TWI701097B - 用於以聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板之切割方法及其系統 - Google Patents

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Abstract

本發明包含藉由雷射剝蝕製程以雷射切單聚合物樹脂鑄模化合物基板成封裝或晶片之系統及方法。用來夾住基板的金屬夾具包含溝槽，以在切割期間使雷射光束穿透。內建的管道允許水在夾具周圍的基座中循環，以在切割期間冷卻基板。雷射光束能夠伴隨壓縮的氣體或空氣穿過切割噴嘴，以冷卻基板並移除碎屑。在切割製程中能夠使用脈衝雷射光束，從而可以實現以不同速度及雷射參數之多重通過組合。此允許了高速下的單次通過的單元切割。

Description

用於以聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板之切割方法及其 系統
本發明係關於積體電路晶片製造，更具體地，係關於藉由雷射剝蝕製程來切割聚合物樹脂或基板成積體電路之方法。
積體電路(IC)，亦稱為微晶片或晶片，為在諸如矽之小且平坦的半導體材料上之電路組。大量的微型電晶體之整合產生了相較於以離散的電子組件所構成的電路更小、更便宜以及更快速的電路。積體電路被運用於無數的電子設備，包括電腦、行動電話及其他數位家用器具。
積體電路相較於離散電路的主要優點為價格及其性能。相較於離散電路，封裝的積體電路大幅減少了所使用的材料。通常藉由光刻法(photolithography)以一個單元的形式來印刷積體電路，而離散電路一次構成一個電晶體。因為其尺寸小且靠近，能夠快速切換積體電路的組件且消耗相對較少的功率。然而，設計積體電路及製造所需的光罩是昂貴的。此高初始成本意味著積體電路僅適用於高產量。
半導體設備製造是用於製造積體電路的製程。它通常開始於切割由諸如矽的半導體材料所製成的晶圓(wafer)(即基板)。此後，能夠藉由一系列光刻及化學製程步驟來生產積體電路。
晶粒(die)製備是製備用於積體電路(IC)封裝及測試之晶圓的製程。晶粒製備通常包括晶圓安裝及晶圓分割(dicing)。在晶圓切割成分離的晶粒之前，執行晶圓安裝。在此步驟期間，晶圓安裝在附著於環的塑膠線帶上。分割、切割(cutting)或切單(singulation)包括了將晶圓切割成較小的部分。切割包含有多個相同積體電路的晶圓，使得各個晶粒的每一個包含那些電路中的一個。能夠使用各種方法及設備以從半導體晶圓中切單個別的半導體晶粒。通常，稱為劃線或切割的技術用於沿著劃線柵格用鑽石切割輪或晶圓鋸切割晶片。
傳統的切單方法使用鑽石鋸切晶圓成單獨的晶粒。然而，環氧鑄模化合物封裝(epoxy molding compound packages)的鑽石鋸切可能是有問題的。邊緣碎屑、邊緣裂縫、銅污跡、邊緣銅毛刺及焊料橋接(solder bridging)是常見問題。使用水或濕化學漿料可以幫助避免這些問題中的一些問題。然而，可能會有另外的機械鋸切期間的洩漏問題。其他問題包括機械鋸的高成本，鋸子磨損導致不穩定的晶片尺寸以及慢的切割速度。
鑽石鋸切的另一個限制是，它僅適用於切割直線。而且，為了允許切割工具的對準及寬度，每個劃線柵格必須具有相對大的寬度。這消耗了半導體晶圓的一大部分。另外，切割製程是慢的，在半導體晶圓上劃所有劃線柵格通常需要超過一個小時。
研磨噴水器(abrasive water jet，AWJ)技術提供一些超越傳統方法的改進。濕化學漿料被迫通過可用於切割材料半導體晶片的小孔。但是，AWJ 也有缺點。它通常是一個很慢的製程。通常，AWJ具有每小時小於1000個單位(UPH)的限制，甚至當僅用於彎曲切割時。它還需要以洗滌及乾燥的形式進行後處理。而雖然水可以過濾及回收，但強力的AWJ動作使得石榴石的砂礫尺寸變小，所以它無法被回收利用。其他問題包括高費用及需要給予操作員的聽覺保護/隔離的高噪音水平。
雷射對晶粒切單及標記晶圓及封裝提供了改進的方法。雷射已經成為用於切單IC封裝的機械方法之有吸引力的替代方案，例如方形扁平無引腳(Quad-Flat No-leads，QFN)、細球柵陣列(Fine-Pitch Ball Grid Array，FBGA)及微安全數位(SD)或微安全數位(SD)(MMC)以及晶片直接接觸(Direct Chip Attach，DCA)型封裝。此通常被稱為雷射鋸切的技術特別適用於波狀封裝(contoured package)以及適用於表面安裝(surface mount)產品。在後者中，為了最大產量及最小占晶面積(footprint)，雷射進行窄切割的能力允許了電子設備得以非常靠近邊緣放置。因為工件上沒有工具磨損或機械應力，所以基於雷射的切單是一種「非接觸製程」。此外，雷射切割可以產生一致的成果。然而，為了有效，雷射技術必須考慮諸如速度、成本及邊緣粗糙度。
雷射產生的熱通常是一個問題。在雷射切單中，來自雷射熱的熱效應存在顯著的問題，包括邊由噴射材料引起的緣熱損傷、材料燃燒及剝蝕(ablation)。使用超短脈衝皮秒(ps)雷射、飛秒(fs)雷射或紫外(UV)雷射來切割封裝通常不具有成本效益，這是由於它們的高成本。而且，由於它們的低功率，飛秒雷射、皮秒雷射及UV雷射都不能滿足切割工業生產量的需求。
因此，對於以聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板，需要一種利用雷射而得以克服這些限制的改進的雷射切割系統及方法。該方法應該提供相較於傳統技術花費更少的時間並且保持更窄的劃線之均勻切單。
提供以下總結以便於理解所揭露實施例特有的一些創新特徵，並且不旨在作為全部的描述。藉由整體地考慮全部說明書、申請專利範圍、圖式及摘要可以獲得對本文揭露的實施例的各個態樣的全面理解。
實施例包括藉由雷射剝蝕製程來切單聚合物樹脂化合物成封裝的系統。該系統可以包括緩衝站、雷射及用於夾住聚合物樹脂化合物的夾具。可以利用真空壓力使得夾具得以夾住聚合物樹脂化合物。雷射可以是具有大於及包括10kHz的重複率之脈衝雷射。緩衝站可以包括加熱元件，選擇性地配合使用氣體注射器來發射快速冷卻氣體。進一步地，壓縮空氣或氣體源在雷射的方向用力推進壓縮的空氣或氣體。
雷射沿著嵌入夾具中的溝槽切割，並且透過底板並搭配具有內部管道的系統，藉由使液體循環來冷卻夾具。溝槽可以具有大約1至3厘米的深度及大於或等於1毫米的寬度。在其他的設計中，溝槽具有大於或等於0.5mm的寬度。
實施例還包括藉由雷射切割製程來切單聚合物樹脂化合物成封裝的方法。該方法包括以下步驟：(a)裝載聚合物樹脂化合物到切割夾具上，(b)啟動真空以固定聚合物樹脂化合物到切割夾具，(c)啟動脈衝雷射以沿 著嵌入在切割夾具內的一系列溝槽來切割聚合物樹脂化合物以及(d)使循環液體通過切割夾具的底板以冷卻聚合物樹脂化合物。
該方法可以包含在緩衝站預熱基板以及選擇性地在將它裝載到切割夾具之前注入快速冷卻氣體的附加步驟。加壓的空氣或氣體可以用於冷卻剝蝕區域及/或去除碎屑。在切割後，封裝可以被送到清潔站。
前言
本發明的第一態樣是藉由雷射剝蝕製程來雷射切單聚合物樹脂鑄模化合物封裝或基板成封裝或晶片的系統及方法。
本發明的第二態樣是一種以不同速度及雷射參數(即連續切割)使用脈衝雷射光束以及通過之多重組合(multiple combinations of passes)之雷射切割方法。
本發明的第三態樣是一種使用多重連續的切割的雷射切割方法，因為多重通過而提供了高產量及高邊緣品質的最佳化組合。
本發明的第四態樣是一種使用具有溝槽的切割夾具之雷射切割方法，其中，沿著該溝槽切割聚合物樹脂化合物。
本發明的第五態樣是一種使用以內部管路來循環液體以冷卻切割夾具的底板及附接的基板/晶片之雷射切割方法。
100、101、105、110、115、120、125、130、135、140、145、150、155、160、165、170:步驟
200:切割夾具
202:俯視圖
210:前側視圖
220:側視圖
230、240:橫截面視圖
305:箭頭
310:氣體管
315:切單道
320:雷射軟化剝蝕點
620、625:封裝視圖
當結合附加的圖式來理解時，可以更佳地理解上述的總結以及以下說明性實施例的詳細描述。為了說明本揭露的目的，在圖式中顯示本揭露的示例性構造。然而，本揭露不限於本文揭露的具體方法及手段。此外，本領域 中具有通常知識者將理解的是，圖式不是按比例繪製的。盡可能地，相同的元件以相同的元件符號來表示。
第1圖係繪示基板及用於切單的雷射光束。
第2A圖係繪示藉由雷射剝蝕製程來切單聚合物樹脂鑄模化合物封裝或基板成晶片的雷射切割方法的步驟之流程圖。
第2B圖係繪示在雷射剝蝕製程之後的清潔晶片步驟之流程圖。
第3A圖係繪示沒有裝載封裝或基板於其上的切割夾具之俯視圖。
第3B圖係繪示沒有裝載封裝或基板於其上的切割夾具之前視圖。
第4A圖係繪示切割夾具的側視圖。
第4B圖係繪示真空孔洞(vacuum hole)的特寫視圖(close-up view)。
第5圖係繪示用於冷卻切割夾具的冷卻水的方向，冷卻水則循環通過於其上安裝有切割夾具之底板。
第6A圖係繪示附加了有機基板柵格陣列(OLGA)的插入物(interposer)的條帶封裝。
第6B圖係繪示切單的第一步驟。
第6C圖係繪示切單的第二步驟。
第6D圖係繪示切單的第三步驟。
第6E圖係繪示切單的第四步驟。
第6F圖係繪示在切單之後的個別的封裝。
第6G圖係繪示在切單之後的個別的封裝之邊緣。
定義：雖然本發明主要描述對於環氧鑄模化合物的切單，可以理解的是，本發明不限於此並且可用於輔助需要精確成型及小組件的鑄模之其他努力。並且，雖然所提及的是聚合物樹脂化合物，但該技術容易地轉移到其他基材。在這些非限制性實施例中討論的具體益處及配置可以變化，並且僅用於說明至少一個實施例，並不意圖限制其範圍。
本說明書中參照「一個實施例/態樣(one embodiment/aspect)」或“「一實施例/態樣(an embodiment/aspect)」意味著結合實施例/態樣所描述的特定特徵、結構或特性包括在本揭露的至少一個實施例/態樣中。在說明書中的各個地方使用片語「在一個實施例/態樣中(in one embodiment/aspect)」或“「在另一實施例/態樣中(in another embodiment/aspect)」不必要都指相同的實施例/態樣，也不是與其他實施例/態樣相互排斥的單獨的或替代的實施例/態樣。此外，描述的各種特徵可以藉由一些實施例/態樣所呈現，而不藉由其他實施例/態樣。同樣地，描述的各種條件(requirement)可以是一些實施例/態樣的條件(requirement)，而不是其他實施例/態樣的。在某些例子下，實施例及態樣可互換使用。
本說明書中使用的術語在所屬技術領域中具其常見涵義，在本揭露的內文中以及在使用每個術語的特定內文中具有它們的常見含義。用於描述本揭露的某些術語在下文或說明書中的其他地方討論，以提供關於本揭露的描述之額外指導給從業者(practitioner)。為方便起見，可以強調某些術語，例如使用斜體及/或引號。這樣的強調對術語的範圍及含義沒有影響；術語的範圍及含 義在相同的內文中是相同的，無論是否被強調。將理解的是，相同的事物可以以超過一種方式來陳述。
因此，替代語言及同義詞可以用於本文所討論的任何一個或多個術語。無論術語是否在本文中被詳細闡述或討論，也沒有任何特殊意義加諸其上。提供用於某些術語的同義詞。一個或多個同義詞的敘述不排除使用其他同義詞的使用。在本說明書中任何地方的示例的使用，包括本文中討論的任何術語的實例，僅是說明性的，並且不意旨在進一步限制本揭露或任何示例性術語的範圍及含義。同樣地，本揭露不限於本說明書中給予的各種實施例。
不意旨進一步限制本揭露的範圍，下面給予根據本揭露的實施例的儀器、裝置、方法及其相關結果的示例。應注意的是，為了方便讀者，可以在示例中使用標題或副標題，此應絕不限制本揭露的範圍。除非另外定義，否則本文使用的所有技術及科學術語具有與本揭露所屬技術領域中具有通常知識者通常理解的含義相同的含義。在發生衝突的情況下，本文件，包括定義，將控制。
術語「晶粒(die)」是指所製造的功能電路(functional circuit)上的半導體材料的區塊。通常，藉由例如光刻的製程，在電子級矽(EGS)或其他半導體(例如GaAs)的單個晶圓上以大批量方式來生產積體電路。將晶圓切割(分割)成許多塊，每塊包含一個電路副本。這些塊中的每一個稱為晶粒。
嵌入式晶圓級球柵陣列(Embedded Wafer Level Ball Grid Array，eWLB)是用於積體電路的封裝技術。封裝互連應用於矽晶片及鑄造化合物(casting compound)製成的人造晶圓上。eWLB是典型晶圓級球柵陣列技術 (WLB或WLP晶圓級封裝)的進一步發展。eWLB技術背後的主要推動力是給予互連佈線(interconnect routing)更多的空間。
術語「掃描振鏡雷射(galvanometer scanner laser)」是指經由振鏡掃描來控制的雷射光束移動。掃描器含有在X及Y方向上振動的兩個振鏡掃描鏡(galvo scan mirror)，振鏡掃描鏡使入射的雷射光束偏轉。在兩個掃描鏡之後，有一個聚焦透鏡聚焦雷射光束。上下移動以及前後移動的雙軸運動之執行使雷射光束掃描以對基板切單。在振鏡掃描器之後的聚焦雷射光束則用於切單基板。
術語「積體電路」、「IC」、「微晶片」、「矽晶片」、「電腦晶片」或「晶片」是指使用光刻技術於其內蝕刻電子電路的一塊特別製備的矽(或另一個半導體)。矽晶片可以含有邏輯閘、電腦處理器、存儲器及特殊設備。因為晶片易碎，所以通常被堅固的塑膠封裝包圍。晶片的電接頭則是經由從封裝突出的金屬引線(metal leg)來提供。
術語「切口(kerf)」是指被鋸留下的窄通道(channel)，且(相關地)其寬度的量測取決於多個因素，包括鋸片的寬度、刀片齒套組、在切割中產生的擺動量以及從切割側被拉出的材料量。當使用雷射時，切口則取決於被切割材料的性質、工件厚度、透鏡焦距及在雷射中使用的切割氣體的類型。
術語「雷射剝蝕」是指藉由以雷射光束照射固體表面以去除材料的製程。在低雷射通量下，被材料吸收的雷射能量加熱材料，並且材料蒸發或昇華。
術語「有機基板柵格陣列(organic land grid array)」或「OLGA」是指具有空氣腔的無引線封裝及具有圖案化導電跡線的有機基板。根據特定的 應用，在封裝中整合具有不同波長的ASIC及LED。經由封裝底部表面上的引線(端子引腳)進行連接。這些引線能夠直接焊接到PCB上。
術語「封裝堆疊」或「在封裝上的封裝」是指結合垂直離散邏輯及存儲球柵陣列(memory ball grid array)的一種積體電路封裝方法。兩個或更多個封裝彼此頂部安裝(即，堆疊，在它們之間有標準介面以傳遞訊號)。這允許在設備中更高的組件密度，例如行動電話、個人數位助理(PDA)及數位相機。
術語「光刻」或「光學蝕刻(optical lithography)」是指用於微製程中以圖案化薄膜的各部分或整體基板之製程。光線係用於將幾何圖案從光罩轉移到基板上的光敏化學物「光阻」。
術語「切單」、「晶粒切割」或「切割」是指將包含有多個相同積體電路的晶圓折合為含有這些電路之一個的每一個單獨晶粒的製程。該製程能夠包含劃線及斷裂、機械鋸切或雷射切割。在切割製程之後，將單獨矽晶片封裝到晶片載體中，之後，晶片載體適用於構建電子設備中，諸如建構電腦。
本文使用的其他技術術語具有在本領域中使用它們的常見含義，例如由各種技術詞典所示例的那樣。在這些非限制性示例中所討論的具體效益及配置可以變化，並且僅用於說明至少一個實施例，並不意圖限制其範圍。
較佳實施例的描述：晶粒製備通常包括基板安裝，基板分割或切割則接續其後。基材通常是聚合物樹脂鑄模化合物。本發明利用真空壓力以將基板安裝到切割夾具上。之後，使用雷射技術將基板切割成許多部分(即晶片)。
第1圖係繪示藉由雷射剝蝕切割的基板。聚焦透鏡將雷射光束引導到雷射軟化剝蝕點320的基板接觸點。雷射光束在箭頭305所示的方向上移動。以雷射形成劃線或切單道315。將雷射多次地(即多次通過)引導到基板上，以將基板分離成個別的封裝。脈衝雷射光束可以在不同速度及雷射設定下以多次通過的組合(combination of passes)來使用。這允許了以高速進行的單次通過的單元切單。
亦描繪氣體管。氣體管310的出口在平行於切單道的方向上引導氣體或壓縮空氣。此冷卻了基材並去除切割製程中產生的顆粒或碎屑。如圖所示，它與沿著切割道的雷射光束移動方向對齊。
金屬夾具係設置以當切割基板時夾住基板(未示出)。夾具包括了溝槽，以允許雷射光束在切割基板期間得以穿透。此外，夾具可以使用水來冷卻基板。在底板內的內建管道可以在切割期間使得水循環及藉由從夾具吸走熱量來冷卻基板。
第2A圖係繪示根據一實施例藉由雷射剝蝕製程將基板切單成晶片的雷射切割方法之流程圖100。該製程能夠分為基板安裝及基板切單。拾取器(picker)(拾取及放置機器或機器人)能夠用於移動基板及/或被切單的單元。
在步驟105，基板放置在緩衝站上。緩衝站能夠包括加熱板，以在將基板放置在切割夾具上之前，用選擇性注入的快速冷卻氣體來預先加熱基板。快速冷卻的氣體能夠快速冷卻被加熱的聚合物樹脂，以在將聚合物樹脂化合物裝載到切割夾具上之前保留其在預熱之後所取得的形狀。該步驟能夠在基板被放置在切割夾具上之前釋放基板上的翹曲，其中切割夾具確保了良好的真空密封。
而後，拾取裝置能夠將基板從緩衝站110裝載到切割夾具(「夾具」)上。切割夾具在基板被切割成單獨的晶片時牢固地夾住基板。能夠藉由真空壓力固定基板。步驟115說明啟動真空以在基板上產生吸力並防止移動。真空孔洞能夠是圓形(方形單元)或橢圓形(矩形單元)。
切割夾具能夠以金屬為基底的材料來打造，例如鋼用不銹鋼材(Steel Use Stainless,SUS)或鋁。夾具的底部能夠包括至少一個真空室，以允許在切割期間在單元上施加吸抽，從而避免單元移動。每個單元能夠放置在從切割夾具切裁出的島狀體上，並且以0.2mm-1.0mm厚的橡膠層(較佳約0.5mm厚)來支撐，以防止單元表面上的劃傷/損壞。
下一步驟120描述切割(「切單」)，建議在基板面向下的情況下進行該步驟。能夠使用脈衝雷射光束將基板切割成單獨的晶片。使用脈衝雷射光束，以致於使用不同速度及雷射參數的多重通過來切割基板。這有助於保持基板在較低溫度並且由於較少熱量來自雷射光束而防止了加熱所導致的翹曲。
能夠利用經由噴嘴引入切割區域的壓縮空氣(例如，N2、Ar或CO2)來去除來自切割製程的碎屑。能夠有策略地定位噴嘴以引入壓縮空氣，以致於使其與雷射切割道平行對齊。碎屑能夠從腔室底部排出。在切割製程期間產生的碎屑及煙霧能夠經由位於夾具側面及底部的排氣口(未示出)除去。壓縮空氣亦能夠幫助冷卻切割道，特別是在雷射接觸區域，並防止雷射在與基板接觸時「引發火花(sparking)」。
過熱是傳統雷射切單方法所存在的常見問題。為了克服這個問題，夾具可以包括用於循環冷卻水的系統，以在進行切割步驟125時冷卻基板。 冷卻水的溫度低於攝氏22度(較佳地約攝氏10度或更低)。此在切割期間冷卻單元，並有效地將雷射產生的熱量從切割區域轉移出去。
能夠經由噴嘴將氣體或壓縮空氣引到切割區域130上。雷射光束能夠與壓縮氣體或空氣一起通過切割管嘴。這允許了高速下的單次通過的單元切單。在切割之後，能夠清潔夾在切割夾具中的被切單的單元，以去除碎屑並移除留在單元135的表面上的切割毛刺/纖維。能夠啟動通風口，以吹走在切單期間累積或沉降的碎屑。清潔製程能夠包括額外的步驟，例如刷洗，以產生沒有碎屑的切單的單元。
第2B圖係繪示根據一實施例的用於自動機器的清潔步驟101的流程圖101。藉由真空傳輸手臂(transfer arm)夾取單元(步驟140)並將其傳輸到第一清潔站(步驟145)。在第一清潔站，以輕微浸泡在乙醇溶液(例如IPA)或未摻雜的(plain)去離子(DI)水的軟布/海綿來清潔單元的頂側。接著，單元被傳輸到翻轉站(步驟150)，翻轉180度並由另一個傳輸手臂拾取。然後轉移它們到第二清潔站(步驟155)，以進行清潔。與第一清潔站一樣，能夠使用例如IPA或DI水的乙醇溶液。在此，清潔單元的底部。接著，將單元傳輸到無柵格工作臺(步驟160)，且單元在工作臺上被傳輸到拾取器的拾取位置。旋轉的拾取器頭能夠拾取每個單元並將每個單元傳輸到刷洗站(步驟165)，以致於在全部四個側面上刷洗單元。然後，傳輸單元經過目視檢查相機(步驟170)並被卸載到托盤上。剩餘的廢棄軌能夠藉由另一個拾取器手臂自動移除以放置到廢料箱(未示出)。
切割夾具：在較佳的切單方法中，切割夾具在切單期間牢固地夾住基板。兩種結構特徵允許了精確地切割基板而不會達到可能導致翹曲或其他損壞的高 溫。嵌入的溝槽(即夾具中的凹進區域)允許了雷射光束在切割期間穿透。具有內部管道的底座允許了冷卻水通過底板循環。這在切割期間從夾具中移除了熱量以冷卻基板。
第3A圖係繪示在第2A圖的方法中使用的切割夾具200的俯視圖202。溝槽在中心部分形成柵格。基板被放置在切割夾具上。引導雷射沿著溝槽切割以從基板形成獨立的封裝。第3B圖係繪示前視圖210以進一步說明夾具中的溝槽(窄的白色垂直線)。較佳地，溝槽具有大約1至3厘米的深度及大於或等於1毫米的寬度。
第4A圖係繪示夾具的附加視圖，包括在切割夾具的不同區域處截取的側視圖220及截面圖230及240。第4B圖描繪真空孔洞的細節部分。
圍繞導軌的條帶(即，沒有任何單元的條帶的周邊)能夠藉由夾具來支撐、以銷子來定位、並藉由真空保持就位。提供兩個獨立的真空管線，其中一個固定在條帶導軌上且另一個固定在單元上。溝槽圍繞每個單元並切割入金屬夾具，每個深度為1cm-3cm(較佳約2cm或更大)及最小寬度(單元切割切口寬度+Xmm)。其中X值取決於每個單元的寬度及長度的尺寸，至少(大於或等於)0.5mm(較佳地為1mm)。溝槽係設計以在切割期間雷射光束得以穿透並用以收集切割所產生的碎屑。在每個條帶切割之後，能夠以高壓空氣清潔溝槽。真空孔洞能夠具有諸如圓形(用於方形單元)或橢圓形(用於矩形單元)的形狀。
在切單期間，水或其他流體能夠用於冷卻基板。第5圖係繪示底板，且於其上可以安裝切割夾具。冷水循環通過底板以冷卻切割夾具及附著的基板。箭頭表示水流經過一系列管子或管道的方向。
切割夾具能夠完全封閉在切割腔室內。切割產生的碎屑及煙霧能夠經由位於腔室側面及底部的多重排氣口排出。此外，在腔室頂部的吹氣器能夠被導向已經積聚或沉積在腔室內部的機械部件上的碎屑。此允許了從腔室的底部排出碎屑。氮氣、二氧化碳或壓縮空氣能夠用於此目的。可以放置噴嘴使壓縮空氣平行對齊雷射切割區域。此有助於冷卻切割區域並清除碎屑，使雷射與主體材料接觸時的火花最小化。
雷射：兩種類型的雷射頭設計中之一種能夠用於切單。一種設計類型是經由振鏡掃描器產生的雷射光束。聚焦透鏡用於允許雷射光束垂直穿透到基板的表面。根據光束功率強度及其在待切割基板上的分佈，聚焦透鏡可以是傳統的聚焦透鏡、F-θ聚焦透鏡或遠心透鏡(telecentric lens)。對於一般的切單應用，F-θ焦距鏡頭足以用於100mm×100mm或更小的掃描場。該方法允許雷射光束在不同的速度及雷射參數下以多重通過的組合來成形基板。在替代例中，切割噴嘴可與壓縮氣體(N2/CO2)或空氣一起使用。此允許了在高速下的單次通過的單位切單。
在較佳的方法中，本發明使用雷射進行切割，因為它成本低，需要的維護免費/最少，並且滿足切割製程的其他標準。然而，切割方法應包括得以有效地生產具有高品質邊緣的基材之努力。
為了最佳化基板的邊緣品質，應最小化周邊加熱。此意味著將所傳送的超過材料的剝蝕閾值的總雷射功率之比例最大化。一種達成的方法是使用具有短脈衝寬度(duration)雷射，並且是具有快速上升時間的脈衝。每個脈衝產生的熱量很小並且在下一個脈衝來到之前有時間得以消散熱量。在這樣的考 量下，較佳地是脈衝雷射而不是連續波(CW)雷射。脈衝雷射可以是奈秒(ns)雷射、近紅外雷射(例如Nd：YAG雷射或光纖雷射)或具有10-200瓦之脈衝寬度可調的奈秒近紅外雷射(例如脈衝寬度從1ns到500ns)。雷射能夠應用於多線及多層製程。
切單製程可以使用雷射軟化剝蝕技術以去除材料。需要針對切單的確切需求最佳化多個雷射參數以達到高邊緣品質。該參數包括雷射脈衝寬度(duration)、脈衝率(pulsing rate)、駐留時間、雷射功率、模態品質及切割速度。能夠以週期性參數調變改善切單製程。高重複率的「清潔通過」可以改善切口拋光(kerf finish)。
考量到對周圍熱效應的限制，雷射脈衝的空間性限制可以與時間性限制同樣重要。使用能夠聚焦至小的高強度光點而不是一個漫射場的雷射光束是極為重要的。藉由設計雷射以產生橫向電磁單模輸出(TEM00)來獲得這樣的光點，其中該光束具有圓形橫截面，其功率峰值在中心處。如雷射的一般性規則，隨著功率的增加，越難維持高模態品質。然而，切單可能需要相對高的功率水平以提供得以與機械切鋸競爭的速度及成本效益。因此，必須仔細設計雷射，以輸出高功率水平的TEM00模態。
也可以使用具高脈衝重複頻率的雷射。此使得橫過材料的雷射光束得以快速掃描而不產生虛線切割。對於封裝切單，低於10kHz的重複頻率將限制製程速度。因此，較佳地是使用具有高於10kHz的脈衝重複頻率之雷射來切單。
原則上，雷射可以穿過整個封裝切割，即使是對於總厚度1mm的單個切割。但達到此目的所需的駐留時間會造成不利的熱效應(即粗糙的燃燒邊緣)。可以藉由使用多重的連續切割來切割以獲得更好的結果。舉例而言， 對於1mm厚的封裝或更高厚度的封裝(例如厚度1.2mm)，為了提供高產量及邊緣品質的最佳化組合，多重通過可以是非常合適的。
製作實例：與有機基板柵格陣列(OLGA)附接的插入物的切單：第6A圖係繪示用於與有機基板柵格陣列(OLGA)附接的插入物的條帶封裝的雷射切單示例。使用100奈秒脈衝近紅外光纖雷射將樹脂鑄模(即基板)切單成封裝。如上所述使用雷射的多重掃描。在此實例中，使用三次掃描(即線)。每次掃描則產生更平滑、更完整的切單道315，直到基板被分成個別的封裝。
第一階段的掃描以16W的功率、300mm/s的速度及150KHz的頻率進行。切單結果如第6B圖所示。沿著切單道315形成直的、乾淨的凹槽。第二階段則以28W的功率、500mm/s的速度及150KHz的頻率進行。切單結果如第6C圖所示。在第二階段中，則產生了一定的切割深度而沒有邊緣燃燒。
第三階段則以68W的功率、750mm/s的速度及150KHz的頻率進行。切單結果如第6D圖所示。沿著切單道315形成了直的、乾淨的凹槽。第四階段則以45W的功率、750mm/s的速度及200KHz的頻率進行。切單結果如第6E圖所示。完成了最後的切單步驟，基板被分成較小的封裝，如第6F圖所示。其顯示封裝的底部視圖620以及封裝的頂部視圖625。
第6G圖描繪在切單之後的個別封裝之邊緣。晶片具有乾淨的頂部表面以及乾淨且筆直的側壁。
雷射的選擇： 雷射應是可靠、具成本效益並且足以滿足切割製程。所使用係脈衝雷射而不是CW雷射。舉例而言，可以使用具有10-200瓦之奈秒近紅外光纖雷射或脈衝寬度可調的奈秒近紅外光纖雷射。也可以使用其他類型的雷射，例如Nd：YAG雷射。
切單製程：雷射軟化剝蝕可在多線以及多層製程中使用。週期性參數調變可以改善製程的速度及封裝的品質。此外，高重複速率的「清潔通過」可以改善切口拋光。
雖然已經以特定實施例及應用來描述本發明，然在概括及詳細的形式中，此不意旨這些描述以任何方式限制其範圍於任何該些實施例及應用中，並且將理解的是，在不違背本發明的精神的情況下，被本領域中具有通常知識者在所描述的實施例、本文所示的方法及系統的應用及細節以及它們的操作之許多替換、改變及變化可以進行。
305:箭頭
310:氣體管
315:切單道
320:雷射軟化剝蝕點

Claims (11)

  1. 一種藉由脈衝雷射剝蝕製程來切割聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板成封裝之系統，其包含：一緩衝站包含，一加熱單元，以對一聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板進行預熱，以及一氣體噴射器，以冷卻被加熱的該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板，並保留該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板在預熱後的形狀；一脈衝雷射；以及一夾具，用來夾持該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板；其中該雷射沿著嵌入該夾具的一溝槽切割，以及其中該夾具藉由經過具有內部管道的系統之底板循環的液體來冷卻。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該溝槽具有1到3公分的深度以及大於或等於1釐米的寬度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該溝槽具有大於或等於0.5mm的寬度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中真空壓力使得該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板被該夾具夾住。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該脈衝雷射係具有等於或大於10kHz的重複頻率。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中一壓縮空氣源或一氣體源迫使壓縮的空氣或氣體在該雷射方向上流動。
  7. 一種藉由雷射剝蝕製程來切割聚合物樹脂鑄模化合物為基底的 基板成封裝之方法，其包含：在一緩衝站預熱一聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板；注入快速氣體以快速冷卻被加熱的該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板，以保留該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板在預熱後的形狀；裝載該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板到一切割夾具上；啟動真空以固定該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板到該切割夾具；啟動一脈衝雷射以沿著嵌入在該切割夾具內的一系列溝槽來剝蝕切割該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板；以及循環一液體，該液體係通過該切割夾具的底板，以冷卻該聚合物樹脂鑄模化合物為基底的基板。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之方法，其包含在該雷射的方向噴射加壓的空氣或氣體，以冷卻被該雷射剝蝕的區域之附加步驟。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之方法，其包含在該雷射的方向噴射加壓的空氣或氣體，以移除碎屑之附加步驟。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之方法，其包含沿著該切割夾具的邊緣經過一或多個排氣口排出碎屑及/或煙霧之附加步驟。
  11. 如申請專利範圍第7項所述之方法，其包含從該切割夾具移除該封裝以及轉移該封裝到一清潔站之附加步驟。
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