TWI736727B - 光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
一種光學薄膜之製造方法,以及使用此光學薄膜之偏光板與顯示裝置,所述製造方法包含提供多層薄膜至剝離處理的剝離步驟,前述多層薄膜為長條狀多層薄膜,其包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜(A)及設於前述薄膜(A)的一側或兩側之面上的薄膜(B),前述剝離處理包含於溫度Tov(℃)時,自前述薄膜(A)以施加沿前述薄膜(A)之厚度方向之力的方式剝離前述薄膜(B),前述溫度Tov與前述薄膜(A)的玻璃轉移溫度TgA(℃)滿足Tov≧TgA的關係,前述薄膜(B)其收縮率Xb為0%以上且未達4%,前述收縮率Xb係在溫度Tov、60秒鐘的條件下處理前述薄膜(B)時前述薄膜(B)在幅寬方向上的收縮率。
Description
本發明係關於一種光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置。
液晶顯示裝置等顯示裝置中,由於光學補償等目的,現正廣泛進行具有相位差的樹脂製光學薄膜的設置。作為將相位差賦予樹脂製薄膜的方法,現正廣泛進行此薄膜之延伸。
作為如此之光學薄膜,有尋求NZ係數Nz滿足0<Nz<1之薄膜的情況,且以0.4<Nz<1之薄膜為佳,且以Nz=0.5之薄膜為更理想的情況。然而,以通常的方法延伸薄膜時,因NZ係數的值會成為小於0的值或大於1的值,故難以得到0<Nz<1的薄膜。
作為得到0<Nz<1之薄膜的方法,可考量採用組合多數薄膜的多層薄膜。然而,現正尋求以更單純的單層結構實現0<Nz<1的薄膜。
作為以單層薄膜實現0<Nz<1之薄膜的方法,已知專利文獻1(日本專利公開第H08-207119號公報(對應他國公報:歐洲專利申請公開第0707938號說明書))所記載的方法。專利文獻1中,將收縮薄膜貼合至加工對象的樹脂薄膜,之後使收縮薄膜收縮,藉此使樹脂薄膜收縮,其結果達成0<Nz<1。
然而,專利文獻1所記載之方法中,難以控制收縮薄膜的收縮力,且使收縮薄膜收縮的步驟繁雜,而難以簡便製造0<Nz<1的薄膜。
因此,本發明之目的在於提供可輕易製造0<Nz<1之光學薄膜的光學薄膜之製造方法。本發明之進一步目的在於提供可輕易製造且具備高度光學補償功能的偏光板、以及提供可輕易製造且呈現高度光學補償的顯示裝置。
本發明人為了解決前述課題而進行研究。其結果,本發明人發現作為前所未有的光學薄膜之製造方法,利用薄膜的剝離力,藉由沿厚度方向延伸薄膜而可解決此課題。再者,發現藉由使進行在此厚度方向上延伸的溫度為特定溫度,及被剝離之薄膜的特性為特定特性,可進行良好的厚度方向延伸的操作。本發明係根據此見解而完成者。
亦即,本發明如下所述。
[1]一種光學薄膜之製造方法,包含提供多層薄膜至剝離處理的剝離步驟;前述多層薄膜為長條狀多層薄膜,其包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜(A)及設於前述薄膜(A)的一側或兩側之面上的薄膜(B);前述剝離處理包含於溫度Tov(℃)時自前述薄膜(A)以施加沿前述薄膜(A)之厚度方向之力的方式剝離前述薄膜(B);前述溫度Tov與前述薄膜(A)的玻璃轉移溫度TgA(℃)滿足Tov≧TgA的關係;前述薄膜(B)其收縮率Xb為0%以上且未達4%,前述收縮率Xb係在溫度Tov、60秒鐘的條件下處理前述薄膜(B)時前述薄膜(B)在幅寬方向上的收縮率。
[2]如記載於[1]之光學薄膜之製造方法,前述熱塑性樹脂A包含含脂環結構聚合物。
[3]如記載於[1]或[2]之光學薄膜之製造方法,更包含沿前述多層薄膜之面內方向延伸前述多層薄膜的延伸步驟。
[4]一種偏光板,具備藉由如記載於[1]~[3]之任一項之製造方法所製造之光學薄膜與偏光件。
[5]一種顯示裝置,具備藉由如記載於[1]~[3]之任一項之製造方法所製造之光學薄膜。
若根據本發明,則提供可輕易製造0<Nz<1之光學薄膜的光學薄膜之製造方法;可輕易製造且具備高度光學補償功能的偏光板;以及可輕易製造且呈現高度光學補償的顯示裝置。
以下將針對本發明揭示實施型態及例示物以詳細說明。然而,本發明並不限定於以下所揭示的實施型態及例示物,在不脫離本發明之申請專利範圍及其均等範圍的範圍內得任意變更而實施。
在以下說明中,除非另有註明,否則薄膜的面內遲滯(retardation)Re係以Re=(nx−ny)×d所表示的值,除非另有註明,否則薄膜之厚度方向的遲滯Rth係以Rth={(nx+ny)/2−nz}×d所表示的值。並且,薄膜的NZ係數Nz係以Nz=(nx−nz)/(nx−ny)所表示的值,亦得以Nz=(Rth/Re)+0.5所表示。此處,nx表示薄膜的面內方向,即垂直於薄膜之厚度方向的方向上賦予最大折射率之方向的折射率。ny表示前述面內方向上正交於nx方向之方向的折射率。nz表示厚度方向的折射率。d表示薄膜的厚度。除非另有註明,否則面內遲滯之量測波長為590 nm。
在以下說明中,除非另有註明,否則所謂「偏光板」不僅為剛硬的構件,亦包含例如樹脂製之薄膜般具有可撓性的構件。
在以下說明中,所謂「長條狀」的薄膜,係指相對於幅寬具有5倍以上之長度的薄膜,以具有10倍或以上的長度為佳,具體係指具有捲繞成輥狀以儲存或運輸程度之長度的薄膜。長條狀之薄膜之長度上限並無特別限制,得為例如相對於幅寬之10萬倍以下。
在該技術領域中,所謂薄膜的「延伸」,通常意謂以使薄膜的形狀沿薄膜的面內方向之一個以上的方向擴張而使薄膜變形的操作。然而在本申請中,薄膜的「延伸」並非限制於此,而亦包含以使薄膜的形狀沿面內方向以外的方向(非平行於薄膜之面方向的方向,例如厚度方向等)擴張而使薄膜變形的操作。在以下說明中,於上下文顯知的情況下,通常將以使薄膜的形狀沿薄膜的面內方向之一個以上的方向擴張而使薄膜變形的操作簡稱為「延伸」。另一方面,與如此通常的「延伸」有所區別,而將以使薄膜的形狀沿面內方向以外的方向擴張而使薄膜變形的處理稱為「厚度方向延伸」,且將經此種處理的薄膜稱為「厚度方向延伸薄膜」。
[1.光學薄膜之製造方法]
本發明的光學薄膜之製造方法,包含提供特定多層薄膜至特定的剝離處理的剝離步驟。
[1.1.多層薄膜]
提供至剝離步驟的多層薄膜為包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜(A)及設置於前述薄膜(A)之其中一面或雙面的薄膜(B)之長條狀多層薄膜。
[1.1.1.薄膜(A)]
構成薄膜(A)的熱塑性樹脂A並未特別受到限定,得賦予作為光學薄膜之預期物性,且得適當選擇採用包含各種聚合物的樹脂。
作為熱塑性樹脂A所包含之聚合物的較佳例,可列舉含脂環結構聚合物。
含脂環結構聚合物係重複單元中具有脂環結構的聚合物,可使用主鏈中含有脂環結構之聚合物及於側鏈含有脂環結構之聚合物的任一種。含脂環結構聚合物得包含結晶性樹脂及非晶性聚合物。就得到本發明之預期效果的觀點及製造成本的觀點而言,以非晶性含脂環結構聚合物為佳。
作為非晶性含脂環結構聚合物所具有的脂環結構,可列舉例如:環烷烴結構、環烯烴結構等,但就熱穩定性等觀點而言,以環烷烴結構為佳。
構成1個脂環結構之重複單元的碳數並無特別限制,但通常為4個~30個,以5個~20個為佳,以6個~15個為較佳。
含脂環結構聚合物中之具有脂環結構之重複單元的比例可視使用目的而適當選擇,但通常為50重量%以上,以70重量%以上為佳,以90重量%以上為較佳。將具有脂環結構之重複單元定為如此之多,可提高基材薄膜的耐熱性。
含脂環結構聚合物具體而言可列舉:(1)降𦯉烯(norbornene)聚合物、(2)單環的環烯烴聚合物、(3)環狀共軛二烯聚合物、(4)乙烯基脂環烴聚合物,及此些的氫化物等。其中,就透明性及成形性的觀點而言,以降𦯉烯聚合物及其氫化物為較佳。
作為降𦯉烯聚合物,可列舉例如:降𦯉烯單體的開環聚合物、與能與降𦯉烯單體開環共聚之其他單體所形成的開環共聚物及此些之氫化物;降𦯉烯單體加成聚合物、與能與降𦯉烯單體共聚之其他單體所形成的加成共聚物等。其中,就透明性的觀點而言,尤以降𦯉烯單體之開環聚合物的氫化物為佳。
作為上述之含脂環結構聚合物之例,可列舉例如日本專利公開第2002-321302號公報所揭示的聚合物。
並且,作為結晶性含脂環結構聚合物之例,可列舉日本專利公開第2016-26909號公報所揭示的聚合物。
作為熱塑性樹脂A所包含之聚合物的其他例,可列舉三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、聚苯乙烯系聚合物等廣泛使用的聚合物。特別是聚苯乙烯系聚合物中,尤以得採用具有對排(syndiotactic)結構的聚苯乙烯系聚合物為佳。作為具有對排結構之聚苯乙烯系聚合物之例,可列舉日本專利公開第2014-186273號公報所揭示的聚合物。
熱塑性樹脂A所包含之聚合物的重量平均分子量並未特別受到限定,但以10000以上為佳,以20000以上為較佳,另以300000以下為佳,以250000以下為較佳。重量平均分子量為在此範圍內的情況下,可輕易得到機械強度及成形加工性優異的熱塑性樹脂A。
熱塑性樹脂A雖亦可僅由以上述等物作為主成分的聚合物而成,但只要不顯著損及本發明之效果,亦可包含任意的摻合劑。樹脂中,作為主成分之聚合物的比例以70重量%以上為佳,以80重量%以上為較佳。
於各式各樣的市售商品中,得適當選擇採用具有預期特性者作為熱塑性樹脂A。作為此市售品之例,可列舉:商品名「ZEONOR」(日本瑞翁股份有限公司製)、商品名「TOPAS」(POLYPLASTICS股份有限公司製)及商品名「ARTON」(JSR股份有限公司製)的產品群。
熱塑性樹脂A的玻璃轉移溫度TgA以100℃以上為佳,以110℃以上為較佳,另以180℃以下為佳,以170℃以下為較佳。TgA為在此範圍的情況下,可順利進行厚度方向延伸等處理,而可輕易得到具有預期光學體特性的光學薄膜。
薄膜(A)的厚度以10 μm以上為佳,以20 μm以上為較佳,另以200 μm以下為佳,以190 μm以下為較佳。薄膜(A)的厚度為在此範圍的情況下,可順利進行厚度方向延伸等處理,而可輕易得到具有預期光學體特性的光學薄膜。
製造薄膜(A)的方法並未特別受到限定而得採用任意製造方法。舉例而言,藉由將熱塑性樹脂A成形為預期形狀,得製造薄膜(A)。作為用以成形樹脂A之成形方法的較佳例,可列舉擠製成形。藉由進行擠製成形,可有效率地製造具有預期尺寸的薄膜(A)。
[1.1.2.薄膜(B)]
作為構成薄膜(B)的材料並未特別受到限定,得適當選擇採用包含適用於本發明之實施的各種聚合物的樹脂。於以下內容中,此樹脂簡稱為「樹脂B」。
作為樹脂B,得使用熱塑性樹脂。作為樹脂B所包含之聚合物之例及其分子量的較佳範圍,得列舉與上述所列舉作為熱塑性樹脂A所包含的含脂環結構聚合物及其他聚合物之例相同之例。
作為樹脂B所包含的含脂環結構聚合物的另一例,可列舉:包含「具有含環烴基化合物氫化物單元[I]的2個以上之聚合物嵌段」與「具有鏈烴化合物氫化物單元[II]、或單元[I]及單元[II]之組合的1個以上之聚合物嵌段」的氫化嵌段共聚物。作為此氫化嵌段共聚物的具體例,可列舉例如國際專利公開第WO2016/152871號所揭示的聚合物。
作為樹脂B所包含之聚合物的另一例,可列舉:聚丙烯、(甲基)丙烯酸酯聚合物、聚醯亞胺等廣泛使用的聚合物。於市售商品中,可適當選擇採用具有預期特性者作為樹脂B。作為此市售品之例,可列舉:自黏性延伸聚丙烯薄膜(例如FUTAMURA化學股份有限公司製、商品名「FSA 010M #30」)。
多層薄膜中的薄膜(B),其收縮率Xb為特定範圍內的值。收縮率Xb係在溫度Tov、60秒鐘的條件下處理薄膜(B)時薄膜(B)在幅寬方向上的收縮率。此處,溫度Tov係本發明之製造方法的剝離步驟中的薄膜之溫度。
收縮率Xb為0%以上,以0.3%以上為佳,以0.5%以上為較佳,以1.4%以上為更佳,另一方面,其未達4%,以3.9%以下為佳,以3.8%以下為較佳。收縮率Xb為在此範圍的情況下,可抑制於至剝離步驟的步驟中發生皺褶,且可抑制薄膜(B)在剝離步驟之前的階段發生非意圖剝離,還可對於薄膜(A)賦予預期的厚度方向延伸的力。藉由以溫度Tov對薄膜(B)的樣品進行加熱處理60秒鐘,量測加熱處理前後的尺寸並計算其比值,而得求出收縮率Xb。
薄膜(B)的厚度以10 μm以上為佳,以15 μm以上為較佳,另以100 μm以下為佳,以90 μm以下為較佳。薄膜(B)的厚度為在此範圍的情況下,可順利進行厚度方向延伸等處理,而可輕易得到具有預期光學體特性的光學薄膜。
製造薄膜(B)的方法並未特別受到限定而得採用任意製造方法。舉例而言,藉由將樹脂B成形為預期的形狀,得製造薄膜(B)。作為用以成形樹脂B之成形方法的佳例,可列舉擠製成形。藉由進行擠製成形,可有效率地製造具有預期尺寸的薄膜(B)。
[1.1.3.其他層體]
多層薄膜除了薄膜(A)及薄膜(B)以外,還得包含任意層體。例如得包含黏合劑層。作為構成黏合劑層的黏合劑,得使用市售的各種黏合劑。具體而言,得使用包含丙烯酸聚合物作為主成分的聚合物之黏合劑。舉例而言,自市售之具有黏合劑層的薄膜(例如藤森工業製之「MASTACK系列」)轉印黏合劑層至薄膜(A)或薄膜(B),得將此利用作為多層薄膜中的黏合劑層。
多層薄膜於薄膜(A)及(B)之間具有黏合劑層的情況下,以此黏合劑層之對於薄膜(B)的黏合力高於其對於薄膜(A)的黏合力為佳。藉由具有如此的黏合力差異,可減少對於光學薄膜上的殘膠,而可輕易得到高品質的光學薄膜。此黏合力差異得藉由適當選擇黏合劑層的材質或視需求而於薄膜(A)及(B)的表面施加適當的表面處理而獲得。
[1.1.4.多層薄膜的製備方法]
製備提供至本發明之製造方法的多層薄膜之方法,並未特別受到限定,得採用任意方法。此製備得例如藉由貼合薄膜(A)與薄膜(B)而進行。在貼合之前,得視需求而對薄膜(A)及/或薄膜(B)進行電暈(corona)處理等表面處理。並且,在貼合之前,得視需求而於薄膜(A)及/或薄膜(B)的表面形成黏合劑層,且經由此黏合劑層進行貼合。得藉由對齊縱向方向以輥對輥貼合長條狀薄膜(A)與長條狀薄膜(B)而進行貼合。
[1.2.剝離步驟]
本發明之製造方法中的剝離步驟中,將多層薄膜提供至剝離處理。剝離處理包含自薄膜(A)剝離薄膜(B)之步驟。藉由進行此剝離處理,可沿厚度方向對薄膜(A)施加牽引力,其結果可達成薄膜(A)的厚度方向延伸。於多層薄膜具有多層之薄膜(B)的情況下,多層的薄膜(B)通常同時剝離。
圖1係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之一例的側視圖。在圖1中,沿箭號A11方向運送長條狀多層薄膜100,之後在剝離區域P中提供給剝離步驟。
多層薄膜100包含薄膜(A)131、設置於薄膜(A)131之其中一面的薄膜(B)111、設置於薄膜(A)131之另一面的薄膜(B)112。多層薄膜100更包含介於薄膜(A)及(B)之間的黏合劑層121及122。多層薄膜中之薄膜(A)131的厚度以箭號A14表示。
於剝離步驟中的剝離處理,得藉由沿與被運送之薄膜(A)的面內方向相異的方向牽引薄膜(B)而進行。於圖1之例中,在剝離區域P中沿薄膜(B)111之縱向方向牽引薄膜(B)111往箭號A12,且沿薄膜(B)112之縱向方向牽引薄膜(B)112往箭號A13。藉此,自多層薄膜之運送方向的下游朝向上游進行剝離,而可以沿薄膜(A)131的厚度方向施加力的方式剝離薄膜(B)111及112。此處所謂之薄膜厚度方向的力,為非平行於薄膜面內方向之方向的力,以接近垂直於薄膜之面之方向的方向為佳。此種剝離步驟的結果,可得到經進行厚度方向延伸的光學薄膜132。並且,藉由平衡箭號A12方向的牽引力與箭號A13方向的牽引力,可於不賦予多層薄膜100及光學薄膜132之非預期面內方向之張力的情形下,進行此些牽引。
在圖1之例中,光學薄膜132的厚度係以箭號A15表示。由於厚度方向延伸的結果,光學薄膜132具有比多層薄膜100中之薄膜(A)131更厚的厚度。然而本發明之製造方法並非以此為限。舉例而言,剝離步驟中亦伴隨沿面內方向延伸的情況,光學薄膜的厚度雖並非必定成為比薄膜(A)的厚度更厚,即使在如此之情況下,亦具有可能得到0<Nz<1的光學薄膜之情況。
由剝離區域P中之剝離步驟的結果而得到之光學薄膜132係進一步沿箭號A11運送。多層薄膜100及光學薄膜132,以由剝離區域上游之軋輥151及152以及剝離區域下游之軋輥161及162握持的狀態運送。藉由適當調整此些軋輥的圓周速率而得調整運送速度。
並且,視需求而得將下游軋輥的周速調整成比上游軋輥的周速更快。藉由進行此調整而可對於多層薄膜100及光學薄膜132賦予預期張力。若有需要,則可藉由調整此張力而隨剝離步驟進行沿薄膜縱向方向的延伸步驟。再者,亦可視需求於剝離步驟的同時,或者在剝離區域P的上游或下游中,進行在薄膜面內任意方向的延伸。
本發明的光學薄膜之製造方法中,進行厚度方向延伸之外還進行面內方向延伸之情況下的延伸倍率,得按照所企求賦予於光學薄膜的預期光學性能而適當調整。具體延伸倍率以1倍以上為佳,以1.01倍以上為較佳,另以2倍以下為佳,以1.8倍以下為較佳。面內方向延伸倍率為此範圍的情況下,可輕易得到預期光學性能。
在剝離裝置中,連續進行關於長條狀多層薄膜之剝離步驟的情況下,藉由平衡多層薄膜的運送速度與剝離速度,而可將剝離區域P設定於剝離裝置中的某個位置。此情況下,多層薄膜的運送速度變成剝離速度。剝離速度得按照所企求賦予於光學薄膜的預期光學性能而適當調整。具體剝離速度以1 m/min以上為佳,以2 m/min以上為較佳,另以50 m/min以下為佳,以40 m/min以下為較佳。剝離速度為此範圍的情況下,可輕易得到預期光學性能。
本發明之光學薄膜之製造方法中,在溫度Tov(℃)進行剝離步驟。溫度Tov與薄膜(A)的玻璃轉移溫度TgA(℃)滿足Tov≧TgA的關係。Tov以(TgA+3)℃以上為佳,以(TgA+5)℃以上為較佳。藉由將Tov調整在此範圍,可對於光學薄膜輕易賦予預期NZ係數等光學特性。Tov的上限並未特別受到限定,但得定為例如(TgA+40)℃以下。剝離步驟中之溫度Tov,係在剝離裝置中,藉由以適當加熱裝置加熱,而得調整圍繞包含剝離區域之區域的烘箱(圖未示)內的溫度。
圖2係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之另一例的側視圖。在圖2中,沿箭號A21方向運送長條狀多層薄膜200,之後在剝離區域P中提供給剝離步驟。多層薄膜200雖包含薄膜(A)231、設置於薄膜(A)231之其中一面的薄膜(B)211,但於薄膜(A)231之另一面並未設置薄膜(B)。多層薄膜200更包含介於薄膜(A)及(B)之間的黏合劑層221。多層薄膜中之薄膜(A)231的厚度以箭號A24表示。
在此例中,因多層薄膜200僅於其中一面具有薄膜(B)211,故於剝離步驟中的剝離處理,係藉由沿與被運送之薄膜(A)的面內方向相異的方向即箭號A22的方向牽引此薄膜(B)211而進行。因此,藉由剝離區域上游的軋輥151及152以及剝離區域下游的軋輥161及162,對於多層薄膜200及剝離步驟後的光學薄膜232賦予張力,而藉由此張力對抗薄膜(B)211的牽引。如此剝離步驟的結果,可使薄膜(A)231沿厚度方向延伸而得到光學薄膜232。光學薄膜232具有比薄膜(A)231更厚且以箭號A25表示的厚度。
[2.光學薄膜]
若根據本發明之製造方法,可輕易製造其NZ係數Nz為0<Nz<1的光學薄膜。Nz以0.4<Nz<1為較佳,理想為Nz=0.5。具有此NZ係數的光學薄膜係難以藉由以通常沿面內方向之薄膜延伸而製造,但得有效用於顯示裝置之光學補償等目的。因此,本發明之製造方法由可輕易製造「製造困難且有效用之製品」的觀點而言,發揮有高度效果。
光學薄膜的面內遲滯Re係以100 nm以上為佳,以120 nm以上為較佳,另以350 nm以下為佳,以300 nm以下為較佳。於Re為此範圍的情況下,可構成得有效用於光學補償等用途的光學薄膜。光學薄膜之厚度方向遲滯Rth係以−80 nm以上為佳,以−70 nm以上為較佳,另以80 nm以下為佳,以70 nm以下為較佳。於Rth為此範圍的情況下,可構成得具有預期NZ係數等特性且有效用於光學補償等用途的光學薄膜。
[3.光學薄膜的用途:偏光板及顯示裝置]
藉由本發明之製造方法所得到之光學薄膜,係得使用作為顯示裝置等光學裝置的構成要件。舉例而言,組合光學薄膜與其他構件,而得構成偏光板等光學零件。
本發明之偏光板具備藉由上述本發明之製造方法所製造的光學薄膜及偏光件。本發明之偏光板得藉由貼合光學薄膜與偏光件而製造。
貼合於偏光件之前,得於光學薄膜的表面設置任意層體。作為任意層體之例,可列舉:用以提高薄膜表面硬度的硬塗層(hard coat layer)、優化薄膜滑動性的磨砂層(matte layer)及抗反射層。
本發明之偏光板可更具備位於自光學薄膜裁切出之薄膜與偏光件之間且用以接合此些之接合劑層。
偏光件並未特別受到限定,而得使用任意偏光件。作為偏光件之例,可列舉於聚乙烯醇薄膜吸附碘、二色性染料等材料之後進行延伸加工者。作為構成接合劑層的接合劑,可列舉將各種聚合物作為基礎聚合物者。作為此基礎聚合物之例,可列舉例如:丙烯酸聚合物、矽氧聚合物、聚酯、聚胺酯、聚醚及合成橡膠。
偏光板得具備保護薄膜。偏光板所具備之偏光件與保護薄膜的數量雖為任意,但本發明之偏光板通常得具備1層偏光件及設置於其雙面的2層保護薄膜。此2層保護薄膜中,可二者皆為自本發明之光學薄膜所裁切出的薄膜,亦可為僅其中一者為自本發明之光學薄膜所裁切出的薄膜。
本發明之顯示裝置可具備藉由前述本發明之製造方法所製造的光學薄膜。本發明之顯示裝置以得具備前述本發明之偏光板為佳。本發明之顯示裝置得藉由將本發明之光學薄膜組合於顯示裝置的其他構成要件而適當構成。
本發明之顯示裝置以液晶顯示裝置為佳。作為液晶顯示裝置,可列舉例如具備面內切換(In-Plane Switching,IPS)模式、垂直配向(Vertical Alignment,VA)模式、多域垂直配向(Multi-domain Vertical Alignment,MVA)模式、連續風車狀配向(Continuous Pinwheel Alignment,CPA)模式、混合配向向列(Hybrid Alignment Nematic,HAN)模式、扭曲向列(Twisted Nematic,TN)模式、超扭曲向列(Super-Twisted Nematic,STN)模式、光學補償彎曲(Optical Compensated Bend,OCB)模式等驅動方式之液晶單元的液晶顯示裝置。
本發明之顯示裝置為液晶顯示裝置的情況下,偏光板得設置作為僅使入射於液晶單元之光線及自液晶單元發出之光線中預期特定偏光穿透的層體。偏光板還得設置作為用以防止外部光線反射之構成要件的一部分。
本發明之顯示裝置亦還可為有機電致發光顯示裝置。在此情況下,前述本發明之偏光板可例如設置作為用以防止外部光線反射之構成要件的一部分。
以下,將揭示實施例而針對本發明具體說明。然而,本發明並不受限於以下所揭示的實施例,在未脫離本發明之申請專利範圍及其均等範圍的範圍內得任意變更實施。
在以下的說明中,除非另有註明,否則表示份量的「%」及「份」為重量基準。並且,除非另有註明,否則說明於以下的操作係係在常溫常壓的條件下進行。
[評價方法]
(樹脂的玻璃轉移溫度的量測方法)
準備量測對象之樹脂的料粒(pellet),使用示差掃描熱析儀(SEIKO INSTRUMENTS公司製之「DSC6220」),量測其樹脂料粒的玻璃轉移溫度。條件定為樣品重量10 mg、升溫速度定為20℃/min。
(相位差與NZ係數的量測方法)
在波長590 nm使用相位差量測裝置(Axometric公司製,商品名「Axoscan」)量測Re及Rth,基於此些求出NZ係數。
(收縮率Xb的量測方法)
裁切出作為量測對象的長條狀薄膜,得到縱向方向×幅寬方向=120 mm×120 mm的切片。用油性筆在切片之向內10 mm的四邊形之四角隅畫上記號。亦即,該四角形具有100 mm×100 mm的尺寸,且位於切片的中央,四邊形的各邊平行於切片的邊。
之後,使用萬能投影機(NIKON公司製之「V-12BDC」),量測4個記號之間的距離。之後,將樣品投入烘箱,於既定的溫度下放置60秒鐘以進行加熱處理。加熱處理後,再次量測4個記號之間的距離。自加熱處理前與加熱處理後的幅寬方向之距離的比值求出收縮率Xb。收縮率Xb(%)=((處理前距離−處理後距離)/處理前距離)×100。
[製造例1.薄膜(A)-1的製造]
使包含含脂環結構聚合物的樹脂(玻璃轉移溫度126℃之降𦯉烯聚合物的樹脂、商品名「ZEONOR」,日本瑞翁股份有限公司製)的料粒於100℃下乾燥5小時。之後,將乾燥之樹脂料粒供給至單軸擠製機。在擠製機內使樹脂熔融之後,經過聚合物管線及聚合物過濾器,從T字模(T-die)在鑄造滾筒(casting drum)上擠製成為片狀,並予以冷卻。藉此,得到厚度80 μm且幅寬1000 mm的長條狀薄膜(A)-1。將所製造之薄膜(A)-1捲繞成輥狀以回收。
[製造例2.薄膜(A)-2的製造]
變更T字模之口部的開口尺寸,此外進行與製造例1相同的操作。藉此,得到厚度185 μm且幅寬1000 mm的長條狀薄膜(A)-2,捲繞成輥狀以回收。
[製造例3.薄膜(A)-3的製造]
變更T字模之口部之開口尺寸,此外進行與製造例1相同的操作。藉此,得到厚度133 μm且幅寬1000 mm的長條狀薄膜(A)-3,捲繞成輥狀以回收。
[製造例4.薄膜(B)之原料薄膜的製造]
使聚酯樹脂(EASTMAN公司製之「PET-G 6763」)的料粒於120℃乾燥5小時。將乾燥後之顆粒供給至擠製機,在擠製機內使其熔融之後,在樹脂溫度260℃的條件下經過聚合物管線及聚合物過濾器,自T字模在鑄造滾筒上擠製成為片狀,並予以冷卻。藉此,得到厚度60 μm且幅寬1400 mm的原料薄膜。
[製造例5.薄膜(B)-1的製造]
將製造例4中所得到之原料薄膜連續供給至輥式縱向延伸裝置。使用此縱向延伸機在延伸溫度80℃且延伸倍率2倍的條件下沿縱向方向上延伸原料薄膜。修剪經過延伸之薄膜之幅寬方向的兩端,且進一步於單側的面實施電暈處理。藉此得到幅寬900 mm且厚度42 μm的長條狀薄膜(B)-1。量測此薄膜(B)-1在空氣中於135℃×60秒鐘之條件下的收縮率時,薄膜幅寬方向的收縮率Xb為2%。將電暈處理面捲於內側而將此薄膜(B)捲繞成輥狀以回收。
[製造例6.薄膜(B)-2的製造]
將製造例4中所得到之原料薄膜連續供給至拉幅式横向延伸裝置。使用此横向延伸機在延伸溫度80℃且延伸倍率2倍的條件下沿幅寬方向延伸薄膜。之後,修剪薄膜幅寬方向的兩端,且進一步於單側實施電暈處理,得到幅寬1000 mm、厚度30 μm的長條狀薄膜(B)-2。量測此薄膜(B)-2在空氣中於135℃×60秒鐘之條件下的收縮率時,薄膜幅寬方向的收縮率Xb為20%。將電暈處理面捲於內側而將此薄膜(B)-2捲繞成輥狀以回收。
[製造例7.多層薄膜(C)-1的製造]
將製造例5所得到薄膜(B)-1自輥捲出,將黏合劑層(藤森工業製之「MASTACK系列」的黏合劑層)轉印至薄膜(B)-1之經過電暈處理之面。再者,以尋常方法將薄膜(B)-1貼合至製造例1中所得到之薄膜(A)-1的雙面,並使黏合劑層介於薄膜(B)-1與薄膜(A)-1之間。藉此,得到具有(薄膜(B)-1)/(黏合劑層)/(薄膜(A)-1)/(黏合劑層)/(薄膜(B)-1)之層結構的長條狀多層薄膜(C)-1。將此多層薄膜(C)-1捲繞成輥狀以回收。各層的厚度為42 μm/25 μm/80 μm/25 μm/42 μm。
[製造例8.多層薄膜(C)-2的製造]
將製造例6中所得到薄膜(B)-2自輥捲出,將黏合劑層(藤森工業製「MASTACK series」的黏合劑層)轉印至薄膜(B)-2之經過電暈處理之面。再者,以尋常方法將薄膜(B)-2貼合至製造例1中所得到之薄膜(A)-1的雙面,並使黏合劑層介於薄膜(B)-2與薄膜(A)-1之間。藉此,得到具有(薄膜(B)-2)/(黏合劑層)/(薄膜(A)-1)/(黏合劑層)/(薄膜(B)-2)之層結構的長條狀多層薄膜(C)-2。將此多層薄膜(C)-2捲繞成輥狀以回收。各層的厚度為30 μm/25 μm/80 μm/25 μm/30 μm。
[製造例9.多層薄膜(C)-3的製造]
準備自黏性延伸聚丙烯薄膜(FUTAMURA化學股份有限公司製之「FSA 010M #30」)作為薄膜(B)-3。此薄膜(B)-3在空氣中120℃×60秒鐘、126℃×60秒鐘、130℃×60秒鐘、135℃×60秒鐘、140℃×60秒鐘之條件下的薄膜幅寬方向之收縮率Xb為0.9%、1.4%、1.6%、2.5%及3.5%。以尋常方法將薄膜(B)-3貼合至製造例1中所得到之薄膜(A)-1的雙面。藉此,得到具有(薄膜(B)-3)/(薄膜(A)-1)/(薄膜(B)-3)之層結構的長條狀多層薄膜(C)-3。將此多層薄膜(C)-3捲繞成輥狀以回收。各層的厚度為30 μm/80 μm/30 μm。
[製造例10.多層薄膜(C)-4的製造]
使用製造例2中所得到之薄膜(A)-2代替薄膜(A)-1,此外藉由與製造例9相同的操作,得到具有(薄膜(B)-3)/(薄膜(A)-2)/(薄膜(B)-3)之層結構的長條狀多層薄膜(C)-4。將此多層薄膜(C)-4捲繞成輥狀以回收。各層的厚度為30 μm/185 μm/30 μm。
[製造例11.多層薄膜(C)-5的製造]
使用製造例3中所得到之薄膜(A)-3代替薄膜(A)-1,此外藉由與製造例9相同的操作,得到具有(薄膜(B)-3)/(薄膜(A)-3)/(薄膜(B)-3)之層結構的長條狀多層薄膜(C)-5。將此多層薄膜(C)-5捲繞成輥狀以回收。各層的厚度為30 μm/133 μm/30 μm。
[實施例1]
準備浮動式縱向延伸機。此延伸機係得將所運送之長條狀薄膜在溫度經過調節之烘箱內沿其縱向方向延伸的延伸機。將製造例7中所得到多層薄膜(C)-1自輥捲出,沿薄膜縱向方向運送且供給至前述之縱向延伸機。將多層薄膜(C)-1運送至縱向延伸機的烘箱內。於運送時,使烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。
再者,在烘箱內的出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜(C)-1兩側的薄膜(B)-1且自薄膜(A)-1連續剝離薄膜(B)-1而進行。牽引2片薄膜(B)-1的方向定為垂直於所運送之薄膜(A)-1之面的方向,且定為彼此相互相反的方向。藉此,進行在薄膜(A)-1的厚度方向施加力之剝離,以沿厚度方向延伸薄膜(A)-1。剝離速度為5 m/min。其結果得到經過厚度方向延伸的薄膜(A)-1作為光學薄膜。
量測所得到之光學薄膜的面內遲滯Re、厚度及NZ係數。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。
[實施例2]
將製造例9中所得到多層薄膜(C)-3自輥捲出,沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同的縱向延伸機。將多層薄膜(C)-3運送至縱向延伸機的烘箱內。於運送時,將烘箱內溫度Tov定為126℃。並且,將延伸倍率定為1.00倍,亦即進行不伴隨延伸之運送。
再者,在烘箱內的出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜(C)-3兩側的薄膜(B)-3且自薄膜(A)-1連續剝離薄膜(B)-3而進行。牽引2片薄膜(B)-3的方向定為垂直於所運送之薄膜(A)-1之面的方向,且定為彼此相互相反的方向。藉此,進行在薄膜(A)-1的厚度方向施加力之剝離,以沿厚度方向延伸薄膜(A)-1。剝離速度為1 m/min。其結果得到經過厚度方向延伸的薄膜(A)-1作為光學薄膜。
量測所得到之光學薄膜的面內遲滯Re、厚度及NZ係數。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。
[實施例3]
將烘箱內溫度Tov自126℃變更為130℃,將延伸倍率自1.00倍變更為1.02倍以進行延伸,此外藉由與實施例2相同的操作得到光學薄膜並進行評價。剝離步驟中的剝離速度為1 m/min。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。
[實施例4]
將製造例10中所得到多層薄膜(C)-4自輥捲出,沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同的縱向延伸機。將多層薄膜(C)-4運送至縱向延伸機的烘箱內。於運送時,將烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。
再者,在烘箱內的出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜(C)-4兩側的薄膜(B)-3且自薄膜(A)-2連續剝離薄膜(B)-3而進行。牽引2片薄膜(B)-3的方向定為垂直於所運送之薄膜(A)-2之面的方向,且定為彼此相互相反的方向。藉此,進行在薄膜(A)-2的厚度方向施加力之剝離,以沿厚度方向延伸薄膜(A)-2。剝離速度為1 m/min。其結果得到經過厚度方向延伸的薄膜(A)-2作為光學薄膜。
量測所得到之光學薄膜的面內遲滯Re、厚度及NZ係數。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。
[實施例5]
將烘箱內溫度Tov自126℃變更為135℃,將延伸倍率自1.00倍變更為1.07倍以進行延伸,除此之外藉由與實施例2相同的操作得到光學薄膜並進行評價。剝離步驟中的剝離速度為5 m/min。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。
[實施例6]
將製造例11中所得到多層薄膜(C)-5自輥捲出,沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同的縱向延伸機。將多層薄膜(C)-5運送至縱向延伸機的烘箱內。於運送時,將烘箱內溫度Tov定為140℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。
再者,在烘箱內的出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜(C)-5兩側的薄膜(B)-3且自薄膜(A)-3連續剝離薄膜(B)-3而進行。牽引2片薄膜(B)-3的方向定為垂直於所運送之薄膜(A)-3之面的方向,且定為彼此相互相反的方向。藉此,進行在薄膜(A)-3的厚度方向施加力之剝離,以沿厚度方向延伸薄膜(A)-3。剝離速度為1 m/min。其結果得到經過厚度方向延伸的薄膜(A)-3作為光學薄膜。
量測所得到之光學薄膜的面內遲滯Re、厚度及NZ係數。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。
[比較例1]
將製造例8中所得到多層薄膜(C)-2自輥捲出,沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同的縱向延伸機。將多層薄膜(C)-2運送至縱向延伸機的烘箱內。於運送時,將烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。
再者,雖在烘箱內的出口附近嘗試進行剝離步驟,但到達烘箱內之出口附近的多層薄膜(C)-2上發生薄膜(B)-2的剝離,且於薄膜(A)-1整體產生皺褶,而無法進行剝離步驟。
[比較例2]
將烘箱內溫度Tov自126℃變更為120℃,除此之外藉由與實施例2相同的操作得到光學薄膜並進行評價。剝離步驟中的剝離速度為5 m/min。其結果揭示於表1。由表1的結果可知,所得到之光學薄膜其NZ係數為1.6,為大於1的值。
實施例及比較例的結果匯總揭示於表1。
表中簡稱的意義為如下所述。 COP:包含含脂環結構聚合物的樹脂(玻璃轉移溫度126℃之降𦯉烯聚合物的樹脂、商品名「ZEONOR」,日本瑞翁股份有限公司製)。 PET:聚酯樹脂(EASTMAN公司製之「PET-G 6763」)。 OPP:自黏性延伸聚丙烯薄膜(FUTAMURA化學股份有限公司製之「FSA 010M #30」)。
由表1的結果明確可知,在Tov與TgA的關係及Xb的值滿足本申請之要件的條件下所進行延伸的本申請實施例中,可輕易製造0<Nz<1的光學薄膜。
100‧‧‧多層薄膜111‧‧‧薄膜(B)112‧‧‧薄膜(B)121‧‧‧黏合劑層122‧‧‧黏合劑層131‧‧‧薄膜(A)132‧‧‧光學薄膜151‧‧‧剝離區域上游的軋輥152‧‧‧剝離區域上游的軋輥161‧‧‧剝離區域下游的軋輥162‧‧‧剝離區域下游的軋輥200‧‧‧多層薄膜231‧‧‧薄膜(A)211‧‧‧薄膜(B)221‧‧‧黏合劑層232‧‧‧光學薄膜P‧‧‧剝離區域
圖1係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之一例的側視圖。 圖2係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之另一例的側視圖。
100‧‧‧多層薄膜
111‧‧‧薄膜(B)
112‧‧‧薄膜(B)
121‧‧‧黏合劑層
122‧‧‧黏合劑層
131‧‧‧薄膜(A)
132‧‧‧光學薄膜
151‧‧‧剝離區域上游的軋輥
152‧‧‧剝離區域上游的軋輥
161‧‧‧剝離區域下游的軋輥
162‧‧‧剝離區域下游的軋輥
P‧‧‧剝離區域
Claims (3)
- 一種光學薄膜之製造方法,其包含提供多層薄膜至剝離處理的剝離步驟;該多層薄膜係長條狀多層薄膜,其包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜(A)及設於該薄膜(A)的一側或兩側之面上的薄膜(B);該剝離處理包含於溫度Tov(℃)時自該薄膜(A)以施加沿該薄膜(A)之厚度方向之力的方式剝離該薄膜(B);該溫度Tov與該薄膜(A)的玻璃轉移溫度TgA(℃)滿足Tov≧TgA的關係;該薄膜(B)其收縮率Xb為0%以上且未達4%,該收縮率Xb係在該溫度Tov、60秒鐘的條件下處理該薄膜(B)時該薄膜(B)在幅寬方向上的收縮率。
- 如請求項1所述之光學薄膜之製造方法,其中該熱塑性樹脂A包含含脂環結構聚合物。
- 如請求項1或2所述之光學薄膜之製造方法,更包含沿該多層薄膜之面內方向延伸該多層薄膜的延伸步驟。
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