TWI684629B - 有機電子裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明係關於有機電子裝置及其製造方法,並提供可有效阻擋水分或氧從外部引入該有機電子裝置以確保有機電子元件之壽命以及於可應用於撓性裝置時具有優異耐久性的有機電子裝置。
Description
本申請案係關於有機電子裝置及其製造方法。
有機電子裝置(OED)意指包含使用電洞及電子產生電荷之交流電的有機材料層之裝置,其實例可包括光伏打裝置、整流器、發射器(transmitter)及有機發光二極體(OLED)等。
在有機電子裝置當中之有機發光二極體(OLED)比起傳統光源具有較低功率消耗及較快反應速度,且有利於使顯示裝置或照明設備薄型化。此外,OLED具有優異的空間利用性,因而預期可應用於各種不同領域,包括各種可攜式裝置、監視器、筆記型電腦及電視機。
在OLED之商業化及應用擴展中,最重要的問題為耐用性問題。OLED中所含之有機材料及金屬電極等非常容易因外部因素(諸如水分)而氧化。因而,包含OLED之產品對於環境因素高度敏感。因此,已提出各種方法以有效阻擋氧或水分從外部滲透至有機電子裝置(諸如OLED)。
[技術問題]
本申請案提供可有效阻擋水分或氧從外部引入該有機電子裝置以確保有機電子元件之壽命以及於可應用於撓性裝置時具有優異耐久性的有機電子裝置。 [技術解決方案]
本申請案係關於有機電子裝置。如圖1所示,例示性有機電子裝置(3)可包含基材(31);形成於該基材(31)上之有機電子元件(32);以及密封該有機電子元件(32)之有機層(33)。有機層可藉由以封裝組成物密封或封裝有機電子元件(諸如,例如OLED)的整個表面而形成。在一個實例中,本申請案之封裝組成物可為墨水組成物。此外,有機層(33)可與無機保護層(35)及/或無機層(34)一起層合於有機電子元件上,以形成密封結構(36)。在本申請案中,有機層可為墨水組成物,其可與層合於有機電子元件(32)上之作為密封膜(37)的壓敏性黏著劑膜或黏著劑膜區分,如圖2所示。因此,本申請案之有機電子裝置可進一步包含壓敏性黏著劑膜或黏著劑膜(37)於密封結構(36)上。
在本申請案之一實施態樣中,本申請案係關於施加有可應用於噴墨法之用於密封有機電子元件的封裝組成物之有機電子裝置,其中該組成物可設計成於藉由使用能非接觸式圖案化之噴墨印刷而於其排出至基材時具有適當的物理性質。
在本說明書中,用語「有機電子裝置」意指具有包含使用彼此相對之電極對之間的電洞及電子產生電荷之交流電的有機材料層之結構的物件或裝置,其實例可包括光伏打裝置、整流器、發射器及有機發光二極體(OLED)等,但不局限於此。在本申請案之一實例中,有機電子裝置可為OLED。
在本申請案之一實施態樣中,有機電子裝置可包含一或多個符合下示方程式1之可摺疊部件。
[方程式1]
X ≤ 10%
在方程式1中,X為摺疊試驗之前及之後的亮度改變率,在該摺疊試驗中,於25℃之溫度及50%相對濕度下摺疊該有機電子裝置之可摺疊部件使曲率半徑為2.5R (2.5 mm)的程序係重複100,000次。更具體而言,在本申請案中,亮度改變率可為10%或更低、9.5%或更低、8.5%或更低、或7.5%或更低,且下限無特別限制,其可為0%或更高、或0.01%或更高。考慮到有機電子裝置係應用於撓性顯示器,本申請案可具有一或多個可摺疊部件。可摺疊部件可意指於有機電子裝置中可摺疊之區域。
在傳統撓性顯示器中,形成於有機電子元件上之有機層難以兼具可撓性及有機層的表面硬度。存在當其應用於撓性顯示器時,因高可撓性之故而降低硬度,以及當硬度高時於摺疊試驗時發生剝離的問題。本申請案藉由將亮度改變率控制在上示方程式1之範圍中而於撓性顯示器提供具有高可靠度的有機電子裝置。
在一個實例中,有機層之厚度可在2 μm至20 μm、2.5 μm至19 μm或3 μm至18.5 μm之範圍。本申請案可提供於其中所提供之有機層具有在上述範圍之薄厚度的有機電子裝置,從而賦予撓性特性。
在本申請案之一實施態樣中,根據ASTM D3363標準,有機層可具有3H或更高、3.5H或更高、或4H或更高之鉛筆硬度。硬度可為,例如在500 g之重量下且速度為273 mm/min之鉛筆硬度,其可為具有2至20 μm之厚度的有機層之測量結果值。由於在上述範圍之硬度愈高,則有機層之可靠度愈高,故上限無特別限制,但考慮到撓性特性,可為9H或更低。藉由將有機層之鉛筆硬度調整至上述範圍,儘管在薄有機層的情況下,本申請案亦實現高度耐久可靠度。
如上述,有機層可包含墨水組成物,其中該墨水組成物可具有50 cPs或更低、1至46 cPs或5至44 cPs之黏度,其係於25℃之溫度、90%轉矩以及100 rpm之剪切速率下藉由Brookfield, Inc.之DV-3測量。藉由將組成物之黏度控制在上述範圍,本申請案可實現於應用至有機電子裝置時能噴墨之物理性質,以及可提供具有優異塗布性質之密封材料的薄層。
在一個實例中,有機層可包含環氧化合物及具有氧呾基之化合物。藉由包含該特定組成物,本申請案可一起實現上述撓性特性以及優異硬度。環氧化合物可為光可固化或熱固性化合物。具有氧呾基之化合物的含量相對於100重量份之環氧化合物可為45至145重量份、48至144重量份、63至143重量份或68至142重量份。在本說明書中,用語「重量份」可意指個別組分之間的重量比。藉由控制特殊組成及其含量範圍,本申請案可藉由噴墨法於有機電子元件上形成有機層,以及提供所施加之封裝組成物於短時間內具有優異展布性且於固化之後具有優異硬化強度的有機層。在一個實例中,本申請案之組成物可具有30°或更小、25°或更小、20°或更小、或12°或更小之與玻璃接觸角。下限無特別限制,但可為1°或3°或更大。藉由將接觸角調整為30°或更小,本申請案可確保在噴墨塗布中於短時間內之展布性,從而形成有機層薄層。在本申請案中,接觸角可藉由使用不座液滴測量法將封裝組成物液滴施加至玻璃上來測量,其可為施加5次後所測量的平均值。
在一個實例中,於封裝組成物之全部組分中的環氧化合物及具有氧呾基之化合物的含量可為70重量%或更多、75重量%或更多、80重量%或更多、85重量%或更多、或89重量%或更多。上限無特別限制,其可為99重量%或更少、95重量%或更少、或93重量%或更少。
在一個實例中,環氧化合物可具有至少單官能度或雙官能度或更高官能度。即,該化合物中可存在一或二或更多個環氧官能基,其中上限無特別限制,但可為10或更少個。該環氧化合物藉由實現成為墨水組成物之適當交聯程度以實現於高溫及高濕度下之優異耐熱性耐久性。
在本申請案之一實施態樣中,環氧化合物可包含在其分子結構中具有環狀結構之化合物及/或直鏈或支鏈脂族化合物。即,本申請案之封裝組成物可包含在其分子結構中具有環狀結構之化合物及直鏈或支鏈脂族化合物中之至少一者作為環氧化合物,及可一起包含彼等。在一個實例中,在其分子結構中具有環狀結構之化合物在其分子結構中可具有範圍在3至10、4至8或5至7個環構成原子,以及該化合物中可存在一更多或二或更多、或10或更少個該等環狀結構。當一起包括具有環狀結構之化合物及直鏈或支鏈脂族化合物時,包括於封裝組成物中之直鏈或支鏈脂族化合物相對於100重量份之具有環狀結構之化合物可在20重量份或更多、少於205重量份、或23重量份至204重量份、30重量份至203重量份、34重量份至202重量份、40重量份至201重量份、60重量份至200重量份或100重量份至173重量份之範圍。藉由控制含量範圍,本申請案使封裝組成物同時於密封有機電子元件的整個表面時能防止元件損壞、具有能噴墨之適當物理性質、於固化後具有優異的固化強度、以及實現優異的水分障壁性質。
在一個實例中,環氧化合物之環氧當量可在50至350 g/eq、73至332 g/eq、94至318 g/eq、或123至298 g/eq之範圍。再者,具有氧呾基之化合物或環氧化合物可具有範圍在150至1,000 g/mol、173至980 g/mol、188至860 g/mol、210至823 g/mol或330至780 g/mol之重量平均分子量。藉由將環氧化合物之環氧當量控制在低水準或藉由將該化合物之重量平均分子量控制在低水準,本申請案可防止該組成物的黏度變得太高而無法進行噴墨法,同時改善於該封裝組成物固化後之固化完成度,以及同時提供水分障壁性質及優異的固化敏感度。在本說明書中,重量平均分子量意指轉化成藉由GPC(凝膠滲透層析術)所測量之標準聚苯乙烯的值。在一個實例中,用3至20 mm聚苯乙烯珠填充由具有長度為250至300 mm以及內徑4.5至7.5 mm之金屬管製成的管柱。於藉由將待測量物質溶解於THF溶劑中所稀釋的溶液通過該管柱時,可根據流動時間間接測量重量平均分子量。其可藉由描繪各次依大小自該管柱所分離的量來偵測。在本說明書中,環氧當量亦為包含一克當量之環氧基的樹脂之克數(g/eq),其可根據JIS K 7236中所界定之方法測量。
具有氧呾基之化合物可具有範圍在90至300℃、98至270℃、110至258℃、或138至237℃的沸點。藉由將該化合物之沸點控制在上述範圍,本申請案可提供可具有優異的阻擋來自外部之水分障壁性質同時在噴墨法中即使在高溫下亦實現優異的印刷性,以及防止因受抑制排氣造成之對元件的損壞之密封材料。在本說明書中,除非另外指定,否則沸點可在1大氣壓下測量。
在一個實例中,在其分子結構中具有環狀結構之化合物的實例可為3,4-環氧基環己基甲基3',4'-環氧基環己烷甲酸酯(ECC)及衍生物、二氧化二環戊二烯及衍生物、二氧化乙烯環己烯(vinylcyclohexene dioxide)及衍生物、或1,4-環己二甲醇雙(3,4-環氧基環己烷甲酸酯) (1,4-cyclohexanedimethanol bis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate))及衍生物,但不局限於此。
在一個實例中,只要包含氧呾基之化合物具有官能基,其結構不受限,及例如可以下列為例:得自TOAGOSEI之OXT-221、CHOX、OX-SC、OXT101、OXT121、OXT221或OXT212,或得自ETERNACOLL之EHO、OXBP、OXTP或OXMA。再者,該直鏈或支鏈脂族環氧化合物可包括脂族環氧丙基醚、1,4-丁二醇二環氧丙基醚、乙二醇二環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚、二乙二醇二環氧丙基醚、丁基環氧丙基醚、2-乙基己基環氧丙基醚或新戊二醇二環氧丙基醚,但不局限於此。
在本申請案之一實施態樣中,該封裝組成物可進一步包含光引發劑。該光引發劑可為離子光引發劑。此外,該光引發劑可為吸收範圍在200 nm至400 nm之波長的化合物。藉由使用該光引發劑,本申請案可以本申請案之特殊組成獲致優異的固化性質。
在一個實例中,光引發劑可為陽離子光聚合引發劑。作為陽離子光聚合引發劑,可使用先前技術中之已知材料,及例如可包括具有包含芳族鋶、芳族錪、芳族重氮鹽或芳族銨之陽離子部分以及包含AsF6 -
、SbF6 -
、PF6 -
、或肆(五氟苯基)硼酸鹽之陰離子部分的化合物。此外,作為陽離子光聚合引發劑,實例可為鎓鹽或有機金屬鹽系之離子化陽離子引發劑或有機矽烷或潛在磺酸系(latent sulfonic acid series)非離子化陽離子光聚合引發劑。二芳基錪鹽、三芳基鋶鹽或芳基重氮鹽等可為鎓鹽系之引發劑的實例,鐵芳烴(iron arene)等可為有機金屬鹽系之引發劑的實例,鄰硝基苯甲基三芳基矽基醚、過氧化三芳基矽基或醯基矽烷等可為有機矽烷系引發劑之實例,以及α-磺醯氧基酮或α-羥基甲基安息香磺酸酯等可為潛在硫酸系(latent sulfuric acid series)引發劑之實例。
在一個實例中,本申請案之封裝組成物可包含含有鋶鹽之光引發劑作為上述特殊組成中的光引發劑,因而適於藉由噴墨法密封有機電子元件的用途。雖然根據上述組成之封裝組成物係直接密封於有機電子元件上,但可防止因少量所產生的排氣對該元件產生化學性損壞。此外,包含鋶鹽之光引發劑亦具有優異的溶解度,其可適當地應用於噴墨法。
在本申請案之實施態樣中,光引發劑之包括量相對於100重量份之環氧化合物可為1至15重量份、3至14重量份或7至13.5重量份。本申請案可藉由控制光引發劑含量範圍而最小化因直接施加至有機電子元件上之本申請案的封裝組成物之性質而對該元件造成的物理及化學損壞。
在本申請案之一實施態樣中,有機層可進一步包含界面活性劑。藉由包含界面活性劑可提供該封裝組成物作為具有經改良展布性之液態墨水。在一個實例中,界面活性劑可包含極性官能基,且該極性官能基可存在於該界面活性劑的化合物結構末端。極性官能基可包括例如羧基、羥基、磷酸根、銨鹽、羧酸基、硫酸根或磺酸根。此外,在本申請案之一實施態樣中,界面活性劑可為非聚矽氧系界面活性劑或氟系界面活性劑。非聚矽氧系界面活性劑或氟系界面活性劑可與上述環氧化合物及具有氧呾基之化合物一起施加,以在有機電子元件上提供優異的塗布性質。另一方面,在包含極性反應性基團之界面活性劑的情況下,可具有與該封裝組成物之其他組分的高親和性,從而實現在黏著方面的優異效果。在本申請案之一實施態樣中,親水性氟系界面活性劑或非聚矽氧系界面活性劑可用以改善基底材料之塗布性質。
尤其是,界面活性劑可為聚合物型或寡聚物型氟系界面活性劑。作為界面活性劑,可使用市售產品,其可選自由下列所組成之群組:Glide 100、Glide 110、Glide 130、Glide 460、Glide 440、Glide 450或RAD 2500 (得自TEGO)、Megaface F-251、F-281、F-552、F554、F-560、F-561、F-562、F-563、F-565、F-568、F-570及F-571 (得自DIC (DaiNippon Ink Chemicals))、或Surflon S-111、S-112、S-113、S-121、S-131、S-132、S-141及S-145 (得自Asahi Glass Co.)、Fluorad FC-93、FC-95、FC-98、FC-129、FC-135、FC-170C、FC-430及FC-4430 (得自Sumitomo 3M Ltd.)、或Zonyl FS-300、FSN、FSN-100及FSO (得自DuPont)以及BYK-350、BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358N、BYK-359、BYK-361N、BYK-381、BYK-388、BYK-392、BYK-394、BYK-399、BYK-3440、BYK-3441、BYKETOL-AQ、BYK-DYNWET 800 (得自BYK)等。
該界面活性劑之含量相對於100重量份之環氧化合物可為0.1至10重量份、0.05至10重量份、0.1至10重量份、0.5至8重量份、或1至4重量份。在上述含量範圍內,本申請案使該組成物能應用於噴墨法,從而形成薄有機層。
在本申請案之一實施態樣中,該封裝組成物可包含光敏劑以補充在300 nm或更大之長波長活化能束下的固化性質。光敏劑為吸收在200 nm至400 nm、250 nm至400 nm、300 nm至400 nm或350 nm至395 nm之範圍的波長之化合物。
該光敏劑可為選自由下列所組成之群組之一或多者:以蒽為基礎之化合物,諸如蒽、9,10-二丁氧基蒽、9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽及2-乙基-9,10-二甲氧基蒽;以二苯甲酮為基礎之化合物,諸如二苯甲酮、4,4-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基胺基二苯甲酮、甲基-鄰-苯甲醯苯甲酸酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮及3,3,4,4-四(三級丁基過氧基羰基)二苯甲酮;以酮為基礎之化合物,諸如苯乙酮、二甲氧基苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮及丙酮;苝;以茀為基礎之化合物,諸如9-茀酮、2-氯-9-茀酮(2-chloro-9-proprenone)及2-甲基-9-茀酮;以硫代 酮為基礎之化合物,諸如硫代 酮、2,4-二乙基-硫代 酮、2-氯-硫代 酮、1-氯-4-丙氧基-硫代 酮、異丙基-硫代 酮(ITX)及二異丙基-硫代 酮;以酮為基礎之化合物,諸如酮及2-甲基酮;以蒽醌為基礎之化合物,諸如蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、三級丁基蒽醌及2,6-二氯-9,10-蒽醌;以吖啶為基礎之化合物,諸如9-苯基吖啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙(9-吖啶基戊烷)及1,3-雙(9-吖啶基)丙烷;二羰基化合物,諸如苯甲基、1,7,7-三甲基-雙環[2,2,1]庚烷-2,3-二酮及9,10-菲醌;以氧化膦為基礎之化合物,諸如氧化2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦及氧化雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦;以苯甲酸酯為基礎之化合物,諸如苯甲酸甲基-4-(二甲基胺基)酯、苯甲酸乙基-4-(二甲基胺基)酯及苯甲酸2-正丁氧基乙基-4-(二甲基胺基)酯;胺基增效劑,諸如2,5-雙(4-二乙基胺基苯亞甲基)環戊酮、2,6-雙(4-二乙基胺基苯亞甲基)環己酮及2,6-雙(4-二乙基胺基苯亞甲基)-4-甲基-環戊酮;以香豆素為基礎之化合物,諸如3,3-羰基乙烯基-7-(二乙基胺基)香豆素、3-(2-苯并噻唑基)-7-(二乙基胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-(二乙基胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-甲氧基-香豆素及10,10-羰基雙[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H,5H,11H-Cl]-[6,7,8-ij]-喹-11-酮;查耳酮(chalcone)化合物,諸如4-二乙基胺基查耳酮及4-疊氮基苯亞甲基苯乙酮;2-苯甲醯基亞甲基;以及3-甲基-b-萘并噻唑啉。
光敏劑之含量相對於100重量份之光引發劑可在28至40重量份、31至38重量份或32至36重量份之範圍。藉由控制光敏劑之含量,本申請案可防止光敏劑不溶解而降低黏著性,同時實現在所希望之波長下的固化敏感度之增效效果。
本申請案之有機層可進一步包含偶合劑。本申請案可改善封裝組成物之固化產物對於黏附體之黏著性或該固化產物之水分穿透抗性。偶合劑可包括例如鈦為基礎之偶合劑、鋁為基礎之偶合劑、或矽烷偶合劑。
在本申請案之一實施態樣中,矽烷偶合劑尤其可包括以環氧基系矽烷偶合劑,諸如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基(二甲氧基)甲基矽烷及2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷;巰基系矽烷偶合劑,諸如3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷及11-巰基十一基三甲氧基矽烷;胺基系矽烷偶合劑,諸如3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基二甲氧基甲基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-甲基胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷及N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基二甲氧基甲基矽烷;醯基尿素系矽烷偶合劑,諸如3-醯基尿素丙基三乙氧基矽烷;乙烯基系矽烷偶合劑,諸如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷及乙烯基甲基二乙氧基矽烷;苯乙烯基系矽烷偶合劑,諸如對苯乙烯基三甲氧基矽烷;丙烯酸系矽烷偶合劑,諸如3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷及3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷;異氰酸系矽烷偶合劑,諸如3-異氰酸基丙基三甲氧基矽烷;硫化物系矽烷偶合劑,諸如二硫化雙(三乙氧基矽基丙基)及四硫化雙(三乙氧基矽基丙基);苯基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、咪唑矽烷、三𠯤矽烷等。
在本申請案中,偶合劑之含量相對於100重量份之環氧化合物可為0.1至10重量份或0.5至5重量份。在上述範圍內,本申請案藉由添加該偶合劑可實現改善黏著性的效果。
若必要,本申請案之有機層可包含水分吸附劑。用語「水分吸附劑」可用以一般意指能經由物理或化學反應等吸附或移除從外部引入之水分或濕度的組分。即,意指水分反應性吸附劑或物理性吸附劑,以及亦可使用其混合物。
本申請案中可使用之水分吸附劑的具體種類並無特別限制,在水分反應性吸附劑之情況下,其可包括例如金屬氧化物、金屬鹽或五氧化二磷(P2
O5
)等中之一者或二或更多者的混合物,以及在物理性吸附劑之情況下,可包括沸石、氧化鋯或微晶高嶺土等。
本申請案之封裝組成物之水分吸附劑的含量相對於100重量份之環氧化合物可為5重量份至100重量份、5至80重量份、5重量份至70重量份或10至30重量份。由於本申請案之封裝組成物較佳係將水分吸附劑的含量控制為5重量份或更多,本申請案可使該封裝組成物或其固化產物展現優異的水分及濕度障壁性質。此外,藉由將水分吸附劑之含量控制為100重量份或更少,本申請案可提供薄密封結構。
在一個實例中,若必要,該封裝組成物可進一步包含無機填料。本申請案中可用之填料的具體類型並無特別限制,及例如可使用黏土、滑石、氧化鋁、碳酸鈣、矽石等之一者或二或更多者的混合物。
本申請案之有機層可包含相對於100重量份之環氧化合物為0至50重量份、1至40重量份、1至20重量份、或1至10重量份之無機填料。本申請案藉由將無機填料較佳控制為1重量份或更多而可提供具有優異的水分或濕度障壁性質以及機械性質之密封結構。此外,藉由將無機填料之含量控制為50重量份或更少,本發明即使形成薄層時亦可提供展現優異的水分障壁性質之固化產物。
除了上述構造之外,根據本申請案之有機層可包含在不影響上述本發明效果的範圍內之各種添加劑。例如,該封裝組成物可視所希望的物理性質而包含在適當含量範圍內之消泡劑、膠黏劑、紫外線安定劑或抗氧化劑等。
在一個實例中,該封裝組成物可在室溫下,例如在25℃下呈液相。在本申請案之一實施態樣中,該封裝組成物可呈無溶劑型液相。可應用該封裝組成物以密封有機電子元件,以及尤其是,可應用以密封有機電子元件的整個表面。本申請案之封裝組成物可具有特殊組成及物理性質,以使得能進行噴墨。
再者,本申請案之封裝組成物可為墨水組成物,如前文所述。本申請案之封裝組成物可為能用於噴墨法之墨水組成物。本申請案之封裝組成物可具有特殊組成及物理性質,以使得可進行噴墨。
在一個實例中,該封裝組成物於固化後之固化產物的表面能可在5 mN/m至45 mN/m、10 mN/m至40 mN/m、15 mN/m至35 mN/m、或20 mN/m至30 mN/m之範圍。表面能可藉由本技術之已知方法測量,及例如可藉由環法(ring method)測量。本申請案在上述表面能範圍內可實現優異的塗布性質。
在本申請案之一實施態樣中,表面能(γ表面
,mN/m)可計算為γ表面
= γ分散
+ γ極性
。在一個實例中,表面能可使用液滴形狀分析儀(得自KRUSS之DSA100產品)測量。例如,在將用於測量表面能之封裝組成物施加於SiNx基材上至約50 μm之厚度且塗布面積為4 cm2
(寬度:2 cm,高度:2 cm)以形成密封層(旋塗器),其係在氮氣氛之下於室溫下乾燥約10分鐘,然後用強度為1000 mW/cm2
經由4000 mJ/cm2
之光量UV固化。將於固化後之層上的表面張力為已知之去離子水滴落並獲得其接觸角的程序重複五次,以獲得所獲得之五次接觸角值的平均值,同樣的,將表面張力已知之二碘甲烷滴落並獲得其接觸角的程序重複五次,以獲得所獲得之五次接觸角值的平均值。然後,表面能可藉由Owens-Wendt-Rabel-Kaelble法,使用去離子水及二碘甲烷所獲得的接觸角之平均值取代關於溶劑之表面張力的值(Strom值)而獲得。
再者,在本申請案之一實施態樣中,該封裝組成物於固化後在可見光區中可具有90%或更高、92%或更高、或95%或更高之透光率。在上述範圍內,本申請案藉由將該封裝組成物應用於頂射型有機電子裝置而提供具有高解析度、低功率消耗及長壽命的有機電子裝置。此外,本申請案之封裝組成物於固化後可具有根據JIS K7105標準測試為3%或更低、2%或更低或1%或更低之霧度,且下限無特別限制,但可為0%。在該霧度範圍內,該封裝組成物於固化後可具有優異的光學性質。在本說明書中,上述透光率或霧度可在該封裝組成物係固化成有機層的狀態下測量,及可為於該有機層之厚度為2 μm至50 μm之任一厚度時測量的光學特性。在本申請案之一實施態樣中,為了實現該光學特性,可不包括上述水分吸附劑或無機填料。
在一個實例中,本申請案之封裝組成物於固化後測量之揮發性有機化合物的量可為低於50 ppm。在本說明書中,該揮發性有機化合物可表示為排氣。該等揮發性有機化合物可使用Purge & Trap-gas層析術/質譜法,於使封裝組成物固化之後,然後使該固化產物於110℃保持30分鐘來測量。該測量係使用Purge & Trap取樣儀(JAI JTD-505 III)-GC/MS (Agilent 7890b/5977a)進行。
在本申請案之一實施態樣中,該有機電子元件可包含第一電極層、形成於該第一電極層上且至少包含發光層之有機層,以及形成於該有機層上之第二電極層。該第一電極層可為透明電極層或反射電極層,以及該第二電極層亦可為透明電極層或反射電極層。更具體而言,該有機電子元件可包含形成於基材上之反射電極層、形成於該反射電極層上且至少包含發光層之有機層,以及形成於該有機層上之透明電極層。
在本申請案中,該有機電子元件可為有機發光二極體。
在一個實例中,根據本申請案之有機電子裝置可為頂射型,但不局限於此,及可應用於底射型。
如圖1所示,該有機電子裝置可進一步包含用於保護該元件之電極及發光層的保護層(35)。該保護層(35)可為無機保護膜。該保護層可為藉由化學氣相沉積(CVD)之保護層,其中可使用已知之無機材料作為其材料,以及例如可使用氮化矽(SiNx)。在一個實例中,用作保護層之氮化矽(SiNx)可沉積至0.01 μm至50 μm之厚度。
如圖1所示,在本申請案之一實施態樣中,該有機電子裝置(3)可進一步包含形成於該有機層(33)上之無機層(34)。該無機層(34)之材料無限制,其可與上述無機保護層(33)相同或不同。此外,該無機層(34)可以與無機保護層(35)相同之方法形成。在一個實例中,該無機層可為選自由下列所組成之群組的一或多種金屬氧化物或氮化物:Al、Zr、Ti、Hf、Ta、In、Sn、Zn及Si。該無機層之厚度可為0.01 μm至50 μm、0.1 μm至20 μm、或1 μm至10 μm。在一個實例中,本申請案之無機層可為無任何摻雜劑之無機材料,或可為包含摻雜劑之無機材料。可摻雜之摻雜劑可為選自由下列所組成之群組的一或多種元素:Ga、Si、Ge、Al、Sn、Ge、B、In、Tl、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Co及Ni、或該元素之氧化物,但不局限於此。
本申請案之有機電子裝置(3)可包含含有如上述之有機層(33)及無機層(34)的密封結構(36),其中該密封結構可包含至少一或多個有機層及至少一或多個無機層,且該有機層及該無機層可重複層合。例如,該有機電子裝置可具有基材/有機電子元件/無機保護層/(有機層/無機層)n之結構,其中n可為範圍在1至100之數目。圖1為例示性顯示其中n為1之情況的橫斷面圖。
在一個實例中,本申請案之有機電子裝置(3)可進一步包含存在於該有機層(33)上之覆蓋基材(38),如圖2所示。在本申請案中,基材(31)及/或覆蓋基材(38)之材料無特別限制,且可使用本技術中的已知材料。例如,基材(31)或覆蓋基材(38)可包含金屬基底材料或聚合物膜。作為聚合物膜,例如,可使用聚對酞酸伸乙酯膜、聚四氟乙烯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚胺甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯膜、乙烯-丙烯共聚物膜、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物膜、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物膜或聚醯亞胺膜等。考慮到應用至撓性有機電子裝置之基材的厚度範圍,其可在1至100 μm、10 μm至85 μm、或15 μm至70 μm之範圍。此外,覆蓋基材之厚度可在1至100 μm、10 μm至85 μm、或15 μm至70 μm之範圍。
再者,如圖2中所示,有機電子裝置(3)可進一步包含存在於覆蓋基材(38)與上面形成有機電子元件(32)的基材(31)之間的密封膜(37)。密封膜(37)可應用於附接上面形成有機電子元件(32)之基材(31)與覆蓋基材(38)的用途,其可為例如壓敏性黏著劑膜或黏著劑膜,但不局限於此。密封膜(37)可密封上述層合於有機電子元件(32)上之有機層和無機層的密封結構(36)之整個表面。
本申請案亦關於用於製造上述有機電子裝置之方法。
在一個實例中,該製造方法可包含下列步驟:於其上部形成有機電子元件(32)之基材(31)上形成有機層(33),使得上述封裝組成物密封該有機電子元件(32)的整個表面。
此處,該有機電子元件(32)可藉由諸如真空沉積或濺鍍方法,於諸如金屬基底材料或聚合物膜作為基材(31)的基材(31)上形成反射電極或透明電極,以及於該反射電極上形成有機材料層所製造。該有機材料層可包含電洞注入層、電洞傳輸層、發光層、電子注入層及/或電子傳輸層。隨後,於有機材料層上進一步形成第二電極。該第二電極可為透明電極或反射電極。
本申請案之製造方法可進一步包含下列步驟:於形成於基材(31)上之第一電極上形成無機保護層(35)、有機材料層以及第二電極。然後施加上述有機層(33)以覆蓋基材(31)上之有機電子元件(32)的整個表面。此處,形成有機層(33)之步驟無特別限制,且可使用諸如噴墨印刷、凹版塗布、旋塗、網版印刷或反向平版塗布之方法將上述組成物至施加基材(31)上側。
該製造方法可進一步包含用光照射有機層之步驟。在本發明中,亦可對密封有機電子裝置之有機層進行固化程序,且此種固化程序可例如於加熱室或UV室中進行,及較佳可於UV室中進行。
在一實例中,於施加上述封裝組成物以形成有機層之後,可用光照射該組成物以引發交聯。光之照射可包含用波長範圍為250 nm至450 nm或300 nm至450 nm區帶且光量為0.3至6 J/cm2
或光量為0.5至5 J/cm2
之光照射。
此外,本申請案之製造方法可進一步包含於有機層(33)上形成無機層(34)。作為形成無機層之步驟,可使用本技術中之已知方法,其可與上述形成無機保護層之方法相同或不同。 [有利效果]
本申請案提供可有效阻擋水分或氧從外部引入該有機電子裝置以確保有機電子元件之壽命以及於可應用於撓性裝置時具有優異耐久性的有機電子裝置。
以下,經由根據本發明之實施例及不符合本發明之對照實例更詳細描述本發明,但本發明範圍不受下列實施例局限。
實施例1
作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2021P,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-101,得自TOAGOSEI)、光引發劑(Irgacure PAG 290,得自BASF,下文稱為I290)以及氟系界面活性劑(F552,得自DIC)係於室溫下分別以23.8:28.7:37.5:5.0:1.0 (Celloxide2021P: DE203: OXT-101: I290: F552)之重量比引入混合容器。
在混合容器中,使用行星式混合機(Kurabo,KK-250s)製備均勻之封裝組成物墨水。
除了上述之外,藉由真空沉積法將反射電極形成於聚醯亞胺基材上,且於該反射電極上形成有機材料層。該有機材料層包含電洞注入層、電洞傳輸層、發光層、電子注入層及電子傳輸層。然後,於該有機材料層上進一步形成透明電極。然後,於該基材上形成有機層,以密封該有機電子元件的整個表面,從而製造有機電子裝置。有機層係藉由使用噴墨列印機噴墨先前製備的墨水組成物而形成。
實施例2
以與實施例1相同方式製備封裝組成物,惟在室溫下,作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2021P,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-221,得自TOAGOSEI)、光引發劑(I290)及氟系界面活性劑(FC-4430,得自3M Company)係以29.4:10.2:50.4:5.0:1.0 (Celloxide2021P: DE203: OXT-221: I290: FC-4430)之重量比添加至混合容器。
實施例3
以與實施例1相同方式製備封裝組成物及有機電子裝置,惟在室溫下,作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 3000,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-212,得自TOAGOSEI)、光引發劑(I290)及氟系界面活性劑(F552,得自DIC)係以30.0:7.2:52.8:5.0:1.0 (Celloxide 3000: DE203: OXT-212: I290: F552)之重量比添加至混合容器。
對照實例1
作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2021P,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-212,得自TOAGOSEI)、光引發劑(I290)以及氟系界面活性劑(F552,得自DIC)係以2.3:23.4:64.3:5.0:1.0 (Celloxide2021P: DE203: OXT-212: I290: F552)之重量比引入混合容器。
在混合容器中,使用行星式混合機(Kurabo,KK-250s)製備均勻之封裝組成物墨水。
除了上述之外,藉由真空沉積法將反射電極形成於聚醯亞胺基材上,且於該反射電極上形成有機材料層。該有機材料層包含電洞注入層、電洞傳輸層、發光層、電子注入層及電子傳輸層。然後,於該有機材料層上進一步形成透明電極。然後,於該基材上形成有機層,以密封該有機電子元件的整個表面,從而製造有機電子裝置。有機層係藉由使用噴墨列印機噴墨先前製備的墨水組成物而形成。
對照實例2
以與對照實例1相同方式製備封裝組成物及有機電子裝置,惟在室溫下,作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2081,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-221,得自TOAGOSEI)、光引發劑(I290)及聚矽氧系界面活性劑(BYK399,得自BYK Co., Ltd.)係以24.8:24.3:40.9: 5.0:1.0 (Celloxide 208: DE203: OXT-221: I290: BYK1798)之重量比添加至混合容器。
對照實例3
以與實施例1相同方式製備封裝組成物,惟在室溫下,作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2021P,Daicel Corp.)、含氧呾基之化合物(OXT-221,得自TOAGOSEI)、含鋶鹽之光引發劑(I290)及氟系界面活性劑(F552,得自DIC)係以37.5:52.5:5.0:1.0 (Celloxide2021P: OXT-221: I290: F552)之重量比添加至混合容器。
對照實例4
以與實施例1相同方式製備封裝組成物,惟在室溫下,作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2021P,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-221,得自TOAGOSEI)、光引發劑(I290)及氟系界面活性劑(F552,得自DIC)係以37.5:7.0:45.5:5.0:1.0 (Celloxide2021P: DE203: OXT-221: I290: F552)之重量比添加至混合容器。
對照實例5
以與實施例1相同方式製備封裝組成物,惟在室溫下,作為環氧化合物之脂環環氧化合物(Celloxide 2081P,Daicel Corp.)及脂族環氧化合物(DE203,HAJIN CHEM TECH)、含氧呾基之化合物(OXT-221,得自TOAGOSEI)、光引發劑(I290)及氟系界面活性劑(F552,得自DIC)係以20.0:41.0:29.0:5.0:1.0(Celloxide 2081P: DE203: OXT-221: I290: F552)之重量比添加至混合容器。
對照實例6
以與實施例1相同方式製備封裝組成物,惟使用得自BASF之錪光引發劑Irgacure 250(活性含量75重量%,溶劑(碳酸丙二酯)25重量%)代替I290作為光引發劑。
對照實例7
以與實施例1相同方式製備封裝組成物,惟使用得自BASF之含鋶鹽光引發劑UV692(活性含量50重量%,溶劑(碳酸丙二酯)50重量%)代替I290作為光引發劑。
實施例及對照實例之物理性質係以下示方式評估。
1. 黏度測量
實施例及對照實例中所製備之封裝組成物的黏度係如下使用DV-3作為Brookfield黏度計測量。
針對所製備之封裝組成物,於25℃之溫度、90%轉矩以及100 rpm之剪切速率下測量黏度。具體而言,黏度係使用Brookfield黏度計之錐/板法藉由注射0.5 ml之樣本來測量。
2. 固化敏感度測量
實施例及對照實例中所製備之封裝組成物各用1 J/cm2
於 1000 mW/cm2
之強度的UV照射,然後測量各黏著劑之無膠黏時間。首先,藉由旋塗將封裝組成物施加至表1之厚度並予以固化。無膠黏時間係定義為於固化後立刻碰觸密封材料表面時直到膠黏感消失且密封材料完全未溢出的時間,並測量之。在無膠黏時間少於1秒之情況下分級為,在少於1分鐘之情況下分級為O,在5分鐘或更久之情況下分級為Δ,以及在30分鐘或更久之情況下分級為X。
3. 表面硬度測量
實施例及對照實例中所製備之封裝組成物各經由旋塗施加至50 mm x 50 mm之LCD玻璃基底材料上至表1的厚度。所施加之組成物係經由LED UV燈以1000 mJ/cm2
之光量固化。根據ASTM D3363標準,使用H至5H之鉛筆硬度測試儀,在500 g之重量下且速度為273 mm/min對固化產物進行表面硬度測試。
4. 有機層厚度
當實施例及對照實例中所製備之封裝組成物進行噴墨時,若有機層形成為20 μm或更小之厚度,可判斷良好,以及在有機層形成為40 μm或更小之厚度的情況下,可分類為正常,及在有機層形成為60 μm或更小之厚度的情況下,分類為不良。在如下表1之對照實例2至5的情況下,實際上無法形成20 μm或更小之薄有機層。
5. 亮度改變率之測量
於實施例及對照實例中所製造之有機電子裝置的有機層係以1 J/cm2
於1000 mW/cm2
之強度的UV照射並固化。
就所製造之有機電子裝置而言,亮度改變率係於摺疊試驗之後測量,在該摺疊試驗中,於25℃之溫度及50%相對濕度下摺疊該有機電子裝置之可摺疊部件使曲率半徑為2.5R (2.5 mm)的程序係重複100,000次。亮度改變率係使用KSC 7613國家標準測量。改變率係計算為(|摺疊之後的平均亮度-摺疊之前的平均亮度|)/摺疊之前的平均亮度×100。
3‧‧‧有機電子裝置31‧‧‧基材32‧‧‧有機電子元件33‧‧‧有機層34‧‧‧無機層35‧‧‧保護層36‧‧‧密封結構37‧‧‧密封膜38‧‧‧覆蓋基材
圖1及2為顯示根據本發明之一個實例的有機電子裝置之橫斷面圖。
3‧‧‧有機電子裝置
31‧‧‧基材
32‧‧‧有機電子元件
33‧‧‧有機層
34‧‧‧無機層
35‧‧‧保護層
36‧‧‧密封結構
Claims (20)
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該有機層包含墨水組成物。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該有機層具有在2至20μm之範圍的厚度。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該有機層具有根據ASTM D3363標準為3H或更高之鉛筆硬度。
- 如申請專利範圍第2項之有機電子裝置,其中該墨水組成物具有50cPs或更低之黏度,其係於25℃之溫度、90%轉矩以及100rpm之剪切速率下藉由Brookfield之DV-3測量。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該環氧化合物具有至少雙官能度。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該環氧化合物包含分子結構中具有環狀結構的化合物及/或直鏈或支鏈脂族化合物。
- 如申請專利範圍第7項之有機電子裝置,其中該直鏈或支鏈脂族化合物之含量,相對於100重量份之該具有環狀結構的化合物,係在20重量份或更多且少於205重量份之範圍。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該具有氧呾基之化合物的沸點係在90至300℃之範圍。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該具有氧呾基之化合物的重量平均分子量係在150至1,000g/mol之範圍。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該有機層進一步包含界面活性劑。
- 如申請專利範圍第11項之有機電子裝置,其中該界面活性劑包含極性官能基。
- 如申請專利範圍第11項之有機電子裝置,其中該界面活性劑包含氟系化合物。
- 如申請專利範圍第11項之有機電子裝置,其中該界面活性劑之含量,相對於100重量份之該環氧化合物,為0.01重量份至10重量份。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其中該有機層進一步包含光引發劑。
- 如申請專利範圍第15項之有機電子裝置,其中該光引發劑包含鋶鹽。
- 如申請專利範圍第15項之有機電子裝置,其中該光引發劑之含量,相對於100重量份之該環氧化合物,為1至15重量份。
- 如申請專利範圍第2項之有機電子裝置,其中該墨水組成物呈無溶劑型。
- 如申請專利範圍第1項之有機電子裝置,其進一步包含於該有機電子元件與該有機層之間的無機保護層。
- 一種製造如申請專利範圍第1項之有機電子裝置的方法,其包含以下步驟:於上面形成有該有機電子元件之基材上形成有機層,使得封裝組成物密封該有機電子元件的整個表面。
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Families Citing this family (6)
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KR102689252B1 (ko) * | 2021-09-06 | 2024-07-30 | 한국과학기술원 | 열적 잔류응력 제어를 통한 유연 박막봉지 및 그 제조 방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080107821A1 (en) * | 2005-01-21 | 2008-05-08 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Polymerizable Actinic Radiation Curable Composition, Polymerization Method, Actinic Radiation Curable Ink and Image Formation Method, and Ink Jet Recording Apparatus and Epoxy Compound |
WO2016200180A1 (ko) * | 2015-06-09 | 2016-12-15 | 주식회사 엘지화학 | 접착 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5219872B2 (zh) | 1974-06-17 | 1977-05-31 | ||
JP3865438B2 (ja) * | 1996-09-03 | 2007-01-10 | Tdk株式会社 | 光ディスク |
JP2000111857A (ja) | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の評価方法 |
JP2005109401A (ja) | 2003-10-02 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザモジュールおよびその製造方法 |
JP2006307154A (ja) | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Nippon Zeon Co Ltd | 脂環式オレフィン重合体から成る樹脂膜 |
KR100934752B1 (ko) | 2008-04-10 | 2009-12-30 | 주식회사 잉크테크 | 광전자 소자용 잉크 조성물 |
JP5219872B2 (ja) | 2009-02-10 | 2013-06-26 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 変性樹脂組成物、その硬化物、及びそれらを含む封止材、並びに変性樹脂組成物の製造方法 |
KR101424346B1 (ko) | 2011-11-18 | 2014-08-01 | 주식회사 엘지화학 | 유기전자장치 봉지용 광경화형 점접착 필름, 유기전자장치 및 그의 봉지 방법 |
JP5971501B2 (ja) * | 2012-01-06 | 2016-08-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 電子装置の製造方法 |
DE102012211335A1 (de) * | 2012-06-29 | 2014-01-02 | Tesa Se | Klebeband für die Kapselung einer organischen elektronischen Anordnung |
JP5916220B2 (ja) | 2012-07-19 | 2016-05-11 | 日本化薬株式会社 | エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物 |
JP5946417B2 (ja) | 2013-01-31 | 2016-07-06 | オリジン電気株式会社 | 紫外線硬化型接着剤組成物及び接着方法 |
JP6200203B2 (ja) * | 2013-05-16 | 2017-09-20 | 積水化学工業株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法 |
KR20190114042A (ko) | 2013-08-27 | 2019-10-08 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 경화성 조성물 및 전자 소자에서의 용도 |
CN104518134A (zh) * | 2013-09-27 | 2015-04-15 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 一种有机电致发光器件及其制备方法 |
CN104638113A (zh) * | 2013-11-12 | 2015-05-20 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 一种有机电致发光器件及其制备方法 |
KR20150097359A (ko) | 2014-02-18 | 2015-08-26 | 주식회사 엘지화학 | 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치 |
KR102337661B1 (ko) * | 2014-06-10 | 2021-12-10 | 연세대학교 산학협력단 | 유연한 투명 투습방지막, 투명 투습방지막용 잉크형 조성물 및 이를 포함하는 전자소자 |
US10385237B2 (en) * | 2015-06-09 | 2019-08-20 | Lg Chem, Ltd. | Organic electronic device |
KR20170003169A (ko) * | 2015-06-30 | 2017-01-09 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 잉크젯프린팅 공정에 적합한 유기발광소자 봉지용 액상 충진제 조성물 및 이의 제조방법 |
KR101788386B1 (ko) * | 2015-08-03 | 2017-10-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 윈도우 필름용 조성물, 이로부터 형성된 플렉시블 윈도우 필름 및 이를 포함하는 플렉시블 디스플레이 장치 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080107821A1 (en) * | 2005-01-21 | 2008-05-08 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Polymerizable Actinic Radiation Curable Composition, Polymerization Method, Actinic Radiation Curable Ink and Image Formation Method, and Ink Jet Recording Apparatus and Epoxy Compound |
WO2016200180A1 (ko) * | 2015-06-09 | 2016-12-15 | 주식회사 엘지화학 | 접착 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치 |
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