TWI762038B - 切斷裝置、及切斷品的製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明所欲解決的問題在於提供一種切斷裝置、及切斷品的製造方法,該切斷裝置在刀刃旋轉時使刀刃與加工液充分地接觸。為了解決此問題,本發明的切斷裝置,具備切斷台、加工液供給部、及切斷機構。切斷台,以可載置切斷對象物的方式構成。加工液供給部,以可將加工液供給到切斷台的方式構成。切斷機構,以可在切斷對象物被浸泡在加工液中的狀態下將切斷對象物切斷的方式構成。切斷機構,包含刀刃、旋轉機構、及遮斷板。旋轉機構,以可使刀刃旋轉的方式構成。遮斷板,被設置在刀刃的切斷對象物側的前端與刀刃的旋轉軸之間。
Description
本發明關於切斷裝置、及切斷品的製造方法。
日本特開2018-117091號公報(專利文獻1),揭露一種切削裝置,其切削被加工物。在此切削裝置中,被保持在夾盤台上的被加工物,在被浸泡在切削液中的狀態下,藉由切削刀刃來實行被加工物的切削(參照專利文獻1)。
[先前技術文獻]
(專利文獻)
專利文獻1:日本特開2018-117091號公報
[發明所欲解決的問題]
在上述專利文獻1中揭露的切削裝置中,若切削刀刃旋轉,則由於切削刀刃的旋轉而造成的空氣流動,會使得切削液(加工液)自切削刀刃的周圍脫離。其結果,可能產生在刀刃旋轉時刀刃與加工液沒有充分地接觸的情況。
本發明是為了解決這種問題而完成,其目的在於提供一種切斷裝置、及切斷品的製造方法,該切斷裝置在刀刃旋轉時使刀刃與加工液充分地接觸。
[解決問題的技術手段]
依據本發明的一態樣之切斷裝置,具備切斷台、加工液供給部、及切斷機構。切斷台,以可載置切斷對象物的方式構成。加工液供給部,以可將加工液供給到切斷台的方式構成。切斷機構,以可在切斷對象物被浸泡在加工液中的狀態下將切斷對象物切斷的方式構成。切斷機構,包含刀刃、旋轉機構、及遮斷板。旋轉機構,以可使刀刃旋轉的方式構成。遮斷板,被設置在刀刃的切斷對象物側的前端與刀刃的旋轉軸之間。
依據本發明的一態樣之切斷品的製造方法,包含下述步驟:將切斷對象物載置於切斷台上之步驟;將加工液供給到切斷台之步驟;及,在切斷對象物被浸泡在加工液中的狀態下藉由切斷裝置來將切斷對象物切斷,以製造切斷品之步驟。切斷機構,包含刀刃、旋轉機構、及遮斷板。旋轉機構,以可使刀刃旋轉的方式構成。遮斷板,被設置在刀刃的切斷對象物側的前端與刀刃的旋轉軸之間。
[發明的效果]
依據本發明,能夠提供一種切斷裝置、及切斷品的製造方法,該切斷裝置在刀刃旋轉時使刀刃與加工液充分地接觸。
以下,對於本發明的實施形態,參照圖式並詳細地說明。另外,對於圖中相同或相當部分賦予相同符號而不重複其說明。
[1.實施形態1]
<1-1.構成>
(1-1-1.切斷裝置的構成)
第1圖是示意地表示依據本實施態樣1的切斷裝置10的構成的圖。切斷裝置10,例如其構成為可切斷已安裝有半導體晶片之導線架、或配線基板被樹脂密封而成之封裝基板,而分割成複數個電子零件的封裝體。作為封裝基板,例如使用QFN(Quad Flat No-Lead,四方平面無引腳)封裝基板、BGA(Ball Grid Array,球形柵格陣列)封裝基板、LGA(Land Grid Array,岸面柵格陣列)封裝基板、CSP(Chip Size Package,晶片尺寸封裝)封裝基板、LED(Light Emitting Diode,發光二極體)封裝基板等。
亦即,切斷裝置10,是所謂的切割裝置。另外,第1圖中的箭頭F方向表示切斷裝置10的「前方」,箭頭B方向表示切斷裝置10的「後方」。又,箭頭L方向表示切斷裝置10的「跟前方向」,箭頭R方向表示切斷裝置10的「深處方向」。又,箭頭U方向表示切斷裝置10的「上方」,箭頭D方向表示切斷裝置10的「下方」。各箭頭表示方向,在各圖式中是共通的。
如第1圖所示,切斷裝置10,包含切斷台100、加工液供給部300、及切斷機構500。
切斷台100,以在上表面可載置切斷對象物400的方式構成。例如,在切斷台100上,包含可吸附被載置於上表面上的切斷對象物400之機構。此時,切斷對象物400被吸附於切斷台100的上表面,藉此將切斷對象物400固定於切斷台100上。在切斷台100的上表面形成有凹部X1,切斷對象物400被載置於凹部X1內。切斷台100,被構成為可在箭頭FB方向上移動,並且在俯視時可旋轉90∘。
加工液供給部300,以可將加工液200供給到凹部X1內的方式構成。加工液200,例如是純水,加工液供給部300,例如將由儲水槽或自來水管供給的加工液200供給到凹部X1內。另外,加工液200,並非一定要純水,也可以是包含規定原料之液體。例如,在切斷裝置10的動作中,藉由加工液供給部300來持續地實行加工液200的供給。在供給了可裝滿凹部X1內的量的加工液200之後,加工液200會自凹部X1溢出。
切斷機構500,以可在切斷對象物400被浸泡在加工液200中的狀態下將切斷對象物400切斷的方式構成。在切斷對象物400被浸泡在加工液200中的狀態下將切斷對象物400切斷,藉此可抑制切斷時的切斷對象物400等的溫度上升,並且可抑制伴隨著切斷所產生的粉塵的飛散。切斷機構500,以可在箭頭UD方向和箭頭LR方向上移動的方式構成。關於切斷機構500,詳細地說明於後。
在切斷裝置10中,在實行切斷機構500的箭頭LRUD方向的定位之後,使切斷台100在箭頭FB方向上移動,藉此實行切斷對象物400的切斷。又,在切斷機構500往箭頭U方向退避的狀態下,以俯視觀察,使切斷台100旋轉90∘,藉此改變切斷對象物400的切斷方向。
第2圖是為了說明在將切斷對象物浸泡在加工液中的狀態下實行對象物的切斷的情況,一般可能產生的問題的圖。如第2圖所示,在與本實施形態1不同之比較對象中的切斷機構900,包含刀刃910。刀刃910,藉由高速旋轉來將切斷對象物切斷。若刀刃910高速旋轉,則由於刀刃910的旋轉,會產生自刀刃910側朝向加工液的空氣流動。基於此空氣的流動,加工液自刀刃910往脫離方向移動。其結果,會產生在刀刃910旋轉時刀刃910沒有與加工液接觸的問題。
在依據本實施形態1的切斷裝置10中,對切斷機構500實施構造上的巧思,藉此可抑制會產生這種問題之可能性。以下,對於切斷機構500進行詳細的說明。
(1-1-2.切斷機構的構成)
第3圖是切斷機構500的平面圖。第4圖是切斷機構500的側面圖。第5圖是表示第3圖的V-V剖面的一部分的圖。
參照第3圖、第4圖及第5圖,切斷機構500,包含旋轉機構502、及刀刃單元504。旋轉機構502,以可使刀刃單元504旋轉的方式構成。旋轉機構502,包含旋轉機構本體部508、旋轉部509、複數個(2個)固定部506、及遮斷板550。
旋轉機構本體部580,例如包含用以使刀刃單元504旋轉之馬達。旋轉部509,基於自旋轉機構本體部508提供的動力而繞著旋轉軸S1旋轉。在旋轉部509的側視時的中央部,形成有螺絲孔部511。在旋轉部509中,在外周面形成有隨著自箭頭L方向朝向箭頭R方向使直徑變大的錐形。如後述,螺絲孔部511,被用於將刀刃單元504固定於旋轉部509。固定部506,分別地自旋轉機構本體部508的下端中的箭頭FB方向的兩端部往箭頭L方向延伸。
第6圖是遮斷板550的立體圖。如第6圖所示,在遮斷板550的長邊方向和短邊方向各自的中央部,形成有在長邊方向上延伸的狹縫H1。狹縫H1,貫穿遮斷板550。又,在遮斷板550的長邊方向的兩端部,分別地形成有螺絲孔部551。固定部506(第4圖)與螺絲孔部551,藉由螺絲552來固定。藉此,遮斷板550被固定於旋轉機構本體部508。
再次參照第3圖、第4圖及第5圖,刀刃單元504,以基於旋轉部509的旋轉而繞著旋轉軸S1旋轉的方式構成。刀刃單元504,包含刀刃510、一對的凸緣520、螺帽530、及螺栓540。
刀刃510、凸緣520及螺帽530的各自的側視時的形狀為環狀。亦即,針對刀刃510、凸緣520及螺帽530各者,在側視時的中央部分形成有孔。將旋轉部509插入此孔內,藉此將各構件直接或間接地安裝於旋轉部509。
刀刃510,在外周上具有刃部。凸緣520,包含跟前凸緣522、及深處凸緣524。跟前凸緣522與深處凸緣524,藉由夾住刀刃510來固定刀刃510。在凸緣520(深處凸緣524)的內周面形成有錐形,該錐形對應於旋轉部509的外周面的錐形。將凸緣520往箭頭R方向推入,使凸緣520的內周面與旋轉部509的外周面接觸,藉此凸緣520相對於旋轉部509被定位。另外,在深處凸緣524的箭頭L方向的端部的外周面上形成有螺絲部。
在螺帽530的內周面上形成有螺絲部。在螺帽530的內周面上形成的螺絲部,被緊固在深處凸緣524的箭頭L方向的端部的外周面上形成的螺絲部。實行螺絲部彼此的緊固,藉此螺帽530被配置在與跟前凸緣522接觸的位置,並將跟前凸緣522往箭頭R方向推入。若螺栓540被緊固在旋轉部509的螺絲孔部511中,則螺栓540將深處凸緣524往箭頭R方向推入。亦即,螺帽530與螺栓540,將凸緣520自箭頭L方向往箭頭R方向推入。更具體來說,深處凸緣524,以旋轉部509的外周面的錐形與深處凸緣524的內周面的錐形嵌合的方式配置,並藉由將螺栓540往箭頭R方向緊固在螺絲孔部511中而被固定於旋轉部509。跟前凸緣522,藉由將螺帽530往箭頭R方向緊固而被固定於已設置在深處凸緣524的箭頭L方向的端部上的螺絲部。因此,跟前凸緣522和刀刃510一起以被深處凸緣524與螺帽530夾住的方式而被固定。
在刀刃單元504被固定於旋轉部509的狀態下,刀刃510的一部分貫穿遮斷板550的狹縫H1。亦即,遮斷板550,被設置在刀刃510的切斷對象物側的前端與刀刃510的旋轉軸S1之間。更具體來說,遮斷板550,被設置在刀刃510的切斷對象物側的前端與凸緣520的切斷對象物側的前端之間。另外,狹縫H1的短邊方向的長度,僅比刀刃510的寬度方向(箭頭LR方向)的長度更長一些。又,狹縫H1的長邊方向的長度,可對應於貫穿狹縫H1之刀刃510的區域的尺寸而適當地設定。
<1-2.動作>
第7圖是為了說明切斷機構500的動作的圖。如第7圖所示,切斷機構500,在切斷對象物400被浸泡在加工液200中的狀態下實行切斷對象物400的切斷。亦即,在切斷對象物400被載置於切斷台100(第1圖)上,且將加工液200供給到切斷台100上之後,切斷機構500使刀刃510高速旋轉,並藉由刀刃510來將切斷對象物400切斷。藉此,可製造切斷品也就是電子零件的封裝體。另外,加工液200,以位於與在將切斷對象物400切斷時的遮斷板550的位置約略相同位置或更高位置的方式供給到凹部X1(第1圖)內。
由於刀刃510高速旋轉,會在刀刃510的周圍產生空氣的流動。若此空氣的流動朝向加工液200的液面,則如第2圖所示,會造成加工液200自刀刃510脫離的情況。在本實施形態1中,切斷機構500包含遮斷板550。在切斷機構500中,遮斷板550可阻斷朝向加工液200側之空氣的流動。又,遮斷板550的狹縫H1與刀刃510的間隙小,所以僅有少量的空氣自該間隙進入。能夠抑制朝向加工液200側之空氣的流動,所以能夠抑制自刀刃510脫離的加工液200的量。
因此,依據本實施形態1的切斷裝置10,藉由遮斷板550來遮斷由於刀刃510的旋轉所造成的空氣的流動,所以能夠減低在刀刃510旋轉時刀刃510沒有與加工液200接觸的情況產生的可能性。又,使往刀刃510之加工液200的供給安定,藉此使切斷品質安定。又,設置遮斷板550,藉此能夠抑制由於刀刃510的旋轉所濺起的水花,而能夠提升裝置內的維修性。
<1-3.效果等>
如以上,在依據本實施形態1的切斷裝置10中,遮斷板550被設置在刀刃510的切斷對象物側的前端與刀刃510的旋轉軸之間。因此,依據切斷裝置10,藉由遮斷板550來遮斷由於刀刃510的旋轉所造成的空氣的流動,所以能夠減低在刀刃510旋轉時刀刃510沒有與加工液200接觸的情況產生的可能性。
[2.實施形態2]
在上述實施形態1中,在切斷對象物400被浸泡在加工液200中的狀態下實行切斷對象物400的切斷,所以在切斷對象物400的切斷中,使加工液200容易接觸到刀刃510。然而,也可以在切斷裝置10中進一步實施巧思,該巧思在切斷對象物400的切斷中使加工液200更容易接觸到刀刃510。在本實施形態2中實施的巧思,是在切斷對象物400的切斷中使加工液200更容易接觸到刀刃510。依據此巧思,能夠進一步提升刀刃510的冷卻效果。以下,僅針對與上述實施形態1不同的部分進行說明,關於共通的部分不重複說明。
第8圖是實施形態2中的切斷機構500A的側面圖。如第8圖所示,切斷機構500A,包含加工液噴射部560。加工液噴射部560,以可將加工液200朝向刀刃510噴射的方式構成。加工液噴射部560,例如將由儲水槽或自來水管供給的加工液200朝向刀刃510噴射。例如,加工液噴射部560,自與切斷對象物側相反的一側的前端(位置P1)朝向切斷對象物側的前端(位置P2)將加工液200噴射到刀刃510的旋轉區域的至少一部分中。
依據包含本實施形態2中的切斷機構500A之切斷裝置,藉由加工液噴射部560來將加工液200噴射到旋轉中的刀刃510上,所以能夠使加工液200更多地接觸到刀刃510,而能夠使刀刃510更有效果地冷卻。
[3.其他實施形態]
上述實施形態1、2的思想,不限定於以上說明的實施形態1、2。以下,針對能夠適用於上述實施形態1、2的思想之其他實施形態的一例進行說明。
<3-1>
遮斷板550的構成不限定於在上述實施形態1、2中的構成。第9圖是示意地表示第一其他實施形態中的切斷機構500B的側面的圖。如第9圖所示,切斷機構500B包含遮斷板550B。
上述實施形態1的遮斷板550中的狹縫H1,被形成在遮斷板550的長邊方向的中央部,而在遮斷板550B中,狹縫則是被形成為自長邊方向的一端部朝向中央部。遮斷板550B,在自與切斷對象物側相反的一側的前端(位置P1)朝向切斷對象物側的前端(位置P2)之刀刃510旋轉的區域(第9圖中的刀刃510的左側區域)的至少一部分中,與刀刃510的切刃相對向。另一方面,遮斷板550B,在自切斷對象物側的前端(位置P2)朝向與切斷對象物側相反的一側的前端(位置P1)之刀刃510旋轉的區域(第9圖中的刀刃510的右側區域)的至少一部分中,沒有與刀刃510的切刃相對向。
在這種實施形態中,也是藉由遮斷板550B來遮斷由於刀刃510的旋轉所造成的空氣的流動,所以能夠減低在刀刃510旋轉時刀刃510沒有與加工液200接觸的情況產生的可能性。當設置在交換刀刃510時使遮斷板550自刀刃510退避的機構的情況,在覆蓋整個刀刃510之遮斷板550的構成中,至少需要使遮斷板550往下方移動的機構。相對於此,在沒有覆蓋至少一部分的刀刃510之遮斷板550B這樣的構成中,不需要使遮斷板550B往下方移動的機構,例如,只要具有使遮斷板550B往自刀刃510離開的方向水平移動之機構即可。這樣一來,將遮斷板550B設為沒有覆蓋至少一部分的刀刃510之構成,藉此,能夠增加當交換刀刃510時使遮斷板550B自刀刃510退避的機構的設計的自由度。
<3-2>
第10圖包含第二其他實施形態中的切斷機構500C的部分剖面圖、及該部分剖面圖的放大圖。第11圖是第二其他實施形態中的遮斷板550C的立體圖。如第10圖和第11圖所示,切斷機構500C,包含遮斷板550C。在遮斷板550C,形成有狹縫H1C。狹縫H1C,包含在短邊方向較寬地開口的狹縫部554C、及各自在短邊方向較窄地開口的複數個(2個)狹縫部553C。狹縫部553C,各自地自狹縫部554C的長邊方向的兩端部往遮斷板550C的長邊方向側延伸。
各狹縫部553C覆蓋刀刃510的周圍,狹縫部554C覆蓋跟前凸緣522和深處凸緣524的周圍。亦即,在第二其他實施形態中,遮斷板550C,被設置在跟前凸緣522和深處凸緣524(凸緣520)的切斷對象物側的前端,與刀刃510的旋轉軸S1之間。更詳細來說,遮斷板550C被設置在使遮斷板550C的背面,與跟前凸緣522和深處凸緣524的切斷對象物側的前端位於相同平面上的位置。
依據這種實施形態,與上述實施形態1比較,位於遮斷板550C的下方之刀刃510的區域較長,所以能夠切斷被配置在加工液200的較深位置之切斷對象物400,並能夠更確實地將切斷對象物400浸泡在加工液200中。又,依據這種實施形態,與上述實施形態1比較,位於遮斷板550C的下方之刀刃510的區域較長,所以即便對於較厚的切斷對象物400也能夠將切斷對象物400切斷。
<3-3>
第12圖是包含第三其他實施形態中的切斷機構500D的部分剖面圖、及該部分剖面圖的放大圖。第13圖是第三其他實施形態中的遮斷板550D的立體圖。如第12圖和第13圖所示,切斷機構500D,包含遮斷板550D。在遮斷板550D,形成有狹縫H1D。狹縫H1D,包含在短邊方向較寬地開口的狹縫部554D、及各自在短邊方向較窄地開口的複數個(2個)狹縫部553D。狹縫部553D,各自地自狹縫部554D的長邊方向的兩端部往遮斷板550D的長邊方向側延伸。
各狹縫部553D覆蓋刀刃510的周圍,狹縫部554D覆蓋跟前凸緣522和深處凸緣524的周圍。亦即,在第三其他實施形態中,遮斷板550D,被設置在跟前凸緣522和深處凸緣524(凸緣520)的切斷對象物側的前端,與刀刃510的旋轉軸S1之間。更詳細來說,在第三其他實施形態中,遮斷板550D,被設置在比上述第二其他實施形態中的遮斷板550C進一步更靠旋轉軸S1的位置。
依據這種實施形態,與上述實施形態1比較,位於遮斷板550D的下方之刀刃510的區域較長,所以能夠切斷被配置在加工液200的較深位置之切斷對象物400。又,依據這種實施形態,與上述實施形態1比較,位於遮斷板550D的下方之刀刃510的區域較長,所以即便對於較厚的切斷對象物400,也能夠將切斷對象物400切斷。
<3-4>
在上述實施形態1、2中,自凹部X1的上方藉由加工液供給部300來供給加工液200。然而,加工液200的供給方法不限定於此。例如,也可以在切斷台100的底面設置加工液200的供給孔,藉由該供給孔來實行加工液200的供給。
<3-5>
在上述實施形態1、2中,切斷裝置10,僅包含1個切斷機構500。然而,切斷裝置10包含的切斷機構500的數目沒有限定。例如,切斷裝置10,也可以包含複數個切斷機構500。
<3-6>
在上述實施形態1、2中,在切斷裝置10的動作中,藉由加工液供給部300來將加工液200持續地供給到凹部X1內。然而,加工液200的供給方法不限定於此。例如,也可以在切斷對象物400的切斷前,將可浸泡切斷對象物400的量的加工液200供給到凹部X1內。並對應於凹部X1內的加工液200的減少量來將加工液200補充到凹部X1內。
<3-7>
在上述實施形態1、2中,在實行切斷機構500的箭頭LRUD方向的定位之後,使切斷台100在箭頭FB方向上移動,藉此實行切斷對象物400的切斷。然而,切斷方法不限定於此。也可以將切斷台100可進行的動作僅設為旋轉動作,並使切斷機構500在FB方向上移動,藉此實行切斷對象物400的切斷。亦即,使切斷台100與切斷機構500相對地移動來實行切斷對象物400的切斷。
以上,例示地說明本發明的實施形態。亦即,為了例示地說明而揭露詳細的說明和附加的圖式。因此,在詳細的說明和附加的圖式中記載的構成要素之中,包含為了解決問題的不必要的構成要素。因此,雖然這些不必要的構成要素被記載在詳細的說明和附加的圖式中,也不應該將這些不必要的構成要素直接地認定為必要的構成要素。
又,上述實施形態,在各點中僅是本發明的例示。上述實施形態,在本發明的範圍中可進行各種改良和變化。亦即,每個本發明的實施,能夠適當地採用對應於實施形態的具體的構成。
10:切斷裝置
100:切斷台
200:加工液
300:加工液供給部
400:切斷對象物
500,500A,500B,500C,500D,900:切斷機構
502:旋轉機構
504:刀刃單元
506:固定部
508:旋轉機構本體部
509:旋轉部
510,910:刀刃
511,551:螺絲孔部
520:凸緣
522:跟前凸緣
524:深處凸緣
530:螺帽
540:螺栓
550,550B,550C,550D:遮斷板
552:螺絲
553C,553D,554C,554D:狹縫部
560:加工液噴射部
H1,H1C,H1D:狹縫
P1,P2:位置
S1:旋轉軸
X1:凹部
V-V:剖面線
FB,LR,UD:方向
第1圖是示意地表示切斷裝置的構成的圖。
第2圖是為了說明在將切斷對象物浸泡在加工液中的狀態下實行對象物的切斷的情況,一般可能產生的問題的圖。
第3圖是切斷機構的平面圖。
第4圖是切斷機構的側面圖。
第5圖是表示第3圖的V-V剖面的一部分的圖。
第6圖是遮斷板的立體圖。
第7圖是為了說明切斷機構的動作的圖。
第8圖是實施形態2中的切斷機構的側面圖。
第9圖是示意地表示第一其他實施形態中的切斷機構的側面的圖。
第10圖包含第二其他實施形態中的切斷機構的部分剖面圖、及該部分剖面圖的放大圖。
第11圖是第二其他實施形態中的遮斷板的立體圖。
第12圖包含第三其他實施形態中的切斷機構的部分剖面圖、及該部分剖面圖的放大圖。
第13圖是第三其他實施形態中的遮斷板的立體圖。
國內寄存資訊 (請依寄存機構、日期、號碼順序註記)
無
國外寄存資訊 (請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記)
無
10:切斷裝置
100:切斷台
200:加工液
300:加工液供給部
400:切斷對象物
500:切斷機構
X1:凹部
FB,LR,UD:方向
Claims (6)
- 一種切斷裝置,具備:切斷台,其以可載置切斷對象物的方式構成;加工液供給部,其以可將加工液供給到前述切斷台的方式構成;及,切斷機構,其以在前述切斷對象物被浸泡在前述加工液中的狀態下將前述切斷對象物切斷的方式構成;其中,前述切斷機構,包含:刀刃;旋轉機構,其以使前述刀刃旋轉的方式構成;及,遮斷板,其被設置在前述刀刃的前述切斷對象物側的前端與前述刀刃的旋轉軸之間;僅在前述遮斷板的長邊方向和短邊方向各自的中央部形成有狹縫,該狹縫貫穿前述遮斷板;前述刀刃構成為可在插通於前述狹縫的狀態下,切斷前述切斷對象物。
- 如請求項1所述之切斷裝置,其中,前述切斷機構進一步包含一對的凸緣,該凸緣藉由夾住前述刀刃來固定前述刀刃;前述遮斷板,被設置在前述刀刃的前述切斷對象物側的前端與前述凸緣的前述切斷對象物側的前端之間。
- 如請求項1所述之切斷裝置,其中,前述切斷機構進一步包含一對的凸緣,該凸緣藉由夾住前述刀刃來固定前述刀刃; 前述遮斷板,被設置在前述凸緣的前述切斷對象物側的前端與前述刀刃的旋轉軸之間。
- 如請求項1至3中任一項所述之切斷裝置,其中,前述切斷機構進一步包含加工液噴射部,該加工液噴射部以可將前述加工液朝向前述刀刃噴射的方式構成。
- 如請求項4所述之切斷裝置,其中,前述加工液噴射部,以可自與前述切斷對象物側相反的一側的前端朝向前述切斷對象物側的前端將前述加工液施加到前述刀刃的旋轉區域的至少一部分中的方式構成。
- 一種切斷品的製造方法,其使用請求項1至5中任一項所述之切斷裝置,該製造方法包含下述步驟:將前述切斷對象物載置於前述切斷台上之步驟;將前述加工液供給到前述切斷台之步驟;及,在前述切斷對象物被浸泡在前述加工液中的狀態下,藉由前述切斷裝置將前述切斷對象物切斷,以製造前述切斷品之步驟。
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