TWI763012B - 潔淨熱處理裝置 - Google Patents

潔淨熱處理裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI763012B
TWI763012B TW109128782A TW109128782A TWI763012B TW I763012 B TWI763012 B TW I763012B TW 109128782 A TW109128782 A TW 109128782A TW 109128782 A TW109128782 A TW 109128782A TW I763012 B TWI763012 B TW I763012B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
gas
section
cooling
guided
filter
Prior art date
Application number
TW109128782A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202126974A (zh
Inventor
新庄成昭
西尾勤
Original Assignee
日商中外爐工業股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商中外爐工業股份有限公司 filed Critical 日商中外爐工業股份有限公司
Publication of TW202126974A publication Critical patent/TW202126974A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI763012B publication Critical patent/TWI763012B/zh

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any preceding group
    • F27B17/0016—Chamber type furnaces
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F27D3/12—Travelling or movable supports or containers for the charge
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00—Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/04—Circulating atmospheres by mechanical means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D9/00—Cooling of furnaces or of charges therein
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F27D99/0001—Heating elements or systems
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00—Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/04—Circulating atmospheres by mechanical means
    • F27D2007/045—Fans
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D9/00—Cooling of furnaces or of charges therein
    • F27D2009/007—Cooling of charges therein
    • F27D2009/0072—Cooling of charges therein the cooling medium being a gas
    • F27D2009/0075—Cooling of charges therein the cooling medium being a gas in direct contact with the charge

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Duct Arrangements (AREA)
  • Air-Flow Control Members (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

本發明之潔淨熱處理裝置中，係分離為上段部13、中段部14、及下段部15，在中段部設置處理部30，且在將處理用之氣體從導入部31導引至被載置於旋轉台32而被旋轉的被處理物x而進行處理後，將該氣體從導出部35導引至上段部或下段部，另一方面，在上段部與下段部之其中任一者，設置利用熱風用風扇23將藉由加熱裝置21加熱後的氣體進行送風的加熱部20，而於另一者設置利用冷風用風扇44將藉由冷卻裝置43冷卻後的氣體進行送風的冷卻部40，並且，在加熱部與冷卻部之其中任一者設置過濾器F。

Description

潔淨熱處理裝置
本發明係關於一種在潔淨的環境中將被處理物進行加熱或冷卻之潔淨熱處理裝置。尤其是，本發明係具有下列特點：利用旋轉台使被處理物旋轉，而可有效率且均勻地加熱被處理物、或有效率且均勻地冷卻加熱後的被處理物，並且，還可使熱處理裝置的設置面積縮小。
以往至今，在半導體裝置、液晶顯示裝置等之製程等之中，係為了在潔淨的環境中將被處理物進行加熱或冷卻而使用潔淨熱處理裝置。
此處，就此種潔淨熱處理裝置而言，在以往，已知有如專利文獻1至3所示者。
而且，在這些專利文獻1至3所示者中，係將藉由加熱器等加熱後之氣體利用送風裝置導引至過濾器而使其淨化，且使如此加熱並淨化後的氣體經由安置有被處理物的處理室內部而進行循環，而將前述被處理物進行加熱處理，再者，在專利文獻3所示者中，已提出以下內容：除了以前述方式將被處理物進行加熱處理之外，還利用送風裝置，將藉由冷卻器等冷卻後之氣體導引至過濾器而使其淨化，且使如此冷卻並淨化後的氣體經由安置有被處理物的處理室內部而進行循環，而將前述被處理物進行冷卻處理。
此處，會有下列問題：於前述專利文獻1至3所示之任一種潔淨熱處理裝置中，都只是將被處理物安置於處理室內，因此，以前述方式加熱並淨化後的氣體或冷卻並淨化後的氣體也只是從一定的方向對於安置於處理室內之被處理物噴吹，所以，被處理物的溫度會在氣體對於被處理物噴吹之上游側與下游側有所不同，而無法以使被處理物有效率且均勻地加熱或冷卻的方式進行熱處理。
再者，於前述專利文獻1至3所示之任一種潔淨熱處理裝置中，係將對被處理物進行處理之處理室與過濾器橫向排列配置，因此，還有會使安置這些構件的面積變大，而也使設置潔淨熱處理裝置的設置面積變大的問題。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2004-163014號公報
專利文獻2：日本特開2005-156089號公報
專利文獻3：日本專利第6140264號公報
本發明之課題在於解決潔淨熱處理裝置中之前述問題，該潔淨熱處理裝置係在潔淨的環境中將被處理物進行加熱或冷卻。
尤其是，本發明之潔淨熱處理裝置中，課題在於：利用旋轉台使被處理物旋轉，而可使被處理物有效率且均勻地加熱、或使加熱後的被處理物有效率且均勻地冷卻，並且，還可使熱處理裝置的設置面積縮小。
在本發明之潔淨熱處理裝置中，係為了解決前述課題而形成為一種具有上段部、中段部、以及下段部的潔淨熱處理裝置，其中，在前述中段部設置處理部，將處理用之氣體從導入部導引至被載置於旋轉台而被旋轉的被處理物而進行處理，並且，將被導引至被處理物之後之氣體從導出部導引至前述上段部或下段部，另一方面，在前述上段部與下段部之其中任一者，設置利用熱風用風扇將藉由加熱裝置加熱後的氣體進行送風的加熱部，而於另一者設置利用冷風用風扇將藉由冷卻裝置冷卻後的氣體進行送風的冷卻部，且在使前述加熱部與冷卻部之其中任一者運轉時使另一者停止，並且，在前述加熱部與冷卻部之其中任一者設置過濾器，而選擇性地將藉由前述加熱裝置加熱後的氣體與藉由前述冷卻裝置冷卻後的氣體之其中任一者導引至過濾器而使其淨化，且將利用過濾器淨化後的氣體導引至前述中段部的處理部中之導入部。
而且，如本發明之潔淨熱處理裝置般，在中段部之處理部設置用來載置被處理物並使其旋轉的旋轉台，以使被載置於該旋轉台的被處理物旋轉，並且，利用熱風用風扇，將藉由加熱部之加熱裝置加熱後的氣體導引至過濾器而使其淨化，使如此加熱並淨化後的氣體以前述方式經由導入部而朝旋轉的被處理物噴吹而進行加熱，此時，加熱並淨化後的氣體係對於旋轉的被處理物均勻地噴吹，將被處理物均勻地加熱，此外，利用冷風用風扇，將藉由冷卻部之冷卻裝置冷卻後的氣體導引至過濾器而使其淨化，使如此冷卻並淨化後的氣體以前述 方式經由導入部而朝旋轉的被處理物噴吹而進行冷卻，此時，冷卻並淨化後的氣體係對於旋轉的被處理物均勻地噴吹，將被處理物均勻地冷卻。
此外，如本發明之潔淨熱處理裝置般，在位於設置處理部的前述中段部之上下的上段部與下段部之其中任一者，設置使藉由加熱裝置加熱後的氣體或藉由冷卻裝置冷卻後的氣體淨化的過濾器，將利用該過濾器淨化後的氣體導引至前述處理部中之導入部，此時，與將對被處理物進行處理之處理部與過濾器橫向排列配置的情況相比，可使安置這些構件的面積縮小，而也使潔淨熱處理裝置的設置面積縮小。
此處，本發明之潔淨熱處理裝置可形成為，在前述上段部，設置利用熱風用風扇將藉由加熱裝置加熱後的氣體進行送風的前述加熱部，且設置前述過濾器，另一方面，在前述下段部，設置利用冷風用風扇將藉由冷卻裝置冷卻後的氣體進行送風的前述冷卻部，且設置利用冷風用風扇將冷卻後的氣體從該冷卻部導引至前述上段部之冷風導引管，而在前述加熱部之運轉時，利用前述熱風用風扇，將藉由前述加熱裝置加熱後的氣體導引至前述過濾器，利用該過濾器使加熱後的氣體淨化並予以導引至前述處理部中之導入部，另一方面，在前述冷卻部之運轉時，利用前述冷風用風扇，將藉由前述冷卻裝置冷卻後的氣體從前述冷風導引管導引至設置在前述上段部的前述過濾器，利用該過濾器使冷卻後的氣體淨化並予以導引至前述處理部中之導入部。
此處，本發明之潔淨熱處理裝置可形成為，在前述處理部之前述導入部，設置具有複數個孔的分散導入構件，該複數個孔係使處理用之氣體分散而予以導引至被載置於旋轉台而被旋轉的被處理物，並且，在供被導引至被處理 物之後之氣體導入的導出部，設置使被導引至被處理物之後之氣體分散而予以導引至導出部內部的分散導出構件。
而且，在設置在處理部的前述分散導入構件與分散導出構件之至少一者之與旋轉台相對向的部分設置呈圓弧狀的凹部，此時，可使用來將被處理物載置於旋轉台而使其旋轉的處理部之面積更為縮小，而也使設置潔淨熱處理裝置的設置面積縮小。
此外，本發明之潔淨熱處理裝置中，可在處理部之下之下段部內部，設置使前述處理部之旋轉台旋轉的旋轉裝置。如此一來，可防止以下情況：在處理部內部設置旋轉裝置時，於處理部內部配置利用旋轉裝置旋轉的旋轉台之位置產生問題，或是在將被處理物進行加熱處理或冷卻處理時，使旋轉裝置被加熱、冷卻而故障。
本發明之潔淨熱處理裝置中，以前述方式在中段部之處理部設置用來載置被處理物而使其旋轉的旋轉台，以使被載置於該旋轉台的被處理物旋轉，並且，利用熱風用風扇，將藉由加熱部之加熱裝置加熱後的氣體導引至過濾器而使其淨化，使如此加熱並淨化後的氣體以前述方式經由導入部而朝旋轉的被處理物噴吹而進行加熱，因此，會使加熱並淨化後的氣體對於旋轉的被處理物均勻地噴吹，將被處理物均勻地加熱，此外，利用冷風用風扇，將藉由冷卻部之冷卻裝置冷卻後的氣體導引至過濾器而使其淨化，使如此冷卻並淨化後的氣體以前述方式經由導入部而朝旋轉的被處理物噴吹而進行冷卻，因此，會使冷卻並淨化後的氣體對於旋轉的被處理物均勻地噴吹，將被處理物均勻地冷卻。
此外，本發明之潔淨熱處理裝置中，以前述方式在位於設置處理部的中段部之上下的上段部與下段部之其中任一者，設置使藉由加熱裝置加熱後的氣體或藉由冷卻裝置冷卻後的氣體淨化的過濾器，將利用該過濾器淨化後的氣體導引至處理部中之導入部，此時，與將對被處理物進行處理之處理部與過濾器橫向排列配置的情況相比，可使安置這些構件的面積縮小，而也使潔淨熱處理裝置的設置面積縮小。
10:裝置本體
11:上棚板
11a:送風口
11b:回流開口部
11c:導引孔
12:下棚板
12a:回流孔
12b:貫通孔
13:上段部
14:中段部
15:下段部
20:加熱部
21:加熱裝置
22:安裝板
23:熱風用風扇
30:處理部
31:導入部
32:旋轉台
33:旋轉裝置
34:分散導入構件
34a:孔
34b:凹部
35:導出部
36:分散導出構件
36a:孔
40:冷卻部
41:回流管
41a:回流分歧管
42:回流側開閉閥
43:冷卻裝置
44:冷風用風扇
45:冷風導引管
45a:分歧冷風導引管
46:輸送側開閉閥
F:過濾器
x:被處理物
圖1為概略說明圖，其係顯示在本發明一實施型態之潔淨熱處理裝置中，於上段部設置加熱部、於中段部設置處理部、且於下段部設置冷卻部的情形，並以使前述上段部、中段部與下段部分離之方式進行顯示以便於理解該等部位的內部構造。
圖2為概略剖面說明圖，其係顯示在前述實施型態之潔淨熱處理裝置中，利用旋轉裝置使載置於設置在中段部之處理部的旋轉台之上的被處理物旋轉，並且將在上段部的加熱部中被加熱而利用過濾器淨化後的加熱用之處理用氣體予以導引至前述處理部，而對被處理物進行加熱處理之狀態。
圖3為概略剖面說明圖，其係顯示在前述實施型態之潔淨熱處理裝置中，利用旋轉裝置使載置於設置在中段部之處理部的旋轉台之上的被處理物旋轉，並且利用上段部的過濾器使在下段部的冷卻部中被冷卻後的氣體淨化，將淨化後的冷卻用之處理用氣體導引至前述處理部，而對被處理物進行冷卻處理之狀態。
圖4為變更例的概略立體圖，其係顯示在前述實施型態之潔淨熱處理裝置中，使處理用之氣體從導入部經由分散導入構件而予以導引至載置於設置在處理部的旋轉台之上的被處理物之際，在前述分散導入構件之與旋轉台相對向的部分設置有呈圓弧狀的凹部之變更例。
以下，根據所附圖式，具體地說明本發明實施型態之潔淨熱處理裝置。另外，本發明之潔淨熱處理裝置不限定於下述實施型態所示者，而為可在未變更發明要旨的範圍中適宜地變更而實施者。
如圖1等所示，本實施型態之潔淨熱處理裝置中，係在裝置本體10之內部，以使裝置本體10內部上下區隔的方式設置上棚板11與下棚板12，而將裝置本體10內部分割為位於上棚板11之上的上段部13、位於上棚板11與下棚板之間的中段部14、及位於下棚板12之下的下段部15。
而且，本實施型態之潔淨熱處理裝置中，係於前述上段部13設置加熱部20，利用設置在加熱裝置21之下游側之安裝板22的熱風用風扇23將藉由加熱裝置21加熱後的氣體進行送風，且利用此熱風用風扇23將加熱後的氣體導引至設置在送風方向下游側之位置之前述上棚板11之上的過濾器F，利用此過濾器F使加熱後的氣體淨化，且從該加熱部20使如此加熱並淨化後的處理用之氣體經由設置在位在前述過濾器F之下的上棚板11之部分的送風口11a，而予以導引至前述中段部14。
此外，在位於前述上棚板11與下棚板12之間的中段部14設置處理部30，且在比從前述過濾器F經由送風口11a而導入處理用之氣體的導入部 31更為下游側的位置，設置用來載置被處理物x而使其旋轉的旋轉台32，且利用設置在前述下棚板12之下的旋轉裝置33使該旋轉台32旋轉。
而且，在前述導入部31與旋轉台32之間設置具有複數個孔34a的分散導入構件34，使被導引至導入部31的處理用之氣體經由分散導入構件34之各個孔34a而朝被載置於旋轉台32而被旋轉的被處理物x噴吹。
再者，在將朝被載置於旋轉台32而被旋轉的被處理物x噴吹後之氣體導引至位於比旋轉台32更下游側的導出部35之途中的位置，設置具有讓前述氣體通過的複數個孔36a的分散導出構件36，以抑制從導入部31所導引的處理用之氣體立即被導引至導出部35，而利用處理用之氣體將被載置於旋轉台32而被旋轉的被處理物x均勻地加熱。
而且，在前述導出部35之上棚板11的部分設置回流開口部11b，另一方面，在導出部35之下棚板12的部分設置一對回流孔12a，該回流開口部11b係將被導引至導出部35之加熱處理後之氣體導引至上段部13的加熱部20，該一對回流孔12a係將被導引至導出部35之加熱處理後之氣體送回到設置在後述下段部15的冷卻部40。
此外，在前述下棚板12之下的下段部15設置冷卻部40，而在該冷卻部40中，使從回流管41分歧的各個回流分歧管41a插通於前述導出部35之設置在下棚板12之一對的各個回流孔12a，並且，在回流分歧管41a匯集而成的回流管41設置回流側開閉閥42，將該回流側開閉閥42開啟而藉由冷卻裝置43來冷卻經由回流管41而送回的氣體。
而且，在冷風導引管45設置輸送側開閉閥46，其中該冷風導引管45係利用冷風用風扇44輸送如上述地藉由冷卻裝置43冷卻後的氣體，將該 輸送側開閉閥46開啟，而將經由冷風導引管45輸送來之冷卻後的氣體導引至使氣體分歧而輸送的一對分歧冷風導引管45a。
再者，使該一對分歧冷風導引管45a從設置在前述下棚板12的各個貫通孔12b經由前述中段部14的處理部30而插通於前述上棚板11之設置在過濾器F附近的各個導引孔11c，且經由各個分歧冷風導引管45a而使冷卻後的氣體輸送至前述上段部13，且將該冷卻後的氣體導引至設置在上段部13的前述過濾器F，利用該過濾器F使冷卻後的氣體淨化，且使如此冷卻並淨化後的處理用之氣體通過設置在前述過濾器F之下的上棚板11的部分的送風口11a而導引至前述中段部14。
此處，根據圖2具體地說明，於本實施型態之潔淨熱處理裝置中，利用旋轉裝置33使被載置於旋轉台32的被處理物x旋轉，利用在前述加熱部20加熱後的處理用之氣體將被處理物x進行加熱處理的情況。
此情況，係於前述下段部15之冷卻部40中，將設置在前述回流管41的回流側開閉閥42及設置在冷風導引管45的輸送側開閉閥46關閉，並且，使前述冷卻裝置43及冷風用風扇44停止。
另一方面，於前述上段部13之加熱部20中，使前述加熱裝置21及熱風用風扇23作動，利用設置在安裝板22的熱風用風扇23將藉由加熱裝置21加熱後的氣體進行送風，而予以導引至設置在送風方向下游側的位置之上棚板11之上的前述過濾器F，利用該過濾器F使加熱後的氣體淨化，且使如此加熱並淨化後的處理用之氣體通過設置在前述過濾器F之下的上棚板11的部分的送風口11a而導引至中段部14的處理部30之前述導入部31。
而且，使如此被導引至處理部30之導入部31的加熱並淨化後的處理用之氣體通過設置在比導入部31更下游側的位置的前述分散導入構件34之複數個各個孔34a，而朝被載置於前述旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x噴吹而進行加熱。此外，將如此對被處理物x加熱後的加熱處理後之氣體通過設置在其下游側的前述分散導出構件36之複數個各個孔36a而導引至前述導出部35，且使如此被導引至導出部35的加熱處理後之氣體通過導出部35之設置在上棚板11的前述回流開口部11b而送回到加熱部20，反覆進行如前述之操作，將被載置於旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x充分地進行加熱處理。
此外，本實施型態之潔淨熱處理裝置中，係將以前述方式加熱並淨化後的處理用之氣體予以從分散導入構件34之複數個各個孔34a朝被載置於旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x噴吹，來使被處理物x加熱，因此，可對於旋轉的被處理物x均勻地噴吹加熱並淨化後的氣體，將被處理物x均勻地進行加熱處理。
接著，根據圖3具體地說明，於本實施型態之潔淨熱處理裝置中，利用旋轉裝置33使被載置於旋轉台32的被處理物x旋轉，利用在前述冷卻部40冷卻後的處理用之氣體將被處理物x進行冷卻處理的情況。
此情況，係使設置在前述上段部13之加熱部20的前述加熱裝置21及熱風用風扇23停止，而不將加熱後的處理用之氣體導引至前述過濾器F。
另一方面，於前述下段部15之冷卻部40中，將設置在前述回流管41的回流側開閉閥42與設置在冷風導引管45的輸送側開閉閥46開啟，並且，使前述冷卻裝置43及冷風用風扇44作動。
而且，利用前述冷風用風扇44，從插通於導出部35之設置在下棚板12的一對的各個回流孔12a之各回流分歧管41a並經由回流管41來抽吸前述中段部14的處理部30之下游側之導出部35中的氣體，並使之導引至設置在該回流管41的前述冷卻裝置43，而藉由冷卻裝置43冷卻前述氣體，之後，利用前述冷風用風扇44，將如此冷卻後的氣體從回流管41輸送至冷風導引管45，並將冷卻後的氣體從該冷風導引管45導引至一對分歧冷風導引管45a。
此處，該一對分歧冷風導引管45a係如前述方式從設置在下棚板12的各個貫通孔12b經由前述中段部14的處理部30而插通於前述上棚板11之設置在過濾器F附近的各個導引孔11c，且如前述方式將從冷風導引管45被導引至各分歧冷風導引管45a之冷卻後的氣體導引至前述上段部13，而輸送至設置在上段部13的前述過濾器F，利用該過濾器F使冷卻後的氣體淨化，且使如此冷卻並淨化後的處理用之氣體通過設置在前述過濾器F之下的上棚板11的部分的送風口11a而導引至前述中段部14的處理部30之導入部31。
而且，使如此被導引至處理部30之導入部31的冷卻並淨化後的處理用之氣體通過設置在比導入部31更下游側的位置的前述分散導入構件34之複數個各個孔34a，而朝被載置於前述旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x朝噴吹而進行冷卻。
此外，使如此將被處理物x冷卻後的冷卻處理後之氣體通過設置在其下游側的前述分散導出構件36之複數個各個孔36a而導引至前述導出部35，且使如此被導引至導出部35的冷卻處理後之氣體，如前述方式利用冷風用風扇44，從插通於導出部35之設置在下棚板12的一對的各個回流孔12a的各回流分歧管41a經由回流管41來予以抽吸並藉由冷卻裝置43冷卻，反覆進行如 前述之操作，將被載置於旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x充分地進行冷卻處理。
而且，在使如此被載置於旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x冷卻時，本實施型態之潔淨熱處理裝置中，也是將以前述方式冷卻並淨化後的處理用之氣體從分散導入構件34之複數個各個孔34a朝被載置於旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x噴吹，而將被處理物x冷卻，因此，可對於旋轉的被處理物x均勻地噴吹冷卻並淨化後的氣體，而將被處理物均勻地進行冷卻處理。
此處，本實施型態之潔淨熱處理裝置中，如前述方式就用以將來自導入部31處理用之氣體導引至被載置於旋轉台32之上而被旋轉的被處理物x的部分，設置呈平板狀的構件，以作為具有複數個孔34a的分散導入構件34，惟如圖4所示，若在分散導入構件34中之與旋轉台32相對向的部分設置呈圓弧狀的凹部34b時，可將用來使被處理物x被載置於旋轉台32而被旋轉的處理部30的面積縮小，而使設置潔淨熱處理裝置的設置面積縮小。另外，雖未圖示，就具有使被導引至被處理物x之後之氣體分散並導引至供被導引至被處理物x之後之氣體導入的導出部35之前述複數個孔36a的分散導出構件36而言，也可與前述分散導入構件34同樣地，在與旋轉台32相對向的部分設置呈圓弧狀的凹部，而使處理部30的面積縮小，而也使設置潔淨熱處理裝置的設置面積縮小。
此外，本實施型態之潔淨熱處理裝置中，如前述方式將裝置本體10內部分割為：位於上棚板11之上的上段部13、位於上棚板11與下棚板之間的中段部14、位於下棚板12之下的下段部15，且在中段部14設置處理部30，並且，在上段部13設置加熱部20，在下段部15設置冷卻部40，而雖未圖示，但也可在上段部13設置冷卻部40，且在下段部15設置加熱部20。
10:裝置本體
11:上棚板
11a:送風口
11b:回流開口部
11c:導引孔
12:下棚板
12a:回流孔
12b:貫通孔
13:上段部
14:中段部
15:下段部
20:加熱部
21:加熱裝置
22:安裝板
23:熱風用風扇
30:處理部
31:導入部
32:旋轉台
33:旋轉裝置
34:分散導入構件
34a:孔
35:導出部
36:分散導出構件
36a:孔
40:冷卻部
41:回流管
41a:回流分歧管
42:回流側開閉閥
43:冷卻裝置
44:冷風用風扇
45:冷風導引管
45a:分歧冷風導引管
46:輸送側開閉閥
F:過濾器

Claims (5)

  1. 一種潔淨熱處理裝置，係具有上段部、中段部及下段部，其中，在前述中段部設置處理部，將處理用之氣體從導入部導引至被載置於旋轉台而被旋轉的被處理物而進行處理，並且，將被導引至被處理物之後之氣體從導出部導引至前述上段部或下段部，另一方面，在前述上段部與下段部之其中任一者設置有具備加熱裝置及熱風用風扇而利用前述熱風用風扇將藉由前述加熱裝置加熱後的氣體進行送風的加熱部，而於另一者設置有具備冷卻裝置及冷風用風扇而利用前述冷風用風扇將藉由前述冷卻裝置冷卻後的氣體進行送風的冷卻部，且在使前述加熱部中的熱風用風扇與前述冷卻部中的冷風用風扇之其中任一者運轉時使另一者停止，並且，以與前述加熱部與冷卻部之其中任一者相鄰接的方式在前述上段部或前述下段部設置過濾器，而選擇性地將藉由前述加熱裝置加熱後的氣體與藉由前述冷卻裝置冷卻後的氣體之其中任一者導引至前述過濾器而使其淨化，且將利用前述過濾器淨化後的氣體導引至前述中段部的處理部中之導入部。
  2. 如請求項1所述之潔淨熱處理裝置，其中，在前述上段部，設置利用熱風用風扇將藉由加熱裝置加熱後的氣體進行送風的前述加熱部，且設置前述過濾器，另一方面，在前述下段部，設置利用冷風用風扇將藉由冷卻裝置冷卻後的氣體進行送風的前述冷卻部，且設置利用冷風用風扇將冷卻後的氣體從該冷卻部導引至前述上段部之冷風導引管，而在前述加熱部之運轉時，利用前述熱風用風扇，將藉由前述加熱裝置加熱後的氣體導引至前述過濾器，利用該過濾器使加熱後的氣體淨化並予以導引至前述處理部中之導入部，另一方面，在前 述冷卻部之運轉時，利用前述冷風用風扇，將藉由前述冷卻裝置冷卻後的氣體從前述冷風導引管導引至設置在前述上段部的前述過濾器，利用該過濾器使冷卻後的氣體淨化並予以導引至前述處理部中之導入部。
  3. 如請求項1或2所述之潔淨熱處理裝置，其中，於前述處理部中，係在前述導入部，設置具有複數個孔的分散導入構件，該複數個孔係使處理用之氣體分散而予以導引至被載置於旋轉台而被旋轉的被處理物，並且，在供被導引至被處理物之後之氣體導入的導出部，設置使被導引至被處理物之後之氣體分散而予以導引至導出部內部的分散導出構件。
  4. 如請求項3所述之潔淨熱處理裝置，其中，在設置在處理部的前述分散導入構件與分散導出構件之至少一者之與前述旋轉台相對向的部分，設置呈圓弧狀的凹部。
  5. 如請求項1或2所述之潔淨熱處理裝置，其中，在處理部之下之前述下段部內，設置使前述處理部之旋轉台旋轉的旋轉裝置。
TW109128782A 2020-01-10 2020-08-24 潔淨熱處理裝置 TWI763012B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020003052A JP7073016B2 (ja) 2020-01-10 2020-01-10 クリーン熱処理装置
JP2020-003052 2020-01-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202126974A TW202126974A (zh) 2021-07-16
TWI763012B true TWI763012B (zh) 2022-05-01

Family

ID=76709197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109128782A TWI763012B (zh) 2020-01-10 2020-08-24 潔淨熱處理裝置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7073016B2 (zh)
CN (1) CN113108599A (zh)
TW (1) TWI763012B (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06318553A (ja) * 1993-04-30 1994-11-15 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置
JP2000182949A (ja) * 1998-12-17 2000-06-30 Tokyo Electron Ltd 処理装置および該装置における清浄エアの供給方法
JP2011032544A (ja) * 2009-08-03 2011-02-17 Tokuyama Corp チャンバ内基体回転装置およびチャンバ内基体の回転方法
JP6140264B1 (ja) * 2015-12-28 2017-05-31 中外炉工業株式会社 工業用炉

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW473785B (en) 1999-08-12 2002-01-21 Silicon Valley Group Hot wall rapid thermal processor
JP3912208B2 (ja) * 2002-02-28 2007-05-09 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
JP2004353928A (ja) 2003-05-28 2004-12-16 Koyo Thermo System Kk クリーンオーブン
JP4280981B2 (ja) * 2003-06-27 2009-06-17 株式会社Ｉｈｉ 真空熱処理炉の冷却ガス風路切替え装置
CN1691209B (zh) * 2004-04-28 2010-05-12 光洋热系统株式会社 显示用板冷却装置
JP4376243B2 (ja) 2006-03-30 2009-12-02 エスペック株式会社 クリーンオーブン
CN103392107B (zh) 2011-02-25 2015-05-27 株式会社村田制作所 升降式热处理炉
CN110331945B (zh) * 2019-03-27 2021-12-03 中国石油大学(华东) 极地钻井平台井架保温加热实验装置及实验方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06318553A (ja) * 1993-04-30 1994-11-15 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置
JP2000182949A (ja) * 1998-12-17 2000-06-30 Tokyo Electron Ltd 処理装置および該装置における清浄エアの供給方法
JP2011032544A (ja) * 2009-08-03 2011-02-17 Tokuyama Corp チャンバ内基体回転装置およびチャンバ内基体の回転方法
JP6140264B1 (ja) * 2015-12-28 2017-05-31 中外炉工業株式会社 工業用炉

Also Published As

Publication number Publication date
JP7073016B2 (ja) 2022-05-23
JP2021110506A (ja) 2021-08-02
TW202126974A (zh) 2021-07-16
CN113108599A (zh) 2021-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI3730884T3 (en) PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING WORKPIECES
US8328551B2 (en) Convection furnace thermal profile enhancement
US11607742B2 (en) Reflow oven
TWI763012B (zh) 潔淨熱處理裝置
KR20180002917A (ko) 급속 냉각 장치 및 이를 구비한 열처리 오븐 시스템
US7260901B2 (en) Device for controlling the temperature of objects
TW200837319A (en) Continuous baking furnace
JP3402713B2 (ja) 熱処理装置
JP2010157633A (ja) リフロー装置
JP3959141B2 (ja) 昇華物対策付き熱処理装置
KR20150142134A (ko) 기판의 열처리 장치
JP5756601B2 (ja) 連続炉
JP4210833B2 (ja) 連続焼成炉
TW200523517A (en) An oven particularly for treatment of glass articles and a method of heat treating glass articles
CN114341579A (zh) 用于分隔两个腔区域的分隔装置和方法、用于处理工件的处理设备和方法
JP2009008306A (ja) 熱処理装置
JP2002147812A (ja) クリーンルーム用空調システム
JP2006300435A (ja) 循環式焼成炉
JPH10239386A (ja) バーンイン装置
JP2014145587A (ja) 連続炉
KR20150142135A (ko) 기판의 열처리 장치
JPH0889221A (ja) 蒸気式均一加熱殺菌装置及び均一加熱殺菌方法
JP2004053046A (ja) 熱処理炉における加熱装置
JP2010048467A (ja) 板状体冷却装置及び熱処理システム
JP2023175660A (ja) 薄膜延伸装置内の不均一空気温度と不斉空気流動を低減する延伸装置及びその方法