TWI761378B - 含氟丙烯酸化合物及其製造方法以及硬化性組成物及物品 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題係提供能夠容易合成的新穎含氟多官能丙烯酸化合物及其製造方法、硬化性組成物、以及具有撥水撥油性表面的物品。 　　解決課題之技術手段係如下式的含氟丙烯酸化合物，
Figure 106134657-A0101-11-0001-1
(Rf1 、Rf2 係分子量400~20,000的1價或2價的全氟聚醚基，Z1 係可包含O、N及Si的2價烴基，Z2 係2價烴基，Q1 係包含(a+b)個以上的Si的(a+b)價的連結基，Q2 係包含(b+1)個以上的Si的(b+1)價的連結基，a、b係1~10，c係0、1或2，R係1價烴基，X係CH2 =CR1 -COO-Z3 -SiR2 R3 -O-，R1 係H或1價烴基，R2 、R3 係1價烴基，Z3 係2價烴基)。

Description

含氟丙烯酸化合物及其製造方法以及硬化性組成物及物品
[0001] 本發明係關於含氟多官能丙烯酸化合物及其製造方法、包含該化合物的硬化性組成物、以及由該組成物的硬化物層所成的具有撥水撥油性表面的物品。
[0002] 以往，作為保護樹脂成形體等的表面的手段，一般廣為使用硬質塗佈處理。此者係在成形體的表面形成硬質的硬化樹脂層(硬質塗佈層)，因而不易損傷。作為構成硬質塗佈層的材料，大多使用熱硬化性樹脂或是紫外線或電子線硬化型樹脂、進而是具有該兩者機能的樹脂。 　　[0003] 另一方面，隨著樹脂成形品的利用領域的擴大或高附加價值化的潮流，對於硬化樹脂層(硬質塗佈層)的高機能化的要求也越來越高，作為其要求之一，係要求對硬質塗佈層賦予防污性。此者係藉由對硬質塗佈層的表面賦予撥水性、撥油性等的性質，從而不易被污染、或即使是被污染亦可容易地去除。 　　[0004] 作為對硬質塗佈層賦予防污性的方法，一般廣為使用對一旦形成的硬質塗佈層表面塗覆含氟防污劑及/或使含氟防污劑固定的方法，但亦研討著下述的方法：將含氟硬化性成分添加至硬化前的硬化樹脂組成物中，藉由塗佈硬化此者來同時進行硬質塗佈層的形成與防污性的賦予。例如於日本特開平6-211945號公報(專利文獻1)中揭示著，藉由在丙烯酸系的硬化性樹脂組成物中添加氟烷基丙烯酸酯並使其硬化，從而製造賦予防污性的硬質塗佈層。 　　[0005] 近年，對於以調配至硬化性樹脂中為目的之含氟丙烯酸化合物的要求變得更高，故強烈要求能夠容易合成的新穎含氟多官能丙烯酸化合物與其機能性之提升。 [先前技術文獻] [專利文獻] 　　[0006] 　　[專利文獻1] 日本特開平6-211945號公報 　　[專利文獻2] 日本特開2013-237824號公報 　　[專利文獻3] 日本特開2010-53114號公報 　　[專利文獻4] 日本特開2010-138112號公報 　　[專利文獻5] 日本特開2010-285501號公報
[發明所欲解決之課題] 　　[0007] 作為可對如此般的硬化性樹脂組成物賦予防污性的氟化合物，本發明人進行了各種的開發，例如，日本特開2013-237824號公報(專利文獻2)中提案著，藉由將含氟醇化合物調配至熱硬化性樹脂中從而賦予防污性的方法。又，本發明人提案著例如日本特開2010-53114號公報(專利文獻3)、日本特開2010-138112號公報(專利文獻4)、日本特開2010-285501號公報(專利文獻5)中所表示的可光硬化的氟化合物。該等的提案中，作為可光硬化的氟化合物的合成方法，係利用使含氟醇與丙烯醯鹵化物或具有異氰酸酯基的丙烯酸化合物進行反應的方法。 　　[0008] 以調配至硬化性樹脂中為目的之含氟多官能丙烯酸化合物的用途正擴大中，亦要求含氟多官能丙烯酸化合物對調配對象的硬化性組成物的最佳化。但例如，若要求具有盡可能較多的丙烯醯基的含氟多官能丙烯酸化合物之情形時，前述專利文獻5的使含氟醇與丙烯醯鹵化物或具有異氰酸酯基的丙烯酸化合物進行反應的方法中，將存在著含氟醇與具有複數個異氰酸酯基的丙烯酸化合物的反應速度為慢之類的缺點。又，相對於1個醇而具有2個以上的丙烯醯基的導入原料的合成純化為困難。 　　[0009] 因此，若在含氟醇的階段來進行多官能化時，具有不飽和末端基的多官能醇化合物與氟化合物的相溶性極低，因此將具有易引起反應不良之類的問題。 　　[0010] 本發明係有鑑於上述情事所完成的發明，目的在於提供能夠容易合成的新穎含氟多官能丙烯酸化合物及其製造方法、包含該化合物的硬化性組成物、以及由該組成物的硬化物層所成的具有撥水撥油性表面的物品。 [解決課題之手段] 　　[0011] 本發明人為了達成上述目的進而經深入研究之結果發現，下述一般式(1)或(2)所表示的含氟丙烯酸化合物可滿足上述要求，因而完成本發明，該一般式(1)或(2)所表示的含氟丙烯酸化合物係使下述一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應而得到，
Figure 02_image003
(式中，Rf1 係獨立為藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Rf2 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z1 係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Z2 係獨立為碳數2~8的2價的烴基，Q1 係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Q2 係獨立為至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，a係1~10的整數，b係獨立為1~10的整數，c係分別獨立為0、1或2，被式(3)中的[ ]所括起來的a個的Z1 或者式(4)中的Z1 及b個的Z2 係全部鍵結於分別的Q1 或Q2 構造中的矽原子，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係烷氧基或烷氧基烷基)
Figure 02_image005
(式中，R1 係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2 及R3 係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3 係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)
Figure 02_image007
(式中，X係分別獨立為CH2 =CR1 -COO-Z3 -SiR2 R3 -O-所表示的基，Rf1 、Rf2 、Z1 、Z2 、Q1 、Q2 、R、R1 、R2 、R3 、a、b、c係如同前述)。 　　[0012] 因此，本發明係提供下述的含氟丙烯酸化合物、其製造方法及硬化性組成物以及物品。 　　[1] 一種含氟丙烯酸化合物，其係下述一般式(1)或(2)所表示，
Figure 02_image009
(式中，Rf1 係獨立為藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Rf2 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z1 係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Z2 係獨立為碳數2~8的2價的烴基，Q1 係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Q2 係獨立為至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，a係1~10的整數，b係獨立為1~10的整數，c係分別獨立為0、1或2，被式(1)中的[ ]所括起來的a個的Z1 或式(2)中的Z1 及b個的Z2 係全部鍵結於分別的Q1 或Q2 構造中的矽原子，R係獨立為1~6的1價的烴基，X係分別獨立為CH2 =CR1 -COO-Z3 -SiR2 R3 -O-所表示的基，R1 係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2 及R3 係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3 係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)。 　　[2] 如[1]記載之含氟丙烯酸化合物，其中，一般式(1)、(2)中的Z2 為-CH2 CH2 -或-CH2 CH2 CH2 -。 　　[3] 如[1]或[2]記載之含氟丙烯酸化合物，其中，一般式(1)、(2)中的X為下述式所表示的基，
Figure 02_image011
(式中，R2 、R3 係與上述相同，R4 係氫原子或甲基)。 　　[4] 如[1]~[3]中任一項記載之含氟丙烯酸化合物，其係下述一般式(6)或(7)所表示，
Figure 02_image013
(式中，Rf1 、Rf2 、Z1 、Q1 、Q2 、a、b係如前述般，R4 係氫原子或甲基)。 　　[5] 如[1]~[4]中任一項記載之含氟丙烯酸化合物，其中，全氟聚醚基與(甲基)丙烯醯基為透過包含下述的構造的連結構造來鍵結，
Figure 02_image015
(式中，Z2 係如前述般) ，且與氟聚醚鏈連結的各反應性末端基[Z2 -SiRc X3-c ]b (Z2 、R、X、b、c係如前述般)係分別具有合計4個以上的(甲基)丙烯醯基。 　　[6] 一種下述一般式(1)或(2)所表示的含氟丙烯酸化合物之製造方法，其特徵為，使下述一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應，該一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物係使下述一般式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物、與下述一般式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應而得到，
Figure 02_image017
(式中，Rf1 係獨立為藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Rf2 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z1 係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Q1 係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Q2 係獨立為至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，a係1~10的整數，b係獨立為1~10的整數，被式(8)中的[ ]所括起來的a個的Z1 或式(9)中的Z1 及b個的H係全部鍵結於分別的Q1 或Q2 構造中的矽原子)
Figure 02_image019
(式中，R4 係氫原子或甲基，Z4 係碳數1~6的2價的烴基，d係0或1，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係獨立為烷氧基或烷氧基烷基，c係0、1或2)
Figure 02_image021
(式中，Rf1 、Rf2 、Z1 、Q1 、Q2 、R、M、a、b、c係如前述般，Z2 係獨立為碳數2~8的2價的烴基，被式(3)中的[ ]所括起來的a個的Z1 或式(4)中的Z1 及b個的Z2 係全部鍵結於分別的Q1 或Q2 構造中的矽原子)
Figure 02_image023
(式中，R1 係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2 及R3 係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3 係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)
Figure 02_image025
(式中，X係分別獨立為CH2 =CR1 -COO-Z3 -SiR2 R3 -O-所表示的基，Rf1 、Rf2 、Z1 、Z2 、Q1 、Q2 、R、a、b、c、R1 、R2 、R3 、Z3 係與上述相同)。 　　[7] 一種下述一般式(1)所表示的含氟丙烯酸化合物之製造方法，其特徵為，使下述一般式(3)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應而得到，該一般式(3)所表示的含氟反應性矽烷化合物係使下述一般式(11)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與下述一般式(13)所表示的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應而得到，
Figure 02_image027
(式中，Rf1 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Z5 係末端具有1個能與Si-H基進行加成反應的碳-碳不飽和鍵的碳數2~20的1價的烴基且可包含氧原子、氮原子及矽原子，途中可包含環狀構造)
Figure 02_image029
(式中，Q1 係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Z2 係獨立為碳數2~8的2價的烴基，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係獨立為烷氧基或烷氧基烷基，a係1~10的整數，b係1~10的整數，c係0、1或2，a個的H及b個的Z2 係全部鍵結於Q1 中的Si原子)
Figure 02_image031
(式中，Rf1 、Z2 、Q1 、R、M、a、b、c係與上述相同，Z1 係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，被[ ]所括起來的a個的Z1 及b個的Z2 係全部鍵結於Q1 構造中的矽原子)
Figure 02_image033
(式中，R1 係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2 及R3 係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3 係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)
Figure 02_image035
(式中，X係分別獨立為CH2 =CR1 -COO-Z3 -SiR2 R3 -O-所表示的基，Rf1 、Z1 、Z2 、Q1 、R、a、b、c、R1 、R2 、R3 、Z3 係與上述相同)。 　　[8] 一種下述一般式(2)所表示的含氟丙烯酸化合物之製造方法，其特徵為，使下述一般式(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應而得到，該一般式(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物係使下述一般式(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與下述一般式(14)所表示的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應而得到，
Figure 02_image037
(式中，Rf2 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z5 係獨立為末端具有1個能與Si-H基進行加成反應的碳-碳不飽和鍵的碳數2~20的1價的烴基且可包含氧原子、氮原子及矽原子，途中可包含環狀構造)
Figure 02_image039
(式中，Q2 係至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，Z2 係獨立為碳數2~8的2價的烴基，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係獨立為烷氧基或烷氧基烷基，b係1~10的整數，c係0、1或2，H及b個的Z2 係全部鍵結於Q2 中的Si原子)
Figure 02_image041
(式中，Rf2 、Z2 、Q2 、R、M、b、c係與上述相同，Z1 係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Z1 及b個的Z2 係全部鍵結於Q2 構造中的矽原子)
Figure 02_image043
(式中，R1 係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2 及R3 係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3 係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)
Figure 02_image045
(式中，X係分別獨立為CH2 =CR1 -COO-Z3 -SiR2 R3 -O-所表示的基，Rf2 、Z1 、Z2 、Q2 、R、b、c、R1 、R2 、R3 、Z3 係與上述相同)。 　　[9] 一種硬化性組成物，其係包含[1]~[5]中任一項記載之含氟丙烯酸化合物。 　　[10] 如[9]記載之硬化性組成物，其中，硬化物的折射率為1.4以下。 　　[11] 一種物品，其係在表面具有[9]或[10]記載之硬化性組成物的硬化物層。 　　[12] 如[11]記載之物品，其中，硬化物層具有水的接觸角為100°以上、油酸的接觸角為60°以上的撥水撥油性表面。 [發明的效果] 　　[0013] 本發明的含氟丙烯酸化合物係展現出穩定的溶解性、且不損及氟的特性並對於末端基為具有多數的(甲基)丙烯醯基，故適合作為用於對紫外線硬化型硬質塗佈劑、紫外線硬化塗料、紫外線硬化樹脂、紫外線硬化型抗反射塗佈用組成物等來賦予防污性的防污添加劑等。
[實施發明之最佳形態] 　　[0014] 本發明的含氟丙烯酸化合物係下述一般式(1)或(2)所表示者。
Figure 02_image047
[0015] 本發明的含氟丙烯酸化合物，全氟聚醚基與(甲基)丙烯醯基為透過包含下述的構造的連結構造來鍵結，
Figure 02_image049
(式中，Z2 係與式(1)、(2)的Z2 相同) ，且與氟聚醚鏈連結的各反應性末端基，即，上述式(1)、(2)中的[Z2 -SiRc X3-c ]b 係分別具有合計4個以上的(甲基)丙烯醯基，特別是以-Si-O-Si-[Z2 -SiRc X3-c ]b 中， [Z2 -SiRc X3-c ]b 係具有合計4個以上的(甲基)丙烯醯基者為又較佳。 　　[0016] 上述式(1)、(2)中，Rf1 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Rf2 係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Rf1 、Rf2 係特別是以具有下述的碳數1~3的全氟氧伸烷基構造來作為主要的重複單位者為適合。
Figure 02_image051
該等的構造係可為任意1種的均聚物、或由多種的構造所成的無規、嵌段聚合物。 　　[0017] 作為具有如此般構造的Rf1 的適合例子，可舉例如下述的構造。
Figure 02_image053
(式中，p係0~400，較佳為0~200的整數，q係0~170，較佳為0~100的整數，p+q係2~400，較佳為3~300的整數)
Figure 02_image055
(式中，r係1~120，較佳為1~80的整數)
Figure 02_image057
(式中，s係1~120，較佳為1~80的整數) 　　[0018] 又，作為Rf2 的適合例子，可舉例如下述的構造。
Figure 02_image059
(式中，p係0~400，較佳為0~200的整數，q係0~170，較佳為0~100的整數，p+q係2~400，較佳為3~300的整數) 　　[0019]
Figure 02_image061
(式中，t+u係2~120，較佳為4~100的整數) 　　[0020] 該等的Rf1 、Rf2 基的分子量係相當於構造部分的數平均分子量分別為400~20,000，較佳為包含在800~ 10,000的範圍內即可，對於該分子量分布並無特別限定。尚，本發明中，分子量係由依據1 H-NMR及19 F-NMR的末端構造與主鏈構造之比率所算出的數平均分子量。 　　[0021] 上述式(1)、(2)中，Rf1 及Rf2 的鍵結鍵係全部鍵結於Z1 。Z1 係碳數1~20，較佳為2~16的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造。作為Z1 的特佳構造，可舉出下述者。
Figure 02_image063
Figure 02_image065
[0022] 上述式(1)、(2)中，a及b係分別獨立為1~10的整數，較佳為1~8的整數，更佳為1~4的整數。 　　[0023] 上述式(1)中，Q1 係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造。作為如此般的Q1 的較佳者，可舉出分別具有(a+b)個的Si原子的矽氧烷構造、非取代或鹵素取代的矽伸烷基(silalkylene)構造、矽伸芳基(silarylene)構造或由該等的2種以上的組合所成的(a+b)價的連結基。作為特佳的構造，具體而言可表示如下述的構造。 　　[0024] 但，a及b係與上述式(1)的a、b為相同，分別獨立為1~10的整數，較佳為1~8的整數，更佳為1~4的整數。e係1~5的整數，較佳為3~5的整數。各單元的排列為無規，(a+b)個的各單元等的鍵結鍵係與被[ ]所括起來的a個的Z1 及b個的Z2 的任一的基鍵結。 　　[0025]
Figure 02_image067
[0026] 於此，T係(a+b)價的連結基，可示例如下述者。
Figure 02_image069
[0027] 上述式(2)中，Q2 係至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造。作為如此般的Q2 的較佳者，可舉出分別具有(b+1)個的Si原子的矽氧烷構造、非取代或鹵素取代的矽伸烷基構造、矽伸芳基構造或由該等的2種以上的組合所成的(b+1)價的連結基。作為特佳的構造，具體而言可表示如下述的構造。 　　[0028] 但，b係與上述式(2)的b為相同，獨立為1~10的整數，較佳為1~8的整數，更佳為1~4的整數。e’係1~5的整數，較佳為1~3的整數。各單元的排列為無規，且(b+1)個的各單元等的鍵結鍵係與Z1 及被[ ]所括起來的b個的Z2 的任一的基鍵結。 　　[0029]
Figure 02_image071
[0030] 於此，T’係(b+1)價的連結基，可示例如下述者。
Figure 02_image073
[0031] 上述式(1)、(2)中，R係獨立為1~6，較佳為1~4的1價的烴基。作為1價的烴基，具體而言可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、新戊基、己基等的烷基、環己基等的環烷基、乙烯基、烯丙基、丙烯基等的烯基、苯基等，以甲基為較佳。 　　上述式(1)、(2)中，c係獨立為0、1或2，較佳為0或1，又較佳為0。但，鍵結於1個矽原子的R與X的合計為3。 　　[0032] 上述式(1)、(2)中，Z2 係碳數2~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造。作為Z2 之較佳的構造，可舉出下述者。
Figure 02_image075
Figure 02_image077
該等中以
Figure 02_image079
為較佳。 　　[0033] 上述式(1)、(2)中，X係分別獨立為下述式所表示者。
Figure 02_image081
於此，R1 係獨立為氫原子或碳數1~8，較佳為1~6的1價的烴基，R2 及R3 係碳數1~8，較佳為1~6的1價的烴基。作為該等1價的烴基，具體而言可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、新戊基、己基、辛基等的烷基、環己基等的環烷基、乙烯基、烯丙基、丙烯基等的烯基、苯基、甲苯基、二甲苯基等的芳基、苄基、苯基乙基等的芳烷基等。作為R1 係以氫原子及甲基為適合，作為R2 及R3 係以甲基為特別適合。 　　又，Z3 係獨立為碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造。特佳者係下述的構造。
Figure 02_image083
Figure 02_image085
[0034] 作為X係以下述式所表示的基為較佳。
Figure 02_image087
(式中，R2 、R3 係與上述相同，R4 係氫原子或甲基) 　　[0035] 作為上述式(1)、(2)所表示的含氟丙烯酸化合物，係以下述一般式(6)、(7)所表示者為較佳。
Figure 02_image089
(式中，Rf1 、Rf2 、Q1 、Q2 、Z1 、a、b、R4 係如上述般) 　　[0036] 作為上述式(1)、(2)所表示的含氟丙烯酸化合物，更具體而言可示例如下述者。
Figure 02_image091
Figure 02_image093
(式中，Rf’係-CF2 O(CF2 O)p1 (CF2 CF2 O)q1 CF2 -，且滿足q1+p1=5~80的數，r1係分別為2~100，較佳為2~50的整數，n係分別獨立為2或3)。 　　[0037] 如此般的一般式(1)或(2)所表示的含氟丙烯酸化合物，其合成法並無特別限制，但例如使下述一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應而可得到。
Figure 02_image095
Figure 02_image097
。 　　[0038] 上述式(3)~(5)中，Rf1 、Rf2 、Z1 、Z2 、Z3 、Q1 、Q2 、R、M、R1 、R2 、R3 、a、b、c係如前述般。被式(3)中的[ ]所括起來的a個的Z1 或者式(4)中的Z1 及b個的Z2 係全部鍵結於分別的Q1 或Q2 構造中的矽原子。 　　[0039] M係烷氧基或烷氧基烷基。作為M，可舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基等的碳數1~6的烷氧基、甲氧基甲基、甲氧基乙基、乙氧基甲基、乙氧基乙基等的碳數2~4的烷氧基烷基，該等中特別是以甲氧基、乙氧基、甲氧基甲基為適合。 　　[0040] 於此，作為上述式(3)、(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物，可示例如下述所表示者。
Figure 02_image099
Figure 02_image101
Figure 02_image103
Figure 02_image105
Figure 02_image107
(式中，r1、Rf’係與上述相同)。 　　[0041] 又，作為上述式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物，可示例如下述者。
Figure 02_image109
Figure 02_image111
[0042] 式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物與式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物之反應，因應所需，可將該等與觸媒或溶劑一起來進行攪拌。反應係可在0~120℃，較佳為10~70℃的溫度下，以1分鐘~300小時，較佳為30分鐘~72小時來進行。若反應溫度過低時，將會有反應速度變得過慢之情形，若反應溫度過高時，將有引起作為副反應的丙烯醯基的聚合、或式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物彼此的脫水縮合之可能性。 　　[0043] 式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物與式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物之反應中，式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物的量，相對於在反應系中存在的式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物中所包含的M的總莫耳量為0.95~2倍莫耳，較佳為以使用1~1.5倍莫耳為佳。 　　[0044] 於該反應中，為了增加反應的速度亦可加入適當的觸媒。例如若M為烷氧基之情形時，作為觸媒可示例如二乙酸二丁基錫、二月桂酸二丁基錫、二辛酸二丁基錫、二乙酸二辛基錫、二月桂酸二辛基錫、二辛酸二辛基錫、二辛酸亞錫等的烷基錫酯化合物、四異丙氧基鈦、四n-丁氧基鈦、四-2-乙基己醇鈦(titanium tetra-2- ethylhexoxide)、二丙氧基雙(乙醯丙酮酸)鈦、鈦異丙氧基辛二醇等的鈦酸酯或鈦螯合物化合物、四乙醯丙酮酸鋯、三丁氧基單乙醯丙酮酸鋯、單丁氧基乙醯丙酮酸雙(乙基乙醯乙酸)鋯、二丁氧基雙(乙基乙醯乙酸)鋯、四乙醯丙酮酸鋯、鋯螯合物化合物、氫氧化鎂、氫氧化鈣、氫氧化鍶、氫氧化鋇等的鹼土類氫氧化物等。該等並未限定於其1種，可作為2種或者其以上的混合物來使用，但特別是以對環境的影響為低的鈦化合物、鋯化合物、鹼土類氫氧化物之使用為較佳。 　　藉由添加相對於反應物總質量而言為0.01~10質量%，較佳為0.01~5質量%的該等觸媒，而可增加反應速度。 　　[0045] 上述的反應，因應所需可利用適當的溶劑來稀釋並進行反應。作為如此般的溶劑，只要是不會與式(3)、(4)、(5)之化合物的各反應性基直接反應的溶劑即可，無特別限制而可使用，具體而言可舉出甲苯、二甲苯、異辛烷等的烴系溶劑、四氫呋喃、二異丙基醚、二丁基醚等的醚系溶劑、丙酮、甲基乙基酮、甲基丁基酮、甲基異丁基酮、環己酮等的酮系溶劑、六氟間二甲苯(m-xylenehexafluoride)、三氟甲苯(benzotrifluoride)等的氟改質芳香族烴系溶劑、甲基全氟丁基醚等的氟改質醚系溶劑等。該溶劑係可於反應後利用減壓餾除等的周知的方法來進行去除，亦可直接作為稀釋溶液來使用於目的之用途中。 　　若使用溶劑之情形時，其使用量相對於式(3)、(4)、(5)之化合物的合計100質量份，較佳為0.1~1,000質量份，又較佳為20~500質量份。較此值多時，反應系的濃度會過於降低，而有反應速度大幅降低之情形。 　　[0046] 又，於反應時，因應所需亦可添加聚合抑制劑。作為聚合抑制劑並無特別限制，可使用通常被作為丙烯酸化合物的聚合抑制劑所使用者。具體而言，可舉出氫醌、氫醌單甲基醚、4-tert-丁基兒茶酚、二丁基羥基甲苯等。 　　[0047] 反應結束後，因應所需，以藉由餾除、吸附、再沉澱、過濾洗淨等的方法來去除未反應的式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物及反應溶劑等，從而得到本發明的式(1)或(2)所表示的含氟丙烯酸化合物。 　　[0048] 上述的一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物，其合成法並無特別限制，但作為本發明的實施形態之一，首先，藉由使下述一般式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物、與下述一般式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應(hydrosilylation reaction)而可得到。
Figure 02_image113
(式中，Q1 、Q2 、Rf1 、Rf2 、Z1 、a、b係如前述般，被式(8)中的[ ]所括起來的a個的Z1 或者式(9)中的Z1 及b個的氫原子(H)係全部鍵結於分別的Q1 或Q2 構造中的矽原子)
Figure 02_image115
(式中，R4 、R、M、c係如前述般，Z4 係碳數1~6的2價的烴基，d係0或1)。 　　[0049] 於此，作為上述式(8)、(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物，可示例如下述所表示者。
Figure 02_image117
Figure 02_image119
Figure 02_image121
Figure 02_image123
Figure 02_image125
Figure 02_image127
Figure 02_image129
Figure 02_image131
Figure 02_image133
(式中，Rf’、r1係與上述相同) 　　[0050] 又，作為上述式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物，可示例如下述者。
Figure 02_image135
Figure 02_image137
Figure 02_image139
[0051] 其中，特別以下述者為適合。
Figure 02_image141
[0052] 上述式(8)、(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物、與式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物，係以將該等進行混合攪拌，並在鉑族金屬系的加成反應觸媒存在下，以反應溫度50~150℃下，較佳為60~120℃下，進行1分鐘~72小時、特別是5分鐘~12小時反應為宜。若反應溫度過低時，將會有在反應無法充分進行的狀態下便停止反應之情形，若過高時，則會有因氫化矽烷化的反應熱導致溫度上昇而無法控制反應，而引起突沸或原料的分解等之情形。 　　[0053] 此時，式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物、與式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物的饋入比率，相對於被式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物的[ ]所括起來的H的總莫耳數，以使用式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物的不飽和基為0.8~5倍莫耳，特別是使用0.1~2倍莫耳來使其反應為宜。若式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物較上述值為過少時，(8)、(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物中會殘留多數的Si-H基，而可能難以得到作為目的之效果。若較上述值為過多時，反應溶液的均勻性會降低而使反應速度變得不穩定，又，於反應後若進行式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物的去除之情形時，有必要因應於剩餘的未反應成分所增加的量而更嚴格進行加熱、減壓、萃取等之條件。 　　[0054] 加成反應觸媒係可使用例如包含鉑、銠或鈀等的鉑族金屬之化合物。其中，以包含鉑之化合物為較佳，可使用六氯鉑(IV)酸六水合物、鉑羰基乙烯基甲基錯合物、鉑-二乙烯基四甲基二矽氧烷錯合物、鉑-環乙烯基甲基矽氧烷錯合物、鉑-辛醛/辛醇錯合物、氯化鉑酸與烯烴、醛、乙烯基矽氧烷或乙炔醇類等的錯合物、或者活性碳所載持的鉑。 　　加成反應觸媒的調配量，相對於式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物，以所包含的金屬量成為0.1~5,000質量ppm為較佳，又較佳為1~1,000質量ppm。 　　[0055] 上述的加成反應，即使是溶劑不存在之情況下亦可實施，因應所需可利用溶劑來進行稀釋。此時，稀釋溶劑係可利用甲苯、二甲苯、異辛烷等一般被廣泛使用的有機溶劑。作為如此般的有機溶劑，較佳為：沸點為作為目的之反應溫度以上且不會阻礙反應，反應後所生成的式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物在上述反應溫度中為可溶者。例如六氟間二甲苯、三氟甲苯等的氟改質芳香族烴系溶劑、甲基全氟丁基醚等的氟改質醚系溶劑等的被部分氟改質的溶劑為宜，特別是以六氟間二甲苯為較佳。
若使用溶劑之情形時，相對於式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物100質量份，溶劑的使用量較佳為5~2,000質量份，又較佳為50~500質量份。若較上述值少時，藉由溶劑之稀釋效果為弱；若較上述值多時，則稀釋度變得過高而有導致反應速度降低之情形。
於反應結束後，將未反應的式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物或稀釋溶劑，利用減壓餾除、萃取、吸附等的周知的方法來去除為較佳，但亦可將包含該等的反應混合物直接使用於接下來的反應中。
又，作為本發明中的式(3)、(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物的其他合成路徑，作為本發明的實施形態的其他形式而言，可藉由使下述一般式(11)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與下述一般式(13)所表示的具有至少1個Si-H基與至少1個水解性矽烷基的反應性矽烷化合物、或下述一般式(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與下述一般式(14)所表示的具有至少1個Si-H基與至少個水解性矽烷基的反應性矽烷化合物進行反應而得到。
Rf1-Z5 (11)
Z5-Rf2-Z5 (12)
[H]a-Q1-[Z2-SiRcM3-c]b (13)
H-Q2-[Z2-SiRcM3-c]b (14)(式中，Rf1、Rf2、Q1、Q2、Z2、R、M、a、b、c係如前述般，Z5係獨立為末端具有1個能與Si-H基進行加成反應的碳-碳不飽和鍵的碳數2~20的1價的烴基且可包含氧原子、氮原子及矽原子，途中可包含環狀構造，被式(13)中的[ ]所括起來的a個的H或式(14)中的H及b個的Z2係全部鍵結於分別的Q1或Q2構造中的矽原子)。
於此，作為一般式(11)、(12)中的Z5，具體而言可舉出下述的構造。
-CH=CH2
-CH2CH=CH2
-CH2CH2CH=CH2
-CH2OCH2CH=CH2
Figure 106134657-A0305-02-0037-1
於此，作為上述式(11)、(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物，可示例如下述所表示者。
Figure 106134657-A0305-02-0038-3
 (但，r1、Rf’係如前述般)。
又，作為上述式(13)、(14)所表示的具有至少1個Si-H基與至少1個水解性矽烷基的反應性矽烷化合物，可示例如下述所表示者。
Figure 02_image151
Figure 02_image153
Figure 02_image155
Figure 02_image157
[0061] 式(11)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物與式(13)所表示的反應性矽烷化合物、或式(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物與式(14)所表示的反應性矽烷化合物之反應，係以將該等進行混合，並在鉑族金屬系的加成反應觸媒存在下，以反應溫度50~150℃下，較佳為60~120℃下，進行1分鐘~48小時、特別是10分鐘~12小時反應為宜。若反應溫度過低時，將會有在反應無法充分進行的狀態下便停止反應之情形，若過高時，則會有因氫化矽烷化的反應熱導致溫度上昇而無法控制反應，而引起突沸或原料的分解等之情形。反應亦可將全部的原料於事前予以混合，或是亦可於之後再投入或滴下任何的原料。 　　[0062] 此時，式(11)或(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與式(13)或(14)所表示的反應性矽烷化合物之反應比例，相對於式(11)或(12)之末端不飽和基的總莫耳數，被式(13)的[ ]所括起來的H的總量或式(14)的H為0.9~2倍莫耳，特別適宜是以成為1~1.05倍莫耳之方式來使用並使其反應為合適。被式(13)的[ ]括起來H或式(14)的H係以全部進行反應為宜。 　　[0063] 加成反應觸媒係可使用例如包含鉑、銠或鈀等的鉑族金屬之化合物。其中，以包含鉑之化合物為較佳，可使用六氯鉑(IV)酸六水合物、鉑羰基乙烯基甲基錯合物、鉑-二乙烯基四甲基二矽氧烷錯合物、鉑-環乙烯基甲基矽氧烷錯合物、鉑-辛醛/辛醇錯合物、或者活性碳所載持的鉑。 　　加成反應觸媒的調配量，相對於式(11)或(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物，以所包含的金屬量成為0.1~5,000質量ppm為較佳，又較佳為1~1,000質量ppm。 　　[0064] 上述的加成反應，即使是溶劑不存在之情況下亦可實施，因應所需可利用溶劑來進行稀釋。此時，稀釋溶劑係可利用甲苯、二甲苯、異辛烷等一般被廣泛使用的有機溶劑，但以沸點為作為目的之反應溫度以上且不會阻礙反應，反應後所生成的式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物在上述反應溫度中為可溶者為較佳。作為如此般的溶劑，以例如六氟間二甲苯、三氟甲苯等的氟改質芳香族烴系溶劑、甲基全氟丁基醚等的氟改質醚系溶劑等的被部分氟改質的溶劑為宜，特別是以六氟間二甲苯為較佳。 　　若使用溶劑之情形時，相對於式(11)或(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物100質量份，溶劑的使用量較佳為5~2,000質量份，又較佳為50~500質量份。若較上述值少時，藉由溶劑之稀釋效果為弱；若較上述值多時，則稀釋度變得過高而有導致反應速度降低之情形。 　　[0065] 於反應結束後，將未反應的式(13)、(14)所表示的反應性矽烷化合物，利用減壓餾除、萃取、吸附等的周知的方法來去除為較佳，但亦可將包含該等的反應混合物直接使用於接下來的反應中。 　　[0066] 使用如上述般操作所得的式(3)、(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物，利用前述的方法，藉由使該等與式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應，從而可得到本發明的式(1)、(2)所表示的含氟丙烯酸化合物。 　　[0067] 本發明的其他實施形態為一種硬化性組成物，其包含如上述般操作所得的式(1)、(2)所表示的含氟丙烯酸化合物，作為該硬化性組成物，特別以藉由活性能量線來進行硬化者為適合。式(1)、(2)所表示的含氟丙烯酸化合物[以下統稱該等為含氟丙烯酸化合物(A)]係亦可單獨來使其硬化，但例如藉由與其他的活性能量線硬化性成分(B)進行調配，而可在維持硬度等的作為(B)成分的硬化物的特性的狀態下，於表面上賦予藉由(A)成分所致的優異的防污性。 　　[0068] 尚，作為(A)成分可以是式(1)所表示的含氟丙烯酸化合物的1種或2種以上，或是式(2)所表示的含氟丙烯酸化合物的1種或2種以上，亦可以是該等式(1)所表示的含氟丙烯酸化合物、與式(2)所表示的含氟丙烯酸化合物的混合物。 　　[0069] 可被適當使用於本發明中的(A)成分以外的(B)成分的活性能量線硬化性成分，只要是可與(A)成分混合、硬化即可，可使用任意者，但特別是以丙烯酸酯類為較佳，例如，可舉例包含：1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、參(甲基)丙烯醯氧基乙基磷酸酯、鄰苯二甲酸氫-(2,2,2-三-(甲基)丙烯醯氧基甲基)乙酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、貳三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇六(甲基)丙烯酸酯等的2~6官能的(甲基)丙烯酸化合物；將該等的(甲基)丙烯酸化合物對環氧乙烷、環氧丙烷、環氧氯丙烷、脂肪酸、烷基改質品、環氧樹脂加成丙烯酸而得到的丙烯酸環氧酯類；及對丙烯酸酯共聚物之側鏈導入(甲基)丙烯醯基而得的共聚物等者。 　　[0070] 又，亦可使用：胺基甲酸酯丙烯酸酯類；使具有羥基的(甲基)丙烯酸酯與聚異氰酸酯反應而得到者；使具有羥基的(甲基)丙烯酸酯與聚異氰酸酯與末端二醇的聚酯反應而得到者；使過剩的二異氰酸酯與多元醇反應而得到聚異氰酸酯，再與具有羥基的(甲基)丙烯酸酯反應而得到者。其中，尤以使由(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基-3-丙烯醯氧基丙酯、及季戊四醇三丙烯酸酯中選出的具有羥基的(甲基)丙烯酸酯；與由六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、降莰烷二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸基甲基)環己烷、亞甲基雙(4-環己基異氰酸酯)、2-甲基-1,3-二異氰酸基環己烷、2-甲基-1,5-二異氰酸基環己烷及二苯基甲烷二異氰酸酯中選出的聚異氰酸酯進行反應而得的胺基甲酸酯丙烯酸酯類為佳。 　　[0071] (B)成分係可使用單獨1種亦可併用2種以上。又，為了組成物的物性的調整，亦可調配1官能的丙烯酸酯類。又，可包含下述化合物來作為(B)成分，該化合物為：於式(1)、(2)所表示的含氟丙烯酸化合物的合成時所殘留的式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物、或下述式(15)所表示的構造的化合物，該式(15)所表示的構造的化合物係以藉由式(5)的該含丙烯醯基的矽烷醇化合物2分子的脫水反應而得的副產物。
Figure 02_image159
(式中，R1 、R2 、R3 、Z3 係如上述般)。 　　[0072] 又，本發明的硬化性組成物，藉由含有光聚合起始劑來作為(C)成分，可製成藉由紫外線來進行硬化的硬化性組成物。(C)成分的光聚合起始劑，只要是可藉由紫外線照射來使丙烯酸化合物硬化者即可並無特別限定，但較佳可舉例如苯乙酮、二苯甲酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(o-苯甲醯肟)]、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯肟)、2-羥基-1-｛4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基｝-2-甲基-丙烷-1-酮等，該等係可使用單獨1種亦可併用2種以上。 　　[0073] 本發明的實施形態之一的硬化性組成物，其係包含(A)成分，且對硬化後的表面賦予撥水撥油性為其本質，故各成分的調配量係因應所期望的撥水性、撥油性、組成物的溶解性、塗覆條件、硬化條件、所得的物品的硬度等來進行適當決定即可，可使用： 　　單獨(A)成分、 　　(A)成分與(C)成分、 　　(A)成分與(B)成分、 　　(A)成分與(B)成分與(C)成分、 及該等分別與因應所需添加的後述的其他添加劑的任何組合，但其中適合的是包含(A)成分與(B)成分與(C)成分的組成物。此時，相對於(A)成分，(B)成分、(C)成分的調配比率並無特別限制，例如，相對於(A)成分1質量份，(B)成分的調配量較佳為0.1~10,000質量份，又較佳為1~1,000質量份，特佳為5~200質量份。進而，將(A)成分、(B)成分的合計量設為100質量份時，(C)成分的調配量較佳為0.1~10質量份，特佳為0.5~5質量份。 　　[0074] 尚，將(C)成分調配於上述(B)成分而成的丙烯酸組成物及硬質塗佈劑，已有各式各樣種類被各公司所市售著。本發明的硬化性組成物，可將(A)成分添加至如此般的市售品中而得者。作為市售品的硬質塗佈劑，可舉例如荒川化學工業(股)「Beam set」、大橋化學工業(股)「Ubic」、Origin電氣(股)「UV Coat」、Cashew(股)「Cashew UV」、JSR(股)「DeSolite」、大日精化工業(股)「Seikabeam」、日本合成化學(股)「紫光」、藤倉化成(股)「Fujihard」、三菱Rayon(股)「Diabeam」、武蔵塗料(股)「ULTRA VIN」、DIC(股)「UNIDIC」等。又，即使是使用該等的市售組成物之情形，因應所需亦可追加(B)成分、(C)成分。 　　[0075] [其他添加劑] 　　本發明的硬化性組成物中，可因應目的進而調配有機溶劑、聚合抑制劑、防靜電劑、消泡劑、黏度調整劑、耐光穩定劑、耐熱穩定劑、抗氧化劑、界面活性劑、著色劑、及填充料等。又，即使是如上述般使用市售品的硬質塗佈劑之情形，可因應目的來調配有機溶劑、聚合抑制劑、防靜電劑、消泡劑、黏度調整劑、耐光穩定劑、耐熱穩定劑、抗氧化劑、界面活性劑、著色劑、及填充料等。 　　[0076] 作為有機溶劑，可舉出1-丙醇、2-丙醇、異丙醇、n-丁醇、異丁醇、tert-丁醇、二丙酮醇等的醇類；甲基丙基酮、二乙基酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮等的酮類；二丙基醚、二丁基醚、苯甲醚、二噁烷、乙二醇單乙基醚、乙二醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚(PGME)、丙二醇單甲基醚乙酸酯等的醚類；乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸環己酯等的酯類等。上述有機溶劑係可使用單獨1種、亦可混合2種以上來使用。 　　有機溶劑的使用量並無特別限制，但相對於(A)~(C)成分的合計100質量份，以50~10,000質量份為較佳，特別以100~1,000質量份為較佳。 　　[0077] 又，作為聚合抑制劑、防靜電劑、消泡劑、黏度調整劑、耐光穩定劑、耐熱穩定劑、抗氧化劑、界面活性劑、著色劑、及填充料，並無特別限制，在不損及本發明的目的之範圍內可使用周知者。 　　[0078] 本發明的硬化性組成物的硬化方法並無特別限定，可將單獨(A)成分的組成物利用適當溶劑來進行稀釋、並塗佈者藉由電子線等的活性能量線來使其硬化，但若進而含有(C)成分的光聚合起始劑之情形時，可藉由紫外線來使其硬化。藉由紫外線來硬化之情形時，亦可在空氣中進行紫外線照射，但為了防止因為氧導致的硬化阻礙，故以將氧濃度抑制在5,000ppm以下為較佳，以在氮、二氧化碳、氬等的惰性氣體環境下來使其硬化為特佳。 　　又，若作為薄膜等的基材的塗佈、各種物品的塗料等來使用之情形時，因應作為目的之任意特性可自由地調配(B)成分或其他添加劑。 　　[0079] 又，作為本發明的硬化性組成物的一般的使用形態，係可塗佈至各種的樹脂薄膜基材上。作為如般的樹脂薄膜，可舉出聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚丙烯、塞洛凡、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙酸丙酸纖維素、環烯烴聚合物、環烯烴共聚合物、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙酸乙烯酯共聚合物、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基戊烯、聚碸、聚醚醚酮、聚醚碸、聚醚醯亞胺、聚醯亞胺、氟樹脂、尼龍、丙烯酸樹脂等的樹脂薄膜。又，可採取在與該薄膜基材的塗佈・形成硬化性組成物層為相反的面上塗佈黏著劑的構造，進而亦可配置用於保護黏著劑的脫模薄膜。 　　[0080] 又，前述薄膜基材可以是僅由上述所舉出的樹脂薄膜所成的基材，但為了提升與本發明的硬化性組成物的密接性，亦可以是在前述樹脂薄膜設置底漆塗層的薄膜基材。作為前述底漆塗層，可舉例如由聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂等所成者。又，就提升與本發明的硬化性組成物的密接性之目的，亦可將樹脂薄膜表面藉由噴砂處理法、經溶劑處理法等的表面的凹凸化處理、電暈放電處理、鉻酸處理、火焰處理、熱風處理、臭氧・紫外線照射處理、氧化處理等來施加處理。 　　[0081] 作為將本發明的硬化性組成物塗佈至上述基材或物品的方法，並無特別限制，可使用例如輥塗佈、凹版塗佈、流動塗佈、簾流式塗佈、浸漬塗佈、噴霧塗佈、旋轉塗佈、桿塗佈、網板印刷等的周知的塗覆方法。塗覆後，對塗膜照射活性能量線來使此者硬化，於此，作為活性能量線，可使用電子線、紫外線等任意者，但特別以紫外線為較佳。作為紫外線源，以水銀燈、金屬鹵素燈、LED燈為適合。作為紫外線照射量，若過少時則未硬化成分將殘留，若過多時則有塗膜及基材劣化的可能性，故設為10~10,000mJ/cm2 ，特別以在100~4,000mJ/cm2 的範圍為宜。又，為了防止因為氧導致的硬化阻礙，故於紫外線照射時，用氮、二氧化碳、氬等的不含氧分子的惰性氣體來取代照射環境、或用附有脫模性的具有紫外線透過性的保護層來覆蓋塗膜表面並從其上方照射紫外線，若基材為具有紫外線透過性之情形時，可用附有脫模性的保護層來覆蓋塗膜表面，並從與基材的塗覆面為相反側的面來照射紫外線。又，為了有效地進行塗膜的調平或塗膜中的丙烯醯基的聚合，於紫外線照射前及照射中亦可採用紅外線或熱風乾燥爐等任意的方法來加熱塗膜及基材。 　　[0082] 又，如此般操作所得的本發明的硬化性組成物的硬化物層，以2μL的離子交換水的液滴自液體接觸起1秒鐘後，測定液面與固體面所夾角度的靜態水接觸角為100°以上，特別是105°以上，靜態油酸接觸角為60°以上，特別是65°以上，而成為撥水撥油性表面。尚，為了成為上述接觸角，本發明的含氟丙烯酸化合物的量較佳為：相對於硬化物層的全部表面積，以成為可形成平均厚度為10nm以上的層的量。又，以在表面上未殘留未反應的丙烯醯基為較佳，因此，以在氮、二氧化碳等的惰性氣體環境下來使其硬化的硬化物層為宜。 　　[0083] 如此般操作所得的本發明的硬化性組成物的硬化物，可得到藉由亞貝式折射計所測定的折射率(nD20℃)為1.4以下者。因為折射率成為1.4以下，故可形成比玻璃為低折射率的層，可期待在玻璃上所形成的作為抗反射膜的效果。尚，作為僅由本發明的含氟丙烯酸化合物與光聚合起始劑所成的組成物的硬化物亦能夠得到1.4以下者，但由於被膜強度、耐擦傷性、透明性等的各種特性提升、折射率的調整等的特性提升之緣故，亦可調配反應性・非反應性中空矽石微粒子等的各種低折射率無機微粒子、及各種丙烯酸化合物。 　　[0084] 如上述般，藉由包含本發明的含氟丙烯酸化合物的硬化性組成物，經由紫外線等的活性能量線能夠對物品的表面來使其硬化，故成為可形成撥水撥油性、防污性、光滑性、耐摩耗性為優異的硬化樹脂層的硬化性組成物。 　　[0085] 進而，本發明中係提供一種物品，其係將上述本發明的硬化性組成物塗佈至表面並使其硬化而得者。如上述般，若使用本發明的硬化性組成物時，將能夠於基材(物品)的表面形成具有優異表面特性的硬化被膜(硬化樹脂層)。特別是對於丙烯酸硬質塗佈的表面來賦予撥水性、撥油性、防污性為有用的。藉此，指紋、皮脂、汗等的人體脂肪、化妝品等導致的髒污、機械油等將變得難以附著、且可對基材賦予擦拭性亦為優異的硬質塗佈表面。因此，本發明的硬化性組成物可對於因人觸摸而有被人體脂肪、化妝品等所污染可能性的基材(物品)，又，因作業人員的人體脂肪或機械油等而有被污染可能性的機械內部所使用的工程材料薄膜等的表面，提供防污塗裝膜或保護膜。 　　[0086] 使用本發明的硬化性組成物所形成的硬化被膜(硬化樹脂層)，係適合作為平板型電腦、筆記型PC、行動電話・智慧型手機等的行動(通訊)終端、數位媒體播放器、電子書閱讀器等利用人的手來攜帶的各種機器的殼體、手錶型・眼鏡型可穿戴式電腦；液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL(電致發光)顯示器、背面投射型顯示器、螢光顯示管(VFD)、場發射投影顯示器、CRT、調色劑系顯示器等的各種平板顯示器及TV的畫面等的顯示操作機器表面及該等的內部中所使用的各種光學薄膜類、汽車的外裝、鋼琴或家具的光澤表面、大理石等的建築用石材表面、廁所、浴室、洗手台等的水設施的裝飾建材、美術品展示用保護玻璃、櫥窗、展示櫃、相框用蓋片、手錶、汽車窗用玻璃、列車、飛機等的窗玻璃、汽車頭燈、尾燈等的透明的玻璃製或透明的塑膠製(丙烯酸、聚碳酸酯等)構件、各種鏡構件等的塗裝膜及表面保護膜。 　　[0087] 特別是適合作為觸控顯示器等具有利用人的手指或手掌來進行畫面上操作的顯示輸入裝置的各種機器，例如，平板型電腦、筆記型PC、行動電話、行動(通訊)終端、數位媒體播放器、電子書閱讀器、數位相框、遊戲機、數位相機、數位攝影相機、汽車用等的導航裝置、自動現金提領存入裝置、現金自動櫃員機、自動販賣機、數位標牌(電子看板)、安全性系統終端、POS端末、遙控器等各種控制器、車載裝置用面板開關等的顯示輸入裝置等的表面保護膜。 　　[0088] 進而藉由本發明的硬化性組成物所形成的硬化被膜，亦適合作為光磁氣磁碟、光磁碟等的光記錄媒體；眼鏡鏡片、稜鏡、透鏡、防護膜、偏光板、光學濾波器、雙凸透鏡、菲涅耳透鏡、抗反射膜、光纖或光耦合器等的光學零件・光元件的表面保護被膜。 　　[0089] 如上述般的本發明的含氟丙烯酸化合物及包含此者的硬化性組成物，其本質係藉由將本發明的含氟丙烯酸化合物的全氟聚醚構造配置在作為目的之物品的表面上，來賦予撥水性、撥油性、光滑性、防污性、指紋擦拭性、耐布摩耗性、耐鋼絲絨性、低折射率特性、耐溶劑性、耐藥品性等的優異的性質。 　　[0090] 使用如此般的本發明的含氟丙烯酸化合物及包含此者的硬化性組成物時，因應調配物的組合、組成比例、重視如何的特性，只要將對應於分別用途的周知技術作為基礎來選定適當的使用方法即可。 　　[0091] 例如，調配調製本發明的硬化性組成物時，除了本發明的含氟丙烯酸化合物之外，於組合前述的本硬化性組成物中的各種調配物時，若重視低折射率特性或利用此者的低反射特性之情形時，使用反應性的中空矽石或不具有反應性基的中空矽石或多官能丙烯酸化合物，又，若使被膜強度或耐擦傷性提升之情形時，將多官能丙烯酸化合物調配成適合的量，或為了取得硬度與屈曲性的平衡，而進行6官能以上的多官能丙烯酸化合物與3官能以下的丙烯酸化合物之組合等，可從周知的丙烯酸硬化性組成物的調配的見解來容易地類推。 　　[0092] 又，藉由塗佈本發明的硬化性組成物來得到物品之情形時，例如，於進行對薄膜基材的塗覆時，為了防止干擾條紋而進行調整成為適當的塗覆膜厚，調整薄膜基材的厚度而變得易於抑制捲曲、或藉由調整基材薄膜的彈性率，從而抑制硬化性組成物的塗膜硬化後的變形或塗膜的破裂等，依因應分別的特性之既存條件的組合為基礎，進行篩選作業來進行選定而能夠容易地達成。 [實施例] 　　[0093] 以下，表示合成例、實施例及比較例來具體的說明本發明，但本發明並不被限制於下述的實施例中。 　　[0094] [合成例1] 　　在具備有迴流裝置與攪拌裝置的200mL四頸燒瓶中，饋入下述式
Figure 02_image161
所表示的化合物(I)50g(Si-H基0.034mol)、CH2 = CHSi(OCH3 )3 5.2g[0.035mol]、六氟間二甲苯50.0g，在氮環境下加熱攪拌至90℃為止。於此中，投入鉑/1,3-二乙烯基-四甲基二矽氧烷錯合物的甲苯溶液0.442g(作為Pt單質含有1.1×10-6 mol)，將內溫維持在90℃以上的狀態繼續攪拌4小時，並利用1 H-NMR及IR來確認源自Si-H基的波峰消失。接下來，藉由利用蒸發器以100℃/267Pa之條件下進行2小時減壓餾除，去除六氟間二甲苯與未反應的CH2 = CHSi(OCH3 )3 ，從而得到半透明白色高黏稠液體之下述式所表示的化合物(II)53.1g。
Figure 02_image163
[0095] 將化合物(II)的1 H-NMR化學位移表示於表1。
Figure 02_image165
(Ph係伸苯基) 　　[0096] [合成例2] 　　於乾燥空氣環境下，在具備有迴流裝置與攪拌裝置的200mL四頸燒瓶中，混合下述式
Figure 02_image167
所表示的化合物(III)50.0g(Si-H基0.067mol)、CH2 = CHSi(OCH3 )3 10.3g(0.070mol)、六氟間二甲苯50.0g、氯化鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物的甲苯溶液0.0884g(作為Pt單質含有2.2×10-7 mol)，並以100℃下攪拌4小時。利用1 H-NMR及IR確認Si-H基消失後，將反應溶液冷卻至室溫。接下來，藉由利用蒸發器以100℃/267Pa之條件下進行2小時減壓餾除，去除六氟間二甲苯與未反應的CH2 =CHSi(OCH3 )3 ，從而得到半透明白色高黏稠液體之下述式所表示的化合物(IV)59.2g。
Figure 02_image169
[0097] 將化合物(IV)的1 H-NMR化學位移表示於表2。
Figure 02_image171
[0098] [實施例1] 　　在具備有迴流裝置與攪拌裝置之100mL三頸燒瓶中，饋入合成例1所得的化合物(II)20g(-Si(OCH3 )3 0.012mol)、下述式CH2 =CHCOOCH2 Si(CH3 )2 OH所表示的化合物(V)2.5g(0.014mol)、甲基乙基酮40g，並在氮環境下以40℃進行攪拌。於此中，加入四-2-乙基己醇鈦的10質量%甲基乙基酮溶液0.2g，並繼續攪拌，於12小時後利用1 H-NMR確認相當於化合物(II)的-Si-OCH3 的甲基之3.5ppm的波峰消失。將冷卻後的反應液恢復至室溫(25℃以下相同)，投入至500mL的己烷中，於攪拌1小時後靜置24小時並將所得的沉澱物利用丙酮50g來溶解，利用蒸發器以50℃/267Pa之條件下餾除1小時，從而得到下述式(VI)所表示的白色軟膏狀物質(A-1)19.2g。
Figure 02_image173
[0099] 將化合物(A-1)的1 H-NMR化學位移表示於表3。
Figure 02_image175
(Ph係伸苯基) 　　[0100] [實施例2] 　　在具備有迴流裝置與攪拌裝置的100mL三頸燒瓶中，饋入合成例2所得的化合物(IV)20g(-Si(OCH3 )3 0.022 mol)、上述化合物(V)3.8g(0.022mol)、甲基乙基酮40g，並在氮環境下以40℃進行攪拌。於此中，加入四-2-乙基己醇鈦的10質量%甲基乙基酮溶液0.1g，並繼續攪拌，於12小時後利用1 H-NMR確認相當於化合物(IV)的-Si-OCH3 的甲基之3.5ppm的波峰消失。藉由將冷卻後的反應液恢復至室溫，投入至500mL的己烷中，並使所得的沉澱物乾燥，從而得到下述式(VII)所表示的白色軟膏狀物質(A-2)20.1g。
Figure 02_image177
[0101] 將化合物(A-2)的1 H-NMR化學位移表示於表4。
Figure 02_image179
[0102] [實施例3~14及比較例1~5] [硬化性組成物之製作] 　　使用實施例1、2之化合物(A-1)、(A-2)與下述的丙烯酸酯化合物及聚合起始劑來調製表5及表6之活性能量線硬化性組成物。 丙烯酸酯化合物： 　　(B-1)Daicel-allnex(股)製 4官能丙烯酸酯 EBECRYL 40 　　(B-2)季戊四醇三丙烯酸酯 　　(B-3)二季戊四醇六丙烯酸酯 　　(B-4)新中村化學工業(股)製 6官能胺基甲酸酯丙烯酸酯 U-6LPA 聚合起始劑： 　　(C-1)1-羥基環己基苯基酮 [BASF Japan(股)製 IRGACURE 184] 　　(C-2)2-羥基-1-｛4-[4-(2-羥基-2-甲基丙醯基)苄基]苯基｝-2-甲基丙烷-1-酮 [BASF Japan(股)製 IRGACURE 127] 　　[0103]
Figure 02_image181
[0104]
Figure 02_image183
[0105] 塗覆與硬化物之製作 　　將表5、表6的各組成物(E1~E12、F1~F5)利用旋轉塗佈塗覆至聚碳酸酯基板上。塗覆後以80℃下調平1分鐘後，使用輸送機式金屬鹵素UV照射裝置(Panasonic電工(股)製)，在氮環境中對塗覆面照射累積照射量400mJ/cm2 的紫外線來使組成物硬化，從而得到實施例3~14、比較例1~5的硬化膜。 　　[0106] [水接觸角測定] 　　使用接觸角計(協和界面科學(股)製 DropMaster)，測定將2μL的液滴滴下至硬化膜上1秒鐘後的接觸角。將N=5的平均值作為測定值。將結果表示於表7、8。 　　[0107] [油酸接觸角測定] 　　使用接觸角計(協和界面科學(股)製 DropMaster)，測定將5μL的液滴滴下至硬化膜上1秒鐘後的接觸角。將N=5的平均值作為測定值。將結果表示於表7、8。 　　[0108] [耐油性墨水性之評估] 　　利用油性墨水筆(寺西化學工業(股)製Magic INK大型)描繪直線在硬化膜表面上，將油墨為收縮(cissing)設為〇，未收縮者設為×。將結果表示於表7、8。 　　[0109] [動摩擦係數之測定] 　　實施例3~8、比較例1~4中，使用表面性試驗機14FW(新東科學(股)製)，依下述條件測定對於BEMCOTM-3II(旭化成(股)製))的硬化膜的動摩擦係數。將結果表示於表7。 　　接觸面積：10mm×35mm 　　荷重：100g 　　[0110]
Figure 02_image185
[0111]
Figure 02_image187
[0112] [實施例15] 　　利用狹縫塗敷器將組成物E-12，以溶劑揮發前的厚度成為250μm之方式塗覆至鋁基材上，將此在空氣中以100℃下2分鐘，接下來在氮流通以25℃下使其乾燥1小時之後，使用輸送機式金屬鹵素UV照射裝置(Panasonic電工(股)製)，在氮環境中照射累積照射量400mJ/cm2 的紫外線使組成物硬化，從而得到淡黃色透明的厚度48μm的硬化膜。硬化膜表面的水的接觸角為111°、油酸接觸角為70°。將所得的硬化膜從基材上剝離，使用亞貝折射率計DR-A1((股)Atago製)的薄膜測定單元來測定折射率時為nD20℃=1.38。

Claims (12)

  1. 一種含氟丙烯酸化合物，其係下述一般式(1)或(2)所表示，[Rf1-Z1]a-Q1-[Z2-SiRcX3-c]b (1) [X3-cRcSi-Z2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[Z2-SiRcX3-c]b (2)(式中，Rf1係獨立為藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Rf2係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z1係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Z2係獨立為碳數2~8的2價的烴基，Q1係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Q2係獨立為至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，a係1~10的整數，b係獨立為1~10的整數，c係分別獨立為0、1或2，被式(1)中的[ ]所括起來的a個的Z1或式(2)中的Z1及b個的Z2係全部鍵結於分別的Q1或Q2構造中的矽原子，R係獨立為1~6的1價的烴基，X係分別獨立為CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-O-所表示的基，R1係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2及R3係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)。
  2. 如請求項1記載之含氟丙烯酸化合物，其中，一般式 (1)、(2)中的Z2為-CH2CH2-或-CH2CH2CH2-。
  3. 如請求項1或2記載之含氟丙烯酸化合物，其中，一般式(1)、(2)中的X為下述式所表示的基，CH2=CR4-COO-CH2-SiR2R3-O-(式中，R2、R3係與上述相同，R4係氫原子或甲基)。
  4. 如請求項1或2記載之含氟丙烯酸化合物，其係下述一般式(6)或(7)所表示，[Rf1-Z1]a-Q1-[CH2CH2Si(OSi(CH3)2CH2OOCCR4=CH2)3]b (6) [(CH2=CR4COOCH2Si(CH3)2O)3SiCH2CH2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[CH2CH2-Si(OSi(CH3)2CH2OOCCR4=CH2)3]b (7)(式中，Rf1、Rf2、Z1、Q1、Q2、a、b係如前述般，R4係氫原子或甲基)。
  5. 如請求項1或2記載之含氟丙烯酸化合物，其中，全氟聚醚基與(甲基)丙烯醯基為透過包含下述的構造的連結構造來鍵結，-Si-O-Si-Z2-Si-(式中，Z2係如前述般)，且與氟聚醚鏈連結的各反應性末端基[Z2-SiRcX3-c]b(Z2、R、X、b、c係如前述般)係分別具有合計4個以上的(甲基)丙烯醯基。
  6. 一種下述一般式(1)或(2)所表示的含氟丙烯酸化合物之製造方法，其特徵為，使下述一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應，該一般式(3)或(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物係使下述一般式(8)或(9)所表示的具有多官能Si-H基的氟聚醚化合物、與下述一般式(10)所表示的含末端不飽和基的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應而得到，[Rf1-Z1]a-Q1-[H]b (8) [H]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[H]b (9)(式中，Rf1係獨立為藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Rf2係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z1係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Q1係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Q2係獨立為至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，a係1~10的整數，b係獨立為1~10的整數，被式(8)中的[ ]所括起來的a個的Z1或式(9)中的Z1及b個的H係全部鍵結於分別的Q1或Q2構造中的矽原子)CH2=CR4-(Z4)d-SiRcM3-c (10)(式中，R4係氫原子或甲基，Z4係碳數1~6的2價的烴基，d係0或1，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係獨立為烷氧基 或烷氧基烷基，c係0、1或2)[Rf1-Z1]a-Q1-[Z2-SiRcM3-c]b (3) [M3-cRcSi-Z2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[Z2-SiRcM3-c]b (4)(式中，Rf1、Rf2、Z1、Q1、Q2、R、M、a、b、c係如前述般，Z2係獨立為碳數2~8的2價的烴基，被式(3)中的[ ]所括起來的a個的Z1或式(4)中的Z1及b個的Z2係全部鍵結於分別的Q1或Q2構造中的矽原子)CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-OH (5)(式中，R1係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2及R3係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)[Rf1-Z1]a-Q1-[Z2-SiRcX3-c]b (1) [X3-cRcSi-Z2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[Z2-SiRcX3-c]b (2)(式中，X係分別獨立為CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-O-所表示的基，Rf1、Rf2、Z1、Z2、Q1、Q2、R、a、b、c、R1、R2、R3、Z3係與上述相同)。
  7. 一種下述一般式(1)所表示的含氟丙烯酸化合物之製造方法，其特徵為，使下述一般式(3)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應而得到，該一般式(3)所表示的含氟反應性矽烷化合物係使下述一般式(11)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與下述一般式(13)所表示的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應而得到， Rf1-Z5 (11)(式中，Rf1係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的1價的全氟聚醚基，Z5係末端具有1個能與Si-H基進行加成反應的碳-碳不飽和鍵的碳數2~20的1價的烴基且可包含氧原子、氮原子及矽原子，途中可包含環狀構造)[H]a-Q1-[Z2-SiRcM3-c]b (13)(式中，Q1係至少包含(a+b)個的矽原子的(a+b)價的連結基，且可形成環狀構造，Z2係獨立為碳數2~8的2價的烴基，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係獨立為烷氧基或烷氧基烷基，a係1~10的整數，b係1~10的整數，c係0、1或2，a個的H及b個的Z2係全部鍵結於Q1中的Si原子)[Rf1-Z1]a-Q1-[Z2-SiRcM3-c]b (3)(式中，Rf1、Z2、Q1、R、M、a、b、c係與上述相同，Z1係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，被[ ]所括起來的a個的Z1及b個的Z2係全部鍵結於Q1構造中的矽原子)CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-OH (5)(式中，R1係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2及R3係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)[Rf1-Z1]a-Q1-[Z2-SiRcX3-c]b (1)(式中，X係分別獨立為CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-O-所表示 的基，Rf1、Z1、Z2、Q1、R、a、b、c、R1、R2、R3、Z3係與上述相同)。
  8. 一種下述一般式(2)所表示的含氟丙烯酸化合物之製造方法，其特徵為，使下述一般式(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物、與下述一般式(5)所表示的含丙烯醯基的矽烷醇化合物進行反應而得到，該一般式(4)所表示的含氟反應性矽烷化合物係使下述一般式(12)所表示的具有末端不飽和基的氟聚醚化合物、與下述一般式(14)所表示的反應性矽烷化合物進行氫化矽烷化反應而得到，Z5-Rf2-Z5 (12)(式中，Rf2係藉由碳數1~6的全氟伸烷基與氧原子所構成的分子量400~20,000的2價的全氟聚醚基，Z5係獨立為末端具有1個能與Si-H基進行加成反應的碳-碳不飽和鍵的碳數2~20的1價的烴基且可包含氧原子、氮原子及矽原子，途中可包含環狀構造)H-Q2-[Z2-SiRcM3-c]b (14)(式中，Q2係至少包含(b+1)個的矽原子的(b+1)價的連結基，且可形成環狀構造，Z2係獨立為碳數2~8的2價的烴基，R係獨立為1~6的1價的烴基，M係獨立為烷氧基或烷氧基烷基，b係1~10的整數，c係0、1或2，H及b個的Z2係全部鍵結於Q2中的Si原子)[M3-cRcSi-Z2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[Z2-SiRcM3-c]b (4) (式中，Rf2、Z2、Q2、R、M、b、c係與上述相同，Z1係獨立為碳數1~20的可包含氧原子、氮原子及矽原子的2價的烴基，途中可包含環狀構造，Z1及b個的Z2係全部鍵結於Q2構造中的矽原子)CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-OH (5)(式中，R1係氫原子或碳數1~8的1價的烴基，R2及R3係分別獨立為碳數1~8的1價的烴基，Z3係碳數1~8的2價的烴基，途中可包含環狀構造)[X3-cRcSi-Z2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[Z2-SiRcX3-c]b (2)(式中，X係分別獨立為CH2=CR1-COO-Z3-SiR2R3-O-所表示的基，Rf2、Z1、Z2、Q2、R、b、c、R1、R2、R3、Z3係與上述相同)。
  9. 一種硬化性組成物，其係包含請求項1~5中任一項記載之含氟丙烯酸化合物。
  10. 如請求項9記載之硬化性組成物，其中，硬化物的折射率為1.4以下。
  11. 一種表面具有硬化物層之物品，其係在表面具有如請求項9或10記載之硬化性組成物所構成的硬化物層。
  12. 如請求項11記載之物品，其中，硬化物層具有水的接 觸角為100°以上、油酸的接觸角為60°以上的撥水撥油性表面。
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