TWI725068B

TWI725068B - 用於分離玻璃帶的設備及方法

Info

Publication number: TWI725068B
Application number: TW105134653A
Authority: TW
Inventors: 詹姆斯威廉布朗; 布朗塔緹雅娜維亞切斯拉沃夫娜; 馬維威廉凱美樂; 羅偉煒
Original assignee: 美商康寧公司
Priority date: 2015-10-30
Filing date: 2016-10-27
Publication date: 2021-04-21
Also published as: US10479718B2; JP2019500299A; KR20180063350A; CN117417116A; JP6952689B2; CN108349777A; WO2017075133A3; KR102583885B1; WO2017075133A2; TW201722866A; US20190077695A1

Abstract

一種玻璃製造設備，經配置以促進沿著延伸跨過玻璃帶的寬度的分離路徑以分離玻璃帶的處理。在一個實例中，玻璃製造設備包含由細長鼻部與細長砧組件定義的至少一個砧側真空埠。砧側真空埠經配置以在分離玻璃帶的處理期間移除玻璃碎片。在另一實例中，玻璃製造設備包含刻痕裝置與刻痕側真空埠，刻痕側真空埠經配置以在分離玻璃帶的處理期間移除所產生的玻璃碎片。

Description

用於分離玻璃帶的設備及方法

本發明一般關於用於分離玻璃帶的設備及方法，而更特定而言，係關於包括經配置以在分離玻璃帶時移除玻璃碎片的至少一個真空埠的設備及方法。

將玻璃板從玻璃帶分離係為已知。通常，在習知分離技術期間產生玻璃碎片。這種碎片會干擾玻璃帶的原始主表面的保存。這種碎片亦會藉由污染周圍的乾淨環境而干擾玻璃帶的乾淨生產。

以下呈現本發明之簡化總結，以提供實施方式所述的一些示例性態樣之基本理解。

根據第一態樣，玻璃製造設備經配置以促進沿著延伸跨過玻璃帶的寬度的分離路徑以分離玻璃帶的處理。玻璃製造設備包含細長砧組件，細長砧組件包括細長支撐表面，經配置以沿著分離路徑接合玻璃帶的第一主表面。玻璃製造設備進一步包含設置接合裝置的至少一個細長鼻部。接合裝置包含非金屬緩衝器與相對於細長砧組件的細長支撐表面而凹陷的輥中之至少一者。細長鼻部與細長砧組件定義至少一個砧側真空埠，砧側真空埠包括細長長度以及垂直於細長鼻部與細長砧組件之間的細長長度而延伸的寬度。砧側真空埠經配置以在分離玻璃帶的處理期間移除玻璃碎片。

在第一態樣的一個實例中，接合裝置係在約2mm至約20mm的範圍內從細長砧組件的細長支撐表面凹陷一距離。

在第一態樣的另一實例中，砧側真空埠的寬度係在約1mm至約12mm的範圍內。

在第一態樣的又一實例中，接合裝置可移除地附接至細長鼻部。

在第一態樣的又一實例中，接合裝置包含經配置以從衝擊吸收能量的彈性組件。在一個特定實例中，彈性組件包含彈性材料。

在第一態樣的另一實例中，接合裝置包含經配置以環繞軸線旋轉的輥。在一個特定實例中，輥可移除地附接至細長鼻部。在另一特定實例中，輥包含彈性材料。在另一特定實例中，輥包括複數個輥。在又一特定實例中，複數個輥沿著公共軸線串聯設置。

在第一態樣的又一實例中，至少一個細長鼻部包括第一細長鼻部，第一細長鼻部包括相對於細長砧組件的細長支撐表面凹陷的外部細長表面。至少一個細長鼻部進一步包括第二細長鼻部，第二細長鼻部設置相對於細長砧組件的細長支撐表面而凹陷的接合裝置。細長砧組件係設置於第一細長鼻部與第二細長鼻部之間。至少一個砧側真空埠包括由第一細長鼻部與細長砧組件定義的第一砧側真空埠。至少一個砧側真空埠進一步包括由第二細長鼻部與細長砧組件定義的第二砧側真空埠。在一個特定例子中，第一砧側真空埠包括定義於細長砧組件與第一細長鼻部之間的第一寬度，而第二砧側真空埠包括定義於細長砧組件與第二細長鼻部之間的第二寬度。在一個實例中，第一寬度不同於第二寬度。在另一實例中，第一寬度基本上等於第二寬度。在另一特定實例中，提供一種用於利用第一態樣的實例的玻璃製造設備而沿著延伸跨過玻璃帶的寬度的分離路徑分離玻璃帶的方法。該方法包含步驟（I）：相對於玻璃帶移動細長砧組件、第一細長鼻部、及第二細長鼻部，以讓細長砧組件的細長支撐表面沿著分離路徑接合玻璃帶的第一主表面，而第一細長鼻部的外部細長表面與接合裝置之每一者皆與玻璃帶的第一主表面隔開。該方法進一步包括步驟（II）：將流體吸入第一砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶的寬度的第一流體流動，其中流體流動沿著玻璃帶的第一主表面吸往朝向細長砧組件的方向。該方法亦進一步包括步驟（III）：將流體吸入第二砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶的寬度的第二流體流動，其中沿著玻璃帶的第一主表面將第二流體流動吸往朝向細長砧組件的方向。該方法進一步包括步驟（IV）：環繞細長砧組件彎曲玻璃帶，以沿著分離路徑從玻璃帶截斷玻璃板。該方法亦包括步驟（V）：將在步驟（IV）期間產生的玻璃碎片傳輸到第一流體流動與第二流體流動中之至少一者。該方法亦進一步包括步驟（VI）：將第一流體流動吸入第一砧側真空埠，並將第二流體流動吸入第二砧側真空埠，其中所傳輸玻璃碎片係吸入第一砧側真空埠與第二砧側真空埠中之至少一者。在一個實例中，步驟（IV）包括環繞細長砧組件彎曲玻璃帶，直到接合裝置接合玻璃帶的第一主表面。

可以用單獨方式或以與以上所論述的第一態樣之一或任何實例組合的方式來提供第一態樣。

根據第二態樣，提供一種用於利用第一態樣的玻璃製造設備而沿著延伸跨過玻璃帶的寬度的分離路徑分離玻璃帶的方法。該方法包括步驟（I）：相對於玻璃帶移動細長砧組件與細長鼻部，以讓細長砧組件的細長支撐表面沿著分離路徑接合玻璃帶的第一主表面，而細長鼻部的接合裝置與玻璃帶的第一主表面隔開。該方法進一步包括步驟（II）：將流體吸入砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶的寬度的流體流動，其中流體流動沿著玻璃帶的第一主表面吸往朝向細長砧組件的方向。該方法又進一步包括步驟（III）：環繞細長砧組件彎曲玻璃帶，以沿著分離路徑從玻璃帶截斷玻璃板。該方法亦包括步驟（IV）：將在步驟（III）期間產生的玻璃碎片傳輸到流體流動；以及步驟（V）：將具有所傳輸玻璃碎片的流體流動吸入砧側真空埠。

在第二態樣的一個實例中，步驟（III）包括環繞細長砧組件彎曲玻璃帶，直到接合裝置接合玻璃帶的第一主表面。

可以用單獨方式或以與以上所論述的第二態樣之一或任何實例組合的方式來提供第二態樣。

應瞭解，上述一般描述與以下詳細描述二者皆描述本發明的實施例，並且意欲提供用於理解所敘述及請求的實施例之本質及特性之概述或框架。包括附隨圖式以提供對實施例的進一步理解，且附隨圖式併入本說明書中並構成本說明書的一部分。圖式描述本發明的各種實施例，並與該敘述一起用於說明其原則與操作。

現參照圖示本發明之實施例的隨附圖式，以下將更充分描述設備及方法。在圖式各處儘可能使用相同的元件符號以指稱相同或相似的部件。然而，本發明可以用許多不同形式實現，且不應視為受限於本文所記載的實施例。

本發明之各種玻璃製造設備與方法可用於生產玻璃帶，而玻璃帶可進一步經處理成為一或更多個玻璃片材。舉例而言，藉由下拉式、上拉式、浮式、熔融式、壓滾式、流孔抽出式或其他玻璃形成技術，玻璃製造設備可經配置以生產玻璃帶。

來自這些處理中之任一者的玻璃帶隨後可以分割，以提供適合於進一步處理成所期望顯示器應用的玻璃板。玻璃板可用於大範圍的顯示器應用中，例如，液晶顯示器（LCD）、電泳顯示器（EPD）、有機發光二極體顯示器（OLED）、電漿顯示面板（PDP）、或類似者。

第 1 圖示意性圖示示例性玻璃製造設備101 ，經配置以拉伸玻璃帶103 。為了說明之目的，玻璃製造設備101 係圖示為融合下拉式設備，儘管可在進一步實例中提供經配置之其他玻璃製造裝置，如上拉式、浮式、壓滾式、流孔抽出式等。此外，如上所述，本發明的實施例並不限於生產玻璃帶。實際上，本發明所呈現之概念可用於大範圍的玻璃製造設備，以生產大範圍的玻璃製品。

如圖所示，玻璃製造設備101 可包括熔融容器105 ，經配置以接收來自儲存倉109 的批次材料107 。可藉由馬達113 所提供動力的批次輸送裝置111 而引入批次材料107 。馬達113 可將批次材料107 之期望量引入熔融容器105 中，如箭頭117 所指示。隨後，熔融容器105 可將批次材料107 熔化成大量熔融材料121 。

玻璃製造設備101 亦可包括澄清容器127 （例如澄清管），位於熔融容器105 的下游，且經由第一連接管129 耦接至熔融容器105 。混合容器131 （例如攪拌腔室）亦可位於澄清容器127 的下游，而輸送容器133 可位於混合容器131 的下游。如圖所示，第二連接管135 可將澄清容器127 耦接至混合容器131 ，而第三連接管137 可將混合容器131 耦接至輸送容器133 。如圖進一步所示，可選擇輸送管139 可經定位以將來自輸送容器133 的熔融材料121 輸送至融合拉伸機140 。如下所更完整描述，融合拉伸機140 可經配置以將熔融材料121 吸入玻璃帶103 。在所示實施例中，融合拉伸機140 可包括成形容器143 ，成形容器143 設置入口141 ，經配置以直接或間接（例如藉由輸送管139 ）從輸送容器133 接收熔融材料。若設置，則輸送管139 可經配置以從輸送容器133 接收熔融材料，而成形容器143 的入口141 可經配置以從輸送管139 接收熔融材料。

如圖所示，熔融容器105 、澄清容器127 、混合容器131 、輸送容器133 、及成形容器143 係為可沿著玻璃製造設備101 以串聯設置的熔融材料站之實例。

熔融容器105 與成形容器143 的特徵通常由耐火材料製成，例如耐火陶瓷（例如陶瓷磚、陶瓷單體成形體等）。玻璃製造設備101 可進一步包括通常由鉑或含鉑金屬（例如鉑-銠、鉑-銥、及其組合）製成的部件，但亦可包含例如其他耐火金屬，例如鉬、鈀、錸、鉭、鈦、鎢、釕、鋨、鋯以及其合金及/或二氧化鋯。含鉑部件可包括第一連接管129 、澄清容器127 （例如，澄清管）、第二連接管135 、混合容器131 （例如，攪拌腔室）、第三連接管137 、輸送容器133 、輸送管139 、入口141 、及成形容器143 的特徵中之一或更多者。

第 2 圖係為沿著第 1 圖之線2-2 玻璃製造設備101 之剖面透視圖。如圖所示，成形容器143 可包括凹槽200 ，經配置以從入口141 接收熔融材料121 。成形容器143 進一步包括成形楔201 ，成形楔201 包含在成形楔201 之相對端之間延伸的一對向下傾斜匯聚表面部分203 、205 。該對向下傾斜匯聚表面部分203 、205 沿著拉伸方向207 匯聚，以形成根部209 。拉伸平面211 延伸透過根部209 ，其中可沿著拉伸平面211 於拉伸方向207 拉伸玻璃帶103 。如圖所示，拉伸平面211 可對分根部209 ，儘管拉伸平面211 可相對於根部209 以其他定向延伸。

參照第 2 圖，在一個實例中，熔融材料121 可從入口141 流入成形容器143 之凹槽200 中。隨後，熔融材料121 可從凹槽200 流出，而同時流過相應堰202a 、202b ，並向下流過相應堰202a 、202b 的外表面204a 、204b 。隨後，各別熔融材料流沿著成形楔201 的向下傾斜匯聚表面部分203 、205 流動，而從成形容器143 之根部209 拉出，在根部209 處，該等流匯聚並融合成為玻璃帶103 。隨後，可在拉伸平面211 中沿著拉伸方向207 將玻璃帶103 從根部209 拉出。

如第 2 圖所示，可從根部209 拉引的玻璃帶103 具有第一主表面213 及第二主表面215 。如圖所示，面對相對方向的第一主表面213 及第二主表面215 的厚度217 可以小於或等於約1 mm，例如約50 μm至約750 μm、以及其間所有子範圍，例如約100 μm至約700 μm、例如約200 μm至約600 μm、例如約300 μm至約500 μm。

在一些實施例中，用於融合拉伸玻璃帶的玻璃製造設備101 亦可包括至少一個邊緣輥組件149a 、149b 。所示每一邊緣輥組件149a 、149b 可包括一對邊緣輥221 ，經配置以提供玻璃帶103 的相應的相對邊緣部分223a 、223b 的適當精加工。在進一步實例中，玻璃製造設備101 可進一步包括第一與第二拉輥組件151a 、151b 。所示每一拉輥組件151a 、151b 可包括一對拉輥153 ，經配置以促進沿著拉伸平面211 的拉伸方向207 拉引玻璃帶103 。

如第 1 圖與第 2 圖示意性圖示，玻璃製造裝置101 亦可包括玻璃分離設備161 ，經配置以促進沿著延伸跨過玻璃帶103 的寬度「W 」的分離路徑163 分離玻璃帶103 的處理。玻璃分離設備161 可沿著分離路徑163 將玻璃帶分離成玻璃板104 。在一個實例中，在從成形容器143 拉伸出足夠長度的玻璃帶103 之後，玻璃分離設備161 可操作以將玻璃板104 與玻璃帶103 的其餘部分分離。在操作中，玻璃分離設備161 可週期性操作，以隨著玻璃帶從成形容器拉伸出，而週期性將各別玻璃板104 與玻璃帶103 分離。

在進一步實例中，可以進一步處理玻璃帶103 （例如，藉由增加電氣部件等），該處理係在操作玻璃分離設備161 以將經處理玻璃板（例如，包括電氣部件的板）與玻璃帶的其餘部分分離之前。

附加或可替代地，在進一步實例中，玻璃帶103 可儲存為玻璃帶的捲軸。在這種實例中，玻璃帶可從成形容器143 中拉伸出，並纏繞到玻璃帶的捲軸中，而不需要在捲繞玻璃帶之前進一步處理玻璃帶。在進一步實例中，在將玻璃帶纏繞到玻璃帶的捲軸之前，可以進一步處理玻璃帶（例如，藉由增加電氣部件）。一旦捲繞足夠量的玻璃帶，則可操作玻璃分離設備161 ，以將經捲繞玻璃帶與從成形容器143 抽伸出的玻璃帶的其餘部分分離。在進一步實例中，最後可從玻璃帶的捲軸展開玻璃帶。在這種實例中，隨著從玻璃帶的捲軸展開帶，玻璃分離設備161 可用於將玻璃板與玻璃帶分離。

如第 2 圖示意性圖示，玻璃製造設備101 的玻璃分離設備161 可包括砧側設備219 。如第 2 圖進一步圖示，玻璃製造設備101 的玻璃分離設備161 可包括刻痕側設備220 。如第 2 圖進一步圖示，玻璃製造設備101 的玻璃分離設備161 可包括砧側設備219 與刻痕側設備220 二者，儘管根據本發明之態樣的進一步示例性玻璃製造設備可包括砧側裝置219 與刻痕側裝置220 中之僅一者。

根據本發明之態樣，砧側設備219 （若提供）可包括各種配置。舉例而言，砧側設備219 可具有第 3-10 圖與第 12-14 圖所示的任何配置，儘管在其他實例中可提供替代配置。如第 3-10 圖與第 12-14 圖所示，每一砧側設備301 、501 、601 、701 、801 、901 、1001 、1202 、及1302 可包括細長砧組件303 ，細長砧組件303 包括細長支撐表面305 ，經配置以沿著分離路徑163 接合玻璃帶103 的第一主表面213 。如圖所示，每一細長砧組件303 可以基本上彼此相同，儘管在替代實例中，砧側設備可以具有不同配置。因此，將以第 3 圖所示的實例論述細長砧組件303 ，且應理解，整個申請案所論述的任何細長砧組件中亦可選擇性找到類似或相同的特徵。此外，除非另有說明，砧側設備301 、501 、601 、701 、801 、901 、1001 、1202 、及1302 中之任一者的任何特徵皆可應用於本發明的任何其他砧側設備。

參考第 3 圖，舉例而言，細長砧組件303 可包含相對剛性的基部307 ，例如金屬棒。在僅一個實例中，如第 4 圖所示，剛性基部307 的各別外端307a 、307b 可以延伸於砧側設備301 的相應橫向側403a 、403b 的各別朝外面向邊緣401a 、401b 上。以此方式，細長砧組件303 可跨越開放中央區域309 ，而可從細長砧組件303 的中央後表面311 直接向上游延伸，且除了細長砧組件303 之外，開放中央區域309 可不間斷地跨越於相應橫向側403a 、403b 之間。如圖所示，在一些實例中，流體流動可自由地穿過未間斷的開放中央區域309 ，以分成透過細長砧組件303 的任一側的分離細長路徑。同時，細長砧組件303 的相對剛性特性可抵抗細長砧組件303 的彎曲，且利用細長支撐表面305 對玻璃帶103 的第一主表面213 施加壓力。

在一個實例中，細長砧組件303 可包括在剛性基部307 的端部處的外接合組件313 。外接合組件313 可提供細長支撐表面305 ，並可包含橡膠或聚合材料，其可促進足夠的支撐，同時最小化（例如防止）玻璃帶103 的第一主表面213 的刮傷或其他損傷。在一些實例中，細長支撐表面305 可包含基本上平坦的表面，儘管在進一步實例中可提供弧形或其他表面配置。

如第 1 圖與第 4 圖所示，本發明的任何細長砧組件可包括可大於玻璃帶103 的寬度「W 」的細長長度「L 」，儘管在進一步實例中，細長長度可以延伸少於或等於寬度。儘管可使用各種長度，但提供至少等於或大於（參見第 1 圖）玻璃帶的寬度「W 」的細長長度「L 」可允許玻璃帶跨過玻璃帶103 的整個寬度「W 」的支撐。

每一砧側設備可包括至少一個細長鼻部，該至少一個細長鼻部包括相對於細長砧組件的細長支撐表面凹陷的外部細長表面。舉例而言，如第 3-10 圖與第 12-14 圖所示，每一砧側設備可包括彼此偏移的二個細長鼻部，儘管在進一步實例中可提供單一細長鼻部。

將參照第 3 圖與第 4 圖描述至少一個鼻部的實例（例如二個細長鼻部），應理解，類似或相同的特徵可應用於本發明的任何砧側設備的至少一個細長鼻部。參照第 3 圖與第 4 圖，砧側設備301 可包含第一細長鼻部405a ，該第一細長鼻部405a 包括相對於細長砧組件303 的細長支撐表面305 橫向凹陷一距離「D 」的第一外部細長表面407a 。可選擇地，砧側設備301 （與本發明的任何砧側設備）可包含第二細長鼻部405b ，該第二細長鼻部405b 包括相對於細長砧組件303 的細長支撐表面305 橫向凹陷一距離「D 」的第二外部細長表面407b 。提供第二鼻部可幫助在細長砧組件的每一側上形成二個速度流體流動輪廓，以在分離玻璃帶的處理期間幫助移除玻璃碎片。

可選擇地，如第 6-9 圖所示，第一細長鼻部405a 的橫截面輪廓可以是相對於對分細長砧組件303 的中心平面317 的第二細長鼻部405b 的橫截面輪廓的大致鏡像。如圖所示，一些實例提供中心平面317 亦垂直於細長支撐表面305 而延伸。對之，如第 3-5 、 10 、及 12-14 圖所示，進一步實例包括第一細長鼻部，並非是第二細長鼻部的大致鏡像。提供彼此為鏡像的鼻部可幫助在細長砧組件303 的每一側上形成基本上類似或相同的流體輪廓，以允許在細長砧組件303 的兩側上捕捉玻璃碎片的相等機會。在一些實例中，提供彼此並非鏡像的鼻部可幫助將流體輪廓指向細長砧組件303 的一側，而相較於細長砧組件的另一側具有更高的遭遇玻璃碎片的機率。在進一步實例中，鼻部可以是可調整的，以調整凹陷距離「D 」，藉此讓流體流動能夠調整，而不需要更換整個砧側設備。

取決於特定應用，各種砧側設備的第 3 圖、第 5-10 圖、第 12 圖、及第 13 圖所示的凹陷距離「D 」可以彼此不同。此外，若砧側設備包括二個鼻部，則取決於應用，每一鼻部的凹陷距離「D 」可以相同（如第 3 圖、第 5-10 圖、第 12 圖、及第 13 圖所示）或不同。在一些實例中，上述距離「D 」可在約2mm到約20mm的範圍內，例如從約2mm到約15mm、例如從約3mm到約10 mm、例如從約3mm至約8mm、例如從約4mm至約6mm。距離「D 」可選擇成夠大以促進用於捕獲玻璃碎片的流體流動的形成，並且亦可提供所期望的拉動玻璃帶103 的第一主表面213 抵靠細長支撐表面305 的壓降（例如透過抽吸及/或伯努利效應）。

如第 3-5 圖與第 12-14 圖的實例所示，示例性砧側設備中之任一者的任何細長鼻部可包括接合裝置409 ，經配置以在萬一玻璃帶103 接觸接合裝置409 時，最小化對玻璃帶103 的第一主表面213 的損傷。接合裝置409 可包含彈性組件，藉此作為可吸收能量的減震器。在一個實例中，接合裝置409 可以與細長鼻部整合。在其他實例中，接合裝置409 可以可移除地附接到細長鼻部，若接合裝置409 需要維護或更換，則藉此減少機器停機時間以提高效率。

在一個實例中，如第 3 圖與第 4 圖所示，接合裝置409 可包含緩衝器。緩衝器可包含非金屬材料，例如彈性材料（例如，矽樹脂、Viton®材料、Torlon®材料）。如圖所示，緩衝器可具有完全實心的橫截面。在另一實例中，如第 12 圖所示，接合裝置409 可包含具有中空區域1204 的緩衝器，例如，接合裝置可包含O形環。緩衝器的橫截面可包含半圓形形狀1206 ，儘管在進一步實例中可提供其他形狀（例如，三角形、正方形、矩形形狀）。在進一步實例中，接合裝置409 可經配置以附接（例如，可移除地附接）到細長鼻部405b 。舉例而言，如第 12 圖所示，接合裝置409 可包括細長附接舌部1210a ，經配置以接收於細長鼻部405b 的細長附接溝槽1210b 內。在進一步實例中，儘管未圖示，接合裝置可具有細長溝槽，經配置以接收細長鼻部的細長附接舌部。

在另一實例中，如第 13 圖所示，接合裝置409 可包含輥1304a 、1304b ，經配置以環繞軸線旋轉。在一個實例中，輥1304a 可包含金屬材料，例如鋼。在另一實例中，如替代圖示，接合裝置409 可包含非金屬輥1304b ，例如，非金屬輥1304b 可包含彈性材料（例如，矽樹脂、Viton®材料、Torlon®材料）。輥可具有約6mm至約10mm範圍內的直徑。

如圖所示，輥藉由軸件1306 可旋轉地安裝定位。軸件1306 係由輥中的鑽孔1308 接收。在一個實例中，鑽孔1308 的直徑可以大於軸件1306 的直徑，藉此允許輥環繞軸線自由旋轉。在其他實例中，輥1304a 、1304b 可包括軸承，以促進一致的旋轉路徑，而不引起鑽孔1308 與軸件1306 之間的增加的摩擦。軸件1306 可以固定到細長鼻部405b 的內壁1310 ，藉此限制輥沿著軸線的水平運動。在另一實例中，軸件1306 可藉由狹槽（未圖示）可移除地附接到細長鼻部。在又一實例中，可藉由彈簧1312 將輥偏壓到外部位置。可選擇的彈簧促進輥的彈性，藉此允許輥吸收衝擊。

在又另一實例中，如第 14 圖所示，接合裝置409 可包含沿著公共軸線串聯設置的複數個接合裝置409 。接合裝置409 可以彼此橫向位移小於100 mm的距離。舉例而言，接合裝置409 可包含複數個非金屬緩衝器；複數個非金屬緩衝器可以是中空的或可以不是中空的。舉例而言，接合裝置可由中空與實心非金屬緩衝器的混合而組成。

在又另一實例中，接合裝置409 可包含複數個輥。輥的橫向寬度（亦即，沿著軸線的寬度）可以等於輥直徑的一半。可替代地，輥的橫向寬度可以等於輥的直徑。在又另一可替代實例中，輥的橫向寬度可以等於在約輥的直徑的一半至約輥的直徑的範圍內的寬度。在一個實例中，複數個輥可以具有相同的橫向與圓周尺寸；可替代地，複數個輥可具有不同的橫向與圓周尺寸。

在進一步實例中，複數個輥可包含複數個金屬輥1304a 。在另一實例中，複數個輥可包含複數個非金屬輥1304b 。在進一步實例中，接合裝置409 可包含金屬輥與非金屬輥的混合。在又另一實例中，接合裝置409 可包含非金屬緩衝器與輥的混合。在又另一實例中，接合裝置409 可包含非金屬緩衝器與非金屬輥的混合。在又一實例中，接合裝置409 可包含非金屬緩衝器、非金屬輥、及金屬輥的混合。

如第 4 圖的實例進一步所示，任何細長鼻部可以沿著細長砧組件303 的實質部分（例如整個）細長長度「L 」延伸。實際上，如第 4 圖所示，第一細長鼻部405a 與第二細長鼻部405b 可以沿著細長砧組件303 的整個長度「L 」延伸。此外，第一細長鼻部與第二細長鼻部可以沿著實質（若非整個）細長長度延伸而具有基本一致的橫截面輪廓，如第 4 圖中的多個橫截面3-3 所示，且看起來相同於如第 3 圖所示。提供沿著整個長度延伸而具有基本一致的橫截面輪廓的細長鼻部可以促進沿著玻璃帶103 的寬度「W 」形成一致流體流動，以捕獲玻璃碎片，並且亦可提供所期望的吸力，將玻璃帶103 的第一主表面213 拉向細長支撐表面305 。

如第 3-10 圖與第 12-14 圖進一步所示，每一砧側設備301 、501 、601 、701 、801 、901 、1001 、1202 、及1302 亦可包括至少一個砧側真空埠315a 、315b 。舉例而言，如第 3-10 圖所示，每一砧側設備可包括第一砧側真空埠315a 與第二砧側真空埠315b ，儘管在進一步實例中可提供單一或三或更多個砧側真空埠。可提供單一砧側真空埠，以在細長支撐表面305 接合玻璃帶103 的第一主表面213 時的分離玻璃帶的處理期間移除大量玻璃碎片。然而，提供二或更多個砧側真空埠可進一步捕獲在細長砧構件303 的兩側上形成的玻璃碎片。實際上，如圖所示，細長砧組件303 係設置於第一細長鼻部405a 與第二細長鼻部405b 之間。因此，至少一個砧側真空埠可包括由第一細長鼻部405a 與細長砧組件303 定義的第一砧側真空埠315a 以及由第二細長鼻部405b 與細長砧組件303 定義的第二砧側真空埠315b 。

將參照第 3 圖與第 4 圖描述至少一個砧側真空埠的實例，應理解，類似或相同的特徵可應用於本發明的任何砧側設備的至少一個砧側真空埠。

如第 4 圖所示，每一砧側真空埠可包括基本上等於細長砧組件303 的前述細長長度「L 」的細長長度。每一砧側真空埠亦可包括垂直於在細長鼻部與細長砧組件之間的細長長度延伸的寬度。舉例而言，如第 3 圖與第 4 圖所示，第一砧側真空埠315a 包括垂直於細長長度延伸並定義於第一細長鼻部405a 與細長砧組件303 之間的第一寬度「W1 」。如第 3 圖與第 4 圖進一步所示，第二砧側真空埠315b 包括垂直於細長長度延伸並定義於第一細長鼻部405a 和與細長砧組件303 之間的第二寬度「W2 」。

如第 3-4 圖與第 6-10 圖所示，第一寬度「W1 」可以基本上等於第二寬度「W2 」，以允許在細長砧組件303 的每一側上形成基本相等的流體速度輪廓。本發明的任何砧側設備亦可（或替代地）包括不同於第二寬度「W2 」的第一寬度「W1 」。舉例而言，第一寬度「W1 」可以大於第二寬度「W2 」。可替代地，如第 5 圖所示，第一寬度「W1 」可以小於第二寬度「W2 」。提供不同寬度可以幫助藉由在細長砧組件303 的每一側上提供不同速度輪廓以調整整體速度輪廓。

可以在期望的寬度範圍內提供各種示例性寬度「W1 」及/或「W2 」。舉例而言，至少一個砧側真空埠的寬度「W1 」與「W2 」中之一或二者可以在約1mm至約12mm的範圍內，例如從約1mm至約10mm、例如約2mm至約8mm、例如約3mm至約8mm、例如約4mm至約6mm。

在一些實例中，細長鼻部的外部細長表面可包含凸起表面。舉例而言，如第 3 圖所示，第一細長鼻部405a 的第一外部細長表面407a 可包含所圖示包括第一半徑「R1 」的第一凸起表面。第二細長鼻部405b 的第二外部細長表面407b 亦可包含所圖示包括第二半徑「R2 」的第二凸起表面。在一些實例中，第一半徑與第二半徑可以是各別細長鼻部的寬度的大約一半。

第 6 圖的砧側設備601 圖示一實例，其中細長鼻部405a 、405b 的外部細長表面407a 、407b 包含基本上平坦的表面。如圖所示，基本上平坦的表面能夠可選擇地包括外部相對尖銳的外角與內角603a 、603b ，儘管在進一步實例中可提供圓角。

第 9 圖的砧側設備901 圖示細長鼻部405a 、405b 的外部細長表面407a 、407b ，包括平坦的表面903a 、903b 以及在基本上平坦的表面903a 、903b 的內部邊緣的內部凸起表面905a 、905b ，而至少部分地定義砧側真空埠315a 、315b 。在一些實例中，內部凸起表面905a 、905b 包括在約1mm至約10mm的範圍內的半徑「R3 」，例如從約1mm至約8mm、例如從約2mm至約8mm、例如從約2mm至約7mm、例如從約3mm至約7mm、例如從約4mm至約6mm。

第 10 圖的砧側設備1001 圖示第 3-5 圖以及第 6 圖或第 9 圖的配置之間的混合。實際上，第一與第二外部細長表面407a 、407b 中之一者可包含第 3-5 圖圖示的凸起表面，而細長鼻部的外部細長表面的另一上部可包含基本上平坦的表面（例如第 6 圖或第 9 圖所示）。實際上，如第 10 圖所示，第一細長鼻部405a 的第一外部細長表面407a 包含凸起表面，而可以與第 3-5 圖的細長鼻部的任何凸起表面相似或相同，而第二細長鼻部405b 的第二外部細長表面407b 包含與第 9 圖所示的外部細長表面相似或相同的基本上平坦的表面與內部凸起表面。

第 7 圖與第 8 圖圖示示例性砧側設備701 、801 ，其中至少一個細長鼻部包括定義凸起表面的翼部。舉例而言，參照第 7 圖，至少一個細長鼻部405a 、405b 包括翼部701a 、701b ，定義相對於細長砧組件303 面向外的各別凸起表面703a 、703b 。在另一實例中，如第 8 圖所示，至少一個細長鼻部405a 、405b 包括翼部801a 、801b ，定義相對於細長砧組件303 面向內的各別凸起表面803a 、803b 。

如前所述，玻璃製造設備可包括與玻璃帶103 的第二主表面215 相關聯的第 2 圖示意性圖示的刻痕側設備220 。如第 23 圖進一步示意性圖示，刻痕側設備220 可包括刻痕裝置2001 ，經配置成在刻痕元件2007 與玻璃帶103 的第二主表面215 間隔的縮回位置（例如，參見第 23 圖）以及刻痕元件2007 與玻璃帶103 的第二主表面215 接合的延伸位置（例如，參見第 24 圖）之間的相對方向2003 、2005 上移動。在一些實例中，相對方向2003 、2005 基本上垂直於第二主表面215 ，儘管相對方向2003 、2005 可在進一步實例中以其他角度延伸。刻痕裝置2001 可包括機械劃線器，其中刻痕元件2007 包含刻痕輪、尖銳尖端、或經配置以對玻璃帶103 的第二主表面215 刻痕的其他元件。

刻痕側設備220 亦可包括刻痕側真空埠，而可包括大範圍配置中之任一者。舉例而言，如第 15 圖所示，可提供真空裝置1201 ，而包括刻痕側真空埠1203 。為了本發明之目的，刻痕側真空埠係視為用於流入真空裝置1201 的流體的進入開口1205 ，以及與進入開口1205 相關聯的特徵，而影響進到進入開口1205 的流體的速度輪廓。舉例而言，第 15 圖的真空裝置1201 的刻痕側真空埠1203 包括進入開口1205 以及所示外壁部分1207 與外壁部分1207 的外邊緣1208 。如第 17 圖所示，外壁部分1207 可以成形為矩形外壁部分1207 ，矩形外壁部分1207 具有由進入開口1205 的寬度1405 隔開的一對細長壁1401 、1403 ，以及由進入開口1205 的細長長度1411 隔開的一對側壁1407 、1409 。在所示實例中，寬度1405 垂直於刻痕側真空埠1203 的細長長度1411 延伸。如下所述，刻痕側真空埠1203 經配置以在分離玻璃帶103 的處理期間移除所產生的玻璃碎片。在一些實例中，寬度1405 可以從約10mm至約80mm，例如約20mm至約40mm，例如約24mm至約30mm。

真空裝置1201 亦可包括具有內部空腔1213 的殼體1211 ，內部空腔1213 具有上游部分1215 ，經配置成可操作地連接到真空源1217 ，如第 15 圖示意性圖示。可選擇地，真空裝置1201 可進一步包含限流器1219 。限流器1219 可幫助限制從進入開口1205 到內部空腔1213 的流體的流動，藉此促進沿著刻痕側真空埠1203 的細長長度1411 透過進入開口1205 的流體的一致且均勻的流動。限流器1219 包括可以與刻痕側真空埠1203 的細長長度1411 相同的細長長度。如第 16 圖進一步圖示，限流器1219 亦可包括垂直於限流器1219 的細長長度1411 延伸的限制寬度1301 。如第 16 圖所示，限流器的限制寬度1301 小於刻痕側真空埠1203 的寬度1405 。

如第 16 圖進一步圖示，限流器可包含一對互相面對的弧形凸起表面1303a 、1303b ，以提供上游通道1305 的寬度1307 與刻痕側真空埠1203 的進入開口1205 的寬度1405 之間的平滑過渡。平滑過渡可避免可能干擾一致且均勻的流體流動的渦流、湍流、或其他流體流動中斷。類似於限流器1219 ，上游通道1305 可包括可以與刻痕側真空埠1203 的進入開口1205 的細長長度1411 相同的細長長度。此外，如圖所示，上游通道1305 的寬度1307 可以大於刻痕側真空埠1203 的進入開口1205 的寬度1405 。因此，在上游通道1305 與進入開口1205 之間可能存在沿著限流器的細長長度1411 延伸的壓降，以促進沿著刻痕側真空埠1203 的進入開口1205 的細長長度1411 的一致且均勻的流體流動。

如圖所示，在第 16 圖中，真空裝置1201 的相對壁可以成形以定義限流器1209 。舉例而言，如圖所示，相對壁包含彎曲壁，以定義互相面對的弧形凸起表面1303a 、1303b 。可替代地，第 20 圖圖示真空裝置1701 ，除非另有說明，否則真空裝置1701 可與第 15-16 圖所示的真空裝置1201 相似或相同。然而，為了簡化製造與多功能性，真空裝置1701 可包括限流器1703 ，限流器1703 包括形成為插入件的配接器1705 ，以提供所期望的互相面對弧形凸起表面1709a 、1709b 。由於基本上筆直的壁可以代替第 15 圖所示的限流器1209 的彎曲壁，提供具有配接器1705 的限流器1703 能夠簡化真空裝置1701 的製造。此外，可以插入替代限流器配置，以提供不同的流體流動特性，而不更換整個真空裝置。

第 18 圖與第 19 圖圖示分別的另一示例性刻痕側真空埠1501 、1601 ，除非另有說明，否則刻痕側真空埠1501 、1601 可以與第 15-17 圖所示的刻痕側真空埠1203 的真空類似或相同。如第 18 圖所示，可選擇地，刻痕側真空埠1501 亦可至少部分由一對刻痕側鼻部1503a 、1503b 定義，該對刻痕側鼻部1503a 、1503b 在刻痕側真空埠1501 的進入開口1205 的寬度1405 的方向上隔開。在另一實例中，如第 19 圖所示，刻痕側真空埠1601 包括一對刻痕側鼻部1603a 、1603b ，該對刻痕側鼻部1603a 、1603b 在刻痕側真空埠1601 的進入開口1205 的寬度1405 的方向上隔開。

在一些實例中，外部細長表面的一或二者可包含基本上平坦的表面。舉例而言，如第 18 圖所示，一對刻痕側鼻部1503a 、1503b 中之每一者包括細長表面1505a 、1505b ，細長表面1505a 、1505b 包含所圖示的平坦表面。如進一步所示，每一細長表面1505a 、1505b 可以與外壁部分1207 的外邊緣1208 齊平，儘管在進一步實例中，平坦表面可以在來自外邊緣1208 的流體流動的方向1507 向上游或向下游延伸。

在一些實例中，外部細長表面的一或二者可包含凸起表面。舉例而言，如第 19 圖所示，一對刻痕側鼻部1603a 、1603b 中之每一者包括細長表面1605a 、1605b ，細長表面1605a 、1605b 包含所圖示的凸起表面。如進一步所示，每一細長表面1605a 、1605b 可從外壁部分1207 的外邊緣1208 向上游突出，儘管在進一步實例中，凸起表面的頂點可以與外邊緣1208 齊平，或者相對於外邊緣1208 的方向1507 定位於下游。

第 21 圖圖示真空裝置1801 的又另一實例，除非另有說明，否則真空裝置1 8 01 可與第 15-16 圖所示的真空裝置1201 相似或相同。如圖所示，真空裝置1801 可包括具有開口1805 的刻痕側真空埠1803 ，開口1805 經配置成面向可平行於玻璃帶的方向1807 。開口1805 可包括可在約10mm至約50mm的範圍內的寬度1806 ，例如從約25mm至約40mm，儘管在進一步實例中可提供其他寬度。此外，如圖所示，開口1805 可基本上一直延伸到位於較真空裝置1801 的任何其他部分更靠近玻璃帶的最外頂端1809 。提供一直延伸到最外頂端1809 的所圖示開口可以允許開口1805 對於玻璃帶103 的靠近定位，藉此促進從玻璃帶分離玻璃板期間有效地傳輸及承載玻璃碎片的流體流動圖案的發展。

現在將參照第 26-38 圖示意性圖示的方法描述沿著延伸跨過玻璃帶103 的寬度「W 」的分離路徑163 分離玻璃帶103 的方法。本發明的方法可利用涉及砧側設備219 的方法步驟執行，而不涉及與刻痕側設備220 相關聯的步驟。在進一步實例中，該等方法可利用涉及刻痕側設備220 的方法步驟執行，而不涉及與砧側設備219 相關聯的步驟。在又進一步實例中，該等方法可利用涉及砧側設備219 與刻痕側設備220 的方法步驟執行。

第 23-38 圖的方法（例如，涉及砧側設備219 及/或刻痕側設備220 的方法）可包括在本發明中未描述的附加步驟，或者可省略本發明中描述的步驟。此外，所揭示之方法步驟的順序本質上為示例性，應理解，在進一步實例中，可利用不同的順序執行步驟。此外，無論是否如下所述，利用第 23-32 圖示意性圖示的方法描述的示例性步驟可以類似地（例如，相同地）包括於第 33-38 圖示意性圖示的方法中。類似地，無論是否如下所述，利用第 33-38 圖示意性圖示的方法描述的示例性步驟可以類似地（例如，相同地）包括於第 23-32 圖示意性圖示的方法中。

第 23-38 圖的方法係圖示為使用參照第 3 圖描述的砧側設備301 ，應理解，本發明的砧側設備的任何實例（例如，第 3-10 圖與第 12-14 圖所示的砧側設備301 、501 、601 、701 、801 、901 、1001 、1202 、1302 ）可用於本發明的示例性方法中。此外，第 23-29 圖的方法係圖示為使用參照第 18 圖描述的刻痕側真空埠1501 ，應理解，本發明的刻痕側真空埠的任何實例（例如，第 15-20 圖所示的刻痕側真空埠1203 、1501 、1601 、1702 ）可用於本發明的示例性方法中。

首先將利用第 23-32 圖示意性圖示的方法描述本發明的方法。如第 23 圖所示，砧側設備301 定向為縮回位置，其中細長支撐表面305 與玻璃帶103 的第一主表面213 隔開一段距離，而且並未接觸。

如第 23 圖進一步所示，刻痕側設備220 亦定向於縮回位置。在縮回位置中，刻痕側設備220 的刻痕裝置2001 係定向於縮回位置，其中刻痕元件2007 與玻璃帶103 的第二主表面215 隔開一距離。在縮回位置中，刻痕側設備220 的刻痕側真空埠1501 亦定向於縮回位置，其中刻痕側真空埠1501 的最外表面（例如，外邊緣1208 及/或細長表面1505a 、1505b ）與玻璃帶103 的第二主表面215 間隔一縮回距離2111 。

操作裝置2009 亦可以與玻璃帶103 隔開。操作裝置可包含伯努利卡盤、吸盤佈置、或視為支撐被分離並帶走分離的玻璃板的玻璃帶的下部的任何裝置。

如第 24 圖所示，該方法可進一步包括以下步驟：相對於玻璃帶103 移動細長砧組件303 、第一細長鼻部405a 、及第二細長鼻部405b （第 23 圖所示），以沿著分離路徑163 接合細長砧組件303 的細長支撐表面305 與玻璃帶103 的第一主表面213 ，而第一細長鼻部405a 的第一外細長表面407a 與第二細長鼻部405b 的第二外細長表面407b 之每一者與玻璃帶103 的第一主表面213 隔開。細長表面與第一主表面之間的間隔可以在約2mm至約20mm的範圍內，例如從約2mm至約15mm、例如從約3mm至約10mm、例如從約3mm至約8mm、例如從約4mm至約6mm，但在進一步實例中可提供其他距離。

如第 24 圖進一步所示，該方法可進一步包括以下步驟：利用砧側設備301 吸取流體2013 ，以將流體2013a （例如，所圖示之空氣流）吸入第一砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶103 的寬度「W 」的第一流體流動，其中沿著玻璃帶103 的第一主表面213 將流體流動吸往朝向細長砧組件303 的方向。類似地，該方法可進一步包括以下步驟：將流體流動2013b （例如，所圖示之空氣流）吸入第二砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶103 的寬度「W 」的第二流體流動，其中沿著玻璃帶的第一主表面213 將第二流體流動吸往朝向細長砧組件303 的方向。實際上，如圖所示，可將流體流動2013a 、2013b 吸往朝向細長砧組件303 的相對方向。在一些實例中，在對玻璃帶進行刻痕的處理之前或處理期間提供流體流動2013a 、2013b ，以藉由將玻璃帶103 的第一主表面213 按壓緊靠細長支撐表面305 ，由於由流體流動2013a 、2013b 產生的抽吸及/或伯努利效應，而幫助將玻璃帶103 固定在位置上。在進一步實例中，如下所述，亦可以在沿著分離路徑截斷玻璃板的步驟期間提供流體流動2013a 、2013b ，以傳輸及帶走所產生的玻璃碎片，以保持玻璃帶103 的原始性質。流體流2013a 、2013b 的速度可以在約10 m/s至約40 m/s的範圍內，例如從約20 m/s至約30 m/s、例如約25 m/s，儘管在進一步實例中可提供其他速度。

該方法可進一步包括以下步驟：將刻痕裝置2001 相對於玻璃帶103 移動到延伸位置（第 24 圖示意性圖示），其中刻痕元件2007 接合玻璃帶103 的第二主表面215 。如第 25 圖所示，該方法可進一步包括以下步驟：將延伸位置中的刻痕裝置2001 沿著方向2201 移動跨過玻璃帶103 的寬度「W 」，以沿著分離路徑163 在玻璃帶103 的第二主表面215 中建立刻痕線段2203 。

刻痕側真空埠1501 亦可以在方向2003 上從縮回位置（參見第 23 圖）移動到第 24 圖所示的延伸位置。在延伸位置中，刻痕側真空埠1501 的最外表面（例如外邊緣1208 及/或細長表面1505a 、1505b ）與玻璃帶103 的第二主表面215 隔開一距離，以允許流體流動2011a 、2011b 被吸入到刻痕側真空埠1501 。間隔距離可以在約2mm至約15mm的範圍內，例如從約3mm至約12mm、例如從約5mm至約10mm、例如從約5mm至約8mm、例如約6mm，但在進一步實例中可提供其他距離。在一個實例中，刻痕側真空埠1501 與刻痕裝置2001 可以在方向2003 上從第 23 圖所示的縮回位置一起移動到第 24 圖所示的延伸位置。

在進一步實例中，刻痕側真空埠經配置以相對於刻痕裝置移動，藉此允許刻痕裝置2001 最初從縮回位置移動到延伸位置，以在刻痕側真空埠1501 保持在縮回位置時允許進行刻痕。這樣，刻痕裝置2001 與刻痕側真空埠1501 可以在縮回位置與延伸位置之間在相對方向2003 、2005 上一起或獨立移動。

如圖所示，刻痕可以發生於刻痕側真空埠1501 處於延伸位置時，其中流體流2011 係吸取為從刻痕側真空埠1501 的相對側所吸取的單獨的流體流2011a 、2011b ，而合併成流體流2011 。以此方式，由刻痕處理本身產生的任何玻璃碎片可在流體流2011a 、2011b 中之一者傳輸，並由流體流2011 帶走。

如第 24 圖進一步圖示，亦可延伸操作裝置2009 ，以接合玻璃帶103 ，藉此在對玻璃帶進行刻痕的處理期間支撐玻璃帶。操作裝置2009 亦可透過如下面更充分論述的分離處理而保持與玻璃帶接合。

如第 26 圖所示，刻痕裝置2001 可以在方向2005 上移動到縮回位置，其中刻痕元件2007 與玻璃帶103 的第二主表面215 隔開。以此方式，則針對重新定位刻痕側真空埠1501 而留出空間。刻痕側真空埠1501 經配置以在橫向（例如，垂直）於刻痕裝置2001 的相對方向2003 、2005 的相對方向2301 、2303 上移動。舉例而言，一旦刻痕裝置2001 移動到第 26 圖所示的縮回位置，則刻痕側真空口1501 可以在方向2303 上移動，而使得刻痕側真空埠1203 的進入開口1205 （見第 18 圖）對準分離路徑163 。在對準之前或之後，可以啟動真空源（未圖示），以將流體流吸入進入開口1205 。舉例而言，如第 27 圖所示，在對準之後，可產生流體流動2401 ，而因此環繞各別刻痕側鼻部1503a 、1503b 拉動相對流體流動2401a 、2401b 。流體流動2401a 、2401b 可以在大範圍的速度中行進，例如從約10 m/s至約40 m/s、例如從約20 m/s至約30 m/s、例如約25 m/s。

如第 28 圖所示，操作裝置2009 可環繞細長砧組件303 彎曲玻璃帶103 ，以沿著分離路徑163 從玻璃帶103 截斷玻璃板2501 。該方法可進一步包括以下步驟：使接合裝置409 與玻璃帶103 的第一主表面213 接合。第 30-32 圖圖示當玻璃帶103 的第一主表面213 衝擊接合裝置409 時的砧側設備301 的示例性實施例。第 30 圖圖示玻璃帶103 的第一主表面213 接觸包含實心非金屬緩衝器的接合裝置409 。由於非金屬材料的彈性性質，接合裝置409 壓縮以吸收來自衝擊的能量。當接合裝置409 壓縮時，接合裝置409 接觸玻璃帶103 的第一主表面213 的外圓周部分變成與該表面齊平，藉此建立密封3001 。密封3001 能夠有益於幫助建立防止碎片2503 逸出的阻擋件。實際上，流體流動2013b 將任何附近的碎片2503 吸入埠315b 。第 31 圖描繪如第 30 圖所論述的相同的現象，除了接合裝置409 包含中空非金屬緩衝器。第 32 圖圖示玻璃帶103 的第一主表面213 接觸包含鋼輥的接合裝置409 。實際上，如圖所示，鋼輥係由彈簧偏壓到向外位置，藉此增強接合裝置409 的彈性。當玻璃帶103 的第一主表面213 衝擊接合裝置409 時，彈簧415 將壓縮，藉此允許接合裝置409 吸收來自衝擊的能量。當彈簧415 壓縮時，接合裝置409 接合玻璃帶103 的第一主表面213 的外圓周部分建立密封3001 。

該方法可進一步包括以下步驟：當將玻璃板2501 從玻璃帶的其餘部分截斷到第一流體流動2013a 與第二流體流動2013b 中之至少一者時，傳輸所產生的玻璃碎片2503 。

隨後，該方法可包括以下步驟：將第一流體流動2013a 吸入第一砧側真空埠315a （參見第 3 圖與第 28 圖），並將第二流體流動2013b 吸入第二砧側真空埠315b ，其中所傳輸玻璃碎片係吸入第一砧側真空埠與第二砧側真空埠中之至少一者。在玻璃帶103 的第一主表面213 與接合裝置409 接合的情況下，得到的所建立的密封3001 藉由改善由流體流動2013b 產生的吸力而提供幫助上述步驟的益處。

如第 28 圖進一步圖示，該方法可包括以下步驟：將流體吸入刻痕側真空埠（例如，藉由單獨的流體流動2401a 、2401b ），以產生流體流動2401 。隨後，該方法可包括以下步驟：在將玻璃板2501 從玻璃帶103 的其餘部分截斷時，傳輸所產生的玻璃碎片2503 ，並將所傳輸的玻璃碎片2503 吸入刻痕側真空埠。如第 29 圖所示，隨後，操作裝置2009 可用於拉開玻璃板2501 ，以適當地儲存及/或進一步處理。

第 33-38 圖圖示本發明的另一示例性方法。如第 33 圖所示，砧側設備301 定向為縮回位置，其中細長支撐表面305 與玻璃帶103 的第一主表面213 隔開一段距離，而且並未接觸。

如第 33 圖進一步所示，刻痕側設備220 亦定向於縮回位置。在縮回位置中，刻痕側設備220 的刻痕裝置2001 係定向於縮回位置，其中刻痕元件2007 與玻璃帶103 的第二主表面215 隔開一距離。在縮回位置中，刻痕側設備220 的刻痕側真空埠1803 亦定向於縮回位置，其中開口1805 的最外頂端1809 （見第 21 圖）與玻璃帶103 的第二主表面215 間隔一縮回距離2701 。

如第 34 圖所示，該方法可進一步包括以下步驟：相對於玻璃帶103 移動細長砧組件303 、第一細長鼻部405a 、及第二細長鼻部405b （見第 33 圖），以沿著分離路徑163 接合細長砧組件303 的細長支撐表面305 與玻璃帶103 的第一主表面213 ，而第一細長鼻部405a 的第一外細長表面407a 與第二細長鼻部405b 的第二外細長表面407b 之每一者與玻璃帶103 的第一主表面213 隔開。

如第 34 圖進一步所示，該方法可進一步包括以下步驟：將流體2013a （例如，所圖示之空氣流）吸入第一砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶103 的寬度「W 」的第一流體流動，其中沿著玻璃帶103 的第一主表面213 將流體流動吸往朝向細長砧組件303 的方向。類似地，該方法可進一步包括以下步驟：將流體流動2013b （例如，所圖示之空氣流）吸入第二砧側真空埠，以建立跨過玻璃帶103 的寬度「W 」的第二流體流動，其中沿著玻璃帶的第一主表面213 將第二流體流動吸往朝向細長砧組件303 的方向。實際上，如圖所示，可將流體流動2013a 、2013b 吸往朝向細長砧組件303 的相對方向。在一些實例中，在對玻璃帶進行刻痕的處理之前或處理期間提供流體流動2013a 、2013b ，以藉由將玻璃帶103 的第一主表面213 按壓緊靠細長支撐表面305 ，由於由流體流動2013a 、2013b 產生的抽吸及/或伯努利效應，而幫助將玻璃帶103 固定在位置上。在進一步實例中，如下所述，亦可以在沿著分離路徑截斷玻璃板的步驟期間提供流體流動2013a 、2013b ，以傳輸及帶走所產生的玻璃碎片，以保持玻璃帶103 的原始性質。

該方法可進一步包括以下步驟：將刻痕裝置2001 相對於玻璃帶103 移動到延伸位置（第 34 圖示意性圖示），其中刻痕元件2007 接合玻璃帶103 的第二主表面215 。如第 35 圖所示，該方法可進一步包括以下步驟：將延伸位置中的刻痕裝置2001 沿著方向2201 移動跨過玻璃帶103 的寬度「W 」，以沿著分離路徑163 在玻璃帶103 的第二主表面215 中建立刻痕線段2203 。

刻痕側真空埠1803 亦可以在方向2003 上從縮回位置（參見第 33 圖）移動到第 34 圖所示的部分延伸位置。在部分延伸位置中，可在刻痕期間將流體流動2801 吸入刻痕側真空埠1803 ，以幫助傳輸玻璃碎片，以便移除。刻痕側真空埠1803 可延伸到不會干擾利用刻痕裝置2001 對玻璃帶進行刻痕的處理的距離，同時仍延伸到促進在刻痕處理期間移除玻璃碎片的位置。在一個實例中，刻痕側真空埠1803 與刻痕裝置2001 可以在方向2003 上從第 33 圖所示的縮回位置一起移動到第 34 圖所示的延伸位置。

在進一步實例中，刻痕側真空埠1803 經配置以相對於刻痕裝置2001 移動，藉此允許刻痕裝置2001 最初從縮回位置移動到延伸位置，以在刻痕側真空埠1803 保持在縮回位置或並未延伸朝向玻璃帶像刻痕裝置一樣遠時允許進行刻痕。這樣，刻痕裝置2001 與刻痕側真空埠1803 可以在縮回位置與延伸位置之間在相對方向2003 、2005 上一起或獨立移動。

如第 34 圖進一步圖示，亦可延伸操作裝置2009 ，以接合玻璃帶103 ，藉此在對玻璃帶進行刻痕的處理期間支撐玻璃帶。操作裝置2009 亦可透過如下面更充分論述的分離處理而保持與玻璃帶接合。

如第 36 圖所示，刻痕裝置2001 可以在方向2005 上移動到縮回位置，其中刻痕元件2007 與玻璃帶103 的第二主表面215 隔開。如第 36 圖進一步圖示，刻痕側真空埠1803 可進一步延伸到開口的最外頂端1809 位於非常接近玻璃帶103 的第二主表面215 的位置。舉例而言，最外頂端1809 可位於離第二主表面215 在約5mm至約25mm的範圍內的距離，例如從約10mm至約20mm、例如從約10mm至約15mm，儘管在進一步實例中可提供其他距離。如圖所示，可以產生碎片傳輸流動3601 ，以沿著玻璃帶的第二主表面215 在分離路徑163 上行進。碎片傳輸流動3601 可以用大範圍的速度行進，例如從約5 m/s至約25 m/s、例如約10 m/s至約20 m/s、例如約12 m/s至約15 m/s。在此實施例中，刻痕側真空埠1803 可以僅在方向2003 與2005 上平移，儘管刻痕側真空埠1803 亦可以在橫向於方向2003 與2005 的方向上行進，以將埠的開口重新定位成更靠近分離路徑163 。

如第 37 圖所示，操作裝置2009 可環繞細長砧組件303 彎曲玻璃帶103 ，以沿著分離路徑163 從玻璃帶截斷玻璃板2501 。該方法可進一步包括以下步驟：使接合裝置409 與玻璃帶103 的第一主表面213 接合。第 30-32 圖圖示當玻璃帶103 的第一主表面213 衝擊接合裝置409 時的砧側設備301 的示例性實施例。第 30 圖圖示玻璃帶103 的第一主表面213 接觸包含實心非金屬緩衝器的接合裝置409 。由於非金屬材料的彈性性質，接合裝置409 壓縮以吸收來自衝擊的能量。當接合裝置409 壓縮時，接合裝置409 接觸玻璃帶103 的第一主表面213 的外圓周部分變成與該表面齊平，藉此建立密封3001 。第 31 圖描繪如第 30 圖所論述的相同的現象，除了接合裝置409 包含中空非金屬緩衝器。第 32 圖圖示玻璃帶103 的第一主表面213 接觸包含鋼輥的接合裝置409 。實際上，如圖所示，鋼輥係由彈簧偏壓到向外位置，藉此增強接合裝置409 的彈性。當玻璃帶103 的第一主表面213 衝擊接合裝置409 時，彈簧415 將壓縮，藉此允許接合裝置409 吸收來自衝擊的能量。當彈簧415 壓縮時，接合裝置409 接合玻璃帶103 的第一主表面213 的外圓周部分建立密封3001 。

該方法可包括以下步驟：當將玻璃板2501 從玻璃帶的其餘部分截斷到第一流體流動2013a 與第二流體流動2013b 中之至少一者時，傳輸所產生的玻璃碎片2503 。隨後，該方法可包括以下步驟：將第一流體流動2013a 吸入第一砧側真空埠315a ，並將第二流體流動2013b 吸入第二砧側真空埠315b ，其中所傳輸玻璃碎片係吸入第一砧側真空埠與第二砧側真空埠中之至少一者。在玻璃帶103 的第一主表面213 與接合裝置409 接合的情況下，得到的所建立的密封3001 藉由改善由流體流動2013b 產生的吸力而提供幫助上述步驟的益處。

如第 37 圖進一步圖示，該方法亦可包括以下步驟：將流體吸入刻痕側真空埠1803 ，以產生碎片傳輸流動3601 。隨後，該方法可包括以下步驟：在將玻璃板2501 從玻璃帶103 的其餘部分截斷時，傳輸所產生的玻璃碎片2503 ，並將所傳輸的玻璃碎片2503 吸入刻痕側真空埠1803 。如第 38 圖所示，隨後，操作裝置2009 可用於拉開玻璃板2501 ，以適當地儲存及/或進一步處理。

本發明的各種實施例提供分離處理期間的玻璃碎片的改善傳輸。實際上，玻璃碎片可在流體流動中傳輸，並由砧側設備219 帶走。同樣地，玻璃碎片可在流體流動中傳輸，並由刻痕側設備220 帶走。因此，較少的碎片被釋放，藉此防止污染周圍環境與玻璃帶。

第 11 圖圖示根據本發明的各種砧側設備219 的預期效能的模擬的結果，其中垂直或「Y軸」代表噴嘴效率，而水平或「X軸」代表微米的顆粒尺寸。曲線1101 展示第一砧側設備的效率對顆粒尺寸。曲線1103 展示第 3-4 圖所示的砧側設備301 的效率對顆粒尺寸。如圖所示，對於最大250微米的顆粒，砧側設備301 可實現大約100％的效率。曲線1105 與曲線1107 分別展示砧側設備901 （見第 9 圖）與砧側設備1001 （見第 10 圖）的效率對顆粒尺寸。如圖所示，對於最大300微米的顆粒，砧側設備901 與砧側設備1001 可實現大約100％的效率。

第 22 圖圖示根據本發明的各種刻痕側設備220 的預期效能的模擬的結果，其中垂直或「Y軸」代表噴嘴效率，而水平或「X軸」代表微米的顆粒尺寸。曲線1901 展示第 15-17 圖所示的刻痕側真空埠1203 的效率對顆粒尺寸。如圖所示，對於大於200微米的顆粒，刻痕側真空埠1203 可實現大約100％的效率。曲線1903 與曲線1905 分別展示刻痕側真空埠1501 （見第 18 圖）與刻痕側真空埠1601 （見第 19 圖）的效率對顆粒尺寸。如圖所示，對於最大300微米的顆粒，刻痕側真空埠1501 與刻痕側真空埠1601 可實現大約100％的效率。

該領域具有通常知識者應理解，在不脫離附加請求項之精神及範疇的情況下，可對本發明作出各種修改及變化。因此，預期本發明係涵蓋落於附加請求項與其等價物之範圍內，對於本文所提供實施例進行的修改與變化。

101‧‧‧玻璃製造設備103‧‧‧玻璃帶104‧‧‧玻璃板105‧‧‧熔融容器107‧‧‧批次材料109‧‧‧儲存倉111‧‧‧批次輸送裝置113‧‧‧馬達117‧‧‧箭頭121‧‧‧熔融材料127‧‧‧澄清容器129‧‧‧第一連接管131‧‧‧混合容器133‧‧‧輸送容器135‧‧‧第二連接管137‧‧‧第三連接管139‧‧‧輸送管140‧‧‧融合拉伸機141‧‧‧入口143‧‧‧成形容器149a‧‧‧邊緣輥組件149b‧‧‧邊緣輥組件151a‧‧‧拉輥組件151b‧‧‧拉輥組件153‧‧‧一對拉輥161‧‧‧玻璃分離設備163‧‧‧分離路徑200‧‧‧凹槽201‧‧‧成形楔202a‧‧‧堰202b‧‧‧堰203‧‧‧向下傾斜匯聚表面部分204a‧‧‧外表面204b‧‧‧外表面205‧‧‧向下傾斜匯聚表面部分207‧‧‧拉伸方向209‧‧‧根部211‧‧‧拉伸平面213‧‧‧第一主表面215‧‧‧第二主表面217‧‧‧厚度219‧‧‧砧側設備220‧‧‧刻痕側設備221‧‧‧一對邊緣輥223a‧‧‧相對邊緣部分223b‧‧‧相對邊緣部分301‧‧‧砧側設備303‧‧‧細長砧組件305‧‧‧細長支撐表面307‧‧‧基部307a‧‧‧外端307b‧‧‧外端309‧‧‧開放中央區域311‧‧‧中央後表面313‧‧‧外接合組件315a‧‧‧砧側真空埠315b‧‧‧砧側真空埠317‧‧‧中心平面401a‧‧‧朝外面向邊緣401b‧‧‧朝外面向邊緣403a‧‧‧橫向側403b‧‧‧橫向側405a‧‧‧第一細長鼻部405b‧‧‧第二細長鼻部407a‧‧‧第一外部細長表面407b‧‧‧第二外部細長表面409‧‧‧接合裝置501‧‧‧砧側設備601‧‧‧砧側設備603a‧‧‧外角603b‧‧‧內角701‧‧‧砧側設備701a‧‧‧翼部701b‧‧‧翼部703a‧‧‧凸起表面703b‧‧‧凸起表面801‧‧‧砧側設備801a‧‧‧翼部801b‧‧‧翼部803a‧‧‧凸起表面803b‧‧‧凸起表面901‧‧‧砧側設備903a‧‧‧平坦的表面903b‧‧‧平坦的表面905a‧‧‧內部凸起表面905b‧‧‧內部凸起表面1001‧‧‧砧側設備1101‧‧‧曲線1103‧‧‧曲線1105‧‧‧曲線1107‧‧‧曲線1201‧‧‧真空裝置1202‧‧‧砧側設備1203‧‧‧刻痕側真空埠1204‧‧‧中空區域1205‧‧‧進入開口1206‧‧‧半圓形形狀1207‧‧‧外壁部分1208‧‧‧外邊緣1210a‧‧‧細長附接舌部1210b‧‧‧細長附接溝槽1211‧‧‧殼體1213‧‧‧內部空腔1215‧‧‧上游部分1217‧‧‧真空源1219‧‧‧限流器1301‧‧‧限制寬度1302‧‧‧砧側設備1303a‧‧‧弧形凸起表面1303b‧‧‧弧形凸起表面1304a‧‧‧輥1304b‧‧‧輥1305‧‧‧上游通道1306‧‧‧軸件1307‧‧‧寬度1308‧‧‧鑽孔1310‧‧‧內壁1312‧‧‧彈簧1401‧‧‧細長壁1403‧‧‧細長壁1405‧‧‧寬度1407‧‧‧側壁1409‧‧‧側壁1411‧‧‧細長長度1501‧‧‧刻痕側真空埠1503a‧‧‧刻痕側鼻部1503b‧‧‧刻痕側鼻部1505a‧‧‧細長表面1505b‧‧‧細長表面1507‧‧‧方向1601‧‧‧刻痕側真空埠1603a‧‧‧刻痕側鼻部1603b‧‧‧刻痕側鼻部1605a‧‧‧細長表面1605b‧‧‧細長表面1701‧‧‧真空裝置1702‧‧‧刻痕側真空埠1703‧‧‧限流器1705‧‧‧配接器1709a‧‧‧弧形凸起表面1709b‧‧‧弧形凸起表面1801‧‧‧真空裝置1803‧‧‧刻痕側真空埠1805‧‧‧開口1806‧‧‧寬度1807‧‧‧方向1809‧‧‧最外頂端1901‧‧‧曲線1903‧‧‧曲線1905‧‧‧曲線2001‧‧‧刻痕裝置2003‧‧‧方向2005‧‧‧方向2007‧‧‧刻痕元件2009‧‧‧操作裝置2011‧‧‧流體流2011a‧‧‧流體流動2011b‧‧‧流體流動2013‧‧‧流體2013a‧‧‧流體流動2013b‧‧‧流體流動2111‧‧‧縮回距離2201‧‧‧方向2203‧‧‧刻痕線段2301‧‧‧方向2303‧‧‧方向2401‧‧‧流體流動2401a‧‧‧流體流動2401b‧‧‧流體流動2501‧‧‧玻璃板2503‧‧‧碎片2701‧‧‧縮回距離2801‧‧‧流體流動3001‧‧‧密封3601‧‧‧碎片傳輸流動

當參照隨附圖式閱讀時可更加瞭解本發明的這些及其他特徵、態樣及優點：

第 1 圖示意性圖示經配置以促進沿著延伸跨過玻璃帶的寬度的分離路徑以分離玻璃帶的處理的玻璃製造設備；

第 2 圖係為沿著第 1 圖之線段2-2的玻璃製造設備的剖面透視圖；以及

第 3 圖係為根據本發明的一個實例的砧側設備的剖面圖；

第 4 圖係為沿著第 3 圖之線段4-4 的砧側設備的前視圖；

第 5 圖係為根據本發明的另一實例的砧側設備的剖面圖；

第 6 圖係為根據本發明的又另一實例的砧側設備的剖面圖；

第 7 圖係為根據本發明的又另一實例的砧側設備的剖面圖；

第 8 圖係為根據本發明的進一步實例的砧側設備的剖面圖；

第 9 圖係為根據本發明的又進一步實例的砧側設備的剖面圖；

第 10 圖係為根據本發明的又進一步實例的砧側設備的剖面圖；

第 11 圖係為比較各種砧側設備關於顆粒尺寸的效率的曲線圖；

第 12 圖係為根據本發明的另一實例的砧側設備的剖面圖；

第 13 圖係為根據本發明的又另一實例的砧側設備的剖面示意圖；

第 14 圖係為沿著第 13 圖之線段14-14的砧側設備的前視圖；

第 15 圖係為根據本發明的實例的刻痕側真空裝置的剖面圖；

第 16 圖係為在第 15 圖的視圖16 處取得的刻痕側真空裝置的放大部分；

第 17 圖係為沿著第 16 圖之線段17-17 的示例性刻痕側真空裝置的前視圖；

第 18 圖係為根據本發明的另一實例的刻痕側真空裝置的剖面圖；

第 19 圖係為根據本發明的又另一實例的刻痕側真空裝置的剖面圖；

第 20 圖係為根據本發明的又另一實例的刻痕側真空裝置的剖面圖；

第 21 圖係為根據本發明的進一步實例的刻痕側真空裝置的剖面圖；

第 22 圖係為比較各種刻痕側真空裝置關於顆粒尺寸的效率的曲線圖；

第 23 圖圖示第一方法中的示例性步驟，係利用與玻璃帶的第一主表面隔開的砧側裝置以分離玻璃帶；

第 24 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係利用相對於玻璃帶移動的砧側設備以分離玻璃帶，而使得砧側設備的細長砧組件的細長支撐表面接合玻璃帶的第一主表面；

第 25 圖係為刻痕側真空裝置的後側示意圖以及沿著第 24 圖的線段22-22 的示例性刻痕裝置，以圖示刻痕裝置在玻璃帶的第二主表面中刻劃刻痕線段；

第 26 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係在完成刻痕線段之後，利用移動遠離玻璃帶的第二主表面的刻痕裝置以分離玻璃帶；

第 27 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係利用移動朝向玻璃帶的第二主表面中的刻痕線段的刻痕側真空裝置以分離玻璃帶；

第 28 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係分離玻璃帶，其中玻璃帶係沿著刻痕線段分離；

第 29 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係分離玻璃帶，其中玻璃板移動遠離玻璃帶；

第 30 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係鑑於在第 28 圖的視圖30 所取得的砧側設備的放大部分，以分離玻璃帶，其展示分離玻璃帶的方法，其中玻璃帶的第一主表面接觸接合裝置；

第 31 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係鑑於在第 28 圖的視圖31 所取得的砧側設備的放大部分，以分離玻璃帶，其展示分離玻璃帶的方法，其中玻璃帶的第一主表面接觸接合裝置；

第 32 圖圖示第一方法中的另一示例性步驟，係鑑於在第 28 圖的視圖32 所取得的砧側設備的放大部分，以分離玻璃帶，其展示分離玻璃帶的方法，其中玻璃帶的第一主表面接觸接合裝置；

第 33 圖圖示第二方法中的示例性步驟，係利用與玻璃帶的第一主表面隔開的砧側裝置以分離玻璃帶；

第 34 圖圖示第二方法中的另一示例性步驟，係利用相對於玻璃帶移動的砧側設備以分離玻璃帶，而使得砧側設備的細長砧組件的細長支撐表面接合玻璃帶的第一主表面；

第 35 圖係為刻痕側真空裝置的後側示意圖以及沿著第 34 圖的線段35-35 的示例性刻痕裝置，以圖示刻痕裝置在玻璃帶的第二主表面中刻劃刻痕線段；

第 36 圖圖示第二方法中的另一示例性步驟，係在完成刻痕線段之後，利用移動遠離玻璃帶的第二主表面的刻痕裝置以分離玻璃帶；

第 37 圖圖示第二方法中的另一示例性步驟，係分離玻璃帶，其中玻璃帶係沿著刻痕線段分離；以及

第 38 圖圖示第二方法中的另一示例性步驟，係分離玻璃帶，其中玻璃板移動遠離玻璃帶。

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101‧‧‧玻璃製造設備

103‧‧‧玻璃帶

121‧‧‧熔融材料

143‧‧‧成形容器

149a‧‧‧邊緣輥組件

151a‧‧‧拉輥組件

153‧‧‧一對拉輥

161‧‧‧玻璃分離設備

163‧‧‧分離路徑

200‧‧‧凹槽

201‧‧‧成形楔

202a‧‧‧堰

202b‧‧‧堰

203‧‧‧向下傾斜匯聚表面部分

204a‧‧‧外表面

204b‧‧‧外表面

205‧‧‧向下傾斜匯聚表面部分

207‧‧‧拉伸方向

209‧‧‧根部

211‧‧‧拉伸平面

213‧‧‧第一主表面

215‧‧‧第二主表面

217‧‧‧厚度

219‧‧‧砧側設備

220‧‧‧刻痕側設備

221‧‧‧一對邊緣輥

Claims

一種玻璃製造設備，經配置以促進沿著延伸跨過一玻璃帶的一寬度的一分離路徑以分離該玻璃帶的一處理，該玻璃製造設備包含：一細長砧組件，包括一細長支撐表面，經配置以沿著該分離路徑接合該玻璃帶的一第一主表面；以及設置一接合裝置的至少一個細長鼻部，包含一非金屬緩衝器與相對於該細長砧組件的該細長支撐表面而凹陷的一輥中之至少一者，其中該細長鼻部與該細長砧組件定義至少一個砧側真空埠，包括一細長長度以及垂直於該細長鼻部與該細長砧組件之間的該細長長度而延伸的一寬度，且其中該砧側真空埠經配置以在分離該玻璃帶的該處理期間移除玻璃碎片；其中該至少一個細長鼻部包括：一第一細長鼻部，包括相對於該細長砧組件的該細長支撐表面凹陷的一外部細長表面；以及一第二細長鼻部，設置相對於該細長砧組件的該細長支撐表面凹陷的該接合裝置，其中該細長砧組件係設置於該第一細長鼻部與該第二細長鼻部之間，且其中該至少一個砧側真空埠包括由該第一細長鼻部與該細長砧組件定義的一第一砧側真空埠以及由該第二細長鼻部與該細長砧組件定義的一第二砧側真空埠。
如請求項1所述的玻璃製造設備，其中該接合裝置係在約2mm至約20mm的一範圍內從該細長砧組件的該細長支撐表面凹陷一距離。
如請求項1所述的玻璃製造設備，其中該砧側真空埠的該寬度係在約1mm至約12mm的一範圍內。
如請求項1所述的玻璃製造設備，其中該接合裝置可移除地附接至該細長鼻部。
如請求項1所述的玻璃製造設備，其中該接合裝置包含經配置以從一衝擊吸收能量的一彈性組件。
如請求項5所述之玻璃製造設備，其中該彈性組件包含一彈性材料。
如請求項1所述的玻璃製造設備，其中該接合裝置包含經配置以環繞一軸線旋轉的一輥。
如請求項7所述的玻璃製造設備，其中該輥可移除地附接至該細長鼻部。
如請求項7所述之玻璃製造設備，其中該輥包含一彈性材料。
如請求項7所述之玻璃製造設備，其中該輥包含複數個輥。
如請求項10所述之玻璃製造設備，其中該等複數個輥沿著一公共軸線串聯設置。
一種用於利用請求項1的玻璃製造設備而沿著延伸跨過一玻璃帶的一寬度的一分離路徑分離該玻璃帶的方法，該方法包含以下步驟：(I)相對於該玻璃帶移動該細長砧組件與該細長鼻部，以讓該細長砧組件的該細長支撐表面沿著該分離路徑接合該玻璃帶的該第一主表面，而該細長鼻部的該接合裝置與該玻璃帶的該第一主表面隔開；(II)將流體吸入該砧側真空埠，以建立跨過該玻璃帶的該寬度的一流體流動，其中該流體流動沿著該玻璃帶的該第一主表面吸往朝向該細長砧組件的一方向；(III)環繞該細長砧組件彎曲該玻璃帶，以沿著該分離路徑從該玻璃帶截斷一玻璃板；(IV)將在步驟(III)期間產生的玻璃碎片傳輸到該流體流動；以及(V)將具有所傳輸玻璃碎片的流體流動吸入該砧側真空埠。
如請求項12所述之方法，其中步驟(III)包括以下步驟：環繞該細長砧組件彎曲該玻璃帶，直到該接合裝置接合該玻璃帶的該第一主表面。
如請求項1所述之玻璃製造設備，其中該第一砧側真空埠包括定義於該細長砧組件與該第一細長鼻部之間的一第一寬度，而該第二砧側真空埠包括定義於該細長砧組件與該第二細長鼻部之間的一第二寬度。
如請求項14所述的玻璃製造設備，其中該第一寬度不同於該第二寬度。
如請求項14所述的玻璃製造設備，其中該第一寬度等於該第二寬度。
一種用於利用請求項1的玻璃製造設備而沿著延伸跨過一玻璃帶的一寬度的一分離路徑分離該玻璃帶的方法，該方法包含以下步驟：(I)相對於該玻璃帶移動該細長砧組件、該第一細長鼻部、及該第二細長鼻部，以讓該細長砧組件的該細長支撐表面沿著該分離路徑接合該玻璃帶的該第一主表面，而該第一細長鼻部的該外部細長表面與該接合裝置之每一者皆與該玻璃帶的該第一主表面隔開；(II)將流體吸入該第一砧側真空埠，以建立跨過該玻璃帶的該寬度的一第一流體流動，其中該流體流動沿著該玻璃帶的該第一主表面吸往朝向該細長砧組件的一方向； (III)將流體吸入該第二砧側真空埠，以建立跨過該玻璃帶的該寬度的一第二流體流動，其中該第二流體流動沿著該玻璃帶的該第一主表面吸往朝向該細長砧組件的一方向；(IV)環繞該細長砧組件彎曲該玻璃帶，以沿著該分離路徑從該玻璃帶截斷一玻璃板；(V)將在步驟(IV)期間產生的玻璃碎片傳輸到該第一流體流動與該第二流體流動中之至少一者；以及(VI)將該第一流體流動吸入該第一砧側真空埠，並將該第二流體流動吸入該第二砧側真空埠，其中所傳輸玻璃碎片係吸入該第一砧側真空埠與該第二砧側真空埠中之至少一者。
如請求項17所述之方法，其中步驟(IV)包括以下步驟：環繞該細長砧組件彎曲該玻璃帶，直到該接合裝置接合該玻璃帶的該第一主表面。