JP2015114352A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示品位を向上することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】互いに対向して配置された第１ガラス基板と第２ガラス基板との間に液晶層を保持した液晶表示パネルと、前記第１ガラス基板の外面側に配置された第１支持層、前記第１支持層に積層された第１偏光子層、及び、前記第１支持層を前記第１ガラス基板の外面側に接着する第１接着層を含む第１光学素子と、前記第２ガラス基板の外面側に配置された第２支持層、前記第２支持層に積層された第２偏光子層、及び、前記第２支持層を前記第２ガラス基板の外面側に接着する第２接着層を含む第２光学素子と、を備え、前記第１支持層及び前記第１接着層は、酸化還元作用を有する材料を含まない、液晶表示装置。
【選択図】図４

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、表示装置として各種分野で利用されている。近年では、液晶表示装置に対して、高温高湿な環境に置かれた場合でも画像の表示品位を維持する要望が高まっている。

一方で、光学積層体（光学素子）において、保護層をシクロオレフィン系ポリマなどによって形成された光透過性基材（支持層）に設けることで、画像の表示品位を維持する技術が知られている。

特開２０１０−１２２３１５号公報

本実施形態の目的は、表示品位を向上することが可能な液晶表示装置を提供することにある。

本実施形態によれば、互いに対向して配置された第１ガラス基板と第２ガラス基板との間に液晶層を保持した液晶表示パネルと、前記第１ガラス基板の外面側に配置された第１支持層、前記第１支持層に積層された第１偏光子層、及び、前記第１支持層を前記第１ガラス基板の外面側に接着する第１接着層を含む第１光学素子と、前記第２ガラス基板の外面側に配置された第２支持層、前記第２支持層に積層された第２偏光子層、及び、前記第２支持層を前記第２ガラス基板の外面側に接着する第２接着層を含む第２光学素子と、を備え、前記第１支持層及び前記第１接着層は、酸化還元作用を有する材料を含まない、液晶表示装置が提供される。

図１は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルＰＮＬの構成及び等価回路を概略的に示す図である。 図２は、図１に示したアレイ基板ＡＲにおける画素構造を対向基板ＣＴの側から見た概略平面図である。 図３は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルＰＮＬの構成を概略的に示す断面図である。 図４は、本実施形態に係る第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２の構成を概略的に示す断面図である。 図５は、輝点の形成過程の一例を概略的に示す図である。 図６は、比較例及び実施形態に係る実験結果を説明するための図である。 図７は、本実施形態の変形例における光学素子の構成を概略的に示す断面図である。

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したもの同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

図１は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルＰＮＬの構成及び等価回路を概略的に示す図である。

すなわち、表示パネルＰＮＬは、アクティブマトリクスタイプの透過型の液晶表示パネルであり、アレイ基板ＡＲと、アレイ基板ＡＲに対向配置された対向基板ＣＴと、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に保持された液晶層ＬＱと、を備えている。アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態でシール材ＳＥによって貼り合わせられている。図示した例では、シール材ＳＥは矩形枠状の閉ループ形状をなすように形成されている。セルギャップは、アレイ基板ＡＲまたは対向基板ＣＴに形成された図示しない柱状のスペーサによって形成されている。液晶層ＬＱは、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間のセルギャップにおいてシール材ＳＥによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルＰＮＬは、シール材ＳＥによって囲まれた内側に、画像を表示するアクティブエリアＡＣＴを備えている。アクティブエリアＡＣＴは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。

アレイ基板ＡＲは、アクティブエリアＡＣＴにおいて、第１方向Ｘに沿って延出したゲート配線Ｇ、第１方向Ｘに交差する第２方向Ｙに沿って延出したソース配線Ｓ、各画素ＰＸにおいてゲート配線Ｇ及びソース配線Ｓと電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ、各画素ＰＸにおいてスイッチング素子ＳＷに接続された画素電極ＰＥなどを備えている。コモン電位の共通電極ＣＥは、アレイ基板ＡＲまたは対向基板ＣＴに備えられ、液晶層ＬＱを介して複数の画素電極ＰＥと対向する。

なお、表示パネルＰＮＬの詳細な構成については説明を省略するが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなどの主として縦電界を利用するモードでは、画素電極ＰＥがアレイ基板ＡＲに備えられる一方で、共通電極ＣＥが対向基板ＣＴに備えられている。また、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなどの主として横電界を利用するモードでは、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方がアレイ基板ＡＲに備えられている。

駆動ＩＣチップ２及びフレキシブル・プリンテッド・サーキット（ＦＰＣ）基板３などの表示パネルＰＮＬの駆動に必要な信号供給源は、アクティブエリアＡＣＴよりも外側の周辺エリアＰＲＰに位置している。図示した例では、駆動ＩＣチップ２及びＦＰＣ基板３は、対向基板ＣＴの基板端部ＣＴＥよりも外側に延出したアレイ基板ＡＲの実装部ＭＴに実装されている。周辺エリアＰＲＰは、アクティブエリアＡＣＴを囲むエリアであり、シール材ＳＥが配置されるエリアを含み、矩形枠状に形成されている。

図２は、図１に示したアレイ基板ＡＲにおける画素構造を対向基板ＣＴの側から見た概略平面図である。なお、ここでは、横電界を利用するモードであるＦＦＳモードを適用した画素構造を例に説明するが、図中には説明に必要な主要部のみを図示している。例えば、第１方向Ｘに並んだ画素ＰＸ１及び画素ＰＸ２は互いに異なる色の色画素である。

ゲート配線Ｇ１及びゲート配線Ｇ２は、第１方向Ｘに沿ってそれぞれ延出している。ソース配線Ｓ１及びソース配線Ｓ２は、第２方向Ｙに沿ってそれぞれ延出し、ゲート配線Ｇ１及びゲート配線Ｇ２と交差している。共通電極ＣＥは、第１方向Ｘに沿って延在し、画素ＰＸ１及びＰＸ２にそれぞれ配置されるとともにソース配線Ｓ１及びＳ２の上方を跨いで、第１方向Ｘに隣接する複数の画素ＰＸに亘って共通に形成されている。また、図示しないが、共通電極ＣＥは、第２方向Ｙに隣接する複数の画素にわたって共通に形成されていても良い。

画素ＰＸ１には、スイッチング素子ＳＷ１と、スイッチング素子ＳＷ１に接続された画素電極ＰＥ１が配置されている。スイッチング素子ＳＷ１は、ゲート配線Ｇ２及びソース配線Ｓ１に電気的に接続されている。画素ＰＸ２には、スイッチング素子ＳＷ２と、スイッチング素子ＳＷ２に接続された画素電極ＰＥ２が配置されている。スイッチング素子ＳＷ２は、ゲート配線Ｇ２及びソース配線Ｓ２に電気的に接続されている。スイッチング素子ＳＷ１及びスイッチング素子ＳＷ２は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）である。

画素電極ＰＥ１及び画素電極ＰＥ２は、それぞれ共通電極ＣＥの上方に位置している。画素電極ＰＥ１及び画素電極ＰＥ２は、それぞれ長方形状の画素形状に対応した島状に形成されている。このような画素電極ＰＥ１及び画素電極ＰＥ２には、共通電極ＣＥと向かい合う複数のスリットＰＳＬが形成されている。

図３は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルＰＮＬの構成を概略的に示す断面図である。

アレイ基板ＡＲは、ガラス基板などの透明な第１ガラス基板１０を用いて形成されている。アレイ基板ＡＲは、第１ガラス基板１０の対向基板ＣＴに対向する側に、図示しないスイッチング素子、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥなどを備えている。

共通電極ＣＥは、第１絶縁膜１１の上に形成されている。共通電極ＣＥは、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などによって形成されている。共通電極ＣＥは、第２絶縁膜１２によって覆われている。

画素電極ＰＥは、第２絶縁膜１２の上に形成され、共通電極ＣＥと向かい合っている。画素電極ＰＥには、上記の通りスリットが形成されているが、詳細な図示を省略している。画素電極ＰＥは、透明な導電材料、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどによって形成されている。画素電極ＰＥは、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。第１配向膜ＡＬ１は、第２絶縁膜１２も覆っている。第１配向膜ＡＬ１は、水平配向性を示す材料によって形成され、アレイ基板ＡＲの液晶層ＬＱに接する面に配置されている。

一方、対向基板ＣＴは、ガラス基板などの透明な第２ガラス基板２０を用いて形成されている。対向基板ＣＴは、第２ガラス基板２０のアレイ基板ＡＲに対向する側に、遮光層ＢＭ、第１カラーフィルタＣＦＡ、第２カラーフィルタＣＦＢ、第３カラーフィルタＣＦＣ、第４カラーフィルタＣＦＤ、第５カラーフィルタＣＦＥ、オーバーコート層ＯＣなどを備えている。

遮光層ＢＭは、第２ガラス基板２０の内面に形成されている。第１乃至第５カラーフィルタのそれぞれは、第２ガラス基板２０の内面に形成されている。

オーバーコート層ＯＣは、第１乃至第５カラーフィルタを覆っている。オーバーコート層ＯＣは、第１乃至第５カラーフィルタの表面の凹凸を平坦化する。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂材料によって形成されている。オーバーコート層ＯＣは、第２配向膜ＡＬ２によって覆われている。第２配向膜ＡＬ２は、水平配向性を示す材料によって形成され、対向基板ＣＴの液晶層ＬＱに接する面に配置されている。

上述したようなアレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとは、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が向かい合うように配置されている。このとき、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴの間には、図示しないスペーサにより、所定のセルギャップが形成される。アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとは、セルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層ＬＱは、これらのアレイ基板ＡＲの第１配向膜ＡＬ１と対向基板ＣＴの第２配向膜ＡＬ２との間に形成されたセルギャップに封入された液晶分子ＬＭを含む液晶組成物によって構成されている。

このような構成の表示パネルＰＮＬに対して、その背面側には、バックライトＢＬが配置されている。バックライトＢＬとしては、種々の形態が適用可能であるが、詳細な構造については説明を省略する。

アレイ基板ＡＲの外面すなわち第１ガラス基板１０の外面側１０Ａには、第１偏光子層ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１が配置されている。対向基板ＣＴの外面すなわち第２ガラス基板２０の外面側２０Ａには、第２偏光子層ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２が配置されている。

尚、図示した例に限らず、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２を逆に配置することも可能である。例えば、第１光学素子ＯＤ１を、第２ガラス基板２０の外面側２０Ａに配置し、第２光学素子ＯＤ２を、第１ガラス基板１０の外面側１０Ａに配置しても良い。即ち、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、第１ガラス基板１０及び第２ガラス基板１０のいずれかの上に接着されていれば良い。

図４は、本実施形態に係る第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２の構成を概略的に示す断面図である。

図示した例では、第１光学素子ＯＤ１は、第１ガラス基板１０の外面側１０Ａに配置された第１支持層Ｒ１１、第１支持層Ｒ１１に積層された第１偏光子層ＰＬ１、及び、第１支持層Ｒ１１を第１ガラス基板１０の外面側１０Ａに接着する第１接着層ＡＤ１１を含む。第２光学素子ＯＤ２は、第２ガラス基板２０の外面側２０Ａに配置された第２支持層Ｒ２１、第２支持層Ｒ２１に積層された第２偏光子層ＰＬ２、及び、第２支持層Ｒ２１を第２ガラス基板２０の外面側２０Ａに接着する第２接着層ＡＤ２１を含む。図示した例では、第１光学素子ＯＤ１は、さらに、第１偏光子層ＰＬ１に積層された第３支持層Ｒ１２を含んでいる。つまり、第１偏光子層ＰＬ１は、第１支持層Ｒ１１と第３支持層Ｒ１２との間に挟持されている。また、第２光学素子ＯＤ２は、さらに、第２偏光子層ＰＬ２に積層された第４支持層Ｒ２２を含んでいる。つまり、第２偏光子層ＰＬ２は、第２支持層Ｒ２１と第４支持層Ｒ２２との間に挟持されている。

第１偏光子層ＰＬ１及び第２偏光子層ＰＬ２は、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によって形成されている。第１支持層Ｒ１１、第２支持層Ｒ１２、第３支持層Ｒ２１、及び、第４支持層Ｒ２２は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系ポリマ（ＣＯＰ）、アクリル系材料等によって形成されている。

第１支持層Ｒ１１の第１接着層ＡＤ１１と接触する表面は、密着性を改善する、あるいは、帯電を防止するための表面処理が施されていても良い。この表面処理は、第１支持層Ｒ１１の表面を改質することや、第１支持層Ｒ１１の表面に他の薄膜を成膜することなどを含む。同様に、第２支持層Ｒ２１の第２接着層ＡＤ２１と接触する表面は、上記の表面処理が施されていても良い。

第１光学素子ＯＤ１において、第１ガラス基板１０の近傍に位置する層、つまり、第１接着層ＡＤ１１及び第１支持層Ｒ１１は、酸化還元作用を有する材料を含まないことが望ましい。このような酸化還元作用を有する材料とは、例えば第１ガラス基板１０から陽イオンの溶出あるいはイオン化促進作用のある酸化剤や、第１接着層ＡＤ１１から陰イオンの溶出あるいはイオン化促進作用のある還元剤などである。同様に、第２光学素子ＯＤ２において、第２ガラス基板２０の近傍に位置する層、つまり、第２接着層ＡＤ２１及び第２支持層Ｒ２１は、酸化還元作用を有する材料を含まないことが望ましい。

第１光学素子ＯＤ１において、第１ガラス基板１０に接触する層、つまり、第１接着層ＡＤ１１は、第１ガラス基板１０から溶出されるイオンを捕捉する酸を含有することが望ましい。陽イオンが第１ガラス基板１０から溶出される場合、その陽イオンを捕捉する酸としては、例えばアクリル酸などが挙げられる。同様に、第２光学素子ＯＤ２において、第２ガラス基板２０に接触する層、つまり、第２接着層ＡＤ２１は、第２ガラス基板２０から溶出されるイオンを捕捉する酸を含有することが望ましい。

第１光学素子ＯＤ１において、第１ガラス基板１０の近傍に位置する層、特に第１支持層Ｒ１１は、アクリル系材料よりもシュウ酸の含有量が少ないシクロオレフィン系ポリマによって形成されることが望ましい。同様に、第２光学素子ＯＤ２において、第２ガラス基板２０の近傍に位置する層、特に第２支持層Ｒ２１は、シクロオレフィン系ポリマによって形成されることが望ましい。第１支持層Ｒ１１あるいは第２支持層Ｒ２１は、シクロオレフィン系ポリマによって形成される場合、偏光子層の支持体として機能するのに加えて、位相差層として機能させることも可能である。

図５は、輝点の形成過程の一例を概略的に示す図である。
図示した例は、第１ガラス基板１０、第１接着層ＡＤ１１、及び、第１支持層Ｒ１１において発生しうる輝点形成過程を示している。なお、輝点とは、バックライトからの光が第１光学素子及び液晶表示パネルを透過して第２光学素子で吸収されて黒表示状態を形成する一方で、一部の光が第２光学素子を透過して輝く点のように視認される現象である。

第１接着層ＡＤ１１が酸化還元作用を有する材料を含んでいる場合、第１接着層ＡＤ１１が水分（Ｈ_２Ｏ）を吸収した際に、第１接着層ＡＤ１１と第１ガラス基板１０が接触する面(第１接着面)Ｓ１、及び、第１接着層ＡＤ１１と第１支持層Ｒ１１が接触する面（第２接着面）Ｓ２からは、それぞれに含まれる材料がイオン化されて第１接着層ＡＤ１１内に溶出する。例えば、第１ガラス基板１０にマグネシウムＭｇが含まれる場合、第１ガラス基板１０のマグネシウムイオンＭｇ^２＋が第１接着面Ｓ１から第１接着層ＡＤ１１内に溶出する。第１支持層Ｒ１１にシュウ酸(ＣＯＯＨ)_２が含まれる場合、第１支持層Ｒ１１のシュウ酸イオン(ＣＯＯ^-)_２が第２接着面Ｓ２から第１接着層ＡＤ１１内に溶出する。ここで、第１接着面Ｓ１及び第２接着面Ｓ２から材料がイオン化する反応を酸化還元反応とする。酸化還元反応によって第１接着層ＡＤ１１内に溶出したマグネシウムイオンＭｇ^２＋及びシュウ酸イオン(ＣＯＯ^-)_２は、互いに結合してシュウ酸マグネシウムＭｇ(ＣＯＯ)_２を形成する。第１接着層ＡＤ１１の内部で生成されたシュウ酸マグネシウムＭｇ(ＣＯＯ)_２は、例えば第２接着面Ｓ２の近傍にて凝集し、第１接着層ＡＤ１１を透過する光の偏光を乱す不純物となりうる。つまり、シュウ酸マグネシウムＭｇ(ＣＯＯ)_２が凝集した領域を透過した直線偏光と、シュウ酸マグネシウムＭｇ(ＣＯＯ)_２が凝集した領域を透過していない領域を透過した直線偏光とでは、偏光状態が相違する。このため、第１偏光子層ＰＬ１を透過した直線偏光のうち、シュウ酸マグネシウムＭｇ(ＣＯＯ)_２が凝集していない領域を透過した直線偏光は、第２偏光子層ＰＬ２にて吸収される（黒表示となる）のに対して、シュウ酸マグネシウムＭｇ(ＣＯＯ)_２が凝集した領域を透過した直線偏光は、第２偏光子層ＰＬ２に吸収されず、第２光学素子ＯＤ２を透過する。このような過程を経て輝点が発生する。

なお、ここでは、第１ガラス基板１０、第１接着層ＡＤ１１、及び、第１支持層Ｒ１１において発生しうる輝点形成過程について説明したが、同様の輝点形成は、第２ガラス基板２０、第２接着層ＡＤ２１、及び、第２支持層Ｒ２１において発生しうるものであるが、その説明は省略する。

本実施形態によれば、第１接着層ＡＤ１１及び第１支持層Ｒ１１が酸化還元作用を有する材料を含まないため、第１接着面Ｓ１及び第２接着面Ｓ２に酸化還元作用を有する材料が存在しない。このため、第１接着層ＡＤ１１を介した第１ガラス基板１０及び第１支持層Ｒ１１での酸化還元反応を抑制することが可能となる。したがって、第１接着層ＡＤ１１の内部での不純物の生成を抑制することが可能となり、この不純物の凝集に起因した輝点の発生を抑制することが可能となる。これにより、表示品位を向上することが可能となる。

また、第１接着層ＡＤ１１が第１ガラス基板１０から溶出したイオンを捕捉するための酸を含むことにより、たとえ第１ガラス基板１０からイオンが溶出したとしても、当該イオンが捕捉され、不純物の生成を抑制することが可能となる。

また、第１支持体Ｒ１１にシュウ酸の含有量が少ない材料（例えば、シクロオレフィン系ポリマ（ＣＯＰ））を用いることにより、第１支持体Ｒ１１そのものからのシュウ酸の溶出が抑制され、不純物の生成を抑制することが可能となる。

次に、高温高湿環境下（例えば、温度６５℃、湿度９０％）に５００時間程置いた際に、表示パネルの表示品位を測定する実験を行った。

図６は、比較例及び実施形態に係る実験結果を説明するための図である。図中の表示品位は、不良品と判定される数の輝点が発生した場合を「NG」とし、正常品と判定される場合を「OK」として示されている。

実験では、実施形態（Ａ）乃至（Ｄ）に係る表示パネルと、比較例に係る表示パネルとを用意し、それぞれの表示品位を測定した。比較例は、実施形態（Ａ）乃至（Ｄ）と比較して、輝点を低減する要素が全く含まれていない点で相違している。

具体的には、比較例は、第１支持層Ｒ１１がアクリル系材料で形成され、第１支持層Ｒ１１及び第１接着層ＡＤ１１が酸化還元作用を有する材料を含み、第１接着層ＡＤ１１がイオンを捕捉する酸を含まない構成である。実験の結果、比較例の表示品位は、多くの輝点が発生し、表示品位としては「NG」と評価した。

実施形態（Ａ）は、第１支持層Ｒ１１がアクリル系材料で形成され、第１支持層Ｒ１１及び第１接着層ＡＤ１１が酸化還元作用を有する材料を含まず、第１接着層ＡＤ１１がイオンを捕捉する酸を含まない構成である。実験の結果、実施形態（Ａ）の表示品位は、ほとんど輝点が発生せず、表示品位としては「OK」と評価した。

実施形態（Ｂ）は、第１支持層Ｒ１１がアクリル系材料で形成され、第１支持層Ｒ１１及び第１接着層ＡＤ１１が酸化還元作用を有する材料を含まず、第１接着層ＡＤ１１がイオンを捕捉する酸を含む構成である。実験の結果、実施形態（Ｂ）の表示品位は、実施形態（Ａ）よりもさらに輝点が少なく、表示品位としては「OK」と評価した。

実施形態（Ｃ）は、第１支持層Ｒ１１がシクロオレフィン系ポリマ（ＣＯＰ）で形成され、第１支持層Ｒ１１及び第１接着層ＡＤ１１が酸化還元作用を有する材料を含まず、第１接着層ＡＤ１１がイオンを捕捉する酸を含まない構成である。実験の結果、実施形態（Ｃ）の表示品位は、実施形態（Ａ）よりもさらに輝点が少なく、表示品位としては「OK」と評価した。

実施形態（Ｄ）は、第１支持層Ｒ１１がシクロオレフィン系ポリマ（ＣＯＰ）で形成され、第１支持層Ｒ１１及び第１接着層ＡＤ１１が酸化還元作用を有する材料を含まず、第１接着層ＡＤ１１がイオンを捕捉する酸を含む構成である。実験の結果、実施形態（Ｄ）の表示品位は、実施形態（Ａ）乃至（Ｃ）よりもさらに輝点が少なく、表示品位としては「OK」と評価した。

このような実験により、本実施形態によれば、高温高湿な環境下であっても、輝点を抑制することが可能となることが確認された。

次に、他のレイアウトの例（変形例）について説明する。
図７は、本実施形態の変形例における光学素子の構成を概略的に示す断面図である。

図７に示した例は、図４に示した例と比較して、第２支持層Ｒ２１と第２接着層ＡＤ２１との間に位相差層ＲＦが挟持されている点で相違している。位相差層ＲＦは、接着層ＡＤＦによって第２支持層Ｒ２１に接着されている。

位相差層ＲＦ及び第２接着層ＡＤ２１は、第２ガラス基板２０の近傍に位置する層であるため、前述したように酸化還元作用を有する材料を含まないことが望ましい。

このような変形例でも、上述の実施形態と同様の効果が得られる。
以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位を向上することが可能な液晶表示装置を提供することができる。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

ＬＰＮ…液晶表示パネル ＡＲ…アレイ基板 ＣＴ…対向基板 ＬＱ…液晶層
ＳＷ…スイッチング素子 ＰＥ…画素電極 ＣＥ…共通電極
ＣＦＡ…第１カラーフィルタ ＣＦＢ…第２カラーフィルタ ＣＦＣ…第３カラーフィルタ ＣＦＤ…第４カラーフィルタ ＣＦＥ…第５カラーフィルタ
ＯＤ１…第１光学素子 ＯＤ２…第２光学素子 ＡＤ１１…第１接着層 ＡＤ２１…第２接着層 Ｒ１１…第１支持層 Ｒ２１…第２支持層

Claims (5)

1. 互いに対向して配置された第１ガラス基板と第２ガラス基板との間に液晶層を保持した液晶表示パネルと、
   前記第１ガラス基板の外面側に配置された第１支持層、前記第１支持層に積層された第１偏光子層、及び、前記第１支持層を前記第１ガラス基板の外面側に接着する第１接着層を含む第１光学素子と、
   前記第２ガラス基板の外面側に配置された第２支持層、前記第２支持層に積層された第２偏光子層、及び、前記第２支持層を前記第２ガラス基板の外面側に接着する第２接着層を含む第２光学素子と、を備え、
   前記第１支持層及び前記第１接着層は、酸化還元作用を有する材料を含まない、液晶表示装置。
2. 前記第１接着層は、前記第１ガラス基板から溶出されるイオンを捕捉する酸を含有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記第１支持層は、シクロオレフィン系ポリマによって形成される、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記第１支持層は、位相差層である、請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 前記第２支持層及び前記第２接着層は、酸化還元作用を有する材料を含まない、請求項１記載の液晶表示装置。

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