TWI736059B - 熱處理裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種熱處理裝置，在熱處理裝置中，使對被處理物進行熱處理的工作區之各部分中的溫度分佈更加均勻。

熱處理裝置1具有：工作區4，其包含有熱處理用氣體所流入的上風部7及處理用氣體所流出的下風部5，在上風部7與下風部5之間配置被處理物100；吸入口17，其通過下風部5而吸入工作區4內之熱處理用氣體；以及下風流量調整部6。下風流量調整部6構成為將在下風部5中相對地接近於吸入口17的近位部27中的熱處理用氣體之流量設定為小於相對地遠離於吸入口17的遠位部28中的熱處理用氣體之流量。

Description

熱處理裝置

本發明關於一種熱處理裝置。

習知有使用過熱水蒸氣進行烹飪的加熱烹飪器(例如，參照專利文獻1)。

〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕

專利文獻1：日本專利特開2016-11776號公報

此外，在製造電子零件等之工業產品時所被使用的熱處理裝置中，存在有將高溫氣體供給至熱處理室內，藉此對被處理物實施熱處理的情形。在如此的熱處理裝置中，有利用過熱水蒸氣作為高溫氣體的情況。過熱水蒸氣的比熱為大約0.48(cal/g/℃)，較空氣的比熱大約0.24(cal/g/℃)為大。因此，在使用過熱水蒸氣作為用於對被搬入至熱處理室的被處理物進行熱處理的熱處理氣體的情況下，可對被處理物施加較大的熱能。

在使用如過熱水蒸氣般比熱較大的氣體作為熱處理用氣體的情況下，可使充分的熱能遍及至熱處理室內的整個區域。藉此， 可對被處理物的各部分均勻地進行熱處理。在使用過熱水蒸氣以外的氣體作為熱處理用氣體的情況，雖然亦可使充分的熱能遍及至熱處理室內的整個區域，但是在對被處理物的各部分均勻地進行熱處理此點上則很重要。

特別是在電子零件等之工業產品中，為更均勻地對被處理物之各部分作熱處理，則需要將熱處理室內之溫度分佈設為更加均勻。但是在專利文獻1中所記載的發明為烹飪用的器具，其並不需要要求如工業產品之熱處理般要求高度均勻的溫度分佈。

本發明係鑑於上述情況，其目的在，於熱處理裝置中，將對被處理物進行熱處理的工作區之各部分中的溫度分佈設為更加均勻。

如上述般，過熱水蒸氣的比熱較大。因此，被認為只要向工作區大量地供給過熱水蒸氣作為熱處理用氣體，即可使工作區之各部分中的熱處理用氣體之溫度分佈成為均勻。但是，本發明人根據運用使用計算機的流體解析等，而得到該一想法並不一定正確的見解。

更加具體而言，本發明人發現熱處理用氣體的比熱越高，在工作區內，在熱處理用氣體之通過量較多的部位與較少的部位，溫度(環境氣體溫度)差變得較大。如此之見解並不一定與人的直覺一致，而藉由上述流體解析則首次明瞭此一事實。

此外，熱處理裝置包含有工作區，而工作區具有供給熱處理用氣體的上風部與排出熱處理用氣體的下風部的情況。在該情況下，將工作區內的環境氣體溫度的分佈成為均勻時，一般而言為對上 風部及下風部中的上風部之熱處理用氣體之供給形態下功夫。但是，本發明人得到如下之構想：與其對下風部中的熱處理用氣體之供給形態下工夫相較於對上風部中的熱處理用氣體之供給形態下工夫，則在使工作區之各部分中的環境氣體溫度呈均勻之點較為有效。其結果而完成本發明。

(1)用於解決上述課題，本發明的一態樣的熱處理裝置具備有：工作區，其包含有被加熱的熱處理用氣體流入的上風部及上述熱處理用氣體流出的下風部，並在上述上風部與上述下風部之間配置被處理物；吸入口，其通過上述下風部而吸入上述工作區內之上述熱處理用氣體；以及下風流量調整部，其構成為將在上述下風部中相對地接近上述吸入口的近位部中的上述熱處理用氣體之流量設定為小於相對地遠離上述吸入口的遠位部中的上述熱處理用氣體之流量。

根據該構成，下風流量調整部將下風部中近位部中的熱處理用氣體之流量設定為小於遠位部中的熱處理用氣體之流量。藉此，在下風部之遠位部之周圍，可使更多的熱處理用氣體流動。此外，上風部接近於吸入口，因此，即使縮減流量，亦可使熱處理用氣體順暢地流過。其結果，在下風部中，可使近位部中的熱處理用氣體之溫度與遠位部中的熱處理用氣體之溫度更均等。其結果，可使熱處理用氣體均勻地遍及至工作區內的非常大的範圍。藉此，可使對被處理物進行熱處理的工作區之各部分中的溫度分佈更加均勻。

(2)上述熱處理裝置之構成存在有以下之情況：使通過上述上風部的上述熱處理用氣體之流量在上述上風部的整個區域內成為實質上均勻。

根據該構成，可使工作區內之各部分的環境氣體溫度更均勻。並且，藉由使熱處理用氣體之流量在上風部的整個區域中成為實質上均勻的簡單構成，可使工作區內之各部分之環境氣體溫度更均勻。如上所述，上風部不會構成積極地使熱處理用氣體之流量分配不同。

(3)上述熱處理裝置存在有以下之情況：其更具備有：供給口，其通過上述上風部而向上述工作區內供給上述熱處理用氣體；以及上風流量調整部，其構成為使上述上風部中相對地接近上述供給口的近位部中的上述熱處理用氣體之流量與相對地遠離上述供給口的遠位部中的上述熱處理用氣體之流量成為均等。

根據該構成，藉由設置上風流量調整部，可使熱處理用氣體的流量在上風部之整個區域內更加均勻。

(4)上述熱處理用氣體存在有以下之情況：包含過熱水蒸氣。

根據該構成，可使用比熱較氮等之熱處理用氣體之比熱高的過熱水蒸氣，即在工作區內對於環境氣體溫度容易產生偏差的過熱水蒸氣，作為熱處理用氣體。藉此，可更高效率地對被處理物進行處理。

(5)上述熱處理裝置存在有以下之情況：其更具備有：循環路徑，其使上述熱處理用氣體從上述下風部向上述上風部循環；加熱器，其被配置於上述循環路徑，用於對上述熱處理用氣體進行加熱；以及氣流產生構件，其被配置於上述循環路徑，用於使上述工作區中產生上述熱處理用氣體之氣流；從上述下風部朝上述上風部依上述加熱器、上述氣流產生構件的順序進行配置。

根據該構成，可利用氣流產生構件對被加熱器所加熱後的熱處理用氣體進行攪拌。其結果，可使送往至工作區的熱處理用氣體之溫度更加均勻。

(6)上述下風流量調整部存在有以下之情況：其包含有：基座，其被配置為覆蓋上述下風部，且形成有複數個貫通孔部；以及可動部，其被配置成可覆蓋複數個上述貫通孔部中之至少一部分，且用於調整上述貫通孔部之開度；上述近位部中的上述貫通孔部之開度小於上述遠位部中的上述貫通孔部之開度。

根據該構成，可藉由將近位部中的貫通孔部之開度設定為小於遠位部中的貫通孔部之開度的簡單構成，而容易地調整下風部中的熱處理用氣體之流量。

(7)上述熱處理裝置存在有以下之情況：其更具備有：門，其用於使上述被處理物於上述工作區進出；以及散熱防止構件，其被安裝在上述門上，且被配置於上述工作區。

根據該構成，在工作區中作為容易發散出工作區內之熱的部位的門上被安裝有散熱防止構件。藉此，可更加提高工作區內的隔熱性。其結果，可使工作區內之各部分的環境氣體溫度更確實地維持在均勻的狀態。

根據本發明，在熱處理裝置中，可使對被處理物進行熱處理的工作區的各部分中之溫度分佈更加均勻。

1‧‧‧熱處理裝置

2‧‧‧殼體

2a‧‧‧底壁

2b‧‧‧前側壁

2c‧‧‧後側壁

2d‧‧‧上游側壁

2e‧‧‧下游側壁

2f‧‧‧頂壁

3‧‧‧門

4‧‧‧工作區

5‧‧‧下風部

6‧‧‧下風流量調整部

7‧‧‧上風部

8‧‧‧上風流量調整部

9、9A、9B、9C‧‧‧循環路徑

10‧‧‧加熱器

11‧‧‧風扇(氣流產生構件)

12‧‧‧開口部

13‧‧‧散熱防止構件

14‧‧‧固定構件

15‧‧‧隔壁

15a‧‧‧右端部

15b‧‧‧左端部

15B‧‧‧隔壁

16‧‧‧下風腔室

17‧‧‧吸入口

18、18A、18B、18C‧‧‧進給路徑

19‧‧‧供給口

20‧‧‧上風腔室

23‧‧‧第1引導件

23a‧‧‧第1部分

23b‧‧‧第2部分

23c‧‧‧通過孔部

24‧‧‧第2引導件

25‧‧‧發熱部

26‧‧‧電動馬達

27‧‧‧近位部

28‧‧‧遠位部

31‧‧‧支柱(前支柱)

32‧‧‧支柱(後支柱)

33‧‧‧基座

33a‧‧‧固定孔部(貫通孔部)

33b‧‧‧長孔部

34‧‧‧可動部

34a‧‧‧可動孔部

35‧‧‧貫通孔部

36‧‧‧連結銷

41‧‧‧支柱(前支柱)

42‧‧‧支柱(後支柱)

43‧‧‧基座

43a‧‧‧固定孔部

43b‧‧‧長孔部

44‧‧‧可動部

44a‧‧‧可動孔部

45‧‧‧貫通孔部

46‧‧‧連結銷

48‧‧‧近位區域

49‧‧‧中間區域

50‧‧‧遠位區域

51‧‧‧第1上下區域

52‧‧‧第2上下區域

53‧‧‧第3上下區域

54‧‧‧第4上下區域

55‧‧‧第5上下區域

56‧‧‧第6上下區域

57‧‧‧門附近區域

61‧‧‧第1管路

62‧‧‧第2管路

63‧‧‧收納室

100‧‧‧被處理物

F1‧‧‧主流動方向

X1‧‧‧左右方向

Y1‧‧‧前後方向

Z1‧‧‧上下方向

圖1係顯示本發明實施形態之熱處理裝置之構成的示意性之俯視 圖，用剖面顯示其中一部分。

圖2係沿圖1之II-II線的剖視圖，顯示從正面觀察熱處理裝置的狀態。

圖3係沿圖1之III-III線的剖視圖，顯示沿著工作區中之主流動方向觀察熱處理裝置的狀態。

圖4係將下風流量調整部之一部分放大顯示的側視圖。

圖5係將下風流量調整部之一部分放大顯示的俯視圖。

圖6係將下風流量調整部之一部分放大顯示的前視圖。

圖7係沿圖1之VII-VII線的剖視圖，顯示沿著與工作區中之主流動方向相反的方向觀察熱處理裝置的狀態。

圖8係將上風流量調整部之一部分放大顯示的側視圖。

圖9係以剖面顯示第1變形例之一部分的示意性之俯視圖。

圖10係以剖面顯示第2變形例之一部分的示意性之前視圖。

圖11係以剖面顯示第3變形例之一部分的示意性之前視圖。

以下，參照附圖針對用於實施本發明的形態進行說明。

圖1係顯示本發明實施形態的熱處理裝置1之構成的示意性俯視圖，用剖面顯示其中一部分。圖2係沿圖1之II-II線的剖視圖，顯示從正面觀察熱處理裝置1的狀態。圖3係沿圖1的III-III線的剖視圖，顯示沿著工作區4中的主流動方向F1觀察熱處理裝置1的狀態。

參照圖1~圖3，熱處理裝置1係用於對被處理物100實施熱處理的裝置。被處理物100例如為電子零件。在熱處理裝置1中，可以一次僅對一個被處理物100進行熱處理，也可以在將複數個被處理物100放置在保持架等上的狀態下一同進行熱處理。在本實施 形態中，在熱處理裝置1中被使用的熱處理用氣體為過熱水蒸氣。過熱水蒸氣的比熱為大約0.48(cal/g/℃)，較空氣的比熱大約0.24(cal/g/℃)為大。因此，在使用過熱水蒸氣作為用於對被搬入至熱處理室的被處理物100進行熱處理的熱處理氣體的情況下，可對被處理物施加較大的熱能。另外，熱處理用氣體亦可一部分包含有過熱水蒸氣以外的氣體，亦可以不包含有過熱水蒸氣。另外，熱處理裝置1具有特別適合用於使用過熱水蒸氣作為熱處理用氣體的情況的構成。

熱處理裝置1具有：殼體2；門3，其被配置於殼體2的前方；工作區4，其被形成在殼體2內；下風流量調整部6，其被設置於工作區4的下風部5；上風流量調整部8，其被設置於工作區4的上風部7；循環路徑9，其被設置於殼體2內，將下風部5與上風部7連接；以及加熱器10與風扇(氣流產生構件)11，其等被設置於循環路徑9。

殼體2形成為中空的箱形形狀，並且具有前側朝殼體2之前方開放的形狀。在本實施形態中，殼體2形成為立方體形狀，並具有底壁2a、作為從底壁2a向上方延伸的4個側壁的前側壁2b、後側壁2c、上游側壁2d及下游側壁2e、以及配置於4個側壁2b~2e之上端的矩形之頂壁2f。

在藉由殼體2的底壁2a、側壁2b~2e及頂壁2f被劃定的空間內形成有工作區4及循環路徑9。在殼體2之前側壁2b上形成有矩形的開口部12。在該開口部12上安裝有門3。在殼體2中除了配置有門3的部位以外的部位之外周，配置有未圖示的隔熱材料等，抑制從殼體2之內部向外部的散熱。

另外，以下，將俯視觀察殼體2時的開口部12側稱作 前側、後側壁2c側稱作後側、上游側壁2d側稱作右側、下游側壁2e側稱作左側。

門3係被設置為用於使被處理物100通過開口部12向殼體2內之工作區4進出。門3被未圖示的開閉機構所支撐，對開口部12進行開閉。門3配置成在關閉狀態時覆蓋開口部12之全面。另一方面，藉由在開口部12成為被開啟的狀態下，使殼體2內之空間露出至殼體2之外部。藉此，可使被處理物100向殼體2之工作區4進出。

門3之內側面形成為在與水平方向垂直的方向上延伸的矩形。在該門3上安裝有散熱防止構件13。

散熱防止構件13係被設置為用於抑制門3與開口部12之間的散熱。在門3被關閉時，散熱防止構件13位於工作區4之前端部。散熱防止構件13形成為大致平板狀並且左右兩端部形成為朝向後方彎曲的形狀，並使用複數個銷狀的固定構件14來固定在門3上。散熱防止構件13從底壁2a附近延伸至頂壁2f附近。

工作區4係用於配置被處理物100的區域。熱處理裝置1對工作區4內的被處理物100實施熱處理。在本實施形態中，工作區4藉由殼體2、被配置於殼體2內之空間的隔壁15、以及被配置於殼體2內之空間的下風流量調整部6及上風流量調整部8所形成。

具體而言，隔壁15被配置在從門3向殼體2內之空間的後側前進既定距離的位置。隔壁15形成為與前後方向Y1垂直的矩形之平板狀，沿著左右方向X1(工作區4中的主流動方向F1)延伸。隔壁15被固定於底壁2a及頂壁2f之兩者上。在本實施形態中，在左右方向X1上配置有隔壁15的區域，遍及較設置有開口部12的區域更 大的範圍。換言之，隔壁15之右端部15a被配置在從開口部12之右端部向右側前進後的部位。此外，隔壁15之左端部15b被配置在從開口部12之左端部向左側前進後的部位。

根據上述的構成，工作區4藉由門3、前側壁2b、底壁2a、隔壁15、頂壁2f、下風部5、下風流量調整部6、上風部7及上風流量調整部8所形成。而且，藉由該等門3、前側壁2b、底壁2a、隔壁15、頂壁2f、下風部5、下風流量調整部6、上風部7及上風流量調整部8所包圍的空間，成為殼體2內之空間中的工作區4內之空間。在本實施形態中，工作區4內的空間為長方體狀的空間。在工作區4中，作為沿著左右方向X1之一側之方向的左方向，成為熱處理用氣體的主流動方向F1。在主流動方向F1中的工作區4之下風側部分，配置有過熱水蒸氣的導入管(未圖示)。過熱水蒸氣通過該導入管而被導入至工作區4內。

另外，主流動方向F1係指在殼體2內的空間中作為熱處理用氣體的過熱水蒸氣循環的流動方向，例如，意味著不包含過熱水蒸氣局部地產生漩渦時的該漩渦之流動方向。

工作區4內之空間形成長方體狀之空間。工作區4具有：上風部7，其流入有被加熱的熱處理用氣體；以及下風部5，其流出有熱處理用氣體；在上風部7與下風部5之間配置被處理物100。

上風部7被配置於開口部12之右端部。上風部7在從左右方向X1觀察時，形成為矩形。在該上風部7配置有上風流量調整部8。

下風部5被配置於開口部12之左端部。下風部5在從左右方向X1觀察時形成為矩形。在本實施形態中，設定為在沿左右方 向X1觀察時，上風部7之投影面積與下風部5之投影面積相同。在下風部5配置有下風流量調整部6。用於向具有上述之構成的工作區4連續地供給熱處理用氣體，設置有循環路徑9。

循環路徑9係被設置於用於使熱處理用氣體從下風部5向上風部7搬送而藉此使熱處理用氣體在殼體2內循環。在本實施形態中，循環路徑9被配置在殼體2內。此外，在本實施形態中，在循環路徑9中設置有用於將過熱水蒸氣供給至殼體2內的上述之導入管(未圖示)、及用於從殼體2內排出過熱水蒸氣的排出管(未圖示)。

循環路徑9藉由下風流量調整部6、前側壁2b中的開口部12之左側部分、下游側壁2e、後側壁2c、隔壁15、上游側壁2d、上風流量調整部8、前側壁2b中的開口部12之右側部分、底壁2a及頂壁2f所形成。該循環路徑9具有下風腔室16、吸入口17、進給路徑18、供給口19及上風腔室20。

下風腔室16被配置為作為在主流動方向F1中的下風流量調整部6之正下游處而被送出有熱處理用氣體的箱狀部分。下風腔室16形成在俯視觀察時沿前後方向Y1細長地延伸的矩形之空間。此外，下風腔室16內之空間的高度位置與工作區4內之空間的高度位置對齊。下風腔室16在俯視觀察時，使用下風流量調整部6、前側壁2b中的開口部12之左側部分及下游側壁2e所形成。

下風腔室16形成為使熱處理用氣體朝向後側壁2c流動。通過下風腔室16後的熱處理用氣體，朝向下風腔室16的後方，通過吸入口17而進入至進給路徑18。

吸入口17被設置於下風腔室16之後端部，形成主流動方向F1中的進給路徑18之入口部分。吸入口17通過下風部5及下風 腔室16吸入工作區4內之熱處理用氣體。吸入口17使用隔壁15之左端部15b、下游側壁2e中的沿左右與上述左端部15b對向的部分、底壁2a及頂壁2f所形成，在沿前後方向Y1觀察時形成沿上下方向Z1細長的矩形之空間。在左右方向X1上，吸入口17之寬度被設定為小於下風腔室16之寬度。

進給路徑18被構成為通過吸入口17而吸入熱處理用氣體，向所吸入的熱處理用氣體施加熱能及動能，而將該熱處理用氣體向供給口19送出。

在本實施形態中，進給路徑18被配置於工作區4的後方，在前後方向Y1上，按照工作區4、隔壁15、進給路徑18的順序排列。進給路徑18形成在俯視觀察時沿左右方向X1細長地延伸的大致矩形之空間。

進給路徑18使用隔壁15、下游側壁2e之後端部、後側壁2c、上游側壁2d之後端部、第1引導件23與第2引導件24、底壁2a及頂壁2f所形成。

在進給路徑18中，主流動方向F1在俯視觀察時從左向右之後被第1引導件23引導而呈曲柄狀地前進。在進給路徑18內配置有加熱器10及風扇11。在主流動方向F1上，從下風部5向上風部7按照加熱器10、風扇11之順序配置。

加熱器10相鄰地配置於吸入口17，對在進給路徑18中沿主流動方向F1流動的熱處理用氣體進行加熱。作為加熱器10，可例示藉由對電熱線通電來進行加熱的電熱加熱器。在本實施形態中，在主流動方向F1中的進給路徑18的大致一半的區域中配置有加熱器10。在本實施形態中，加熱器10具有複數個從頂壁2f沿上下延伸的 管狀之發熱部25。熱處理用氣體被加熱器10之發熱部25加熱，並在進給路徑18內的空間中沿著主流動方向F1向右前進。通過加熱器10後的熱處理用氣體被第1引導件23引導而向風扇11流動。

第1引導件23被配置為從底壁2a朝向頂壁2f。第1引導件23包含有與風扇11相鄰地配置的第1部分23a及第2部分23b。第1部分23a在俯視觀察時例如形成為L字狀，配置在加熱器10與風扇11之間。第2部分23b在俯視觀察時例如形成為L字狀，被配置在從第1部分23a沿主流動方向F1前進後的位置處，在風扇11之右前方。第1部分23a連接於後側壁2c，第2部分23b連接於隔壁15。在第1部分23a與第2部分23b之間形成有通過孔部23c。通過孔部23c為朝向前後方向Y1的孔部。除了通過孔部23c以外，加熱器10與風扇11之間被第1引導件23之第1部分23a及第2部分23b所堵塞。根據該構成，熱處理用氣體在通過加熱器10之後利用通過孔部23c而向後方流動，然後到達至風扇11。另外，在主流動方向F1中的風扇11之上游側的區域，設置有用於供給過熱水蒸氣的上述之導入管、及用於排出過熱水蒸氣的上述之排出管(未圖示)。

風扇11係使工作區4等中產生朝向主流動方向F1的熱處理用氣體之氣流的構件。作為風扇11，可例示離心風扇、軸流風扇等之各種風扇。在本實施形態中，風扇11為西洛哥風扇(Sirocco fan)。風扇11被配置於與第1引導件23之第1部分23a及第2部分23b相鄰的部位。該風扇11被安裝在電動馬達26之輸出軸上，藉由電動馬達26之驅動而旋轉，該電動馬達26被安裝在後側壁2c上。風扇11在前後方向Y1上與通過孔部23c面對。風扇11對所吸入的熱處理用氣體施加離心力。藉此，熱處理用氣體被底壁2a、頂壁2及第1引導 件23引導而流向主流動方向F1之下游側，並且被第2引導件24及上游側壁2d之後端部引導而送往供給口19。

第2引導件24為在俯視觀察時形成為圓弧狀的板狀構件，被配置為從後側壁2c之右端部朝向上游側壁2d之後端部。第2引導件24形成為伴隨向右側前進而向前側前進的彎曲形狀，在左右方向X1(主流動方向F1)上與風扇11面對。從風扇11被吐出的熱處理用氣體被第2引導件24引導，藉此流暢地將方向從朝右變為朝前。

供給口19被設置於上風腔室20之後端部，形成主流動方向F1中的進給路徑18之出口部分。供給口19通過上風腔室20及上風部7向工作區4內供給熱處理用氣體。供給口19使用隔壁15之右端部15a、上游側壁2d中的沿左右與上述右端部15a對向的部分、底壁2a及頂壁2f所形成，形成在前後方向Y1上觀察時沿上下方向Z1細長的矩形之空間。在左右方向X1上，供給口19之寬度被設定為小於上風腔室20之寬度。

上風腔室20被配置為作為在主流動方向F1中的上風流量調整部8之正上游處而被送出有熱處理用氣體的箱狀部分。上風腔室20形成為與下風腔室16大致左右對稱。具體而言，上風腔室20形成在俯視觀察時沿前後方向Y1細長地延伸的矩形之空間。此外，上風腔室20內之空間的高度位置與工作區4內之空間的高度位置對齊。上風腔室20在俯視觀察時，使用上風流量調整部8、前側壁2b中的開口部12之右側部分及上游側壁2d所形成。

上風腔室20形成為使熱處理用氣體朝向上風流量調整部8流動。從供給口19被導入至上風腔室20的熱處理用氣體，以使在前後方向Y1上的熱處理用氣體之密度一致之方式，暫時在上風腔室 20中停留短暫的時間。然後，熱處理用氣體通過上風流量調整部8而被送往工作區4內之空間。熱處理用氣體在對工作區4內之被處理物100進行加熱之後，通過下風流量調整部6而流入至下風腔室16，再次被加熱器10加熱而在殼體2內之空間循環。

接著，對下風流量調整部6進行說明。

圖4係將下風流量調整部6的一部分放大顯示的側視圖。圖5係將下風流量調整部6的一部分放大顯示的俯視圖。圖6係將下風流量調整部6的一部分放大顯示的前視圖。參照圖3~圖6，下風流量調整部6係被設置為用於調整在下風部5中與左右方向X1垂直的平面(如圖3所示，從左右方向X1觀察到的工作區4之下風部5)中的各部分之流量。在本實施形態中，下風流量調整部6調整在下風部5中從工作區4流向下風腔室16的過熱水蒸氣之流量。

在本實施形態中，下風流量調整部6構成為在前後方向Y1上被分割為複數個(3個)的每個區域，可調整從工作區4流向下風腔室16的熱處理用氣體之流量。此外，在本實施形態中，下風流量調整部6構成為在上下方向Z1上被分割為複數個(6個)的每個區域，可調整從工作區4流向下風腔室16的熱處理用氣體之流量。在本實施形態中，下風流量調整部6在前後方向Y1之3個區域×上下方向Z1之6個區域的合計3×6=18的每個區域，可調整熱處理用氣體之流量。另外，在下風流量調整部6中，可調整熱處理用氣體之流量的區域之數量不限於3×6=18個區域，只要2個以上即可。

根據上述構成，在本實施形態中，下風流量調整部6將下風部5中相對地接近於吸入口17的近位部27中的熱處理用氣體之流量而設定為小於相對地遠離於吸入口17的遠位部28中的熱處理用 氣體之流量。另外，在本實施形態中，近位部27係指在前後方向Y1上的工作區4之後側1/3之區域，在本實施形態中，遠位部28係指在前後方向Y1上的工作區4之前側1/3之區域。

下風流量調整部6被配置為遍及下風部5的整個區域，對工作區4內之空間與下風腔室16內之空間進行劃分。下風流量調整部6沿著前後方向Y1筆直地延伸。

下風流量調整部6具有：前後一對支柱31、32；基座33，其被安裝在該等之支柱31、32；以及複數個可動部34，其等被安裝在基座33。

前後一對支柱31、32被設置為用於沿前後方向Y1對基座33進行兩端支撐。前支柱31使用板狀構件所形成，在開口部12之附近，配置於前側壁2b之後方。前支柱31被固定於前側壁2b，從底壁2a延伸至頂壁2f。後支柱32使用板狀構件所形成，在隔壁15之左端部15b之附近，配置於隔壁15之前方。後支柱32被固定於隔壁15，從底壁2a延伸至頂壁2f。

在前支柱31與後支柱32上分別形成有貫通孔部35。貫通孔部35朝工作區4內之空間與下風腔室16內之空間開放。在各支柱31、32中，貫通孔部35在上下方向Z1上以等間距配置。在本實施形態中，在各支柱31、32中，貫通孔部35之數量為在後述之第1~第6區域51~56的每個區域中設置有兩個。在本實施形態中，各貫通孔部35形成為矩形，具有較後述之固定孔部33a小且較可動孔部34a小的開口面積。各貫通孔部35始終使熱處理用氣體從工作區4通過至下風腔室16。藉此，即使在全部之可動部34完全地堵塞住基座33的後述之固定孔部33a時，亦可使熱處理用氣體從工作區4通往下風腔室 16。此外，藉由在前後方向Y1之兩端部設置有貫通孔部35，在下風部5之近位部27與遠位部28的兩者中，可使最低限度的熱處理用氣體通過，可進一步縮小開口部12與隔壁15的溫度差。

另外，在本實施形態中，以各支柱31、32利用一片板狀構件所形成的形態為例進行了說明，但亦可不為如此。例如，各支柱31、32亦可使用中空之四角柱狀構件所形成。在該情況下，亦採用如下構成：藉由形成有與貫通孔部35相同的貫通孔部，將工作區4內之熱處理用氣體導入至下風腔室16內之空間。

基座33係與支柱31、32協作而覆蓋下風部5的板狀構件。基座33之前端部被固定於前支柱31。基座33之後端部被固定於後支柱32。基座33從底壁2a延伸至頂壁2f。另外，基座33亦可被安裝於相對於支柱31、32可調整上下方向Z1之位置的支柱31、32。

在本實施形態中，關於基座33，如上述，在前後方向Y1之3個區域×上下方向Z1之6個區域的合計3×6=18的每個區域，可調整熱處理用氣體之流量。更具體而言，在本實施形態中，在基座33中，沿著前後方向Y1規定有近位區域48、中間區域49及遠位區域50。此外，在本實施形態中，在基座33中，沿著上下方向Z1規定有第1~第6上下區域51~56。

近位區域48係被設定在近位部27的區域。近位區域48係基座33中的後端側約1/3之區域。中間區域49係被設定在近位部27與遠位部28之間的區域。遠位區域50係被設定在遠位部28的區域。遠位區域50係基座33中的前端側約1/3之區域。

第1~第6上下區域51~56在上下方向Z1上以等間距被設定。第1上下區域51被設定在頂壁2f附近，第6上下區域56被 設定在底壁2a附近。

如此般，在前後方向Y1上設定有作為3個區域的近位區域48、中間區域49及遠位區域50，並且在上下方向Z1上設定有作為6個區域的第1~第6上下區域51~56。藉此，如上述，設定有3×6=18個單元。而且，在該等之每個單元可設定從工作區4朝向下風腔室16的風量。

在本實施形態中，在基座33的各單元中，形成有縱2行×橫4列的固定孔部33a。具體而言，分別在近位區域48、中間區域49、遠位區域50中，在前後方向Y1上以等間距在4個部位形成有固定孔部33a。其結果，在前後方向Y1上，以等間距在3×4=12個部位形成有固定孔部(貫通孔部)33a。此外，分別在第1~第6上下區域51~56中，在上下方向Z1上以等間距在2個部位形成有固定孔部33a。其結果，在上下方向Z1上，以等間距在2×6=12個部位形成有固定孔部33a。換言之，在本實施形態中，固定孔部33a形成於前後方向Y1上12個部位與上下方向Z1上12個部位，合計12×12個部位。

在本實施形態中，各固定孔部33a為圓孔。固定孔部33a之高度位置與支柱31、32對應的貫通孔部35對齊。在具有上述之構成的基座33中的工作區4側的側面上於每個單元設置有可動部34。

可動部34係被配置成可覆蓋複數個固定孔部33a中的至少一部分並調整所對應的固定孔部33a之開度的開度調整構件。可動部34如上述般被設置於每個單元，被設置在前後方向Y1上之3個部位×上下方向Z1上之6個部位的合計18個部位。各可動部34被形成為矩形之平板狀，可動部34彼此在上下方向Z1上以等間距配置。

在各可動部34上形成有複數個可動孔部34a。可動孔部 34a被形成為與固定孔部33a相同的形狀及大小，在本實施形態中為圓孔。在各可動部34中的可動孔部34a之數量被設定為較在單元中的固定孔部33a之數量少。具體而言，各可動部34之可動孔部34a在上下方向Z1上形成有2處，在前後方向Y1上形成有3處。即，在各可動部34中，形成有2×3=6個可動孔部34a。另一方面，各可動部34在前後方向Y1上形成為可與4個部位之固定孔部33a重疊的長度。此外，在各可動部34中，在前後方向Y1上相鄰的可動孔部34a之間的間隔被設定為在固定孔部33a之直徑以上。藉此，可動部34可堵塞住在設置有該可動部34的單元中之全部8個固定孔部33a。

各可動部34在前後方向Y1上可滑動地被支撐在基座33上。即，可動部34以可調整在設置有該可動部34的單元中之各固定孔部33a之開度的方式被支撐在基座33上。具體而言，在各可動部34上固定有連結銷36。連結銷36例如在各可動部34上設置有兩個，被配置於在上下方向Z1上避開可動孔部34a的部位。各連結銷36穿過被形成在基座33上且沿前後方向Y1細長的長孔部33b，被固定在於基座33中的下風腔室16側之側面所設置的防脫構件(未圖示)上。

另外，亦可取代上述之構成，在可動部34上設置長孔部，並且將連結銷36固定在基座33上。

根據上述的構成，各可動部34被配置為在將所對應的固定孔部33a設為全部打開時，例如，在遠位區域50中如圖所例示，可動孔部34a之緣部與所對應的固定孔部33a之緣部完全重疊。此時，如果採用可動部34之連結銷36位於所對應的長孔部33b之前端部的構成，則可容易藉由操作者進行可動部34之位置調整。在圖中，作為一例，顯示將遠位區域50中的第1~第6上下區域51~56之全部的可 動部34所對應的固定孔部33a設為全部打開的狀態。

此外，各可動部34被配置為在將所對應的固定孔部33a設為全部關閉時，雖然未圖示，但在可動部34中未形成有可動孔部34a的部位將所對應的固定孔部33a完全堵塞住。此時，如果採用可動部34之連結銷36位於所對應的長孔部33b之後端部的構成，則可容易藉由操作者進行可動部34之位置調整。

此外，各可動部34被配置為在將所對應的固定孔部33a僅一部分打開時，例如，在中間區域49及近位區域48中如圖所例示，在可動部34中未形成有可動孔部34a的部分與所對應的固定孔部33a之一部分重疊。在圖中，作為一例，顯示被配置為中間區域49中的第1~第6上下區域51~56之全部的可動部34成為既定的第1開度的狀態。此外，顯示被配置為遠位元區域50中的第1~第6上下區域51~56之全部的可動部34成為既定的第2開度的狀態。第1開度例如為百分之90幾的開度，第2開度例如為大約1/3的開度(大約33%的開度、大約2/3關閉的狀態)。

如上述般，在本實施形態中，將相對地接近於吸入口17的近位部27中之固定孔部33a之開度設定為小於相對地遠離於吸入口17的遠位部28中之固定孔部33a之開度。並且，在本實施形態中，設為遠位區域50中的固定孔部33a之開度>中間區域49中的固定孔部33a之開度>近位區域48中的固定孔部33a之開度。即，依照從遠位側至近位側(後側)，使固定孔部33a之開度階段性地減小。

另外，在本實施形態中，固定孔部33a之開度的設定，即可動部34之位置設定，可藉由操作者以手動進行。因此，可動部34被設置在殼體2內最大之空間即工作區4內之空間。藉此，可容易進 行藉由操作者所進行之可動部34的位置調整作業。

接著，對上風流量調整部8進行說明。

上風流量調整部8係在各部分的開度與下風流量調整部6相同時成為左右對稱(在主流動方向F1上對稱)的構成。以下更具體進行說明。

圖7係沿圖1的VII-VII線的剖視圖，顯示沿著與工作區4中的主流動方向相反的方向觀察熱處理裝置的狀態。圖8係將上風流量調整部8的一部分放大顯示的側視圖。參照圖1及圖5~圖8，上風流量調整部8係被設置為用於調整上風部7中與左右方向X1垂直的平面(如圖7所示，從左右方向X1觀察到的工作區4之上風部7)中的各部分之流量。在本實施形態中，上風流量調整部8調整在上風部7中從上風腔室20朝工作區4的過熱水蒸氣之流量。

在本實施形態中，與下風流量調整部6同樣，上風流量調整部8被構成為在前後方向Y1上被分割為複數個(3個)的每個區域，可調整從上風流量調整部8流向工作區4的熱處理用氣體之流量。此外，在本實施形態中，與下風流量調整部6同樣，上風流量調整部8被構成為在上下方向Z1上被分割為複數個(6個)的每個區域，可調整從上風流量調整部8流向工作區4的熱處理用氣體之流量。因此，在本實施形態中，在上風流量調整部8中，亦可在前後方向Y1之3個區域×上下方向Z1之6個區域的合計3×6=18個區域的每個區域調整熱處理用氣體之流量。另外，在上風流量調整部8中，可調整熱處理用氣體之流量的區域之數量不限定於3×6=18個區域，只要2個以上即可。

根據上述的構成，在本實施形態中，構成為使通過上風 部7的熱處理用氣體之流量在上風部7的整個區域內成為實質上均勻。「實質上均勻」係指風量的差在百分之幾以內，可視作均勻。具體而言，上風流量調整部8將在上風部7中相對地接近於供給口19的近位部27中的熱處理用氣體之流量與相對地遠離於供給口19的遠位部28中的熱處理用氣體之流量以成為均勻之方式加以設定。

上風流量調整部8被配置為遍及上風部7的整個區域，對上風腔室20內之空間與工作區4內之空間進行劃分。上風流量調整部8沿著前後方向Y1筆直地延伸。

上風流量調整部8具有：前後一對支柱41、42；基座43，其安裝於該等之支柱41、42；以及複數個可動部44，其等被安裝在基座43。

前後一對支柱41、42被設置為沿前後方向Y1對基座43進行兩端支撐。支柱41、42形成為與支柱31、32左右對稱。前支柱41被固定於前側壁2b。後支柱42被固定於隔壁15。

在前支柱41與後支柱42上分別形成有貫通孔部45。貫通孔部45朝工作區4內之空間與上風腔室20內之空間開放。各貫通孔部45被構成為與所對應的貫通孔部35左右對稱的配置及形狀。在本實施形態中，各貫通孔部45始終使熱處理用氣體從上風腔室20通過至工作區4。藉此，即使在全部之可動部44完全堵塞住基座43的後述之固定孔部43a時，亦可使熱處理用氣體從上風腔室20通往工作區4。此外，藉由在前後方向Y1之兩端部設置有貫通孔部45，在上風部7之近位部27與遠位部28的兩者中，可使最低限度的熱處理用氣體通過，可進一步縮小開口部12與隔壁15的溫度差。

基座43係與支柱41、42協作而覆蓋下風部5的板狀構 件。基座43被配置為與基座33左右對稱。基座43之前端部被固定於前支柱41。基座43之後端部被固定於後支柱42。另外，基座43亦可被安裝於相對於支柱41、42可調整上下方向Z1之位置的支柱41、42。

在本實施形態中，關於基座43，如上述，與基座33同樣，在前後方向Y1之3個區域×上下方向Z1之6個區域的合計3×6=18的每個區域，可調整熱處理用氣體之流量。更具體而言，在本實施形態中，在基座43中，亦與基座33同樣，沿著前後方向Y1規定有近位區域48、中間區域49及遠位區域50。此外，在本實施形態中，在基座43中，亦與基座33同樣，沿著上下方向Z1規定有第1~第6上下區域51~56。

如上述般，設定有前後方向Y1上之3個區域及上下方向Z1上之6個區域的合計3×6=18個單元。而且，在該等之每個單元上可設定從上風腔室20朝向工作區4的風量。

在本實施形態中，在基座43的各單元中，形成有縱2行×橫4列的固定孔部43a。另外，在基座43中的固定孔部43a與在基座33中的固定孔部33a左右對稱，因此，省略詳細說明。

在具有上述之構成的基座43中的工作區4側的側面上於每個單元設置有可動部44。

可動部44係被配置成可覆蓋複數個固定孔部43a中的至少一部分並調整所對應的固定孔部43a之開度的開度調整構件。可動部44如上述般被設置於每個單元，被設置在前後方向Y1上之3個部位×上下方向Z1上之6個部位的合計18個部位。可動部44被形成為與可動部34左右對稱的形狀。具體而言，各可動部44被形成為矩形之平板狀，可動部44彼此在上下方向Z1上以等間距配置。

在各可動部44上形成有複數個可動孔部44a。可動部44中的可動孔部44a之構成及佈局，與可動部34中的可動孔部34a之構成及佈局相同。藉此，可動部44可堵塞住在設置有該可動部44的單元中之全部8個固定孔部43a。

各可動部44在前後方向Y1上可滑動地被支撐在基座43上。即，可動部44被以可調整在設置有該可動部44的單元中之各固定孔部43a之開度的方式被支撐在基座43上。具體而言，在各可動部44上固定有連結銷46。連結銷46例如在各可動部44上設置有兩個，被配置於在上下方向Z1上避開可動孔部44a的部位。各連結銷46穿過被形成在基座43上且沿前後方向Y1細長的長孔部43b，被固定在於基座43中的上風腔室20側之側面所設置的防脫構件(未圖示)上。

根據上述的構成，各可動部44被配置為在將所對應的固定孔部43a設為全部打開時，例如，在遠位區域50中如圖所例示，可動孔部44a之緣部與所對應的固定孔部43a之緣部完全重疊。在圖中，作為一例，顯示將遠位區域50及中間區域49中的第1~第6上下區域51~56之全部的可動部44所對應的固定孔部43a設為全部打開的狀態。

此外，雖然未圖示，各可動部44被配置成為在將所對應的固定孔部43a設為全部關閉時，在可動部44中未形成有可動孔部44a的部位將所對應的固定孔部43a完全堵塞住。

此外，各可動部44被配置為在將所對應的固定孔部43a僅一部分打開時，例如，在近位區域48中如圖所例示，在可動部44中未形成有可動孔部44a的部分與所對應的固定孔部43a之一部分重 疊。在圖中，作為一例，顯示被配置為近位元區域48中的第1~第6上下區域51~56之全部的可動部44成為既定開度的狀態，並且，顯示被配置為中間區域49及遠位區域50中的第1~第6上下區域51~56之全部的固定孔部43a成為全部打開的狀態。上述既定開度例如為百分之90幾的開度。藉此，使得來自接近於供給口19的近位區域48中的固定孔部33a的熱處理用氣體之流量不會變得過大。其結果，來自前後方向Y1之各部分中的固定孔部43a的熱處理用氣體之流量成為實質上均勻。

另外，在本實施形態中，與可動部34之位置設定同樣，固定孔部43a的開度的設定，即可動部44之位置設定，藉由操作者以手動進行。因此，可動部44被設置於殼體2內最大之空間即工作區4內之空間。藉此，可容易進行藉由操作者所進行之可動部44的位置調整作業。

另外，下風流量調整部6之各固定孔部33a之開度及上風流量調整部8之各固定孔部43a之開度只要被調整為使工作區4內之溫度分佈變得更加均勻即可，並不限定於上述之例示的開度設定。

在本實施形態中，使用過熱水蒸氣作為熱處理用氣體。在該情況下，與使用氮作為熱處理用氣體的情況相比，工作區4內之環境氣體溫度分佈難以成為均勻。此為，由於過熱水蒸氣的比熱較大，因此在工作區4內，過熱水蒸氣未均勻地分佈時的工作區4內之各部分之溫度差變大。而且，本發明人進行深刻研究的結果則發現有在工作區4內中的門3附近及下風部5附近，特別是過熱水蒸氣之溫度容易降低的傾向。另外，過熱水蒸氣的比熱較大，因此，乍一看，認為容易將工作區4內加熱至均勻的溫度分佈。但係，實際上，如上述， 本發明人得出會產生溫度分佈的偏差的研究結果。而且，如上述，進一步進行深刻研究的結果係得到如下構思：藉由下風流量調整部6縮小下風部5的近位區域48中的過熱水蒸氣之通過面積，使得過熱水蒸氣容易通過下風部5的遠位區域50附近之特別是以圓形所包圍的門附近區域57(參照圖1)。

如上述說明般，根據熱處理裝置1，下風流量調整部6在下風部5中，將近位部27中的熱處理用氣體之流量，設定為小於遠位部28中的熱處理用氣體之流量。藉此，在下風部5的遠位部28之周圍，可使更多的熱處理用氣體流過。此外，上風部7自接近於吸入口17的位置，即使縮減流量，亦可使熱處理用氣體順暢地流過。其結果，在下風部5中，可使近位部27中的熱處理用氣體之溫度與遠位部28中的熱處理用氣體之溫度更加均勻。其結果，可使熱處理用氣體均勻地遍及至工作區4內之非常廣的範圍。藉此，可使對被處理物100進行熱處理的工作區4之各部分中的溫度分佈更加均勻。

此外，根據熱處理裝置1，被構成為使通過上風部7的熱處理用氣體之流量在上風部7的整個區域內成為實質上均勻。更具體而言，在本實施形態中，在上風部7中設置有上風流量調整部8，將近位部27中的熱處理用氣體之流量與遠位部28中的熱處理用氣體之流量設定為均勻。根據該構成，可使工作區4內之各部分的環境氣體溫度更加均勻。並且，藉由使熱處理用氣體之流量在上風部7的整個區域內成為實質上均勻的簡單構成，使工作區4內之各部分的環境氣體溫度更加均勻。如此般，在上風部7中並未成為積極地使熱處理用氣體之流量分配不同的構成。

此外，在熱處理裝置1中，熱處理用氣體包含過熱水蒸 氣。根據該構成，可以使用比熱較氮等之熱處理用氣體之比熱高的過熱水蒸氣，即在工作區4內對於環境氣體溫度容易產生偏差的過熱水蒸氣，作為熱處理用氣體。藉此，可更加高效地對被處理物100進行處理。

此外，根據熱處理裝置1，在循環路徑9中，從下風部5朝上風部7依加熱器10、風扇11的順序進行配置。根據該構成，可利用風扇11對被加熱器10所加熱後的熱處理用氣體進行攪拌。其結果，可使送往工作區4的熱處理用氣體之溫度更加均勻。

此外，根據熱處理裝置1，在下風流量調整部6中，可利用將近位部27中的固定孔部33a之開度設定為小於遠位部28中的固定孔部33a之開度的簡單構成，容易地調整下風部5中的熱處理用氣體之流量。

此外，根據熱處理裝置1，散熱防止構件13被安裝在門3上，並被配置於工作區4。根據該構成，在工作區4中之作為容易散出工作區4內之熱的部位的門3上安裝散熱防止構件。藉此，可更加提高工作區4內的隔熱性。其結果，可更加確實地維持工作區4內之各部分之環境氣體溫度為均勻的狀態。

以上，對本發明的實施形態已進行了說明，但本發明並不限定於上述的實施形態。本發明可在申請專利範圍求所記載的範圍內進行各種變更。另外，以下主要對與上述實施形態不同的構成進行說明，而對相同的構成在圖上則標注相同的標號並省略其詳細的說明。

(1)在上述的實施形態中，以循環路徑9被形成在殼體2內的構成為例進行說明，但不照上述般亦可。例如，亦可參照以剖面顯示第1變形例的一部分之示意性的俯視圖，即圖9，將循環路徑 9A配置於殼體2之外部。在該情況下，省略圖1~圖8所示的實施形態中的殼體2內之隔壁15，並且，下風流量調整部6及上風流量調整部8被延伸至後側壁2c。而且，吸入口17例如被形成於下游側壁2e之前後方向中央部。該吸入口17連接至被設置在殼體2之外部的進給路徑18A。

進給路徑18A具有：第1管路61，其被形成為例如在俯視觀察時為U字狀，且形成有吸入口17；收納室63，其與該第1管路61連接，且收納有加熱器10及風扇11；以及第2管路62，其被形成為例如在俯視觀察時為U字狀，且與收納室63連接，並且形成有供給口19。供給口19例如被形成於上游側壁2d之前後方向中央部。

根據該第1變形例，可容易個別地設計殼體2與進給路徑18A，可更加提高熱處理裝置1之設計的自由度。

(2)在上述的實施形態及第1變形例中，以在工作區4之後方配置加熱器10及風扇11的形態為例進行了說明。但是亦可不如上述般。例如，亦可參照以剖面顯示第2變形例之一部分的示意性的前視圖即圖10，將循環路徑9B配置於殼體2內之上部。在該情況下，省略圖1~圖8所示的實施形態中的殼體2內之隔壁15，並且，下風流量調整部6及上風流量調整部8被延伸至後側壁2c。而且，在下風流量調整部6及上風流量調整部8與頂壁2f之間形成有隔壁15B。吸入口17例如被形成於下風腔室16之上端部。進給路徑18B被形成在頂壁2f與隔壁15B之間。供給口19例如被形成於上風腔室20之上端部。

根據該第2變形例，可更加縮短前後方向Y1上的熱處理裝置1之全體長度。

(3)在上述的第2變形例中，以循環路徑9B被形成在殼體2內的構成為例已進行了說明，但是不照上述般亦可。例如，亦可參照以剖面顯示第3變形例之一部分的示意性的前視圖，即圖11，循環路徑9C在殼體2之外部被配置在殼體2之上方。在該情況下，省略第2變形例中的殼體2內之隔壁15B，並且，下風流量調整部6及上風流量調整部8被延伸至頂壁2f。而且，吸入口17例如被形成於下游側壁2e之上下方向中央部。該吸入口17連接至被設置在殼體2之外部的進給路徑18C。

進給路徑18C具有：第1管路61，其被形成為例如在從正面觀察時為U字狀，且形成有吸入口17；收納室63，其與該第1管路61連接，且收納有加熱器10及風扇11；以及第2管路62，其被形成為例如在從正面觀察時為U字狀，且與收納室63連接，並且形成有供給口19。供給口19例如被形成於上游側壁2d之上下方向中央部。

根據該第3變形例，可容易個別地設計殼體2與進給路徑18C，可更加提高熱處理裝置1之設計的自由度。

(產業上之可利用性)

本發明可作為熱處理裝置而廣泛地被應用。

1‧‧‧熱處理裝置

2‧‧‧殼體

2a‧‧‧底壁

2b‧‧‧前側壁

2c‧‧‧後側壁

2d‧‧‧上游側壁

2e‧‧‧下游側壁

3‧‧‧門

4‧‧‧工作區

5‧‧‧下風部

6‧‧‧下風流量調整部

7‧‧‧上風部

8‧‧‧上風流量調整部

9‧‧‧循環路徑

10‧‧‧加熱器

11‧‧‧風扇(氣流產生構件)

12‧‧‧開口部

13‧‧‧散熱防止構件

14‧‧‧固定構件

15‧‧‧隔壁

15a‧‧‧右端部

15b‧‧‧左端部

16‧‧‧下風腔室

17‧‧‧吸入口

18‧‧‧進給路徑

19‧‧‧供給口

20‧‧‧上風腔室

23‧‧‧第1引導件

23a‧‧‧第1部分

23b‧‧‧第2部分

23c‧‧‧通過孔部

24‧‧‧第2引導件

25‧‧‧發熱部

26‧‧‧電動馬達

27‧‧‧近位部

28‧‧‧遠位部

31‧‧‧支柱(前支柱)

32‧‧‧支柱(後支柱)

33‧‧‧基座

34‧‧‧可動部

36‧‧‧連結銷

41‧‧‧支柱(前支柱)

42‧‧‧支柱(後支柱)

43‧‧‧基座

44‧‧‧可動部

46‧‧‧連結銷

48‧‧‧近位區域

49‧‧‧中間區域

50‧‧‧遠位區域

57‧‧‧門附近區域

F1‧‧‧主流動方向

X1‧‧‧左右方向

Y1‧‧‧前後方向

Claims (7)

1. 一種熱處理裝置，其特徵在於，其具備有：

   工作區，其包含有被加熱的熱處理用氣體所流入的上風部及上述熱處理用氣體所流出的下風部，並在上述上風部與上述下風部之間配置被處理物；

   吸入口，其通過上述下風部而吸入上述工作區內之上述熱處理用氣體；以及

   下風流量調整部，其構成為將在上述下風部中相對地接近上述吸入口的近位部中的上述熱處理用氣體之流量設定為小於相對地遠離上述吸入口的遠位部中的上述熱處理用氣體之流量。
2. 如請求項1之熱處理裝置，其中，其構成為，通過上述上風部的上述熱處理用氣體之流量在上述上風部的整個區域中實質上為均等。
3. 如請求項2之熱處理裝置，其中，更具備有：

   供給口，其通過上述上風部而向上述工作區內供給上述熱處理用氣體；以及

   上風流量調整部，其構成為，使在上述上風部中相對地接近上述供給口的近位部中的上述熱處理用氣體之流量與相對地遠離上述供給口的遠位部中的上述熱處理用氣體之流量為均等。
4. 如請求項1之熱處理裝置，其中，上述熱處理用氣體包含過熱水蒸氣。
5. 如請求項1之熱處理裝置，其中，更具備有：

   循環路徑，其使上述熱處理用氣體從上述下風部向上述上風部循環；

   加熱器，其被配置於上述循環路徑，用於對上述熱處理用氣體進行加熱；以及

   氣流產生構件，其被配置於上述循環路徑，用於使上述工作區中產生上述熱處理用氣體之氣流；

   從上述下風部朝上述上風部依上述加熱器、上述氣流產生構件的順序進行配置。
6. 如請求項1之熱處理裝置，其中，

   上述下風流量調整部包含有：基座，其被配置為覆蓋上述下風部，且形成有複數個貫通孔部；以及可動部，其被配置為可覆蓋複數個上述貫通孔部中之至少一部分，且用於調整上述貫通孔部之開度；

   上述近位部中的上述貫通孔部之開度小於上述遠位部中的上述貫通孔部之開度。
7. 如請求項1至6中任一項之熱處理裝置，其中，更具備有：

   門，其用於使上述被處理物於上述工作區進出；以及

   散熱防止構件，其被安裝在上述門，且被配置於上述工作區。

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