TWI673175B - 光學積層體、偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種光學積層體，其係偏光件透過黏著劑層貼合於含有離子成分之基板而成者；該光學積層體中，前述基板係將離子成分溶出至黏著劑層側者；且，在前述偏光件與前述基板之間具有透明阻隔層，該透明阻隔層可抑制前述離子成分移動至偏光件側。本發明之光學積層體在高溫高濕環境下仍可抑制光學特性降低。

Description

光學積層體、偏光薄膜及影像顯示裝置
本發明涉及一種透過黏著劑層貼合偏光件而成之光學積層體。且，本發明涉及用於前述光學積層體之偏光薄膜。前述光學積層體可以其單獨、亦可將其與其他光學薄膜組合，而形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
發明背景 以液晶顯示裝置來說，由其影像形成方式，在形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜是必要而不可或缺的。偏光薄膜一般常使用於由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料構成之偏光件單面或兩面透過聚乙烯醇系接著劑等而貼合有保護薄膜者。
又，偏光薄膜依其使用用途或使用狀態可能會暴露於嚴酷環境下。因此，人們尋求偏光薄膜具有即使在嚴酷環境下仍能維持光學特性之耐久性。舉例而言，有文獻提議於偏光件之至少單面設置具有預定儲存彈性模數的胺甲酸乙酯樹脂(專利文獻1、2)。根據專利文獻1、2之記載，可在高溫下仍維持偏光薄膜之正交透射率。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開平11-030715號公報 專利文獻2：日本特開平11-183726號公報
發明概要
發明欲解決之課題 前述偏光薄膜除了在高溫環境下使用之外，亦會在高溫高濕環境下使用。又，前述偏光件或偏光薄膜係以透過黏著劑層積層於玻璃基板等做成光學積層體來使用。然而，已知依前述玻璃基板不同，例如若將其保持於高溫高濕環境下，可能會有成為雜質之離子等成分溶出之情形。並且，已知該溶出成分會在黏著劑層中移動而侵入偏光件中，使偏光件之水分率上升，結果致使偏光件之偏光度降低，而使光學積層體之光學特性大幅降低。然而，將如上述專利文獻1、2所述之胺甲酸酯樹脂設置於偏光件，並無法充分抑制前述光學積層體之光學特性降低。
本發明之目的在於提供一種在高溫高濕環境下仍可抑制光學特性降低之光學積層體。又，本發明之目的在於提供一種用於前述光學積層體之偏光薄膜。
又，本發明之目的在於提供一種具有前述光學積層體之影像顯示裝置。
用以解決課題之手段 經本案發明人等積極檢討，結果發現藉由下述光學積層體等可解決上述課題，遂完成本發明。
亦即，本發明係有關於一種光學積層體，其係偏光件透過黏著劑層貼合於含有離子成分之基板而成者，該光學積層體之特徵在於：前述基板係將離子成分溶出至黏著劑層側者；且，在前述偏光件與前述基板之間具有透明阻隔層，該透明阻隔層可抑制前述離子成分移動至偏光件側。
前述光學積層體中，前述基板可舉如鹼玻璃基板。
前述光學積層體中，前述基板在120℃之熱水中煮沸1小時後，從煮沸時所使用過的水中檢測出之鈉離子的量為0.1μg/g以上時，本發明即適用。
前述光學積層體可使用前述透明阻隔層經直接形成於前述偏光件或前述基板者。
前述光學積層體中，前述偏光件之厚度宜為10μm以下。
前述光學積層體中，前述透明阻隔層之厚度宜為3μm以下。
前述光學積層體中，前述透明阻隔層可使用含有胺甲酸乙酯預聚物的形成材之硬化物，且該胺甲酸乙酯預聚物係異氰酸酯化合物與多元醇的反應物。前述異氰酸酯化合物宜使用選自二異氰酸甲苯酯及二苯甲烷二異氰酸酯中之至少任一種。
前述光學積層體中，前述偏光件中於與具有前述透明阻隔層側相反之側的單面具有保護薄膜。
又，本發明係有關於一種偏光薄膜，其係用於前述光學積層體，該偏光薄膜之特徵在於具有：偏光件及經直接形成於該偏光件之透明阻隔層。
又，本發明係有關於一種具有前述光學積層體之影像顯示裝置。
發明效果 偏光件可以透過黏著劑層貼合於各種基板而製成光學積層體來使用，但可預想到如前所述，依基板不同，在高溫高濕環境下可能會有成為雜質之離子等成分溶出之情形。然後可想見該溶出成分會侵入偏光件使光學積層體之光學特性大幅降低。
本發明之光學積層體在偏光件與前述基板之間具有可抑制前述溶出成分移動至偏光件側的透明阻隔層。該透明阻隔層可阻止來自前述基板之溶出成分移動至偏光件。因此，可防止在高溫高濕環境下會造成偏光件的光學特性降低的溶出成分移動至偏光件，從而可抑制光學特性之降低。
用以實施發明之形態 以下，邊參照圖1至圖4邊說明本發明之光學積層體。 本發明之光學積層體如圖1至圖4所示，偏光件P透過黏著劑層3貼合於基板2，且偏光件P與基板2之間具有透明阻隔層1。前述透明阻隔層1可直接設置於偏光件P或基板2。另，在圖1至圖4中係例示僅於偏光件P之單側具有透明阻隔層1之情形，惟透明阻隔層1可設置於偏光件P之兩側。
又，圖1、圖3之積層光學體係透明阻隔層1位在偏光件P與黏著劑層3之間的情形。圖1、圖3之光學積層體中，透明阻隔層1可直接設置於偏光件P。在製作圖1、圖3之光學積層體時，可調製出一種偏光薄膜，其具有偏光件P及直接形成於該偏光件P之透明阻隔層1。又，在製作圖3之光學積層體時，可調製出一種單面保護偏光薄膜，其在偏光件P中於與具有前述透明阻隔層側相反之側的單面設有保護薄膜4。圖2、圖4之積層光學體係透明阻隔層1位在黏著劑層3與基板2之間的情形。圖2、4之光學積層體中，透明阻隔層1可直接設置於基板2。
本發明之光學積層體如圖3、圖4所示，可於前述偏光件P設置保護薄膜4。圖3、圖4之光學積層體係在圖1、圖2之光學積層體設置有保護薄膜4之情形。另，雖未示於圖式中，但偏光件P與保護薄膜4係透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer layer；底漆層)等中介層來積層。又，雖未示於圖式中，但可於保護薄膜4設置易接著層或施行活性化處理，將該易接著層與接著劑層積層。
又，雖未示於圖式中，但可在圖1至圖4之光學積層體中於偏光件P與基板2之間，將前述透明阻隔層1以外之其他的光學層或光學構件透過黏著劑層或接著劑層來積層。即便於前述光學層或光學構件為在加濕熱條件下會產生溶出成分者時，本發明亦能防止前述溶出成分移動至偏光件，從而有效抑制光學特性降低。另，可於本發明之光學積層體適當設置表面保護薄膜。
＜偏光件＞ 偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並進行單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中以由聚乙烯醇系薄膜與碘等的二色性物質構成之偏光件較適宜。該等偏光件之厚度無特別限制，一般在80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並經單軸延伸而成的偏光件可藉由例如將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘的水溶液中來進行染色，並延伸成原長的3~7倍來製成。亦可視需要浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
本發明可使用厚度10μm以下的偏光件。從薄型化的觀點來看，偏光件厚度宜為8μm以下，較宜為7μm以下，更宜為6μm以下。另一方面，偏光件厚度為2μm以上，更宜為3μm以上。這種薄型偏光件的厚度參差少，視辨性佳且尺寸變化少，所以對熱震的耐久性優異。
作為薄型偏光件，代表上可舉如： 日本專利第4751486號說明書、 日本專利第4751481號說明書、 日本專利第4815544號說明書、 日本專利第5048120號說明書、 國際公開第2014/077599號公報手冊、 國際公開第2014/077636號公報手冊等所記載的薄型偏光件，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光件。
前述偏光件宜構成為以單體透射率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟，T＜42.3)、或 P≧99.9(惟，T≧42.3)。一言以蔽之，滿足前述條件而構成的偏光件具有使用大型顯示元件之液晶電視用顯示器所要求的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大亮度500cd/m2 以上。就其他用途來說譬如可貼合於有機EL顯示裝置之視辨側。
在包含以積層體之狀態進行延伸之步驟及染色步驟的製法中，從可以高倍率延伸以提升偏光性能的觀點來看，前述薄型偏光件以諸如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所述以包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法製得者為宜，且尤以如日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所述以包含在硼酸水溶液中進行延伸前先輔助性地進行空中延伸之步驟的製法製得者為宜。該等薄型偏光件可藉由包含有將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法製得。若為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可在不因延伸造成斷裂等不良狀況下延伸。
<基板>
本發明之光學積層體中，基板使用離子成分。該基板會將離子成分溶出至黏著劑層側。在使用所述基板時，本發明之光學積層體乃有效。前述基板之溶出成分，具體上可透過下述方法、記載於實施例中之方法來確認。
所述會產生溶出成分之基板，例如可藉由將基板於120℃之熱水中煮沸1小時後，從煮沸時所使用過的水中檢測出離子成分來進行。在前述檢出之鈉離子量為0.1μg/g以上時，可確認其為會產生溶出成分之基板。
作為前述基板可舉玻璃基板。尤其鹼玻璃基板為含有鈉成分者，會被檢測出有鈉離子溶出。所述鹼玻璃基板亦包含在顯示裝置上用來作為蓋玻璃的Corning公司製之Gorilla Glass等化學強化玻璃。前述基板之厚度通常為1~5000μm左右，且宜為300~2000μm。
＜透明阻隔層＞ 透明阻隔層係使用可防止來自前述基板之溶出成分移動之層。
由薄層化及光學可靠性之觀點，透明阻隔層之厚度宜為3μm以下，更宜為2μm以下，又更宜為1.5μm以下，且更宜為1μm以下。另一方面，由充分發揮阻隔性之觀點，透明阻隔層之厚度宜為0.1μm以上，更宜為0.2μm以上，又更宜為0.3μm以上。
形成前述透明阻隔層之材料可使用具有透明性且可防止溶出成分移動者。所述材料可舉例如含有為異氰酸酯化合物與多元醇的反應物之胺甲酸乙酯預聚物的形成材。
所述異氰酸酯化合物例如宜為多官能異氰酸酯化合物，具體可舉多官能芳香族系異氰酸酯化合物、脂環族系異氰酸酯、脂肪族系異氰酸酯化合物或該等之二聚物等。
多官能芳香族系異氰酸酯化合物例如可舉二異氰酸伸苯酯、2,4-異氰酸甲苯酯、2,6-二異氰酸甲苯酯、2,2’-二苯甲烷二異氰酸酯、4,4’-二苯甲烷二異氰酸酯、4,4’-甲苯胺二異氰酸酯、4,4’-二苯基醚二異氰酸酯、4,4’-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、亞甲基雙4-苯基異氰酸酯、二異氰酸對伸苯酯等。
多官能脂環族系異氰酸酯化合物例如可舉1,3-環戊烯二異氰酸酯、1,3-環己烷二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、1,3-雙異氰酸基甲基環己烷、異佛酮二異氰酸酯、加氫二苯甲烷二異氰酸酯、加氫伸茬基二異氰酸酯、加氫二異氰酸甲苯酯、加氫四甲基伸茬基二異氰酸酯等。
多官能脂肪族系異氰酸酯化合物例如可舉三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯、1,2-伸丙基二異氰酸酯、1,3-伸丁基二異氰酸酯、十二亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯等。
又，多官能異氰酸酯化合物可舉如三聚異氰酸參(6-異氰酸酯基己基)等具有三個以上異氰酸酯基者。
多元醇例如可舉乙二醇、二乙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、3-甲-1,5-戊二醇、2-丁-2-乙-1,3-丙二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、1,2-己二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、2-甲-1,8-辛二醇、1,8-癸二醇、十八烷二醇、丙三醇、三羥甲丙烷、新戊四醇、己三醇、聚丙二醇等。
作為前述胺甲酸乙酯預聚物，在本發明中宜使用在分子結構上，環狀結構(苯環、三聚氰酸酯環、三聚異氰酸酯環等)在結構中所占比率大之剛性結構者。舉例而言，前述多官能之異氰酸酯化合物可單獨使用一種或併用兩種以上，但由調製前述飽和水分率之觀點，以芳香族系異氰酸酯化合物為宜。其他多官能異氰酸酯化合物亦可併用芳香族系異氰酸酯化合物。而在芳香族系異氰酸酯化合物之中，前述異氰酸酯化合物尤宜使用選自二異氰酸甲苯酯及二苯甲烷二異氰酸酯中之至少任一種。
胺甲酸乙酯預聚物宜使用三羥甲丙烷-三-異氰酸甲苯酯、三羥甲丙烷-三-二苯甲烷二異氰酸酯。
另，前述胺甲酸乙酯預聚物亦可使用於末端異氰酸酯基賦予了保護基者。保護基有肟及內醯胺等。保護了異氰酸酯基者係透過加熱使保護基自異氰酸酯基解離，而使異氰酸酯基進行反應。
並且，可為了提高異氰酸酯基之反應性使用反應觸媒。反應觸媒並無特別限制，惟理想的是錫系觸媒或胺系觸媒。反應觸媒可使用1種或2種以上。反應觸媒的使用量，通常係以相對於100重量份之胺甲酸乙酯預聚物為5重量份以下來使用。一旦反應觸媒量多，交聯反應速度即會變快而使形成材發泡。而使用發泡後的形成材則無法獲得充分的接著性。通常，使用反應觸媒時，宜為0.01~5重量份，更宜為0.05~4重量份。
錫系觸媒可使用無機系、有機系之任一種，惟以有機系為宜。無機系錫系觸媒可舉例如氯化亞錫、氯化錫等。有機系錫系觸媒宜具有至少1個下述有機基：具甲基、乙基、醚基、酯基等骨架之脂肪族基、脂環族基等。可舉例如四-正丁錫、乙酸三-正丁錫、三氯化正丁錫、氫氧化三甲錫、二氯化二甲錫、二月桂酸二丁錫等。
又，作為胺系觸媒並無特別限制。而宜為例如具有至少1個如啶、脒類、二氮雜雙環十一烯等脂環族基等有機基者。除此以外，胺系觸媒還可舉三乙胺等。另外，前述以外之反應觸媒可例示環烷酸鈷、氫氧化苄基三甲銨等。
前述胺甲酸乙酯預聚物一般而言係用來作為溶液。溶液可為溶劑系，亦可為乳液、膠體分散液、水溶液等水系。有機溶劑只要可將構成形成材的成分均勻溶解則無特別限制。有機溶劑可舉例如甲苯、甲基乙基酮、乙酸乙酯等。此外，在作成水系溶液時，亦可摻混例如正丁醇、異丙醇等醇類、丙酮等酮類。在作成水系溶液時，可藉由使用分散劑來進行，或者藉由在胺甲酸乙酯預聚物中導入羧酸鹽、磺酸鹽、四級銨鹽等與異氰酸酯基之反應性低的官能基、或聚乙二醇等水分散性成分來進行。
除前述胺甲酸乙酯預聚物之外，形成透明阻隔層之材料可舉例如氰基丙烯酸酯系形成材、環氧系形成材。
前述透明阻隔層之形成可依前述形成材之種類適當選擇，舉例而言可透過將該形成材塗佈於偏光件或樹脂薄膜等後進行硬化來進行，而可以塗佈層之形式來製得透明阻隔層。一般而言，係於前述塗佈後，在30~100℃左右、更宜在50~80℃下乾燥0.5~15分鐘左右，從而使硬化層形成來進行。另外，當前述形成材含有異氰酸酯成分時，為了促進反應，可在30~100℃左右、更宜在50~80℃下進行0.5~24小時左右之退火處理。
＜黏著劑層＞ 本發明之光學積層體中，用於貼合偏光件之黏著劑層可採用用於偏光薄膜者。又，可與前述黏著劑層一同透過底塗層(primer layer；底漆層)等中介層來積層。
黏著劑層之形成可使用適當的黏著劑，而關於其種類並無特別限制。黏著劑可舉橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又適宜使用光學透明性佳、顯示適當濡溼性、凝聚性與接著性的黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。可展現所述特徵者可適宜使用丙烯酸系黏著劑。
形成黏著劑層之方法，舉例而言可採用以下方法等來製作：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理之分離件等，並將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，轉印至透明阻隔層之方法；或者將前述黏著劑塗佈於透明阻隔層，並將聚合溶劑等乾燥去除而使黏著劑層形成於偏光件之方法。另，於塗佈黏著劑時可適當另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
經剝離處理之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。於所述襯材上塗佈本發明之黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，使黏著劑乾燥之方法可視目的採用適當且適切的方法。宜使用將上述塗佈膜進行過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定為上述範圍，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用適當的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。
黏著劑層之形成方法可採用各種方法。具體而言，可舉出例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、空氣刮刀塗佈、簾式塗佈、唇塗佈、利用模塗機等的擠壓式塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
當前述黏著劑層露出時，也可利用經剝離處理的片材(分離件)保護黏著劑層直到可供實際應用前。
前述分離件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片、金屬箔及其等之積層體等之適當薄片體等，但從表面平滑性優異之觀點來看，適宜使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要為可保護前述黏著劑層之薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度通常為5~200μm，並宜為5~100μm左右。對前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、二氧化矽粉等實行脫模及防污處理，及施行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自前述黏著劑層剝離之剝離性。
＜保護薄膜＞ 構成前述保護薄膜之材料宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、各向同性等方面優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
前述保護薄膜係以偏光件為基準，應用於與應用前述基板側相反之側者。於偏光件的前述相反之側設置本發明之透明阻隔層係屬任意，因此前述保護薄膜宜使用即使在高溫高濕環境下仍不會產生溶出成分之材料。所述保護薄膜之材料可舉如丙烯酸系聚合物、聚烯烴系聚合物等。
此外，保護薄膜中亦可含有1種以上任意的適當添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，熱可塑性樹脂恐有無法充分展現其原本具有的高透明性等之虞。
前述保護薄膜亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。相位差薄膜可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦可作為偏光件保護薄膜發揮功能，故可謀求薄型化。
相位差薄膜可舉如將熱可塑性基板進行單軸或雙軸延伸處理而成的雙折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
保護薄膜的厚度可適當決定，惟一般由強度及操作性等作業性、薄層性等觀點，為1~500μm左右。特別宜為1~300μm，5~200μm較佳，5~150μm更佳，又尤以20~100μm之薄型時尤宜。
前述保護薄膜之不接著偏光件的面上可設置硬塗層、抗反射層、抗黏著層、擴散層乃至防眩層等機能層。另，上述硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等機能層除了可設置在保護薄膜其本身以外，還可另外設置成與保護薄膜分開的個體。
＜中介層＞ 前述保護薄膜與偏光件可隔著接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer layer；底漆層)等中介層來積層。此時期望可藉由中介層將兩者無空氣間隙地積層。
接著劑層係由接著劑形成。接著劑之種類並無特別限制，可使用各種物質。前述接著劑層只要在光學上呈透明即無特別限制，接著劑可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之接著劑，惟以水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑為宜。
就接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係作為由水溶液構成之接著劑來使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑係利用電子射線、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線進行硬化之接著劑，譬如可以電子射線硬化型、紫外線硬化型之態樣作使用。活性能量線硬化型接著劑譬如可使用光自由基硬化型接著劑。將光自由基硬化型活性能量線硬化型接著劑以紫外線硬化型作使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合起始劑。
接著劑之塗敷方式可按接著劑之黏度或目標厚度作適當選擇。塗敷方式例可舉例如：逆向塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或平版)、棒式逆向塗佈機、輥塗佈機、模塗機、棒塗機、刮棒式塗佈機等。其他方面，塗敷可適當使用浸塗法等方式。
又，前述接著劑之塗敷使用水系接著劑等時，宜以最終形成之接著劑層厚度成為30~300nm的方式進行。前述接著劑層之厚度更宜為60~250nm。另一方面，在使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度成為0.1~200μm的方式進行。較宜為0.5~50μm，更宜為0.5~10μm。
至於，積層偏光件與保護薄膜時，可在保護薄膜與接著劑層之間設置易接著層。易接著層可由具有例如下述骨架的各種樹脂所形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，亦可於形成易接著層時添加其他添加劑。具體上可使用賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等之穩定劑等。
易接著層通常會事先設於保護薄膜上，並藉由接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光件積層。易接著層之形成可利用公知技術將易接著層之形成材塗敷於保護薄膜上並加以乾燥來進行。易接著層之形成材通常會考慮乾燥後之厚度、塗敷的圓滑性等進行調整做成已稀釋成適當濃度之溶液。易接著層於乾燥後之厚度宜為0.01~5μm，較宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。又，易接著層可設置多層，此時亦宜使易接著層之總厚度落在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可因應前述黏著劑的種類來選擇黏著性的基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝聚性與接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異之觀點來看，宜使用丙烯酸系黏著劑。
底塗層(primer layer；底漆層)係用以使偏光件與保護薄膜之密著性提升而形成。構成底漆層之材料只要是可對基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層兩者發揮某程度之強力密著力的材料即無特別限定。譬如，可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優異的熱可塑性樹脂等。熱可塑性樹脂可舉例如丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
＜表面保護薄膜＞ 本發明之光學積層體可設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並隔著該黏著劑層保護偏光件。
由檢查性及管理性等觀點，表面保護薄膜之基材薄膜可選擇具有各向同性或近乎各向同性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯醯系樹脂般透明的聚合物。其等之中又以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜可作為1種或2種以上之薄膜材料的層合體使用，或可使用前述薄膜之延伸物。基材薄膜的厚度通常為500μm以下，宜為10~200μm。
形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑可適當選擇以(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物的黏著劑來使用。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，以丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑為宜。黏著劑層之厚度(乾燥膜厚)可因應所需黏著力決定。通常為1~100μm左右，宜為5~50μm。
此外，對表面保護薄膜，亦可在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面透過聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料設置剝離處理層。
＜其他光學層＞ 本發明之光學積層體在實際使用時，可積層偏光件以外之其他光學層來使用。對於該光學層並無特別限定，可使用1層或2層以上之例如反射板及半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等可用於形成液晶顯示裝置等的光學層。尤佳為於本發明之偏光件再積層保護薄膜(樹脂薄膜)、反射板或半透射反射板而成的反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜、於偏光薄膜再積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜再積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或於偏光薄膜再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
於偏光件積層了上述光學層而成之光學積層體，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序個別積層之方式形成，但預先積層成光學薄膜者在品質穩定性與組裝作業等方面較具優勢，有改善液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層時可使用黏著劑層等適當的接著機構。接著上述偏光薄膜及其他光學薄膜時，其等之光學軸可因應所欲獲得之相位差特性等設成適當的配置角度。
本發明之光學積層體可適宜使用在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等等。液晶顯示裝置的形成可依循習知來進行。即，液晶顯示裝置一般是藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，而在本發明中，除使用本發明之光學積層體此點以外無特別限定，可依循習知。液晶單元亦可使用例如IPS型、VA型等任意類型，惟以IPS型尤為理想。
可形成液晶單元之單側或兩側配置有光學積層體的液晶顯示裝置、或是使用了背光件或反射板作為照明系統等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明之光學積層體可配置於液晶單元之單側或兩側。於兩側配置偏光薄膜或光學薄膜時，其等可為相同者，亦可為相異者。此外，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上之諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光件等適當零件。
又，本發明之光學積層體可應用於影像顯示裝置之蓋玻璃。 另外，本發明之光學積層體可應用於影像顯示裝置之液晶基板及樹脂薄膜等。 實施例
以下將列舉實施例說明本發明，惟本發明不受以下所示實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。以下，未特別規定之室溫放置條件全部為23℃且65%R.H.。
(製作薄型偏光件) 於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上施加電暈處理，並在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所獲得之積層體於120℃之烘箱內在不同周速之輥件間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸2.0倍(空中補助延伸)。 接著，將積層體浸漬於液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。 接著，浸漬於液溫30℃的染色浴中並同時調整碘濃度、浸漬時間以使偏光板成預定之透射率。本實施例係將之浸漬於相對於100重量份的水摻混0.2重量份的碘、1.0重量份的碘化鉀所得之碘水溶液中60秒(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份，摻混3重量份的碘化鉀並摻混3重量份的硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 其後，使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份的水，摻混4重量份硼酸、5重量份碘化鉀所得之水溶液)的同時，於不同周速之輥件間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸)。 之後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份的碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 以上述方式製得了包含厚度5μm之偏光件的光學薄膜積層體。
(保護薄膜) 丙烯酸：對厚度40μm之具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸基板之易接著處理面施行電暈處理後來使用。 TAC：使用富士軟片(Fujifilm)公司製、製品名「TJ40」、厚度40μm之三乙醯纖維素系樹脂薄膜。 COP：使用日本ZEON公司製、製品名「ZeonorFilm」、厚度25μm之環烯烴系樹脂薄膜。
(製作接著劑) 將N-羥乙基丙烯醯胺10重量份、丙烯醯基啉30重量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯45份、(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(ARUFON UP1190，東亞合成公司製)10份、光聚合起始劑(IRGACURE 907，BASF公司製)3份、聚合起始劑(KAYACURE DETX-S，日本化藥公司製)2份混合，而調製出紫外線硬化型接著劑。
＜製作單面保護偏光薄膜＞ 在上述光學薄膜積層體之偏光件的表面一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使硬化後接著劑層厚度達1μm的方式塗佈，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射作為活性能量線的紫外線使接著劑硬化。紫外線照射是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰值照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380~440nm)，紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。接著將非晶性PET基材剝離而製出使用有薄型偏光件之單面保護偏光薄膜。所得單面保護偏光薄膜之光學特性為單體透射率42.8%、偏光度99.99%。
＜透明阻隔層之形成材＞ 形成材A：在由二異氰酸甲苯酯與三羥甲丙烷構成的胺甲酸乙酯預聚物之75%乙酸乙酯溶液(Tosoh(東曹)公司製，商品名「CORONATE L」)100份中，加入二月桂酸二辛錫系觸媒(東京FINE CHIMICAL公司製，商品名「Embilizer OL-1」0.1份，並以甲基異丁基酮為溶劑，調製成固體成分濃度10%的胺甲酸乙酯預聚物塗敷液。 形成材B：使用由二苯甲烷二異氰酸酯與三羥甲丙烷構成的胺甲酸乙酯預聚物之75%乙酸乙酯溶液(Tosoh(東曹)公司製，商品名「CORONATE 2067」)，除此之外使用與形成劑A相同之觸媒、溶劑而調製出塗敷液。 形成材C：使用由六亞甲基二異氰酸酯與三羥甲丙烷構成的胺甲酸乙酯預聚物之75%乙酸乙酯溶液(Tosoh(東曹)公司製，商品名「CORONATE HL」，除此之外使用與形成劑A相同之觸媒、溶劑而調製出塗敷液。 形成材D：在胺甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂(日本合成公司製，製品名「紫光UV-1700」)80份中，加入羥乙基丙烯醯胺(興人公司製，製品名「HEAA」)及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製，製品名「IRGACURE 907」)，並以甲基異丁基酮為溶劑，調製成固體成分濃度10%的胺甲酸乙酯丙烯酸酯塗敷液。 形成材E：將聚合度2500、皂化度99.0%之聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAM & POVAL公司製，商品名：JC-25)純粹地溶解，而調製出固體成分濃度4重量%之水溶液。
＜玻璃基板＞ 鹼玻璃：使用了厚度1200~1500μm的松波硝子公司製之載玻片。 大猩猩玻璃(Gorilla Glass)：使用了厚度700μm的Corning公司製之製品名「Gorilla Glass 2」。 無鹼玻璃：使用了厚度700μm的Corning公司製之製品名「EAGLE XG」。
＜檢測玻璃基板之Na離子＞ 在120℃的熱水50ml中，對各玻璃基板(50mm×50mm)進行了1小時之加熱萃取。接著，將煮沸時使用過之熱水取出後冷卻至常溫(23℃)並過濾，針對所得溶液在下述條件下以離子層析儀進行成分分析(Na離子)。結果列於表1。
分析裝置：Thermo Fisher Scientific,ICS-3000(陰離子)/DX-320(陽離子)
<測定條件>
分離管柱：Dionex Ion Pac CS16
保護管柱：Dionex IonPac CG16
去除系統：Dionex CERS-500
檢測器：導電度檢測器
溶析液：MSA水溶液
溶析液流量：1.0mL/min
試料注入量：25μL
當從萃取液中檢出之鈉離子量為0.1μg/g以上時，判斷其為會將離子成分溶出至黏著劑層側之基板。
<形成黏著劑層>
將丙烯酸丁酯100份、丙烯酸3份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份及2,2′-偶氮雙異丁腈0.3份，與乙酸乙酯一同加入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，而調製出溶液。接著，一邊將氮氣噴吹至此溶液中一邊攪拌，並於55℃下使其進行反應8小時，而製得含有重量平均分子量220萬的丙烯酸系聚合物之溶液。並且，於此含有丙烯酸系聚合物之溶液中加入乙酸乙酯，而製得了固體成分濃度經調整成30%之丙烯酸系聚合物溶液。
相對於前述丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份，依序摻混作為交聯劑之以具有異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑(日本Polyurethane(股)製，商品名「CORONATE L」)0.5份、與作為矽烷偶合劑之γ-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷(信越化學工業(股)製，商品名「KMB-403」)0.075份，而調製出黏著劑溶液。將上述黏著劑溶液，以使其乾燥後之厚度為20μm之方式塗佈於經剝離處理之由聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度38μm)所構成之脫模片材(分離件)表面，並且使其乾燥而形成了黏著劑層。
實施例1 ＜製作附透明阻隔層之單面保護偏光薄膜＞ 以棒塗機將上述透明阻隔層之形成材A塗佈於上述單面保護偏光薄膜之偏光件的面(偏光件之未設置保護薄膜的面)之後，在60℃下施行12小時之熱處理，藉此來製作而形成了厚度1μm之胺甲酸乙酯樹脂層。
＜製作光學積層體＞ 接著，於形成於單面保護偏光薄膜上之透明阻隔層貼合形成於上述脫模片材(分離件)之剝離處理面上的黏著劑層，而製作出了附黏著劑層之偏光薄膜。接著，從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離脫模片材之後，於該黏著劑層貼合前述玻璃基板(鹼玻璃)。
實施例2 將實施例1中的玻璃基板之種類變更成如表1所示，除此之外依與實施例1相同方式，而製作出附透明阻隔層之玻璃基板及光學積層體。
實施例3 將實施例1中的透明阻隔層之厚度變更成如表1所示，除此之外依與實施例1相同方式，而製作出附透明阻隔層之玻璃基板及光學積層體。
實施例4 ＜製作附透明阻隔層之玻璃基板＞ 以棒塗機將上述透明阻隔層之形成材A塗佈於前述玻璃基板(鹼玻璃)後，在60℃下施行12小時之熱處理，藉此來製作而形成了厚度1μm之胺甲酸乙酯樹脂層。
＜製作光學積層體＞ 接著，於上述單面保護偏光薄膜的偏光件之面(偏光件之未設置保護薄膜的面)，貼合形成於上述脫模片材(分離件)之剝離處理面上的黏著劑層，而製作出附黏著劑層之偏光薄膜。接著，從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離脫模片材之後，於該黏著劑層貼合前述附透明阻隔層之基板的透明阻隔層(胺甲酸乙酯樹脂層)側。
實施例5 將實施例4中的透明阻隔層之形成材變更成如表1所示，除此之外依與實施例4相同方式，而製作出附透明阻隔層之玻璃基板及光學積層體。
實施例6 ＜製作附透明阻隔層之單面保護偏光薄膜＞ 以棒塗機將上述透明阻隔層之形成材A塗佈於上述單面保護偏光薄膜之偏光件的面(偏光件之未設置保護薄膜的面)之後，在60℃下施行12小時之熱處理，藉此來製作而形成了厚度1μm之胺甲酸乙酯樹脂層。
＜製作光學積層體＞ 接著，於形成於單面保護偏光薄膜上之透明阻隔層上，貼合形成於上述脫模片材(分離件)之剝離處理面上的黏著劑層之後剝離脫模片材。接著，於該黏著劑層貼合厚度40μm的三乙醯纖維素(TAC)薄膜後，進一步貼合形成於上述脫模片材(分離件)之剝離處理面上的黏著劑層，而製作出附TAC薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜。接著，從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離脫模片材之後，於該黏著劑層貼合前述玻璃基板(鹼玻璃)。
實施例7~8、比較例1~6、參考例1 將實施例1中的保護薄膜之種類、透明阻隔層之形成材、厚度、玻璃基板之種類變更成如表1所示，除此之外依與實施例1相同方式，而製作出附透明阻隔層之單面保護偏光薄膜及光學積層體。 另，比較例4之透明阻隔層之形成，係以棒塗機將上述形成劑D塗佈於上述單面保護偏光薄膜的偏光件之面(偏光件之未設置保護薄膜的面)後，在60℃下加熱1分鐘。並在加熱後，以高壓水銀燈對塗佈層照射積算光量為300mJ/cm2 之紫外線，而形成厚度1μm之胺甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂層。 比較例5之透明阻隔層之形成，係以棒塗機將上述形成劑E塗佈於上述單面保護偏光薄膜的偏光件之面(偏光件之未設置保護薄膜的面)後，在60℃下加熱3分鐘，而形成厚度1μm之聚乙烯醇樹脂層來進行。 而比較例1、參考例1中，未形成透明阻隔層。
針對在上述實施例及比較例中所製得的附基板之光學積層體等，進行了下述評估。結果列於表1。
＜偏光件之單體透射率T及偏光度P＞ 使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)測定所得單面保護偏光薄膜之單體透射率T及偏光度P。 另，偏光度P係將2片相同之偏光薄膜以兩者之透射軸平行重疊時的透射率(平行透射率：Tp)及以兩者之透射軸正交重疊時的透射率(正交透射率：Tc)套用至下式而求得。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100 各透射率係以令通過格蘭泰勒(Glan-Taylor)稜鏡偏光件所得完全偏光為100%並以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行光視效能校正所得Y值表示。
＜耐久性：偏光度的變化率(光學可靠性試驗)＞ 將在實施例及比較例中所製得的光學積層體裁切成25mm×50mm之尺寸(吸收軸方向為50mm)後作為試樣。進行將該試樣保持於85℃、85%RH之恆溫恆濕機中500小時的試驗後將之取出，並放置室溫(23℃65%RH)。使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)測定試樣投入前與投入後的偏光度，並求得偏光度的變化率(%)=(1-(投入後之偏光度/投入前之偏光度))。 以下述基準從前述變化率評估其阻隔效果，結果亦列於表1。 〇：變化率在2%以下 ×：變化率大於2%
[表1]
P‧‧‧偏光件
1‧‧‧透明阻隔層
2‧‧‧基板
3‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧保護薄膜
圖1為本發明光學積層體之概略截面圖之一例。 圖2為本發明光學積層體之概略截面圖之一例。 圖3為本發明光學積層體之概略截面圖之一例。 圖4為本發明光學積層體之概略截面圖之一例。

Claims (11)

  1. 一種光學積層體，係偏光件透過黏著劑層貼合於含有離子成分之基板而成者，且前述偏光件之前述基板側上並未配置有保護薄膜；該光學積層體之特徵在於：前述基板會溶出離子成分至黏著劑層側；且，在前述偏光件與前述基板之間具有透明阻隔層，該透明阻隔層可抑制前述離子成分移動至偏光件側。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中前述基板係鹼玻璃基板。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中前述基板在120℃之熱水中煮沸1小時後，從煮沸時所使用過的水檢測出之鈉離子量為0.1μg/g以上。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中前述透明阻隔層係直接形成於前述偏光件或前述基板。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中前述偏光件之厚度為10μm以下。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中前述透明阻隔層之厚度為3μm以下。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中前述透明阻隔層為含有胺甲酸乙酯預聚物的形成材之硬化物，且該胺甲酸乙酯預聚物係異氰酸酯化合物與多元醇的反應物。
  8. 如請求項7之光學積層體，其中前述異氰酸酯化合物含有選自二異氰酸甲苯酯及二苯甲烷二異氰酸 酯中之至少任一種。
  9. 如請求項1至8中任一項之光學積層體，其中前述偏光件中於與具有前述透明阻隔層側相反之側的單面具有保護薄膜。
  10. 一種偏光薄膜，係用於如請求項1至9中任一項之光學積層體；該偏光薄膜之特徵在於具有：偏光件及經直接形成於該偏光件之透明阻隔層。
  11. 一種影像顯示裝置，具有如請求項1至9中任一項之光學積層體。
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