的方式設計之反射型偏光分離片；及在基材薄膜上支撐有膽固醇型液晶聚合物的配向膜和其配向液晶層而成之圓偏光分離片等。
反射層、半透射反射層、光擴散層係各自被設置，以使偏光板成為反射型、半穿透式、擴散型的光學構件。反射型的偏光板係被使用在「使來自視認側的入射光反射而顯示之類型的液晶顯示裝置」，因為能夠省略背光板等的光源，所以可容易將液晶顯示裝置予以薄型化。半穿透式的偏光板係被使用在「在明亮位置時是作為反射型，在黑暗位置時是以來自背光板的光線來顯示之類型的液晶顯示裝置」。此外，擴散型的偏光板係被使用在「賦予光擴散性而抑制波紋(moire)等顯示不良情形之液晶顯示裝置」。反射層、半透射反射層及光擴散層係可依據眾所周知的方法來形成。
(2)黏著劑層
本發明之偏光板亦能夠包含黏著劑層，以將該偏光板貼合在液晶胞等影像顯示元件或其它光學構件。黏著劑層係能夠層積在保護膜的外表面。
在黏著劑層中所使用的黏著劑，能夠使 用：將(甲基)丙烯酸系樹脂、聚矽氧(silicone)系樹脂、聚酯系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、聚醚系樹脂等作為基質聚合物者。尤其是從透明性、黏著力、可靠性、耐候性、耐熱性、重工(Rework)性等的觀點而言，可適合使用(甲基)丙烯酸系黏著劑。在(甲基)丙烯酸系黏著劑中，「將具有甲基、乙基、丁基等碳數20以下的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯、以及(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸羥基乙酯等含有官能基的(甲基)丙烯酸系單體，以使玻璃轉移溫度成為較佳為25℃以下、更佳為0℃以下的方式調配而成之重量平均分子量為10萬以上的(甲基)丙烯酸系樹脂」係有用於作為基質聚合物。
若欲在偏光板形成黏著劑層，例如能夠藉由下列方式來進行：使黏著劑組成物溶解或分散在甲苯、乙酸乙酯等有機溶劑而調製10至40質量%的溶液，將其直接塗佈在偏光板的對象面而形成黏著劑層之方式；及在經施行脫模處理的隔離膜上將黏著劑層預先形成薄片狀，然後將其移轉附著至偏光板的對象面之方式等。黏著劑層的厚度係按照其接著力等而決定，以1至50μm左右的範圍為適當，較佳為2至40μm。
偏光板能夠包含上述隔離膜。隔離膜可為由聚乙烯等聚乙烯系樹脂、聚丙烯等聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂等所構成之薄膜。尤其是以聚對苯二甲酸乙二酯的延伸膜為佳。
黏著劑層亦可視需要而調配由玻璃纖維、 玻璃珠粒、樹脂珠粒、金屬粉和其他無機粉末所構成之填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑等。
就抗靜電劑而言，例如可舉出離子性化合物、導電性微粒子、導電性高分子等，可適合使用離子性化合物。構成離子性化合物之陽離子成分可為無機陰離子亦可為有機陰離子，但從與(甲基)丙烯酸系樹脂的相溶性的觀點而言係以有機陽離子為佳。有機陽離子可舉出吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。另一方面，構成離子性化合物之陰離子成分可為無機陰離子亦可為有機陰離子，但因為能夠提供具有優異的抗靜電性能之離子性化合物，故以含有氟原子之陰離子成分為佳。含有氟原子之陰離子成分，可舉出六氟磷酸根陰離子[(PF6 -)]、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]陰離子、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]陰離子等。
(3)保護膜
本發明之偏光板，可含有用以將其表面(保護膜表面)暫時黏附而保護之保護膜。關於保護膜，係例如將偏光板貼合在影像顯示元件和其它的光學構件之後，連同其所具有的黏著劑層一起被剝離除去。
保護膜係由基材薄膜及被層積在其上之黏著劑層所構成。
針對黏著劑層，係引用上述的記載。構成基材薄膜之 樹脂，係例如可為如聚乙烯等聚乙烯系樹脂、如聚丙烯等聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯和聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等熱可塑性樹脂。較佳為聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂。
[實施例]
以下，舉出實施例及比較例而更具體地說明本發明，但是本發明係不被該等例子所限定。在以下的例子，係使用下述物作為構成接著劑之陽離子聚合性化合物、第1產酸劑、及第2產酸劑。
(陽離子聚合性化合物) <製造例1>
將以下的化合物(A-1)、化合物(A-2)及化合物(A-3)以(A-1)：(A-2)：(A-3)=70：25：5的質量比混合而調製陽離子聚合性化合物。將所得到的陽離子聚合性化合物作為「陽離子聚合性化合物A」。
化合物(A-1)：3,4-環氧環己烷甲酸3’,4’-環氧環己基甲酯(Daicel股份有限公司製，商品名「CEL2021P」，環氧當量；126至145g/當量)
化合物(A-2)：新戊二醇二環氧丙基醚(NAGASE CHEMTEX股份有限公司製，商品名「EX-211L」，環氧當量；108至130g/當量)、
化合物(A-3)：3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷(東亞合成股份有限公司製，商品名 「OXT-221」)
<製造例2>
將以下的化合物(A-1)及化合物(A-2)以(A-1)：(A-2)=40：60的質量比混合而調製陽離子聚合性化合物。將所得到的陽離子聚合性化合物作為「陽離子聚合性化合物B」。
化合物(A-1)：3,4-環氧環己烷甲酸3’,4’-環氧環己基甲酯(Daicel股份有限公司製，商品名「CEL2021P」，環氧當量；126至145g/當量)
化合物(A-2)：新戊二醇二環氧丙基醚(NAGASE CHEMTEX股份有限公司製，商品名「EX-211L」，環氧當量；108至130g/當量)
(第1產酸劑)
化合物(B-1)：使用下述構造的產酸劑。硬化溫度為100℃。
Figure 106129972-A0202-12-0056-17
化合物(B-3)：使用下述構造的產酸劑。硬化溫度為113℃。
Figure 106129972-A0202-12-0057-19
(第2產酸劑)
化合物(B-2)：使用下述構造的產酸劑(SAN-APRO股份有限公司，商品名「CPI-100P」)。硬化溫度為272℃。
Figure 106129972-A0202-12-0057-20
化合物(B-4)：使用下述構造的產酸劑。硬化溫度為219℃。
Figure 106129972-A0202-12-0057-21
(產酸劑的硬化溫度之測定)
產酸劑的硬化溫度係依據以下的方法測定。
將第1產酸劑(B-1)或第2產酸劑(B-2)1質量份(固體成分)添加到化合物(A-1)100質量份中而調製硬化性樹脂組成物，將其採取10mg且放入鋁壓蓋型容器，進行按壓且密閉，以製造測定用試料。其次，將裝有上述測定用試料 之容器安裝在差示掃描熱量計(DSC)[SII Nano Technology股份有限公司製，「EXSTAR-6000 DSC6220」]，一邊進行氮氣清洗一邊以10℃/分鐘的速度從30℃升溫至300℃為止。從所得到的DSC曲線將所產生的熱量成為最大值時之溫度設為硬化溫度。此外，在將「CEL2021P」單獨採取10mg且與上述同樣地操作而得到的DSC曲線中，從30℃起至200℃之間係未顯示吸熱也未顯示發熱。另外，B-2為50%溶液，其固體成分量相對於化合物(A-1)100質量份為1質量份。
第1產酸劑(B-3)及第2產酸劑(B-4)亦與上述同樣地測定硬化溫度。此外，第2產酸劑(B-4)係以50%丙烯碳酸酯溶液之形式來調配，其固體成分量相對於化合物(A-1)100質量份為1質量份。
(1)接著劑的調製
將上述陽離子聚合性化合物、第1產酸劑及第2產酸劑依表1記載的調配比例(表1的數值係表示質量份)而量取到20mL的螺口管，進行混合．脫泡，而各自調製液狀紫外線硬化性接著劑。此外，第2產酸劑(B-2)及第2產酸劑(B-4)係以50%丙烯碳酸酯溶液之形式來調配，表1係顯示其固體成分量。
(2)偏光板的製造 <實施例1及2>
對含有紫外線吸收劑之厚度80μm的乙酸纖維素系樹脂膜(Konica Minolta Opto股份有限公司製，商品名「Konica TAC KC8UX2MW」，波長300nm的透射率0%、波長320nm的透射率0%、波長350nm的透射率0%)的單面施行電暈放電處理，在其電暈放電處理面，將表1記載的接著劑使用棒式塗佈器(bar coater)以使硬化後的厚度成為約2.5μm之方式進行塗佈。其次，將厚度25μm的聚乙烯醇(PVA)-碘系偏光膜(偏光件)貼合在該塗佈面。然後，對由環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂)所構成之厚度50μm的相位差膜(日本ZEON股份有限公司製，商品名「ZEONOR」，波長300nm的透射率90%、波長320nm的透射率90%、波長350nm的透射率91%)的單面施行電暈放電處理，在其電暈放電處理面，同樣地將表1記載的接著劑使用棒式塗佈器以使硬化後的厚度成為約2.5μm之方式進行塗佈。將上述所製造之附有乙酸纖維素系樹脂膜的偏光膜以偏光膜側重疊在該塗佈面，使用貼合輥進行按壓且貼合，而得到積層體。對於該積層體，從其環狀聚烯烴系樹脂膜側，使用附輸送帶的紫外線照射裝置[燈係使用Fusion UV Systems公司製的「D Bulb」]，以使累計光量成為200mJ/cm2(UVB)之方式照射紫外線，然後在溫度90℃加熱1分鐘使兩面的接著劑層硬化而製造偏光板。
<比較例1>
除了對貼合後的積層體不照射紫外線且是在溫度90 ℃加熱5分鐘以外，係與實施例1同樣地進行操作而製造偏光板。此外，雖然原本是在溫度90℃加熱1分鐘，但因為接著劑未硬化，故加熱了5分鐘。
<實施例3至6>
除了將接著劑各自變更成表1記載的接著劑以外，係與實施例1同樣地進行操作而製造偏光板。
<實施例7>
除了將接著劑變更成為表1記載的接著劑且在照射紫外線後將偏光板在100℃加熱1分鐘以外，係與實施例1同樣地進行操作而製造偏光板。
<實施例8>
除了將接著劑變更成為表1記載的接著劑以外，係與實施例1同樣地進行操作而製造偏光板。
<實施例9>
除了將接著劑變更成為表1記載的接著劑且在照射紫外線後將偏光板在100℃加熱1分鐘以外，係與實施例1同樣地進行操作而製造偏光板。
<實施例10>
除了將接著劑變更成為表1記載的接著劑以外，係與 實施例1同樣地進行操作而製造偏光板。
<實施例11>
對含有紫外線吸收劑之厚度80μm的乙酸纖維素系樹脂膜(Konica Minolta Opto股份有限公司製，商品名「Konica TAC KC8UX2MW」)的單面施行電暈放電處理，在其電暈放電處理面，將表1記載的接著劑使用棒式塗佈器以使硬化後的厚度成為約2.5μm之方式進行塗佈。其次，將厚度25μm的聚乙烯醇(PVA)-碘系偏光膜(偏光件)貼合在該塗佈面。然後，對由聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸伸乙酯)所構成之厚度25μm的薄膜(波長300nm的透射率0%、波長320nm的透射率68%、波長350nm的透射率83%)的單面施行電暈放電處理，在其電暈放電處理面，同樣地將表1記載的接著劑使用棒式塗佈器以使硬化後的厚度成為約2.5μm之方式進行塗佈。將上述所製造之附有乙酸纖維素系樹脂膜的偏光膜以偏光膜側重疊在該塗佈面，使用貼合輥進行按壓且貼合，而得到積層體。對於該積層體，從其聚酯系樹脂膜側，使用附輸送帶的紫外線照射裝置[燈係使用Fusion UV Systems公司製的「D Bulb」]，以使累計光量成為400mJ/cm2(UVB)之方式照射紫外線，然後在溫度90℃加熱1分鐘使兩面的接著劑層硬化而製造偏光板。
<實施例12>
對含有紫外線吸收劑之厚度80μm的乙酸纖維素系樹 脂膜(Konica Minolta Opto股份有限公司製，商品名「Konica TAC KC8UX2MW」)的單面施行電暈放電處理，在其電暈放電處理面，將表1記載的接著劑使用棒式塗佈器以使硬化後的厚度成為約2.5μm之方式進行塗佈。其次，將厚度25μm的聚乙烯醇(PVA)-碘系偏光膜(偏光件)貼合在該塗佈面。然後，對由乙酸纖維素系樹脂所構成之厚度40μm的薄膜[商品名；“KC4CR-1”，Konica Minolta Opto股份有限公司製，波長300nm的透射率49%、波長320nm的透射率90%、波長350nm的透射率90%]的單面施行電暈放電處理，在其電暈放電處理面，同樣地將表1記載的接著劑使用棒式塗佈器以使硬化後的厚度成為約2.5μm之方式進行塗佈。將上述所製造之附有乙酸纖維素系樹脂膜的偏光膜以偏光膜側重疊在該塗佈面，使用貼合輥進行按壓且貼合，而得到積層體。對於該積層體，從其乙酸纖維素系樹脂膜(厚度40μm者之物)側，使用附輸送帶的紫外線照射裝置[燈係使用Fusion UV Systems公司製的「D Bulb」]，以使累計光量成為200mJ/cm2(UVB)之方式照射紫外線，然後在溫度90℃加熱1分鐘使兩面的接著劑層硬化而製造偏光板。
(3)偏光板的外觀之評價
從上述(2)所製造的偏光板，切取8cm×8cm大小的片體。將該片體在溫度23℃、相對濕度60%的環境下放置一夜之後，計量片體的卷曲量。卷曲量係將彎曲的片體以往 下凸出的方式放置在水平試驗台上，使用規尺各自計量從試驗台到片體的4個角部為止之高度而得到的4點值之平均值。基於所得到的卷曲量，依據以下的基準進行判定。將結果顯示在表2。
<偏光板外觀的評價基準>
4：卷曲量未達8mm。
3：卷曲量為8mm以上且未達13mm。
2：卷曲量為13mm以上。
1：偏光板係卷曲成筒狀，或在保護膜與偏光件之間產生浮起。
(4)剝離力(密著力)的評價
在所得到的偏光板之由三乙酸纖維素系樹脂所構成的保護膜表面施行電暈放電處理，繼而，在其電暈放電處理面，將市售之厚度25μm的(甲基)丙烯酸系黏著劑片進行貼合，而製成附黏著劑層的偏光板。從所得到之附黏著劑層的偏光板裁取寬度25mm、長度約200mm的試驗片，將其黏著劑層面貼合在鈉鈣玻璃。將該試樣在溫度80℃、相對濕度90%的環境下保管24小時後，在溫度23℃、相對濕度55%的環境下保管一夜。其次，將切刀的刀刃切入偏光膜與保護膜之間，在長度方向從端部剝離30mm，使用萬能拉伸試驗機[島津製作所股份有限公司製，製品名「AG-1」]的抓具部抓住其剝離部分。將該狀態的試驗片 在溫度23℃及相對濕度55%的環境中，依據JIS K 6854-2：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第2部：180度剝離」，以抓具移動速度300mm/分鐘進行180度剝離試驗，來求取除了抓具部的30mm以外之170mm的長度範圍之平均剝離力。將結果顯示在表2。
(5)黏著劑層的形成 <實施例1至10及比較例1>
將異氰酸酯系交聯劑、矽烷偶合劑添加到屬於丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸及丙烯酸羥基乙酯的共聚物之(甲基)丙烯酸系樹脂中而製成(甲基)丙烯酸系黏著劑的有機溶劑溶液，將其使用模具塗佈器以使乾燥後的厚度成為20μm的方式塗佈在經施行脫模處理後之由聚對苯二甲酸乙二酯所構成之厚度38μm的隔離膜(LINTEC股份有限公司製，商品名「SP-PLR382052」)的脫模處理面，來製造附隔離膜的薄片狀黏著劑。其次，使用貼合機，將上述所得到的薄片狀黏著劑之與隔離膜相反側的面(黏著劑面)貼合在上述(2)所製造的偏光板的環狀聚烯烴系樹脂膜面之後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，而得到具有黏著劑層之偏光板。
(5)黏著劑層的形成 <實施例11>
將異氰酸酯系交聯劑、矽烷偶合劑添加到屬於丙烯酸 丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸及丙烯酸羥基乙酯的共聚物之(甲基)丙烯酸系樹脂中而製成(甲基)丙烯酸系黏著劑的有機溶劑溶液，將其使用模具塗佈器以使乾燥後的厚度成為20μm的方式塗佈在經施行脫模處理後之由聚對苯二甲酸乙二酯所構成之厚度38μm的隔離膜(LINTEC股份有限公司製，商品名「SP-PLR382052」)的脫模處理面，來製造附隔離膜的薄片狀黏著劑。其次，使用貼合機，將上述所得到的薄片狀黏著劑之與隔離膜相反側的面(黏著劑面)貼合在上述(2)所製造的偏光板的聚酯系樹脂膜面之後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，而得到具有黏著劑層之偏光板。
(5)黏著劑層的形成 <實施例12>
將異氰酸酯系交聯劑、矽烷偶合劑添加到屬於丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸及丙烯酸羥基乙酯的共聚物之(甲基)丙烯酸系樹脂中而製成(甲基)丙烯酸系黏著劑的有機溶劑溶液，將其使用模具塗佈器以使乾燥後的厚度成為20μm的方式塗佈在經施行脫模處理後之由聚對苯二甲酸乙二酯所構成之厚度38μm的隔離膜(LINTEC股份有限公司製，商品名「SP-PLR382052」)的脫模處理面，來製造附隔離膜的薄片狀黏著劑。其次，使用貼合機，將上述所得到的薄片狀黏著劑之與隔離膜相反側的面(黏著劑面)貼合在上述(2)所製造的偏光板的乙酸纖維素系樹脂膜面之 後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，而得到具有黏著劑層之偏光板。
(6)偏光板的濕熱耐久性之評價
將上述(5)所製造之附黏著劑層的偏光板裁切成30mm×30mm的大小，將隔離膜剝離，且將露出的黏著劑層面貼合在玻璃基板。玻璃基板係使用Corning公司製的無鹼玻璃商品名「Eagle XG」。針對所得到的光學積層體，使用附積分球的分光光度計(日本分光股份有限公司製，製品名「V7100」)，測定在波長380至780nm的範圍之MD透射率及TD透射率，並算出在各波長之單體透射率，更進一步依據JIS Z 8701：1999「顏色的顯示方法-XYZ表色系及X10Y10Z10表色系」的2度視野(C光源)進行視感度修正，來求取耐久試驗前的視感度修正單體透射率(Ty)。此外，光學積層體，係將偏光板的環狀聚烯烴系樹脂膜面側作為偵測器側，並以使光從玻璃基板側入射之方式安裝在附積分球的分光光度計。
單體透射率係以式：(λ)=0.5×(Tp(λ)+Tc(λ))來定義。Tp(λ)係依據入射波長λ(nm)的直線偏光與平行尼科耳鏡(parallel nicol)的關係而測定的光學積層體的透射率(%)，Tc(λ)係依據入射波長λ(nm)的直線偏光與正交尼科耳鏡(crossed Nicol)的關係而測定的光學積層體的透射率(%)。
其次，將該光學積層體在溫度80℃、相對 濕度90%的濕熱環境下放置24小時，更進一步在溫度23℃、相對濕度60%的環境下放置24小時置之後，依據與耐久試驗前同樣的方法求取耐久試驗後的Ty。由耐久試驗前後的Ty，依據以下的式算出Ty的增加率，而且依據以下的基準進行判定。將結果顯示在表2。
Ty的增加率={(耐久試驗後的Ty-耐久試驗前的Ty)/耐久試驗前的Ty}×100
<濕熱耐久性的評價基準>
4：單體透射率的增加率(△Ty)未達6%。
3：單體透射率的增加率(△Ty)為6%以上且未達10%。
2：單體透射率的增加率(△Ty)為10%以上且未達80%。
1：單體透射率的增加率(△Ty)為80%以上。
如表2顯示，相較於比較例1所得到的偏光板，能夠確認實施例所得到的偏光板係密著性、外觀及濕熱耐久性的任一者均較優異。
Figure 106129972-A0202-11-0003-4
10‧‧‧第1保護膜
15‧‧‧第1接著劑層
20‧‧‧第2保護膜
25‧‧‧第2接著劑層
30‧‧‧偏光件

Claims (8)

  1. 一種偏光板，係包含偏光件、及在前述偏光件的至少一面經由接著劑層而層積的保護膜；其中，前述接著劑層係含有陽離子聚合性化合物、第1產酸劑及第2產酸劑之接著劑的硬化物；前述第1產酸劑係硬化溫度未達120℃的離子性化合物，而且，構成前述離子性化合物之相對陰離子係下述式(1)表示之陰離子、或下述式(2)表示之陰離子：
    Figure 106129972-A0305-02-0073-1
     式中，R1係可具有取代基之C6-14芳基或可具有取代基之C3-14芳香族雜環基，R2至R4係互相獨立地表示C1-18烷基、可具有取代基之C6-14芳基或可具有取代基之C3-14芳香族雜環基，前述取代基係C1-18烷基、鹵化C1-8烷基、C2-18烯基、C2-18炔基、C6-14芳基、C3-14芳香族雜環基、硝基、羥基、氰基、-OR5表示之烷氧基或芳氧基、R6CO-表示之醯基、R7COO-表示之醯氧基、-SR8表示之烷硫基或芳硫基、-NR9R10表示之胺基、或是鹵素原子，前述R5至R8為C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基，前述R9及R10為氫原子、C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族雜環基；[(Rf)aPF6-a]- (2) 式中，Rf表示氫的80%以上被氟原子取代之相同或不同之烷基，a為1至5的整數；前述第2產酸劑係硬化溫度為120℃以上且藉由活性能量線而產生酸之離子性化合物。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述接著劑層係藉由對前述接著劑照射活性能量線之後，進行加熱而硬化而成者。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，第1產酸劑係下述式(3)表示之離子性化合物：
    Figure 106129972-A0305-02-0074-3
     式中，R11及R12係互相獨立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族雜環基，R13表示可具有取代基之苯基，X-係如申請專利範圍第1項中所記載之式(1)或式(2)表示之陰離子。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，第2產酸劑的相對陰離子係前述式(1)或前述式(2)表示之陰離子、或是PF6 -。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，第2產酸劑的相對陽離子為鋶系陽離子。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，陽離子聚合性化合物係含有選自由環氧化合物、氧雜環丁烷化合物及乙烯系化合物所組成群組之至少1種化合物。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，保護 膜係含有選自由纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂及聚碳酸酯系樹脂所組成群組之至少1種樹脂。
  8. 一種偏光板的製造方法，係用以製造申請專利範圍第1至7項中任一項所述之偏光板，該製造方法係包含下列步驟：(a)將接著劑塗佈在偏光件及/或保護膜之步驟；(b)將偏光件及保護膜進行層積之步驟；(c)對步驟(b)所得到的積層體照射活性能量線之步驟；及(d)繼而將積層體加熱之步驟。
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