TWI657527B - 用於調節反應器基座組件之裝置和方法 - Google Patents

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TWI657527B
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Abstract

本發明係關於一種對準組件以用於改變基座組件之之板相對於反應器處理槽室的的相對位置。對準組件在第一端連接至加熱組件的豎板軸以及在第二端連接至驅動軸。對準組件的一個或多個部分可以選擇地旋轉或側向移動以改變板相對於處理槽室之所需要的相對位置。

Description

用於調節反應器基座組件之裝置和方法
本發明係關於基座組件，其具有由板延伸出之豎板軸。更具體地說，本發明係關於調整豎板軸以改變板位置之特性。具體而言，本發明係關於對準組件位於豎板軸及驅動軸之間以使用於改變反應器處理槽室內基座組件之板的相對位置，使得更精確的對準以及在反應器內部壁板及板之間能夠達成更均勻的間距。
半導體製造過程通常利用支撐於控制條件下槽室中之基板進行。出於多種目的，半導體基板(例如晶片)在處理槽室內側進行熱處理。例如，基板可以利用內部加熱晶片支架或"卡盤"直接實質接觸進行加熱。"承受體"是系統中所使用晶片支撐，在該處晶片以及和承受體由加熱器吸收熱量。
一些處理過程重要控制的條件包括，但不限於，進入槽室流體流速，反應槽室的溫度，流體流入到反應槽室的溫度，以及承受體上晶片的位置。
反應槽室中的加熱可以許多方式發生，包括位在基板表面上的燈排組或陣列以直接地加熱承受體或位於承受體下方承受體加熱器/基座 加熱器。傳統上，基座樣式組件延伸到槽室通過底部壁板以及承受體按裝在基座組件之板上。板可包括電阻加熱構件包封於板內以提供傳導加熱以及提高承受體溫度。可替代地，系統可以提供加熱燈於板的上方以在反應槽室內上方加熱晶片。
基座樣式組件類似於由碟狀物延伸出之軸，其包圍加熱構件。承受體可連接到碟狀物以及晶片放置在承受體中或上面，例如在承受體界定出之晶片形狀區域內，或晶片可位於與碟狀物接觸，在該處晶片口袋狀物形成於該碟狀物內。基座可以繞著軸的中心縱向軸旋轉以軸向地移動碟狀物，承受體以及晶片於處理槽室內。
在處理過程中旋轉有助於改善以及更均勻地加熱以及晶片碟狀物上化學消散。然而，在豎板軸所有旋轉角度下該處理過程需要晶片與處理槽室為同心的以及平行於槽室的頂板。對於適當施加熱量以及化學物於處理槽室內同心度和平行度的公差為非常小以及重要的。通常基座型式加熱器並不符合所需要之公差，由於製造不適當或製造後正常操作例如檢查，清理外殼以及包裝所致。並不在所需要公差內基座型式加熱器容易促使晶片側向偏轉以及徑向偏轉兩者，其中在側向當旋轉時晶片與槽室頂板間之平行度將改變，以及在徑向當旋轉時晶片並不與處理槽室同心的。技術員能夠將晶片定位於槽室中心以及設置晶片平行於槽室頂板於旋轉之前，不過假如基座型式加熱器不在所需要公差範圍內，晶片在旋轉過程中將產生側向及/或徑向偏轉。因而，在本領域中存在巨大的需要以補償基座型式加熱器不符合所需要的公差，特別是對於碟狀物與軸之間的垂直度。
在本發明一項中，本發明提供改變基座組件板相對於反應器處理槽室相對位置的方法，該方法包括以下步驟：連接基座組件的豎板軸到對準組件之第一端部；連接驅動軸至對準組件的第二端部；以及軸向地旋轉對準組件的第一部分以改變板相對於處理槽室之相對位置。
在另一項中，本發明可提供基座組件對準於反應器的方法，該方法包括以下步驟：定位基座組件的板於反應器處理槽室中，其中板的加熱表面以相對於反應器噴頭表面的一個角度放置著，以及其中板的假想縱向中心軸以一個距離與處理槽室的假想縱向中心軸分隔著；放置基座組件經由反應器所界定出開孔，因而豎板軸的第一端部固定到板；連接豎板軸第二端部至對準組件的第一端部；連接驅動軸至對準組件之第二端部；以及調整對準組件以促使減小角度以及減小距離之一或兩者。
在此所揭示各項以及實施方式在附圖以及詳細說明中描述。除非特別說明，預期在說明書以及申請專利範圍中的用字以及用詞為業界熟知此技術者一般，普通的，以及慣常含義。本發明充分認識到如果需要，可以使用自己的專門術語。發明者明確地選擇自己的專門術語，只使用清楚以及一般術語含意於說明書以及申請專利範圍中，除非他們明確說明，否則只有一般以及普通意義，以及進一步明確規定"特別"術語的定義以及解釋與一般以及普通意義之不同處。不存在清楚說明預期採用"特別"定義，發明人預期以及希望用詞為簡單的，一般以及普通的含義適用於詳細說明書以及申請專利範圍的解釋。
發明人也意識到英語文法的正常規則。因此，如果名詞，術語或用辭意在進一步表示特徵，明確說明，或以某種方式限縮，因而該名 詞，術語或用辭將明確地包括附加性形容詞，描述性術語，或其他改良情況，其按照英語文法之正常規則。缺乏使用這樣的形容詞，描述性術語，或改良情況，其預期該名詞，術語或用辭意為上述所揭示業界熟知此技術者一般以及普通的英文意義。
對於業界熟知此技術者，前述以及其他各項，特徵，以及優點由說明書以及附圖以及申請專利範圍將是顯而易見的。
1‧‧‧對準組件
2‧‧‧反應器
3‧‧‧第一端
4‧‧‧第二端
5‧‧‧第一端
6‧‧‧第二端
7‧‧‧基座組件
8‧‧‧板
10‧‧‧處理槽室
9‧‧‧軸
11‧‧‧軸
14‧‧‧壁板
15‧‧‧噴頭表面
16‧‧‧晶片
18‧‧‧支撐構件
18‧‧‧承受體
19‧‧‧表面
20‧‧‧噴頭
24‧‧‧豎板軸
26‧‧‧開孔
27‧‧‧第一端
28‧‧‧第二端
29‧‧‧凸緣
30‧‧‧凸緣
31‧‧‧第一端
32‧‧‧驅動軸
39‧‧‧豎板中心軸
41‧‧‧中心軸
42‧‧‧豎板凸緣
43‧‧‧調整組件
44‧‧‧驅動凸緣
45‧‧‧調整組件
48‧‧‧上板
50‧‧‧中間板
52‧‧‧下板
54‧‧‧量測標記
55‧‧‧上部
56‧‧‧中間部
57‧‧‧下部
58‧‧‧分隔線條
55‧‧‧上側部份
56‧‧‧中間部份
57‧‧‧下側部份
58‧‧‧線條
60‧‧‧環形頸圈
61‧‧‧環形唇狀物
62‧‧‧表面
63‧‧‧凸出物
64‧‧‧凹部
65,65A,65B,65D‧‧‧螺紋通道
66,66B,66D‧‧‧螺絲
67‧‧‧表面
68‧‧‧表面
69‧‧‧通道
70‧‧‧表面
71‧‧‧O形環
72‧‧‧表面
73‧‧‧套環
74‧‧‧表面
75‧‧‧通道
76‧‧‧表面
77‧‧‧外表面
78‧‧‧表面
79‧‧‧螺紋通道
80‧‧‧細縫
81‧‧‧促動凹部
82‧‧‧環形凹槽
85‧‧‧套環
86‧‧‧表面
87‧‧‧環形通道
88‧‧‧O形環
89‧‧‧外表面
90‧‧‧表面
91‧‧‧環形凹槽
92‧‧‧螺紋通道
93‧‧‧螺紋通道
94‧‧‧促動凹部
97‧‧‧通道
98‧‧‧表面
99‧‧‧環形通道
100‧‧‧O形環
101‧‧‧外表面
102‧‧‧表面
103‧‧‧環形凹槽
104‧‧‧細縫
105‧‧‧螺紋通道
107‧‧‧促動凹部
110‧‧‧套環
111‧‧‧表面
112‧‧‧環形通道
113‧‧‧O形環
114‧‧‧外表面
115‧‧‧凸出物
116‧‧‧凹部
117‧‧‧細縫
118‧‧‧表面
125‧‧‧螺絲
127‧‧‧螺絲
129‧‧‧螺絲
131‧‧‧螺絲
133‧‧‧榫狀物
193‧‧‧通道
顯示最佳模式之一個或多個優先實施例揭示於附圖以及下面詳細說明中。申請專利範圍特別地以及清楚地指出以及揭示出本發明。
附圖在此加入構成說明書一部份，其顯示出各種範例性方法，以及本發明的各項之其它範例性實施例。人們應當理解，附圖中所示出的元件邊界(例如，方框，群組方框，或其他形狀)中代表邊界的一個範例。本領域的普通技術人員將理解在一些實例中一個元件可以被繪製為多個元件，或者多個元件可以被繪製為一個元件。在一些實例中，示為另一元件的內部組件之元件可以被實現為外部組件，反之亦然。此外，元件可以不是按比例繪製的。
圖1為正視圖，其顯示出先前技術與驅動軸耦合之基座組件以及部份地位於反應器中以及部份被剖切；圖2為正視圖，其顯示出基座組件部分地位於反應器中以及部分地被剖切以及藉由本發明對準組件與驅動軸耦合；圖3顯示出本發明對準組件的放大前視圖；圖4顯示出對準組件後視圖； 圖5顯示出對準組件左側視圖；圖6顯示出對準組件右側視圖；圖7顯示出對準組件正視分解圖；圖8顯示出沿著圖7之8-8線所展開的視圖；圖9顯示出沿著圖7之9-9線所展開的視圖；圖10顯示出沿著圖7之線10-10所展開的視圖；圖11顯示出沿著圖7之11-11線所展開的視圖；圖12顯示出沿著圖7之12-12線所展開的視圖；圖13顯示出沿著圖3之13-13線所展開的視圖；圖14顯示出沿著圖13之14-14線所展開的斷面圖；圖15顯示出沿著圖13之15-15線所展開的斷面圖；圖16顯示出沿著圖13之16-16線所展開的斷面圖；圖17顯示出類似於圖2的正視圖；以及圖18顯示出類似於圖2的正視圖。
整個附圖中相同的的數字表示類似的零件。
本發明各項以及實施方式以功能性模組元件以及各種處理步驟來詳細說明。該功能性模組可以藉由任何數量配置之硬件或軟件組件來實現以執行指定功能以及實現各種效果。例如，本發明各項可以採用不同的感測器，檢測器，流量控制裝置，加熱器，和類似物，其可以執行多種功能。另外，本發明各項以及實施方式可以結合任意數目的處理方法以及裝置實施，以及所說明裝置以及系統僅是本發明應用的範例。
一種使用於改善反應器處理槽室以及基座組件或基座組件板之間對準的裝置顯示於圖2-18中以及在此通常表示為對準組件1。使用對準組件1以改善反應器處理槽室以及基座組件的板之間對準的方法一般是顯示出於圖2-18中。各種與碟狀物承受體加熱相關之先前技術非新穎的特性並不在此說明。讀者將容易理解承受體加熱的基本原理以及晶片處理是在現有技術範圍內，以及為熟知此技術者容易地理解。
圖1顯示出有關承受體加熱器之先前技術。圖1顯示出反應器2，其界定出處理槽室10於其中。反應器2包括多個壁板14大體上圍繞著處理槽室10以及其為可移動的以允許基板或晶片16被定位於處理槽室內。具體地說，晶片16被定位在基座或基板支撐構件18上，其位於基座組件7上。基座組件7包括板8以及豎板軸24由其延伸出。承受體18靠在板8的表面19上，其通常水平地延伸於處理槽室10內。承受體18靠在表面19上以突出晶片16朝向具有噴頭表面15之噴頭20，其通常水平地延伸於處理槽室10內。板8包圍著加熱構件(未顯示出)以提供均勻的加熱分佈至承受體18以及最終到晶片16於承受體18以及晶片16位於板8上之時。
噴頭20包括各種孔徑(未顯示出)以及特性以選擇性地向晶片16排出特定氣體或氣態混合物於當晶片16被定位在承受體18上以及承受體18被定位在板8上之時。強烈優先地噴頭表面15與表面19為精確地平行，以使由噴頭20排出朝向其下方加熱晶片16氣體或氣體混合物間之化學反應最為有效的。甚至於偏離噴頭表面15以及表面19之間完美平行間隔一個小角度產生側向偏轉或"擺動"於基座組件7依據處理晶片16軸向地旋轉時。晶片16進行處理同時產生側向偏轉將減少許多可用材料以及增加系統整體的 浪費。通常情況下，整個晶片由於非均勻地產生電性問題而加以報廢。
雖然未顯示出，本發明也適用於橫向流反應器，其中反應器的一側包括入口，而相反側具有排出口。氣體或氣體混合物被排出經過基座組件7以及晶片16從入口側到排氣側，以促進與晶片16產生化學反應。橫向流反應器處理過程亦需要精確地平坦的表面，具有最小側向偏轉於基座組件7被暴露於氣體或氣體混合物之時。
加熱組件7的豎板軸24從鄰近板8第一端27延伸通過由壁板14界定出之開孔26以及終止於第二端28。因而反應器處理在噴頭表面15以及表面19之間需要完美平行分隔關係，豎板軸24和板8之間的角度優先為完美直角以使板8對準平行於噴頭20。凸緣29被設置在豎板軸24的第二端28以及構造成可拆卸地連接到凸緣30設置在驅動軸32的第一端31。驅動軸32藉由馬達或任何其它類型的旋轉構件在晶片16處理過程中產生軸向地轉動進入豎板軸24以及板8。
如圖2所示，豎板軸24以直角與板8連接於豎板軸24周圍。不過在輸送或按裝過程中豎板軸24與板8之間垂直連接被碰撞而失去精確地對準。不對準以及非垂直連接在豎板軸24一側產生角度θ 1，以及在相對側產生角度θ 2，其中θ 2等於180度-θ 1。豎板軸24和板8之間的非垂直連接由於表面19移動失去平行對準於噴頭表面15方式而傳播為未對準的晶片16。
如圖2所示，處理槽室10包括假想中心軸11延伸通過處理槽室10的對稱中心。軸11表示處理槽室的精確中心。同樣地，板8包括假想中心軸9。軸9表示板8的精確中心。極優先地軸11與軸9精確地對準，表示晶片16完美地位於處理槽室10內中心。在驅動軸32對加熱組件7作作軸向旋轉 過程中軸11與軸9間之任何偏移將產生徑向偏轉。人們可立即地了解軸11與軸9不對準是由於豎板軸24與板8之間不相互垂直關係所致。為了說明，豎板軸24包括假想的縱向中心豎板中心軸39以及驅動軸32包括假想縱向中心軸41。豎板中心軸39以及驅動軸32顯示於圖2中，相對於彼此具有特殊的指向。對準組件1被配置成選擇性地改變豎板中心軸39以及軸32之指向更緊密地對準板8的中心軸9以及處理槽室10的中心軸11亦更緊密地對準表面19而平行於噴頭表面15。
圖2顯示出板8不對準於處理槽室10，此由於豎板軸24具有θ 1和θ 2並不等於90度。這樣，假想中心軸9不對準於假想中心軸11。此外，表面19並不平行於噴頭表面15。因此，當在板8與豎板軸24之間具有相對角度如圖2中所示基座組件7軸向地旋轉於處理槽室10時，基片16旋轉同時具有徑向偏轉以及側向偏轉。因為豎板軸24和板8之間的連接是永久的，提供對準組件1補償不對準以及再定位板8和基板16進入適當的對準於處理槽室10中以及將相對於處理槽室10之徑向偏轉以及側向偏轉減為最低或抵銷。如圖3所示，對準組件1延伸從第一端3到分隔開的第二端4以及從第一端5到第二端6。對準組件1一般包含同心的調整組件43以及軸向調整組件45。對準組件1連接到豎板軸24靠近於第一端3以及連接到驅動軸32靠近於第二端4。同心調整組件43包括特定形狀豎板凸緣42永久地固定在豎板軸24的第二端28。雖然不是同心調整組件43之部份，傳動軸32還包括特別形狀之驅動凸緣44固定在驅動軸32的第一端31。在所顯示本發明實施例中，豎板凸緣42和驅動凸緣44顯示為具有特定的形狀，但是在另一實施例中，對準組件1位於標準以及先前已知凸緣之間或者在豎板軸24，驅動軸32，或兩者之上。
如圖3所示，軸向調整組件45可拆卸地固定在豎板凸緣42和驅動凸緣44之間。在所說明的實施例中，軸向調整組件45包括三個一般圓板彼此鄰接，即上板48，中間板50，以及下板52。軸向調整組件45更進一步包括量測指標，其具有系列分隔線條58，其上側部份55位於上板48上，中間部份56位於中間板50上，下側部份57位於下板52上，這些線條組一般稱為游標或游標刻度。
如圖3，7，8，及14所示，豎板凸緣42包括從環形唇狀物61延伸出環形頸圈60。豎板凸緣42外部由表面62及交替凸出物63以及凹部64界定出。每個凸出物63界定螺紋通道65由表面62延伸出通過各別凸出物63。一組螺絲66位於每一螺紋通道65中，以及可藉由軸向地相對於螺紋通道65之螺紋旋轉，每一組螺絲66而在其中移動。豎板凸緣42更進一步包含表面67，表面68，以及通道69延伸於其間以及由每一各別凸出物63界定出。豎板凸緣42更進一步包含表面70鄰接O形環71。
如圖3，7，9，及14所示，上板48包括套環73，其具有表面74及表面72，其界定出通道75。當豎板凸緣42與上板48被固定在一起時，O形環71裝配到通道75，以及提供彈性密封於豎板凸緣42表面70與上板48表面72之間。上板48亦包含表面76以及表面78，其具有一組四個螺紋通道79以及一組四個細縫延伸其間。上板48更進一步包括外表面77以及促動凹部81界定於其中。上板48更進一步界定出環形凹槽82。
如圖3，7，10，及14所示，中間板50包括從表面86向上延伸出套環85。套環尺寸互補地按裝在上板48的環形凹槽82內於上板48和中間板50固定在一起之時。表面86和中間板50界定出環形通道87，其尺寸將承 受O形環88。當上板48和中間板50固定在一起時，O形環88提供彈性密封於上板48表面78與中間板50的表面86之間。中間板50更進一步包括外表面89，表面90，以及環形凹槽91。中間板50界定出一組四個螺紋通道92散置於於一組四個螺紋通道93之之間。中間板50界定出一組四個螺紋通道92由表面86延伸到表面90經由中間板50。同樣地，中間板50界定出一組四個螺紋通道93由表面86延伸到表面90經由中間板50。每一螺紋通道92配置於螺紋通道93之間軸向地圍繞著中間板50。中間板50更進一步界定出促動凹部94延伸於其中。
如圖3，7，11，及14所示，下板52包括通道97。通道97設置成匹配地按裝於環形凹槽91內於中間板50和下板52被固定在一起之時。下板52更進一步包括表面98。表面98和下板52界定出環形通道99，其尺寸將承受O形環100於其中。當中間板50和下板52被固定在一起時，O形環100提供彈性密封於中間板50的表面90和下板的表面98之間。下板52更進一步包括外表面101，表面102，和環形凹槽103。下板52界定出一系列四個細縫104從表面98延伸到表面102經由下板52。類似地下板52界定出一系列四個螺紋通道105從表面98延伸到表面102通過下板52。每個細縫104被設置在兩個螺紋通道105之間圍繞著下板52。下板52更進一步界定出促動凹部107由其中延伸出。
如圖3，7，12，及14所示，驅動凸緣44包括套環110從表面111向上地延伸出。套環110的尺寸將承受於下板52之環形凹槽103中於下板52以及驅動凸緣44固定在一起之時。驅動凸緣44界定出環形通道112，其尺寸將承受O形環113在其中。O形環113提供彈性密封於下板52的表面102與驅 動凸緣44的表面111之間於下板52固定到驅動凸緣44之時。驅動凸緣44更進一步包括外表面114位於一組四個凸出物115上，其套環110向外地延伸出。每一凸出物位於凹部116之間。每一凸出物115界定出細縫117由表面111延伸至表面118(圖16)。
如圖3和14所示，螺絲125位於每一通道69中以及承受於上板48之相對應的螺紋通道79中，以固定上板48至豎板凸緣42。如圖9和16所示，螺絲127置於上板48的每一細縫80中以及承受於中間板50相對應的螺紋通道93。
如圖3，10，11，及14所示，螺絲129置於每一細縫104中以及承受於相對應的螺紋通道92中以固定下板52至中間板50。如圖3，11，12，及16所示，螺絲131置於驅動凸緣44的每一細縫117中以及承受於相對應下板52的螺紋通道92中以固定下板52至驅動凸緣44。
如圖8-12，14及16所示，中間板50以及下板42被構造成軸向地旋轉於對準組件1內。此藉由使用先前所提及螺絲於細縫中而變為容易，其運作允許中間板50軸向地對著上板48和下板52旋轉，以及允許下板52軸向地對著中間板48和驅動凸緣44旋轉。如圖8，9，及14所示，螺絲125延伸通過豎板凸緣42的通道69以及進入上板48的通道79。通道69以及通道79牢固地保持上板48靠在豎板凸緣42上。如圖9，10，以及16所示，螺絲127延伸通過穿過上板48之細縫80以及進入中間板50的通道93。細縫80整體延伸敞開特性以及豎板凸緣的凹部64允許中間板50藉由細縫80軸向地樞轉於對準組件1內。雖然螺絲127牢固地保持在中間板50的通道193之內，螺絲127的其餘部分移動於細縫80內而允許中間板50旋轉。
如圖10，11，及14所示，螺絲129延伸通過中間板50的通道92以及通過下板52之細縫104。此相對應地允許中間板50旋轉，藉由提供細縫104而允許螺絲129沿著中間板50旋轉。在類似的情況下，下板52也是藉由相同廣泛的概念在對準組件1內軸向地轉動。具體而言，如先前所討論，螺絲129延伸進入下板52之細縫內，其允許下板52繞著螺絲129旋轉。
相對應地如圖11，12及16所示，螺絲131延伸進入下板52之通道105以及驅動凸緣44之細縫117。驅動凸緣44的細縫117允許螺絲131在驅動凸緣44內對著細縫117延伸性旋轉，其因而允許下板52藉由螺絲131旋轉通過整個細縫長度。
如圖14和16所示，對準組件1的各種螺絲便於固定豎板凸緣42，上板48，中間板50，下板52，以及驅動凸緣44在一起，同時仍然提供中間板50和下板52軸向地可轉動的構件。。具體地，螺絲125固定豎板凸緣42至上板48，螺絲127固定上板48至中間板50，螺絲129固定中間板50至下板52，以及螺絲131固定下板52至驅動凸緣44。另外，螺絲125固定豎板軸24至對準組件1，而螺絲131固定驅動軸32至對準組件1。
如圖3至6所示，上板48，中間板50，和下板52包括非均勻的橫斷面厚度。如圖3所示，從第一側5到第二側6觀察時，上板48，中間板50，和下板52的斷面厚度將改變以及為不均勻的。這樣，上板48，中間板50，和下板52之間表面作為彼此凸輪表面以及當軸向地彼此對著旋轉時，將改變豎板中心軸39和驅動軸41間之指向。提供一系列促動凹部於對準組件1的每一板內以提供簡單的方式以施加轉矩至對準組件1中每一板內以及容易地旋轉所選擇之板。使用者簡單地插入榫狀物或細長的物品到每一促動凹 部以及手動地以所需要的方向施加扭矩至相關聯的板。
相對於側向調整組件43，如圖8，13，及15所示，當從正面看時設定螺絲66可加以促動以改變側向位置，但是從旋轉的動態來看時實際上是豎板軸24相對於驅動軸32之同心的調整。如圖13所示，螺紋通道65位於豎板凸緣42周圍。螺紋通道的螺紋性質65與設定螺絲螺紋性質匹配，以及允許設定螺絲被旋轉向前及向後地於螺紋通道65A內。如圖15所示，設定螺絲66B放置於螺紋通道65B中以及在其中可旋轉以移動固定螺絲66B朝向上板48套環73的表面74。同樣地，位於螺紋通道65D中設定螺絲66D可加以轉動以移動固定螺絲66D向前及向後地於螺紋通道65D內以及可移動朝向上板48套環73的表面。使用者可選擇性地旋轉一個或多個設定螺絲以鄰近表面74以及側向地移動整個豎板凸緣42側向地鄰接特定之設定螺絲66。在該情況下，同心調整組件43可選擇性地使用於改變豎板中心軸39和驅動軸41間之指向。
在操作中，因為上板48，中間板50，和下板52包括非均勻的斷面形狀，這些彼此交互作用元件之之各種表面可視為凸輪表面藉由中間板50和下板52之一或兩者軸向移動以提供豎板中心軸39的線性調整。最終，中間板50和下板52之一或兩者軸向移動可使用來更精確地對準噴頭表面15與表面19為精確平行的關係。如圖17所示，箭頭A表示在第一軸向之方向移動，而箭頭B表示在第二軸向之方向移動。在藉由對準組件1調整之前，使用者安裝基座組件7至反應器2。基座組件7的板8位於處理槽室10內以及豎板軸24延伸通過開孔26。這種結構配置豎板軸24第二端28鄰近於驅動軸32之第一端。因為豎板凸緣42優先永久地連接到豎板軸24的第二端28，使用 者先前已經焊接或以其它方式永久地固定豎板凸緣42於豎板軸24上。同樣地，基座組件7可預先製造具有豎板凸緣42，其已經製造永久地固定至豎板軸24。豎板凸緣42藉由螺絲125固定到上板48延伸通過通道69以及承受於通道79內。此可拆卸地固定豎板凸緣42至上板48。上板48，中間板50，和下板52藉由螺絲127固定在一起，其延伸出通過上板48的細縫80以及承受於中間板50的通道93內。同樣地，螺絲129延伸出通過下板52之細縫104以及承受於中間板之通道92內。使用者再藉由螺絲131固定驅動軸32的凸緣44至下板52。螺絲131延伸通過凸緣44的細縫117以及承受於下板52之通道105內以固定對準組件1至驅動軸32。提供豎板凸緣42之凹槽64以產生螺絲127的空間而不連接螺絲127至豎板凸緣42。同樣地，提供驅動凸緣44之凹槽116以產生螺絲129的空間而不連接螺絲129至驅動凸緣44。如圖17所示，提供榫狀物133，其尺寸將承受於任何促動凹部內，即促動凹部81，促動凹部94，以及促動凹部107，以用於幫助使用者以第一軸向或第二軸向方向軸向地旋轉所選取的的板。
如圖7所示，已知上板48為非均勻的斷面形狀，表面78相對於中間板50之表面86作為凸輪表面。同樣地，已知中間板50為非均勻的斷面形狀，中間板50之表面86相對於上板48作為凸輪表面。同樣地，中間板50的表面90作為凸輪表面對著下板52之表面98。同樣地，已知下板52為非均勻的斷面形狀，表面98相對於中間板50作為凸輪表面。上板48，中間板50，和下板52的斷面面積被配置成使得對準組件1位於原先位置，因而上板48，中間板50，和下板52各個表面鄰接，以在上板48，中間板50，和下板52之間相對應地提供直線和非成角度的對準。當量測標記54的上部55，中間部 56，和下部57為對準的如圖3中所示時，原先位置顯示於圖17中以及對使用者顯示。當使用者期望改變上板48，中間板50，和下板52之間的對準時，其相對應地改變豎板中心軸39和驅動軸41之間的指向，使用者只需插入榫狀物133到任何所期望的或方便的促動凹部，即促動凹部81，促動凹部94，或促動凹部107，以及以第一軸向或第二軸向之方向轉動相關的板。例如，使用者期望以第一軸方向移動中間板50。根據這一點，使用者將榫狀物133插入至促動凹部94以及以箭頭A方向(圖17)轉動中間板50。量測標記54的中間部56對使用者提供視覺反饋，以決定在第一軸方向相對於上板48和下板52轉動中間板52有多遠。中間板50之軸向旋轉使中間板50的表面86對上板48的表面78產生凸輪作用。上板48和中間板52間之凸輪作用改變豎板中心軸39與驅動軸41間之指向。量測標記54可對相對於豎板中心軸39與驅動軸41間指向所提供角度反饋產生關連。量測標記54甚至可對第三種量測裝置產生關連，該裝置使用來決定角度改正，其需要改善反應器2處理槽室10與位於其中基座組件7之板間的旋轉同心度。此裝置可擱置在發熱元件8的表面19上確定中間板50和下板52之一必需旋轉多遠以提供基座組件7更有益的指向。例如在量測標記54內的每一線條58可以與處理槽室10內加熱組件7的角度變化的度數產生關連。更特別地每一線條與噴頭表面15和表面19之間的角度變化度數或另一量測構件產生關連。
進而關注圖18，使用者可希望改變豎板中心軸39相對於驅動軸41的側向位置以改正同心度。這樣，提供適合於螺紋通道65內榫狀物135，其促使設定螺絲66牢固地緊靠上板48的表面74以及以各自側向方向推移豎板凸緣42與豎板軸24。一旦使用者調整豎板凸緣42側向方向為所需要情 況，優先地使用者將榫狀物135插入在其餘的螺紋通道65中以促動其餘的固定螺絲66以牢固地抵靠上板48的表面74以及牢固地固定豎板凸緣42至上板48。
因為對準組件1可以藉由側向調整組件43或藉由角度地軸向調整組件45加以側向地調整，對準組件1可以使用來改善反應器2的處理槽室10和設置在其中基座組件7的板8之間旋轉同心度。如上所述，中間板50及/或下板52的實際旋轉改變豎板中心軸39和驅動軸41間之指向，其因而減小板8和噴頭20之間的角度，其提供噴頭表面15和表面19之間更平行的關係。同樣地，豎板凸緣42可在側向方向移動以藉由減少軸9和軸11間之距離而改善板8位於處理槽室10內之之中心。因而，對準組件1可使用來減少或消除相對於處理槽室10之板8徑向偏轉以及板8側向偏轉。
在此所顯示以及說明之對準組件1的具體實施方式為本發明列舉性說明以及最佳模式，以及並不預期以其他方式限制本發明各項以及實施範圍。實際上，為了簡潔起見，常規製造，連接，配製，以及系統的其它功能都不加以詳細描述。此外，在各個附圖中所示的任何連接線預期表示各個元件之間的範例性功能關係及/或實際耦合。許多替換或附加功能關係或實際連接可以存在於實際系統，及/或可以不存在於一些實施例中。
如本文所用術語"包括"，"包含"，或其任何變化，意在表示非排他性地包括，使得處理過程，方法，製品，組合物或裝置包含一系列單元，而不只是包含所說明之單元，但還可以包括其它未明確列出或固有的過程，方法，製品，組合物或裝置。使用於實施本發明之其他組合及/或上述所說明以及那些未具體列舉的結構，佈置，應用，比例，元件，材料或 組成份可以改變或特別適合於特定環境，製造規範，設計參數或其它操作要求而並不會脫離本發明的一般原理。
在前面的說明中，特定術語為了簡潔，明了和易於理解而加以使用。並無不需要限制其中意涵而超出先前技術的要求，因為這些術語是用於描述的目的以及旨在廣泛地解釋。
雖然本發明已經結合各個附圖的優先實施例加以描述，但應理解是其它相似的實施例可以加以使用或對所說明實施例作修改和增加以實施本發明的相同功能而不偏離其中揭示內容。因此，本發明不應限制於任何單一實施例，而是受限於下列申請專利範圍所說明之廣泛範圍。

Claims (14)

  1. 一種改變反應器處理槽室中基座組件板相對位置之方法，該方法包括以下步驟：連接基座組件豎板軸至對準組件之第一端；連接驅動軸至對準組件之第二端；以及旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸旋轉之步驟以改變板相對於處理槽室之相對角度；其中，所述對準組件的第一部分包括圓形板，圓形板具有不均勻的橫截面厚度，當對準組件的第一部分旋轉時，橫截面厚度影響板相對於處理槽室相對角度的變化；以及其中對準組件的第一部分設置在基座組件的板下方。
  2. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸之步驟更進一步包含接觸使得對準組件的第一部分凸輪表面對著對準組件的第二部分產生凸輪作用以改變板相對於處理槽室之相對角度的步驟。
  3. 依據申請專利範圍第2項之方法，其中更進一步包含下列步驟：將榫狀物插入由對準組件的第一部分界定出的促動凹部；以及施加力量於榫狀物以旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸。
  4. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中更進一步包含側向地移動對準組件的第三部分以改變板相對於處理槽室之相對側邊位置的步驟。
  5. 依據申請專利範圍第4項之方法，其中更進一步包含旋轉在對準組件的第 三部份界定出槽室中螺絲以側向地移動對準組件的第三部分的步驟。
  6. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中更進一步包含下列步驟：定位基座組件的板在反應器處理槽室中，其中基座組件的板以相對於反應器噴頭表面的一個角度放置著；旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸以減小角度。
  7. 依據申請專利範圍第6項之方法，其中更進一步包括旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸使得對準組件的第一部分對著對準組件的第二部分產生凸輪作用以減小角度的步驟。
  8. 依據申請專利範圍第7項之方法，其中更進一步包括下列步驟：提供具有非均勻斷面厚度之對準組件的第一部份以及第一凸輪表面；提供具有非均勻斷面厚度之對準組件的第二部份以及第二凸輪表面；以及旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸使得第一凸輪表面對著第二凸輪表面產生凸輪作用以減小角度。
  9. 依據申請專利範圍第8項之方法，其中更進一步包括下列步驟：將榫狀物插入由對準組件界定出的促動凹部；以及施加力量於榫狀物以旋轉對準組件的第一部分繞著對準組件的第一部分中心軸。
  10. 依據申請專利範圍第8項之方法，其中更進一步包括下列步驟：定位基座組件的板在反應器處理槽室中，其中板的縱向中心軸與處理槽室縱向中心軸相隔一個距離；以及調整對準組件以減小距離。
  11. 依據申請專利範圍第10項之方法，其中更進一步包括側向地移動對準組 件的第三部分以減小距離的步驟。
  12. 依據申請專利範圍第11項之方法，其中更進一步包括旋轉在對準組件的第三部份界定出開孔內螺絲以側向地移動對準組件的第三部分而減小距離的步驟。
  13. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中更進一步包括利用游標刻度提供軸向調整反饋的步驟。
  14. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中板被設置於反應槽室中，以及更進一步包含下列步驟：利用對準組件提供對準，其至少位於(a)反應槽室內以及(b)反應槽室外部之一。
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