TWI723450B - 搬運裝置及控制方法 - Google Patents
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Abstract
一種搬運裝置,具備:搬運手段,其係在形成保護材與基板的層積體在容器內之捆包動作、及從容器內的前述層積體交互取出前述保護材與前述基板之解捆動作的各動作之際,搬運前述保護材;保護材載置部,其係積載前述保護材;容器載置部,其係載置前述容器的容器主體部;控制手段,其係以與前述保護材的種類相對應之複數個動作模式中所選擇出的動作模式,控制前述搬運手段;安裝判定手段,其係對應到前述保護材的種類而被選擇,而且,判定構成前述搬運手段、前述保護材載置部及前述容器載置部之各零件的拆卸安裝;以及整合性判定手段,其係判定選擇出的前述動作模式與前述安裝判定手段的判定結果之整合性。
Description
本發明有關卸載(unpacking)/裝載(packing)半導體晶圓等的基板之技術。
作為半導體晶圓的搬運容器,提案有圓片堆疊容器(coin stack container)。於圓片堆疊容器,交互層疊收容半導體晶圓與保護材。在從圓片堆疊容器搬出半導體晶圓的情況(卸載)下,是有必要交互搬出保護材與半導體晶圓。而且,在收容保護材與半導體晶圓到圓片堆疊容器的情況(裝載)下,是有必要交互搬入保護材與半導體晶圓到容器內。於專利文獻1,有關使用了片狀的保護材之圓片堆疊容器,揭示有自動化卸載與裝載之裝置。
另一方面,為了提升形成在半導體晶圓的電路的保護性能,提案有非接觸式的圓片堆疊容器。於專利文獻2,作為保護材,揭示出使用了環狀的間隔件者。可以迴避形成在半導體晶圓的電路與保護材的接觸,可以提升電路的保護性能。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特表2005-536878號專利公報
[專利文獻2]日本特表2017-508291號專利公報
[發明欲解決之課題]
可以在共通的裝置卸載/裝載使用了片狀的保護材之接觸式的圓片堆疊容器、以及使用了環狀的間隔件之非接觸器的圓片堆疊容器的話,利便性會很高。但是,這些圓片堆疊容器係容器的規範不同,保護材也不同的緣故,用完全相同的裝置進行卸載/裝載是有困難的。
本發明的目的係對應到接觸式及非接觸式的各圓片堆疊容器,進行卸載/裝載。
[解決課題之手段]
根據本發明,例如提供一種搬運裝置,具備:
搬運手段,其係在形成保護材與基板的層積體在容器內之捆包動作、及從容器內的前述層積體交互取出前述保護材與前述基板之解捆動作的各動作之際,搬運前述保護材;
保護材載置部,其係積載前述保護材;
容器載置部,其係載置前述容器的容器主體部;
控制手段,其係以與前述保護材的種類相對應之複數個動作模式中所選擇出的動作模式,控制前述搬運手段;
安裝判定手段,其係對應到前述保護材的種類而被選擇,而且,判定構成前述搬運手段、前述保護材載置部及前述容器載置部之各零件的拆卸安裝;以及
整合性判定手段,其係判定選擇出的前述動作模式與前述安裝判定手段的判定結果之整合性。
[發明效果]
根據本發明,可以對訂到接觸式及非接觸式的各圓片堆疊容器,進行卸載/裝載。
以下,參閱附圖詳細明實施方式。尚且,以下的實施方式並非限定語申請專利範圍有關的發明,而且不限定在實施方式所說明的特徵的組合之全部為發明所必需者。也可以任意組合在實施方式所說明之複數個特徵中二個以上的特徵。而且,於相同或者是同樣的構成賦予相同的參考編號,省略重複的說明。圖中,在各圖中,箭頭X及Y係表示相互地正交之水平方向,箭頭Z係表示垂直方向。
<搬運系統>
圖1為有關本發明的一實施方式之搬運系統1的立體圖。搬運系統1具有進行圓片堆疊容器的卸載,把圓片堆疊容器內的基板(在此為半導體晶圓)移載到FOUP等的容器之功能。而且,搬運系統1具有從FOUP等的容器搬出基板,把已搬出的基板裝載到圓片堆疊容器中之功能。亦即,搬運系統1為進行圓片堆疊容器的卸載/裝載(解捆動作/捆包動作)之裝載系統。
搬運系統1包含:內建有基板的搬運機構之基板搬運裝置2、複數個裝載埠3、進行基板的校準之校準裝置4、內建有保護材的搬運機構之保護材搬運裝置5、以及資訊顯示裝置6。資訊顯示裝置6例如是觸控面板式的顯示器,受理對搬運系統1的設定的輸入,或是進行搬運系統1的運作資訊等的顯示者。
<基板搬運裝置>
參閱圖2說明有關基板搬運裝置2的構成。圖2為表示搬運系統1的內部的配置之俯視圖,基板搬運裝置2係構成在搬運系統1的內部搬運基板之搬運機構。基板搬運裝置2具備設在其內部空間2a之基板搬運機器人20。基板搬運機器人20係藉由設成延伸在X方向之一對導引構件24的導引而可以往復在X方向。一對導引構件24例如是軌道構件,劃定基板搬運機器人20的移動通路。
基板搬運機器人20包含:水平多關節機構21、基座單元22、以及行走單元23。行走單元23具備沿導引構件24移動在X方向之驅動機構。該驅動機構例如包含:馬達等的驅動源、以及皮帶傳動機構或齒條-齒輪機構等的驅動傳遞機構。基座單元22被搭載在行走單元23,具備進行水平多關節機構21的升降與迴旋之驅動機構。該驅動機構例如包含:馬達等的驅動源、以及皮帶傳動機構、齒條-齒輪機構、齒輪機構等的驅動傳遞機構。水平多關節機構21包含:把持部21a、使把持部21a進退在水平方向之臂、使把持部21a表裡自由反轉之機構、以及這些的驅動機構。該驅動機構例如包含:馬達等的驅動源、以及皮帶傳動機構等的驅動傳遞機構。於把持部21a,設有藉由空氣的吸引等來吸附基板之複數個吸附部,在基板的搬運之際,基板被吸附保持在把持部21a。
在本實施方式的情況下,裝載埠3及保護材搬運裝置5係在基板搬運機器人20的移動通路(導引構件24)的其中一側方,沿該移動通路並列設置。藉此,在卸載、裝載之際,可以交互進行保護材搬運裝置5所致之保護材的搬運、以及基板搬運裝置2所致之基板的搬運,可以平行進行保護材的搬運與基板的搬運的緣故,可以圖求產距時間的減低。而且,於搬運系統1的共通側部,可以進行圓片堆疊容器的搬出入、以及FOUP等的容器的搬出入,也可以提升作業者的作業性。
校準裝置4被配置在基板搬運機器人20的移動通路(導引構件24)的另一側方。經由該配置在裝載之際,藉由基板搬運機器人20,從裝載埠3(FOUP等的容器開閉裝置)搬出基板,可以經由校準裝置4有效率地把基板搬運到保護材搬運裝置5。
校準裝置4被配置在與保護材搬運裝置5對向的位置。經此,基板搬運機器人20係從校準裝置4搬出基板後,僅以反轉到背面側的方式,就正對到保護材搬運裝置5的緣故,X方向的定位變得非必要,沒有產生位置偏移之虞。
<裝載埠>
參閱圖3說明有關裝載埠3的構成。圖3為裝載埠3的部分概略側剖面圖。裝載埠3為對容器100進行開閉之開啟器。容器100具有,FOUP,FOSB,SMIF或是開放式卡匣等。容器100具有:在側部具有讓半導體晶圓也就是圓形的基板W出入的開口部102之箱狀的容器本體101、以及安裝在開口部102成自由裝卸,蓋住開口部102之蓋(門)103。尚且,圖3係表示,用蓋103蓋住容器100之閉位置、以及經由裝載埠3打開了蓋103之開位置(圖3中以兩點鍊線圖示)。
容器本體100係其開口部102如圖3表示,以與孔部311對向的姿勢,被搭載到搭載部32。基板搬運裝置2的水平多關節機構21係透過孔部311、開口部102而可以接駁(access)到容器本體101內的基板W。
搭載部32設置成床臺狀。搭載部32具備可以搭載容器100之可動的裝卸板321;該裝卸板321利用未圖示的移動機構可以自由進退地移動在Y方向上,在接近到壁體31的孔部311的位置(圖3表示的位置)、以及離開的位置。於容器100的搬運時,裝卸板321移動到離開了孔部311的位置(後退位置),於容器100的開閉及打開中,裝卸板321移動到接近孔部311的位置(前進位置)。
而且,裝載埠3具備開閉機構33,開閉機構33具備:保持蓋103之支撐部(埠門)330、以及使埠門330進退在箭頭方向AY並且於後退位置升降在箭頭方向AZ之移動機構331。
用上位控制器協同作動控制以上構成的裝載埠3與基板搬運裝置2,經此,基板W可以被搬出到容器本體101外,而且,基板W可以被搬入到容器本體101內。
<校準裝置>
校準裝置4係如圖2表示,包含有定心單元40。本實施方式中舉例的定心單元40乃是進行基板W的定心之裝置,但並不限定於此。例如,如在半導體製造裝置習慣使用的對準器,進行基板W的定心與缺口(或是定位邊)位置的調整者即可。
定心單元40係在本實施方式的情況下,具備3個夾盤44。各夾盤44係藉由未圖示致動器同步被開閉驅動。載置在定心單元40的基板W,係以被各夾盤44握持的方式,進行定中心,亦即定心。
<非接觸式圓片堆疊容器>
圖4A為圓片堆疊容器也就是容器200的說明圖,為其剖視圖。容器200為中空體,其係包含:容器主體部201、以及作為容器主體部201的蓋之蓋殼202。被載置到保護材203與保護材203之基板W的層積體被收容到容器200內。該層積體被載置在容器主體部201上,藉由容器主體部201的周圍壁規範制約往徑方向的移動。於容器主體部201的內部的底面,形成有用於防止後述的保持單元71總括取出保護材203之際的干涉之凹部201a。而且,容器主體部201係在其底面,具備卡合到後述的保護材203的凹部203a之凸部201c。
保護材203乃是用於在基板W之間設置間隙的間隔件,例如為樹脂製。是有把保護材203稱為間隔件之情況。間隔件203乃是沿基板W的形狀之框狀的構件,在本實施方式的情況下,基板W為圓形,所以間隔件203具有圓環形狀。但是,間隔件203的形狀不限於此,只要是避開基板W上的保護領域(電路形成部等)之形狀,例如也可以是矩形或多角形。於間隔件203的周緣部,在底面側形成有凹部203a,在頂面側形成有凸部203b及載置面203c。凸部203b乃是與凹部203a卡合之環狀突起。於最下段的保護材203的凹部203a被卡合鄰接到前述的凸部201c之保護材203彼此之中,下段側的保護材203的凸部203b與上段側的保護材203的凹部203a卡合。藉由凹部203a與凸部203b的卡合,可以更安定層疊間隔件203。載置面203c乃是載置基板W的周緣部之環狀的平面。
如此,在基板W間介隔存在有間隔件203,藉此,不會使基板W的電路部分接觸到其他的基板W或間隔件203,可以在容器200內累積複數個基板W。
<保護材搬運裝置>
參閱圖1、圖2、圖5,說明有關保護材搬運裝置5。圖5為表示保護材搬運裝置5的概略之圖,示意性表示取下了外部件面板的狀態。保護材搬運裝置5乃是搬運保護材也就是間隔件203之裝置。在本實施方式的情況下,保護材搬運裝置5係除了使用了間隔件203作為保護材的情況中的保護材203的搬運之外,藉由一部分的零件的拆卸安裝,也可以搬運後述的片狀的保護材303。是有把片狀的保護材303稱為片狀物303之情況。
保護材搬運裝置5具備利用複數個柱及樑所構成的框架50,於該框架50支撐各個構成。框架50係在Z方向具有長的長方體形狀的外形,其內部空間具有排列在X方向的棚架部5A與機器人收容部5B。
(棚架部的構成)
框架50包含Z方向區劃棚架部5A的內部空間棚架構件50a~50c,利用棚架構件50a形成上段的載置部51a,利用棚架構件50b形成中段的載置部51b,利用棚架構件50c形成下段的載置部51c。以上下配置載置部51a~51c的方式,可以減少保護材搬運裝置5的印痕。
於各載置部51a~51c,如圖1表示,於搬運系統1的正面,設有橫開式的門5a~5c。於各門5a~5c,形成以丙烯酸面板或玻璃面板所形成具有透光性的窗5a’~5c’,可以從外部看到各載置部51a~51c。
於載置部51a及51b,載置作為卸載或是裝載的對象之容器200。作業者以打開門5a、5b的方式,可以對載置部51a及51b進行容器200的搬入、搬出。在本實施方式的情況下,容器200在取下了蓋殼202的狀態下,僅容器主體部201被載置到載置部51a及51b。但是,也可以在搬運系統1設置蓋殼取下機構,把安裝了蓋殼202的容器200載置到載置部51a及51b,利用蓋殼取下機構來取下蓋殼202。在本實施方式的情況下,具備2個載置部51a及51b,但是,可以是1個,也可以是3個以上。
於載置部51c,在卸載或是裝載之際,載置間隔件203。亦即,為間隔件203的暫時保管場所。間隔件203積載在載置部51c。以打開門5c的方式,作業者可以從載置部51c搬出間隔件203,而且或者是,搬入間隔件203到載置部51c。這樣的作業,例如在發生間隔件203的過多或過少的情況等下進行。
於載置部51a及51b,分別設有容器載置裝置52,於載置部51c設有保護材載置裝置53。以下,說明有關容器載置裝置52、保護材載置裝置53。尚且,以下,是有把容器載置裝置52、保護材載置裝置53簡單稱為載置裝置52、載置裝置53之情況。首先,說明有關載置裝置52。
圖6為載置裝置52的立體圖,圖7為搭載了容器主體部201的載置裝置52的立體圖。載置裝置52包含:基底板520、以及把基底板520支撐成可以移動在Y方向之一對導引構件521。導引構件521例如是滑軌。
基底板520具有打開了Y方向的裡側之C字形的外形,於Y方向的面前側設有把手520a。在把容器主體部201搬入到載置部51a或是51b的情況下,或者是,從載置部51a或是51b搬出之際,作業者打開門5a或是5b,把持把手520a,可以從載置部51a或是51b把基底板520,從圖6及圖7的位置,拉到面前。如此,在載置裝置52設置滑動機構,各基底板520可以自由出沒地出入在保護材搬運裝置5的緣故,容易進行容器主體部201的搬入、搬出作業。
於基底板520,設有複數個導引構件520b。經由這些複數個導引構件520b的導引,在把容器主體部201載置到了基底板520上之際,可以對基底板520粗略定位到容器主體部201,防止紊亂。
於基底板520的開口部分,設有升降床臺522。升降床臺522係藉由配置在其下方的升降機構523移動在Z方向。於升降床臺522,設有容器主體部201的定位用的複數個銷522a。銷522a為用於運動耦合的卡合銷,與在容器主體部201所設置的卡合部201b(在本實施方式的情況下為谷型的溝)卡合,可以相對於升降床臺522正確地定位容器主體部201。
於升降床臺522,設有感測器522b、522c。感測器522b乃是檢測容器主體部201是否載置到升降床臺522上之感測器,在本實施方式的情況下,為藉由容器主體部201的自重成為ON狀態之按鈕式的開關。感測器522c乃是後述之檢測接合器528的拆卸安裝之感測器。接合器528乃是後述之被安裝在使用用了片狀物303的圓片堆疊容器之情況下的構件。感測器522c在本實施方式的情況下,乃是藉由接合器528的自重成為ON狀態之按鈕式的開關(就位感測器)。
在容器主體部201的搬入之際,升降床臺522藉由升降機構523位置到比基底板520還低的退避位置。作業者抽出基底板520,載置容器主體部201到基底板520後,讓基底板520回到原來的位置。之後,升降床臺522藉由升降機構523上升,從基底板520稍微抬起容器主體部201。在該抬起之際,銷522a與容器主體部201的卡合部201b卡合而定位容器主體部201,並且,容器主體部201被支撐在升降床臺522上。尚且,感測器522c被配置成容器主體部201被支撐到升降床臺522上也不會成為ON狀態。
於載置裝置52的周邊,檢測容器主體部201內的間隔件203及基板W的收容狀態之感測器524、526、527被支撐在框架50。
感測器524為雷射測位感測器,在本實施方式中設置2個。感測器524係利用透過支架525a被支撐在框架50的反射鏡525使雷射的方向彎曲,來檢測所瞄準的位置。感測器524係例如檢測容器主體部201上的間隔件203與基板W的層積體的高度。感測器526為彩色感測器,是用於判別容器主體部201上的間隔件203與基板W的層積體之最上層的構件的種類。感測器527為雷射測位感測器,係僅檢測積載在容器主體部201上的間隔件203的層積體的高度。
接著,說明有關載置裝置53。圖8為載置裝置53的立體圖。載置裝置53具備基底板530。於基底板530立設有複數個定位銷531。在本實施方式中,定位銷531的數目為3個。
間隔件203係於3個定位銷531的內側,被積載在基底板530上。圖4B係圖示被積載在基底板530上的間隔件203之例。後述之層積體203S內的至少一部分的間隔件203的外周圍面係利用定位銷531來定位,藉此,相對於基底板530定位間隔件203的層積體。於基底板530,在與間隔件203的內周圍部重疊的位置形成開口部530a。被定位銷531定位的間隔件203的數目,不一定是構成層積體203之全部的間隔件203,但是,當然也可以是定位全部的間隔件203。
於基底板530,設有感測器532。感測器532乃是後述之檢測接合器534的拆卸安裝之感測器。接合器534乃是後述之用於保持片狀物303的層積體之構件。感測器532在本實施方式的情況下,為反射型的光學感測器,配置在基底板530所設置的開口的下方。
於載置裝置53的周邊,設有檢測基底板530上的間隔件203的積載狀態之感測器533。感測器533為雷射測位感測器,檢測與基底板530所積載的間隔件203的層積體的高度。感測器533係透過支架533a被支撐在框架50。
(機器人收容部的構成)
於機器人收容部5B,設有保護材搬運機器人7。保護材搬運機器人7乃是把間隔件203搬運在載置部51a或是51b、與載置部51c之間的機器人。參閱圖1、圖5、圖9,說明有關保護材搬運機器人7。圖9為保護材搬運機器人7的說明圖,為其立體圖。以下,是有把保護材搬運機器人7簡單稱為搬運機器人7的情況。
搬運機器人7包含:保持單元70、保持單元71及移動單元72。保持單元70、71全都是保持間隔件203的單元,移動單元72乃是支撐保持單元70、71,並移動這些在載置部51a或是51b、與載置部51c之間的單元。在本實施方式的情況下,保持單元70與保持單元71配置成重疊在Z方向。此乃是,對保護材搬運裝置5的X方向及Y方向的小型化有貢獻。
移動單元72包含:把保持單元70支撐成自由旋動之移動單元721、把保持單元71支撐成自由旋動之移動單元722、以及一起移動移動單元721及722之移動單元720。移動單元721及722對保持單元70及71而言為個別的單元,移動單元720對保持單元70及71而言為共通的單元。
移動單元720包含延伸在Z方向的柱構件7200。於柱構件7200的側部,設有導引滑塊7202的移動之導引溝7201。導引溝7201導引滑塊7202的Z方向的移動。滑塊7202為在X方向具有厚度之板狀的構件,沿導引溝7201升降。驅動單元7205乃是升降滑塊7202之驅動機構,特別是包含驅動源。該驅動機構包含:馬達等的驅動源、以及把驅動源的旋轉驅動變換成Z方向的直線運動並傳遞到滑塊7202之傳遞機構(例如,滾珠螺桿機構或皮帶傳動機構)。傳遞機構的一部分被內建在柱構件7200。
於滑塊7202被固定有:支撐移動單元721之基座構件7203、以及支撐移動單元722之基座構件7204。基座構件7203、7204全都是在Z方向具有厚度之板狀的構件,被固定成相對於滑塊7202為垂直且重疊在Z方向上。利用滑塊7202的升降,可以讓移動單元721及722亦即保持單元70及71一起升降。
移動單元721為把保持單元70支撐在水平方向自由旋動之單元。移動單元721包含:臂構件7210、把臂構件7210支撐成自由旋動之旋動支撐部7211、以及驅動單元7212。臂構件7210為延伸在水平方向之構件,於其中一端支撐保持單元70,另一端被旋動支撐部7211支撐。旋動支撐部7211乃是支撐臂構件7210繞Z方向的旋動中心軸Z1自由旋動之機構,包含:連接到臂構件7210之旋轉件、以及被固定在基座構件7203且支撐旋轉件繞Z1軸自由旋轉之支撐部。驅動單元7212包含:馬達等的驅動源、以及把驅動源的驅動力往旋動支撐部7211的旋轉件傳遞之傳遞機構(例如皮帶傳動機構或齒輪機構)。
移動單元722為把保持單元71支撐在水平方向自由旋動之單元。移動單元722包含:臂構件7220、把臂構件7220支撐成自由旋動之旋動支撐部7221、以及驅動單元7222。臂構件7220為延伸在水平方向之構件,於其中一端支撐保持單元71,另一端被旋動支撐部7221支撐。
旋動支撐部7221乃是支撐臂構件7220繞Z方向的旋動中心軸Z1自由旋動之機構,包含:連接到臂構件7220之旋轉件、以及被固定在基座構件7204且支撐旋轉件繞Z1軸自由旋轉之支撐部。驅動單元7222包含:馬達等的驅動源、以及把驅動源的驅動力往旋動支撐部7221的旋轉件傳遞之傳遞機構(例如皮帶傳動機構或齒輪機構)。
在本實施方式的情況下,移動單元721及722係偏置在Z方向做配置,而且,具有同軸上的旋動中心軸Z1。為此,可以圖求保護材搬運裝置5的X方向及Y方向的省空間化、小型化。而且,在位置在下側的移動單元721中,驅動單元7212配置在基座構件7203的下側,在位置在上側的移動單元722中,驅動單元7222配置在基座構件704的上側。經此,可以在Z方向上更接近配置移動單元721及722。
在本實施方式的情況下,移動單元721及722係讓對應的保持單元70及71獨立在90度的範圍內旋動在水平方向。圖5係表示保持單元70及71位置在棚架部5A內的情況下的旋動位置。把該旋動位置稱為作動位置。圖2係表示保持單元70及71從作動位置做90度旋動而位置到棚架部5A外之旋動位置。把該旋動位置稱為升降位置。圖2的箭頭D係表示保持單元70及71的旋動方向。
接著,說明有關保持單元70、71的構成。首先,說明有關保持單元70。圖10為保持單元70的說明圖,乃是與臂構件7210、旋動支撐構件7211一起表示之保持單元70的立體圖。
保持單元70具備:在Z方向具有厚度的板狀之矩形的基座構件700、以及從基座構件700的四個角落延伸出成放射狀之複數個支撐構件701。於各支撐構件701的末端支撐吸附部702。本實施方式的吸附部702乃是連接到未圖示的負壓源,從其下端的開口吸引空氣之噴嘴構件。4個吸附部702係為了吸附間隔件203(在本實施方式為頂面203d),配置在與間隔件203為同口徑的假想圓上。用4個吸附部702,可以把一個間隔件203保持在水平姿勢。尚且,吸附部702的數目也可以是4個以外者。而且,作為間隔件203的保持方式,也可以是吸附以外的保持方式(例如,握持等)。
其次,說明有關保持單元71。圖11為保持單元71的說明圖,乃是與臂構件7220、旋動支撐構件7221一起表示之保持單元71的立體圖。
在此,更進一步說明有關本實施方式中的臂構件7220的構成。臂構件7220係在本實施方式的情況下,為根部側構件7220a與末端側構件7220b之二構件構成,連接成可以相互自由拆卸安裝。保持單元71與末端側構件7220b係構成成為一個交換單元之臂構件。在後述之使用片狀物303的情況下,把該臂構件作為單位進行交換。詳細後述之。
接著,保持單元71具備:在Z方向具有厚度的板狀之圓形的基座構件710、以及從基座構件710往三方向延伸成放射狀之3個支撐構件711。基座構件710係透過複數個懸吊軸710a連接到臂構件7220。經此,在總括保持間隔件203的層積體之際,可以迴避間隔件203的層積體與臂構件7220的干涉。
於各支撐構件711的末端,透過位移單元712支撐卡合構件713。位移單元712係使卡合構件713,如同一圖中以箭頭A1所表示般,自由擴張收縮地位移在基座構件710的徑方向(支撐構件711的縱長方向)。把卡合構件713位移到徑方向外側的位置稱為卡合位置,位移到內側的位置稱為退避位置。在本實施方式的情況下,位移單元712為伸縮在支撐構件711的縱長方向之氣缸。
卡合構件713係總計設置3個。3個卡合構件713在以基座構件710為中心的假想圓上等間隔(等角度)設置於圓周方向上。各卡合構件713位置在卡合位置時,該假想圓相當於間隔件203的內周圓,因此,3個卡合構件713以等間隔設置在間隔件203的圓周方向上。
卡合構件713具有延伸在Z方向之具有略長方體形狀的外形之主體部7130。主體部7130的外周圍部7130a具有沿間隔件203的層積體的內周圍面之曲面。卡合構件713係於主體部7130的下端(外周圍部7130a的下端),具有設成延伸到外側之鍔狀的卡合部7131。在總括保持間隔件203的層積體之際,卡合部7131從下側抵接到最下層的間隔件203,捧起層積體。
圖12A~圖13B係表示利用保持單元71總括保持間隔件203的層積體203S的動作之例。間隔件203的層積體203S係例如,圖4B所示般層疊數十個間隔件203所形成。層積體203S是有於載置部51a或是51b載置到容器主體部201上的情況、以及載置到載置裝置53的基底板530上的情況。
保持單元71係如圖12A表示,藉由移動單元73移動到層積體203S的上方。此時,保持單元71位置在作動位置,保持單元70位置在升降位置。保持單元71係在各卡合構件713位置到退避位置的狀態下,藉由移動單元73如圖12B表示般下降到層積體203S的內部空間。在層積體203S載置到容器主體部201上的情況下,卡合部7131進入到凹部201a(參閱圖4A)。在層積體203S載置到基底板530上的情況下,卡合部7131進入到開口部530a(參閱圖4B、圖8)。
圖13A為從層積體203S的上方看保持單元71已下降的狀態之圖。從該狀態如圖13B表示般,驅動位移單元712,使卡合構件713往卡合位置位移。經此,層積體203S係從其內側被3個保持構件713保持。具體方面,卡合部7131進入到層積體203S的最下層的間隔件203的下方,成為層積體203S載置到3個卡合部7131的狀態。藉此,在保持單元71總括抬起了層積體203S的狀態下可以移動,成為保持層積體203S的狀態。
而且,在本實施方式中,3個卡合構件713的各外周圍部7130a與層積體203S的內周圍面抵接。經此,提升層積體203S的保持力。鄰接構成層積體203S的間隔件203藉由凸部203b與凹部203a的卡合,難以相互地位移在徑方向,但是,外周圍部7130a的高度(Z方向的高度)為層積體203S的高度的2/3以上,更佳為3/4以上的話,可以更安定保持層積體203S的整體。
<控制裝置>
圖14為搬運系統1的控制裝置8的方塊圖。控制裝置8包含:掌管系統整體的控制之主機控制器8a、控制基板搬運裝置2之控制器8b、控制裝載埠3之控制器8c、控制校準裝置4之控制器8d、以及控制保護材搬運裝置5之控制器8e;這些被連接成可以相互地通訊。控制器8b~8e例如包含:PLC(可程式邏輯控制器)、以及中繼感測器或致動器與PLC之間的訊號之輸出入介面。主機控制器8a係經由與各控制器8b~8e之通訊,進行這些控制,執行基板W的卸載或裝載。
<控制例>
說明控制裝置8所致之搬運系統1的控制例。在此,說明基板W的卸載與裝載之例。首先,說明有關卸載之例。
(卸載之例)
說明有關卸載之例。簡單的說,所謂的卸載,乃是從載置在載置部51a或是51b上(載置裝置52上)的容器主體部201上之間隔件203及基板W的層積體,一個一個交互取出間隔件203與基板W之動作。在本實施方式中,保護材搬運機器人7取出間隔件203,積載到載置部51c。而且,基板搬運機器人20取出基板W,把基板W移載到裝載埠3上的容器100。隨著卸載的進行,於載置部51c形成間隔件203的層積體203S。最後,保護材搬運機器人7把層積體203S總括搬運到載置部51a或是51b上的容器主體部201。藉由該總括搬運,圖求卸載的效率化。
參閱圖15A~圖22,具體說明有關卸載之例。在此,把載置到載置部51a上(載置裝置52上)的容器主體部201之間隔件203及基板W的層積體作為卸載的對象。但是,把載置到載置部51b上的容器主體部201之間隔件203及基板W的層積體作為卸載的對象的情況也是同樣的程序。
圖15A及圖15B係表示保護材搬運機器人7從間隔件203及基板W的層積體取出最上層的間隔件203之工序。在圖15A的階段中,保護材搬運機器人7的保持單元70及71位置在升降位置。
首先,如圖15B表示使保護材搬運機器人7作動,使保持單元70往作動位置旋動,位置到最上層的間隔件203上。接著,使保持單元70下降保持了最上層的間隔件203後,使保持單元70上升並旋動,如圖16A表示,讓保持單元70回到升降位置。尚且,在保持單元70的升降之際,保持單元71也一起升降。
該動作接下來,基板搬運機器人20伸展水平多關節機構21使把持部21a位置到基板W上,利用基座單元22讓水平多關節機構21降下,用把持部21a吸附基板W。之後,利用基座單元22讓水平多關節機構21上升,使水平多關節機構21彎曲,取出基板W。接下來,使把持部21a旋轉180°使基板W反轉後,使基板搬運機器人20如圖16B表示般行走到正對裝載埠3的位置。之後,使基板搬運機器人20作動,使水平多關節機構21伸展,並且,讓把持部21a伸出到裝載埠3上的容器100內,把基板W移載到容器100內。容器100的蓋藉由裝載埠3被預先打開。
與基板搬運機器人20的動作平行,並保持了間隔件203之保持單元70係如圖17表示般,下降到載置部51c的高度。接著,如圖18表示般保持單元70旋動到作動位置,保持單元70更進一步下降。此時,保持單元71待在升降位置。之後,解除保持單元70所致之間隔件203的保持,間隔件203移載到載置部51c上(載置裝置53上)。之後,保持單元70再次旋動到升降位置。
更進一步使保護材搬運機器人7上升,位置到載置部51a的高度。接著,基板搬運機器人20的行走開始,並且,進行下一個間隔件203的吸附、移載。
以後,藉由同樣的程序,間隔件203利用保護材搬運機器人7移載到載置部51c上,基板W利用基板搬運機器人20移載到容器100。取出載置部51a上全部的基板W及間隔件203的話,於載置部51c上如圖19表示般形成間隔件203的層積體203S。該層積體203S利用保護材搬運機器人7回到載置部51a上的容器主體部201上。
首先,如圖20表示,使保持單元71下降並且旋動到作動位置,使保持單元71位置到層積體203S的上方。保持單元70待在升降位置。如圖21表示般使保持單元71下降到層積體203S的內側,用保持單元71保持層積體203S。接下來,把保持在保持單元71的層積體203S總括搬運到載置部51a上的容器主體部201。具體方面,進行保持單元71的上升、往升降位置的旋動、往載置部51a的高度的上升、往作動位置的旋動,如圖22表示般保持單元71及層積體203S移動到容器主體部201的上方。使保持單元71下降到容器主體部201內並且解除層積體203S的保持,藉此,層積體203S移載到容器主體部201。
經由以上,卸載之際的動作完畢。尚且,在本實施方式中,在圖21、圖22所示的層積體203S的總括搬運之際,總括搬運了全部的間隔件203,但是,也可以分成複數次來總括搬運。例如,在由全部為26個的間隔件203所構成的層積體203S回到容器主體部201的情況下,首先搬運由一半(13個)的間隔件203所構成的層積體203S,之後,搬運由殘留的一半的間隔件203所構成的層積體203S也是不要緊的。該情況也比起一個一個搬運間隔件203的情況,更提高搬運效率。
而且,在本實施方式中,在卸載之際,從容器主體部201上往載置部51c搬運了全部的間隔件203,但是,在容器主體部201殘留一個間隔件203也是可以的。這是因為,在本實施方式中,讓載置部51c上的間隔件203回到容器主體部201時,容器主體部201的最下層的間隔件203係在其下不存在基板W,搬運到載置部51c的必要性為非必要的緣故。以不把容器主體部201的最下層的間隔件203搬運到載置部51c的方式,於卸載後進行裝載時,可以省去把1個間隔件203從載置部51c移載到載置部51a的人工,圖求產距時間的減低。
(裝載之例)
說明有關裝載之例。簡單的說,所謂的裝載,乃是卸載的逆動作,為一個一個交互積載間隔件203與基板W到載置部51a或是51b上(載置裝置52上)的容器主體部201之動作。在本實施方式中,首先,保護材搬運機器人7係從載置部51a中的容器主體部201,把間隔件203的層積體203S,總括搬運到載置部51c上。藉由該總括搬運,可以圖求裝載的效率化。接著,保護材搬運機器人7從載置部51c上的層積體203S取出一個間隔件203,移載到容器主體部201。
基板搬運機器人20從裝載埠3上的容器100取出基板W,交接已取出的基板W到對準器40。基板W藉由對準器40被定心。定心過的基板W係藉由基板搬運機器人20從對準器40取出,移載到容器主體部201。交互反覆進行對容器主體部201的間隔件203的移載與基板W的移載,於容器主體部201形成間隔件203與基板W的層積體。
參閱圖23A~圖27B,具體說明有關裝載之例。在此,說明在載置部51a上(載置裝置52上)的容器主體部201,形成間隔件203及基板W的層積體之情事。但是,在載置部51b上的容器主體部201形成間隔件203及基板W的層積體的情況也是同樣的程序。
在把容器主體部201上的間隔件203的層積體203S移載到了載置部51c後,進行從載置部51c上的層積體203S取出一個間隔件203,並移載到容器主體部201之作業。如圖23A表示,為了讓保持單元71位置到層積體203S上,使保持單元71旋動到作動位置。此時,保持單元70待在升降位置。使保持單元71下降到層積體203S內,並且,驅動位移單元712使卡合構件713伸長到卡合位置。經此,利用各支撐構件711保持層積體203S。之後,上升保持單元71,如圖23B表示般把保持單元71旋動到升降位置。同時,進行基板搬運機器人20從裝載埠3上的容器100取出基板W之準備。
接下來,保持單元71下降到載置部51c的高度,旋動到作業位置。之後,如圖24表示般,保持單元71下降到基底板530中的各定位銷531的內側。之後,解除保持單元71所致之層積體203S的保持,層積體203S移載到載置部51c上。如此,總括搬運層積體203S。
接下來,遷移到藉由保持單元70來保持一個間隔件203之動作。使保持單元71暫時上升到層積體203S的上方後,保持單元71旋動到升降位置,保持單元70旋動到作動位置。更進一步,如圖25表示般,使保持單元70下降到基底板530中的各定位銷531的內側並且進行吸附,層積體203S的最上層的間隔件203被保持單元71保持。之後,使保持單元70上升,藉此,僅保持1個最上段的間隔件203。
保持單元70旋動到升降位置後,如圖26表示般,保持單元70上升到容器主體部201的高度。如圖27A表示般,保持單元70旋動到作動位置,更進一步,以下降的方式間隔件203被移載到容器主體部201上。同時,基板搬運機器人20從裝載埠3上的容器100取出基板W。接著,把已取出的基板W交接到對準器40。基板W藉由對準器40被定心。定心過的基板W,係藉由基板搬運機器人20從對準器40取出,如圖27B表示般,基板搬運機器人20把基板W移載到載置在容器主體部201的間隔件203上。
以後,藉由同樣的程序,間隔件203利用保護材搬運機器人7從載置部51c移載到容器主體部201,基板W利用基板搬運機器人20從容器100經由對準器40移載到容器主體部201,在容器主體部201形成間隔件203與基板W的層積體。在本實施方式中,之後,作業者把容器主體部201從保護材搬運裝置5取出,把蓋殼202安裝到容器主體部201,藉此,圓片堆疊容器200的裝載完畢。但是,並不特別限定於該實施方式,也可以在保護材搬運裝置5本身,設置自動把蓋殼202安裝到容器主體部201的機構。該情況下,裝載完畢的圓片堆疊容器200從保護材搬運裝置5取出。
尚且,與卸載的情況同樣,於圖23A~圖24所示的層積體203S的總括搬運中,也可以不總括搬運全部的間隔件203,而是分成複數次來總括搬運。而且,在該總括搬運之際,也可以不從容器主體部201上搬運全部的間隔件203到載置部51c,而是在容器主體部201殘留一個間隔件203。
<接觸式圓片堆疊容器>
本實施方式的保護材搬運裝置5,係除了上述的非接觸式的圓片堆疊容器200以外,也可以對應接觸式的圓片堆疊容器。圖28為接觸式的圓片堆疊容器也就是容器300的說明圖,為其剖視圖。容器300為中空體,其係包含:容器主體部301、以及作為容器主體部301的蓋之蓋殼302。交互層疊了保護材也就是片狀物303與基板W之層積體被收容到容器300內。該層積體被載置在容器主體部301上,藉由容器主體部201的周圍壁規範制約往徑方向的移動。在容器300的底部與頂部設有緩衝304。
片狀物303乃是整個面接觸到鄰接的基板W之間隔件,例如為紙製。片狀物303具有沿基板W的形狀之圓形形狀,而且,直徑比基板W大。
<對片狀物之對應>
保護材搬運裝置5係在進行容器300的卸載、裝載之際,以交換或者是拆卸安裝一部分的零件的方式,可以對應片狀物303或容器300。
(保持單元的交換)
在對應片狀物303的情況下,把保持單元71交換成對應片狀物303的保持之保持單元74。圖29為保持單元71的交換構造的說明圖,圖30為保持單元74的說明圖。尚且,保持單元70不用於片狀物303的搬運。為此,片狀物303的搬運之際,保持單元70沒有必要特別取下,但是也可以是先構成可以取,來可以進行取下。
本實施方式中的臂構件7220係如已記述般,為根部側構件7220a與末端側構件7220b之二構件構成,連接成可以相互自由拆卸安裝。圖29係表示分離了根部側構件7220a與末端側構件7220b之狀態。於根部側構件7220a形成定位部7220c。在本實施方式的情況下,定位部7220c形成凹部狀,於其內周圍壁與底壁,嵌合末端側構件7220b的端部7220e,藉此,定位根部側構件7220a與末端側構件7220b。端部7220e具有與定位部7220c的形狀吻合的形狀。於定位部7220c形成螺絲孔,藉由複數個螺栓V固定根部側構件7220a與末端側構件7220b。
說明有關保持單元74。保持單元74具備:在Z方向具有厚度的板狀之矩形的基座構件740、以及從基座構件740延伸出成放射狀之複數個支撐構件741。在本實施方式的情況下,支撐構件741設有6個。於各支撐構件741的末端支撐吸附部742。本實施方式的吸附部742乃是連接到未圖示的負壓源,從其下端的開口吸引空氣之噴嘴構件。6個吸附部742係為了吸附片狀物303的頂面,配置在比片狀物303還小口徑的假想圓上。尚且,吸附部742的數目也可以是6個以外者。而且,作為片狀物303的保持方式,也可以是吸附以外的保持方式(例如,利用白努利效應或康達效應的夾盤等)。
安裝有保持單元74的末端構件7220b’具有曲柄形狀。末端構件7220b’的端部7220e’具有與定位部7220c吻合的形狀,與末端側構件7220b同樣,藉由複數個螺栓V固定根部側構件7220a與末端側構件7220b’。
保持單元71係作為與末端構件7220b一體的臂構件,構成一個交換單元。而且,保持單元74係作為與末端構件7220b’一體的臂構件,構成一個交換單元。
於安裝有保持單元71的末端構件7220b及安裝有保持單元74的末端構件7220b’,分別設有感測器7223、7223’以及連接有感測器7223、7223’的訊號線之中繼連接器7224。感測器7223、7223’係透過支架7223a、7223a’被支撐在末端側構件7220b、7220b’。感測器7223、7223’乃是檢測根部側構件7220a是否與末端側構件7220b或是7220b’連接,亦即,檢測是否安裝著保持單元71或是保持單元74之感測器。在本實施方式的情況下,感測器7223、7223’乃是檢測設在根部側構件7220a的被檢測片7220d之光感測器(光斷續器)。
中繼連接器7224包含:連接含有感測器7223、7223’之各種感測零件的訊號線之複數個連接部C1、以及連接有電性連接中繼連接器7224與控制器8e之線束之連接部C2。各連接部C1的各端子、以及連接部C2的各端子係在內部電性連接。連接部C1包含:連接有檢測保持單元71的安裝之感測器7223的訊號線之連接部、以及連接檢測保持單元74的安裝之感測器7223’的訊號線之連接部;各感測器7223、7223’的檢測結果係從連接部C2之不同的端子輸出到控制器8e。
(容器的接合器)
在把容器300作為卸載、裝載的對象之情況下,把容器主體部301透過接合器528載置到載置裝置52。接合器528安裝到載置裝置52的升降床臺522。圖31為載置裝置52的升降床臺522與接合器528的立體圖。
接合器528係整體為矩形的板狀的構件。於接合器528的底面形成與銷522a卡合的卡合部(未圖示),藉由該卡合部與銷522a的卡合來定位接合器528。於接合器528的頂面,設有把容器主體部301定位到接合器528之複數個定位構件528a。
而且,於接合器528,設有複數個感測器掣子528b。感測器掣子528b被支撐成可移動在Z方向,而且,把接合器528貫通在Z方向。感測器掣子528b配置在與升降床臺522的感測器522b對應的位置。載置容器主體部301到接合器528上的話,藉由容器主體部301的自重,感測器掣子528b往下方擠出,感測器522b成為ON狀態。亦即,透過感測器掣子528b,感測器522b可以檢測容器主體部301是否載置到接合器528上。藉由感測器522c檢測接合器528對升降床臺522的安裝。
(片狀物的接合器)
在本實施方式的情況下,不再利用片狀物303,於卸載之際廢棄。在裝載之際,重新供給片狀物303。為此,於載置裝置53,安裝作為片狀物303的盒匣之接合器534。圖32為載置裝置53與接合器534的立體圖。
接合器534具備:載置片狀物303的層積體之基底板534a、以及立設在基底板534a並從外側導引片狀物303的層積體之複數個導引構件534b。於基底板534a,形成用於與載置裝置53的定位銷531卡合並且防止干涉之缺口534a’,接合器534藉由定位銷531相對於載置裝置53被定位。接合器534的安裝藉由感測器532來檢測。
(控制器的輸入埠)
如後述,在本實施方式中,自動判定保持單元70、74的安裝,接合器528、534的拆卸安裝。為此,於控制器8e的輸入埠,分配輸入這些的檢測結果的埠。圖33為輸入埠的說明圖。
在圖33的例子中,例示輸入埠P1~P5。例如,輸入埠P1為輸入感測器7223的檢測結果的埠,輸入埠P2為輸入感測器7223’的檢測結果的埠,輸入埠P3、P4為輸入載置部51a、51b的各感測器522c的檢測結果的埠,輸入埠P5為輸入感測器532的檢測結果的埠。
(卸載與裝載)
說明有關容器300的卸載、裝載。首先,說明有關卸載。
容器300的卸載係與容器200的卸載基本上相同。亦即,所謂的卸載,乃是從載置在載置部51a或是51b上(載置裝置52上)的容器主體部301之片狀物303及基板W的層積體,一個一個交互取出片狀物303與基板W之動作。但是,不再利用片狀物303而是廢棄。參閱圖34、圖35說明該動作。
圖34係表示從載置部51a上的容器主體部301取出片狀物303之動作。容器主體部301係透過接合器528載置到載置裝置52上。於保護材搬運機器人7,取代保持單元71安裝著保持單元74。在從容器主體部301取出片狀物303之際,保持單元74藉由移動單元72旋動到作動位置而位置到容器主體部301的上方後,下降並吸附保持最上層的片狀物303。
接下來保持單元74係如圖34表示般上升,遷移到廢棄保持中的片狀物303之動作。片狀物303係經由作業者被投入到預先設置在搬運系統1內的廢棄箱90。於廢棄箱90的上側,經由作業者預先設置把被投入的片狀物303導引到廢棄箱90之導引板(滑槽)91。
從圖34的狀態,保持了片狀物303的保持單元74,係藉由移動單元72旋動到升降位置後而下降。如圖35表示,把保持單元70旋動到作業位置,而打開了保持單元74的下方空間後,保持單元74解除片狀物303的保持。片狀物303自然落到導引板91上,被回收到廢棄箱90。
接著,說明有關裝載。容器300的裝載也與容器200的裝載基本上相同。亦即,所謂的裝載,乃是把片狀物303與基板W一個一個交互積載到載置部51a或是51b上(載置裝置52上)的容器主體部301之動作。但是,片狀物303係供給新的片狀物。參閱圖36說明該動作。
於載置裝置53透過接合器534準備新穎的片狀物303的層積體303S。於保護材搬運機器人7,藉由保持單元74,從層積體303S取出最上層的片狀物303,搬運到容器主體部301。保持單元74藉由移動單元72旋動到作動位置而位置到層積體303S的上方後,下降並吸附保持最上層的片狀物303。接下來保持單元74系如圖36表示般上升,遷移到把保持中的片狀物303搬運到容器主體部301之動作。片狀物303之往容器主體部301的搬運係與間隔件203的搬運的情況同樣。
經由以上,根據本實施方式,可以對應到接觸式及非接觸式的各圓片堆疊容器,來進行卸載/裝載。
<零件的整合性的自動判定>
如上述,在本實施方式的保護材搬運裝置5中,經由一部分的零件的交換、拆卸安裝,可以對應到接觸式及非接觸式的各圓片堆疊容器。作業者進行零件的交換、拆卸安裝的緣故,所使用的圓片堆疊容器的種類(換言之保護材的種類)與零件尚未整合的話,是無法適切進行卸載/裝載的動作。在此,在本實施方式中自動判定零件的整合性。圖37為表示其處理例的流程,表示控制保護材搬運裝置5的控制器8e所執行的處理例。
圖37係表示作業者事前設定保護材搬運裝置5的動作模式之處理例。在S1受理動作模式的設定。設定方法是使用哪種方法皆可,但是在本實施方式中,於資訊顯示裝置6顯示動作模式的種類,作業者可以做選擇。於圖37也圖示其表示例。在圖示之例中,表示4種類的動作模式。
「環:裝載」為進行對非接觸式的圓片堆疊容器200之裝載的動作模式,保護材的種類為間隔件203。「環:卸載」對進行對非接觸式的圓片堆疊容器200之卸載的動作模式,保護材的種類為間隔件203。「片狀物:裝載」為進行對接觸式的圓片堆疊容器300之裝載的動作模式,保護材的種類為片狀物303。「片狀物:卸載」為進行對接觸式的圓片堆疊容器300之卸載的動作模式,保護材的種類為片狀物303。
作業者選擇任意一個動作模式的話,在S2進行安裝判定。在此,判定與保護材的種類對應之保護材搬運機器人7、載置部51a~51c的構成零件的拆卸安裝。具體方面,於保護材搬運機器人7,判定是安裝著保持單元71或是保持單元74。於載置部51a、51b,判定接合器528的拆卸安裝。於載置部51c,判定接合器534的拆卸安裝。這些判定,係可以從被輸入到輸入埠P1~P5之各感測器7223、7223’、522c、522c、532的檢測結果來進行。
在S3中,對照在S1選擇出的動作模式與S2的安裝判定的結果來判定其整合性。各動作模式與正常的零件的狀態的關係係如以下般。
○「環:裝載」
安裝保持單元71,不安裝接合器528、534
○「環:卸載」
安裝保持單元71,不安裝接合器528、534
○「片狀物:裝載」
安裝保持單元74,安裝接合器528、534
○「片狀物:卸載」
安裝保持單元74,安裝接合器528、534
尚且,於「片狀物:卸載」模式中,也可以不問接合器534的拆卸安裝。
在S4中,根據S3的整合性判定的結果是否為整合,來分歧之後的處理。在整合中的情況下前進到S5,許可選擇出的動作模式下的保護材搬運裝置5的動作。之後,經由作業者的動作開始指示,開始選擇出的動作模式下的搬運動作等。在尚未整合的情況下前進到S6,報知了作業者對零件的拆卸安裝有誤,並且,禁止選擇出的動作模式下的保護材搬運裝置5的動作。報知例如可以以顯示或音聲的方式來進行。在顯示的情況下,也可以顯示到資訊顯示裝置6。
經由以上的處理,一方面對應到圓片堆疊容器及保護材的種類,另一方面可以防止對應到動作模式的零件的拿取錯誤。尚且,在本實施方式中,在使用片狀物303的情況下,先使用接合器528、534,預設的保護材的種類作為間隔件203。但是,把預設的保護材作為片狀物303,在進行間隔件203,亦即,非接觸式的圓片堆疊容器的卸載/裝載之情況下也可以是安裝接合器之構成。
而且,在圖37的例子中,判定了選擇出的動作模式的種類與零件的拆卸安裝之間的整合性,但是,也可以判定零件間的整合性。圖38為表示其處理例的流程,為控制器8e所執行的處理例。
在S11中,判定是否為預定好的判定時序。判定時序為例如有卸載或裝載的動作開始指示之情況,或系統的啟動時等。
在S12中,進行安裝判定。為與圖37的S2相同的處理。在S13中,進行零件間的整合性判定。在此,例如,決定整合以下的組合。
○安裝保持單元71,不安裝接合器528、534
○安裝保持單元74,安裝接合器528、534
例如,在檢測到保持單元71的安裝,也檢測到了接合器528的安裝之情況下,判定為尚未整合。而且,例如,在檢測到保持單元74的安裝,沒有檢測到接合器528的安裝之情況下,判定為不整合。
在S14中,根據S13的整合性判定的結果是否為整合,來分歧之後的處理。在整合中的情況下前進到S15,許可保護材搬運裝置5的動作。在尚未整合的情況前進到S16,進行與圖37的S6同樣的處理。
<搬運系統之另一配置之例>
(保持單元與移動單元)
在上述實施方式中,例示出了以保持單元70與保持單元71,把上下移動這些之移動單元720予以共通之保護材搬運裝置5,也可以把移動單元720個別設置在保持單元70、71。圖39係表示其中一例。圖39之例係分別把機器人收容部5B配置在棚架部5A的X方向的兩側。
於2個機器人收容部5B的其中一方設有:保持單元70、進行該旋動之移動單元721、以及進行移動單元721的上下的移動之移動單元720,於另一方設有:保持單元71、進行該旋動之移動單元722、以及進行移動單元722的上下的移動之移動單元720。在該例中,不僅是獨立旋動移動單元70、71,也可以獨立升降。接著,保持單元70、71可以接駁(access)到共通的棚架部5A內的間隔件203。
(載置部的配置)
在上述實施方式中,相對於載置部51a及51b,把載置部51c配置在下方,但是,也可以把載置部51c配置在載置部51a、51b的上方。而且,也可以把載置部51c配置在載置部51a與載置部51b之間。
而且,也可以把載置部51c,相對於載置部51a、51b偏置配置在橫方向。圖40、圖41係表示其中一例。
圖40係表示把載置部51c,在保持單元70、71的旋動範圍內,相對於載置部51a、51b偏置在橫方向之例,載置部51c的配置以虛線來圖示。有關載置部51c之相對於載置部51a、51b之上下方向的偏置,係可以把載置部51c配置成與其中一方的載置部51a、51b為相同高度,也可以把載置部51c配置成與任一的載置部51a、51b為相異的高度。
以兩點鍊線圖示之載置部51c,係位於保持單元70、71的升降位置中的上下的移動軌道上。但是,載置部51c的橫方向的配置不限於此。例如,把繞旋動中心軸Z1之保持單元70、71之可以旋動範圍決定為以單點鏈線表示的軌道R的話,可以適宜選擇軌道R上的任意的位置,對應到選擇出的位置來可以設計周邊的構成。也在該情況下,有關載置部51c之相對於載置部51a、51b之上下方向的偏置,係可以把載置部51c配置成與其中一方的載置部51a、51b為相同高度,也可以把載置部51c配置成與任一的載置部51a、51b為相異的高度。
圖41之例係表示以相同的高度橫排配置載置部51a~51c之例。在圖示的例子中,把載置部51a~51c橫排配置在X方向,在載置部51a無載置部51b之間配置載置部51c。但是,載置部51a~51c的配置方向或配置順序不限於此。
在圖41的例子中,更具備可以讓保護材搬運機器人7往復在X方向之構成(移動單元723)。移動單元723乃是沿延伸在X方向之軌道狀的一對導引構件723a移動在X方向之行走體。移動單元723的驅動機構可以利用馬達等的驅動機構、以及滾珠螺桿機構或皮帶傳動機構等的驅動力傳遞機構來構成。
移動單元720被搭載在移動單元723,而且,移動單元721、722藉由移動單元720來升降。因此,保持單元70、71可以做移動單元721、722所致之旋動、移動單元720所致之升降、以及移動單元723所致之X方向的水平移動。圖41中的保持單元70、71的位置相當於上述實施方式的升降位置,為一對導引構件723a的上方的位置。圖41的例中的保持單元70、71的作動位置,乃是從圖41圖示的位置旋動90度逆時針旋轉之載置部51a、51b或是51c的上方的位置。
也在圖40或圖41圖示的配置中,可以與上述實施方式同樣,進行卸載、裝載。
以上,說明了有關發明的實施方式,但是,發明並不被限制在上述的實施方式,在發明的要旨的範圍內,可以做種種的變形、變更。從而,為了公開表示本發明的範圍,附有以下的請求項。
1:搬運系統
2:基板搬運裝置
3:裝載埠
4:校準裝置
5:保護材搬運裝置
6:資訊顯示裝置
7:保護材搬運機器人(搬運機器人)
8:控制裝置
20:基板搬運機器人
21:水平多關節機構
22:基座單元
23:行走單元
24:導引構件
31:壁體
32:搭載部
33:開閉機構
40:定心單元
44:夾盤
50:框
52:載置裝置
53:載置裝置
70:保持單元
71:保持單元
72:移動單元
73:移動單元
74:保持單元
90:廢棄箱
91:導引板
100:容器
101:容器本體
102:開口部
103:蓋
200:容器
201:容器主體部
202:蓋
203:保護材(間隔件)
300:容器
301:容器主體部
302:蓋
303:片狀物
304:緩衝
311:孔部
321:裝卸板
330:埠門
331:移動機構
520:基底板
521:導引構件
522:升降床臺
523:升降機構
524:感測器
525:反射鏡
526:感測器
527:感測器
528:接合器
530:基底板
531:定位銷
532:感測器
533:感測器
534:接合器
700:基底構件
701:支撐構件
702:吸附部
710:基底構件
711:支撐構件
712:位移單元
713:卡合構件
720:移動單元
721:移動單元
722:移動單元
723:移動單元
740:基底構件
741:支撐構件
742:吸附部
7130:主體部
7131:卡合部
7200:柱構件
7201:導引溝
7202:滑塊
7203:基底構件
7204:基底構件
7205:驅動單元
7210:臂構件
7211:旋動支撐部
7212:驅動單元
7220:臂構件
7221:旋動支撐構件
7222:驅動單元
7223:感測器
7224:中繼連接器
201a:凹部
201b:卡合部
201c:凸部
203a:凹部
203b:凸部
203c:載置面
203d:頂面
203S:層積體
21a:把持部
2a:內部空間
303S:層積體
50a:棚架構件
50b:棚架構件
50c:棚架構件
51a:載置部
51b:載置部
51c:載置部
520a:把手
520b:導引構件
522a:銷
522b:感測器
522c:感測器
525a:支架
528a:定位構件
528b:感測器掣子
530a:開口部
533a:支架
534a:基底板
534a’:缺口
534b:導引構件
5a:門
5a’:窗
5B:機器人收容部
5b:門
5b’:窗
5c:門
5c’:窗
710a:懸吊軸
7130a:外周圍部
7220a:根部側構件
7220b:末端側構件
7220b’:末端構件
7220c:定位部
7220d:被檢測片
7220e:端部
7220e’:端部
7223’:感測器
7223a:支架
7223a’:支架
723a:導引構件
8a:主機控制器
8b:控制器
8c:控制器
8d:控制器
8e:控制器
A1:箭頭
AY:箭頭方向
AZ:箭頭方向
C1:連接部
C2:連接部
D:箭頭
P1:輸入埠
P2:輸入埠
P3:輸入埠
P4:輸入埠
P5:輸入埠
R:軌道
V:螺栓
W:基板
Z1:旋動中心軸
[圖1]有關本發明的一實施方式之搬運系統的立體圖。
[圖2]表示圖1的搬運系統的內部的配置之俯視圖。
[圖3]裝載埠的說明圖。
[圖4A]容器的說明圖。
[圖4B]容器的說明圖。
[圖5]間隔件搬運裝置的說明圖。
[圖6]容器載置裝置的說明圖。
[圖7]容器載置裝置的說明圖。
[圖8]保護材載置裝置的說明圖。
[圖9]保護材搬運機器人的說明圖。
[圖10]保持單元的說明圖。
[圖11]保持單元的說明圖。
[圖12A]圖11的保持單元所致之保持動作的說明圖。
[圖12B]圖11的保持單元所致之保持動作的說明圖。
[圖13A]圖11的保持單元所致之保持動作的說明圖。
[圖13B]圖11的保持單元所致之保持動作的說明圖。
[圖14]圖1的搬運系統的控制裝置的方塊圖。
[圖15A]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖15B]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖16A]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖16B]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖17]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖18]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖19]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖20]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖21]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖22]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖23A]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖23B]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖24]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖25]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖26]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖27A]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖27B]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖28]容器的說明圖。
[圖29]保護材搬運機器人的一部分的爆炸圖。
[圖30]保持單元的說明圖。
[圖31]接合器的說明圖。
[圖32]接合器的說明圖。
[圖33]控制器的輸入埠的說明圖。
[圖34]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖35]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖36]圖1的搬運系統的動作說明圖。
[圖37]表示控制器的處理例之流程圖。
[圖38]表示控制器的另一個處理例之流程圖。
[圖39]表示搬運系統之另一配置之例之俯視圖。
[圖40]表示搬運系統之另一配置之例之俯視圖。
[圖41]表示搬運系統之另一配置之例之俯視圖。
Claims (18)
- 一種搬運裝置,具備: 搬運手段,其係在形成保護材與基板的層積體在容器內之捆包動作、及從容器內的前述層積體交互取出前述保護材與前述基板之解捆動作的各動作之際,搬運前述保護材; 保護材載置部,其係積載前述保護材; 容器載置部,其係載置前述容器的容器主體部; 控制手段,其係以與前述保護材的種類相對應之複數個動作模式中所選擇出的動作模式,控制前述搬運手段; 安裝判定手段,其係對應到前述保護材的種類而被選擇,而且,判定構成前述搬運手段、前述保護材載置部及前述容器載置部之各零件的拆卸安裝;以及 整合性判定手段,其係判定選擇出的前述動作模式與前述安裝判定手段的判定結果之整合性。
- 如請求項1的搬運裝置,其中, 前述保護材的種類為片狀物與框狀的間隔件; 前述搬運手段,具備: 第一保持手段,其係保持一個前述間隔件;以及 第二保持手段,其係選擇性安裝作為構成前述搬運手段之前述零件; 前述第二保持手段, 乃是保持前述片狀物之片狀物保持手段,亦或是, 總括保持層疊之複數個前述間隔件之間隔件保持手段; 前述安裝判定手段係判定是安裝著前述片狀物保持手段或是前述間隔件保持手段。
- 如請求項2的搬運裝置,其中, 前述間隔件保持手段,具備: 複數個保持構件,其係從內側保持已層疊之前述間隔件 變位手段,其係支撐前述複數個保持構件,並自由擴張收縮地位移 各個前述保持構件,係在其下端,具備設成延伸到外側之鍔狀的卡合部。
- 如請求項3的搬運裝置,其中, 前述間隔件具有圓環形狀; 前述複數個保持構件,係以等間隔被配置在前述間隔件的圓周方向; 各個前述保持構件包含沿已層疊的前述間隔件的內周圍面而抵接之外周圍部,在該外周圍部的下端具有前述卡合部。
- 如請求項2的搬運裝置,其中, 前述搬運手段,包含: 第一移動單元,其係支撐前述第一保持手段成自由旋動; 第二移動單元,其係支撐前述第二保持手段成自由旋動;以及 第三移動手段,其係一起移動前述第一移動單元及前述第二移動單元; 前述第三移動手段係使前述第一移動單元及前述第二移動單元上下移動; 前述第一移動單元及前述第二移動單元係偏置在上下方向做配置,而且,各個旋動的中心軸配置在同軸上。
- 如請求項2的搬運裝置,其中, 具備第一連接手段,其係用於把檢測前述片狀物保持手段的安裝之感測器,電性連接到前述安裝判定手段; 具備第二連接手段,其係用於把檢測前述間隔件保持手段的安裝之感測器,電性連接到前述安裝判定手段; 前述安裝判定手段,係 具備被輸入有來自前述第一連接手段的電訊號之第一輸入埠、及輸入來自前述第二連接手段的電訊號之第二輸入埠,而且, 藉由前述第一輸入埠或是前述第二輸入埠中任意一個被輸入了電訊號,來判定是安裝了前述片狀物保持手段或是前述間隔件保持手段。
- 如請求項5的搬運裝置,其中, 前述第二移動單元具備定位前述第二保持手段之定位部。
- 如請求項2的搬運裝置,其中, 前述片狀物保持手段具備吸附前述片狀物的頂面之複數個吸附部。
- 如請求項2的搬運裝置,其中, 前述第一保持手段,具備: 吸附前述間隔件的頂面之複數個吸附部。
- 如請求項1的搬運裝置,其中, 前述保護材的種類為片狀物與框狀的間隔件; 具備自由裝卸的接合器,其係作為構成前述保護材載置部之前述零件; 於前述保護材載置部,在不安裝前述接合器的情況下,前述片狀物或是前述間隔件的其中一方為可以積載; 於前述保護材載置部,安裝前述接合器,藉此,前述片狀物或是前述間隔件的另一方可以積載; 前述安裝判定手段係判定前述接合器的安裝的有無。
- 如請求項1的搬運裝置,其中, 前述保護材的種類為片狀物與框狀的間隔件; 具備自由裝卸的接合器,其係作為構成前述容器載置部之前述零件; 於前述容器載置部,在不安裝前述接合器的情況下,前述片狀物用的容器主體部或是前述間隔件用的容器主體部的其中一方為可以積載; 於前述容器載置部,安裝前述接合器,藉此,前述片狀物用的容器主體部或是前述間隔件用的容器主體部的另一方可以載置; 前述安裝判定手段係判定前述接合器的安裝的有無。
- 如請求項1的搬運裝置,其中, 具備在前述整合性判定手段判定為不整合的情況下,將其予以報知之報知手段。
- 如請求項1的搬運裝置,其中, 前述控制手段,係把前述整合性判定手段判定為整合之情事作為條件,使前述搬運手段動作。
- 一種搬運裝置,具備: 控制手段,其係在形成保護材與基板的層積體在容器內之捆包動作、及從容器內的前述層積體交互取出前述保護材與前述基板之解捆動作的各動作之際,與從複數種類之中選擇出的前述保護材對應而設定動作模式; 保護材載置構件,其係與選擇出的前述保護材對應而被拆卸安裝,並載置該保護材; 容器載置構件,其係與選擇出的前述保護材對應而被拆卸安裝,並載置前述容器的容器主體部; 搬運手段,其係包含與選擇出的前述保護材對應而被選擇並保持前述保護材之臂構件,並搬運該保護材; 安裝判定手段,其係判定前述保護材載置構件及前述容器載置構件的拆卸安裝及安裝著的前述臂構件的種類;以及 整合性判定手段,其係判定前述安裝判定手段所致之前述保護材載置構件及前述容器載置構件的拆卸安裝及前述臂構件的種類的整合性。
- 一種控制方法,乃是裝置的控制方法,該裝置係在形成了保護材與基板的層積體在容器主體部後,進行披覆容器蓋殼到該容器主體部之捆包動作;其特徵為: 前述裝置,具備: 搬運手段,其係搬運前述保護材; 保護材載置部,其係積載前述保護材;以及 容器載置部,其係載置前述容器主體部; 前述控制方法,具備: 安裝判定工序,其係與前述保護材的種類對應而被選擇,而且,判定構成前述搬運手段、前述保護材載置部及前述容器載置部之各零件的拆卸安裝; 整合性判定工序,其係判定與前述保護材的種類對應而被設定的動作模式的設定與前述安裝判定工序的判定結果之整合性;以及 控制工序,其係在前述整合性判定工序中被肯定整合性時,以被設定好的前述動作模式進行前述捆包動作,控制前述裝置。
- 一種控制方法,乃是裝置的控制方法,該裝置係在形成了保護材與基板的層積體在容器主體部後,進行披覆容器蓋殼到該容器主體部之捆包動作;其特徵為: 前述裝置,具備: 保護材載置構件,其係與前述保護材的種類對應而被拆卸安裝,並載置該保護材; 容器載置構件,其係與前述保護材的種類對應而被拆卸安裝,並載置前述容器主體部;以及 搬運手段,其係包含與前述保護材的種類對應而被選擇並保持前述保護材之臂構件,搬運該保護材; 前述控制方法,具備: 安裝判定工序,其係判定前述保護材載置構件及前述容器載置構件的拆卸安裝及安裝著的前述臂構件的種類; 整合性判定工序,其係判定前述安裝判定工序所致之前述保護材載置構件及前述容器載置構件的拆卸安裝及前述臂構件的種類之整合性;以及 控制工序,其係在前述整合性判定工序中被肯定整合性時,進行前述捆包動作,控制前述裝置。
- 一種控制方法,乃是裝置的控制方法,該裝置係從收容保護材與基板的層積體之容器取下了容器蓋殼後,進行交互取出前述保護材與前述基板之解捆動作;其特徵為: 前述裝置,具備: 搬運手段,其係搬運前述保護材; 保護材載置部,其係積載前述保護材;以及 容器載置部,其係載置前述容器的容器主體部; 前述控制方法,具備: 安裝判定工序,其係與前述保護材的種類對應而被選擇,而且,判定構成前述搬運手段、前述保護材載置部及前述容器載置部之各零件的拆卸安裝; 整合性判定工序,其係判定與前述保護材的種類對應而被設定的動作模式的設定與前述安裝判定工序的判定結果之整合性;以及 控制工序,其係在前述整合性判定工序中被肯定整合性時,以被設定好的前述動作模式進行前述解捆動作,控制前述裝置。
- 一種控制方法,乃是裝置的控制方法,該裝置係從收容保護材與基板的層積體之容器取下了容器蓋殼後,進行交互取出前述保護材與前述基板之解捆動作;其特徵為: 前述裝置,具備: 保護材載置構件,其係與前述保護材的種類對應而被拆卸安裝,並載置該保護材; 容器載置構件,其係與前述保護材的種類對應而被拆卸安裝,並載置前述容器的容器主體部;以及 搬運手段,其係包含與前述保護材的種類對應而被選擇並保持前述保護材之臂構件,搬運該保護材; 前述控制方法,具備: 安裝判定工序,其係判定前述保護材載置構件及前述容器載置構件的拆卸安裝及安裝著的前述臂構件的種類; 整合性判定工序,其係判定前述安裝判定工序所致之前述保護材載置構件及前述容器載置構件的拆卸安裝及前述臂構件的種類之整合性;以及 控制工序,其係在前述整合性判定工序中被肯定整合性時,進行前述解捆動作,控制前述裝置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018-145396 | 2018-08-01 | ||
JP2018145396 | 2018-08-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202027204A TW202027204A (zh) | 2020-07-16 |
TWI723450B true TWI723450B (zh) | 2021-04-01 |
Family
ID=69231728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW108123722A TWI723450B (zh) | 2018-08-01 | 2019-07-05 | 搬運裝置及控制方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11791188B2 (zh) |
JP (1) | JP6934573B2 (zh) |
KR (1) | KR102421675B1 (zh) |
CN (1) | CN112262466B (zh) |
TW (1) | TWI723450B (zh) |
WO (1) | WO2020026645A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2019
- 2019-06-24 JP JP2020534108A patent/JP6934573B2/ja active Active
- 2019-06-24 KR KR1020207033368A patent/KR102421675B1/ko active IP Right Grant
- 2019-06-24 WO PCT/JP2019/024918 patent/WO2020026645A1/ja active Application Filing
- 2019-06-24 CN CN201980037862.2A patent/CN112262466B/zh active Active
- 2019-07-05 TW TW108123722A patent/TWI723450B/zh active
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2020
- 2020-10-14 US US17/069,998 patent/US11791188B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
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US11791188B2 (en) | 2023-10-17 |
JP6934573B2 (ja) | 2021-09-15 |
WO2020026645A1 (ja) | 2020-02-06 |
CN112262466B (zh) | 2023-04-14 |
TW202027204A (zh) | 2020-07-16 |
KR102421675B1 (ko) | 2022-07-15 |
JPWO2020026645A1 (ja) | 2021-05-13 |
KR20200143485A (ko) | 2020-12-23 |
CN112262466A (zh) | 2021-01-22 |
US20210028043A1 (en) | 2021-01-28 |
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