JP6552839B2 - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明のガラス基板の製造方法の実施形態について説明する。図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法の流れを示すフローチャートの例である。製造されるガラス基板は、特に制限されないが、縦寸法及び横寸法のそれぞれが500mm〜3500mmであり、厚さが0.1mm〜1.1mmである極めて薄い矩形形状の板であることが好ましい。
SiO2:55モル%〜80モル%、
Al2O3:8モル%〜20モル%、
B2O3:0モル%〜12モル%、
RO:0モル%〜17モル%(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)。
次に、オフラインアニール処理について説明する。オフラインアニール処理は、例えば、ダウンドロー法により成形されたシートガラスを温度管理された状態で冷却する第1徐冷工程を経て得られたガラス基板を、再度加熱し、所定の温度まで昇温させた後、再度冷却する第2徐冷工程を行う処理である。図1のステップS3では、複数のガラス基板11と複数のシート体とを交互に1枚ずつ積層してガラス基板11の積層体が作製される。シート体としては、再生紙またはパルプ紙等が用いられる。
図4は、ガラス基板11上の点A,Bの位置を示す図である。図5は、従来のオフラインアニール処理において、ガラス基板11上の点A,Bの各位置における熱履歴を示す図である。熱履歴とは、熱処理によって変化するガラス基板11の温度の履歴を示すものである。なお、図4において、発熱装置41からの送風方向は、矢印で示されるように、図面右側から図面左側であるとする。従来のオフラインアニール処理では、図4において、ガラス基板11の右側端部近傍の右側領域11aは、高温の雰囲気から熱が伝導されるので、ガラス基板11の左側端部近傍の左側領域11bよりも早く昇温する傾向にあった。また、冷却空間53では、熱処理温度より低温の雰囲気に、熱処理温度のガラス基板11の右側領域11aが晒されて放熱するので、右側領域11aは、左側領域11bよりも早く降温する傾向にあった。この場合、図5に示されるように、ガラス基板11上では、点Aの周辺領域は、点Bの周辺領域よりも早く昇温および降温する。このように点A,Bの間で熱履歴に差が生じると、右側領域11aから左側領域11bにかけて(点A周辺から点B周辺にかけて)熱収縮率が変化するので、ガラス基板11に引っ張り力および圧縮応力が生じ、その結果、ガラス基板11に歪が発生する。ガラス基板11面内での熱収縮率を均一にして、ガラス基板11の歪の発生を抑制するためには、ガラス基板11の右側領域11aから左側領域11bかけての温度を均一にする、つまり、図5に示される点A,Bの熱履歴の差Cを小さくする必要がある。
(4−1)変形例A
実施形態の熱処理装置101は、ガラス基板11を1枚ずつ搬送しながら熱処理空間40aを通過させることで、ガラス基板11の熱処理を行う枚葉方式の熱処理を行う。しかし、熱処理装置101は、複数のガラス基板11を保持する保持部材であるパレット20を搬送しながら、パレット20を熱処理空間に通過させることで、ガラス基板11の熱処理を行ってもよい。本変形例では、ガラス基板11を搬送する機構が実施形態と異なるが、ガラス基板11を熱処理する機構は、実施形態の熱処理炉40と同じである。
実施形態の熱処理装置101は、ガラス基板11を1枚ずつ搬送しながら熱処理空間40aを通過させることで、ガラス基板11の熱処理を行う枚葉方式の熱処理を行う。また、変形例Aでは、熱処理装置101は、複数のガラス基板11を保持する保持部材であるパレット20を搬送しながら、パレット20を熱処理空間に通過させることで、ガラス基板11の熱処理を行う。
実施形態の熱処理装置101は、熱処理炉40内に水蒸気発生装置42が設置されている。水蒸気発生装置42は、過熱水蒸気を含む水蒸気雰囲気を熱処理空間40aに供給することで、熱処理空間40aの雰囲気を水蒸気雰囲気にすることができる。しかし、熱処理炉40内に水蒸気発生装置42を設置すると共に、または、熱処理炉40内に水蒸気発生装置42を設置する代わりに、熱処理炉40が設置される空間に過熱水蒸気を供給する装置を設置してもよい。この装置として、水蒸気発生装置42を用いてもよい。これにより、熱処理炉40内に水蒸気発生装置42を設置しなくても、熱処理空間40aの雰囲気も水蒸気雰囲気にすることができる。また、熱処理炉40が設置される空間を過熱水蒸気で満たして、熱処理炉40が設置される空間の酸素分圧をゼロにしてもよい。この場合、熱処理炉40および搬送装置102の部材の劣化が抑制される。例えば、熱処理炉40および搬送装置102の部材がステンレス鋼である場合、酸素分圧をゼロにすることで部材の酸化が抑制されるので、熱処理装置101の寿命を長くすることができる。
20 パレット(保持部材)
40a 熱処理空間
Claims (7)
- ダウンドロー法により成形されたガラス基板の熱処理工程を含むガラス基板の製造方法であって、
前記熱処理工程では、過熱水蒸気を含む水蒸気雰囲気に前記ガラス基板を曝すことで、400℃〜650℃の熱処理温度で前記ガラス基板の全体を熱処理し、
前記熱処理工程では、前記ガラス基板の表面において凝縮伝熱が起こらないように、前記ガラス基板を熱処理する、
ガラス基板の製造方法。 - 前記熱処理工程では、前記ガラス基板を室温から前記熱処理温度まで加熱し、その後に、前記ガラス基板を300℃以下まで徐冷する、
請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記水蒸気雰囲気は、前記過熱水蒸気のみを含む、
請求項1または2に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記熱処理工程では、前記水蒸気雰囲気の熱処理空間に前記ガラス基板を一枚ずつ通過させることで、前記ガラス基板を熱処理する、
請求項1から3のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記熱処理工程では、複数枚の前記ガラス基板を保持した保持部材を、前記水蒸気雰囲気の熱処理空間に通過させることで、前記ガラス基板を熱処理し、
前記保持部材は、隣接する前記ガラス基板の主表面の間に空間が形成されるように、前記ガラス基板を保持する、
請求項1から3のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記熱処理工程は、前記ガラス基板を前記熱処理温度まで加熱する過程において、前記ガラス基板が通過する空間の雰囲気を前記水蒸気雰囲気に置換する工程を含む、
請求項4または5に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記熱処理工程では、1枚または複数枚の前記ガラス基板を保持した保持部材を熱処理空間に設置した後に、前記熱処理空間の雰囲気を前記水蒸気雰囲気に置換することで、前記ガラス基板を熱処理し、
前記保持部材は、隣接する前記ガラス基板の主表面の間に空間が形成されるように、前記ガラス基板を保持する、
請求項1から3のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。
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