TWI764536B

TWI764536B - 成像光學系統的設計方法

Info

Publication number: TWI764536B
Application number: TW110102605A
Authority: TW
Inventors: 張本奇; 朱鈞; 金國藩; 范守善
Original assignee: 鴻海精密工業股份有限公司
Priority date: 2021-01-15
Filing date: 2021-01-23
Publication date: 2022-05-11
Also published as: CN114764194A; TW202229972A; US11675187B2; CN114764194B; US20220229289A1

Abstract

一種成像光學系統的設計方法，該成像光學系統的設計方法係一種基於特徵光線(FLR)及特徵資料點(FDP)的逐點計算方法。逐點設計方法的基本功能係：按照給定的物像關係，基於費馬原理及折反射定律，計算通過系統的FLR的傳播路徑及各光學面上的FDP，通過擬合求得各光學面的面形方程；重複上述過程，逐個求解各個光學面的面形方程，最終完成整個具有特定視場焦距(FFL)及特定視場入瞳的有效孔徑(FEPD)的成像光學系統的設計求解。

Description

成像光學系統的設計方法

本發明涉及光學設計領域，尤其涉及一種具有特定視場焦距(FFL)及特定視場入瞳的有效孔徑(FEPD)的成像光學系統的設計方法。

成像光學系統係人類觀察及記錄自然的重要工具，焦距及視場係成像光學系統的兩個重要指標，視場反映了成像光學系統成像的範圍的大小，而焦距則反映了成像光學系統的解析度的高低。如果成像光學系統全視場大小為2ω，則成像光學系統的像高H及焦距f滿足H=2ftanω。焦距大小一定時，視場越大，觀察到物的範圍越大，但成像光學系統的解析度不會提高。視場大小一定的情況下，焦距越長、像越大，成像光學系統的解析度會提高。像大小一定的情況下，焦距越大、視場越小，成像光學系統的解析度會提高，但能夠觀察到的物的範圍會變小。公式H=2ftanω表明：當像面大小不變時，成像光學系統的焦距f及視場角ω無法同時提高。故，難以得到一種同時具有更大視場及更高解析度的成像光學系統。

有鑒於此，提供一種具有特定FFL及特定FEPD的成像光學系統的設計方法實為必要，該成像光學系統的設計方法可以設計出同時具有更大視場及更高解析度的成像光學系統。

一種成像光學系統的設計方法，其包括以下步驟：S1，根據目標系統的視場焦距(FFL)及視場入瞳的有效孔徑(FEPD)，給出FFL及FEPD隨視場變化的函數FFL_X(ω)，FEPD_X(ω)及FEPD_Y(ω)，其中ω=ω_x，ω_y=0； S2，不考慮遮攔，構建一個一階焦距等於FFL_X(0)的三反同軸球面系統，該三反同軸球面系統包括主鏡、次鏡及三鏡，將孔徑光闌設置在所述次鏡上，且孔徑光闌的直徑為D_AS，該D_AS根據視場入瞳的有效孔徑FEPD_X(0)、FEPD_Y(0)計算得到；然後調整主鏡、次鏡及三鏡的位置及傾角以消除遮攔，得到一個無遮攔系統，該無遮攔系統包含M1、M2及M3三個球面鏡面，所述無遮攔系統中AS的直徑等於D_AS且與M2鏡面重合；S3，取一系列的視場角ω_k(k=1,...,K)作為特徵視場；S4，在xy平面上定義徑向網格G_MN(d_x,d_y)，其中M及N係整數，所述徑向網格G_MN的網格點的坐標為G_mn(d_x，d_y)=(d_x/2)ρ_mcosθ_nx+(d_y/2)ρ_msinθ_ny，其中ρ_m=m/M，m=0,1,...,M，θ_n=n×360°/N，n=0,1,...,N-1；S5，令k=1；S6，以ω₁,ω₂,...,ω_k這k個視場為研究物件，記為{ω_k}，根據孔徑光闌中心的位置及M1的位置與面形，求解出{ω_k}的主光線在xy平面上的起點o({ω_k})；根據視場{ω_k}的光束在x及y兩個方向上的大小FEPD_X({ω_k})及FEPD_Y({ω_k})，在平面xy上定義網格G_MN,{ωk}=G_MN(FEPD_X({ω_k})×cosω_k,FEPD_Y({ω_k}))；將網格中心平移到o({ω_k})，得到一系列新的網格點G_mn({ω_k})+o({ω_k})；以平移後的網格點為起點，及視場{ω_k}光線的傳播方向相同，定義該視場的一系列特徵光線，記為FLR({ω_k})；S7，在孔徑光闌上定義網格G_MN,AS=G_MN(D_AS,D_AS)，從網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})出發的特徵光線FLR({ω_k})與孔徑光闌相交於G_MN,AS中相應的網格點處；按照網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})與G_MN,AS的映射關係，基於FLR({ω_k})，求解所述無遮攔系統中M1上FDP的坐標及法向，並通過擬合得到M1的面形方程；S8，在xy平面上定義網格G_M'N',{ωk}=G_M'N'(FEPD_X({ω_k})×cos{ω_k},FEPD_Y({ω_k}))，其中M'>M，N'>N，以網格點G_m'n',{ωk}+o({ω_k})為起點定義新的特徵光線FLR'({ω_k})；S9，根據公式

，通過FFL對視場角在0到{ω_k}範圍內的積分求得視場{ω_k}在像面上的像高H_k，從而得到視場的像點坐標IMG({ω_k})；S10，根據所述無遮攔系統的物像關係，FLR'({ω_k})經過M1、M2及M3的偏折後，均與像面相交於IMG({ω_k})；按照FLR'({ω_k})與IMG({ω_k})的映射關係，基於FLR'({ω_k})，求解所述無遮攔系統中M3上FDP的坐標及法向，然後通過擬合得到M3的面形方程；S11，按照步驟S10中FLR'({ω_k})及IMG({ω_k})的映射關係，基於FLR'({ω_k})，求解所述無遮攔系統中M2上FDP的坐標及法向，然後通過擬合得到M2的面形方程；S12，按照新的M2的面形方程，得到一個新的孔徑光闌的位置及方向；及S13，令k=k+1，然後重複步驟S6至S12，直到k=K為止。

與先前技術相比，本發明提供的具有特定FFL及特定FEPD的成像光學系統的設計方法可以設計出FFL及FEPD在中心視場比在邊緣視場大的成像光學系統，尤其實現了FFL及FEPD在中心視場係邊緣視場的2倍，並且FFN全視場保持不變的成像光學系統，該成像光學系統同時具有更大的視場及更高的解析度。

100:成像光學系統

102:主反射鏡

104:次反射鏡

106:第三反射鏡

108:孔徑光闌

110:像面

112:探測器

200:初始系統

300:球面初始系統

圖1為本發明第一實施例提供的成像光學系統的光路的側視圖。

圖2為本發明第一實施例提供的成像光學系統的光路的俯視圖。

圖3為本發明第一實施例提供的成像光學系統的FFL隨視場變化的曲線圖。

圖4為本發明第一實施例提供的成像光學系統的FEPD隨視場變化的曲線圖。

圖5為本發明第一實施例提供的成像光學系統的MTF曲線圖。

圖6為本發明第二實施例提供的成像光學系統的設計方法的流程圖。

圖7為本發明第二實施例提供的初始系統的光路的側視圖。

圖8為本發明第二實施例提供的初始系統的光路的俯視圖。

圖9為本發明第二實施例提供的初始系統的MTF曲線圖。

圖10為本發明第二實施例提供的初始系統的FFL隨視場變化的曲線圖。

圖11為本發明第二實施例提供的初始系統的FEPD隨視場變化的曲線圖。

圖12為本發明第二實施例提供的無遮攔的球面初始系統的光路的側視圖。

圖13為本發明第二實施例提供的無遮攔的球面初始系統的光路的俯視圖。

圖14為本發明第二實施例提供的用於計算M1面形方程的視場ω₁的特徵光線FLR(ω₁)。

圖15為本發明第二實施例提供的用於計算M2面形方程及M3面形方程的視場ω₁的特徵光線FLR'(ω₁)。

圖16為本發明第二實施例提供的用於計算M2面形方程及M3面形方程的各個視場的特徵光線FLR'({ω_k},k=1,...,6)。

下面將結合附圖及具體實施例對本發明提供的成像光學系統的設計方法作進一步的詳細說明。

請參見圖1及圖2，本發明第一實施例提供一種成像光學系統100，包括一主反射鏡102、一次反射鏡104、一第三反射鏡106及一孔徑光闌(aperture stop,AS)108，該孔徑光闌108設置在所述次反射鏡104上。從物出發的光線在所述主反射鏡102上發生反射形成一第一反射光束，該第一反射光束照射到所述次反射鏡104上並發生反射形成一第二反射光束，該第二反射光束照射到所述第三反射鏡106上並發生反射形成一第三反射光束，該第三反射光束到達一像面110成像。

所述孔徑光闌108的形狀不限，本實施例中，所述孔徑光闌108係圓形的，孔徑光闌108的外邊緣與所述次反射鏡104的外邊緣重合。

所述像面110及主反射鏡102位於所述次反射鏡104的兩側，並且所述像面110及主反射鏡102也位於所述第三反射鏡106的兩側。

所述成像光學系統100進一步包括一探測器112，該探測器112位於所述像面110的位置，用於記錄所述像面110的資訊。所述探測器112也可以為膠片等。

所述成像光學系統100具有一視場、一視場焦距(FFL)、一視場入瞳的有效孔徑(FEPD)及一視場F數(FFN)。

所述視場焦距(FFL)係成像光學系統100各個視場的焦距。成像光學系統100的某個視場定義為ω，與ω相鄰的視場定義為ω'，ω及ω'這兩個視場之間的夾角定義為△ω，ω及ω'這兩個視場對應的像點之間的距離定義為△h，則視場ω的FFL為：

其中，△ω=ω'-ω，用來表示視場ω'與視場ω的相對位置關係。

所述FFL隨著視場角的變化而連續變化。視場中心的FFL比視場邊緣的FFL大。優選的，視場中心的FFL係視場邊緣的FFL的2倍。圖3為所述FFL隨視場變化的曲線圖，由圖3可以看出，FFL隨著視場角的變化而連續變化，視場中心(0度)的FFL為40mm(毫米)，視場邊緣(-20度及20度)的FFL為20mm，可見視場中心的FFL係視場邊緣的FFL的2倍。中心視場FFL及邊緣視場FFL的比值的大小反映了成像光學系統100性能提高的程度，該比值越大，則成像光學系統100綜合性能提高越多。

在成像系統中，不同視場的入瞳的位置及大小各不相同，描述這種局域光學特性的參數稱為視場入瞳(FENP)。FENP投影到垂直於一視場主光線的平面上，該投影稱為FENP的有效孔徑，也就係視場入瞳的有效孔徑(FEPD)。對於視場ω，FEPD的形狀及大小可以用函數R(ω,φ)來描述，其中φ為孔徑的極坐標角度，如果FENP係一個圓，那麼R(ω,φ)的大小與φ無關。FENP在不同極坐標角度方向上有效孔徑的直徑的大小為：FEPD(ω,φ)=R(ω,φ)+R(ω,180°-φ)。

特別地，當φ=0及φ=90°時，FEPD的大小分別為：FEPD_X(ω)=FEPD(ω,φ=0),FEPD_Y(ω)=FEPD(ω,φ=90°)。

所述FEPD隨著視場角的變化而連續變化。視場中心的FEPD比視場邊緣的FEPD大。優選的，視場中心的FEPD係視場邊緣的FEPD的2倍。圖4為所述FEPD隨視場變化的曲線圖，由圖4可以看出，FEPD隨著視場角的變化而連續變化，視場中心(0度)的FEPD為20mm(毫米)，視場邊緣(-20度及20度)的FEPD為10mm，可見視場中心的FEPD係視場邊緣的FEPD的2倍。

所述視場F數(FFN)的定義為：

△ω=|△ω|exp(iφ)。

特別地，當φ=0及φ=90°時，FFN的大小分別為：

由於FFN=FFL/FEPD(也即所述FFN等於所述FFL與所述FEPD的比值)，故所述FFN可以隨視場的變化而變化，也可以隨視場的變化而基本不變。本實施例中，所述FFL及所述FEPD連續變化，視場中心的FFL係視場邊緣的FFL的2倍，視場中心的FEPD係視場邊緣的FEPD的2倍，FFN隨視場變化而不變，中心視場的解析度係邊緣視場解析度的2倍。

所述成像光學系統100的各參數參見表1。

表2為本實施例中所述成像光學系統100中的各參數，即在X方向及Y方向的FFL、FEPD及FFN的值。表2中，Field of view係指視場。由表2也可以得知，視場中心的FFL係視場邊緣的FFL的2倍，視場中心的FEPD係視場邊緣的FEPD的2倍，FFN隨視場變化而基本不變。

圖5為所述成像光學系統100的MTF(調製傳遞函數)曲線圖，從圖5可以看出，各視場MTF曲線都接近衍射極限，表明所述成像光學系統100具有良好的成像品質。

圖3至圖5中、表1、表2及上述公式中，FFL_x指在X方向的FFL值，FFL_Y指在Y方向的FFL值；FEPD_x指在X方向的FEPD值，FEPD_Y指在Y方向的FEPD值；FFN_x指在X方向的FFN值，FFN_Y指在Y方向的FFN值。

所述主反射鏡102、次反射鏡104及第三反射鏡106包括但不限於自由曲面反射鏡、球面反射鏡或者混合表面反射鏡等。本實施例中，所述主反射鏡102、次反射鏡104及第三反射鏡106均為自由曲面反射鏡，所述成像光學系統100為自由曲面離軸三反光學系統。

主反射鏡102、次反射鏡104及第三反射鏡106表面的自由曲面形狀係在各自對應的局部坐標系中由XY多項式曲面描述的。XY多項式曲面係一種自由曲面，其在局部坐標系中的一般方程為：

其中，z為曲面矢高，c為曲面曲率，k為二次曲面係數，Ai係多項式中第i項的係數。主反射鏡102、次反射鏡104及第三反射鏡106係由只含有關於x的偶數項的6次XY多項式描述的，各反射鏡面形參數如表3所示。

本實施例中，所述成像光學系統100為FFL及FEPD在中心視場係邊緣視場的2倍，但FFN全視場保持不變的線視場成像系統；該線視場成像系統的全視場大小為40°，中心視場FFL為40mm，中心視場FEPD為20mm，邊緣視場FFL為20mm，邊緣視場FEPD為10mm，所述線視場成像系統中全像高大小為23.28mm，也即所述線視場成像系統的視場焦距為20mm至40mm。然而，具有40°視場的普通系統中，焦距只有31.98mm，而焦距為40mm的普通系統中，視場大小只有32°。可見，所述成像光學系統100比普通系統具有較大的視場、較大的焦距及較大的解析度。

所述成像光學系統100具有以下優點：第一、實現了一個FFL及FEPD在中心視場係邊緣視場的2倍，中心視場的解析度係邊緣視場解析度的2倍，且FFN全視場保持不變的成像系統，該成像系統具有良好的成像品質；第二、由於FFL及FEPD在中心視場比在邊緣視場大，可以同時具有較大視場、較大焦距及較大解析度。

本發明第二實施例提供一種所述成像光學系統100的設計方法，該成像光學系統100的設計方法係一種基於特徵光線(FLR)及特徵資料點(FDP)的逐點計算方法。某個視場的FLR指的係屬於該視場的、位於不同孔徑處的一系列光線。某個光學面上的FDP指的係各個視場的FLR及該光學面的一系列交點，包含坐標及法向兩方面的資訊。逐點設計方法的基本功能係：按照給定的物像關係，基於費馬原理及折反射定律，計算通過系統的FLR的傳播路徑及各光學面上的FDP，通過擬合求得各光學面的面形方程；重複上述過程，逐個求解各個光學面的面形方程，最終完成整個成像光學系統100的設計求解。然後加工得到所述成像光學系統100。

以下對具有特定FFL及特定FEPD的成像光學系統100的設計方法中所涉及的各種系統及參數的描述都係在一個全域坐標系o-xyz中。

請參見圖6，所述成像光學系統100的設計方法包括以下步驟：S1，根據目標系統的FFL及FEPD，給出FFL及FEPD隨視場變化的函數FFL_X(ω)，FEPD_X(ω)及FEPD_Y(ω)，其中ω=ω_x，ω_y=0； S2，不考慮遮攔，構建一個一階焦距等於FFL_X(0)的三反同軸球面系統，該三反同軸球面系統包括主鏡、次鏡及三鏡，將AS設置在次鏡上，且AS的直徑為D_AS，該D_AS根據視場入瞳的有效孔徑FEPD_X(0)、FEPD_Y(0)計算得到；然後調整主鏡、次鏡及三鏡的位置及傾角以消除遮攔，得到一個無遮攔系統，該無遮攔系統包含M1、M2及M3三個球面鏡面，所述無遮攔系統中AS的直徑等於D_AS且與M2鏡面重合；S3，取一系列的視場角ω_k(k=1,...,K)作為特徵視場；S4，在xy平面上定義徑向網格G_MN(d_x,d_y)，其中M及N係整數，所述徑向網格G_MN的網格點的坐標為G_mn(d_x，d_y)=(d_x/2)ρ_mcosθ_nx+(d_y/2)ρ_msinθ_ny，其中ρ_m=m/M，m=0,1,...,M，θ_n=n×360°/N，n=0,1,...,N-1；S5，令k=1；S6，以ω₁,ω₂,...,ω_k這k個視場為研究物件，記為{ω_k}，根據AS中心的位置及M1的位置與面形，求解出{ω_k}的主光線在xy平面上的起點o({ω_k})；根據視場{ω_k}的光束在x及y兩個方向上的大小FEPD_X({ω_k})及FEPD_Y({ω_k})，在平面xy上定義網格G_MN,{ωk}=G_MN(FEPD_X({ω_k})×cosω_k,FEPD_Y({ω_k}))；將網格中心平移到o({ω_k})，得到一系列新的網格點G_mn({ω_k})+o({ω_k})；以平移後的網格點為起點，及視場{ω_k}光線的傳播方向相同，定義該視場的一系列特徵光線，記為FLR({ω_k})；S7，在AS上定義網格G_MN,AS=G_MN(D_AS,D_AS)，從網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})出發的特徵光線FLR({ω_k})與AS相交於G_MN,AS中相應的網格點處；按照網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})與G_MN,AS的映射關係，基於FLR({ω_k})，求解無遮攔系統中M1上FDP的坐標及法向，並通過擬合得到M1的面形方程；S8，在xy平面上定義網格G_M'N',{ωk}=G_M'N'(FEPD_X({ω_k})×cos{ω_k},FEPD_Y({ω_k}))，其中M'>M，N'>N，以網格點G_m'n',{ωk}+o({ω_k})為起點定義新的特徵光線FLR'({ω_k})；S9，根據公式

，通過FFL對視場角在0到{ω_k}範圍內的積分求得視場{ω_k}在像面上的像高H_k，從而得到視場的像點坐標IMG({ω_k})；S10，根據無遮攔系統的物像關係，FLR'({ω_k})經過M1、M2及M3的偏折後，均與像面相交於IMG({ω_k})；按照FLR'({ω_k})與IMG({ω_k})的映射關係，基於FLR'({ω_k})，求解無遮攔系統中M3上FDP的坐標及法向，然後通過擬合得到M3的面形方程；S11，按照步驟S10中FLR'({ω_k})及IMG({ω_k})的映射關係，基於FLR'({ω_k})，求解無遮攔系統中M2上FDP的坐標及法向，然後通過擬合得到M2的面形方程；S12，按照新的M2的面形方程，得到一個新的AS的位置及方向；及S13，令k=k+1，然後重複步驟S6至S12，直到k=K為止。

步驟S1中，目標系統的FFL及FEPD的變化範圍如所述表1所示，所述目標系統也就係所述成像光學系統100。

步驟S2中，“三反同軸球面系統”係指主鏡、次鏡及三鏡組成的同軸球面系統。所述無遮攔系統可以為無遮攔的球面初始系統300，如圖12所示。

步驟S3中，由於所述無遮攔系統在x方向對稱，故只需要0

ω_k

20°，且ω₁=0°及ω_K=20°。

步驟S4中，當d_x=d_y時，G_MN係圓形的徑向網格。

步驟S7中，網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})與G_MN,AS的映射關係係“從網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})出發的特徵光線FLR({ω_k})與AS相交於G_MN,AS中相應的網格點處”。

步驟S8中，M'>M，N'>N，表明G_M'N',{ωk}相比於G_MN,{ωk}係一個更密的網格。

步驟S10中，FLR'({ω_k})與IMG({ω_k})的映射關係係“FLR'({ω_k})經過M1、M2及M3的偏折後，均與像面相交於IMG({ω_k})”。

步驟S12中，由於AS設置在M2處，故按照新的M2的面形方程，得到一個新的AS的位置及方向。

步驟S7、S10及S11中，通過擬合得到M1、M2或者M3的面形方程的方法不限。本實施例中，通過擬合得到M1、M2或者M3的面形方程的方法，包括以下子步驟：步驟S1’，建立一初始曲面及一第一三維直角坐標系；步驟S2’，選取K條特徵光線R_i(i=1,2,...,K)；步驟S3’，根據物像關係或光線映射關係及斯涅爾定律逐點求解每條特徵光線與待求自由曲面的複數個交點，進而得到複數個特徵資料點P_i(i=1,2,...,K)；步驟S4’，在所述第一直角坐標系中，將該複數個特徵資料點擬合成一球面，並將中心採樣視場主光線對應的特徵資料點定義為球面的頂點，並以該球面的頂點為原點，通過曲率中心及球面頂點的直線為z軸，建立一第二三維直角坐標系；及步驟S5’，將所述複數個特徵資料點在第一直角坐標系中的坐標(x_i,y_i,z_i)及法向量(α_i,β_i,γ_i)分別變換為第二直角坐標系中的坐標(x'_i,y'_i,z'_i)及法向量(α'_i,β'_i,γ'_i)，將所述複數個特徵資料點P_i(i=1,2…K)在第二三維直角坐標系中擬合成一個二次曲面，將特徵資料點在第二直角坐標系中的二次曲面上的坐標及法向量分別從坐標(x'_i,y'_i,z'_i)及法向量(α'_i,β'_i,γ'_i)中除掉，得到殘餘坐標及殘餘法向量，將所述殘餘坐標及殘餘法向量進行曲面擬合得到一自由曲面，該自由曲面的方程式與所述二次曲面的方程式相加得到待求自由曲面的方程式，也即M1、M2或者M3的面形方程。

通過所述步驟S1至S13，即可以得到一個各視場ω_k(k=1,...,K)的光束孔徑滿足FEPD設計要求，同時像面上的像高滿足FFL設計要求的系統(即所述成像光學系統100)的初始系統200，如圖7及圖8所示。該初始系統200的成像品質比較差，如圖9所示。

經過計算，所述初始系統200的FFL、FEPD及FFN資料如表4所示，各視場的FFL的值隨視場的變化情況如圖10所示，各視場的FEPD的值隨視場的變化情況如圖11所示。

從表4、圖10及圖11可以看出，各視場的FFL及FEPD都與所述成像光學系統100的參數(設計預期的參數)較接近。故，所述初始系統200 可以作為後續優化的一個良好的初始解，經過優化提高所述初始系統200的成像品質後，即完成了所述成像光學系統100(目標系統)的設計。

進一步，所述成像光學系統100的設計方法還可以在步驟S13之後包括一“優化所述初始系統200，從而提高所述初始系統200的成像品質”的步驟S14。步驟S14中，優化所述初始系統200，從而提高所述初始系統200的成像品質的方法不限，可以採用光學設計軟體來實現。所述光學設計軟體包括CODE V或者ZEMAX OPTIC STUDIO等。

在步驟S14之後進一步包括根據步驟S14中輸出的達到設計要求的成像系統的參數進行加工的步驟，進而得到一所述成像光學系統100的物理元件。

可以理解，如果想要得到所述初始系統200的物理元件，也可以在步驟S13之後進一步包括根據步驟S13中輸出的初始系統200的參數進行加工的步驟，進而得到所述初始系統200的物理元件。

以下為所述成像光學系統100的設計方法的具體實施例。

目標系統(所述成像光學系統100)中FFL_X的值係20~40mm，則給定FFL_X的函數為FFL_X(ω _x)=40-20×(ω _x/0.349)²，其中角度ω_x單位為弧度。

目標系統(所述成像光學系統100)中FEPD_X,Y的值係10~20mm，而各視場的FFN_X的值都為2，故FEPD_X的函數為FEPD_X(ω _x)=40-20×(ω _x/0.349)²。

選定的無遮攔的球面初始系統300如圖12及圖13所示，該無遮攔的球面初始系統300中AS的大小D_AS為14.67mm。

因為無遮攔的球面初始系統300在x方向係對稱的，故在半視場範圍內取特徵視場即可。選定6個視場ω_k(k=1,...,6)作為特徵視場進行後續面形的計算，每個視場的角度間隔為4°。在計算M1的FDP及面形時，所使用的網格為G_MN,{ωk}，其中M=3，N=16，圖14中係根據該網格得到的視場ω₁的入射到M1上的FLR。在計算M2及M3的FDP及面形時，為G_M'N',{ωk}，其中M'=6，N'=16，圖15中係根據該網格得到的視場ω₁的入射到光學系統中的FLR。最終得到的各個視場的入射的特徵光線如圖16所示。由圖16可以看出中心視場的光束直徑較粗，而邊緣視場的光束較細，中心視場的光束直徑係邊緣的2倍。

根據公式FFL_X(ω _x)=40-20×(ω _x/0.349)²及

，可以得到各視場對應的像面上的像高，如表5所示。

經過所述步驟S5至步驟S13的計算，最終得到所述初始系統200。該初始系統200中AS在M2處，直徑為D_AS=14.67mm。該初始系統200中三個反射鏡為自由曲面，面形由最高次為4次的XY多項式描述。

所述初始系統200作為後續優化的一個良好的初始解，在後續的優化過程中，儘量保持局域光學特性的同時，將初始系統200的成像品質提高到足夠高的水準。

優化過程中變數約束的設置情況如下：(1)將各個視場的上、下、左、右光線約束在AS對應得邊緣點上；(2)控制各個視場在像面上的像高，因為其直接影響了系統中各個視場FFL_X的值；(3)控制各個視場FEPD_X及FEPD_Y的大小；(4)增加一個0.1°的小視場，並控制Y方向的參數FFL_Y。經過優化得到所述成像光學系統100，該成像光學系統100具有特定的FFL及FEPD，FFL及FEPD的定義及特性已經在前面進行了描述，這裡不再贅述。

所述成像光學系統100的設計方法具有以下優點：第一、可以得到初始系統200，該初始系統200可以作為後續優化的一個良好的初始解，經過優化提高所述初始系統200的成像品質後，即完成了所述成像光學系統100(目標系統)的設計；第二、方法簡單。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡習知本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

Claims

一種成像光學系統的設計方法，其包括以下步驟：S1，根據目標系統的視場焦距(FFL)及視場入瞳的有效孔徑(FEPD)，給出FFL及FEPD隨視場變化的函數FFL_X(ω)，FEPD_X(ω)及FEPD_Y(ω)，其中ω=ω_x，ω_y=0；S2，不考慮遮攔，構建一個一階焦距等於FFL_X(0)的三反同軸球面系統，該三反同軸球面系統包括主鏡、次鏡及三鏡，將孔徑光闌設置在所述次鏡上，且孔徑光闌的直徑為D_AS，該D_AS根據視場入瞳的有效孔徑FEPD_X(0)、FEPD_Y(0)計算得到；然後調整主鏡、次鏡及三鏡的位置及傾角以消除遮攔，得到一個無遮攔系統，該無遮攔系統包含M1、M2及M3三個球面鏡面，所述無遮攔系統中AS的直徑等於D_AS且與M2鏡面重合；S3，取一系列的視場角ω_k(k=1,...,K)作為特徵視場；S4，在xy平面上定義徑向網格G_MN(d_x,d_y)，其中M及N係整數，所述徑向網格G_MN的網格點的坐標為G_mn(d_x，d_y)=(d_x/2)ρ_mcosθ_nx+(d_y/2)ρ_msinθ_ny，其中ρ_m=m/M，m=0,1,...,M，θ_n=n×360°/N，n=0,1,...,N-1；S5，令k=1；S6，以ω₁,ω₂,...,ω_k這k個視場為研究物件，記為{ω_k}，根據孔徑光闌中心的位置及M1的位置與面形，求解出{ω_k}的主光線在xy平面上的起點o({ω_k})；根據視場{ω_k}的光束在x及y兩個方向上的大小FEPD_X({ω_k})及FEPD_Y({ω_k})，在平面xy上定義網格G_MN,{ωk}=G_MN(FEPD_X({ω_k})×cosω_k,FEPD_Y({ω_k}))；將網格中心平移到o({ω_k})，得到一系列新的網格點G_mn({ω_k})+o({ω_k})；以平移後的網格點為起點，及視場{ω_k}光線的傳播方向相同，定義該視場的一系列特徵光線，記為FLR({ω_k})；S7，在孔徑光闌上定義網格G_MN,AS=G_MN(D_AS,D_AS)，從網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})出發的特徵光線FLR({ω_k})與孔徑光闌相交於G_MN,AS中相應的網格點處；按照網格點G_MN({ω_k}+o({ω_k})與G_MN,AS的映射關係，基於FLR({ω_k})，求解所述無遮攔系統中M1上FDP的坐標及法向，並通過擬合得到M1的面形方程； S8，在xy平面上定義網格G_M'N',{ωk}=G_M'N'(FEPD_X({ω_k})×cos{ω_k},FEPD_Y({ω_k}))，其中M'>M，N'>N，以網格點G_m'n',{ωk}+o({ω_k})為起點定義新的特徵光線FLR'({ω_k})；S9，根據公式
，通過FFL對視場角在0到{ω_k}範圍內的積分求得視場{ω_k}在像面上的像高H_k，從而得到視場的像點坐標IMG({ω_k})；S10，根據所述無遮攔系統的物像關係，FLR'({ω_k})經過M1、M2及M3的偏折後，均與像面相交於IMG({ω_k})；按照FLR'({ω_k})與IMG({ω_k})的映射關係，基於FLR'({ω_k})，求解所述無遮攔系統中M3上FDP的坐標及法向，然後通過擬合得到M3的面形方程；S11，按照步驟S10中FLR'({ω_k})及IMG({ω_k})的映射關係，基於FLR'({ω_k})，求解所述無遮攔系統中M2上FDP的坐標及法向，然後通過擬合得到M2的面形方程；S12，按照新的M2的面形方程，得到一個新的孔徑光闌的位置及方向；及S13，令k=k+1，然後重複步驟S6至S12，直到k=K為止。
如請求項1所述的成像光學系統的設計方法，其中，所述目標系統中FFL_X的值係20mm至40mm，給定FFL_X的函數為FFL_X(ω _x)=40-20×(ω _x/0.349)²，其中角度ωx單位為弧度。
如請求項1所述的成像光學系統的設計方法，其中，所述目標系統中FEPD_X,Y的值係10mm至20mm，各視場的FFN_X的值均為2，給定FEPD_X的函數為FEPD_X(ω _x)=40-20×(ω _x/0.349)²。
如請求項1所述的成像光學系統的設計方法，其中，通過所述步驟S1至S13，得到所述目標系統的初始系統，該初始系統中孔徑光闌的直徑為14.67mm。
如請求項4所述的成像光學系統的設計方法，其中，所述初始系統包括三個反射鏡，該三個反射鏡均為自由曲面，面形由最高次為4次的XY多項式描述。
如請求項4所述的成像光學系統的設計方法，其中，在所述步驟S13之後進一步包括一採用光學設計軟體優化所述初始系統，從而提高所述初始系統的成像品質的步驟S14。
如請求項6所述的成像光學系統的設計方法，其中，在所述步驟S14之後進一步包括一根據步驟S14中輸出的參數進行加工的步驟，得到一成像光學系統的物理元件。
如請求項7所述的成像光學系統的設計方法，其中，所述成像光學系統包括一主反射鏡、一次反射鏡、一第三反射鏡及一孔徑光闌，該孔徑光闌設置在所述次反射鏡上；所述成像光學系統中所述FFL及所述FEPD連續變化，並且視場中心的FFL及FEPD均大於視場邊緣的FFL及FEPD。
如請求項8所述的成像光學系統的設計方法，其中，視場中心的FFL係視場邊緣的FFL的2倍，視場中心的FEPD係視場邊緣的FEPD的2倍。
如請求項8所述的成像光學系統的設計方法，其中，所述主反射鏡、所述次反射鏡及所述第三反射鏡均為自由曲面反射鏡，所述成像光學系統為自由曲面離軸三反光學系統。