TWI759427B - 感光性著色組合物、硬化物、著色間隔物、圖像顯示裝置 - Google Patents

感光性著色組合物、硬化物、著色間隔物、圖像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種波長700 nm附近之漏光少、波長900 nm附近之透過率優異、且紫外線照射後之電性可靠性優異的感光性著色組合物。本發明之感光性著色組合物係含有(a)著色劑、(b)鹼可溶性樹脂、(c)光聚合起始劑、(d)乙烯性不飽和化合物、(e)溶劑、及(f)分散劑者，並且上述(a)著色劑含有(a1)包含選自由下述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種的有機黑色顏料、(a2)C.I.顏料藍60、以及(a3)碳黑，上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為150質量份以上。 [化1]

Description

感光性著色組合物、硬化物、著色間隔物、圖像顯示裝置
本發明係關於一種感光性著色組合物等。詳細而言，關於一種於例如液晶顯示器等圖像顯示裝置中可較佳地用於形成著色間隔物等之感光性著色組合物、使該感光性著色組合物硬化而獲得之硬化物、由該硬化物所形成之著色間隔物、及具備該著色間隔物之圖像顯示裝置。 在此引用2017年2月15日向日本特許廳提出申請之日本專利特願2017-026369、及2017年8月31日向日本特許廳提出申請之日本專利特願2017-166318之說明書、專利申請範圍、圖式及摘要之全部內容、以及本說明書中引用之文獻等所揭示之部分或全部內容，作為本說明書之揭示內容而組入本文中。
液晶顯示器(LCD)係利用藉由接通/斷開對液晶所施加之電壓而切換液晶分子之排列方式的性質。另一方面，構成LCD之單元之各構件多藉由以光微影法為代表之利用感光性組合物之方法而形成。該感光性組合物容易形成微細之構造，亦容易對大畫面用之基板進行處理，基於該等原因，今後其適用範圍有進一步擴大之傾向。 然而，使用感光性組合物所製造之LCD由於感光性組合物本身之電氣特性、或感光性組合物中所含之雜質之影響，而存在對液晶所施加之電壓未得以保持，由此產生顯示器之顯示不均等問題的情況。尤其對於彩色液晶顯示器中之靠近液晶層之構件、例如用以使液晶面板中2片基板之間隔保持固定之所謂柱狀間隔物、感光性間隔物等，其影響較大。 先前於TFT(Thin-Film Transistor，薄膜電晶體)型LCD中使用不具有遮光性之間隔物之情形時，存在因透過間隔物之光導致作為開關元件之TFT產生誤動作之情況。為了防止該情況，業界對使用具有遮光性之間隔物(著色間隔物)之方法進行研究。 另一方面，近年來隨著面板構造之變化，業界提出有藉由光微影法一次形成高度不同之著色間隔物之方法。例如專利文獻1中揭示有，藉由使用特定種類之黑色顏料，不僅遮光性、分散性、製版性優異，而且可實現充分低之相對介電常數。 又，專利文獻2中揭示有一種著色感光性樹脂組合物，其藉由使用複數種有機著色顏料作為顏料，不僅彈性回復率、解像度、耐化學性優異，而且亦使黑矩陣之特性得到滿足。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]國際公開第2015/046178號 [專利文獻2]韓國公開專利第10-2014-0096423號公報
[發明所欲解決之問題] 近年來，隨著面板構造之變化，存在對著色間隔物具有如下要求之情況：需於波長700 nm附近亦不會產生漏光，又，需確保波長900 nm附近之透過率以能夠辨識曝光時用於進行光罩位置對準之標記。 另一方面，為了提高液晶配向性，於製成液晶單元後進行紫外線照射之方法逐漸被廣泛運用。若進行紫外線照射，則有顏料或其處理劑等之一部分發生分解而產生雜質之傾向，但於該情形時亦要求保持充分之電性可靠性。 本發明者等人對專利文獻1中所記載之感光性著色組合物進行研究，結果發現，抑制波長700 nm附近之漏光與確保波長900 nm附近之透過率難以同時實現。 又，對專利文獻2中所記載之感光性著色組合物進行研究，結果發現，尤其於紫外線照射後難以確保電性可靠性。 因此，本發明係鑒於上述情況而成者，其目的在於提供一種波長700 nm附近之漏光較少、波長900m附近之透過率優異、且紫外線照射後之電性可靠性優異的感光性著色組合物。 [解決問題之技術手段] 本發明者等人為了解決上述課題，經過努力研究，結果發現，於感光性著色組合物中，使用特定之有機黑色顏料、C.I.顏料藍60及碳黑，且將特定之有機黑色顏料相對於碳黑之含有比率設為特定範圍，藉此可解決上述課題，從而完成本發明。 即，本發明具有以下之[1]～[12]之構成。 [1]一種感光性著色組合物，其係含有(a)著色劑、(b)鹼可溶性樹脂、(c)光聚合起始劑、(d)乙烯性不飽和化合物、(e)溶劑、及(f)分散劑者，並且 上述(a)著色劑含有(a1)包含選自由下述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種的有機黑色顏料、(a2)C.I.顏料藍60、以及(a3)碳黑， 上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為150質量份以上。 [化1]
Figure 02_image007
(式(I)中，R1 及R6 分別獨立地為氫原子、CH3 、CF3 、氟原子或氯原子； R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、R9 及R10 分別獨立地為氫原子、鹵素原子、R11 、COOH、COOR11 、COO- 、CONH2 、CONHR11 、CONR11 R12 、CN、OH、OR11 、COCR11 、OOCNH2 、OOCNHR11 、OOCNR11 R12 、NO2 、NH2 、NHR11 、NR11 R12 、NHCOR12 、NR11 COR12 、N=CH2 、N=CHR11 、N=CR11 R12 、SH、SR11 、SOR11 、SO2 R11 、SO3 R11 、SO3 H、SO3 - 、SO2 NH2 、SO2 NHR11 或SO2 NR11 R12 ；且 選自由R2 與R3 、R3 與R4 、R4 與R5 、R7 與R8 、R8 與R9 、及R9 與R10 所組成之群中之至少一個組合亦可相互直接鍵結，或者藉由氧原子、硫原子、NH或NR11 橋而相互鍵結； R11 及R12 分別獨立地為碳數1～12之烷基、碳數3～12之環烷基、碳數2～12之烯基、碳數3～12之環烯基或碳數2～12之炔基) [2]如[1]記載之感光性著色組合物，其中上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為200質量份以上。 [3]如[1]或[2]記載之感光性著色組合物，其中上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為210質量份以上。 [4]如[1]至[3]中任一項記載之感光性著色組合物，其中上述(a2)C.I.顏料藍60相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為200質量份以上。 [5]如[1]至[4]中任一項記載之感光性著色組合物，其中全部有機顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率之合計為550質量份以上。 [6]如[1]至[5]中任一項記載之感光性著色組合物，其中全部固形物成分中之上述(a)著色劑之含有比率為10質量%以上。 [7]如[1]至[6]中任一項記載之感光性著色組合物，其中全部固形物成分中之上述(a)著色劑之含有比率為45質量%以下。 [8]如[1]至[7]中任一項記載之感光性著色組合物，其中上述(b)鹼可溶性樹脂含有(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂。 [9]如[1]至[8]中任一項記載之感光性著色組合物，其中已硬化之塗膜之每1 μm膜厚之光學濃度為1.0以上。 [10]一種硬化物，其係使如[1]至[9]中任一項記載之感光性著色組合物硬化而獲得。 [11]一種著色間隔物，其係由如[10]記載之硬化物所形成。 [12]一種圖像顯示裝置，其具備如[11]記載之著色間隔物。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種波長700 nm附近之漏光較少、波長900 nm附近之透過率優異、且紫外線照射後之電性可靠性優異的感光性著色組合物、硬化物及著色間隔物，進而可提供一種具備此種著色間隔物之圖像顯示裝置。
以下，具體地說明本發明之實施形態，但本發明並不限定於以下之實施形態，可於其主要旨之範圍內進行各種變更而實施。 再者，本發明中，所謂「(甲基)丙烯酸」意指「丙烯酸及/或甲基丙烯酸」，關於「(甲基)丙烯酸酯」、「(甲基)丙烯醯基」亦相同。 所謂「(共)聚合物」意指包含均聚物(homopolymer)與共聚物(copolymer)兩者，所謂「酸(酐)」、「(無水)…酸」意指包含酸與其酐兩者。又，本發明中，所謂「丙烯酸系樹脂」意指包含(甲基)丙烯酸之(共)聚合物、包含具有羧基之(甲基)丙烯酸酯之(共)聚合物。 又，本發明中，所謂「單體」係相對於所謂高分子物質(聚合物)而言之用語，除了指狹義之單體(monomer)以外，亦包括二聚物、三聚物、低聚物等在內。 本發明中，所謂「全部固形物成分」意指感光性著色組合物中或下述墨水中所含之除溶劑以外之全部成分。 本發明中，所謂「重量平均分子量」意指藉由GPC(凝膠滲透層析法)所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)。 又，本發明中，所謂「胺值」，只要無特別說明，表示有效固形物成分換算之胺值，是由與分散劑之固形物成分每1 g之鹼量等量之KOH之質量所表示之值。再者，測定方法於下文進行說明。另一方面，所謂「酸值」，只要無特別說明，表示有效固形物成分換算之酸值，藉由中和滴定而算出。 又，關於顏料，「C.I.」意指色指數。 又，於本說明書中，以「質量」表示之百分率或份與以「重量」表示之百分率或份含義相同。 [感光性著色組合物] 本發明之感光性著色組合物含有 (a)著色劑 (b)鹼可溶性樹脂 (c)光聚合起始劑 (d)乙烯性不飽和化合物 (e)溶劑 (f)分散劑作為必須成分，視需要進而含有矽烷偶合劑等密接提高劑、塗佈性提高劑、顯影改良劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、界面活性劑、顏料衍生物等其他調配成分，各調配成分通常以溶解或分散於溶劑中之狀態使用。 關於本發明之感光性著色組合物，(a)著色劑含有(a1)包含選自由下述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種的有機黑色顏料、(a2)C.I.顏料藍60、以及(a3)碳黑，上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為150質量份以上。以下詳細說明各成分。 ＜(a)著色劑＞ 本發明之感光性著色組合物中之(a)著色劑含有下述(a1)、(a2)及(a3)作為必須成分。 (a1)包含選自由下述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種的有機黑色顏料 (a2)C.I.顏料藍60 (a3)碳黑 該等顏料之中，(a1)及(a2)為有機顏料，(a3)為無機顏料。 ＜(a1)有機黑色顏料＞ 如上所述，本發明之感光性著色組合物所含之(a)著色劑含有(a1)包含選自由下述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種的有機黑色顏料(以下有時簡記為「(a1)有機黑色顏料」)作為必須成分。認為藉由含有(a1)有機黑色顏料，可確保遮光性，抑制液晶之電壓保持率之降低，又，抑制紫外線之吸收而容易控制形狀或階差。 [化2]
Figure 02_image009
式(I)中，R1 及R6 分別獨立地為氫原子、CH3 、CF3 、氟原子或氯原子； R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、R9 及R10 分別獨立地為氫原子、鹵素原子、R11 、COOH、COOR11 、COO- 、CONH2 、CONHR11 、CONR11 R12 、CN、OH、OR11 、COCR11 、OOCNH2 、OOCNHR11 、OOCNR11 R12 、NO2 、NH2 、NHR11 、NR11 R12 、NHCOR12 、NR11 COR12 、N=CH2 、N=CHR11 、N=CR11 R12 、SH、SR11 、SOR11 、SO2 R11 、SO3 R11 、SO3 H、SO3 - 、SO2 NH2 、SO2 NHR11 或SO2 NR11 R12 ；且 選自由R2 與R3 、R3 與R4 、R4 與R5 、R7 與R8 、R8 與R9 、及R9 與R10 所組成之群中之至少一個組合亦可相互直接鍵結，或者藉由氧原子、硫原子、NH或NR11 橋而相互鍵結； R11 及R12 分別獨立地為碳數1～12之烷基、碳數3～12之環烷基、碳數2～12之烯基、碳數3～12之環烯基或碳數2～12之炔基。 通式(I)所表示之化合物或該化合物之幾何異構物具有以下之核心結構(其中，結構式中之取代基經省略)，最穩定者應為反式-反式異構物。 [化3]
Figure 02_image011
於通式(I)所表示之化合物為陰離子性之情形時，較佳為利用任意公知之適宜之陽離子對其進行電荷補償而獲得之鹽，該陽離子例如為金屬、有機、無機或金屬有機陽離子，具體而言，鹼金屬、鹼土金屬、過渡金屬、一級銨、二級銨、三烷基銨等三級銨、四烷基銨等四級銨或有機金屬錯合物。又，於通式(I)所表示之化合物之幾何異構物為陰離子性之情形時，較佳為相同之鹽。 於通式(I)之取代基及該等之定義中，就有遮蔽率變高之傾向而言，較佳為以下者。認為其原因在於：以下之取代基無吸收，不會對顏料之色相產生影響。 R2 、R4 、R5 、R7 、R9 及R10 較佳為分別獨立地為氫原子、氟原子、或氯原子，進而較佳為氫原子。 R3 及R8 較佳為分別獨立地為氫原子、NO2 、OCH3 、OC2 H5 、溴原子、氯原子、CH3 、C2 H5 、N(CH3 )2 、N(CH3 )(C2 H5 )、N(C2 H5 )2 、α-萘基、β-萘基、SO3 H或SO3 - ，進而較佳為氫原子或SO3 H。 R1 及R6 較佳為分別獨立地為氫原子、CH3 或CF3 ，進而較佳為氫原子。 較佳為選自由R1 與R6 、R2 與R7 、R3 與R8 、R4 與R9 、及R5 與R10 所組成之群中之至少一個組合係由相同之取代基構成，更佳為R1 為與R6 相同之取代基，R2 為與R7 相同之取代基，R3 為與R8 相同之取代基，R4 為與R9 相同之取代基，且R5 為與R10 相同之取代基。 碳數1～12之烷基例如為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、2-甲基丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2,2-二甲基丙基、正己基、庚基、正辛基、1,1,3,3-四甲基丁基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基或十二烷基。 碳數3～12之環烷基例如為環丙基、環丙基甲基、環丁基、環戊基、環己基、環己基甲基、三甲基環己基、側柏基(thujyl)、降𦯉基、𦯉基、降蒈基、蒈基、䓝基、降蒎基、蒎基、1-金剛烷基或2-金剛烷基。 碳數2～12之烯基例如為乙烯基、烯丙基、2-丙烯-2-基、2-丁烯-1-基、3-丁烯-1-基、1,3-丁二烯-2-基、2-戊烯-1-基、3-戊烯-2-基、2-䓝基-1-丁烯-3-基、2-甲基-3-丁烯-2-基、3-甲基-2-丁烯-1-基、1,4-戊二烯-3-基、己烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基或十二碳烯基。 碳數3～12之環烯基例如為2-環丁烯-1-基、2-環戊烯-1-基、2-環己烯-1-基、3-環己烯-1-基、2,4-環己二烯-1-基、1-對䓝烯-8-基、4(10)-側柏烯(thujene)-10-基、2-降𦯉烯-1-基、2,5-降𦯉二烯-1-基、7,7-二甲基-2,4-降蒈二烯-3-基或莰烯基(camphenyl)。 碳數2～12之炔基例如為1-丙炔-3-基、1-丁炔-4-基、1-戊炔-5-基、2-甲基-3-丁炔-2-基、1,4-戊二炔-3-基、1,3-戊二炔-5-基、1-己炔-6-基、順式-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、反式-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、1,3-己二炔-5-基、1-辛炔-8-基、1-壬炔-9-基、1-癸炔-10-基或1-十二炔-12-基。 鹵素原子例如為氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。 上述(a1)有機黑色顏料只要包含選自由上述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種即可，亦可包含該等中之複數種。上述(a1)有機黑色顏料就遮光性或電性可靠性之觀點而言，較佳為包含選自由上述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種者。 上述(a1)有機黑色顏料較佳為下述通式(I-1)所表示之化合物及/或上述化合物之幾何異構物，更佳為下述通式(I-1)所表示之化合物。 [化4]
Figure 02_image013
作為此種有機黑色顏料之具體例，以商品名表示，可列舉：Irgaphor(註冊商標)Black S 0100 CF(BASF公司製造)。 該有機黑色顏料較佳為藉由下述分散劑、溶劑、方法進行分散後再使用。又，分散時若存在上述通式(I)所表示之化合物之磺酸衍生物(磺酸取代體)、尤其是上述通式(I-1)所表示之化合物之磺酸衍生物，則有分散性或保存性提高之情況，因此上述(a1)有機黑色顏料較佳為進而包含該等之磺酸衍生物。作為磺酸衍生物，例如可列舉如下者：於上述通式(I)中，選自由R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、R9 及R10 所組成之群中之至少一者為SO3 H。 又，為了調整色度，上述(a1)有機黑色顏料較佳為進而包含下述通式(I-2)所表示之化合物及/或上述化合物之幾何異構物。 [化5]
Figure 02_image015
＜(a2)C.I.顏料藍60＞ 本發明之感光性著色組合物所含之(a)著色劑含有(a2)C.I.顏料藍60作為必須成分。 上述(a1)有機黑色顏料於波長650～750 nm附近之透過率較高，該波長區域之遮光性不充分，但(a2)C.I.顏料藍60於該波長區域具有吸收帶，因此認為，藉由併用(a2)C.I.顏料藍60，可降低於該波長區域之透過率。 又，相較於C.I.顏料藍15：6等其他藍色顏料，(a2)C.I.顏料藍60於300～400 nm附近之透過率較高，抑制紫外線之吸收而容易控制著色間隔物之形狀或階差。又，鮮有雜質溶出，電壓保持率較高，離子密度較低。認為尤其是由於較少地吸收紫外線，故而因紫外線照射引起之分解或雜質之溶出等亦鮮有發生，即便於用以提高液晶配向性之紫外線照射後，電壓保持率或離子密度之降低幅度亦較小，電性可靠性優異。 ＜(a3)碳黑＞ 本發明之感光性著色組合物所含之(a)著色劑含有(a3)碳黑作為必須成分。 (a3)碳黑全面地具有於可見光區域之各波長下之吸收光譜，且透過率亦較低，因此認為，藉由在含有(a1)有機黑色顏料、(a2)C.I.顏料藍60之基礎上進而含有(a3)碳黑，不僅可達成高遮光性，且亦可抑制漏光，又，可降低著色劑相對於全部固形物成分之含有比率，藉此可確保較高之電性可靠性。 作為碳黑之例，可列舉如下之碳黑。 三菱化學公司製造：MA7、MA8、MA11、MA77、MA100、MA100R、MA100S、MA220、MA230、MA600、MCF88，#5、#10、#20、#25、#30、#32、#33、#40、#44、#45、#47、#50、#52、#55、#650、#750、#850、#900、#950、#960、#970、#980、#990、#1000、#2200、#2300、#2350、#2400、#2600、#2650、#3030、#3050、#3150、#3250、#3400、#3600、#3750、#3950、#4000、#4010，OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B、OIL31B Degussa公司製造：Printex(註冊商標，以下相同)3、Printex 3OP、Printex 30、Printex 30OP、Printex 40、Printex 45、Printex 55、Printex 60、Printex 75、Printex 80、Printex 85、Printex 90、Printex A、Printex L、Printex G、Printex P、Printex U、Printex V，Special Black 550、Special Black 350、Special Black 250、Special Black 100、Special Black 6、Special Black 5、Special Black 4，Color Black FW1、Color Black FW2、Color Black FW2V、Color Black FW18、Color Black FW200、Color Black S160、Color Black S170 Cabot公司製造：Monarch(註冊商標，以下相同)120、Monarch 280、Monarch 460、Monarch 800、Monarch 880、Monarch 900、Monarch 1000、Monarch 1100、Monarch 1300、Monarch 1400、Monarch 4630，REGAL(註冊商標，以下相同)99、REGAL 99R、REGAL 415、REGAL 415R、REGAL 250、REGAL 250R、REGAL 330、REGAL 400R、REGAL 55R0、REGAL 660R，BLACK PEARLS480、PEARLS130、VULCAN(註冊商標)XC72R、ELFTEX(註冊商標)-8 Birla公司製造：RAVEN(註冊商標，以下相同)11、RAVEN 14、RAVEN 15、RAVEN 16、RAVEN 22RAVEN 30、RAVEN 35、RAVEN 40、RAVEN 410、RAVEN 420、RAVEN 450、RAVEN 500、RAVEN 780、RAVEN 850、RAVEN 890H、RAVEN 1000、RAVEN 1020、RAVEN 1040、RAVEN 1060U、RAVEN 1080U、RAVEN 1170、RAVEN 1190U、RAVEN 1250、RAVEN 1500、RAVEN 2000、RAVEN 2500U、RAVEN 3500、RAVEN 5000、RAVEN 5250、RAVEN 5750、RAVEN 7000 再者，本發明中使用之碳黑之表面之pH值並無特別限定，較佳為9以下，更佳為7以下，進而較佳為5以下，尤佳為4以下。藉由設為上述上限值以下，有分散劑易於附著、分散性變得良好之傾向。碳黑之表面之pH值越低越佳，但通常為2以上。 再者，碳黑之表面之pH值係藉由如下方式測定：使碳黑之粉體分散於水中，對該分散液進行水系之pH值測定。 又，碳黑之平均粒徑較佳為8 nm以上，更佳為17 nm以上，進而較佳為21 nm以上，又，較佳為100 nm以下，更佳為65 nm以下，進而較佳為40 nm以下，尤佳為32 nm以下。藉由設為上述上限值以下，有分散穩定性、保存性變得良好之傾向，又，藉由設為下限值以上，有遮光性變得良好之傾向。 本發明中之碳黑之平均粒徑意指數量平均粒徑。一般而言，碳黑之平均粒徑係藉由如下方式求出：於電子顯微鏡觀察下以數萬倍之倍率拍攝數個視野之照片，利用圖像處理裝置計測該等照片上之2000～3000個左右之粒子而進行粒子圖像解析。 又，碳黑亦可使用經樹脂被覆者。若使用經樹脂被覆之碳黑，則具有提高對玻璃基板之密接性或體積電阻率之效果。作為經樹脂被覆之碳黑，可較佳地使用例如日本專利特開平09-71733號公報中所記載之碳黑等。就體積電阻率或介電常數之方面而言，適宜使用樹脂被覆碳黑。 關於由樹脂進行被覆處理之碳黑，較佳為Na與Ca之合計含量為100 ppm以下。碳黑通常含有以自製造時之原料油或燃油(或燃氣)、反應終止水或造粒水、進而反應爐之爐材等混入之Na或Ca、K、Mg、Al、Fe等作為組成之灰分。其中，Na或Ca之含量一般分別達到數百ppm以上，藉由減少Na或Ca之含量，有可抑制該等向透明電極(ITO)或其他電極浸透而防止電性短路之傾向。 作為減少包含該等Na或Ca之灰分之含量之方法，可採用如下方法：嚴選該等之含量儘可能少之物質作為製造碳黑時之原料油或燃油(或燃氣)及反應終止水，以及儘可能減少調整結構之鹼性物質之添加量。作為其他方法，可列舉利用水或鹽酸等清洗自爐內產出之碳黑而溶解去除Na或Ca之方法。 具體而言，若使碳黑混合分散至水、鹽酸或過氧化氫水中後添加難溶於水之溶劑，則碳黑會向溶劑側移動而與水完全分離，另外，碳黑中存在之Na或Ca大部分會溶解於水或酸而被去除。單獨藉由嚴選碳黑製造過程中之原材料之方式、或單獨藉由水或酸溶解之方式，亦有可能實現將Na與Ca之合計量降低至100 ppm以下，但藉由將該兩種方式併用，則可更容易地使Na與Ca之合計量成為100 ppm以下。 又，樹脂被覆碳黑較佳為pH值6以下之所謂酸性碳黑。由於在水中之分散徑(聚結(agglomerate)徑)變小，故而能夠對包括微細組件(unit)在內進行被覆，從而較佳。進而，較佳為平均粒徑40 nm以下，鄰苯二甲酸二丁酯(DBP)吸收量140 mL/100 g以下。藉由設為上述範圍內，有獲得遮光性良好之塗膜之傾向。 製備經樹脂被覆之碳黑之方法並無特別限定，例如適當調整碳黑及樹脂之調配量後，可採用1.將樹脂與環己酮、甲苯、二甲苯等溶劑混合並進行加熱溶解，將所獲得之樹脂溶液與混合有碳黑及水之懸浮液進行混合攪拌，而使碳黑與水實現分離後，去除水並進行加熱混練而獲得組合物，將該組合物成形為片狀，加以粉碎後，使之乾燥的方法；2.將藉由與上述相同之方式製備之樹脂溶液與懸浮液進行混合攪拌，使碳黑及樹脂實現粒狀化後，分離所獲得之粒狀物並進行加熱，去除所殘存之溶劑及水的方法；3.使順丁烯二酸、反丁烯二酸等羧酸溶解於上述例示之溶劑，添加碳黑進行混合，並乾燥去除溶劑，而獲得添加有羧酸之碳黑後，以乾摻之方式於其中添加樹脂的方法；4.對構成被覆樹脂之含反應性基之單體成分與水進行高速攪拌而製備懸浮液，聚合後加以冷卻，而由聚合物懸浮液獲得含反應性基之樹脂後，於其中添加碳黑進行混練，使碳黑與反應性基反應(使碳黑接枝)，冷卻後進行粉碎的方法等。 進行被覆處理之樹脂之種類亦無特別限定，一般為合成樹脂，進而，結構中存在苯環之樹脂具有與兩性系界面活性劑相同之作用，因此就分散性及分散穩定性之方面而言較佳。 作為具體之合成樹脂，可使用酚樹脂、三聚氰胺樹脂、二甲苯樹脂、苯二甲酸二烯丙酯樹脂、甘酞樹脂、環氧樹脂、烷基苯樹脂等熱硬化性樹脂，或聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、改性聚苯醚、聚碸、聚對伸苯基對苯二甲醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺、聚胺基雙順丁烯二醯亞胺、聚醚磺基聚苯碸、聚芳酯、聚醚醚酮等熱塑性樹脂。被覆樹脂之量相對於碳黑與樹脂之合計量而較佳為1～30質量%。藉由設為上述下限值以上，有可實現充分之被覆之傾向。另一方面，藉由設為上述上限值以下，有可防止樹脂彼此黏著，優化分散性之傾向。 如此利用樹脂進行被覆處理而成之碳黑可根據常規方法用作著色間隔物之著色劑，可藉由常規方法製作以該著色間隔物作為構成要素之彩色濾光片。若使用此種碳黑，則有可低成本地形成高遮光率且表面反射率較低之著色間隔物之傾向。又，亦推測藉由利用樹脂被覆碳黑表面而具有將Na或Ca封入碳黑中之作用。 ＜其他著色劑＞ 本發明之感光性著色組合物所含之(a)著色劑除含有上述(a1)、(a2)及(a3)之顏料以外，亦可含有其他顏料或其他染料等其他著色劑。其他著色劑之顏色並無特別限制，可使用紅色、橙色、藍色、紫色、綠色、黃色等各色之著色劑。又，亦可使用上述(a1)及(a3)以外之黑色顏料。作為其他著色劑，就抑制液晶之電壓保持率之降低，又，抑制紫外線之吸收而容易控制著色間隔物之形狀或階差之觀點而言，較佳為使用有機顏料。 其他顏料之化學結構並無特別限定，可利用偶氮系、酞菁系、喹吖啶酮系、苯并咪唑酮系、異吲哚啉酮系、二㗁 𠯤系、陰丹士林系、苝系等之有機顏料，另外亦可利用各種無機顏料等。以下，以顏料編號表示可使用之有機顏料之具體例。 作為紅色顏料，可列舉：C.I.顏料紅1、2、3、4、5、6、7、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、37、38、41、47、48、48：1、48：2、48：3、48：4、49、49：1、49：2、50：1、52：1、52：2、53、53：1、53：2、53：3、57、57：1、57：2、58：4、60、63、63：1、63：2、64、64：1、68、69、81、81：1、81：2、81：3、81：4、83、88、90：1、101、101：1、104、108、108：1、109、112、113、114、122、123、144、146、147、149、151、166、168、169、170、172、173、174、175、176、177、178、179、181、184、185、187、188、190、193、194、200、202、206、207、208、209、210、214、216、220、221、224、230、231、232、233、235、236、237、238、239、242、243、245、247、249、250、251、253、254、255、256、257、258、259、260、262、263、264、265、266、267、268、269、270、271、272、273、274、275、276。其中，就遮光性、分散性之觀點而言，可較佳地列舉C.I.顏料紅48：1、122、149、168、177、179、194、202、206、207、209、224、242、254、272，可進而較佳地列舉C.I.顏料紅177、209、224、254、272，可尤佳地列舉C.I.顏料紅177、254、272。於利用紫外線進行硬化之情形時，作為紅色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為C.I.顏料紅254、272。 作為橙色(orange)顏料，可列舉：C.I.顏料橙1、2、5、13、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、43、46、48、49、61、62、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79。再者，就分散性或遮光性之方面而言，較佳為C.I.顏料橙13、43、64、72，於利用紫外線進行硬化之情形時，作為橙色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為C.I.顏料橙64、72，進而較佳為C.I.顏料橙64。 作為藍色顏料，可列舉：C.I.顏料藍1、1：2、9、14、15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、17、19、25、27、28、29、33、35、36、56、56：1、61、61：1、62、63、66、67、68、71、72、73、74、75、76、78、79。其中，就分散性或遮光性之方面而言，較佳為C.I.顏料藍15：6、16。 作為紫色顏料，可列舉：C.I.顏料紫1、1：1、2、2：2、3、3：1、3：3、5、5：1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49、50。其中，就遮光性之觀點而言，可較佳地列舉C.I.顏料紫19、23、29，可進而較佳地列舉C.I.顏料紫23、29。 再者，就分散性或遮光性之方面而言，較佳為C.I.顏料紫23、29，於利用紫外線進行硬化之情形時，作為紫色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為C.I.顏料紫29。又，就遮光性之觀點而言亦較佳為C.I.顏料紫29。 作為除紅色顏料、橙色顏料、藍色顏料、紫色顏料以外之可使用之有機著色顏料，例如可列舉綠色顏料、黃色顏料等。 作為綠色顏料，可列舉：C.I.顏料綠1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55。其中，可較佳地列舉C.I.顏料綠7、36。 作為黃色顏料，可列舉：C.I.顏料黃1、1：1、2、3、4、5、6、9、10、12、13、14、16、17、24、31、32、34、35、35：1、36、36：1、37、37：1、40、41、42、43、48、53、55、61、62、62：1、63、65、73、74、75、81、83、87、93、94、95、97、100、101、104、105、108、109、110、111、116、117、119、120、126、127、127：1、128、129、133、134、136、138、139、142、147、148、150、151、153、154、155、157、158、159、160、161、162、163、164、165、166、167、168、169、170、172、173、174、175、176、180、181、182、183、184、185、188、189、190、191、191：1、192、193、194、195、196、197、198、199、200、202、203、204、205、206、207、208。其中，就分散性、可靠性之觀點而言，可較佳地列舉C.I.顏料黃83、117、129、138、139、150、154、155、180、185，可進而較佳地列舉C.I.顏料黃83、138、139、150、180。 該等之中，就遮光性及可靠性之觀點而言，較佳為橙色顏料及/或紫色顏料，就遮光性之觀點而言，更佳為紫色顏料，進而較佳為C.I.顏料紫29。 作為(a1)及(a3)以外之黑色顏料，可列舉：乙炔黑、燈黑、骨黑、石墨、鐵黑、苯胺黑、花青黑、鈦黑、苝黑等。 又，作為其他染料，可列舉：偶氮系染料、蒽醌系染料、酞菁系染料、醌亞胺系染料、喹啉系染料、硝基系染料、羰基系染料、次甲基系染料等。 作為偶氮系染料，例如可列舉：C.I.酸性黃11、C.I.酸性橙7、C.I.酸性紅37、C.I.酸性紅180、C.I.酸性藍29、C.I.直接紅28、C.I.直接紅83、C.I.直接黃12、C.I.直接橙26、C.I.直接綠28、C.I.直接綠59、C.I.反應黃2、C.I.反應紅17、C.I.反應紅120、C.I.反應黑5、C.I.分散橙5、C.I.分散紅58、C.I.分散藍165、C.I.鹼性藍41、C.I.鹼性紅18、C.I.媒染紅7、C.I.媒染黃5、C.I.媒染黑7等。 作為蒽醌系染料，例如可列舉：C.I.還原藍4、C.I.酸性藍40、C.I.酸性綠25、C.I.反應藍19、C.I.反應藍49、C.I.分散紅60、C.I.分散藍56、C.I.分散藍60等。 此外，作為酞菁系染料，例如可列舉：C.I.還原藍5等，作為醌亞胺系染料，例如可列舉：C.I.鹼性藍3、C.I.鹼性藍9等，作為喹啉系染料，例如可列舉：C.I.溶劑黃33、C.I.酸性黃3、C.I.分散黃64等，作為硝基系染料，例如可列舉：C.I.酸性黃1、C.I.酸性橙3、C.I.分散黃42等。 上述(a1)、(a2)、(a3)、及其他顏料較佳為以使平均粒徑通常成為1 μm以下、較佳成為0.5 μm以下，進而較佳成為0.25 μm以下之方式進行分散後使用。此處，平均粒徑之基準為顏料粒子之個數。 再者，顏料之平均粒徑係根據藉由動態光散射法(DLS)所測得之顏料粒徑而求出之值。粒徑測定係針對經充分稀釋之感光性著色組合物(通常進行稀釋以將顏料濃度調整至0.005～0.2質量%左右。其中，若測定機器有其推薦使用之濃度，則依據該濃度)進行，於25℃下測定。 ＜(b)鹼可溶性樹脂＞ 作為本發明中使用之(b)鹼可溶性樹脂，只要為包含羧基或羥基之樹脂，則並無特別限定，例如可列舉：環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、含羧基之環氧樹脂、含羧基之胺基甲酸酯樹脂、酚醛清漆系樹脂、聚乙烯基苯酚系樹脂等，其中，就優異之製版性之觀點而言，適宜使用 (b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂 (b2)丙烯酸系共聚合樹脂。 該等可單獨使用1種，或將複數種混合使用。 ＜(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂＞ (b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂係藉由如下方式獲得之樹脂：使環氧化合物(環氧樹脂)與α,β-不飽和單羧酸及/或酯部分具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯進行反應，進而使反應物中之因該反應生成之羥基與多元酸及/或其酐等具有2個以上之能夠與羥基反應之取代基的化合物進行反應。 又，上述(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂亦包括如下樹脂：於使羥基與上述多元酸及/或其酐進行反應之前，先與具有2個以上之能夠與該羥基反應之取代基的化合物進行反應，其後再與多元酸及/或其酐進行反應而獲得之樹脂。 又，上述(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂亦包括如下樹脂：使藉由上述反應獲得之樹脂之羧基進而與具有能夠反應之官能基之化合物進行反應而獲得之樹脂。 如此，環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂於化學結構中實質上不具有環氧基，且並不限定於「(甲基)丙烯酸酯」，但由於環氧化合物(環氧樹脂)為原料，且「(甲基)丙烯酸酯」為代表例，故而依習慣如此命名。 作為本發明中使用之(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂，就顯影性、可靠性之觀點而言，尤其適宜使用下述環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂(b1-1)及/或環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂(b1-2)(以下有時稱為「含羧基之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂」)。 ＜環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂(b1-1)＞ 藉由對環氧樹脂加成α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯，進而使之與多元酸及/或其酐進行反應而獲得之鹼可溶性樹脂。 ＜環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂鹼可溶性樹脂(b1-2)＞ 藉由對環氧樹脂加成α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯，進而使之與多元醇、及多元酸及/或其酐進行反應而獲得之鹼可溶性樹脂。 此處，所謂環氧樹脂，亦包括藉由熱硬化而形成樹脂以前之原料化合物，作為該環氧樹脂，可自公知之環氧樹脂中適當選擇使用。又，環氧樹脂可使用使酚性化合物與表鹵醇進行反應而獲得之化合物。作為酚性化合物，較佳為2元或2元以上之具有酚性羥基之化合物，可為單體亦可為聚合物。 作為成為原料之環氧樹脂之種類，可適宜地使用：甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、聯苯酚醛清漆型環氧樹脂、萘酚醛清漆型環氧樹脂、作為二環戊二烯與苯酚或甲酚之聚合加成反應物和表鹵醇之反應產物的環氧樹脂、含金剛烷基之環氧樹脂、茀型環氧樹脂等，可適宜地使用如此於主鏈上具有芳香族環者。 又，作為環氧樹脂之具體例，例如可適宜地使用：雙酚A型環氧樹脂(例如三菱化學公司製造之「jER(註冊商標，以下相同)828」、「jER1001」、「jER1002」、「jER1004」等)、藉由使雙酚A型環氧樹脂之醇性羥基與表氯醇進行反應而獲得之環氧樹脂(例如日本化藥公司製造之「NER-1302」(環氧當量323，軟化點76℃))、雙酚F型樹脂(例如三菱化學公司製造之「jER807」、「EP-4001」、「EP-4002」、「EP-4004」等)、藉由使雙酚F型環氧樹脂之醇性羥基與表氯醇進行反應而獲得之環氧樹脂(例如日本化藥公司製造之「NER-7406」(環氧當量350，軟化點66℃))、雙酚S型環氧樹脂、聯苯縮水甘油醚(例如三菱化學公司製造之「YX-4000」)、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂(例如日本化藥公司製造之「EPPN-201」，三菱化學公司製造之「EP-152」、「EP-154」，Dow Chemical公司製造之「DEN-438」)、(鄰/間/對)甲酚酚醛清漆型環氧樹脂(例如日本化藥公司製造之「EOCN(註冊商標，以下相同)-102S」、「EOCN-1020」、「EOCN-104S」)、異氰尿酸三縮水甘油酯(例如日產化學公司製造之「TEPIC(註冊商標)」)、三苯酚甲烷型環氧樹脂(例如日本化藥公司製造之「EPPN(註冊商標，以下相同)-501」、「EPPN-502」、「EPPN-503」)、脂環式環氧樹脂(Diacel公司製造之「Celloxide(註冊商標，以下相同)2021P」、「Celloxide EHPE」)、將由二環戊二烯與苯酚之反應所獲得之酚樹脂進行縮水甘油基化而獲得之環氧樹脂(例如DIC公司製造之「EXA-7200」、日本化藥公司製造之「NC-7300」)、下述通式(B1)～(B4)所表示之環氧樹脂等。具體而言，作為下述通式(B1)所表示之環氧樹脂，可列舉日本化藥公司製造之「XD-1000」，作為下述通式(B2)所表示之環氧樹脂，可列舉日本化藥公司製造之「NC-3000」，作為下述通式(B4)所表示之環氧樹脂，可列舉新日鐵住金化學公司製造之「ESF-300」等。 [化6]
Figure 02_image017
上述通式(B1)中，a為平均值，表示0～10之數，R111 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1～8之烷基、碳數3～10之環烷基、苯基、萘基、或聯苯基。再者，1分子中所存在之複數個R111 分別可相同亦可不同。 [化7]
Figure 02_image019
上述通式(B2)中，b為平均值，表示0～10之數，R121 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1～8之烷基、碳數3～10之環烷基、苯基、萘基、或聯苯基。再者，1分子中所存在之複數個R121 分別可相同亦可不同。 [化8]
Figure 02_image021
上述通式(B3)中，X表示下述通式(B3-1)或(B3-2)所表示之連結基。其中，分子結構中包含1個以上之金剛烷結構。c表示2或3。 [化9]
Figure 02_image023
上述通式(B3-1)及(B3-2)中，R131 ～R134 及R135 ～R137 分別獨立地表示可具有取代基之金剛烷基、氫原子、可具有取代基之碳數1～12之烷基、或可具有取代基之苯基，*表示鍵結鍵。 [化10]
Figure 02_image025
上述通式(B4)中，p及q分別獨立地表示0～4之整數，R141 及R142 分別獨立地表示碳數1～4之烷基或鹵素原子，R143 及R144 分別獨立地表示碳數1～4之伸烷基，x及y分別獨立地表示0以上之整數。 該等之中，較佳為使用通式(B1)～(B4)之任一者所表示之環氧樹脂。 作為α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯，可列舉：(甲基)丙烯酸、丁烯酸、鄰、間或對乙烯基苯甲酸、(甲基)丙烯酸之α位鹵烷基、烷氧基、鹵素、硝基、氰基取代體等單羧酸，琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、己二酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、六氫鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、順丁烯二酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、己二酸2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、四氫鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、順丁烯二酸2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基丁酯、己二酸2-(甲基)丙烯醯氧基丁酯、氫鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基丁酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基丁酯、順丁烯二酸2-(甲基)丙烯醯氧基丁酯，對(甲基)丙烯酸加成ε-己內酯、β-丙內酯、γ-丁內酯、δ-戊內酯等內酯類而獲得之單體，或者對(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯加成琥珀酸(酐)、鄰苯二甲酸(酐)、順丁烯二酸(酐)等酸(酐)而獲得之單體，(甲基)丙烯酸二聚物等。 該等之中，就感度方面而言，尤佳者為(甲基)丙烯酸。 作為對環氧樹脂加成α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之方法，可採用公知方法。例如可於酯化觸媒之存在下，於50～150℃之溫度下，使α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯與環氧樹脂進行反應。此處，作為所使用之酯化觸媒，可使用三乙基胺、三甲基胺、苄基二甲基胺、苄基二乙基胺等三級胺，氯化四甲基銨、氯化四乙基銨、氯化十二烷基三甲基銨等四級銨鹽等。 再者，關於環氧樹脂、α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯、及酯化觸媒各成分，分別可僅選擇使用1種，亦可將2種以上併用。 關於α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之使用量，相對於環氧樹脂之環氧基1當量，較佳為0.5～1.2當量之範圍，進而較佳為0.7～1.1當量之範圍。藉由將α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之使用量設為上述下限值以上，有可抑制不飽和基之導入量之不足，容易使後續與多元酸及/或其酐之反應充分進行之傾向。另一方面，藉由設為上述上限值以下，有可抑制α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之未反應物之殘存，容易優化硬化特性之傾向。 作為多元酸及/或其酐，可列舉選自順丁烯二酸、琥珀酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、二苯甲酮四羧酸、甲基六氫鄰苯二甲酸、內亞甲基四氫鄰苯二甲酸、氯菌酸、甲基四氫鄰苯二甲酸、聯苯四羧酸、及該等之酸酐等中之1種或2種以上。 較佳為順丁烯二酸、琥珀酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、聯苯四羧酸、或該等之酸酐。尤佳為四氫鄰苯二甲酸、聯苯四羧酸、四氫鄰苯二甲酸酐、或聯苯四羧酸二酐。 關於多元酸及/或其酐之加成反應，亦可採用公知方法，可於與對環氧樹脂加成α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之加成反應相同之條件下，繼續反應而獲得目標物。關於多元酸及/或其酐成分之加成量，較佳為如使所生成之含羧基之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之酸值成為10～150 mgKOH/g之範圍左右，進而較佳為如使酸值成為20～140 mgKOH/g之範圍左右。藉由設為上述下限值以上，有鹼性顯影性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有硬化性能變得良好之傾向。 再者，於該多元酸及/或其酐之加成反應時，亦可添加三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇等多官能醇(多元醇)，而製成導入有多分支結構者。 含羧基之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂通常藉由如下方式獲得：於環氧樹脂與α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之反應物中混合多元酸及/或其酐後，或者於環氧樹脂與α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之反應物中混合多元酸及/或其酐及多官能醇後，進行加溫。於該情形時，多元酸及/或其酐與多官能醇之混合順序並無特別限制。藉由加溫，針對環氧樹脂與α,β-不飽和單羧酸或具有羧基之α,β-不飽和單羧酸酯之反應物和多官能醇之混合物中所存在之任意某個羥基，多元酸及/或其酐與之進行加成反應。 作為環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂，除上述者以外，可列舉韓國公開專利第10-2013-0022955號公報中記載者等。 環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂藉由凝膠滲透層析法(GPC)所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)通常為1000以上，較佳為1500以上，更佳為2000以上，更佳為3000以上，進而較佳為4000以上，尤佳為5000以上，又，通常為10000以下，較佳為8000以下，更佳為7000以下。藉由設為上述下限值以上，有可抑制於顯影液中之溶解性變得過高之傾向，藉由設為上述上限值以下，有容易使於顯影液中之溶解性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1000～10000，可更佳地列舉1500～8000，可進而較佳地列舉2000～8000，可進而更佳地列舉3000～8000，可尤佳地列舉4000～8000，可最佳地列舉5000～7000。 環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之酸值並無特別限定，較佳為10 mgKOH/g以上，更佳為20 mgKOH/g以上，進而較佳為40 mgKOH/g以上，進而更佳為50 mgKOH/g以上，又，較佳為200 mgKOH/g以下，更佳為150 mgKOH/g以下，進而較佳為120 mgKOH/g以下，尤佳為100 mgKOH/g以下。藉由設為上述下限值以上，有可獲得適度之顯影溶解性之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有可抑制因顯影過度進行而膜溶解之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～200 mgKOH/g，可更佳地列舉20～150 mgKOH/g，可進而較佳地列舉40～100 mgKOH/g，可尤佳地列舉50～100 mgKOH/g。 環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之化學結構並無特別限定，就顯影性、可靠性之觀點而言，較佳為含有具有下述通式(b1-I)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂(以下有時簡記為「(b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂」)及/或具有下述通式(b1-II)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂(以下有時簡記為「(b1-II)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂」)。 [化11]
Figure 02_image027
式(b1-I)中，R11 表示氫原子或甲基，R12 表示可具有取代基之2價烴基，*表示鍵結鍵。式(b1-I)中之苯環可進而經任意之取代基取代。 [化12]
Figure 02_image029
式(b1-II)中，R13 分別獨立地表示氫原子或甲基，R14 表示具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基，R15 及R16 分別獨立地表示可具有取代基之2價脂肪族基，m及n分別獨立地表示0～2之整數，*表示鍵結鍵。 ＜(b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂＞ 首先，對上述具有通式(b1-I)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂進行詳細說明。 [化13]
Figure 02_image031
式(b1-I)中，R11 表示氫原子或甲基，R12 表示可具有取代基之2價烴基，*表示鍵結鍵。式(b1-I)中之苯環可進而經任意之取代基取代。 (R12 ) 上述式(b1-I)中，R12 表示可具有取代基之2價烴基。 作為2價烴基，可列舉：2價脂肪族基、2價芳香族環基、由1個以上之2價脂肪族基與1個以上之2價芳香族環基連結而成之基。 2價脂肪族基可列舉直鏈狀、支鏈狀、環狀者。該等之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈狀者。另一方面，就減輕顯影液向曝光部之浸透之觀點而言，較佳為環狀者。其碳數通常為1以上，較佳為3以上，更佳為6以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～20，可更佳地列舉3～15，可進而較佳地列舉6～10。 作為2價直鏈狀脂肪族基之具體例，可列舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸正丁基、伸正戊基、伸正己基、伸正庚基等。該等之中，就骨架之剛性之觀點而言，較佳為亞甲基。 作為2價支鏈狀脂肪族基，可列舉於上述2價直鏈狀脂肪族基上具有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基等作為側鏈之結構。 2價環狀脂肪族基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為12以下，較佳為10以下。藉由設為上述下限值以上，有成為牢固之膜、基板密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。作為2價環狀脂肪族基之具體例，可列舉自環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環、環十二烷環、二環戊二烯等環去除2個氫原子所獲得之基。該等之中，就骨架之剛性之觀點而言，較佳為自二環戊二烯環、金剛烷環去除2個氫原子所獲得之基。 作為2價脂肪族基可具有之取代基，可列舉：甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基等。該等之中，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 又，作為2價芳香族環基，可列舉2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基。其碳數通常為4以上，較佳為5以上，更佳為6以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～20，可更佳地列舉5～15，可進而較佳地列舉6～10。 作為2價芳香族烴環基中之芳香族烴環，可為單環，亦可為縮合環。作為芳香族烴環基，例如可列舉：具有2個自由原子價之苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、䓛環、聯三伸苯環、乙烷合萘環、螢蒽環、茀環等之基。 又，作為芳香族雜環基中之芳香族雜環，可為單環，亦可為縮合環。作為芳香族雜環基，例如可列舉：具有2個自由原子價之呋喃環、苯并呋喃環、噻吩環、苯并噻吩環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、㗁二唑環、吲哚環、咔唑環、吡咯并咪唑環、吡咯并吡唑環、吡咯并吡咯環、噻吩并吡咯環、噻吩并噻吩環、呋喃并吡咯環、呋喃并呋喃環、噻吩并呋喃環、苯并異㗁唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、吡啶環、吡𠯤環、嗒𠯤環、嘧啶環、三𠯤環、喹啉環、異喹啉環、㖕啉環、喹㗁啉環、啡啶環、苯并咪唑環、呸啶環、喹唑啉環、喹唑啉酮環、薁環等之基。 該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為具有2個自由原子價之苯環或萘環，更佳為具有2個自由原子價之苯環。 作為2價芳香族環基可具有之取代基，可列舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基等。該等之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為未經取代。 又，作為由1個以上之2價脂肪族基與1個以上之2價芳香族環基連結而成之基，可列舉由1個以上之上述2價脂肪族基與1個以上之上述2價芳香族環基連結而成之基。 2價脂肪族基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常10以下，較佳為5以下，更佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉2～3。 2價芳香族環基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常10以下，較佳為5以下，更佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉2～3。 作為由1個以上之2價脂肪族基與1個以上之2價芳香族環基連結而成之基之具體例，可列舉下述式(b1-I-A)～(b1-I-F)所表示之基等。該等之中，就骨架之剛性與膜之疏水化之觀點而言，較佳為下述式(b1-I-A)所表示之基。 [化14]
Figure 02_image033
如上所述，式(b1-I)中之苯環可進而經任意之取代基取代。作為該取代基，例如可列舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基等。取代基之數量亦無特別限定，可為1個，亦可為2個以上。 該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為未經取代。 又，上述式(b1-I)所表示之部分結構就易合成性之觀點而言，較佳為下述式(b1-I-1)所表示之部分結構。 [化15]
Figure 02_image035
式(b1-I-1)中，R11 及R12 與上述式(b1-I)中含義相同，RX 表示氫原子或多元酸殘基，*表示鍵結鍵。式(b1-I-1)中之苯環可進而經任意之取代基取代。 所謂多元酸殘基，意指自多元酸或其酐去除1個OH基而獲得之1價基。作為多元酸，可列舉：選自順丁烯二酸、琥珀酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、二苯甲酮四羧酸、甲基六氫鄰苯二甲酸、內亞甲基四氫鄰苯二甲酸、氯菌酸、甲基四氫鄰苯二甲酸、聯苯四羧酸中之1種或2種以上。 該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為順丁烯二酸、琥珀酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、聯苯四羧酸，更佳為四氫鄰苯二甲酸、聯苯四羧酸、聯苯四羧酸。 (b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂1分子中所含之上述式(b1-I-1)所表示之部分結構可為1種，亦可為2種以上，例如，RX 為氫原子者與RX 為多元酸殘基者可混合存在。 又，(b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂1分子中所含之上述式(b1-I)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為3以上，又，較佳為20以下，進而較佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～20，可更佳地列舉3～15。 (b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂藉由凝膠滲透層析法(GPC)所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)並無特別限定，較佳為1000以上，更佳為1500以上，進而較佳為2000以上，進而更佳為3000以上，尤佳為4000以上，最佳為5000以上，又，較佳為30000以下，更佳為20000以下，進而較佳為10000以下，尤佳為8000以下。藉由設為上述下限值以上，有感光性著色組合物之殘膜率變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有解像性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1000～30000，可更佳地列1500～20000，可進而較佳地列2000～10000，可進而更佳地列3000～10000，可尤佳地列4000～80000，可最佳地列舉5000～8000。 (b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之酸值並無特別限定，較佳為10 mgKOH/g以上，更佳為20 mgKOH/g以上，進而較佳為40 mgKOH/g以上，進而更佳為50 mgKOH/g以上，尤佳為80 mgKOH/g以上，又，較佳為200 mgKOH/g以下，更佳為150 mgKOH/g以下，進而更佳為130 mgKOH/g以下，尤佳為100 mgKOH/g以下。藉由設為上述下限值以上，有顯影溶解性提高、解像性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有感光性著色組合物之殘膜率變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～200 mgKOH/g，可更佳地列舉20～150 mgKOH/g，可進而較佳地列舉40～100 mgKOH/g，可進而更佳地列舉50～100 mgKOH/g，可尤佳地列舉80～100 mgKOH/g。 以下，列舉(b1-I)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之具體例。再者，例中之*表示鍵結鍵。 [化16]
Figure 02_image037
[化17]
Figure 02_image039
[化18]
Figure 02_image041
[化19]
Figure 02_image043
＜(b1-II)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂＞ 其次，對上述具有通式(b1-II)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂進行詳細說明。 [化20]
Figure 02_image045
式(b1-II)中，R13 分別獨立地表示氫原子或甲基，R14 表示具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基，R15 及R16 分別獨立地表示可具有取代基之2價脂肪族基，m及n分別獨立地表示0～2之整數，*表示鍵結鍵。 (R14 ) 上述通式(b1-II)中，R14 表示具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基。 作為環狀烴基，可列舉脂肪族環基或芳香族環基。 脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為10以下，較佳為5以下，更佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉2～3。 又，脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～40，可更佳地列舉6～30，可進而較佳地列舉8～20。 作為脂肪族環基中之脂肪族環之具體例，可列舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環、環十二烷環等。該等之中，就感光性著色組合物之殘膜率與解像性之觀點而言，較佳為金剛烷環。 另一方面，芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，通常為10以下，較佳為5以下，更佳為4以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉3～4。 作為芳香族環基，可列舉芳香族烴環基、芳香族雜環基。又，芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，進而更佳為10以上，尤佳為12以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有圖案化特性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～40，可更佳地列舉6～30，可進而較佳地列舉8～20，可尤佳地列舉10～15。 作為芳香族環基中之芳香族環之具體例，可列舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、䓛環、聯三伸苯環、乙烷合萘環、螢蒽環、茀環等。該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為茀環。 又，具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基中之2價烴基並無特別限定，例如可列舉：2價脂肪族基、2價芳香族環基、由1個以上之2價脂肪族基與1個以上之2價芳香族環基連結而成之基。 2價脂肪族基可列舉直鏈狀、支鏈狀、環狀者。該等之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈狀者，另一方面，就減輕顯影液向曝光部之浸透之觀點而言，較佳為環狀者。其碳數通常為1以上，較佳為3以上，更佳為6以上，又，較佳為25以下，更佳為20以下，進而較佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～25，可更佳地列舉3～20，可進而較佳地列舉6～15。 作為2價直鏈狀脂肪族基之具體例，可列舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸正丁基、伸正戊基、伸正己基、伸正庚基等。該等之中，就骨架之剛性之觀點而言，較佳為亞甲基。 作為2價支鏈狀脂肪族基，可列舉於上述2價直鏈狀脂肪族基上具有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基等作為側鏈之結構。 2價環狀脂肪族基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為10以下，較佳為5以下，進而較佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有成為牢固之膜、基板密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉2～3。 作為2價環狀脂肪族基之具體例，可列舉自環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環、環十二烷環等環去除2個氫原子所獲得之基。該等之中，就骨架之剛性之觀點而言，較佳為自金剛烷環去除2個氫原子所獲得之基。 作為2價脂肪族基可具有之取代基，可列舉：甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基等。該等之中，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 又，作為2價芳香族環基，可列舉2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基。其碳數通常為4以上，較佳為5以上，更佳為6以上，又，較佳為30以下，更佳為20以下，進而較佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～30，可更佳地列舉5～20，可進而較佳地列舉6～15。 作為2價芳香族烴環基中之芳香族烴環，可為單環，亦可為縮合環。作為芳香族烴環基，例如可列舉：具有2個自由原子價之苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、䓛環、聯三伸苯環、乙烷合萘環、螢蒽環、茀環等之基。 又，作為芳香族雜環基中之芳香族雜環，可為單環，亦可為縮合環。作為芳香族雜環基，例如可列舉：具有2個自由原子價之呋喃環、苯并呋喃環、噻吩環、苯并噻吩環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、㗁二唑環、吲哚環、咔唑環、吡咯并咪唑環、吡咯并吡唑環、吡咯并吡咯環、噻吩并吡咯環、噻吩并噻吩環、呋喃并吡咯環、呋喃并呋喃環、噻吩并呋喃環、苯并異㗁唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、吡啶環、吡𠯤環、嗒𠯤環、嘧啶環、三𠯤環、喹啉環、異喹啉環、㖕啉環、喹㗁啉環、啡啶環、苯并咪唑環、呸啶環、喹唑啉環、喹唑啉酮環、薁環等之基。該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為具有2個自由原子價之苯環或萘環，更佳為具有2個自由原子價之苯環。 作為2價芳香族環基可具有之取代基，可列舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基等。該等之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為未經取代。 又，作為由1個以上之2價脂肪族基與1個以上之2價芳香族環基連結而成之基，可列舉由1個以上之上述2價脂肪族基與1個以上之上述2價芳香族環基連結而成之基。 2價脂肪族基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為10以下，較佳為5以下，更佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉2～3。 2價芳香族環基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為10以下，較佳為5以下，更佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉2～3。 作為由1個以上之2價脂肪族基與1個以上之2價芳香族環基連結而成之基之具體例，可列舉上述式(b1-I-A)～(b1-I-F)所表示之基等。該等之中，就骨架之剛性與膜之疏水化之觀點而言，較佳為上述式(b1-I-C)所表示之基。 作為側鏈之環狀烴基於該等2價烴基上之鍵結態樣並無特別限定，例如可列舉：以該側鏈取代脂肪族基或芳香族環基之1個氫原子之態樣、或者將脂肪族基之1個碳原子包括在內而構成作為側鏈之環狀烴基之態樣。 (R15 、R16 ) 上述通式(b1-II)中，R15 及R16 分別獨立地表示可具有取代基之2價脂肪族基。 2價脂肪族基可列舉直鏈狀、支鏈狀、環狀者。該等之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈狀者，另一方面，就減輕顯影液向曝光部之浸透之觀點而言，較佳為環狀者。其碳數通常為1以上，較佳為3以上，更佳為6以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙、對基板之密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～20，可更佳地列舉3～15，可進而較佳地列舉6～10。 作為2價直鏈狀脂肪族基之具體例，可列舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸正丁基、伸正戊基、伸正己基、伸正庚基等。該等之中，就骨架之剛性之觀點而言，較佳為亞甲基。 作為2價支鏈狀脂肪族基，可列舉於上述2價直鏈狀脂肪族基上具有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基等作為側鏈之結構。 2價環狀脂肪族基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為12以下，較佳為10以下。藉由設為上述下限值以上，有成為牢固之膜、基板密接性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～12，可更佳地列舉2～10。 作為2價環狀脂肪族基之具體例，可列舉自環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環、環十二烷環、二環戊二烯等環去除2個氫原子所獲得之基。該等之中，就骨架之剛性之觀點而言，較佳為自二環戊二烯環、金剛烷環去除2個氫原子所獲得之基。 作為2價脂肪族基可具有之取代基，可列舉：甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基等。該等之中，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 (m、n) 上述通式(b1-II)中，m及n分別獨立地表示0～2之整數。藉由設為上述下限值以上，有圖案化適合性變得良好、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有顯影性變得良好之傾向。就顯影性之觀點而言，m及n較佳為0。另一方面，就圖案化適合性、表面粗糙之觀點而言，m及n較佳為1以上。 又，上述通式(b1-II)所表示之部分結構就對基板之密接性之觀點而言，較佳為下述通式(b1-II-1)所表示之部分結構。 [化21]
Figure 02_image047
式(b1-II-1)中，R13 、R15 、R16 、m及n與上述式(b1-II)中含義相同，Rα 表示可具有取代基之1價環狀烴基，p為1以上之整數，*表示鍵結鍵。式(b1-II-1)中之苯環可進而經任意之取代基取代。 (Rα ) 上述通式(b1-II-1)中，Rα 表示可具有取代基之1價環狀烴基。 作為環狀烴基，可列舉脂肪族環基或芳香族環基。 脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為6以下，較佳為4以下，更佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有圖案化特性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～6，可更佳地列舉2～4，可進而較佳地列舉2～3。 又，脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有圖案化特性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～40，可更佳地列舉6～30，可進而較佳地列舉8～20，可尤佳地列舉8～15。 作為脂肪族環基中之脂肪族環之具體例，可列舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環、環十二烷環等。該等之中，就牢固之膜特性之觀點而言，較佳為金剛烷環。 另一方面，芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，通常為10以下，較佳為5以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有圖案化特性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉3～5。 作為芳香族環基，可列舉芳香族烴環基、芳香族雜環基。又，芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為5以上，更佳為6以上，又，較佳為30以下，更佳為20以下，進而較佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有圖案化特性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～30，可更佳地列舉5～20，可進而較佳地列舉6～15。 作為芳香族環基中之芳香族環之具體例，可列舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、茀環等。該等之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為茀環。 作為環狀烴基可具有之取代基，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、異戊基等碳數1～5之烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基等。該等之中，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 p表示1以上之整數，較佳為2以上，又，較佳為3以下。藉由設為上述下限值以上，有膜硬化度與殘膜率變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有顯影性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～3，可更佳地列舉2～3。 該等之中，就牢固之膜硬化度之觀點而言，Rα 較佳為1價脂肪族環基，更佳為金剛烷基。 如上所述，式(b1-II-1)中之苯環可進而經任意之取代基取代。作為該取代基，例如可列舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基等。取代基之數量亦無特別限定，可為1個，亦可為2個以上。 該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為未經取代。 以下，列舉上述式(b1-II-1)所表示之部分結構之具體例。 [化22]
Figure 02_image049
[化23]
Figure 02_image051
[化24]
Figure 02_image053
[化25]
Figure 02_image055
[化26]
Figure 02_image057
又，上述通式(b1-II)所表示之部分結構就骨架之剛性及膜疏水化之觀點而言，較佳為下述通式(b1-II-2)所表示之部分結構。 [化27]
Figure 02_image059
式(b1-II-2)中，R13 、R15 、R16 、m及n與上述式(b1-II)中含義相同，Rβ 表示可具有取代基之2價環狀烴基，*表示鍵結鍵。式(b1-II-2)中之苯環可進而經任意之取代基取代。 (Rβ ) 上述式(b1-II-2)中，Rβ 表示可具有取代基之2價環狀烴基。 作為環狀烴基，可列舉脂肪族環基或芳香族環基。 脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為10以下，較佳為5以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5。 又，脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為35以下，進而較佳為30以下。藉由設為上述下限值以上，有抑制顯影時之膜粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制顯影時膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～40，可更佳地列舉6～35，可進而較佳地列舉8～30。 作為脂肪族環基中之脂肪族環之具體例，可列舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環、環十二烷環等。該等之中，就顯影時之膜減少、解像性之觀點而言，較佳為金剛烷環。 另一方面，芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，通常為10以下，較佳為5以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5，可進而較佳地列舉3～5。 作為芳香族環基，可列舉芳香族烴環基、芳香族雜環基。又，芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，進而較佳為10以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉4～40，可更佳地列舉6～30，可進而較佳地列舉8～20，可尤佳地列舉10～15。 作為芳香族環基中之芳香族環之具體例，可列舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、茀環等。該等之中，就顯影性之觀點而言，較佳為茀環。 作為環狀烴基可具有之取代基，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、異戊基等碳數1～5之烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基等。該等之中，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 該等之中，就抑制膜減少、解像性之觀點而言，Rβ 較佳為2價脂肪族環基，更佳為2價金剛烷環基。 另一方面，就圖案化特性之觀點而言，Rβ 較佳為2價芳香族環基，更佳為2價茀環基。 如上所述，式(b1-II-2)中之苯環可進而經任意之取代基取代。作為該取代基，例如可列舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基等。取代基之數量亦無特別限定，可為1個，亦可為2個以上。 又，2個苯環可經由取代基而連結。作為該情形時之取代基，可列舉：-O-、-S-、-NH-、-CH2 -等2價基。 該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為未經取代。又，就不易產生膜減少等之觀點而言，較佳為經甲基取代。 以下，列舉上述式(b1-II-2)所表示之部分結構之具體例。再者，例中之*表示鍵結鍵。 [化28]
Figure 02_image061
[化29]
Figure 02_image063
[化30]
Figure 02_image065
[化31]
Figure 02_image067
另一方面，上述式(b1-II)所表示之部分結構就塗膜殘膜率與圖案化特性之觀點而言，較佳為下述式(b1-II-3)所表示之部分結構。 [化32]
Figure 02_image069
式(b1-II-3)中，R13 、R14 、R15 、R16 、m及n與上述式(b1-II)中含義相同，RZ 表示氫原子或多元酸殘基。 所謂多元酸殘基，意指自多元酸或其酐去除1個OH基而獲得之1價基。再者，亦可進而再去除1個OH基而與式(b1-II-3)所表示之其他分子中之RZ 共用OH基，即，複數個式(b1-II-3)可經由RZ 而連結。 作為多元酸，可列舉選自順丁烯二酸、琥珀酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、二苯甲酮四羧酸、甲基六氫鄰苯二甲酸、內亞甲基四氫鄰苯二甲酸、氯菌酸、甲基四氫鄰苯二甲酸、聯苯四羧酸中之1種或2種以上。 該等之中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為順丁烯二酸、琥珀酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、聯苯四羧酸，更佳為四氫鄰苯二甲酸、聯苯四羧酸、聯苯四羧酸。 (b1-II)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂1分子中所含之上述式(b1-II-3)所表示之部分結構可為1種，亦可為2種以上，例如，RZ 為氫原子者與RZ 為多元酸殘基者可混合存在。 又，(b1-II)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂1分子中所含之上述式(b1-II)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為3以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制感度劣化或抑制膜減少，解像性有提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～20，可更佳地列舉3～15，可進而較佳地列舉3～10。 (b1-II)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂藉由凝膠滲透層析法(GPC)所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)並無特別限定，較佳為1000以上，更佳為2000以上，又，較佳為30000以下，更佳為20000以下，進而較佳為10000以下，進而更佳為7000以下，尤佳為5000以下。藉由設為上述下限值以上，有圖案化特性變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易獲得牢固之膜、不易產生表面粗糙之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1000～30000，可更佳地列舉1000～20000，可進而較佳地列舉2000～10000，可進而更佳地列舉2000～7000，可尤佳地列舉2000～5000。 (b1-II)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之酸值並無特別限定，較佳為10 mgKOH/g以上，更佳為20 mgKOH/g以上，進而較佳為40 mgKOH/g以上，進而更佳為60 mgKOH/g以上，尤佳為80 mgKOH/g以上，最佳為100 mgKOH/g以上，又，較佳為200 mgKOH/g以下，更佳為150 mgKOH/g以下，進而較佳為120gKOH/g以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得牢固之膜之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有顯影溶解性提高、解像性變得良好之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～200 mgKOH/g，可更佳地列舉20～150 mgKOH/g，可進而較佳地列舉40～150 mgKOH/g，可進而更佳地列舉60～120 mgKOH/g，可尤佳地列舉80～120 mgKOH/g。 環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂可單獨使用1種，亦可將2種以上之樹脂混合使用。 又，可將上述環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之一部分換用為其他黏合劑樹脂。即，可將環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂與其他黏合劑樹脂併用。於該情形時，較佳為將(b)鹼可溶性樹脂中之環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之比率設為50質量%以上，更佳為設為60質量%以上，進而較佳為設為70質量%以上，尤佳為設為80質量%以上，又，通常設為100質量%以下。 例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉50～100質量%，可更佳地列舉60～100質量%，可進而較佳地列舉70～100質量%，可尤佳地列舉80～100質量%。 能夠與環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂併用之其他黏合劑樹脂並無限制，自感光性著色組合物通常使用之樹脂中選擇即可。例如可列舉：日本專利特開2007-271727號公報、日本專利特開2007-316620號公報、日本專利特開2007-334290號公報等中所記載之黏合劑樹脂等。再者，其他黏合劑樹脂均可單獨使用1種或將2種以上組合使用。 又，作為(b)鹼可溶性樹脂，就與顏料或分散劑等之相溶性之觀點而言，較佳為使用(b2)丙烯酸系共聚合樹脂，可較佳地使用日本專利特開2014-137466號公報中記載者。 作為丙烯酸系共聚合樹脂，例如可列舉：具有1個以上之羧基之乙烯性不飽和單體(以下記為「不飽和單體(b2-1)」)與其他能夠進行共聚合之乙烯性不飽和單體(以下記為「不飽和單體(b2-2)」)的共聚合物。 作為不飽和單體(b2-1)，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、桂皮酸等不飽和單羧酸；順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、檸康酸、檸康酸酐、中康酸等不飽和二羧酸或其酐；琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯等二元以上之多元羧酸之單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯；ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等兩末端具有羧基與羥基之聚合物之單(甲基)丙烯酸酯；對乙烯基苯甲酸等。 該等不飽和單體(b2-1)可單獨使用或將2種以上混合使用。 又，作為不飽和單體(b2-2)，例如可列舉：N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺等N-取代順丁烯二醯亞胺； 苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對羥基苯乙烯、對羥基-α-甲基苯乙烯、對乙烯基苄基縮水甘油醚、乙烯合萘等芳香族乙烯系化合物； (甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、聚乙二醇(聚合度2～10)甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(聚合度2～10)甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(聚合度2～10)單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(聚合度2～10)單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、(甲基)丙烯酸三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸4-羥基苯酯、對異丙苯基苯酚之環氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、3-[(甲基)丙烯醯氧基甲基]氧雜環丁烷、3-[(甲基)丙烯醯氧基甲基]-3-乙基氧雜環丁烷等(甲基)丙烯酸酯； 環己基乙烯醚、異𦯉基乙烯醚、三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基乙烯醚、五環十五烷基乙烯醚、3-(乙烯氧基甲基)-3-乙基氧雜環丁烷等乙烯醚； 聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸正丁酯、聚矽氧烷等於聚合物分子鏈之末端具有單(甲基)丙烯醯基之巨單體等。 該等不飽和單體(b2-2)可單獨使用或將2種以上混合使用。 於不飽和單體(b2-1)與不飽和單體(b2-2)之共聚物中，該共聚物中之不飽和單體(b2-1)之共聚比率較佳為5～50質量%，更佳為10～40質量%。藉由使不飽和單體(b2-1)於此範圍內進行共聚，有可獲得鹼性顯影性及保存穩定性優異之感光性著色組合物之傾向。 作為不飽和單體(b2-1)與不飽和單體(b2-2)之共聚物之具體例，例如可列舉：日本專利特開平7-140654號公報、日本專利特開平8-259876號公報、日本專利特開平10-31308號公報、日本專利特開平10-300922號公報、日本專利特開平11-174224號公報、日本專利特開平11-258415號公報、日本專利特開2000-56118號公報、日本專利特開2004-101728號公報等中揭示之共聚物。 不飽和單體(b2-1)與不飽和單體(b2-2)之共聚物可藉由公知方法製造，亦可藉由例如日本專利特開2003-222717號公報、日本專利特開2006-259680號公報、國際公開第2007/029871號等中揭示之方法而控制其結構或Mw、Mw/Mn。 ＜(c)光聚合起始劑＞ (c)光聚合起始劑係具有直接吸收光而引發分解反應或奪氫反應，產生聚合活性自由基之功能之成分。視需要亦可添加使用聚合促進劑(鏈轉移劑)、增感色素等附加劑。 作為光聚合起始劑，例如可列舉：日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號公報中所記載之包含二茂鈦化合物之二茂金屬化合物；日本專利特開2000-56118號公報中所記載之六芳基聯咪唑衍生物；日本專利特開平10-39503號公報記載之鹵甲基化㗁二唑衍生物、鹵甲基均三𠯤衍生物；α-胺基烷基苯酮衍生物；日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2006-36750號公報等中所記載之肟酯系化合物等。 具體而言，例如，作為二茂鈦衍生物類，可列舉：二氯化二環戊二烯基鈦、二環戊二烯基鈦聯苯、二環戊二烯基鈦雙(2,3,4,5,6-五氟苯-1-基)、二環戊二烯基鈦雙(2,3,5,6-四氟苯-1-基)、二環戊二烯基鈦雙(2,4,6-三氟苯-1-基)、二環戊二烯基鈦二(2,6-二氟苯-1-基)、二環戊二烯基鈦二(2,4-二氟苯-1-基)、二(甲基環戊二烯基)鈦雙(2,3,4,5,6-五氟苯-1-基)、二(甲基環戊二烯基)鈦雙(2,6-二氟苯-1-基)、二環戊二烯基鈦[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯-1-基]等。 又，作為六芳基聯咪唑衍生物類，可列舉：2-(2'-氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(2'-氯苯基)-4,5-雙(3'-甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(2'-氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(2'-甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、(4'-甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物等。 又，作為鹵甲基化㗁二唑衍生物類，可列舉：2-三氯甲基-5-(2'-苯并呋喃基)-1,3,4-㗁二唑、2-三氯甲基-5-[β-(2'-苯并呋喃基)乙烯基]-1,3,4-㗁二唑、2-三氯甲基-5-[β-(2'-(6''-苯并呋喃基)乙烯基)]-1,3,4-㗁二唑、2-三氯甲基-5-呋喃基-1,3,4-㗁二唑等。 又，作為鹵甲基均三𠯤衍生物類，可列舉：2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)均三𠯤、2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)均三𠯤、2-(4-乙氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)均三𠯤、2-(4-乙氧基羰基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)均三𠯤等。 又，作為α-胺基烷基苯酮衍生物類，可列舉：2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-𠰌啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-𠰌啉基苯基)-丁酮-1、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-𠰌啉基苯基)丁烷-1-酮、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯、4-二乙基胺基苯乙酮、4-二甲基胺基苯丙酮、1,4-二甲基胺基苯甲酸2-乙基己酯、2,5-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環己酮、7-二乙基胺基-3-(4-二乙基胺基苯甲醯基)香豆素、4-(二乙基胺基)查耳酮等。 作為光聚合起始劑，尤其就感度或製版性之方面而言有效的是肟酯系化合物，於使用包含酚性羥基之鹼可溶性樹脂之情形等時，尤其是此種感度優異之肟酯系化合物有用。肟酯系化合物於其結構中同時具有吸收紫外線之結構、傳遞光能之結構及產生自由基之結構，因此以少量即可實現較高感度、且於熱反應時穩定，使用少量便能夠獲得高感度之感光性著色組合物。 作為肟酯系化合物，例如可列舉下述通式(IV)所表示之化合物。 [化33]
Figure 02_image071
上述式(IV)中，R21a 表示氫原子、可具有取代基之烷基、或可具有取代基之芳香族環基，R21b 表示包含芳香環或雜芳香環之任意之取代基，R22a 表示可具有取代基之烷醯基、或可具有取代基之芳醯基。 R21a 中之烷基之碳數並無特別限定，就於溶劑中之溶解性或感度之觀點而言，通常為1以上，較佳為2以上，又，通常為20以下，較佳為15以下，更佳為10以下。作為烷基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、環戊基乙基、丙基等。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～20，可更佳地列舉2～15，可進而較佳地列舉2～10。 作為烷基可具有之取代基，可列舉：芳香族環基、羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基、4-(2-甲氧基-1-甲基)乙氧基-2-甲基苯基或N-乙醯基-N-乙醯氧基胺基等，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 作為R21a 中之芳香族環基，可列舉芳香族烴環基及芳香族雜環基。芳香族環基之碳數並無特別限定，就於感光性著色組合物中之溶解性之觀點而言，較佳為5以上。又，就顯影性之觀點而言，較佳為30以下，更佳為20以下，進而較佳為12以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～30，可更佳地列舉5～20，可進而較佳地列舉5～12。 作為芳香族環基之具體例，可列舉：苯基、萘基、吡啶基、呋喃基等，該等之中，就顯影性之觀點而言，較佳為苯基或萘基，更佳為苯基。 作為芳香族環基可具有之取代基，可列舉：羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基、烷基、烷氧基、由該等取代基連結而成之基等，就顯影性之觀點而言，較佳為烷基、烷氧基、由該等連結而成之基，更佳為連結而成之烷氧基。 該等之中，就顯影性之觀點而言，R21a 較佳為可具有取代基之芳香族環基，進而較佳為取代基中具有連結而成之烷氧基之芳香族環基。 又，作為R21b ，可較佳地列舉：可經取代之咔唑基、可經取代之9-氧硫𠮿
Figure 107105470-A0304-12-01
基或可經取代之二苯硫醚基。該等之中，就感度之觀點而言，較佳為可經取代之咔唑基。另一方面，就電性可靠性之觀點而言，較佳為可經取代之二苯硫醚基。 又，R22a 中之烷醯基之碳數並無特別限定，就於溶劑中之溶解性或感度之觀點而言，通常為2以上，較佳為3以上，又，通常為20以下，較佳為15以下，更佳為10以下，進而較佳為5以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉2～20，可更佳地列舉2～15，可進而較佳地列舉3～10，可尤佳地列舉3～5。 作為烷醯基之具體例，可列舉：乙醯基、丙醯基、丁醯基等。 作為烷醯基可具有之取代基，可列舉：芳香族環基、羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基等，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 又，R22a 中之芳醯基之碳數並無特別限定，就於溶劑中之溶解性或感度之觀點而言，通常為7以上，較佳為8以上，又，通常為20以下，較佳為15以下，更佳為10以下。作為芳醯基之具體例，可列舉：苯甲醯基、萘甲醯基等。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉7～20，可更佳地列舉8～15，可進而較佳地列舉8～10。 作為芳醯基可具有之取代基，可列舉：羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基、烷基等，就易合成性之觀點而言，較佳為未經取代。 該等之中，就感度之觀點而言，R22a 較佳為可具有取代基之烷醯基，更佳為未經取代之烷醯基，進而較佳為乙醯基。 光聚合起始劑可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。 為了提高感應感度，視需要可於光聚合起始劑中調配與圖像曝光光源之波長對應之增感色素、聚合促進劑。作為增感色素，可列舉：日本專利特開平4-221958號公報、日本專利特開平4-219756號公報中所記載之𠮿
Figure 107105470-A0304-12-01
色素，日本專利特開平3-239703號公報、日本專利特開平5-289335號公報中所記載之具有雜環之香豆素色素，日本專利特開平3-239703號公報、日本專利特開平5-289335號公報中所記載之3-酮基香豆素化合物，日本專利特開平6-19240號公報中所記載之吡咯亞甲基色素，以及日本專利特開昭47-2528號公報、日本專利特開昭54-155292號公報、日本專利特公昭45-37377號公報、日本專利特開昭48-84183號公報、日本專利特開昭52-112681號公報、日本專利特開昭58-15503號公報、日本專利特開昭60-88005號公報、日本專利特開昭59-56403號公報、日本專利特開平2-69號公報、日本專利特開昭57-168088號公報、日本專利特開平5-107761號公報、日本專利特開平5-210240號公報、日本專利特開平4-288818號公報中所記載之具有二烷基胺基苯骨架之色素等。 該等增感色素中之較佳者為含胺基之增感色素，更佳者為同一分子內具有胺基及苯基之化合物。尤佳者例如為4,4'-二甲基胺基二苯甲酮、4,4'-二乙基胺基二苯甲酮、2-胺基二苯甲酮、4-胺基二苯甲酮、4,4'-二胺基二苯甲酮、3,3'-二胺基二苯甲酮、3,4-二胺基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物；2-(對二甲基胺基苯基)苯并㗁唑、2-(對二乙基胺基苯基)苯并㗁唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并[4,5]苯并㗁唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并[6,7]苯并㗁唑、2,5-雙(對二乙基胺基苯基)-1,3,4-㗁唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并噻唑、2-(對二乙基胺基苯基)苯并噻唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并咪唑、2-(對二乙基胺基苯基)苯并咪唑、2,5-雙(對二乙基胺基苯基)-1,3,4-噻二唑、(對二甲基胺基苯基)吡啶、(對二乙基胺基苯基)吡啶、(對二甲基胺基苯基)喹啉、(對二乙基胺基苯基)喹啉、(對二甲基胺基苯基)嘧啶、(對二乙基胺基苯基)嘧啶等含對二烷基胺基苯基之化合物等。其中，最佳者為4,4'-二烷基胺基二苯甲酮。 增感色素可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 作為聚合促進劑，例如可使用：對二甲基胺基苯甲酸乙酯、2-二甲基胺基苯甲酸乙酯等芳香族胺，正丁基胺、N-甲基二乙醇胺等脂肪族胺，下述巰基化合物等。聚合促進劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 ＜(d)乙烯性不飽和化合物＞ 本發明之感光性著色組合物含有(d)乙烯性不飽和化合物。藉由含有(d)乙烯性不飽和化合物，感度提高。 本發明中使用之乙烯性不飽和化合物係於分子內具有至少1個乙烯性不飽和基之化合物。具體而言，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯、丙烯腈、苯乙烯、及具有1個乙烯性不飽和鍵之羧酸與多元或一元醇之單酯等。 本發明中，尤其理想的是使用1分子中具有2個以上之乙烯性不飽和基之多官能乙烯性單體。多官能乙烯性單體所具有之乙烯性不飽和基之數量並無特別限定，通常為2個以上，較佳為4個以上，更佳為5個以上，又，較佳為8個以下，更佳為7個以下。藉由設為上述下限值以上，有成為高感度之傾向，藉由設為上述上限值以下，有於溶劑中之溶解性提高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉2～8個，可更佳地列舉4～7個，可進而較佳地列舉5～7個。 作為多官能乙烯性單體之例，例如可列舉：脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸之酯，芳香族聚羥基化合物與不飽和羧酸之酯，藉由脂肪族聚羥基化合物、芳香族聚羥基化合物等多價羥基化合物與不飽和羧酸及多元羧酸之酯化反應所獲得之酯等。 作為上述脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸之酯，可列舉：乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、甘油丙烯酸酯等脂肪族聚羥基化合物之丙烯酸酯，將該等例示化合物之丙烯酸酯替換為甲基丙烯酸酯而獲得之甲基丙烯酸酯，同樣地替換為伊康酸酯而獲得之伊康酸酯、替換為丁烯酸酯而獲得之丁烯酸酯、或替換為順丁烯二酸酯而獲得之順丁烯二酸酯等。 作為芳香族聚羥基化合物與不飽和羧酸之酯，可列舉：對苯二酚二丙烯酸酯、對苯二酚二甲基丙烯酸酯、間苯二酚二丙烯酸酯、間苯二酚二甲基丙烯酸酯、鄰苯三酚三丙烯酸酯等芳香族聚羥基化合物之丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯等。 藉由多元羧酸及不飽和羧酸與多價羥基化合物之酯化反應所獲得之酯未必是單一物質，但若舉出代表性之具體例，則可列舉：丙烯酸、鄰苯二甲酸及乙二醇之縮合物，丙烯酸、順丁烯二酸及二乙二醇之縮合物，甲基丙烯酸、對苯二甲酸及季戊四醇之縮合物，丙烯酸、己二酸、丁二醇及甘油之縮合物等。 除此以外，作為本發明中可使用之多官能乙烯性單體之例，有用的是：如使聚異氰酸酯化合物與含羥基之(甲基)丙烯酸酯反應、或使聚異氰酸酯化合物與多元醇及含羥基之(甲基)丙烯酸酯反應而獲得之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類；如多元環氧化合物與羥基(甲基)丙烯酸酯或(甲基)丙烯酸之加成反應物之環氧丙烯酸酯類；伸乙基雙丙烯醯胺等丙烯醯胺類；鄰苯二甲酸二烯丙酯等烯丙酯類；鄰苯二甲酸二乙烯酯等含乙烯基之化合物等。 作為上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類，例如可列舉：DPHA-40H、UX-5000、UX-5002D-P20、UX-5003D、UX-5005(日本化藥公司製造)，U-2PPA、U-6LPA、U-10PA、U-33H、UA-53H、UA-32P、UA-1100H(新中村化學工業公司製造)，UA-306H、UA-510H、UF-8001G(共榮社化學公司製造)，UV-1700B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7630B、UV7640B(日本合成化學工業公司製造)等。 該等之中，就硬化性之觀點而言，作為(d)乙烯性不飽和化合物，較佳為使用(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為使用二季戊四醇六丙烯酸酯。 該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 ＜(e)溶劑＞ 本發明之感光性著色組合物含有(e)溶劑。藉由含有(e)溶劑，可使(a)著色劑溶解或分散於溶劑中，又，便於進行塗佈。 本發明之感光性著色組合物通常係以(a)著色劑、(b)鹼可溶性樹脂、(c)光聚合起始劑、(d)乙烯性不飽和化合物、(f)分散劑、及視需要使用之其他各種材料溶解或分散於溶劑中之狀態使用。溶劑之中，就分散性或塗佈性之觀點而言，較佳為有機溶劑。 有機溶劑之中，就塗佈性之觀點而言，較佳為選擇沸點為100～300℃之範圍者，更佳為選擇沸點為120～280℃之範圍者。再者，此處提及之沸點係指壓力1013.25 hPa下之沸點，關於以下沸點均相同。 作為此種有機溶劑，例如可列舉如下者。 乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇第三丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單正丁醚、甲氧基甲基戊醇、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、3-甲氧基丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、三丙二醇甲醚之類的二醇單烷基醚類； 乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚、二丙二醇二甲醚之類的二醇二烷基醚類； 乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單正丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸甲氧基戊酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單正丁醚乙酸酯、二丙二醇單甲醚乙酸酯、三乙二醇單甲醚乙酸酯、三乙二醇單乙醚乙酸酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯之類的二醇烷基醚乙酸酯類； 乙二醇二乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己醇二乙酸酯等二醇二乙酸酯類； 環己醇乙酸酯等烷基乙酸酯類； 戊醚、二乙醚、二丙醚、二異丙醚、二丁醚、二戊醚、乙基異丁醚、二己醚之類的醚類； 丙酮、甲基乙基酮、甲基戊基酮、甲基異丙基酮、甲基異戊基酮、二異丙基酮、二異丁基酮、甲基異丁基酮、環己酮、乙基戊基酮、甲基丁基酮、甲基己基酮、甲基壬基酮、甲氧基甲基戊酮之類的酮類； 乙醇、丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、甲氧基甲基戊醇、甘油、苄醇之類的一元或多元醇類； 正戊烷、正辛烷、二異丁烯、正己烷、己烯、異戊二烯、二戊烯、十二烷之類的脂肪族烴類； 環己烷、甲基環己烷、甲基環己烯、聯環己基之類的脂環式烴類； 苯、甲苯、二甲苯、異丙苯之類的芳香族烴類； 甲酸戊酯、甲酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸戊酯、異丁酸甲酯、乙二醇乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丁酸丁酯、丁酸異丁酯、異丁酸甲酯、辛酸乙酯、硬脂酸丁酯、苯甲酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、γ-丁內酯之類的鏈狀或環狀酯類； 3-甲氧基丙酸、3-乙氧基丙酸之類的烷氧基羧酸類； 氯丁烷、氯戊烷之類的鹵化烴類； 甲氧基甲基戊酮之類的醚酮類； 乙腈、苯甲腈之類的腈類等。 作為相當於上述各者之市售有機溶劑，可列舉：礦油精、Varsol#2、Apco#18溶劑、Apco稀釋劑、Socal Solvent No.1及No.2、Solvesso#150、Shell TS28溶劑、卡必醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇、甲基溶纖劑(「溶纖劑」為註冊商標。以下相同)、乙基溶纖劑、乙酸乙基溶纖劑、乙酸甲基溶纖劑、二乙二醇二甲醚(diglyme)(均為商品名)等。 該等有機溶劑可單獨使用，亦可將2種以上併用。 於藉由光微影法形成著色間隔物之情形時，作為有機溶劑，較佳為選擇沸點為100～200℃之範圍者。更佳為具有120～170℃之沸點者。 上述有機溶劑之中，就塗佈性、表面張力等之平衡性較佳，組合物中之構成成分之溶解度相對較高之方面而言，較佳為二醇烷基醚乙酸酯類。 又，二醇烷基醚乙酸酯類可單獨使用，但亦可與其他有機溶劑併用。作為併用之有機溶劑，尤佳為二醇單烷基醚類。其中，尤其就組合物中之構成成分之溶解性而言，較佳為丙二醇單甲醚。 再者，二醇單烷基醚類之極性較高，若添加量過多，則有顏料容易凝集，其後獲得之感光性著色組合物之黏度上升等保存穩定性降低之傾向，因此溶劑中之二醇單烷基醚類之比率較佳為5質量%～30質量%，更佳為5質量%～20質量%。 又，亦較佳為併用具有150℃以上之沸點之有機溶劑(以下有時稱為「高沸點溶劑」)。藉由併用此種高沸點溶劑，感光性著色組合物不易變乾，具有防止因急遽乾燥而破壞顏料於組合物中之均勻分散狀態之效果。即，例如具有防止於狹縫噴嘴前端部因著色劑等析出、固化而產生異物缺陷之效果。就此種效果較顯著之方面而言，上述各種溶劑之中，尤佳為二乙二醇單正丁醚、二乙二醇單正丁醚乙酸酯、及二乙二醇單乙醚乙酸酯。 於併用高沸點溶劑之情形時，有機溶劑中之高沸點溶劑之含有比率較佳為3質量%～50質量%，更佳為5質量%～40質量%，尤佳為5質量%～30質量%。藉由設為上述下限值以上，有例如可抑制於狹縫噴嘴前端部因色料等析出、固化而引起異物缺陷之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有可抑制組合物之乾燥溫度推遲，抑制減壓乾燥製程之工站時間(tact)不良、或預烘烤之銷痕跡等問題之傾向。 再者，沸點150℃以上之高沸點溶劑可為二醇烷基醚乙酸酯類，或亦可為二醇烷基醚類，於該情形時，可不再另外含有沸點150℃以上之高沸點溶劑。 作為較佳之高沸點溶劑，例如於上述各種溶劑之中，可列舉：二乙二醇單正丁醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己醇二乙酸酯、三乙酸甘油酯等。 ＜(f)分散劑＞ 為了確保本發明之感光性著色組合物之品質穩定性，重要的是(a)著色劑之微細分散且其分散狀態之穩定化，因此本發明之感光性著色組合物含有(f)分散劑。 作為(f)分散劑，較佳為具有官能基之高分子分散劑，進而，就分散穩定性之方面而言，較佳為具有羧基，磷酸基、磺酸基、或該等之鹽基，一級、二級或三級胺基，四級銨鹽基，源自吡啶、嘧啶、吡𠯤等含氮雜環之基等官能基的高分子分散劑。其中，尤其就於使顏料分散時以少量之分散劑即可實現分散之觀點而言，尤佳為具有一級、二級或三級胺基，四級銨鹽基，源自吡啶、嘧啶、吡𠯤等含氮雜環之基等鹼性官能基的高分子分散劑。 又，作為高分子分散劑，例如可列舉：胺基甲酸酯系分散劑、丙烯酸系分散劑、聚伸乙基亞胺系分散劑、聚烯丙胺系分散劑、包含具有胺基之單體與巨單體之分散劑、聚氧乙烯烷基醚系分散劑、聚氧乙烯二酯系分散劑、聚醚磷酸系分散劑、聚酯磷酸系分散劑、山梨醇酐脂肪族酯系分散劑、脂肪族改性聚酯系分散劑等。 作為此種分散劑之具體例，以商品名表示，可列舉：EFKA(註冊商標，BASF公司製造)、DISPERBYK(註冊商標，BYK-Chemie公司製造)、Disbaron(註冊商標，楠本化成公司製造)、SOLSPERSE(註冊商標，Lubrizol公司製造)、KP(信越化學工業公司製造)、Polyflow(共榮社化學公司製造)、Ajisper(註冊商標，味之素公司製造)等。 該等高分子分散劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 高分子分散劑之重量平均分子量(Mw)通常為700以上，較佳為1000以上，又，通常為100000以下，較佳為50000以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉700～100000，可更佳地列舉1000～50000。 該等之中，就顏料之分散性之觀點而言，(f)分散劑較佳為包含具有官能基之胺基甲酸酯系高分子分散劑及/或丙烯酸系高分子分散劑，尤佳為包含丙烯酸系高分子分散劑。 又，就分散性、保存性之方面而言，較佳為具有鹼性官能基、且具有聚酯鍵及/或聚醚鍵之高分子分散劑。 作為胺基甲酸酯系及丙烯酸系高分子分散劑，例如可列舉：DISPERBYK 160～166、182系列(均為胺基甲酸酯系)，DISPERBYK 2000、2001、BYK-LPN21116等(均為丙烯酸系)(以上全部由BYK-Chemie公司製造)。 作為胺基甲酸酯系高分子分散劑，若具體地例示較佳之化學結構，則例如可列舉：藉由使聚異氰酸酯化合物、與分子內具有1個或2個羥基之數量平均分子量300～10000之化合物、及分子內具有活性氫與三級胺基之化合物進行反應而獲得之重量平均分子量1000～200000之分散樹脂等。藉由利用苄基氯等四級化劑對該等加以處理，可使全部或部分之三級胺基變為四級銨鹽基。 作為上述聚異氰酸酯化合物之例，可列舉：對苯二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、萘-1,5-二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯，六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸甲酯二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二聚酸二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯，異佛爾酮二異氰酸酯、4,4'-亞甲基雙(異氰酸環己酯)、ω,ω'-二異氰酸基二甲基環己烷等脂環族二異氰酸酯，苯二甲基二異氰酸酯、α,α,α',α'-四甲基苯二甲基二異氰酸酯等具有芳香環之脂肪族二異氰酸酯，離胺酸酯三異氰酸酯、1,6,11-十一烷三異氰酸酯、1,8-二異氰酸基-4-異氰酸基甲基辛烷、1,3,6-六亞甲基三異氰酸酯、聯環庚烷三異氰酸酯、三(異氰酸基苯基甲烷)、硫代磷酸三(異氰酸基苯基)酯等三異氰酸酯，及該等之三聚物、水加成物、及該等之多元醇加成物等。作為聚異氰酸酯，較佳為有機二異氰酸酯之三聚物，最佳為甲苯二異氰酸酯之三聚物與異佛爾酮二異氰酸酯之三聚物。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 作為異氰酸酯之三聚物之製造方法，可列舉如下方法：對於上述聚異氰酸酯類，使用適宜之三量化觸媒，例如三級胺類、膦類、烷氧化物類、金屬氧化物、羧酸鹽類等而引起異氰酸基之部分性之三聚作用，藉由添加觸媒毒而中止三聚作用後，藉由溶劑萃取、薄膜蒸餾而去除未反應之聚異氰酸酯，從而獲得目標之含異氰尿酸基之聚異氰酸酯。 作為分子內具有1個或2個羥基之數量平均分子量300～10000之化合物，可列舉：聚醚二醇、聚酯二醇、聚碳酸酯二醇、聚烯烴二醇等，及利用碳數1～25之烷基將該等化合物之一末端羥基進行烷氧基化而獲得者，及該等2種以上之混合物。 作為聚醚二醇，可列舉：聚醚二醇(diol)、聚醚酯二醇(diol)、及該等2種以上之混合物。作為聚醚二醇(diol)，可列舉使環氧烷進行均聚或共聚而獲得者，例如聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇丙二醇、聚氧四亞甲基二醇、聚氧六亞甲基二醇、聚氧八亞甲基二醇及該等2種以上之混合物。 作為聚醚酯二醇(diol)，可列舉藉由使含醚基之二醇(diol)或和其他二醇之混合物與二羧酸或該等之酐進行反應、或者使聚酯二醇與環氧烷進行反應而獲得者，例如聚(聚氧四亞甲基)己二酸酯等。作為聚醚二醇，最佳為聚乙二醇、聚丙二醇、聚氧四亞甲基二醇，或利用碳數1～25之烷基將該等化合物之一末端羥基進行烷氧基化而獲得之化合物。 作為聚酯二醇，可列舉使二羧酸(琥珀酸、戊二酸、己二酸、癸二酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、鄰苯二甲酸等)或該等之酐與二醇(乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、2,3-丁二醇、3-甲基-1,5-戊二醇(diol)、新戊二醇、2-甲基-1,3-丙二醇(diol)、2-甲基-2-丙基-1,3-丙二醇(diol)、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇(diol)、1,5-戊二醇(diol)、1,6-己二醇(diol)、2-甲基-2,4-戊二醇(diol)、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇(diol)、2-乙基-1,3-己二醇(diol)、2,5-二甲基-2,5-己二醇(diol)、1,8-八亞甲基二醇、2-甲基-1,8-八亞甲基二醇、1,9-壬二醇(diol)等脂肪族二醇，雙羥基甲基環己烷等脂環族二醇，苯二甲醇、雙羥基乙氧基苯等芳香族二醇，N-甲基二乙醇胺等N-烷基二烷醇胺等)進行縮聚所獲得者，例如聚己二酸乙二酯、聚己二酸丁二酯、聚六亞甲基己二酸酯、聚己二酸乙二醇丙二醇酯等；或可列舉使用上述二醇(diol)類或碳數1～25之一元醇作為起始劑而獲得之聚內酯二醇(diol)或聚內酯單醇，例如聚己內酯二醇、聚甲基戊內酯及該等2種以上之混合物。作為聚酯二醇，最佳為聚己內酯二醇或以碳數1～25之醇作為起始劑而獲得之聚己內酯。 作為聚碳酸酯二醇，可列舉：聚(1,6-伸己基)碳酸酯、聚(3-甲基-1,5-伸戊基)碳酸酯等；作為聚烯烴二醇，可列舉：聚丁二烯二醇、氫化型聚丁二烯二醇、氫化型聚異戊二烯二醇等。 該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 同一分子內具有1個或2個羥基之化合物之數量平均分子量通常為300～10000，較佳為500～6000，更佳為1000～4000。 對本發明中使用之同一分子內具有活性氫與三級胺基之化合物進行說明。 作為活性氫，即，直接鍵結於氧原子、氮原子或硫原子上之氫原子，可列舉羥基、胺基、硫醇基等官能基中之氫原子，其中，較佳為胺基、尤其是一級胺基之氫原子。 三級胺基並無特別限定，例如可列舉具有碳數1～4之烷基之胺基，或可列舉雜環結構，更具體而言咪唑環或三唑環等。 若例示此種同一分子內具有活性氫與三級胺基之化合物，則可列舉：N,N-二甲基-1,3-丙二胺、N,N-二乙基-1,3-丙二胺、N,N-二丙基-1,3-丙二胺、N,N-二丁基-1,3-丙二胺、N,N-二甲基乙二胺、N,N-二乙基乙二胺、N,N-二丙基乙二胺、N,N-二丁基乙二胺、N,N-二甲基-1,4-丁二胺、N,N-二乙基-1,4-丁二胺、N,N-二丙基-1,4-丁二胺、N,N-二丁基-1,4-丁二胺等。 又，作為三級胺基為含氮雜環結構之情形時之該含氮雜環，可列舉：吡唑環、咪唑環、三唑環、四唑環、吲哚環、咔唑環、吲唑環、苯并咪唑環、苯并三唑環、苯并㗁唑環、苯并噻唑環、苯并噻二唑環等含氮雜5員環，吡啶環、嗒𠯤環、嘧啶環、三𠯤環、喹啉環、吖啶環、異喹啉環等含氮雜6員環。該等含氮雜環之中，較佳為咪唑環或三唑環。 若具體地例示該等具有咪唑環與胺基之化合物，則可列舉：1-(3-胺基丙基)咪唑、組胺酸、2-胺基咪唑、1-(2-胺基乙基)咪唑等。又，若具體地例示具有三唑環與胺基之化合物，則可列舉：3-胺基-1,2,4-三唑、5-(2-胺基-5-氯苯基)-3-苯基-1H-1,2,4-三唑、4-胺基-4H-1,2,4-三唑-3,5-二醇、3-胺基-5-苯基-1H-1,3,4-三唑、5-胺基-1,4-二苯基-1,2,3-三唑、3-胺基-1-苄基-1H-2,4-三唑等。其中，較佳為N,N-二甲基-1,3-丙二胺、N,N-二乙基-1,3-丙二胺、1-(3-胺基丙基)咪唑、3-胺基-1,2,4-三唑。 該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 關於製造胺基甲酸酯系高分子分散劑時之原料之較佳調配比率，相對於聚異氰酸酯化合物100質量份，同一分子內具有1個或2個羥基之數量平均分子量300～10000之化合物為10～200質量份，較佳為20～190質量份，更佳為30～180質量份；同一分子內具有活性氫與三級胺基之化合物為0.2～25質量份，較佳為0.3～24質量份。 關於胺基甲酸酯系高分子分散劑之製造，可依據聚胺基甲酸酯樹脂之公知之製造方法進行。作為製造時之溶劑，通常使用：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、異佛爾酮等酮類，乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸溶纖劑等酯類，苯、甲苯、二甲苯、己烷等烴類，二丙酮醇、異丙醇、第二丁醇、第三丁醇等部分醇類，二氯甲烷、氯仿等氯化物，四氫呋喃、二乙醚等醚類，二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲基亞碸等非質子性極性溶劑等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 上述製造時，通常使用胺基甲酸酯化反應觸媒。作為該觸媒，例如可列舉：二月桂酸二丁基錫、二月桂酸二辛基錫、二辛酸二丁基錫、辛酸亞錫等錫系，乙醯丙酮酸鐵、氯化鐵等鐵系，三乙胺、三乙二胺等三級胺系等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 同一分子內具有活性氫與三級胺基之化合物之導入量較佳為控制為以反應後之胺值計為1～100 mgKOH/g之範圍。更佳為5～95 mgKOH/g之範圍。胺值係利用酸中和滴定鹼性胺基時與酸值對應之以KOH之mg數表示之值。藉由設為上述下限值以上，有分散能力變得良好之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制顯影性之降低之傾向。 再者，於以上反應時高分子分散劑中殘存異氰酸基之情形時，若進而利用醇或胺基化合物消除異氰酸基，則生成物之經時穩定性變高，因此較佳。 胺基甲酸酯系高分子分散劑之重量平均分子量(Mw)通常為1000～200000，較佳為2000～100000，更佳為3000～50000之範圍。藉由設為上述下限值以上，有分散性及分散穩定性變得良好之傾向，藉由設為上述上限值以下，有容易抑制溶解性或分散性之降低之傾向。 另一方面，作為丙烯酸系高分子分散劑，較佳為使用具有官能基(此處所謂官能基係上述作為高分子分散劑所含有之官能基而說明之官能基)之含不飽和基之單體與不具有官能基之含不飽和基之單體的無規共聚物、接枝共聚物、嵌段共聚物。該等共聚物可藉由公知方法而製造。 作為具有官能基之含不飽和基之單體，作為具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、六氫鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、丙烯酸二聚物等具有羧基之不飽和單體，(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯及該等之四級化物等具有三級胺基、四級銨鹽基之不飽和單體。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 作為不具有官能基之含不飽和基之單體，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、三環癸烷(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、N-乙烯基吡咯啶酮、苯乙烯及其衍生物、α-甲基苯乙烯、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-苄基順丁烯二醯亞胺等N-取代順丁烯二醯亞胺、丙烯腈、乙酸乙烯酯及聚(甲基)丙烯酸甲酯巨單體、聚苯乙烯巨單體、聚(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯巨單體、聚乙二醇巨單體、聚丙二醇巨單體、聚己內酯巨單體等巨單體等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 丙烯酸系高分子分散劑尤佳為包含具有官能基之A嵌段與不具有官能基之B嵌段的A-B或B-A-B嵌段共聚物，於該情形時，A嵌段中除含有源自上述包含官能基之含不飽和基之單體的部分結構以外，亦可含有源自上述不含官能基之含不飽和基之單體的部分結構，該等可以無規共聚或嵌段共聚之任意態樣含有於該A嵌段中。又，不含官能基之部分結構於A嵌段中之含有比率通常為80質量%以下，較佳為50質量%以下，更佳為30質量%以下。 B嵌段含有源自上述不含官能基之含不飽和基之單體的部分結構，1個B嵌段中可含有源自2種以上之單體之部分結構，該等可以無規共聚或嵌段共聚之任意態樣含有於該B嵌段中。 該A-B或B-A-B嵌段共聚物例如藉由以下所示之活性聚合法製備。 關於活性聚合法，有陰離子活性聚合法、陽離子活性聚合法、自由基活性聚合法，其中，陰離子活性聚合法之聚合活性種為陰離子，例如以下述流程表示。 [化34]
Figure 02_image073
上述流程中，Ar1 為1價有機基，Ar2 為與Ar1 不同之1價有機基，M為金屬原子，s及t分別為1以上之整數。 自由基活性聚合法之聚合活性種為自由基，例如以下述流程表示。 [化35]
Figure 02_image075
上述流程中，Ar1 為1價有機基，Ar2 為與Ar1 不同之1價有機基，j及k分別為1以上之整數，Ra 為氫原子或1價有機基，Rb 為與Ra 不同之氫原子或1價有機基。 於合成該丙烯酸系高分子分散劑時，可採用日本專利特開平9-62002號公報；或P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79(1984)；B.C. Anderson, G.D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601(1981)；K. Hatada, K.Ute, et al, Polym. J. 17, 977(1985)、18, 1037(1986)；右手浩一、畑田耕一，高分子加工，36, 366(1987)；東村敏延、澤本光男，高分子論文集，46, 189(1989)；M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737(1987)；相田卓三、井上祥平，有機合成化學，43, 300(1985)；D.Y. Sogoh, W.R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473(1987)等中所記載之公知方法。 本發明中可使用之丙烯酸系高分子分散劑可為A-B嵌段共聚物，亦可為B-A-B嵌段共聚物，構成該共聚物之A嵌段/B嵌段比較佳為1/99～80/20，尤佳為5/95～60/40(質量比)，藉由設為該範圍內，有可確保分散性與保存穩定性之平衡性之傾向。 又，本發明中可使用之A-B嵌段共聚物、B-A-B嵌段共聚物1 g中之四級銨鹽基之量通常較佳為0.1～10 mmol，藉由設為該範圍內，有可確保良好之分散性之傾向。 再者，此種嵌段共聚物中通常存在含有製造過程中產生之胺基之情況，其胺值為1～100 mgKOH/g左右，就分散性之觀點而言，較佳為10 mgKOH/g以上，更佳為30 mgKOH/g以上，進而較佳為50 mgKOH/g以上，又，較佳為90 mgKOH/g以下，更佳為80 mgKOH/g以下，進而較佳為75 mgKOH/g以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～90 mgKOH/g，可更佳地列舉30～80 mgKOH/g，可列舉50～75 mgKOH/g。 此處，該等嵌段共聚物等分散劑之胺值係由與分散劑試樣中之除溶劑以外之固形物成分每1 g之鹼量等量之KOH之質量表示，並藉由以下方法進行測定。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～90 mgKOH/g，可更佳地列舉30～80 mgKOH/g，可進而較佳地列舉50～75 mgKOH/g。 精確稱量0.5～1.5 g分散劑試樣置於100 mL之燒杯內，利用50 mL之乙酸進行溶解。使用具備pH電極之自動滴定裝置，利用0.1 mol/L之HClO4 乙酸溶液對該溶液進行中和滴定。以滴定pH曲線之反曲點作為滴定終點，根據下式求出胺值。 胺值[mgKOH/g]＝(561×V)/(W×S) [其中，W表示分散劑試樣稱取量[g]，V表示滴定終點時之滴定量[mL]，S表示分散劑試樣之固形物成分濃度[質量%]] 又，該嵌段共聚物之胺值取決於有無作為該酸值來源之酸性基及種類，一般宜較低，通常為10 mgKOH/g以下，其重量平均分子量(Mw)較佳為1000～100000之範圍。藉由設為上述範圍內，有可確保良好之分散性之傾向。 於丙烯酸系高分子分散劑具有四級銨鹽基作為官能基之情形時，丙烯酸系高分子分散劑之具體結構並無特別限定，就分散性之觀點而言，較佳為具有下述式(i)所表示之重複單元(以下有時記為「重複單元(i)」)。 [化36]
Figure 02_image077
上述式(i)中，R31 ～R33 分別獨立地為氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、或可具有取代基之芳烷基，R31 ～R33 中之兩者以上亦可相互鍵結而形成環狀結構，R34 為氫原子或甲基，X為2價連結基，Y- 為抗衡陰離子。 上述式(i)之R31 ～R33 中之可具有取代基之烷基之碳數並無特別限定，通常為1以上，又，較佳為10以下，更佳為6以下。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉1～6。 作為烷基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基等，該等之中，較佳為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、或己基，更佳為甲基、乙基、丙基、或丁基。又，可為直鏈狀、支鏈狀之任意形狀。又，亦可包含環己基、環己基甲基等環狀結構。 上述式(i)之R31 ～R33 中之可具有取代基之芳基之碳數並無特別限定，通常為6以上，又，較佳為16以下，更佳為12以下。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉6～16，可更佳地列舉6～12。 作為芳基之具體例，可列舉：苯基、甲基苯基、乙基苯基、二甲基苯基、二乙基苯基、萘基、蒽基等，該等之中，較佳為苯基、甲基苯基、乙基苯基、二甲基苯基、或二乙基苯基，更佳為苯基、甲基苯基、或乙基苯基。 上述式(i)之R31 ～R33 中之可具有取代基之芳烷基之碳數並無特別限定，通常為7以上，又，較佳為16以下，更佳為12以下。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉7～16，可更佳地列舉7～12。 作為芳烷基之具體例，可列舉：苯基甲基(苄基)、苯基乙基(苯乙基)、苯基丙基、苯基丁基、苯基異丙基等，該等之中，較佳為苯基甲基、苯基乙基、苯基丙基、或苯基丁基，更佳為苯基甲基、或苯基乙基。 該等之中，就分散性之觀點而言，R31 ～R33 較佳為分別獨立為烷基或芳烷基，具體而言，較佳為R31 及R33 分別獨立為甲基或乙基，且R32 為苯基亞甲基或苯基伸乙基，進而較佳為R31 及R33 為甲基，且R32 為苯基亞甲基。 又，於丙烯酸系高分子分散劑具有三級胺作為官能基之情形時，就分散性之觀點而言，較佳為具有下述式(ii)所表示之重複單元(以下有時記為「重複單元(ii)」)。 [化37]
Figure 02_image079
上述式(ii)中，R35 及R36 分別獨立地為氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、或可具有取代基之芳烷基，R35 及R36 亦可相互鍵結而形成環狀結構，R37 為氫原子或甲基，Z為2價連結基。 又，作為上述式(ii)之R35 及R36 中之可具有取代基之烷基，可較佳地採用作為上述式(i)之R31 ～R33 所例示者。 同樣地，作為上述式(ii)之R35 及R36 中之可具有取代基之芳基，可較佳地採用作為上述式(i)之R31 ～R33 所例示者。又，作為上述式(ii)之R35 及R36 中之可具有取代基之芳烷基，可較佳地採用作為上述式(i)之R31 ～R33 所例示者。 該等之中，R35 及R36 較佳為分別獨立為可具有取代基之烷基，更佳為甲基或乙基。 作為上述式(i)之R31 ～R33 以及上述式(ii)之R35 及R36 中之烷基、芳烷基或芳基可具有之取代基，可列舉：鹵素原子、烷氧基、苯甲醯基、羥基等。 上述式(i)及(ii)中，作為2價連結基X及Z，例如可列舉：碳數1～10之伸烷基、碳數6～12之伸芳基、-CONH-R43 -基、-COOR44 -基[其中，R43 及R44 為單鍵、碳數1～10之伸烷基、或碳數2～10之醚基(烷基氧基烷基)]等，較佳為-COO-R44 -基。 又，上述式(i)中，作為抗衡陰離子之Y- ，可列舉：Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、BF4 - 、CH3 COO- 、PF6 - 等。 上述式(i)所表示之重複單元之含有比率並無特別限定，就分散性之觀點而言，相對於上述式(i)所表示之重複單元之含有比率與上述式(ii)所表示之重複單元之含有比率的合計，較佳為60莫耳%以下，更佳為50莫耳%以下，進而較佳為40莫耳%以下，尤佳為35莫耳%以下，又，較佳為5莫耳%以上，更佳為10莫耳%以上，進而較佳為20莫耳%以上，尤佳為30莫耳%以上。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～60莫耳%，可更佳地列舉10～50莫耳%，可進而較佳地列舉20～40莫耳%，可尤佳地列舉30～40莫耳%。 又，上述式(i)所表示之重複單元於高分子分散劑之全部重複單元中所占之含有比率並無特別限定，就分散性之觀點而言，較佳為1莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為10莫耳%以上，又，較佳為50莫耳%以下，更佳為30莫耳%以下，進而較佳為20莫耳%以下，尤佳為15莫耳%以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～50莫耳%，可更佳地列舉5～30莫耳%，可進而較佳地10～20莫耳%，可尤佳地列舉10～15莫耳%。 又，上述式(ii)所表示之重複單元於高分子分散劑之全部重複單元中所占之含有比率並無特別限定，就分散性之觀點而言，較佳為5莫耳%以上，更佳為10莫耳%以上，進而較佳為15莫耳%以上，尤佳為20莫耳%以上，又，較佳為60莫耳%以下，更佳為40莫耳%以下，進而較佳為30莫耳%以下，尤佳為25莫耳%以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～60莫耳%，可更佳地列舉10～40莫耳%，可進而較佳地列舉15～30莫耳%，可尤佳地列舉20～25莫耳%。 又，就提高與溶劑等黏合劑成分之相溶性、提高分散穩定性之觀點而言，高分子分散劑較佳為具有下述式(iii)所表示之重複單元(以下有時記為「重複單元(iii)」)。 [化38]
Figure 02_image081
上述式(iii)中，R40 為伸乙基或伸丙基，R41 為可具有取代基之烷基，R42 為氫原子或甲基，n為1～20之整數。 上述式(iii)之R41 中之可具有取代基之烷基之碳數並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為6以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～6。 作為烷基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基等，該等之中，較佳為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、或己基，更佳為甲基、乙基、丙基、或丁基。又，可為直鏈狀、支鏈狀之任意形狀。又，亦可包含環己基、環己基甲基等環狀結構。 又，就與溶劑等黏合劑成分之相溶性及分散性之觀點而言，上述式(iii)中之n較佳為1以上，更佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～5。 又，上述式(iii)所表示之重複單元於高分子分散劑之全部重複單元中所占之含有比率並無特別限定，較佳為1莫耳%以上，更佳為2莫耳%以上，進而較佳為4莫耳%以上，又，較佳為30莫耳%以下，更佳為20莫耳%以下，進而較佳為10莫耳%以下。若為上述範圍內，則有能夠兼備與溶劑等黏合劑成分之相溶性及分散穩定性之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～30莫耳%，可更佳地列舉2～20莫耳%，可進而較佳地列舉4～10莫耳%。 又，就提高分散劑與溶劑等黏合劑成分之相溶性、提高分散穩定性之觀點而言，高分子分散劑較佳為具有下述式(iv)所表示之重複單元(以下有時記為「重複單元(iv)」)。 [化39]
Figure 02_image083
上述式(iv)中，R38 為可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、或可具有取代基之芳烷基，R39 為氫原子或甲基。 上述式(iv)之R38 中之可具有取代基之烷基之碳數並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為4以上，又，較佳為10以下，更佳為8以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10，可更佳地列舉2～8，可進而較佳地列舉4～8。 作為烷基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基等，該等之中，較佳為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、或己基，更佳為甲基、乙基、丙基、或丁基。又，可為直鏈狀、支鏈狀之任意形狀。又，亦可包含環己基、環己基甲基等環狀結構。 上述式(iv)之R38 中之可具有取代基之芳基之碳數並無特別限定，通常為6以上，又，較佳為16以下，更佳為12以下，進而較佳為8以下。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉6～16，可更佳地列舉6～12，可進而較佳地列舉6～8。 作為芳基之具體例，可列舉：苯基、甲基苯基、乙基苯基、二甲基苯基、二乙基苯基、萘基、蒽基等，該等之中，較佳為苯基、甲基苯基、乙基苯基、二甲基苯基、或二乙基苯基，更佳為苯基、甲基苯基、或乙基苯基。 上述式(iv)之R38 中之可具有取代基之芳烷基之碳數並無特別限定，通常為7以上，又，較佳為16以下，更佳為12以下，進而較佳為10以下。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉7～16，可更佳地列舉7～12，可進而較佳地列舉7～10。 作為芳烷基之具體例，可列舉：苯基甲基、苯基乙基、苯基丙基、苯基丁基、苯基異丙基等，該等之中，較佳為苯基甲基、苯基乙基、苯基丙基、或苯基丁基，更佳為苯基甲基、或苯基乙基。 該等之中，就溶劑相溶性與分散穩定性之觀點而言，R38 較佳為烷基、或芳烷基，更佳為甲基、乙基、或苯基甲基。 作為R38 中之烷基可具有之取代基，可列舉：鹵素原子、烷氧基等。又，作為芳基或芳烷基可具有之取代基，可列舉：鏈狀烷基、鹵素原子、烷氧基等。又，R38 所表示鏈狀烷基包含直鏈狀及支鏈狀之任意者。 又，上述式(iv)所表示之重複單元於高分子分散劑之全部重複單元中所占之含有比率就分散性之觀點而言，較佳為30莫耳%以上，更佳為40莫耳%以上，進而較佳為50莫耳%以上，又，較佳為80莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉30～80莫耳%，可更佳地列舉40～80莫耳%，可進而較佳地列舉50～70莫耳%。 高分子分散劑亦可具有重複單元(i)、重複單元(ii)、重複單元(iii)及重複單元(iv)以外之重複單元。作為此種重複單元之例，可列舉源自苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系單體，(甲基)丙烯醯氯等(甲基)丙烯酸鹽系單體，(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺系單體，乙酸乙烯酯，丙烯腈，烯丙基縮水甘油醚、丁烯酸縮水甘油醚，N-甲基丙烯醯基口末啉等單體之重複單元。 高分子分散劑就進一步提高分散性之觀點而言，較佳為包含具有重複單元(i)及重複單元(ii)之A嵌段、與不具有重複單元(i)及重複單元(ii)之B嵌段的嵌段共聚物。該嵌段共聚物較佳為A-B嵌段共聚物或B-A-B嵌段共聚物。意外發現藉由對A嵌段導入四級銨鹽基並導入三級胺基而有分散劑之分散能力顯著提高之傾向。又，B嵌段較佳為具有重複單元(iii)，更佳為進而具有重複單元(iv)。 重複單元(i)及重複單元(ii)可以無規共聚或嵌段共聚之任意態樣含有於A嵌段中。又，1個A嵌段中可含有各為2種以上之重複單元(i)及重複單元(ii)，於該情形時，各重複單元可以無規共聚或嵌段共聚之任意態樣含有於該A嵌段中。 又，A嵌段中可含有重複單元(i)及重複單元(ii)以外之重複單元，作為此種重複單元之例，可列舉源自上述(甲基)丙烯酸酯系單體之重複單元等。重複單元(i)及重複單元(ii)以外之重複單元於A嵌段中之含量較佳為0～50莫耳%，更佳為0～20莫耳%，最佳為A嵌段中不含該重複單元。 B嵌段中可含有重複單元(iii)及(iv)以外之重複單元，作為此種重複單元之例，可列舉源自苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系單體，(甲基)丙烯醯氯等(甲基)丙烯酸鹽系單體，(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺系單體，乙酸乙烯酯，丙烯腈，烯丙基縮水甘油醚、丁烯酸縮水甘油醚，N-甲基丙烯醯基口末啉等單體之重複單元。重複單元(iii)及重複單元(iv)以外之重複單元於B嵌段中之含有比率較佳為0～50莫耳%，更佳為0～20莫耳%，最佳為B嵌段中不含該重複單元。 又，就分散穩定性提高之方面而言，(f)分散劑較佳為與下述顏料衍生物併用。 ＜感光性著色組合物之其他調配成分＞ 本發明之感光性著色組合物中除上述成分以外，亦可適當調配矽烷偶合劑等密接提高劑、界面活性劑(塗佈性提高劑)、顏料衍生物、光酸產生劑、交聯劑、巰基化合物、聚合抑制劑、顯影改良劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑等添加劑。 (1)密接提高劑 本發明之感光性著色組合物亦可含有密接提高劑，以改善與基板之密接性。作為密接提高劑，較佳為矽烷偶合劑、含磷酸基之化合物等。 作為矽烷偶合劑之種類，可單獨使用環氧系、(甲基)丙烯酸系、胺基系等各者中之1種，亦可將2種以上混合使用。 作為較佳之矽烷偶合劑，例如可列舉：3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等(甲基)丙烯醯氧基矽烷類，2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷等環氧矽烷類，3-脲基丙基三乙氧基矽烷等脲基矽烷類，3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷等異氰酸基矽烷類；尤佳為環氧矽烷類之矽烷偶合劑。 作為含磷酸基之化合物，較佳為含(甲基)丙烯醯基之磷酸酯類，較佳為下述通式(g1)、(g2)或(g3)所表示者。 [化40]
Figure 02_image085
上述通式(g1)、(g2)及(g3)中，R51 表示氫原子或甲基，l及l'為1～10之整數，m為1、2或3。 該等含磷酸基之化合物可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 (2)界面活性劑 本發明之感光性著色組合物亦可含有界面活性劑，以提高塗佈性。 作為界面活性劑，例如可使用陰離子系、陽離子系、非離子系、兩性界面活性劑等各種界面活性劑。其中，就對各特性產生不良影響之可能性較低之方面而言，較佳為使用非離子系界面活性劑，其中，氟系或矽系之界面活性劑於塗佈性方面有效。 作為此種界面活性劑，例如可列舉：TSF4460(Momentive Performance Materials公司製造)，DFX-18(NEOS公司製造)，BYK-300、BYK-325、BYK-330(BYK-Chemie公司製造)，KP340(Shin-Etsu Silicone公司製造)，F-470、F-475、F-478、F-559(DIC公司製造)，SH7PA(Dow Corning Toray公司製造)，DS-401(Daikin公司製造)，L-77(Nippon Unicar公司製造)，FC4430(3M公司製造)等。 再者，界面活性劑可使用1種，亦可以任意之組合及比率將2種以上併用。 (3)顏料衍生物 本發明之感光性著色組合物亦可含有顏料衍生物作為分散助劑，以提高分散性、保存性。 作為顏料衍生物，可列舉：偶氮系、酞菁系、喹吖啶酮系、苯并咪唑酮系、喹酞酮系、異吲哚啉酮系、二㗁 𠯤系、蒽醌系、陰丹士林系、苝系、哌瑞酮系、吡咯并吡咯二酮系、二㗁 𠯤系等之衍生物，其中，較佳為酞菁系、喹酞酮系。 作為顏料衍生物之取代基，可列舉：磺酸基、磺醯胺基及其四級鹽、鄰苯二甲醯亞胺甲基、二烷基胺基烷基、羥基、羧基、醯胺基等直接或經由烷基、芳基、雜環基等鍵結於顏料骨架者，較佳為磺酸基。又，一個顏料骨架可經複數個該等取代基取代。 作為顏料衍生物之具體例，可列舉：酞菁之磺酸衍生物、喹酞酮之磺酸衍生物、蒽醌之磺酸衍生物、喹吖啶酮之磺酸衍生物、吡咯并吡咯二酮之磺酸衍生物、二㗁 𠯤之磺酸衍生物等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。 (4)光酸產生劑 所謂光酸產生劑係可藉由紫外線而產生酸之化合物，藉由進行曝光時產生之酸之作用，並藉由存在例如三聚氰胺化合物等交聯劑，而進行交聯反應。該光酸產生劑之中，較佳為於溶劑中之溶解性、尤其是於感光性著色組合物所使用之溶劑中之溶解性較大者，例如可列舉：二苯基錪、二甲苯基錪、苯基(對大茴香基)錪、雙(間硝基苯基)錪、雙(對第三丁基苯基)錪、雙(對氯苯基)錪、雙(正十二烷基)錪、對異丁基苯基(對甲苯基)錪、對異丙基苯基(對甲苯基)錪等二芳基錪、或三苯基鋶等三芳基鋶之氯化物、溴化物、或氟硼化鹽、六氟磷酸鹽、六氟砷酸鹽、芳香族磺酸鹽、四(五氟苯基)硼酸鹽等、或二苯基苯甲醯甲基鋶(正丁基)三苯基硼酸鹽等鋶有機硼錯合物類、或2-甲基-4,6-雙三氯甲基三𠯤、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙三氯甲基三𠯤等三𠯤化合物等，但並不限定於此。 (5)交聯劑 本發明之感光性著色組合物中可進而添加交聯劑，例如可使用三聚氰胺或胍胺系之化合物。作為該等交聯劑，例如可列舉下述通式(6)所表示之三聚氰胺或胍胺系之化合物。 [化41]
Figure 02_image087
式(6)中，R61 表示-NR66 R67 基或碳數6～12之芳基，於R61 為-NR66 R67 基之情形時，R62 、R63 、R64 、R65 、R66 及R67 中之一者表示-CH2 OR68 基，於R61 為碳數6～12之芳基之情形時，R62 、R63 、R64 及R65 中之一者表示-CH2 OR68 基，R62 、R63 、R64 、R65 、R66 及R67 中之其餘者相互獨立地表示氫或-CH2 OR68 基，R68 表示氫原子或碳數1～4之烷基。 此處，碳數6～12之芳基典型而言為苯基、1-萘基或2-萘基，該等苯基或萘基上可鍵結有烷基、烷氧基、鹵素原子等取代基。烷基及烷氧基之碳數分別可為1～6左右。R68 所表示之烷基較佳為上述中之甲基或乙基，尤其是甲基。 相當於通式(6)之三聚氰胺系化合物，即，下述通式(6-1)之化合物包含六羥甲基三聚氰胺、五羥甲基三聚氰胺、四羥甲基三聚氰胺、六甲氧基甲基三聚氰胺、五甲氧基甲基三聚氰胺、四甲氧基甲基三聚氰胺、六乙氧基甲基三聚氰胺等。 [化42]
Figure 02_image089
式(6-1)中，於R62 、R63 、R64 、R65 、R66 及R67 中之一者為芳基之情形時，R62 、R63 、R64 及R65 中之一者表示-CH2 OR68 基，R62 、R63 、R64 、R65 、R66 及R67 中之其餘者相互獨立地表示氫原子或-CH2 OR68 基，R68 表示氫原子或烷基。 又，相當於通式(6)之胍胺系化合物，即，通式(6)中之R61 為芳基之化合物包含四羥甲基苯并胍胺、四甲氧基甲基苯并胍胺、三甲氧基甲基苯并胍胺、四乙氧基甲基苯并胍胺等。 進而，亦可使用具有羥甲基或羥甲基烷基醚基之交聯劑。以下列舉其例。 2,6-雙(羥基甲基)-4-甲基苯酚、4-第三丁基-2,6-雙(羥基甲基)苯酚、5-乙基-1,3-雙(羥基甲基)全氫-1,3,5-三𠯤-2-酮(通稱N-乙基二羥甲基三𠯤酮)或其二甲醚體、二羥甲基三亞甲基脲或其二甲醚體、3,5-雙(羥基甲基)全氫-1,3,5-㗁二𠯤-4-酮(通稱二羥甲基脲)或其二甲醚體、四羥甲基乙二醛二烷基脲或其四甲醚體。 再者，該等交聯劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。關於使用交聯劑時之量，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，較佳為0.1～15質量%，尤佳為0.5～10質量%。 (6)巰基化合物 又，為了提高對基板之密接性，亦可添加巰基化合物作為聚合促進劑。 作為巰基化合物之種類，可列舉：2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并㗁唑、2-巰基苯并咪唑、己二硫醇、癸二硫醇、1,4-二甲基巰基苯、丁二醇雙硫代丙酸酯、丁二醇雙硫代乙醇酸酯、乙二醇雙硫代乙醇酸酯、三羥甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、丁二醇雙硫代丙酸酯、三羥甲基丙烷三硫代丙酸酯、三羥甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、季戊四醇四硫代丙酸酯、季戊四醇四硫代乙醇酸酯、三羥基乙基三硫代丙酸酯、乙二醇雙(3-巰基丁酸酯)、丁二醇雙(3-巰基丁酸酯)、1,4-雙(3-巰基丁醯氧基)丁烷、三羥甲基丙烷三(3-巰基丁酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、季戊四醇三(3-巰基丁酸酯)、乙二醇雙(3-巰基異丁酸酯)、丁二醇雙(3-巰基異丁酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基異丁酸酯)、1,3,5-三(3-巰基丁氧基乙基)-1,3,5-三𠯤-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮等具有雜環之巰基化合物或脂肪族多官能巰基化合物等。該等各者可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用。 (7)聚合抑制劑 就形狀控制之觀點而言，本發明之感光性著色組合物亦可含有聚合抑制劑。認為藉由含有聚合抑制劑，其對塗佈膜下層之自由基聚合加以抑制，因此可控制錐角(硬化物剖面中之支持體與硬化物所成之角度)。 作為聚合抑制劑，可列舉：對苯二酚、對苯二酚單甲醚、甲基對苯二酚、甲氧基苯酚、2,6-二第三丁基-4-甲酚(BHT)等。該等之中，就形狀控制之觀點而言，較佳為2,6-二第三丁基-4-甲酚。又，就對人體之安全性之觀點而言，較佳為對苯二酚單甲醚、甲基對苯二酚。 聚合抑制劑較佳為含有1種或2種以上。存在於製造(b)鹼可溶性樹脂時該樹脂中包含聚合抑制劑之情況，可將其用作本發明之聚合抑制劑，亦可於製造感光性著色組合物時，除樹脂中之聚合抑制劑以外，另外再添加與其相同或不同之聚合抑制劑。 於感光性著色組合物包含聚合抑制劑之情形時，其含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為0.0005質量%以上，較佳為0.001質量%以上，更佳為0.01質量%以上，又，通常為0.3質量%以下，較佳為0.2質量%以下，更佳為0.1質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可進行形狀控制之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有可維持必要之感度之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉0.0005～0.3質量%，可更佳地列舉0.001～0.2質量%，可進而較佳地列舉0.01～0.1質量%。 ＜感光性著色組合物中之各成分之含有比率＞ 本發明之感光性著色組合物中，(a)著色劑之含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物中之全部固形物成分中，通常為10質量%以上，更佳為20質量%以上，進而較佳為25質量%以上，進而更佳為30質量%以上，尤佳為32質量%以上，最佳為35質量%以上，又，較佳為60質量%以下，更佳為50質量%以下，進而較佳為45質量%以下，進而更佳為40質量%以下，尤佳為38質量%以下，最佳為35質量%以下。藉由將(a)著色劑之含有比率設為上述下限值以上，有可獲得充分之遮光性之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有容易獲得充分之製版特性、且電性可靠性優異之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～60質量%，可更佳地列舉20～50質量%，可進而較佳地列舉25～45質量%，可進而較佳地列舉30～40質量%，可進而更佳地列舉32～38質量%，可尤佳地列舉35～38質量%。 (a1)有機黑色顏料之含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為15質量%以上，又，較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下，進而較佳為25質量%以下，尤佳為20質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可獲得充分之遮光性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有電性可靠性變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～40質量%，可更佳地列舉5～30質量%，可進而較佳地列舉10～25質量%，可尤佳地列舉15～20質量%。 (a2)C.I.顏料藍60之含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，較佳為2質量%以上，更佳為3質量%以上，進而較佳為4質量%以上，進而更佳為6質量%以上，尤佳為8質量%以上，最佳為10質量%以上。又，較佳為15質量%以下，更佳為12質量%以下，進而較佳為10質量%以下，進而更佳為9質量%以下，尤佳為8質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有於700 nm附近之透過率下降之傾向，藉由設為上述上限值以下，有電性可靠性變高，且容易獲得充分之製版特性之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉2～15質量%，可更佳地列舉3～15質量%，可進而較佳地列舉4～12質量%，可尤佳地列舉6～12質量%。 (a3)碳黑之含有比率之含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，較佳為1質量%以上，更佳為2質量%以上，進而較佳為3質量%以上，尤佳為4質量%以上，又，較佳為10質量%以下，更佳為9質量%以下，進而較佳為8質量%以下，進而更佳為7質量%以下，尤佳為5質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可獲得充分之遮光性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有於近紅外區域之透過率變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～10質量%，可更佳地列舉2～9質量%，可進而較佳地列舉3～8質量%，可進而更佳地列舉4～7質量%，可尤佳地列舉4～5質量%。 於感光性著色組合物含有紫色顏料作為其他著色劑之情形時，其含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，較佳為1質量%以上，更佳為2質量%以上，進而較佳為3質量%以上，進而更佳為4質量%以上，尤佳為6質量%以上，最佳為7質量%以上，又，較佳為15質量%以下，更佳為12質量%以下，進而較佳為10質量%以下，尤佳為8質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可獲得充分之遮光性之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有電性可靠性變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～15質量%，可更佳地列舉2～12質量%，可進而較佳地列舉3～10質量%，可進而更佳地列舉4～8質量%，可尤佳地列舉6～8質量%，可最佳地列舉7～8質量%。 又，(a1)有機黑色顏料相對於感光性著色組合物所含之全部著色劑即(a)著色劑的含有比率並無特別限定，較佳為20質量%以上，更佳為30質量%以上，進而較佳為40質量%以上，進而更佳為50質量%以上，尤佳為60質量%以上，又，較佳為80質量%以下，更佳為75質量%以下，進而較佳為70質量%以下，尤佳為65質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可獲得充分之遮光性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有電性可靠性變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉20～80質量%，可更佳地列舉30～80質量%，可更佳地列舉40～75質量%，可進而較佳地列舉50～70質量%。 又，(a2)C.I.顏料藍60相對於感光性著色組合物所含之全部著色劑即(a)著色劑的含有比率並無特別限定，較佳為10質量%以上，更佳為12質量%以上，進而較佳為15質量%以上，進而更佳為18質量%以上，尤其進而較佳為20質量%以上，尤其進而更佳為24質量%以上，尤佳為28質量%以上，又，較佳為50質量%以下，更佳為40質量%以下，進而較佳為35質量%以下，尤佳為30質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有於700 nm附近之透過率下降之傾向，藉由設為上述上限值以下，有電性可靠性變高，且容易獲得充分之製版特性之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～50質量%，可更佳地列舉10～40質量%，可進而較佳地列舉18～40質量%，可進而更佳地列舉24～35質量%，可尤佳地列舉28～35質量%。 又，(a3)碳黑相對於感光性著色組合物所含之全部著色劑即(a)著色劑的含有比率並無特別限定，較佳為10質量%以上，更佳為12質量%以上，進而較佳為15質量%以上，進而更佳為18質量%以上，尤佳為20質量%以上，又，較佳為35質量%以下，更佳為30質量%以下，進而較佳為25質量%以下，尤佳為20質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可獲得充分之遮光性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有於近紅外區域之透過率變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～35質量%，可更佳地列舉12～30質量%，可進而較佳地列舉15～25質量%，可尤佳地列舉18～20質量%。 另一方面，為了兼備於近紅外區域之透過率與電性可靠性，較佳為將(a1)有機黑色顏料與(a3)碳黑於黑色顏料中所占之含有比率調整為合適之值。碳黑於可見光區域具有較高之吸光度，因此有如下傾向：可有效降低於波長700 nm附近之透過率，進而亦可減少為了獲得特定遮光性所需之著色劑含有比率，電性可靠性變高。另一方面，碳黑於近紅外區域亦具有吸收，因此認為，藉由同時含有特定量之(a3)碳黑與(a1)有機黑色顏料，不僅可確保於波長900 nm附近之透過率，且可確保充分之遮光性。 (a1)有機黑色顏料相對於(a3)碳黑100質量份之含有比率通常為150質量份以上，較佳為180質量份以上，更佳為200質量份以上，進而較佳為210質量份以上，進而較佳為220質量份以上，進而更佳為250質量份以上，尤其進而較佳為300質量份以上，尤其進而更佳為350質量份以上，尤其進而更佳為400質量份以上，尤佳為450質量份以上，最佳為480質量份以上。又，較佳為1000質量份以下，更佳為800質量份以下，進而較佳為600質量份以下，尤佳為500質量份以下。藉由設為上述下限值以上，有於近紅外區域之透過率變高之傾向，藉由設為上述上限值以下，有電性可靠性變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉150～1000質量份，可更佳地列舉180～800質量份，可進而較佳地列舉200～800質量份，可進而較佳地列舉210～600質量份，可進而更佳地列舉220～600質量份，可尤其進而較佳地列舉250～600質量份，可尤其進而更佳地列舉300～600質量份，可尤其進而更佳地列舉350～600質量份，可尤其進而更佳地列舉400～600質量份，可尤佳地列舉450～500質量份，可最佳地列舉480～500質量份。 又，就兼備遮光性與於波長900 nm附近之透過率之觀點而言，較佳為將全部有機顏料相對於(a3)碳黑之含有比率調整為合適之值。 全部有機顏料相對於(a3)碳黑100質量份之含有比率通常為300質量份以上，較佳為400質量份以上，更佳為500質量份以上，進而較佳為550質量份以上，進而更佳為600質量份以上，尤佳為620質量份以上，最佳為650質量份以上，又，較佳為900質量份以下，更佳為800質量份以下。藉由設為上述下限值以上，有於波長900 nm附近之透過率變高之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有可獲得充分之遮光性，且可抑制波長700 nm附近之漏光之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉300～900質量份，可更佳地列舉400～900質量份，可進而較佳地列舉500～900質量份，可進而較佳地列舉550～800質量份，可進而更佳地列舉600～800質量份，可尤佳地列舉620～800質量份，可最佳地列舉650～800質量份。 又，就抑制波長700 nm附近之漏光之觀點而言，較佳為將(a2)C.I.顏料藍60相對於(a3)碳黑之含有比率調整為合適之值。 (a2)C.I.顏料藍60相對於(a3)碳黑100質量份之含有比率較佳為50質量份以上，更佳為100質量份以上，進而較佳為150質量份以上，進而更佳為180質量份以上，尤其進而較佳為200質量份以上，尤其進而更佳為210質量份以上，尤佳為220質量份以上，最佳為240質量份以上，又，較佳為400質量份以下，更佳為300質量份以下。藉由設為上述下限值以上，有可抑制波長700 nm附近之漏光之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有波長900 nm附近之透過率變高之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉50～400質量份，可更佳地列舉100～400質量份，可進而較佳地列舉150～400質量份，可進而更佳地列舉200～300質量份，可尤佳地列舉220～300質量份，可最佳地列舉240～300質量份。 於感光性著色組合物含有紫色顏料作為其他著色劑之情形時，就遮光性之觀點而言，較佳為將紫色顏料相對於(a1)有機黑色顏料之含有比率調整為合適之值。 紫色顏料相對於(a1)有機黑色顏料100質量份之含有比率較佳為10質量份以上，更佳為20質量份以上，進而較佳為40質量份以上，進而更佳為55質量份以上，尤其進而較佳為60質量份以上，尤佳為65質量份以上，最佳為70質量份以上，又，較佳為100質量份以下，更佳為90質量份以下，進而較佳為80質量份以下，進而更佳為70質量份以下，尤佳為65質量份以下。藉由設為上述下限值以上，有可確保充分之遮光性，且可靠性提高之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有可抑制波長700 nm附近之漏光之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～100質量份，可更佳地列舉20～100質量份，可進而較佳地列舉40～100質量份，可進而較佳地列舉55～100質量份，可進而更佳地列舉60～100質量份，可尤佳地列舉65～90質量份，可最佳地列舉70～90質量份。 (b)鹼可溶性樹脂之含有比率並無特別限定，於本發明之感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為5質量%以上，較佳為10質量%以上，更佳為20質量%以上，進而較佳為30質量%以上，尤佳為35質量%以上，又，通常為85質量%以下，較佳為80質量%以下，更佳為70質量%以下，進而較佳為60質量%以下，進而更佳為50質量%以下，尤佳為45質量%以下。藉由將(b)鹼可溶性樹脂之含有比率設為上述下限值以上，有可抑制未曝光部分於顯影液中之溶解性之降低，可抑制顯影不良之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，有維持適度之感度，可抑制曝光部於顯影液中發生溶解，且可抑制像素之鮮明性或密接性之降低之傾向。例如作為上限與下限之組合，例如可較佳地列舉10～85質量%，可更佳地列舉20～80質量%，可進而較佳地列舉30～70質量%，可進而較佳地列舉35～60質量%，可進而更佳地列舉40～60質量%，可尤佳地列舉40～50質量%。 (b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之含有比率並無特別限定，於本發明之感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為5質量%以上，較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，進而較佳為20質量%以上，尤佳為25質量%以上，又，通常為45質量%以下，較佳為40質量%以下，更佳為35質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可確保未曝光部分於顯影液中之溶解性之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有維持適度之感度，可抑制曝光部於顯影液中發生溶解，且可抑制像素之鮮明性或密接性之降低之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～45質量%，可更佳地列舉10～40質量%，可進而較佳地列舉15～40質量%，可進而更佳地列舉20～35質量%，可尤佳地列舉25～35質量%。 (b)鹼可溶性樹脂中所含之(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂之含有比率並無特別限定，通常為20質量%以上，較佳為30質量%以上，更佳為40質量%以上，又，通常為90質量%以下，較佳為85質量%以下，更佳為80質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有可確保未曝光部分於顯影液中之溶解性之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有維持適度之感度，可抑制曝光部於顯影液中發生溶解，且可抑制像素之鮮明性或密接性之降低之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉20～90質量%，可更佳地列舉30～85質量%，可進而較佳地列舉40～80質量%。 (c)光聚合起始劑之含有比率並無特別限定，於本發明之感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為0.1質量%以上，較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而較佳為2質量%以上，進而更佳為3質量%以上，尤佳為4質量%以上，又，通常為15質量%以下，較佳為10質量%以下，更佳為8質量%以下，進而較佳為7質量%以下。藉由將(c)光聚合起始劑之含有比率設為上述下限值以上，有可抑制感度降低之傾向，藉由設為上述上限值以下，有可抑制未曝光部分於顯影液中之溶解性之降低，可抑制顯影不良之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉0.1～15質量%，可更佳地列舉0.5～10質量%，可進而較佳地列舉1～8質量%，可進而更佳地列舉2～8質量%，可尤佳地列舉3～8質量%，可最佳地列舉4～7質量%。 於與(c)光聚合起始劑一起使用聚合促進劑之情形時，聚合促進劑之含有比率並無特別限定，於本發明之感光性著色組合物之全部固形物成分中，較佳為0.05質量%以上，又，通常為10質量%以下，較佳為5質量%以下，聚合促進劑較佳為以相對於(c)光聚合起始劑100質量份而通常為0.1～50質量份、尤其是0.1～20質量份之比率使用。藉由將聚合促進劑之含有比率設為上述下限值以上，有可抑制對曝光光線之感度之降低之傾向，藉由設為上述上限值以下，有可抑制未曝光部分於顯影液中之溶解性之降低，可抑制顯影不良之傾向。 又，於與(c)光聚合起始劑一起使用增感色素之情形時，增感色素之含有比率並無特別限定，就感度之觀點而言，於感光性著色組合物中之全部固形物成分中，通常為20質量%以下，較佳為15質量%以下，更佳為10質量%以下。 (d)乙烯性不飽和化合物之含有比率並無特別限定，於本發明之感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為1質量%以上，較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，又，通常為30質量%以下，較佳為20質量%以下，更佳為15質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有維持適度之感度，可抑制曝光部於顯影液中發生溶解，且可抑制像素之鮮明性或密接性之降低之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有抑制顯影液向曝光部之浸透性變高，容易獲得良好之圖像之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～30質量%，可更佳地列舉5～20質量%，可進而較佳地列舉10～15質量%。 再者，本發明之感光性著色組合物藉由使用(e)溶劑，而將全部固形物成分之含有比率調整為通常5質量%以上，較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，又，通常為50質量%以下，較佳為30質量%以下，更佳為25質量%以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～50質量%，可更佳地列舉10～30質量%，可進而較佳地列舉15～25質量%。 (f)分散劑之含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為1質量%以上，較佳為3質量%以上，更佳為5質量%以上，又，通常為30質量%以下，較佳為20質量%以下，更佳為15質量%以下，進而較佳為10質量%以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得充分之分散性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有可抑制因其他成分之比率相對減少而引起之感度、製版性等之降低之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1～30質量%，可更佳地列舉3～20質量%，可進而較佳地列舉5～15質量%，可尤佳地列舉5～10質量%。 又，(f)分散劑相對於(a)著色劑100質量份之含有比率通常為5質量份以上，更佳為10質量份以上，進而較佳為15質量份以上，又，通常為50質量份以下，尤佳為30質量份以下。藉由設為上述下限值以上，有容易獲得充分之分散性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有可抑制因其他成分之比率相對減少而引起之感度、製版性等之降低之傾向。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉5～50質量份，更佳為10～30質量份，可進而較佳地列舉15～30質量份。 另一方面，(b)鹼可溶性樹脂相對於(d)乙烯性不飽和化合物100質量份之含有比率通常為80質量份以上，較佳為100質量份以上，更佳為150質量份以上，進而較佳為200質量份以上，尤佳為250質量份以上，又，通常為700質量份以下，較佳為500質量份以下，更佳為400質量份以下，進而較佳為300質量份以下。藉由設為上述下限值以上，有溶解顯影狀態適度而無剝離等之傾向，又，藉由設為上述上限值以下，有可獲得對於顯影液而言恰當之溶解時間之傾向。又，例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉80～700質量份，可更佳地列舉100～500質量份，可進而較佳地列舉150～400質量份，可尤佳地列舉200～300質量份，可最佳地列舉250～300質量份。 於使用密接提高劑之情形時，其含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為0.1～5質量%，較佳為0.2～3質量%，進而較佳為0.4～2質量%。藉由將密接提高劑之含有比率設為上述下限值以上，有可充分獲得密接性之提高效果之傾向，藉由設為上述上限值以下，有可抑制感度降低、或抑制於顯影後留有殘渣而成為缺陷之傾向。 又，於使用界面活性劑之情形時，其含有比率並無特別限定，於感光性著色組合物之全部固形物成分中，通常為0.001～10質量%，較佳為0.005～1質量%，進而較佳為0.01～0.5質量%，最佳為0.03～0.3質量%。藉由將界面活性劑之含有比率設為上述下限值以上，有容易使塗佈膜表現出平滑性、均勻性之傾向，藉由設為上述上限值以下，有不僅容易使塗佈膜表現出平滑性、均勻性，且亦可抑制其他特性之劣化之傾向。 ＜感光性著色組合物之物性＞ 本發明之感光性著色組合物可較佳地用於形成著色間隔物，就用作著色間隔物之觀點而言，較佳為呈現黑色。又，其塗膜之每1 μm膜厚之光學濃度(OD)較佳為1.0以上，更佳為1.2以上，進而較佳為1.3以上，進而更佳為1.4以上，尤佳為1.5以上，最佳為1.8以上，又，通常為4.0以下，較佳為3.0以下，更佳為2.5以下。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1.0～4.0，可更佳地列舉1.2～3.0，可進而較佳地列舉1.3～3.0，可進而更佳地列舉1.4～3.0，可尤佳地列舉1.5～3.0，可最佳地列舉1.8～2.5。 又，本發明之感光性著色組合物於波長700 nm下之透過率較佳為2.5%以下，更佳為2.0%以下，進而較佳為1.5%以下，又，通常為0.01%以上。藉由設為上述上限值以下，有可抑制波長700 nm下之漏光，可抑制所顯示圖像發紅之傾向。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉0.01～2.5%，可更佳地列舉0.01～2.0%，可進而較佳地列舉0.01～1.5%。 另一方面，本發明之感光性著色組合物於波長900 nm下之透過率較佳為10%以上，更佳為15%以上，進而較佳為20%以上，又，通常為100%以下。作為上限與下限之組合，可較佳地列舉10～100%，可更佳地列舉15～100%，可進而較佳地列舉20～100%。 一般而言，包含黑矩陣及像素之彩色濾光片係直接形成於玻璃基板上，因此，用以形成黑矩陣之光罩之位置對準不會成為問題。另一方面，著色間隔物存在形成於陣列基板(TFT側之基板)上之情況，於該情形時，需與基板上之TFT圖案之位置對準而形成著色間隔物。作為於特定位置形成著色間隔物之方法，可列舉利用波長900 nm附近之光讀取陣列基板上之標記而進行光罩之位置對準的方法，但於進行位置對準時，該標記被用以形成著色間隔物之塗膜被覆，因此該塗膜於波長900 nm下之透過率為特定值以上變得重要。因此，藉由將波長900 nm以上之透過率設為上述下限值以上，有標記之視認性提高，容易於特定位置形成著色間隔物之傾向。 關於感光性著色組合物於波長700 nm或900 nm下之透過率，只要使用該感光性著色組合物而形成膜厚2.5 μm之硬化膜，利用分光光度計測定波長700 nm或900 nm下之透過率即可。詳細之測定條件等並無特別限定，例如可藉由下述實施例中所記載之方法進行測定。 ＜感光性著色組合物之製造方法＞ 本發明之感光性著色組合物(以下有時稱為「抗蝕劑」)係依據常規方法而製造。 通常較佳為預先使用塗料調節器、砂磨機、球磨機、輥磨機、石磨機、噴射磨機、均質機等對(a)著色劑進行分散處理。(a)著色劑藉由分散處理而變得微粒子化，因此抗蝕劑之塗佈特性提高。 分散處理通常較佳為在併用有(a)著色劑、(e)溶劑、及(f)分散劑、以及部分或全部(b)鹼可溶性樹脂之系統中進行(以下，有時將供進行分散處理之混合物、及藉由該處理所獲得之組合物稱為「墨水」或「顏料分散液」)。尤其是若使用高分子分散劑作為(f)分散劑，則會抑制所獲得之墨水及抗蝕劑隨時間經過之黏度上升(分散穩定性優異)，因此較佳。 如此，於製造抗蝕劑之步驟中，較佳為製造至少含有(a)著色劑、(e)溶劑及(f)分散劑之顏料分散液。 作為顏料分散液中可使用之(a)著色劑、(e)有機溶劑及(f)分散劑，分別可較佳地採用作為感光性著色組合物中可使用之著色劑、溶劑及分散劑所記載之各者。又，關於顏料分散液中之(a)著色劑之各著色劑之含有比率，亦可較佳地採用作為感光性著色組合物中之含有比率所記載者。 再者，於對含有感光性著色組合物中所要調配之全部成分之液體進行分散處理之情形時，有因分散處理時之發熱而導致高反應性成分改性之可能性。因此，較佳為在包含高分子分散劑之系統中進行分散處理。 於利用砂磨機使(a)著色劑分散之情形時，較佳為使用粒徑0.1～8 mm左右之玻璃珠或氧化鋯珠。關於分散處理條件，溫度通常為0℃至100℃，較佳為室溫至80℃之範圍。適宜之分散時間根據液體組成及分散處理裝置之尺寸等而不同，因此適當加以調節。分散之標準係以抗蝕劑之20度鏡面光澤度(JIS Z8741)成為50～300之範圍之方式控制墨水之光澤。於抗蝕劑之光澤度較低之情形時，分散處理欠充分，粗糙之顏料(色料)粒子多有殘留，顯影性、密接性、解像性等有可能不充分。又，若進行分散處理直至光澤值超出上述範圍，則顏料破碎而產生大量超微粒子，因此反而有損害分散穩定性之傾向。 又，分散於墨水中之顏料之分散粒徑通常為0.03～0.3 μm，藉由動態光散射法等進行測定。 繼而，將藉由上述分散處理所獲得之墨水、與抗蝕劑中所要包含之上述其他成分進行混合，製成均勻之溶液。於抗蝕劑之製造步驟中，會有微細污物混入液中，因此較理想為利用過濾器等對所獲得之抗蝕劑進行過濾處理。 [硬化物] 藉由使本發明之感光性著色組合物硬化而可獲得硬化物。使感光性著色組合物硬化而成之硬化物可適宜地用作著色間隔物。 [著色間隔物] 其次，針對使用本發明之感光性著色組合物之著色間隔物，依據其製造方法進行說明。 (1)支持體 作為用以形成著色間隔物之支持體，只要具有適度之強度，則其材質並無特別限定。主要使用透明基板，作為材質，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂，聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴系樹脂，聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碸等熱塑性樹脂製片材；環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸系樹脂等熱硬化性樹脂片材；或各種玻璃等。其中，就耐熱性之觀點而言，較佳為玻璃、耐熱性樹脂。又，亦有在基板之表面成膜ITO(Indium Tin Oxides，氧化銦錫)、IZO(Indium Zinc Oxide，氧化銦鋅)等透明電極之情況。除透明基板以外，亦可形成於TFT陣列上。 為了改良接著性等表面物性，視需要亦可對支持體進行電暈放電處理、臭氧處理、矽烷偶合劑、或使用胺基甲酸酯系樹脂等各種樹脂之薄膜形成處理等。 透明基板之厚度通常設為0.05～10 mm、較佳為0.1～7 mm之範圍。又，於進行各種樹脂之薄膜形成處理之情形時，其膜厚通常為0.01～10 μm，較佳為0.05～5 μm之範圍。 (2)著色間隔物 本發明之感光性著色組合物可用於與公知之彩色濾光片用感光性著色組合物相同之用途，以下針對作為著色間隔物(黑色感光性間隔物)使用之情形，基於使用本發明之感光性著色組合物之黑色感光性間隔物之形成方法之具體例進行說明。 通常藉由塗佈等方法將感光性著色組合物呈膜狀或圖案狀地供給至應設置黑色感光性間隔物之基板上，使溶劑乾燥。繼而，藉由進行曝光顯影之光微影法等方法進行圖案形成。其後，視需要進行追加曝光或熱硬化處理，藉此於該基板上形成黑色感光性間隔物。 (3)著色間隔物之形成 [1]向基板之供給方法 本發明之感光性著色組合物通常以溶解或分散於溶劑之狀態供給至基板上。作為其供給方法，可藉由先前公知之方法，例如旋轉塗佈法、線棒塗佈法、流塗法、模嘴塗佈法、輥式塗佈法、噴塗法等而進行。又，亦可藉由噴墨法或印刷法等而呈圖案狀地供給。其中，若採用模嘴塗佈法，則就可大幅削減塗佈液使用量，且完全不受採用旋轉塗佈法時所附著之霧(mist)等之影響，從而抑制異物產生等綜合觀點而言較佳。 塗佈量根據用途而異，例如於黑色感光性間隔物之情形時，作為乾燥膜厚，通常為0.5 μm～10 μm，較佳為1 μm～9 μm，尤佳為1 μm～7 μm之範圍。又，重要的是基板全域內之乾燥膜厚或最終形成之間隔物之高度均勻。於差異較大之情形時，液晶面板會產生不均缺陷。 其中，於使用本發明之感光性著色組合物，藉由光微影法一次性形成不同高度之黑色感光性間隔物之情形時，最終形成之黑色感光性間隔物之高度不同。 再者，作為基板，可使用玻璃基板等公知基板。又，基板表面宜為平面。 [2]乾燥方法 向基板上供給感光性著色組合物溶液後之乾燥較佳為藉由使用加熱板、IR烘箱、對流烘箱之乾燥方法而進行。又，亦可組合採用不提高溫度而於減壓室內進行乾燥之減壓乾燥法。 乾燥之條件可根據溶劑成分之種類、所使用之乾燥機之性能等而適當選擇。作為乾燥時間，根據溶劑成分之種類、所使用之乾燥機之性能等，通常於40℃～130℃之溫度下於15秒～5分鐘之範圍內選擇，較佳為於50℃～110℃之溫度下於30秒～3分鐘之範圍內選擇。 [3]曝光方法 曝光係藉由如下方式進行：於感光性著色組合物之塗佈膜上重疊負型之遮罩圖案，利用紫外線或可見光線之光源隔著該遮罩圖案進行照射。於使用曝光遮罩進行曝光之情形時，可採用：使曝光遮罩靠近感光性著色組合物之塗佈膜之方法；或將曝光遮罩配置於遠離感光性著色組合物之塗佈膜之位置，將通過該曝光遮罩之曝光之光進行投影之方法。又，亦可採用不使用遮罩圖案而利用雷射光進行掃描曝光之方式。此時，為了防止因氧氣引起之光聚合性層之感度降低，視需要可於脫氧環境下進行曝光，或可於光聚合性層上形成聚乙烯醇層等隔氧層後再進行曝光。 作為本發明之較佳態樣，於藉由光微影法同時形成不同高度之黑色感光性間隔物之情形時，例如使用具有遮光部(透過率0%)與複數個開口部之曝光遮罩，該複數個開口部具有相對於平均透過率最高之開口部(完全透過開口部)而言平均透過率較小之開口部(半透過開口部)。藉由該方法，利用半透過開口部與完全透過開口部之平均透過率之差、即曝光量之差，而使殘膜率產生差異。 關於半透過開口部，已知有例如利用具有微小之多邊形遮光組件之矩陣狀遮光圖案而製作之方法等。又，關於吸收體，已知有利用鉻系、鉬系、鎢系、矽系等材料之膜控制透過率而製作之方法等。 上述曝光所使用之光源並無特別限定。作為光源，例如可列舉：氙氣燈、鹵素燈、鎢絲燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、中壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧、螢光燈等燈光源，或氬離子雷射、YAG(Yttrium Aluminum Garnet，釔-鋁-石榴石)雷射、準分子雷射、氮氣雷射、氦-鎘雷射、藍紫色半導體雷射、近紅外半導體雷射等雷射光源等。於照射特定波長之光而使用之情形時，亦可利用光學濾光片。 作為光學濾光片，例如可為能夠控制曝光波長下之透過率之薄膜型，作為該情形時之材質，例如可列舉：Cr化合物(Cr之氧化物、氮化物、氮氧化物、氟化物等)、MoSi、Si、W、Al等。 作為曝光量，通常為1 mJ/cm2 以上，較佳為5 mJ/cm2 以上，更佳為10 mJ/cm2 以上，又，通常為300 mJ/cm2 以下，較佳為200 mJ/cm2 以下，更佳為150 mJ/cm2 以下。 又，於近接曝光方式之情形時，作為曝光對象與遮罩圖案之距離，通常為10 μm以上，較佳為50 μm以上，更佳為75 μm以上，又，通常為500 μm以下，較佳為400 μm以下，更佳為300 μm以下。 [4]顯影方法 於上述曝光後，使用鹼性化合物之水溶液或有機溶劑進行顯影，藉此可於基板上形成圖像圖案。該水溶液可進而包含界面活性劑、有機溶劑、緩衝劑、錯合劑、染料或顏料。 作為鹼性化合物，可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、矽酸鈉、矽酸鉀、偏矽酸鈉、磷酸鈉、磷酸鉀、磷酸氫鈉、磷酸氫鉀、磷酸二氫鈉、磷酸二氫鉀、氫氧化銨等無機鹼性化合物，或者單乙醇胺、二乙醇胺或三乙醇胺、單甲胺、二甲胺或三甲胺、單乙胺、二乙胺或三乙胺、單異丙胺或二異丙胺、正丁胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺或三異丙醇胺、伸乙基亞胺、伸乙基二亞胺、氫氧化四甲基銨(TMAH)、膽鹼等有機鹼性化合物。該等鹼性化合物可為2種以上之混合物。 作為上述界面活性劑，例如可列舉：聚氧乙烯烷基醚類、聚氧乙烯烷基芳基醚類、聚氧乙烯烷基酯類、山梨醇酐烷基酯類、甘油單酸酯烷基酯類等非離子系界面活性劑，烷基苯磺酸鹽類、烷基萘磺酸鹽類、烷基硫酸鹽類、烷基磺酸鹽類、磺基琥珀酸酯鹽類等陰離子性界面活性劑，烷基甜菜鹼類、胺基酸類等兩性界面活性劑。 作為有機溶劑，例如可列舉：異丙醇、苄醇、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、苯基溶纖劑、丙二醇、二丙酮醇等。有機溶劑可單獨使用或與水溶液併用。 顯影處理之條件並無特別限制，通常，顯影溫度為10～50℃之範圍，其中，較佳為15～45℃，尤佳為20～40℃，顯影方法可採用浸漬顯影法、噴射顯影法、毛刷顯影法、超音波顯影法等任一方法。 [5]追加曝光及熱硬化處理 對於顯影後之基板，視需要可藉由與上述曝光方法相同之方法進行追加曝光，或可進行熱硬化處理。關於此時之熱硬化處理條件，溫度係於100℃～280℃之範圍、較佳為150℃～250℃之範圍內選擇，時間係於5分鐘～60分鐘之範圍內選擇。 本發明之著色間隔物之大小或形狀等係根據應用其之彩色濾光片之規格等而適當調整，本發明之感光性著色組合物尤其可用於藉由光微影法同時形成間隔物與副間隔物之高度不同之黑色感光性間隔物，於該情形時，間隔物之高度通常為2～7 μm左右，副間隔物之高度通常較間隔物低0.2～1.5 μm左右。 又，本發明之著色間隔物之每1 μm之光學濃度(OD)就遮光性之觀點而言，較佳為1.2以上，更佳為1.5以上，進而較佳為1.8以上，又，通常為4.0以下，較佳為3.0以下。此處，光學濃度(OD)係藉由下述方法測定之值。例如作為上限與下限之組合，可較佳地列舉1.2～4.0，可更佳地列舉1.5～3.0，可進而較佳地列舉1.8～3.0。 [彩色濾光片] 彩色濾光片可於液晶驅動基板(陣列基板)上形成紅色、綠色、藍色之像素著色層。或可於作為透明基板之玻璃基板上形成像素著色層。 [圖像顯示裝置] 本發明之圖像顯示裝置具備如上所述之本發明之著色間隔物。 例如於具有本發明之著色間隔物之液晶驅動基板(陣列基板)上形成配向膜，與相對電極基板進行貼合而形成液晶單元，向所形成之液晶單元內注入液晶，藉此可製造具備本發明之著色間隔物之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。 另一方面，於相對電極基板側設置本發明之著色間隔物，與液晶驅動基板(陣列基板)進行貼合而形成液晶單元，向所形成之液晶單元內注入液晶，藉此亦可製造具備本發明之著色間隔物之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。 又，例如，如日本專利特開2014-215614號公報所記載般，使用特定之配向物質，向液晶單元內注入液晶後，照射紫外線，藉此可提高液晶配向性。 [實施例] 其次，列舉實施例及比較例而更具體地說明本發明，但本發明只要未超出其主旨，則並不限定於以下之實施例。 以下之實施例及比較例中使用之感光性著色組合物之構成成分如下。 ＜鹼可溶性樹脂-I＞ 一面進行氮氣置換一面攪拌丙二醇單甲醚乙酸酯145質量份，升溫至120℃。於其中滴加苯乙烯10質量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯85.2質量份及具有三環癸烷骨架之單甲基丙烯酸酯(日立化成公司製造之FA-513M)66質量份，並歷時3小時滴加2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈8.47質量份，進而於90℃下持續攪拌2小時。繼而，將反應容器內置換為空氣，對丙烯酸43.2質量份投入三二甲基胺基甲基苯酚0.7質量份及對苯二酚0.12質量份，於100℃下持續反應12小時。其後，添加四氫鄰苯二甲酸酐(THPA)56.2質量份、三乙胺0.7質量份，於100℃下反應3.5小時。如此獲得之鹼可溶性樹脂-I藉由GPC所測得之重量平均分子量Mw約為8400，酸值為80 mgKOH/g。 ＜鹼可溶性樹脂-II＞ 日本化藥公司製造之「ZCR-1664H」(Mw＝6500，酸值＝60 mgKOH/g) ＜顏料-I＞ BASF公司製造之「Irgaphor(註冊商標)Black S 0100 CF」(具有下述式(I-1)所表示之化學結構)。其相當於著色劑(a1)。 [化43]
Figure 02_image091
＜顏料-II＞ C.I.顏料藍60。其相當於著色劑(a2)。 ＜顏料-III＞ 碳黑。Birla公司製造之「RAVEN 1060U」(原Columbia公司製造「R1060」)。其相當於著色劑(a3)。 ＜顏料-IV＞ C.I.顏料藍15：6。 ＜顏料-V＞ C.I.顏料紫29。 ＜顏料-VI＞ BASF公司製造之「Paliogen(註冊商標)Black L0086」。苝黑。著色劑(a1)以外之有機黑色顏料。 ＜分散劑-I＞ BYK-Chemie公司製造之「BYK-LPN21116」(包含側鏈具有四級銨鹽基及三級胺基之A嵌段、與不具有四級銨鹽基及三級胺基之B嵌段的丙烯酸系A-B嵌段共聚物。胺值為70 mgKOH/g。酸值為1 mgKOH/g以下) 分散劑-I之A嵌段中包含下述式(1a)及(2a)之重複單元，B嵌段中包含下述式(3a)之重複單元。下述式(1a)、(2a)及(3a)之重複單元於分散劑-I之全部重複單元中所占之含有比率分別為11.1莫耳%、22.2莫耳%、6.7莫耳%。 [化44]
Figure 02_image093
＜分散劑-II＞ BYK-Chemie公司製造之「DISPERBYK-167」(胺基甲酸酯系高分子分散劑) ＜顏料衍生物＞ Lubrizol公司製造之「Solsperse12000」 ＜溶劑-I＞ PGMEA：丙二醇單甲醚乙酸酯 ＜溶劑-II＞ MB：3-甲氧基-1-丁醇 ＜光聚合起始劑-I＞ 具有以下記載之化學結構之肟酯起始劑。 [化45]
Figure 02_image095
＜光聚合性單體＞ DPHA：日本化藥公司製造之二季戊四醇六丙烯酸酯 ＜添加劑＞ 日本化藥公司製造之「KAYAMER PM-21」(含甲基丙烯醯基之磷酸酯) ＜界面活性劑＞ DIC公司製造之「MEGAFAC F-559」 ＜顏料分散液1、2、4、5及6之製備＞ 以成為表1記載之質量比之方式將表1記載之顏料、分散劑、分散助劑、鹼可溶性樹脂及溶劑進行混合。利用塗料振盪機，於25～45℃之範圍內對該混合液進行3小時之分散處理。作為珠粒，使用0.5 mmf之氧化鋯珠，添加質量為分散液之2.5倍。分散結束後，利用過濾器將珠粒與分散液進行分離，而製備顏料分散液1、2、4、5及6。再者，於與顏料分散液2相同之條件下使顏料-VI分散，結果黏度大幅增加，因此需將顏料分散液6中之分散劑相對於顏料之含有比率設定為較高。 [表1]
Figure 107105470-A0304-0001
 ＜顏料分散液3之製備＞ 以成為表1記載之質量比之方式將表1記載之顏料、分散劑、分散助劑、鹼可溶性樹脂及溶劑進行混合，將分散處理時間變更為6小時，除此以外，藉由與顏料分散液1、2、4、5及6相同之方法進行分散，而製備顏料分散液3。 [實施例1～12及比較例1～5] 使用上述所製備之顏料分散液1～6，以固形物成分中之比率成為表2～5之調配比率之方式添加其他各成分，進而以全部固形物成分之含有比率成為19質量%之方式添加PGMEA，進行攪拌，使之溶解，而製備感光性著色組合物，並藉由以下方法進行評價。 ＜每單位膜厚之光學濃度(單位OD值)、透過率之測定＞ 每單位膜厚之光學濃度係藉由以下步驟而測定。 首先，使用旋轉塗佈機，以使後烘烤後之膜厚成為2.5 μm之方式於玻璃基板上塗佈所製備之各感光性著色組合物，經過1分鐘之減壓乾燥後，利用加熱板於90℃下乾燥90秒。其後，使用高壓水銀燈，於400 mJ/cm2 、照度45 mW/cm2 之曝光條件下進行整面曝光，於230℃下加熱(後烘烤)20分鐘，藉此獲得塗有抗蝕劑之基板。利用透過濃度計GretagMacbeth D200-II測定所獲得之基板之光學濃度(OD值)，利用Ryoka Systems公司製造之非接觸表面・層剖面形狀計測系統VertScan(R)2.0測定膜厚，由光學濃度(OD值)及膜厚而算出每單位膜厚(1 μm)之光學濃度(單位OD值)。再者，OD值係表示遮光能力之數值，數值越大表示遮光性越高。 又，使用相同之基板，利用分光光度計UV-3100(島津製作所公司製造)測定於波長700 nm及900 nm下之透過率。此時，將未塗佈感光性著色組合物之玻璃基板作為參考。 波長700 nm下之透過率係漏光之指標，數值越小越佳。有若為2.5%以下則較佳之傾向。 又，波長900 nm下之透過率係用以進行光罩位置對準之標記之讀取適合性之指標，數值越大越佳。有若為10%以上則較佳之傾向。 將單位OD值及透過率之測定結果示於表2～5。 ＜電壓保持率(VHR)、離子密度之評價＞ 藉由以下記載之方法，進行電壓保持率(VHR)、離子密度之評價。 (液晶單元之製作) 準備如下電極：於單面之整面上形成有ITO膜之電極基板A(EHC公司製造，單面整面經ITO片被覆之評價用玻璃)；於玻璃基板之單面中央部形成有與寬2 mm之取出電極(take-out electrode)連結之1 cm見方之ITO膜(2)的電極基板B(20)(EHC公司製造，評價用玻璃SZ-B111MIN(B))。圖1表示電極基板B(20)之上表面之模式圖。 於電極基板A之上塗佈各感光性著色組合物，進行1分鐘之真空乾燥後，於加熱板上以90℃預烘烤90秒，而獲得乾燥膜厚2.5 μm之塗佈膜。其後，將外緣部遮蓋2 mm，分別使用高壓水銀燈，於400 mJ/cm2 、照度45 mW/cm2 之曝光條件下實施圖像曝光。繼而，使用25℃之約0.1質量%之氫氧化鉀水溶液，於25℃下實施水壓0.15 MPa之噴淋顯影後，利用純水中止顯影，並噴水沖洗。噴淋顯影時間係於10～120秒之間調整，設為溶解去除未曝光之感光性著色組合物層所需時間(間斷時間(break time))之約1.6倍。 將如此形成有塗膜之電極基板A於230℃下後烘烤20分鐘，而獲得形成有著色硬化膜(3)之電極基板(抗蝕劑基板)。其後，於抗蝕劑基板上塗佈聚醯亞胺溶液，於加熱板上以70℃預烘烤2分鐘，以220℃後烘烤24分鐘。將如此獲得之抗蝕劑基板切割成2.5 cm見方之基板，而完成評價用電極基板A(8)。 另一方面，於電極基板B(20)之上亦塗佈聚醯亞胺溶液，於加熱板上以70℃預烘烤2分鐘，以220℃後烘烤24分鐘，而完成評價用電極基板B(9)。 其後，使用分注器，於評價用電極基板B(9)之外周上塗佈含有直徑5 μm之矽珠之環氧樹脂系密封劑(5)後，將評價用電極基板A(8)之塗佈面壓接於評價用電極基板B(9)之表側(密封劑側)而進行貼附，製成空單元。將所製成之空單元於熱風循環爐內進行180℃、2小時加熱。 向如此獲得之空單元內注入液晶(7)(Merck Japan公司製造之MLC-6608)，並利用UV硬化型密封劑(6)密封周邊部。對上述液晶單元進行退火處理(於熱風循環爐內進行105℃、2.5小時加熱)後，利用高壓水銀燈以18 J/cm2 、照度40 mW/cm2 照射紫外線，而完成測定用液晶單元(30)。於所製成之單元中，上述著色硬化膜為1.7 cm見方、電極部為1 cm見方。圖2表示所完成之測定用液晶單元(30)之側面之模式圖。 (電壓保持率(VHR)之評價) 於2.0 Hz、幀時間1667 msec之條件下所製成之測定用液晶單元施加電壓5 V，利用TOYO Corporation製造之「液晶物性評價裝置-6254型」測定電壓保持率，作為電性可靠性之指標而進行評價。再者，電壓保持率越高越佳。將結果示於表2～5。 又，將頻率變更為0.6 Hz，除此以外，於相同條件下測定電壓保持率。將結果示於表2、4及5。 () 離子密度之評價 離子密度例如可藉由International Display Workshop(IDW)‘06論文集LCT7-1中所記載之方法進行測定。離子密度測定時緩步地施加電壓，因此存在如下情況：可將離子波峰與液晶配向波峰區分開測定，而可測定出利用電壓保持率時難以出現之可靠性差異。雜質離子有可能導致液晶顯示裝置出現殘留圖像、閃爍(跳動)等顯示不良，離子密度測定對其評價有效。 於測定中，利用TOYO Corporation製造之「液晶物性評價裝置-6254型」，經時地測定對測定用液晶單元施加頻率0.1 Hz、±5 V之三角波時之電流，獲得電流隨時間變化之波形。測定波形中之雜質離子波峰部(13)之面積，求出離子密度。圖3表示以一個週期之時間作為橫軸時之施加電壓值(11)、測定電流值(12)及雜質離子波峰部(13)之概略圖。將測定結果示於表2、4及5。 [表2]
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 [表3]
Figure 107105470-A0304-0003
 [表4]
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 [表5]
Figure 107105470-A0304-0005
 可確認，表2之實施例1～4、比較例1～4之感光性著色組合物中之各者之塗佈基板之單位OD值相同，即，具有同等之遮光特性，但其中，使用實施例1～4之感光性著色組合物之塗佈基板於波長700 nm下之透過率充分低，對長波長區域之可見光之遮光性優異，於波長900 nm下之透過率充分高，用以進行光罩位置對準之標記之讀取適合性良好。又，可確認，紫外線照射後之2.0 Hz下之電壓保持率較高，因此，即便採用於製作液晶單元後進行紫外線照射之面板製作方法，亦不會損害液晶驅動。 相對於此，可確認，使用比較例1之感光性著色組合物之塗佈基板於波長900 nm下之透過率較低，用以進行光罩位置對準之標記之讀取適合性不充分。 又，可確認，使用比較例2、3之感光性著色組合物之塗佈基板於波長700 nm下之透過率較高，對長波長區域之可見光之遮光性不充分，會產生漏光。又，可確認，使用比較例2之感光性著色組合物之塗佈基板於紫外線照射後於2.0 Hz下之電壓保持率較低，因此，會有損液晶驅動。 另一方面，可確認，使用比較例4之感光性著色組合物之塗佈基板於波長900 nm下之透過率及於波長700 nm下之透過率不成問題，但於紫外線照射後於2.0 Hz下之電壓保持率較低，因此，會有損液晶驅動。 於為了確保感光性著色組合物之遮光性而使用黑色顏料之情形時，黑色顏料中之碳黑於可見光之全波長區域範圍內之吸光度均較高，因此可充分降低波長700 nm下之透過率，但於紅外區域之吸光度亦較高而會使該區域中之透過率變低，因此，於如比較例1般(a1)有機黑色顏料相對於(a3)碳黑100質量份之含有比率較低之情形時，即，於(a3)碳黑於黑色顏料中所占之比率較高之情形時，會導致波長900 nm下之透過率變低。 另一方面，於如比較例2般不含(a3)碳黑之情形時，由於(a1)有機黑色顏料於波長700 nm下之透過率較高，故導致所獲得之塗佈基板於波長700 nm下之透過率亦變高。又，由於不含吸光度較高之碳黑，故導致實現特定OD值所需之顏料含有比率變高，因此，紫外線照射後於2.0 Hz下之電壓保持率劣化，電性可靠性變低。 又，於如比較例3般不含(a2)C.I.顏料藍60之情形時，亦會由於(a1)有機黑色顏料於波長700 nm下之透過率較高，故導致所獲得之塗佈基板於波長700 nm下之透過率亦變高。另一方面，雖然認為藉由進一步提高(a3)碳黑之含有比率而可降低於波長700 nm下之透過率，但預測會如比較例1般於波長900 nm下之透過率亦變低。因此，認為於不含(a2)C.I.顏料藍60之情形時，難以兼備波長700 nm透過率與波長900 nm透過率。 如此，添加藍色顏料對於改善波長700 nm下之漏光有效，但於如比較例4般未選擇適宜之顏料種類之情形時，紫外線照射後於2.0 Hz下之電壓保持率較低，電性可靠性變低。 相對於該等比較例，藉由如實施例1～4般將特定之有機黑色顏料、藍色顏料及碳黑併用，並將特定之有機黑色顏料與碳黑之比率調整為合適之值，不僅可使波長900 nm下之透過率充分高，光罩位置對準之標記之讀取適合性充分，且可使波長700 nm下之透過率充分低，不會產生漏光。尤其藉由選擇C.I.顏料藍60作為藍色顏料，紫外線照射後之2.0 Hz下之電壓保持率較高，而可提高電性可靠性。尤其藉由實施例2與實施例1之比較、進而實施例1與實施例3及4之比較可知，藉由提高全部有機顏料相對於碳黑100質量份之含有比率，可進一步提高波長900 nm下之透過率。 另一方面，可確認，表3之實施例5～8之感光性著色組合物中之各者之塗佈基板之單位OD值相同，即，具有同等之遮光特性，波長900 nm下之透過率及電性可靠性優異，其中，使用實施例7及8、尤其使用實施例8之感光性著色組合物之塗佈基板於波長700 nm下之透過率非常低，對長波長區域之可見光之遮光性特別優異。由此可知，藉由提高(a2)C.I.顏料藍60相對於碳黑100質量份之含有比率，可進一步降低波長700 nm下之透過率。 又，表4之實施例9～12之感光性著色組合物中，全部顏料之含有比率設為相同，但改變紫色顏料相對於(a1)有機黑色顏料100質量份之含有比率，可確認，其中之實施例10～12、尤其實施例11及12之感光性著色組合物之塗佈基板之單位OD值較高。由此可知，藉由提高紫色顏料相對於(a1)有機黑色顏料100質量份之含有比率，可提高單位OD值。 表5之實施例1與比較例5之感光性著色組合物除了有機黑色顏料之種類不同以外，其他組成相同，但實施例1之感光性著色組合物於紫外線照射後之2.0 Hz下之電壓保持率較高，因此可確認電性可靠性良好。由此可知，藉由使用(a1)有機黑色顏料作為有機黑色顏料，可優化電性可靠性。 [產業上之可利用性] 根據本發明之感光性著色組合物，可提供一種波長700 nm附近之漏光較少、波長900m附近之透過率優異、且紫外線照射後之電性可靠性優異的硬化物及著色間隔物，進而，可提供一種具備此種著色間隔物之圖像顯示裝置。因此，本發明於感光性著色組合物、硬化物、著色間隔物及圖像顯示裝置之各領域中具有極高之產業上之可利用性。
1‧‧‧玻璃2‧‧‧ITO膜3‧‧‧著色硬化膜4‧‧‧聚醯亞胺膜5‧‧‧環氧樹脂系密封劑6‧‧‧UV硬化型密封劑7‧‧‧液晶8‧‧‧評價用電極基板A9‧‧‧評價用電極基板B11‧‧‧施加電壓值12‧‧‧測定電流值13‧‧‧雜質離子波峰部20‧‧‧電極基板B30‧‧‧測定用液晶單元
圖1係實施例中使用之電極基板B之上表面之模式圖。 圖2係實施例中使用之測定用液晶單元之側面之模式圖。 圖3係離子密度測定中之一個週期之施加電壓之波形之概略圖、與測定電流之波形之概略圖。
Figure 107105470-A0101-11-0003-4

Claims (12)

  1. 一種感光性著色組合物，其特徵在於：其係含有(a)著色劑、(b)鹼可溶性樹脂、(c)光聚合起始劑、(d)乙烯性不飽和化合物、(e)溶劑、及(f)分散劑者，並且上述(a)著色劑含有(a1)包含選自由下述通式(I)所表示之化合物、上述化合物之幾何異構物、上述化合物之鹽、及上述化合物之幾何異構物之鹽所組成之群中之至少1種的有機黑色顏料、(a2)C.I.顏料藍60、以及(a3)碳黑，上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為150質量份以上，
    Figure 107105470-A0305-02-0135-1
     (式(I)中，R1及R6分別獨立地為氫原子、CH3、CF3、氟原子或氯原子；R2、R3、R4、R5、R7、R8、R9及R10分別獨立地為氫原子、鹵素原子、R11、COOH、COOR11、COO-、CONH2、CONHR11、CONR11R12、CN、OH、OR11、COCR11、OOCNH2、OOCNHR11、OOCNR11R12、NO2、NH2、NHR11、NR11R12、NHCOR12、NR11COR12、N=CH2、N=CHR11、N=CR11R12、SH、SR11、SOR11、SO2R11、SO3R11、SO3H、SO3 -、SO2NH2、SO2NHR11或SO2NR11R12；且 選自由R2與R3、R3與R4、R4與R5、R7與R8、R8與R9、及R9與R10所組成之群中之至少一個組合亦可相互直接鍵結，或者藉由氧原子、硫原子、NH或NR11橋而相互鍵結；R11及R12分別獨立地為碳數1~12之烷基、碳數3~12之環烷基、碳數2~12之烯基、碳數3~12之環烯基或碳數2~12之炔基)。
  2. 如請求項1之感光性著色組合物，其中上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為200質量份以上。
  3. 如請求項2之感光性著色組合物，其中上述(a1)有機黑色顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為210質量份以上。
  4. 如請求項1或3之感光性著色組合物，其中上述(a2)C.I.顏料藍60相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率為200質量份以上。
  5. 如請求項1或3之感光性著色組合物，其中全部有機顏料相對於上述(a3)碳黑100質量份之含有比率之合計為550質量份以上。
  6. 如請求項1或3之感光性著色組合物，其中全部固形物成分中之上述(a)著色劑之含有比率為10質量%以上。
  7. 如請求項1或3之感光性著色組合物，其中全部固形物成分中之上述(a)著色劑之含有比率為45質量%以下。
  8. 如請求項1或3之感光性著色組合物，其中上述(b)鹼可溶性樹脂含有(b1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂。
  9. 如請求項1或3之感光性著色組合物，其中已硬化之塗膜之每1μm膜厚之光學濃度為1.0以上。
  10. 一種硬化物，其係使如請求項1至9中任一項之感光性著色組合物硬化而獲得。
  11. 一種著色間隔物，其係由如請求項10之硬化物所形成。
  12. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項11之著色間隔物。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7080618B2 (ja) * 2017-10-31 2022-06-06 サカタインクス株式会社 黒色顔料分散組成物及びそれを含有する黒色顔料分散レジスト組成物
KR20200078335A (ko) * 2018-12-21 2020-07-01 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 블랙 매트릭스
JP7360798B2 (ja) * 2019-02-21 2023-10-13 サカタインクス株式会社 着色組成物、及び、それを含有する着色レジスト組成物
JP7263153B2 (ja) * 2019-06-27 2023-04-24 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法
JP7464494B2 (ja) 2020-10-02 2024-04-09 東京応化工業株式会社 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス
JP7464493B2 (ja) 2020-10-02 2024-04-09 東京応化工業株式会社 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス
JPWO2023054381A1 (zh) * 2021-09-30 2023-04-06
KR102603034B1 (ko) * 2023-07-03 2023-11-20 (주)에스티글로벌 근거리 무선 통신을 활용한 반도체 공정용 약액저장용기 관리시스템

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201337460A (zh) * 2012-01-31 2013-09-16 Mitsubishi Chem Corp 著色感光性組成物、黑色光間隔件及彩色濾光片
EP2270593B1 (en) * 2008-03-10 2014-04-30 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, color filter and solid-state imaging device
TW201624130A (zh) * 2014-11-14 2016-07-01 羅門哈斯電子材料韓國有限公司 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008040486A (ja) * 2006-07-11 2008-02-21 Fujifilm Corp カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
KR101658374B1 (ko) 2013-01-25 2016-09-22 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 컬럼 스페이서 및 블랙 매트릭스를 동시에 구현할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물
KR20230085213A (ko) * 2013-09-25 2023-06-13 미쯔비시 케미컬 주식회사 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR101474803B1 (ko) * 2014-03-27 2014-12-19 제일모직주식회사 블랙 컬럼 스페이서 제조방법, 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러 필터
EP3185054A4 (en) * 2014-08-20 2018-03-28 Toray Industries, Inc. Photosensitive coloring composition, method for manufacturing solid-state imaging element using same, and solid-state imaging element
JP6543968B2 (ja) * 2015-03-06 2019-07-17 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP6528475B2 (ja) * 2015-03-10 2019-06-12 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
KR102491215B1 (ko) * 2015-03-11 2023-01-20 미쯔비시 케미컬 주식회사 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 화상 표시 장치
KR20160140227A (ko) * 2015-05-29 2016-12-07 삼성에스디아이 주식회사 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터
JP6985715B2 (ja) * 2016-06-15 2021-12-22 山陽色素株式会社 黒色顔料組成物及びこれを含む黒色塗膜形成組成物
JP2018009132A (ja) * 2016-07-15 2018-01-18 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜及びその形成方法、並びに表示素子
KR101848567B1 (ko) * 2016-11-18 2018-04-12 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2270593B1 (en) * 2008-03-10 2014-04-30 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, color filter and solid-state imaging device
TW201337460A (zh) * 2012-01-31 2013-09-16 Mitsubishi Chem Corp 著色感光性組成物、黑色光間隔件及彩色濾光片
TW201624130A (zh) * 2014-11-14 2016-07-01 羅門哈斯電子材料韓國有限公司 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片

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