TWI656595B - Polarizer calibration device and method - Google Patents

Polarizer calibration device and method Download PDF

Info

Publication number
TWI656595B
TWI656595B TW107101115A TW107101115A TWI656595B TW I656595 B TWI656595 B TW I656595B TW 107101115 A TW107101115 A TW 107101115A TW 107101115 A TW107101115 A TW 107101115A TW I656595 B TWI656595 B TW I656595B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
polarizer
alignment mark
polarizing plate
angle
item
Prior art date
Application number
TW107101115A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201828395A (zh
Inventor
李玉龍
許琦欣
Original Assignee
大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司 filed Critical 大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司
Publication of TW201828395A publication Critical patent/TW201828395A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI656595B publication Critical patent/TWI656595B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N2021/1765—Method using an image detector and processing of image signal
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9511—Optical elements other than lenses, e.g. mirrors

Abstract

本發明提供了一種偏振片標定裝置及方法，偏振片標定裝置包括光源單元，用於產生非偏振准直光源；偏振片固定單元，用於固定偏振片；探測器，用於探測偏振片的對準標記；檢偏單元，設置在偏振片固定單元下方，位置與偏振片對應；以及工作台，用於承載偏振片固定單元和檢偏單元作水平方向運動。本發明提供的偏振片標定裝置及方法能精確標定出對準標記連線和偏振軸之間的夾角，解決了偏振軸和對準標記連線的夾角在經歷不同製程後發生偏差的問題。

Description

偏振片標定裝置及方法
本發明有關於偏振片標定領域，特別有關於一種偏振片標定裝置及方法。
眾所周知，偏振片、玻片、液晶等都具有偏振特性，在光學產品和實驗中都會用到大量的這些帶有偏振特性的元件。這些元件的偏振角度或光軸角度檢測顯得尤為重要。
如第1圖所示，在一些產品製造過程中，需要使用一種同時有對準標記12和起偏區域11的偏振片，但起偏區域11和對準標記12的製作採用的是兩種完全不同的製程，例如起偏區域11採用的是浸沒干涉光刻製作的線柵，對準標記12採用的是遮罩投影光刻或電子束光刻製作，在經歷了兩次完全不同的製程過程後，對準標記連線14與偏振片偏振軸13之間的夾角Φ是否發生了改變是很難保證也難以測量的，影響到使用該偏振片的產品精度。
本發明為了克服習知的問題，提供了一種偏振片標定裝置及方法，以解決偏振片在經歷不同製程後對準標記連線與偏振軸之間的夾角容易發生偏差的問題。
為實現上述目的，本發明提供了一種偏振片標定裝置，包括：光源單元，用於產生非偏振准直光源；偏振片固定單元，用於固定偏振片；探測器，用於探測偏振片的對準標記；檢偏單元，設置在偏振片固定單元下方，位 置與偏振片對應；以及工作台，用於承載偏振片固定單元和檢偏單元作水平方向運動。
較佳地，檢偏單元包括檢偏線柵、旋轉電機和光能量探測器，其中，光能量探測器和旋轉電機均安裝在工作台上，檢偏線柵設置在旋轉電機上且能在旋轉電機的帶動下繞豎直方向旋轉。
較佳地，光源單元、偏振片及檢偏單元的位置設置為，使得光源單元發出的非偏振准直光能夠依次經過偏振片和檢偏線柵後被光能量探測器接收。
較佳地，探測器採用對準CCD相機。
較佳地，偏振片固定單元包括夾持架支撐件和夾持架，偏振片固定安裝在夾持架上，夾持架通過夾持架支撐件安裝在工作台上，夾持架可相對於夾持架支撐件旋轉，使得偏振片能夠至少處於正面朝上的第一位置和正面朝下的第二位置。
較佳地，夾持架設有一個凹槽，偏振片固定在凹槽中，夾持架由透光材料製成。
較佳地，夾持架支撐件與夾持架的安裝面定義了一基準方向，偏振片標定裝置更包括或連接至一控制器，控制器用於控制工作台將偏振片的對準標記移動至探測器的探測視場內，並根據探測器獲得的對準標記的位置信息計算出基準方向與偏振片的對準標記連線的夾角θ。
較佳地，控制器更用於：控制工作台將偏振片固定單元和檢偏單元移動至與光源單元對應的位置；在偏振片的第一位置和第二位置下，分別控制旋轉電機帶動檢偏線柵旋轉並控制光能量探測器對依次經過偏振片和檢偏線 柵的光進行探測；以及根據光能量探測器的探測結果計算出基準方向與偏振片的偏振軸的夾角α。
較佳地，控制器更用於根據基準方向與偏振片的對準標記連線的夾角θ以及基準方向與偏振片的偏振軸的夾角α計算偏振片的對準標記連線和偏振軸之間的夾角Φ。
較佳地，工作台包括滑台和直線導軌，滑台安裝在直線導軌上，偏振片固定單元和檢偏單元設置在滑台上。
為了達到上述目的，本發明更提出一種偏振片方向標定方法，採用上述的偏振片方向標定裝置，包括如下步驟：步驟1：設定一個基準方向；步驟2：測量偏振片的對準標記連線和基準方向之間的夾角θ；步驟3：測量偏振片的偏振軸和基準方向之間的夾角α；步驟4，根據步驟2和步驟3的結果，計算偏振片的對準標記連線和偏振軸之間的夾角Φ。
較佳地，步驟2包括：步驟21：探測器探測偏振片上其中一個對準標記的信號並計算該對準標記的位置；步驟22：探測器探測偏振片上另一個對準標記的信號並計算該另一個對準標記的位置；步驟23：根據偏振片上其中一個對準標記和另一個對準標記的位置，計算對準標記連線與基準方向之間的夾角。
較佳地，步驟23包括根據偏振片上其中一個對準標記和另一個對準標記的位置，計算兩個對準標記之間的X方向距離以及Y方向距離，根據該X方向距離和Y方向距離計算對準標記連線與基準方向之間的夾角，其中Y方向為基準方向，X方向為水平面內與Y方向垂直的方向。
較佳地，步驟3包括：步驟31：使光源單元發出的非偏振准直光投射到偏振片表面；步驟32：檢偏單元中旋轉電機帶動檢偏線柵旋轉，由光能量探測器探測並選取經過檢偏線柵後光強最小時旋轉電機的第一旋轉角度α 1；步驟33：翻轉偏振片，檢偏單元中旋轉電機再次帶動檢偏線柵旋轉，由光能量探測器探測並選取經過檢偏線柵後光強最小時旋轉電機的第二旋轉角度α 2；步驟34：根據步驟32和步驟33的結果，計算得出偏振片的偏振軸和基準方向之間的夾角α。
較佳地，步驟33中，翻轉是指使偏振片從正面朝上變為正面朝下。
較佳地，步驟32和步驟33中，通過函數擬合經過檢偏線柵後的光強變化，選取經過檢偏線柵後光強最小時旋轉電機的旋轉角度。
較佳地，函數採用傅裡葉函數。
較佳地，步驟4中通過對對準標記連線和基準方向之間的夾角θ與偏振軸和基準方向之間的夾角α求和，獲取對準標記連線和偏振軸之間的夾角Φ。
較佳地，步驟2在步驟3之前或者之後執行。
本發明提供的一種偏振片標定裝置及方法，在原有設備基礎上加入偏振片固定單元、探測器、檢偏單元和工作台控制單元，利用所述偏振片標定方法在使用偏振片之前精確標定出偏振片對準標記連線和偏振軸之間的夾角，解決了偏振片在經歷不同製程後對準標記連線與偏振片偏振軸之間的夾角發生偏差的問題。
1‧‧‧光源單元
10‧‧‧滑台
11‧‧‧起偏區域
12‧‧‧對準標記
13‧‧‧偏振軸
14‧‧‧對準標記連線
15‧‧‧基準方向
16‧‧‧第一對準標記
17‧‧‧第二對準標記
18‧‧‧夾持架平面
2‧‧‧對準CCD相機
3‧‧‧夾持架安裝座
4‧‧‧偏振片
5‧‧‧夾持架
6‧‧‧檢偏線柵
7‧‧‧旋轉電機
8‧‧‧光能量探測器
9‧‧‧直線導軌
第1圖為偏振片上偏振軸和對準標記夾角示意圖。
第2圖為本發明偏振片標定裝置示意圖。
第3圖為本發明夾持架截面示意圖。
第4圖為本發明夾持架安裝座和夾持架之間位置關係截面示意圖。
第5圖為本發明偏振軸和對準標記連線夾角標定方法示意圖。
第6圖為本發明對準標記連線與基準方向夾角標定流程圖。
第7圖為本發明對準標記連線與基準方向夾角示意圖。
第8圖為本發明偏振軸和基準方向夾角標定流程圖。
第9圖為本發明旋轉電機旋轉角度和光強變化示意圖。
第10圖為本發明偏振片相對於Y軸0°時示意圖。
第11圖為本發明偏振片相對於Y軸旋轉180°後示意圖。
第12圖為本發明偏振片相對於Y軸0°時偏振軸與基準方向夾角示意圖。
第13圖為本發明偏振片相對於Y軸旋轉180°後偏振軸與基準方向的夾角示意圖。
為使本發明的上述目的、特徵和優點能夠更加明顯易懂，下面結合圖式對本發明的實施方式做詳細的說明。需說明的是，本發明圖式均採用簡 化的形式且均使用非精准的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
如第2圖所示，本發明的偏振片標定裝置包括：光源單元1，用於產生非偏振准直光源；偏振片固定單元，用於固定偏振片4；探測器，用於探測偏振片4上的對準標記，本實施的探測器較佳採用對準CCD相機2；檢偏單元，設置在偏振片固定單元下方，位置與所述偏振片4對應；以及工作台，用於實現偏振片4和檢偏單元的水平方向運動；所述偏振片固定單元和檢偏單元設置在工作台上。
如第1圖所示，所述偏振片上設有兩個對準標記12和偏振軸13，為示區別，以下將該兩個對準標記12分別稱為第一對準標記16和第二對準標記17。
繼續參照第2圖，所述工作台包括直線導軌9和滑台10，所述滑台10安裝在直線導軌9上，具體地，滑台10能在直線導軌9上水平方向滑動，從而帶動偏振片4和檢偏單元作水平方向運動，使偏振片4上的對準標記12能夠進入對準CCD相機2的視場內，使對準CCD相機2獲取對準標記訊號。
進一步地，所述偏振片固定單元包括夾持架安裝座3、兩個夾持架支撐柱和夾持架5，所述夾持架5上設有凹槽，所述偏振片4固定安裝在所述凹槽裡；所述夾持架5安裝在夾持架安裝座3上，所述夾持架安裝座3架設在兩個所述夾持架支撐柱上，所述夾持架支撐柱設置在滑台10上。
更進一步地，如第3及4圖所示，所述夾持架安裝座3有一個靠面，具有較高的平面度，所述夾持架5至少有一個側面(夾持架平面18)也有較高的平面度，所述側面(夾持架平面18)和所述靠面緊緊貼合，從而在所述夾持架安裝座3與夾持架5之間形成一安裝面。本發明偏振片方向標定裝置定義了一個基準方向15，本實施例較佳水平方向為基準方向15，例如定義為水平Y軸方向，所述安裝面的延伸方向與基準方向15一致，使得安裝在夾持架5上的偏振片4的偏振軸13與基準方向15形成第一夾角(具有角度值α)，見第12圖，並且偏振片4的兩個對準標記連線14與基準方向15形成第二夾角(具有角度值θ)。
令水平面內與基準方向15垂直的方向為X軸方向，如第10至13圖所示，所述夾持架5設計為可以帶動偏振片4繞Y軸方向旋轉。具體地，當夾持架5從第12圖所示位置繞Y軸方向旋轉180°後，偏振片4也被帶動繞Y軸方向旋轉了180°，此時，如第13圖所示，偏振軸13與基準方向15的夾角為-α，即偏振軸13相對於基準方向15旋轉了2α角度。
本領域具通常知識者容易理解，上述夾持架安裝座3和夾持架支撐柱也可以一體成型為單個部件，並且偏振片4的安裝方式也不僅限於上述實施例，任何可將偏振片4保持於檢偏單元上方且可實現偏振片4翻轉(從正面朝上變為正面朝下)的安裝結構都可用於替代上述偏振片固定單元。
繼續參照第2圖，所述檢偏單元包括檢偏線柵6、旋轉電機7和光能量探測器(ED)8，所述光能量探測器8安裝在滑台10上，所述旋轉電機7例如是一環形電機，設置在光能量探測器8的外周且安裝在滑台10上，所述檢偏線柵6架設在旋轉電機7上，即檢偏線柵6僅外圍部分支撐在旋轉電機7上，中央部分不受支撐，並且檢偏線柵6和光能量探測器8位置相對應。具體地，旋轉電機7可 繞豎直Z軸轉動，並帶動檢偏線柵6一起繞Z軸轉動，從而改變檢偏線柵6的光柵方向與偏振片4的偏振軸13之間的夾角。同時，光能量探測器8獲取檢偏線柵6旋轉過程中光源單元1發出的光依次經過偏振片4和檢偏線柵6後的光強訊息，該光強訊息與檢偏線柵6的光柵方向與偏振片4的偏振軸13之間的夾角相關。
本領域具通常知識者容易理解，為了使光源單元1發出的光能夠經由偏振片4照射到檢偏線柵6上，所述夾持架5較佳採用透光材料製成，或者採用環狀結構，以便透過偏振片4中央部分的光能夠基本不受影響地入射至檢偏線柵6。此外，所述光源單元1發出的光較佳垂直(沿Z軸方向)入射至偏振片4表面。
本領域具通常知識者更容易理解，上述光源單元1、偏振片固定單元、探測器、檢偏單元以及工作台中的一個或多個可由控制器進行控制，所述控制器可集成於相應的部件中或者通過外接方式連接，可分別設置也可以共用一個總的控制器。對探測器獲取的數據的處理，和/或對檢偏單元獲取的數據的處理，也可採用所述控制器來實現，或者通過其他處理設備來進行處理。由於這些都屬於本領域所熟知且容易實現的方式，對此不一一列舉。
本實施例更提供一種偏振片方向標定方法，如第5圖所示，具體包括：
第一步，設定一個基準方向15，本實施例較佳水平Y方向為基準方向15。
第二步，測量並計算偏振片上對準標記連線14和基準方向15之間的夾角，如第6圖所示，具體如下： 如第3及7圖所示，沿X方向移動滑台10，使第一對準標記16進入對準CCD相機2的對準視場，對準CCD相機2獲取第一對準標記16訊號，並通過數字圖像處理算法計算出第一對準標記16在對準CCD相機2感光面上的位置；繼續沿X方向移動滑台10，使第二對準標記17進入對準CCD相機2的對準視場，對準CCD相機2獲取第二對準標記17訊號，並通過數字圖像處理算法計算出第二對準標記17在對準CCD相機2感光面上的位置；在本實施例中，所述對準CCD相機2的對準視場的大小(Y向可測範圍)大於第一對準標記16與第二對準標記17之間的Y向距離。
繼續參照第7圖，計算第一對準標記16和第二對準標記17的X方向距離為L1，第一對準標記16和第二對準標記17的Y方向距離為L2，則獲得對準標記連線14和基準方向15之間的夾角。
第三步，測量偏振軸13與基準方向15之間的夾角，如第8圖所示，具體如下：打開光源單元1，產生非偏振准直光源垂直入射至偏振片4表面；啟動旋轉電機7帶動檢偏線柵6旋轉，同步的，光能量探測器8採集經過檢偏線柵6後的光強，如第9圖所示，根據馬呂斯定律，光強隨檢偏線柵6旋轉的角度呈現出正弦變化，用函數擬合該正弦曲線，本實施例較佳使用傅裡葉函數，計算出光強最小處時旋轉電機7旋轉的角度為α 1；旋轉電機7回零；如第10至13圖所示，將夾持架5繞Y軸旋轉180°，則偏振片4被帶動繞Y軸旋轉180°，偏振軸13與基準方向15的夾角變為-α，即偏振軸13發生了2α的改變；
再一次啟動旋轉電機7帶動檢偏線柵6旋轉，同步的，光能量探測器8採集經過檢偏線柵6後的光強，根據馬呂斯定律，光強隨檢偏線柵6旋轉的角度呈現出正弦變化，如第9圖所示，用合適函數擬合該正弦曲線，這裡較佳使用傅裡葉函數，計算出光強最小處時旋轉電機7旋轉的角度為α 2；獲得偏振軸13的方向的改變量為α 2-α1；最後計算得出偏振軸13與基準方向15之間的夾角為α=(α 2-α1)/2。採用旋轉電機7兩次旋轉角度的差值來計算夾角α，可以免去對旋轉電機7零位(0度位置)的校準，更能抵消測量誤差，從而提高測量精度。
第四步，根據上述第二步和第三步的結果，計算對準標記連線14和偏振軸13之間的夾角，具體如下：對上述對準標記連線14和基準方向15之間的夾角θ與上述偏振軸13和基準方向15之間的夾角α求和，即對準標記連線14和偏振軸13之間的夾角Φ=θ+α，這裡的Φ單次標定精度達到0.01。
通過上述方法，即可方便、準確地測量出偏振片4的對準標記連線14和偏振軸13之間的夾角。
本領域具通常知識者應當理解，上述實施例的描述順序不應對上述方法的步驟執行順序造成限制，例如，第二步中也可先使第二對準標記17進入對準CCD相機2的對準視場，再使第一對準標記16進入對準CCD相機2的對準視場，夾角θ的計算公式不變。再例如，第二步也可以在第三步之後執行，即先求出夾角α再求出夾角θ。只要能夠最終求得Φ，上述方法中的各步驟及各步驟中的子步驟的順序都可靈活調整。
顯然，本領域的具通常知識者可以對發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明申請專利範圍及其等同技術的範圍之內，則本發明也意圖包括這些改動和變型在內。

Claims (18)

  1. 一種偏振片標定裝置，其包括：光源單元，用於產生非偏振准直光源；偏振片固定單元，用於固定偏振片；探測器，用於探測該偏振片的對準標記；檢偏單元，設置在該偏振片固定單元下方，位置與該偏振片對應；以及工作台，用於承載該偏振片固定單元和該檢偏單元作水平方向運動；其中該檢偏單元包括檢偏線柵、旋轉電機和光能量探測器，其中，該光能量探測器和該旋轉電機均安裝在該工作台上，該檢偏線柵設置在該旋轉電機上且能在該旋轉電機的帶動下繞豎直方向旋轉。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏振片標定裝置，其中該光源單元、該偏振片及該檢偏單元的位置設置為，使得該光源單元發出的非偏振准直光能夠依次經過該偏振片和該檢偏線柵後被該光能量探測器接收。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏振片標定裝置，其中該探測器採用對準CCD相機。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏振片標定裝置，其中該偏振片固定單元包括夾持架支撐件和夾持架，該偏振片固定安裝在該夾持架上，該夾持架通過該夾持架支撐件安裝在該工作台上，該夾持架可相對於該夾持架支撐件旋轉，使得該偏振片能夠至少處於正面朝上的第一位置和正面朝下的第二位置。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之偏振片標定裝置，其中該夾持架設有一個凹槽，該偏振片固定在該凹槽中，該夾持架由透光材料製成。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之偏振片標定裝置，其中該夾持架支撐件與該夾持架的安裝面定義了一基準方向，該偏振片標定裝置更包括或連接至一控制器，該控制器用於：控制該工作台將該偏振片的對準標記移動至該探測器的探測視場內，並根據該探測器獲得的對準標記的位置訊息計算出該基準方向與該偏振片的對準標記連線的夾角θ。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之偏振片標定裝置，其中該控制器更用於：控制該工作台將該偏振片固定單元和該檢偏單元移動至與該光源單元對應的位置；在該偏振片的該第一位置和該第二位置下，分別控制旋轉電機帶動檢偏線柵旋轉並控制光能量探測器對依次經過偏振片和檢偏線柵的光進行探測；以及根據光能量探測器的探測結果計算出該基準方向與該偏振片的偏振軸的夾角α。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之偏振片標定裝置，其中該控制器更用於根據該基準方向與該偏振片的對準標記連線的夾角θ以及該基準方向與該偏振片的偏振軸的夾角α計算該偏振片的對準標記連線和偏振軸之間的夾角Φ。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之偏振片標定裝置，其中該工作台包括滑台和直線導軌，該滑台安裝在直線導軌上，該偏振片固定單元和該檢偏單元設置在滑台上。
  10. 一種偏振片標定方法，採用如申請專利範圍第1至9項中之任一項所述之偏振片標定裝置，該偏振片標定方法包括如下步驟：步驟1：設定一個基準方向；步驟2：測量偏振片的對準標記連線和基準方向之間的夾角θ；步驟3：測量偏振片的偏振軸和基準方向之間的夾角α；以及步驟4，根據該步驟2和該步驟3的結果，計算偏振片的對準標記連線和偏振軸之間的夾角Φ。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之偏振片標定方法，其中該步驟2包括：步驟21：探測器探測偏振片上其中一個對準標記的訊號並計算該對準標記的位置；步驟22：探測器探測偏振片上另一個對準標記的訊號並計算另一個該對準標記的位置；以及步驟23：根據偏振片上其中一個對準標記和另一個對準標記的位置，計算對準標記連線與基準方向之間的夾角。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之偏振片標定方法，其中該步驟23包括：根據偏振片上其中一個對準標記和另一個對準標記的位置，計算兩個對準標記之間的X方向距離以及Y方向距離，根據該X方向距離和該Y方向距離計算對準標記連線與基準方向之間的夾角，其中Y方向為該基準方向，X方向為水平面內與該Y方向垂直的方向。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之偏振片標定方法，其中該步驟3包括：步驟31：使光源單元發出的非偏振准直光投射到偏振片表面；步驟32：檢偏單元中旋轉電機帶動檢偏線柵旋轉，由光能量探測器探測並選取經過檢偏線柵後光強最小時旋轉電機的第一旋轉角度α 1；步驟33：翻轉偏振片，檢偏單元中旋轉電機再次帶動檢偏線柵旋轉，由光能量探測器探測並選取經過檢偏線柵後光強最小時旋轉電機的第二旋轉角度α 2；步驟34：根據該步驟32和該步驟33的結果，計算得出偏振片的偏振軸和基準方向之間的夾角α。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之偏振片標定方法，其中該步驟33中，翻轉是指使偏振片從正面朝上變為正面朝下。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之偏振片標定方法，其中該步驟32和該步驟33中，通過函數擬合經過檢偏線柵後的光強變化，選取經過檢偏線柵後光強最小時旋轉電機的旋轉角度。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之偏振片標定方法，其中該函數採用傅裡葉函數。
  17. 如申請專利範圍第10項所述之偏振片標定方法，其中該步驟4中通過對該對準標記連線和基準方向之間的夾角θ與該偏振軸和基準方向之間的夾角α求和，獲取對準標記連線和偏振軸之間的夾角Φ。
  18. 如申請專利範圍第10項所述之偏振片標定方法，其中該步驟2在該步驟3之前或者之後執行。
TW107101115A 2017-01-17 2018-01-11 Polarizer calibration device and method TWI656595B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710036210.XA CN108318222B (zh) 2017-01-17 2017-01-17 一种偏振片标定装置及方法
??201710036210.X 2017-01-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201828395A TW201828395A (zh) 2018-08-01
TWI656595B true TWI656595B (zh) 2019-04-11

Family

ID=62891691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107101115A TWI656595B (zh) 2017-01-17 2018-01-11 Polarizer calibration device and method

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR102018908B1 (zh)
CN (1) CN108318222B (zh)
TW (1) TWI656595B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109166474B (zh) * 2018-10-10 2021-08-31 京东方科技集团股份有限公司 一种显示模组以及贴合精度检测方法
CN109633949B (zh) * 2019-02-15 2021-07-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 偏光片贴附机及其对位方法
CN109817092A (zh) * 2019-03-21 2019-05-28 京东方科技集团股份有限公司 一种偏光片对位装置及对位方法
CN111323857A (zh) * 2020-03-01 2020-06-23 华中科技大学 一种偏振相关的超表面结构、元件及热辐射信息加载方法
CN111562091A (zh) * 2020-06-23 2020-08-21 昆山鸿仕达智能科技有限公司 一种偏光轴方位角度测定方法及测定装置
CN115083957A (zh) * 2022-05-24 2022-09-20 睿励科学仪器（上海）有限公司 一种用于旋正晶圆的方法和装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101430272A (zh) * 2008-12-22 2009-05-13 浙江大学 电光型偏振谱测量显微镜
CN102798463A (zh) * 2011-06-30 2012-11-28 深圳光启高等理工研究院 一种显示偏振光光强的方法和系统
CN103267629A (zh) * 2013-06-25 2013-08-28 中国科学院上海光学精密机械研究所 点衍射干涉波像差测量仪及检测方法
CN205808676U (zh) * 2016-07-23 2016-12-14 马忠杰 一种偏振片透振方向检测仪

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1027746A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 Nikon Corp 位置合わせ方法及び露光装置
JP2003148930A (ja) * 2001-11-15 2003-05-21 Nikon Corp 基板検査装置
KR100734749B1 (ko) * 2005-03-31 2007-07-03 에버테크노 주식회사 편광필름 검사장치 및 방법
CN100451557C (zh) * 2006-07-07 2009-01-14 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种半圈绝对式偏振角度传感器
JP5061525B2 (ja) * 2006-08-04 2012-10-31 株式会社日立製作所 インプリント方法及びインプリント装置
CN101135860B (zh) * 2007-09-04 2010-05-19 上海微电子装备有限公司 一种光刻装置和用于光刻装置的对准系统及对准方法
CN101576715B (zh) * 2009-06-23 2011-05-04 芯硕半导体（中国）有限公司 一种微观成像系统的标定方法
CN101943630B (zh) * 2009-07-08 2012-03-07 中国科学院半导体研究所 分析光学元件保偏特性的方法
JP5446644B2 (ja) * 2009-09-15 2014-03-19 王子ホールディングス株式会社 楕円偏光板の貼合角測定装置
CN101915661A (zh) * 2010-09-03 2010-12-15 无锡市奥达光电子有限责任公司 一种偏振特性元器件的光轴角度检测方法和装置
CN102073324B (zh) * 2010-12-29 2013-05-15 哈尔滨工业大学 一种基于线性偏振光的偏振实时跟踪方法
KR20140075431A (ko) * 2012-12-11 2014-06-19 삼성디스플레이 주식회사 정렬 장치 및 대상 정렬 방법
CN103558157B (zh) * 2013-11-19 2015-10-28 上海理工大学 基于dsp的全数字自动化旋光光谱仪及测试方法
CN104950584B (zh) * 2014-03-25 2018-01-30 上海微电子装备（集团）股份有限公司 成像对准系统
KR20160033864A (ko) * 2014-09-18 2016-03-29 디아이티 주식회사 광배향 노광기의 편광자 및 그 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101430272A (zh) * 2008-12-22 2009-05-13 浙江大学 电光型偏振谱测量显微镜
CN102798463A (zh) * 2011-06-30 2012-11-28 深圳光启高等理工研究院 一种显示偏振光光强的方法和系统
CN103267629A (zh) * 2013-06-25 2013-08-28 中国科学院上海光学精密机械研究所 点衍射干涉波像差测量仪及检测方法
CN205808676U (zh) * 2016-07-23 2016-12-14 马忠杰 一种偏振片透振方向检测仪

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180084683A (ko) 2018-07-25
TW201828395A (zh) 2018-08-01
KR102018908B1 (ko) 2019-09-05
CN108318222A (zh) 2018-07-24
CN108318222B (zh) 2020-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI656595B (zh) Polarizer calibration device and method
US10277790B2 (en) Full-range image detecting system and method thereof
TWI605311B (zh) 量測方法以及曝光方法與設備
JPH06224285A (ja) ウエハーの位置決め装置
TWI634374B (zh) 一種光配向控制方法及光配向設備
TWI637246B (zh) Projection exposure device and method
JP6000696B2 (ja) Ｘ線応力測定装置およびｘ線応力測定方法
JP2009063314A (ja) 基板位置検出装置、基板位置調整装置、エリプソメータおよび膜厚測定装置
JP5270138B2 (ja) 校正用治具及び校正方法
JP2019515267A (ja) 測定台上のマスクホルダの位置を検出する方法
JP2017161252A (ja) 表面形状測定方法及び表面形状測定装置
CN108345180B (zh) 一种曝光和光配向一体的装置及其使用方法
WO2022160564A1 (zh) 控片量测方法及量测装置
JP2012133122A (ja) 近接露光装置及びそのギャップ測定方法
JP6639082B2 (ja) リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、および物品製造方法
JP2008076283A (ja) 基板検査装置の光軸調整方法および光軸調整用サンプル
JP2006242680A (ja) 偏心測定装置及び偏心測定方法
JP3845286B2 (ja) 形状測定装置及び形状測定方法
JP3940819B2 (ja) 半導体ウェーハの表面形状測定装置および表面形状測定方法
JP5781397B2 (ja) 円形状測定方法および装置
JP7193196B2 (ja) 配向膜露光装置用の測定機構、および配向膜露光装置の調整方法
JP2010502005A (ja) 平坦なテーブル表面を整列させるための方法および装置
JPH07270123A (ja) 位置ずれ検出方法及び光ヘテロダイン干渉測定方法及びそれらを用いた位置ずれ検出装置
JP2006210803A (ja) ステップ式近接露光装置
JPH05283963A (ja) 水晶片のカット面検査方法および検査装置