TWI711878B - 大型光罩 - Google Patents

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TWI711878B
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low
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今野冬木
三好建也
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日商大日本印刷股份有限公司
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    • G—PHYSICS
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL2025258A (en) * 2019-05-02 2020-11-05 Asml Netherlands Bv A patterning device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW557618B (en) * 2001-05-31 2003-10-11 Nichia Corp Semiconductor laser device
WO2007125875A1 (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Asahi Glass Co., Ltd. ブランクス、ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ
JP2008090254A (ja) * 2006-09-04 2008-04-17 Geomatec Co Ltd フォトマスク用基板及びフォトマスク並びにその製造方法
JP2016188997A (ja) * 2015-03-27 2016-11-04 Hoya株式会社 フォトマスクブランク及びこれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4178403A (en) * 1977-08-04 1979-12-11 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Mask blank and mask
JPH11125896A (ja) * 1997-08-19 1999-05-11 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクブランクス及びフォトマスク
JP4088742B2 (ja) 2000-12-26 2008-05-21 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランクス、フォトマスク及びフォトマスクブランクスの製造方法
JP4389440B2 (ja) * 2002-10-29 2009-12-24 凸版印刷株式会社 転写マスク及びその作製方法
WO2004070472A1 (ja) * 2003-02-03 2004-08-19 Hoya Corporation フォトマスクブランク及びフォトマスク、並びにフォトマスクを用いたパターン転写方法
JP2007156365A (ja) * 2005-12-09 2007-06-21 Canon Inc 反射防止膜、光学素子、光学系、露光装置及びデバイス製造方法
US8198118B2 (en) * 2006-10-31 2012-06-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Method for forming a robust mask with reduced light scattering
JP2008311498A (ja) * 2007-06-15 2008-12-25 Orc Mfg Co Ltd 反射型露光装置
WO2008139904A1 (ja) * 2007-04-27 2008-11-20 Hoya Corporation フォトマスクブランク及びフォトマスク
JP2009229868A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Hoya Corp グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法
KR20090110240A (ko) * 2008-04-16 2009-10-21 지오마텍 가부시키가이샤 포토마스크용 기판, 포토마스크 및 그의 제조방법
KR20110115058A (ko) * 2010-04-14 2011-10-20 주식회사 에스앤에스텍 포토마스크 블랭크, 포토마스크 및 패턴 형성 방법
CN110083008A (zh) * 2011-10-21 2019-08-02 大日本印刷株式会社 大型相移掩模及大型相移掩模的制造方法
KR101473163B1 (ko) * 2013-07-26 2014-12-16 주식회사 에스앤에스텍 플랫 패널 디스플레이용 블랭크 마스크 및 포토 마스크
JP6106579B2 (ja) * 2013-11-25 2017-04-05 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク及びパターン転写方法
JP6080915B2 (ja) * 2014-08-25 2017-02-15 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
JP6594742B2 (ja) * 2014-11-20 2019-10-23 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR101846065B1 (ko) * 2015-03-27 2018-04-05 호야 가부시키가이샤 포토마스크 블랭크 및 이것을 사용한 포토마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
KR20160129789A (ko) * 2015-04-30 2016-11-09 주식회사 에스앤에스텍 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크 및 포토마스크
JP6352224B2 (ja) * 2015-07-17 2018-07-04 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
CN107848946A (zh) * 2015-07-23 2018-03-27 三菱瓦斯化学株式会社 新型(甲基)丙烯酰基化合物及其制造方法
JP6451561B2 (ja) * 2015-09-03 2019-01-16 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク
JP7125835B2 (ja) * 2016-04-05 2022-08-25 旭化成株式会社 ペリクル
JP6891099B2 (ja) * 2017-01-16 2021-06-18 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW557618B (en) * 2001-05-31 2003-10-11 Nichia Corp Semiconductor laser device
WO2007125875A1 (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Asahi Glass Co., Ltd. ブランクス、ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ
JP2008090254A (ja) * 2006-09-04 2008-04-17 Geomatec Co Ltd フォトマスク用基板及びフォトマスク並びにその製造方法
JP2016188997A (ja) * 2015-03-27 2016-11-04 Hoya株式会社 フォトマスクブランク及びこれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

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Publication number Publication date
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