TWI656399B - 防塵薄膜組件安裝裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明的防塵薄膜組件安裝裝置具備貼合單元，所述貼合單元包含貼合腔室與排氣管，所述貼合腔室用來對防塵薄膜組件與具有曝光光可照射的光照射面的原版進行貼合，所述防塵薄膜組件包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框，所述防塵薄膜組件框於厚度方向的一端面之側支持所述防塵薄膜，且具有設置於厚度方向的另一端面的溝槽及貫通外周面與所述溝槽的壁面之間的通孔，所述排氣管用以在所述防塵薄膜組件及所述原版以所述防塵薄膜組件框的所述另一端面與所述光照射面相對向的方式配置於所述貼合腔室內的狀態下，經由所述防塵薄膜組件框的所述通孔而對所述溝槽的內部進行排氣。
Description
本發明是有關於一種防塵薄膜組件安裝裝置。
半導體器件(半導體裝置)的高積體化及微細化正逐年加速。
例如，現在是藉由準分子曝光來形成線寬45nm左右的圖案，但近年，隨著半導體器件的進一步微細化，要求形成線寬32nm以下的圖案。藉由現有的準分子曝光難以應對此種微細加工。因此，正研究將曝光光替換為波長更短的極紫外(Extreme Ultra Violet，EUV)光。
EUV光具有容易被所有物質吸收的特性。
因此，於使用EUV光作為曝光光的光微影術(以下亦稱為「EUV微影術」)中，使用反射光學系統進行曝光。具體而言，藉由反映曝光圖案的原版(遮罩)使EUV光反射，藉由作為反射光的EUV光對抗蝕劑進行曝光。此時，若原版上附著有異物，則由於EUV光被異物吸收，或EUV光發生散射，因此存在無法曝光為所需圖案的情形。
因此，正研究以防塵薄膜組件(pellicle)保護原版的EUV光照射面，具體而言，將防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版的EUV光
照射面側。
防塵薄膜組件的構成採用具有用以保護原版的EUV光照射面的防塵薄膜(pellicle film)、及支持該防塵薄膜的防塵薄膜組件框的構成。
作為EUV微影術所使用的防塵薄膜，要求對EUV光具有高透過性，且不會因照射EUV光而分解、變形。作為滿足此種要求的防塵薄膜，提出有單晶矽膜等矽結晶膜(例如，參照文獻1及文獻2)、積層於金屬網上的氮化鋁膜(例如，參照文獻3)、石墨烯膜(例如，參照文獻4)等。
[文獻1]日本專利特開2010-256434號公報
[文獻2]日本專利特開2009-116284號公報
[文獻3]日本專利特開2005-43895號公報
[文獻4]國際公開第2011/160861號公報
此外，現在於將以EUV微影術用的防塵薄膜組件為首的包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框的防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版時，即貼合防塵薄膜組件與原版時，有時藉由裝置、夾具、手等接觸防塵薄膜的膜面。
然而，防塵薄膜具有非常容易破損的性質，因此於防塵薄膜的處理中要求細心留意。於防塵薄膜中，含有無機系材料的防塵薄膜(例如，文獻1~文獻4所記載的防塵薄膜)不僅是難以自立
的膜，而且是亦會因機械上的接觸而導致損傷或起塵的膜，因此於其處理中要求進一步留意。
另外，伴隨半導體器件的微細化，為了避免異物附著於防塵薄膜，要求進一步留意。
自以上觀點出發，業界正在對藉由貼合防塵薄膜組件與原版來將防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版時，儘量避免裝置、夾具、手等接觸防塵薄膜的膜面而將兩者貼合的防塵薄膜組件安裝裝置進行研究。
本發明是鑒於所述而完成者，其課題在於達成以下目的。
即，本發明的目的在於提供一種於藉由貼合防塵薄膜組件與原版來將防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版時，可於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下而將兩者貼合的防塵薄膜組件安裝裝置。
用以解決所述課題的具體手段如以下所述。
<1>一種防塵薄膜組件安裝裝置，其具備貼合單元，所述貼合單元包含：貼合腔室，用來對防塵薄膜組件與具有曝光光可照射的光照射面的原版進行貼合，所述防塵薄膜組件包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框，所述防塵薄膜組件框於厚度方向的一端面之側支持所述防塵薄膜，且具有設置於厚度方向的另一端面的溝槽及貫通外
周面與所述溝槽的壁面之間的通孔；及排氣管，用以在所述防塵薄膜組件及所述原版以所述防塵薄膜組件框的所述另一端面與所述光照射面相對向的方式配置於所述貼合腔室內的狀態下，經由所述防塵薄膜組件框的所述通孔而對所述溝槽的內部進行排氣。
<2>如<1>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含用以將氣體導入所述貼合腔室內而對所述貼合腔室內進行加壓的導入管。
<3>如<2>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述導入管包含第1導入管，所述第1導入管自與所述貼合腔室內所配置的所述防塵薄膜組件及所述原版中的所述防塵薄膜組件相對向之側導入氣體，所述貼合單元進而包含氣體分散構件，所述氣體分散構件用以使自所述第1導入管導入的氣體分散。
<4>如<1>至<3>中任一項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含連通構件，所述連通構件在所述貼合腔室內與所述排氣管的一端連接、且使所述排氣管與所述防塵薄膜組件框的所述通孔連通。
<5>如<4>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述連通構件被設置成可朝推入所述防塵薄膜組件框的外周面的方向移動。
<6>如<4>或<5>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述連通構件具有可插入至所述通孔的開口端。
<7>如<1>至<6>中任一項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含原版支持構件，所述原版支持構件在所述貼合腔室內支持與所述原版的光照射面為相反側的面的周端部及所述原版的外周面的至少一部分、不支持所述相反側的面的中央部。
<8>如<1>至<7>中任一項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述原版被收容在原版殼體而被搬入所述貼合腔室內，所述原版殼體具有使所述原版的光照射面露出的開口部，且支持與所述原版的光照射面為相反側的面的周端部及所述原版的外周面的至少一部分、不支持所述相反側的面的中央部，所述貼合單元包含原版殼體支持構件，所述原版殼體支持構件在所述貼合腔室內對收容所述原版的所述原版殼體進行支持。
<9>如<1>至<8>中任一項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其進而具備對所述貼合後的所述防塵薄膜組件及所述原版進行外觀檢查的檢查單元。
<10>如<1>至<9>中任一項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其具備：第1測定部件，對與所述原版貼合前的所述防塵薄膜組件的所述防塵薄膜組件框的形狀進行測定；及第2測定部件，對與所述原版貼合後的所述防塵薄膜組件的
所述防塵薄膜組件框的形狀進行測定。
<11>如<10>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其具備：對準部件，於貼合所述原版與所述防塵薄膜組件之前，進行所述原版與所述防塵薄膜組件的對準；及控制部件，基於所述貼合前的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果與所述貼合後的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果，對利用所述對準部件的對準進行前饋控制。
<12>如<10>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其具備算出部件，所述算出部件基於所述貼合前的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果與所述貼合後的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果之差，來算出藉由所述貼合而引起的所述防塵薄膜組件框的應變量。
<13>如<12>所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含連通構件，所述連通構件在所述貼合腔室內與所述排氣管的一端連接、且使所述排氣管與所述防塵薄膜組件框的所述通孔連通，並被設置成可朝推入所述防塵薄膜組件框的外周面的方向移動，且所述算出部件為基於所述應變量而對所述連通構件所引起的所述防塵薄膜組件框的推入量進行前饋控制的控制部件。
根據本發明，提供一種於藉由貼合防塵薄膜組件與原版來將防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版時，可於儘量避免接觸防
塵薄膜的膜面的情況下而將兩者貼合的防塵薄膜組件安裝裝置。
10‧‧‧一端面
12、22、22A、22B、22C、22D‧‧‧溝槽
14A、14B、24A、24B、26A、26B、26C、26D、124B‧‧‧通孔
20‧‧‧另一端面
30‧‧‧外周面
40‧‧‧內周面
50‧‧‧開口部
100、101、103、814‧‧‧防塵薄膜組件框
102、104‧‧‧接著劑層
106‧‧‧剝離襯墊
110‧‧‧防塵薄膜組件框構件
120‧‧‧防塵薄膜構件
122‧‧‧支持基板
130、812‧‧‧防塵薄膜
200、201、810‧‧‧防塵薄膜組件
250‧‧‧原版
252‧‧‧前表面(光照射面)
254‧‧‧背面
260‧‧‧原版殼體
262、362‧‧‧凸起
300‧‧‧貼合單元
310‧‧‧貼合腔室
312A、312B‧‧‧排氣管
314、316‧‧‧連通構件
322‧‧‧第1導入管
324‧‧‧氣體分散構件
326‧‧‧第2導入管
330‧‧‧原版支持構件
332‧‧‧原版殼體支持構件(載置板)
334‧‧‧載置板
336、337‧‧‧原版支持構件
340‧‧‧感測器
400‧‧‧搬運機器人
600‧‧‧防塵薄膜組件安裝裝置
610‧‧‧原版裝載器
620‧‧‧防塵薄膜組件裝載器
630‧‧‧卸載器
650‧‧‧檢查單元
660‧‧‧控制部件
670‧‧‧算出部件
700~710‧‧‧步驟
800‧‧‧EUV曝光裝置
820、825‧‧‧濾波窗
831‧‧‧光源
832、835、836‧‧‧多層膜反射鏡
833‧‧‧原版(EUV遮罩)
834‧‧‧感應基板
837‧‧‧照明光學系統
838‧‧‧投影光學系統
850‧‧‧曝光原版
E1、E2、G1、J1、J2、J12‧‧‧箭頭
F‧‧‧吸合力(壓合力)
L1‧‧‧防塵薄膜組件框100的長邊方向的長度
L2‧‧‧防塵薄膜組件框100的短邊方向的長度
r‧‧‧防塵薄膜組件框的厚度
W‧‧‧防塵薄膜組件框100的框寬
圖1是自可觀察到厚度方向的一端面的方向觀察本實施方式中的防塵薄膜組件框的一例的概略立體圖。
圖2是自可觀察到厚度方向的另一端面的方向觀察圖1所示的防塵薄膜組件框的概略立體圖。
圖3是圖1的A-A線截面圖。
圖4是自可觀察到厚度方向的另一端面的方向觀察本實施方式中的防塵薄膜組件框的變形例的概略立體圖。
圖5是表示本實施方式中防塵薄膜組件的一例的概略截面圖。
圖6是表示本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置中的貼合單元的一例的概略構成圖。
圖7是表示本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置中的貼合單元的一例的概略截面圖。
圖8是概念性地表示於本實施方式的一例中，排氣管的其中一個與防塵薄膜組件框的通孔連接的形態的部分截面圖。
圖9是概念性地表示於本實施方式的變形例中，排氣管的其中一個與防塵薄膜組件框的通孔連接的形態的部分截面圖。
圖10是表示於本實施方式的變形例中，對貼合腔室內的原版進行支持的機構的概略截面圖。
圖11是表示於本實施方式的變形例中，對貼合腔室內的原版進行支持的機構的概略截面圖。
圖12是表示於本實施方式的變形例中，對貼合腔室內的原版進行支持的機構的概略截面圖。
圖13是表示於本實施方式的變形例中，對貼合腔室內的原版進行支持的機構的概略截面圖。
圖14是表示本實施方式的一例中的貼合處理的流程的概略步驟圖。
圖15是表示本實施方式的一例中的貼合處理的流程的概略步驟圖。
圖16是表示本實施方式的一例中的貼合處理的流程的概略步驟圖。
圖17是表示本實施方式的一例中的貼合處理的流程的概略步驟圖。
圖18是表示本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置的一例的概略構成圖。
圖19是表示利用本實施方式的一例中的防塵薄膜組件安裝裝置，而將防塵薄膜組件裝設於原版的裝設流程的一例的流程圖。
圖20為具備藉由本實施方式而製造的曝光原版的曝光裝置的一例，即EUV曝光裝置的概略截面圖。
以下，一面適當參照圖式，一面對本發明的實施方式進
行說明。然而，本發明並不限定於圖式等具體的實施方式。另外，存在對各圖式共通的要素標註相同符號的情況，且存在省略重複說明的情況。另外，於圖式中，為了容易觀察結構，存在省略隱藏線的一部分的情況。
本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置具備貼合單元，所述貼合單元包含貼合腔室與排氣管，所述貼合腔室用來對防塵薄膜組件與具有曝光光可照射的光照射面的原版進行貼合，所述防塵薄膜組件包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框，所述防塵薄膜組件框於厚度方向的一端面之側支持所述防塵薄膜，且具有設置於厚度方向的另一端面的溝槽及貫通外周面與所述溝槽的壁面之間的通孔，所述排氣管用以在所述防塵薄膜組件及所述原版以所述防塵薄膜組件框的所述另一端面與所述光照射面相對向的方式配置於所述貼合腔室內的狀態下，經由所述防塵薄膜組件框的所述通孔而對所述溝槽的內部進行排氣。
本實施方式的防塵薄膜組件包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框。該防塵薄膜組件框於厚度方向的一端面之側支持防塵薄膜。防塵薄膜組件框具有設置於其厚度方向的另一端面的溝槽。進而，防塵薄膜組件框具有貫通其外周面與所述溝槽的壁面之間的通孔。
而且，於本實施方式的貼合單元中，在防塵薄膜組件及原版以防塵薄膜組件框的另一端面與原版的光照射面相對向的方式配置的狀態下，藉由所述排氣管經由防塵薄膜組件框的通孔而對溝
槽的內部進行排氣。藉此，可使壓合力於防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框與原版之間發揮作用。因此，可於儘量避免(藉由裝置、夾具、手等)接觸防塵薄膜的膜面的情況下將兩者貼合。
因此，根據本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置，可發揮如下效果：於貼合防塵薄膜組件與原版而將防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版時，可於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下將兩者貼合。
再者，於本實施方式中，「壓合力」與吸合力含義相同。
於本說明書中，將防塵薄膜組件與原版貼合而成的結果物(即，裝設有防塵薄膜組件的原版)亦稱為「附防塵薄膜組件的原版」或「曝光原版」。本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置亦可稱為「附防塵薄膜組件的原版的製造裝置」或「曝光原版的製造裝置」。
進而，根據本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置，可抑制於貼合防塵薄膜組件與原版時，因接觸防塵薄膜組件的膜面而引起的異物對防塵薄膜的附著或防塵薄膜的破損。
此外，近年來伴隨半導體器件的微細化，抑制異物對防塵薄膜組件的附著的要求進一步變得強烈。
另外，線寬32nm以下的圖案形成例如可藉由EUV微影術進行。EUV微影術所使用的含有無機系材料的防塵薄膜與含有有機系材料的防塵薄膜相比，存在難以自立的傾向，另外，亦容易因機械上的接觸導致產生損傷或起塵。因此，於將具備含有無機系
材料的防塵薄膜的防塵薄膜組件裝設於原版的情形時，於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下裝設防塵薄膜組件的要求高。此處，所謂「自立」是指可單獨保持膜形狀。
根據本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置，可應對伴隨半導體器件的微細化的該些要求。
具體而言，本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置尤其適於將使用波長短的曝光光(例如，EUV光、波長較EUV光更短的光等)的微影術用防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版，其中適於將具備含有無機系材料的防塵薄膜的防塵薄膜組件裝設(安裝)於原版。
於本實施方式中，所謂極紫外(Extreme Ultra Violet，EUV)光，是指波長5nm~30nm的光。
EUV光的波長較佳為5nm~13.5nm。
於本實施方式中，存在將EUV光、及波長較EUV光更短的光總稱為「EUV光等」的情況。
另外，於本實施方式中，存在將防塵薄膜組件框的「厚度方向的端面」簡稱為「端面」的情況。
另外，於本實施方式中，所謂「厚度方向的一端面及另一端面」，當然分別是指厚度方向的端面的其中一者、及厚度方向的端面的另一者。
另外，於本實施方式中，將防塵薄膜組件及原版以防塵薄膜組件框的另一端面(設置有溝槽的端面)與原版的光照射面相對向的方式配置於貼合腔室內。
此處，於本實施方式的防塵薄膜組件框中，不僅在另一端面(原版的相對向面)，亦可在一端面(防塵薄膜的相對向面)設置有所述溝槽(即，與通孔相通的溝槽)。即，本實施方式的防塵薄膜組件框亦可於厚度方向的一端面及另一端面這兩者具有所述溝槽(即，與通孔相通的溝槽)。
本發明具有如下優點：可於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下，製造包含在厚度方向的一端面及另一端面這兩者具有所述溝槽的防塵薄膜組件框的防塵薄膜組件。其理由是因為可經由通孔對防塵薄膜的相對向面的一端面側的溝槽進行排氣(減壓)。詳細的機構和貼合防塵薄膜組件與原版時的機構相同。
後述的具體例是以貼合防塵薄膜組件與原版的情形為中心進行說明，所述防塵薄膜組件包含在厚度方向的一端面及另一端面這兩者具有所述溝槽的防塵薄膜組件框。然而，所述溝槽只要設置於防塵薄膜組件框的至少另一端面(原版的相對向面)即可。
另外，本實施方式的防塵薄膜組件亦可為僅包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框者，視需要亦可具備其他要素。
作為其他要素，可列舉：以與防塵薄膜組件框的另一端面(原版的相對向面)相接的方式配置的接著劑層、配置於防塵薄膜與防塵薄膜組件框之間的接著劑層、與配置於防塵薄膜與防塵薄膜組件框之間的防塵薄膜相接的支持基板等。
另外，作為本實施方式中的原版(遮罩)，只要具有光可照射的光照射面，則並無特別限制。
此處，作為原版，例如可使用含有支持基板、積層於該支持基板上的反射層、及形成於反射層上的吸收體層的原版(遮罩)。於該原版中，設置有反射層及吸收體層之側的面成為光照射面。藉由吸收體層吸收一部分EUV光等光，可於感應基板(例如，附光阻膜的半導體基板)上形成所需圖像。反射層可為鉬(Mo)與矽(Si)的多層膜。吸收體層可為鉻(Cr)或氮化鉭等EUV光等的吸收性高的材料。
另外，本實施方式中較佳為，所述貼合單元進而包含用以將氣體導入所述貼合腔室內而對所述貼合腔室內進行加壓的導入管。
藉由該導入管，可對貼合腔室內進行加壓，因此可進一步增大配置有防塵薄膜組件及原版的整體的環境的壓力與溝槽內部的壓力之差(差壓)。因此可進一步增大產生於防塵薄膜組件與原版之間的壓合力，可更容易地將兩者貼合。
另外，本實施方式中更佳為，所述導入管包含第1導入管，所述第1導入管自與所述貼合腔室內所配置的所述防塵薄膜組件及所述原版中的所述防塵薄膜組件相對向之側導入氣體，所述貼合單元進而包含用以使自所述第1導入管導入的氣體分散的氣體分散構件。
於該態樣中，藉由第1導入管導入的氣體的流動對防塵薄膜的影響得以減少。
於所述導入管包含所述第1導入管的情況下，所述導入
管除了第1導入管，亦可包含第1導入管以外的其他導入管即第2導入管。
本實施方式中較佳為，所述貼合單元包含連通構件，所述連通構件在所述貼合腔室內與所述排氣管的一端連接、且使所述排氣管與所述防塵薄膜組件框的所述通孔連通。
藉此，於經由防塵薄膜組件框的通孔而對溝槽的內部進行排氣時，可進一步提高排氣的效率。
所述連通構件的形狀只要為可使排氣管與通孔連通的形狀，則可為任意者。
作為所述連通構件的形狀，例如可列舉具有與防塵薄膜組件框的外周面接觸的開口端、且該開口端的直徑大於通孔的直徑的形狀。該情況下連通構件的所述開口端與通孔的位置對準變得更容易。
另外，作為所述連通構件的形狀，亦可列舉具有直徑小於通孔直徑的開口端的形狀。該情況下可將開口端插入至通孔，因此可更牢靠地連接連通構件的所述開口端與通孔。
如上所述，作為所述連通構件的形狀，例如亦可列舉具有可插入至防塵薄膜組件框的通孔的開口端的形狀。該情況下可更牢靠地連接連通構件的所述開口端與通孔。
作為所述情況下的一例，可列舉如下的例子，即防塵薄膜組件框的通孔具有隨著朝向防塵薄膜組件框的外周面而直徑增大的錐形形狀、且連通構件具有可插入至所述錐形形狀的通孔的錐形
形狀的開口端。
另外，所述連通構件較佳為被設置成可朝推入所述防塵薄膜組件框的外周面的方向移動。
藉此，可更牢靠地連接連通構件與防塵薄膜組件框。進而，即便於因經由防塵薄膜組件框的通孔對溝槽的內部進行排氣而導致防塵薄膜組件框朝排氣方向應變變形的情況下，亦可藉由預先利用連通構件而推入防塵薄膜組件框的外周面，來抑制(修正)防塵薄膜組件框的應變變形。
再者，於該情況下，當然可將連通構件設置成不僅可朝推入防塵薄膜組件框的外周面的方向移動，亦可朝其相反方向(返回方向；即，遠離外周面的方向)移動。
另外，於本實施方式中較佳為，所述貼合單元包含原版支持構件，所述原版支持構件在所述貼合腔室內支持與所述原版的光照射面為相反側的面的周端部及所述原版的外周面的至少一部分、不支持所述相反側的面的中央部。
於該態樣中，可以不與原版的光照射面的相反側的面的中央部接觸的方式來貼合原版與防塵薄膜組件。
所述相反側的面的周端部較佳為距所述相反側的面的周端為5mm以內(更佳為3mm以內)的區域。
於本說明書中，有時將原版的光照射面稱為原版的「前表面」。
另外，於本說明書中，有時將與原版的光照射面為相反側的
面稱為原版的「背面」。
貼合單元包含所述原版支持構件的態樣尤其適於原版為EUV微影術所使用的EUV原版(EUV遮罩)的情形。
即，於EUV微影術所使用的EUV曝光裝置中，於將原版固定於曝光裝置內時，與現有的夾頭方式不同，藉由靜電夾頭方式以原版的背面與遮罩平台直接接觸的方式固定。因此，本發明者等人發現，若異物附著於原版的背面的中央部，則因異物的凹凸導致原版的平坦性受損而無法進行正常的曝光。
針對該現象，於貼合單元包含所述原版支持構件的態樣中，可於不與原版的背面的中央部接觸的情況下貼合原版與防塵薄膜組件，故異物對原版的背面的中央部的附著得到抑制。
另外，本實施方式中較佳為，所述原版被收容在原版殼體而被搬入所述貼合腔室內，所述原版殼體具有使所述原版的光照射面露出的開口部，且支持與所述原版的光照射面為相反側的面的周端部及所述原版的外周面的至少一部分、不支持所述相反側的面的中央部，所述貼合單元包含原版殼體支持構件，所述原版殼體支持構件在所述貼合腔室內對收容所述原版的所述原版殼體進行支持。
於該態樣中亦發揮與貼合單元包含所述原版支持構件的態樣相同的效果。該態樣中的中央部的較佳範圍及周端部的較佳範圍分別與貼合單元包含所述原版支持構件的態樣中的中央部的較佳範圍及周端部的較佳範圍相同。
作為所述原版殼體，亦可使用公知的遮罩殼體的一部分。
例如，作為公知的遮罩殼體，可列舉EUV遮罩盒(pod)等。
作為可用作所述原版殼體的遮罩殼體的一部分，可列舉具備底板及罩構件的內部遮罩盒(inner pod)的罩構件。
關於EUV遮罩盒、內部遮罩盒、罩構件等，例如可適當參照國際公開第2013/186929號手冊等。
本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置較佳為，進而具備對所述貼合後的所述防塵薄膜組件及所述原版進行外觀檢查的檢查單元。
作為外觀檢查，可列舉：附著於防塵薄膜組件及原版的至少一者的異物的檢查、防塵薄膜組件框的形狀測定、防塵薄膜組件框與原版的位置對準偏差的測定等。
再者，亦可將防塵薄膜組件框與原版的「位置對準」稱為「重合」。
本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置較佳為具備第1測定部件與第2測定部件，所述第1測定部件是對與所述原版貼合前的所述防塵薄膜組件的所述防塵薄膜組件框的形狀進行測定，所述第2測定部件是對與所述原版貼合後的所述防塵薄膜組件的所述防塵薄膜組件框的形狀進行測定。
於該態樣中，可對貼合(尤其是所述防塵薄膜組件框的所述溝槽的內部的排氣)所引起的防塵薄膜組件框的變形的有無及變
形量進行調查。
於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置具備第1測定部件及第2測定部件的情況下，本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置較佳為具備對準部件與控制部件，所述對準部件於貼合所述原版與所述防塵薄膜組件之前，進行所述原版與所述防塵薄膜組件的對準，所述控制部件基於所述貼合前的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果與所述貼合後的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果，對利用所述對準部件的對準進行前饋控制。
於該態樣中，藉由所述控制部件而預測到貼合所引起的防塵薄膜組件框的變形，預先以由變形引起的對準偏差(位置對準偏差)變小(較佳為經最小化)的方式，來控制利用對準部件的防塵薄膜組件與原版的對準。
於該態樣中，亦可省略控制部件，可手動地進行利用對準部件的對準的調整。
於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置具備第1測定部件及第2測定部件的情況下，本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置較佳為具備算出部件，所述算出部件基於所述貼合前的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果與所述貼合後的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果之差，來算出藉由所述貼合而引起的所述防塵薄膜組件框的應變量。
於該態樣中，藉由所述算出部件而預測到貼合所引起的防塵薄膜組件框的應變量(例如，因經由通孔的溝槽的排氣而引起的
防塵薄膜組件框的應變量)，預先以防塵薄膜組件框的應變變小(較佳為經最小化)的方式，來控制連通構件所引起的防塵薄膜組件框的推入量。
於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置具備所述算出部件的情況下，本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置較佳為，所述貼合單元包含連通構件，所述連通構件在所述貼合腔室內與所述排氣管的一端連接、且使所述排氣管與所述防塵薄膜組件框的所述通孔連通，並被設置成可朝推入所述防塵薄膜組件框的外周面的方向移動，且所述算出部件為基於所述應變量而對所述連通構件所引起的所述防塵薄膜組件框的推入量進行前饋控制的控制部件。
於該態樣中，藉由所述算出部件，不僅可算出應變量，亦可控制防塵薄膜組件框的推入量。
<具體例>
繼而，參照圖1~圖20來對本實施方式的一例進行說明，但本發明並不限定於以下的一例。
(防塵薄膜組件框的具體例)
圖1及圖2是表示於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置中，作為貼合對象物之一的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框的一例的概略立體圖。
圖1是自可觀察到一例的防塵薄膜組件框的厚度方向的一端面的方向進行觀察的概略立體圖，圖2是自可觀察到同一例防塵
薄膜組件框的厚度方向的另一端面的方向進行觀察的概略立體圖。
圖3為所述一例的防塵薄膜組件框的部分截面圖，詳細而言，為圖1的A-A線截面圖。
如圖1及圖2所示，防塵薄膜組件框100的形狀為矩形的框形狀。於將防塵薄膜組件框100用作防塵薄膜組件的一構件時，曝光光會透過由防塵薄膜組件框100所圍成的開口部50。
防塵薄膜組件框100的外形是由防塵薄膜組件框100的厚度方向的一端面10、另一端面20、包含四個面的外周面30、及包含四個面的內周面40所確定。
再者，防塵薄膜組件框100的自厚度方向觀察的形狀如上述般為矩形形狀，但本實施方式的防塵薄膜組件框的自厚度方向觀察的形狀並不限定於矩形形狀，亦可為矩形形狀以外的形狀(例如，梯形形狀、框的外側部分具有突起的形狀等)。
如圖1及圖3所示，於一端面10設置有溝槽12。
於該實施方式中，自防塵薄膜組件框100的厚度方向觀察的溝槽12的形狀為沿防塵薄膜組件框100的形狀繞一周的無端(endless)形狀。
下文對自防塵薄膜組件框的厚度方向觀察的溝槽的形狀的變形例進行說明。
防塵薄膜組件框100具有通孔14A及通孔14B。
通孔14A及通孔14B分別貫通溝槽12的底面與外周面30之
間。
此處，通孔14A及通孔14B亦可分別貫通溝槽12的側面與外周面30之間。
另外，亦可省略通孔14A及通孔14B中的任一者。即，於防塵薄膜組件框100中，對一個溝槽(溝槽12)連接有兩個通孔(通孔14A及通孔14B)，但本實施方式並不限定於該態樣。於本實施方式中，對一個溝槽(溝槽12、溝槽22)連接至少一個通孔即可。
另外，如圖2及圖3所示，於與一端面10為相反側的另一端面20設置有溝槽22。
於該實施方式中，溝槽22的形狀亦與溝槽12的形狀相同，於自厚度方向觀察時，為沿防塵薄膜組件框100的形狀繞一周的無端形狀。
防塵薄膜組件框100具有通孔24A及通孔24B。
通孔24A及通孔24B分別貫通溝槽22的底面與外周面30之間。
通孔24A及通孔24B的變化與通孔14A及通孔14B的變化相同。
所述防塵薄膜組件框100於一端面10之側或另一端面20之側支持防塵薄膜。即，所述防塵薄膜組件框100為本實施方式的一例的防塵薄膜組件的構成構件之一。
以下，以於防塵薄膜組件框100的一端面10之側支持防塵薄膜的情況為中心進行說明。該情況下，防塵薄膜組件框100
的另一端面20成為原版的相對向面。
然而，本實施方式中的防塵薄膜組件框於至少作為原版的相對向面的端面設置溝槽即可，因此亦可與所述情況相反，於防塵薄膜組件框100的另一端面20之側支持防塵薄膜，防塵薄膜組件框100的一端面10成為原版的相對向面。
另外，亦可省略對防塵薄膜進行支持之側的端面的溝槽、及與該溝槽相通的通孔。即，亦可省略為溝槽12、通孔14A及通孔14B的組合、以及溝槽22、通孔24A及通孔24B的組合中的任一者、且與對防塵薄膜進行支持之側的端面相關的組合。
以下，說明將在防塵薄膜組件框100的一端面10之側支持防塵薄膜而成的防塵薄膜組件(例如，後述的防塵薄膜組件201、防塵薄膜組件200)裝設於原版的情況。
於防塵薄膜組件框100中，在成為原版的相對向面的另一端面20設置有溝槽22，且設置有連接於該溝槽22的通孔24A及通孔24B。因此，於將原版固定於另一端面20時，經由通孔24A及通孔24B而對溝槽22的內部(例如藉由真空泵等排氣部件)進行減壓，藉此可減小防塵薄膜組件框100與原版之間的壓力。藉由該減壓，可使壓合力於防塵薄膜組件框100與原版之間發揮作用，因此可於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下貼合防塵薄膜組件與原版。
進而，在防塵薄膜組件框100的一端面10之側支持防塵薄膜而成的防塵薄膜組件(例如，後述的防塵薄膜組件201、防
塵薄膜組件200)不僅於另一端面20設置有溝槽，亦於一端面10設置有溝槽，因此藉由和貼合防塵薄膜組件與原版時相同的原理，而具有可於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下進行製造的優點。
進而，防塵薄膜組件框100於一端面10及另一端面20這兩者具有溝槽(溝槽12、溝槽22)，因此具有與防塵薄膜及原版貼合的端面的選擇範圍廣的優點。
防塵薄膜組件框100的尺寸例如可設為以下尺寸。
防塵薄膜組件框100的長邊方向的長度L1例如可設為135mm~153mm，較佳為140mm~152mm，更佳為145mm~151mm。
防塵薄膜組件框100的短邊方向的長度L2例如可設為100mm~130mm，較佳為105mm~125mm，更佳為110mm~120mm。
長邊方向的長度L1與短邊方向的長度L2可為相同尺寸。即，防塵薄膜組件框100的形狀亦可為正方形形狀。
防塵薄膜組件框100的框寬(flame width)W例如可設為1.0mm~5.0mm，較佳為1.2mm~3.5mm，更佳為1.5mm~2.5mm。於矩形形狀的防塵薄膜組件框100的四條邊中，框寬可設為相同的尺寸，亦可設為不同的尺寸。
另外，由防塵薄膜組件框100所圍成的開口部50的長邊方向的長度例如可設為130mm~152mm，較佳為135mm~151mm，
更佳為140mm~150mm。
另外，開口部50的寬度例如可設為95mm~130mm，較佳為100mm~125mm，更佳為105mm~120mm。
防塵薄膜組件框的厚度t例如可設為0.5mm~5.0mm，較佳為0.5mm~3.0mm，更佳為0.5mm~2.0mm。
另外，溝槽12及溝槽22的寬度可考慮減少溝槽處的壓力損失、與防塵薄膜組件框的框寬的關係等而適當設定，例如可設為10μm~1.0mm，較佳為50μm~700μm，更佳為100μm~600μm，尤佳為200μm~500μm。
另外，溝槽12及溝槽22的深度可考慮減少溝槽處的壓力損失、與防塵薄膜組件框的厚度的關係等而適當設定，例如可設為10μm~1.0mm，較佳為50μm~700μm，更佳為100μm~600μm，尤佳為200μm~500μm。
另外，通孔14A、通孔14B、通孔24A、及通孔24B的寬度可考慮減少通孔處的壓力損失、與防塵薄膜組件框的厚度的關係等而適當設定，例如可設為10μm~1.0mm，較佳為50μm~700μm，更佳為100μm~600μm，尤佳為200μm~500μm。
另外，通孔14A、通孔14B、通孔24A、及通孔24B的長度可考慮減少通孔處的壓力損失等而適當設定，例如可設為0.5mm~10mm，較佳為0.7mm~5.0mm，更佳為1.0mm~2.0mm。
此處，所謂通孔的寬度是指包含通孔的通路的通路寬度(於通孔的截面為圓形形狀的情形時為直徑)，所謂通孔的長度是指包
含通孔的通路的通路長度。
防塵薄膜組件框100的材質並無特別限制，可設為防塵薄膜組件框所使用的通常的材質。
作為防塵薄膜組件框100的材質，具體而言，可列舉：鋁、鋁合金(5000系、6000系、7000系等)、不鏽鋼、矽、矽合金、鐵、鐵系合金、碳鋼、工具鋼、陶瓷、金屬-陶瓷複合材料、樹脂等。其中，就輕量且剛性的方面而言，更佳為鋁、鋁合金。
另外，防塵薄膜組件框100亦可於其表面具有保護膜。
作為保護膜，較佳為對存在於曝光環境中的氫自由基及EUV光具有耐受性的保護膜。
作為保護膜，例如可列舉氧化覆膜。
氧化覆膜可藉由陽極氧化等公知的方法形成。
另外，氧化覆膜可藉由黑色系染料進行著色。於防塵薄膜組件框100具有經黑色系染料著色的氧化覆膜的情形時，變得更容易檢測出防塵薄膜組件框100上的異物。
除此以外，關於防塵薄膜組件框100的其他構成，例如可適當參照日本專利特開2014-021217號公報、日本專利特開2010-146027號公報等公知的防塵薄膜組件框的構成。
繼而，對防塵薄膜組件框的變形例進行說明。
於圖1~圖3所示的防塵薄膜組件框100中，於每一端面設置有一個溝槽，但於本實施方式中，亦可於每一端面設置有兩個以上的溝槽。於在每一端面設置有兩個以上的溝槽的情況下，較
佳為於兩個以上的溝槽分別連接所述通孔(例如，參照圖4)。
另外，於防塵薄膜組件框為矩形形狀的情形時，就使防塵薄膜組件框與其他構件之間的壓合力更有效地發揮作用的觀點而言，較佳為防塵薄膜組件框的四條邊存在溝槽。
此處，「防塵薄膜組件框的四條邊存在溝槽」的態樣例如包括：
跨防塵薄膜組件框的四條邊而設置有一個溝槽的態樣(例如，參照圖1及圖2)、
於防塵薄膜組件框的四條邊的每一條邊設置有一個以上的溝槽的態樣(例如，參照圖4)、
跨防塵薄膜組件框的兩條邊而設置有一個溝槽、且跨剩餘的兩條邊而設置有一個溝槽的態樣等。
圖4是自可觀察到厚度方向的另一端面的方向觀察本實施方式的變形例中的防塵薄膜組件框101的概略立體圖。
如圖4所示，於防塵薄膜組件框101的另一端面20設置有四個溝槽，即溝槽22A、溝槽22B、溝槽22C、及溝槽22D。於防塵薄膜組件框101分別設置有貫通溝槽22A、溝槽22B、溝槽22C、及溝槽22D各自的底面與外周面30之間的通孔26A、通孔26B、通孔26C、及通孔26D。
於該防塵薄膜組件框101中，每個溝槽成為以防塵薄膜組件框101的角(corner)部分為中心而跨兩條邊、且於兩條邊的中途具有端部的形狀。然而，本實施方式的溝槽的形狀亦可為任意形狀。
另外，於該防塵薄膜組件框101中，於每個溝槽的一端部連接有通孔。然而，於本實施方式中，連接於溝槽的通孔的位置亦可為任意部分。總之，通孔只要貫通溝槽的壁面與防塵薄膜組件框的外周面之間即可。
另外，於圖4中省略圖示，但與防塵薄膜組件框100的一端面10同樣，於防塵薄膜組件框101的一端面設置有溝槽，進而設置有貫通一端面側的溝槽的壁面與外周面的通孔。然而，亦可將防塵薄膜組件框101的一端面側的溝槽的形狀設為與防塵薄膜組件框101的另一端面側的溝槽的形狀相同的形狀。
於防塵薄膜組件框101中，所述以外的構成與防塵薄膜組件框100的構成相同，較佳的範圍亦相同。
(防塵薄膜組件的具體例)
圖5是表示本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置所使用的防塵薄膜組件的一例的概略截面圖。
如圖5所示，防塵薄膜組件201包含防塵薄膜130與所述防塵薄膜組件框100。於防塵薄膜組件201中，防塵薄膜組件框100於厚度方向的一端面10之側支持防塵薄膜130。防塵薄膜組件框100至少具有設置於厚度方向的另一端面20的溝槽22、與貫通外周面30與溝槽22的壁面之間的通孔24A及通孔24B。進而，於防塵薄膜組件框100的厚度方向的一端面10設置有溝槽12，進而設置有貫通該溝槽12的壁面與外周面30之間的通孔14A及通孔14B。
防塵薄膜組件201的構成成為將包含所述防塵薄膜組件框100的防塵薄膜組件框構件110與包含防塵薄膜130的防塵薄膜構件120貼合的構成。
此處，防塵薄膜組件框構件110具備所述防塵薄膜組件框100、與所述防塵薄膜組件框100的一端面10相接的接著劑層102、與所述防塵薄膜組件框100的另一端面20相接的接著劑層104、及與接著劑層104相接的剝離襯墊106。
另一方面，防塵薄膜構件120是由防塵薄膜130與支持防塵薄膜130的支持基板122構成。
於防塵薄膜組件201中，防塵薄膜組件框構件110及防塵薄膜構件120是以支持基板122與接著劑層102相接的配置進行貼合。該結構的防塵薄膜組件201可藉由對通過通孔14A及通孔14B的溝槽12的內部進行排氣(減壓)，於儘量避免接觸防塵薄膜130的情況下進行製造。
於防塵薄膜組件201中，防塵薄膜130的材質並無特別限制，可為有機系材料，亦可為無機系材料，亦可為有機系材料與無機系材料的混合材料。
作為有機系材料，可列舉氟系聚合物等。
作為無機系材料，可列舉結晶矽(例如，單晶矽、多晶矽等)、類鑽碳(Diamond-like carbon，DLC)、石墨、非晶碳、石墨烯、碳化矽、氮化矽、氮化鋁等。
防塵薄膜130可單獨含有一種所述材料，亦可含有兩種以上。
防塵薄膜130的構成可為單層構成，亦可為包含兩層以上的構成。
防塵薄膜的厚度(於包含兩層以上的情形時為總厚度)例如可設為10nm~200nm，較佳為10nm~100nm，更佳為10nm~70nm，尤佳為10nm~50nm。
支持基板122為用以支持防塵薄膜130的構件。
該支持基板122與防塵薄膜組件框100同樣，為框形狀的構件。即，支持基板122為在中央部具有矩形形狀的開口部的基板。
支持基板122的開口部的形狀及尺寸分別與由所述防塵薄膜組件框100所圍成的開口部50的形狀及尺寸大致相同。
然而，支持基板122的開口部的尺寸及開口部50的尺寸無須完全相同，例如可使支持基板122的開口部的尺寸小於開口部50的尺寸，亦可使支持基板122的開口部的尺寸大於開口部50的尺寸。然而，較佳為將開口部的一邊長度的差異設為2mm以內(較佳為1mm以內)。
作為所述支持基板122的材質，可列舉：鋁、鋁合金(5000系、6000系、7000系等)、不鏽鋼、矽、矽合金、鐵、鐵系合金、碳鋼、工具鋼、陶瓷、金屬-陶瓷複合材料、樹脂等。其中，較佳為矽、矽合金。
支持基板122的厚度例如可設為0.03mm~5.0mm，較佳為0.05mm~3.0mm，更佳為0.15mm~2.0mm，尤佳為0.3mm~1.0mm。
於防塵薄膜組件201中，防塵薄膜130是由所述支持基板122支持。
該態樣的防塵薄膜構件具有即便於防塵薄膜為難以自立的膜(例如，矽結晶膜等含有無機系材料的防塵薄膜、厚度小的防塵薄膜等)的情形時，亦可一面藉由支持基板保持防塵薄膜的膜形狀、一面製造防塵薄膜組件的優點。
包含所述支持基板122與防塵薄膜130的防塵薄膜構件120例如可藉由如下方式製作，首先，於作為支持基板122的原材料(設置開口部之前的支持基板)的矽晶圓(例如8英吋的矽晶圓)上，形成作為防塵薄膜130的矽結晶膜，繼而，自該矽晶圓的未形成矽結晶膜的面側，對矽晶圓的中央部進行蝕刻而去除該中央部的矽晶圓，從而形成開口部。再者，於製造防塵薄膜組件201時，矽晶圓的多餘的部分(自防塵薄膜組件框100的外周超出的多餘的部分)於防塵薄膜組件201的製造階段的中途被切割(去除)。
作為防塵薄膜130，除矽結晶膜以外，亦可使用氮化矽膜/矽結晶膜/氮化矽膜的構成的積層膜等其他膜。另外，作為支持基板122，亦可使用矽晶圓以外的其他基板。
即便於使用其他材料(膜、基板)的情況下，亦可藉由與所述相同的方法來製作防塵薄膜構件。
於防塵薄膜組件201中，接著劑層102是接著支持基板122與防塵薄膜組件框100的層，且含有接著劑。
於本實施方式中，「接著劑」是指廣義的接著劑，「接著劑」的概念亦包含黏著劑。
作為接著劑層102所含有的接著劑，可列舉：丙烯酸樹脂接著劑、環氧樹脂接著劑、聚醯亞胺樹脂接著劑、矽酮樹脂接著劑、無機系接著劑、雙面黏著帶、矽酮樹脂黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚烯烴系黏著劑等。
其中較佳為丙烯酸樹脂接著劑、環氧樹脂接著劑、聚醯亞胺樹脂接著劑、矽酮樹脂接著劑、無機系接著劑。
接著劑層102的厚度並無特別限制，較佳為1μm~500μm，更佳為10μm~400μm，尤佳為20μm~300μm。
於防塵薄膜組件201中，接著劑層104為於利用本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置而將防塵薄膜組件裝設於原版(即，防塵薄膜組件與原版的貼合)時，用以接著原版與防塵薄膜組件框100的層，且含有接著劑。
作為接著劑層104所含有的接著劑，可列舉與接著劑層102所含有的接著劑相同者，其中較佳為雙面黏著帶、矽酮樹脂黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚烯烴系黏著劑。
接著劑層104的厚度並無特別限制，較佳為1μm~500μm，更佳為10μm~400μm，尤佳為20μm~300μm。
再者，於防塵薄膜組件201中，接著劑層104被設置於防塵薄膜組件框100的另一端面20中除溝槽22以外的部分。藉此可效率佳地進行通過通孔24A及通孔24B的溝槽22的排氣。
關於所述接著劑層102，亦同樣地被設置於防塵薄膜組件框100的一端面10中除溝槽12以外的部分。
剝離襯墊106為於利用本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置而將防塵薄膜組件裝設於原版之前(即，防塵薄膜組件與原版的貼合前)，用以防止異物對接著劑層104的附著的構件。
剝離襯墊106於將防塵薄膜組件裝設於原版之前，自防塵薄膜組件201去除(剝離)。後述的防塵薄膜組件200(圖6等)為自防塵薄膜組件201去除剝離襯墊106後的防塵薄膜組件。
剝離襯墊106自防塵薄膜組件201的去除可於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置內進行，亦可預先於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置外進行。
剝離襯墊為亦被稱作剝離膜或隔片的構件。
作為剝離襯墊，可無特別限制地使用具有矽酮化合物等的剝離層的聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethyleme terephthalate，PET)膜等公知者。
於防塵薄膜組件201中，剝離襯墊106的自厚度方向觀察的形狀成為跨防塵薄膜組件框100及開口部50(由防塵薄膜組件框100所圍成的開口部)的形狀，即不具有開口部的平板形狀。然而，剝離襯墊106的形狀亦可為任意者。剝離襯墊亦可為僅與接著劑層104的表面相接的框形狀的構件(具有開口部的構件)。另外，剝離襯墊可為大於防塵薄膜組件框100的構件，例如亦可為自防塵薄膜組件框100的厚度方向觀察時，具有自防塵薄膜組件框100
的外側超出的大小的構件。
剝離襯墊106的厚度並無特別限制，較佳為5μm~500μm，更佳為10μm~400μm，尤佳為20μm~300μm。
於防塵薄膜組件201中，各構件的厚度的較佳範圍如上所述。
各構件的厚度較佳為以防塵薄膜組件200的總厚度成為5.0mm以下(更佳為3.0mm以下，進而佳為2.0mm以下)的方式調整。
於防塵薄膜組件201的至少一個構成構件(其中，剝離襯墊106除外)亦可形成用以提高與原版的對準(位置對準)精度的對準標記。
(貼合單元的具體例)
圖6及圖7是表示本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置中的貼合單元的一例的概略構成圖。貼合單元為獨自亦作為防塵薄膜組件安裝裝置發揮功能的單元。
圖6為著眼於在貼合單元的貼合腔室內進行防塵薄膜組件與原版的貼合的形態的概略截面圖。於圖6中，關於貼合腔室內的詳細構成，省略圖示。
圖7為著眼於貼合腔室內的詳細構成、及將防塵薄膜構件搬入至貼合腔室的形態的概略截面圖。於圖7中，關於防塵薄膜組件的詳細構成，省略圖示。
如圖6所示，於貼合單元300的貼合腔室310內配置有
防塵薄膜組件200及原版250。
此處，防塵薄膜組件200為自所述防塵薄膜組件201去除了剝離襯墊106者。剝離襯墊106自防塵薄膜組件201的去除可於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置內進行，亦可預先於本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置外進行。
原版250具有前表面252(曝光光可照射的面；光照射面)及背面254(前表面252的相反側的面)。
作為原版250，例如使用含有支持基板、積層於該支持基板上的反射層、及形成於反射層上的吸收體層的EUV原版(EUV遮罩)。於該原版中，設置有反射層及吸收體層之側的面成為前表面252(光照射面)。前表面252的相反側的面(支持基板的面)為背面254。於該例中，藉由吸收體層吸收一部分EUV光，可於感應基板(例如，附光阻膜的半導體基板)上形成所需圖像。反射層可為鉬(Mo)與矽(Si)的多層膜。吸收體層可為鉻(Cr)或氮化鉭等EUV光等的吸收性高的材料。
於貼合腔室310內，防塵薄膜組件200及原版250以防塵薄膜組件200的接著劑層104與原版250的前表面252相對向的方式進行配置。
於防塵薄膜組件200中防塵薄膜組件框100的與原版250相對向之側的端面(另一端面20)設置有溝槽22。而且，接著劑層104被設置於防塵薄膜組件框100的另一端面20上的除溝槽22以外的部分。
於貼合腔室310內，藉由排氣管(圖6中未圖示。圖7中為排氣管312A及排氣管312B)，經由通孔24B來進行溝槽22的內部的排氣(減壓)(箭頭E2)，且經由通孔24A來進行溝槽22的內部的排氣(減壓)(箭頭E1)。藉由該些的排氣(減壓)，可使吸合力F(即，壓合力)於防塵薄膜組件200與原版250之間發揮作用。藉由該力F的作用，可於儘量避免接觸防塵薄膜130的情況下將兩者貼合。
此時，較佳為藉由未圖示的導入管，將氣體導入貼合腔室310內而對貼合腔室310內進行加壓。藉此，可進一步增大配置有防塵薄膜組件200及原版250的貼合腔室310內整體的環境的壓力、與溝槽22內部的壓力之差(差壓)，因此可使所述力F更有效地發揮作用。
所述力F(對防塵薄膜組件框整體施加的力)較佳為1N以上，更佳為2N以上。
所述力F(對防塵薄膜組件框整體施加的力)進而較佳為10N以上，尤佳為20N以上。
所述力F(對防塵薄膜組件框整體施加的力)的上限並無特別限制，就生產性等方面而言，例如為500N，較佳為400N。
繼而，參照圖7對貼合單元300的構成進行說明。
如圖7所示，貼合單元300具備貼合腔室310、用以將氣體導入貼合腔室310內而對貼合腔室310內進行加壓的第1導入管322及第2導入管326、以及用以經由防塵薄膜組件200的防塵薄
膜組件框100的通孔24A及通孔24B而對溝槽22的內部進行排氣的排氣管312A及排氣管312B。
此處，第1導入管322於將防塵薄膜組件200及原版250配置於貼合腔室310內時，被配置於可自與防塵薄膜組件200(防塵薄膜130)相對向之側(於該例中，自貼合腔室310的上表面)導入氣體的位置。貼合單元300亦可具備多個第1導入管322。
另一方面，第2導入管326於將防塵薄膜組件200及原版250配置於貼合腔室310內時，被配置於可自原版250的下方且貼合腔室310的側面導入氣體的位置。第2導入管326並不限於該位置，可設置於能夠將氣體導入貼合腔室310內的所有位置。另外，貼合單元300亦可具備多個第2導入管326。
第1導入管322及第2導入管326的另一端分別可(視需要經由其他配管等)連接於貯氣瓶等氣體供給部件。
另外，亦可於第1導入管322及第2導入管326的中途設置用以切換是否進行氣體導入的閥門(未圖示)。該閥門亦可為具備調整氣體流量等的機構的調整閥。
再者，經由第1導入管322及第2導入管326而供給的氣體並無特別限制，例如可使用乾燥空氣、惰性氣體等。
排氣管312A及排氣管312B分別可經由與一端連接的連通構件而連接於防塵薄膜組件200的防塵薄膜組件框的通孔。
圖8是概念性地表示圖7中的排氣管的其中一個即排氣管3121B連接於防塵薄膜組件框的通孔的形態的部分截面圖。
如圖8所示，於排氣管312B的一端連接有使防塵薄膜組件框100的通孔24B與排氣管312B連通的連通構件314。藉由貼合單元300具備該連通構件314，於對通過通孔24B的溝槽22的內部進行排氣時，進一步提高排氣的效率。連通構件314無須相對於排氣管312B而為獨立的構件。即，排氣管312B與連通構件314亦可為經一體成形的一個構件。
連通構件314的形狀成為具有與防塵薄膜組件框100的外周面接觸的開口端、且該開口端的直徑大於通孔的直徑的形狀。藉由連通構件314的形狀為該形狀，可容易地進行連通構件314的開口端與通孔24B的位置對準。更具體而言，連通構件314的形狀成為隨著遠離排氣管312B的一端而直徑增大的錐形形狀。
另外，連通構件314被設置成可朝推入防塵薄膜組件框100的外周面的方向(箭頭J2的方向)移動。藉此，可更牢靠地連接連通構件314與防塵薄膜組件框100。進而，即便於因經由防塵薄膜組件框100的通孔24B對溝槽22的內部進行排氣而導致防塵薄膜組件框100朝排氣方向(箭頭E2的方向)應變變形的情況下，亦可藉由預先利用連通構件314而推入防塵薄膜組件框100的外周面，來修正防塵薄膜組件框100的應變變形。
再者，當然連通構件314亦可朝與箭頭J2相反的方向(返回方向)移動。
圖9是概念性地表示於本實施方式的變形例中，排氣管的其中一個與防塵薄膜組件框的通孔連接的形態的部分截面圖，
且是與所述一例中的圖8的部分截面圖相對應的圖。
如圖9所示，變形例中的防塵薄膜組件框103的通孔124B具有隨著朝向防塵薄膜組件框103的外周面而直徑增大的錐形形狀。變形例中的連通構件316具有可插入至通孔124B的錐形形狀的部分的錐形形狀。
根據該變形例，可藉由將連通構件316插入至通孔124B的錐形形狀的部分(參照箭頭J12)來更牢靠地連接排氣管312B與通孔124B。
於所述變形例中，關於除所述以外的方面，與所述一例相同，較佳態樣亦相同。
再者，即便於連通構件及通孔為除錐形形狀以外的形狀時，只要為可將連通構件插入至通孔的結構，亦發揮與所述變形例相同的效果。例如於連通構件為圓筒形狀的構件且通孔為圓柱形狀的空間時，可藉由使連通構件的直徑小於通孔的直徑來將連通構件插入至通孔。
另外，於本實施方式中亦可省略連通構件。總之，於本實施方式中，只要為可將排氣管與通孔連通的構成即可。
繼而，返回到圖7，將排氣管312A及排氣管312B的另一端(未圖示)配置於貼合腔室310外，該些的另一端分別可(視需要經由其他配管等)連接於真空汞等排氣部件。
另外，亦可於排氣管312A及排氣管312B的中途設置用以調換是否進行溝槽22的排氣的閥門(未圖示)。該閥門亦可為具備
調整氣體流量等的機構的調整閥。
再者，於貼合單元300中，與連接於防塵薄膜組件框100的溝槽22的通孔的數量(兩個)相應地，設置有兩個排氣管，但本實施方式中的排氣管的數量當然不限定於兩個。排氣管的數量並無特別限制，較佳為使排氣管的端部的數量與所述通孔的數量一致。另外，作為排氣管，亦可使用分支的排氣管。總之，於本實施方式中，較佳為可於連接於溝槽的各通孔處連接排氣管的各端部，所述溝槽設置於防塵薄膜組件框的與防塵薄膜構件相對向的一側的端面。
如圖7所示，於貼合腔室310內設置有支持原版250的原版支持構件330。
原版支持構件330以與原版250的外周面的一部分接觸、不與原版250的背面254接觸的方式支持原版250。然而，作為原版支持構件330的變形例，亦可使用與原版的外周面的一部分接觸、且與背面254的周端部的一部分接觸的原版支持構件。
如該些例子般，貼合單元300較佳為具備原版支持構件，所述原版支持構件在貼合腔室310內，以與原版250的背面254的周端部及原版250的外周面的至少一部分接觸、不與背面254的中央部接觸的方式來支持原版250。藉此，可於不與原版的背面的中央部接觸的情況下貼合原版與防塵薄膜組件，故異物對原版的背面的中央部的附著得到抑制。
同樣地，較佳為由保持部件(未圖示)來保持原版250
並進行原版250向貼合腔室310內的搬入，所述保持部件是以與原版250的背面254的周端部及原版250的外周面的至少一部分接觸、不與背面254的中央部接觸的方式來支持原版250。作為該保持部件，可列舉搬運機器人所具備的手構件。
背面254的中央部較佳為比原版250的有效曝光區域寬的區域。
另外，自背面254的中央部的外周至背面的周端的距離較佳為5mm以下，更佳為3mm以下。
另外，背面254的周端部較佳為距背面的周端為5mm以內(更佳為3mm以內)的區域。
繼而，關於本實施方式的變形例，參照圖10~圖13，對支持貼合腔室310內的原版250的機構的變形例進行說明。
再者，於該些的變形例中，背面的中央部及周端部的較佳範圍與所述一例相同。
於圖10所示的變形例中，原版250以被收容在原版殼體260的狀態而被搬入(收容)至貼合腔室310內，所述原版殼體260具有使原版250的前表面252露出的開口部。於該情況下，貼合單元300具備原版殼體支持構件332(載置板)，所述原版殼體支持構件332(載置板)於貼合腔室310內對收容有原版250的原版殼體260進行支持。於該變形例中，於保持將原版250收容於原版殼體260的狀態下，進行原版250與防塵薄膜組件200的貼合。
再者，該變形例中的原版殼體260向貼合腔室310內的搬入可使用能夠保持原版殼體260的保持部件(例如，搬運機器人所具備的手構件)進行。保持原版殼體260的保持構件可與原版殼體260的外側的任意部分接觸。
於該變形例中，原版250的背面254的周端部的一部分與設置於原版殼體260的凸起262接觸，且不與背面254的中央部的任一部分接觸。
藉此，可於不與原版的背面的中央部接觸的情況下貼合原版與防塵薄膜組件，故異物對原版的背面的中央部的附著得到抑制。
凸起262的材質或形狀等並無特別要求，但作為材質，理想的是具有可撓性且難以發生起塵的材料、或具有導電性的材料。作為此種材質，例如可列舉碳-聚醯亞胺化合物等。
設置凸起262的位置亦無特別限制，但較佳為原版250的背面254的四個角部。
於圖11所示的變形例中，原版250於貼合腔室310內被載置於載置板334。於該變形例中，原版250的背面254的周端部的一部分與設置於載置板334的凸起362接觸，且不與背面254的中央部的任一部分接觸。
藉此，可於不與原版的背面的中央部接觸的情況下貼合原版與防塵薄膜組件，故異物對原版的背面的中央部的附著得到抑制。
凸起362的較佳材質與凸起262的較佳材質相同。
設置有凸起362的位置的較佳態樣亦與設置有凸起262的位
置的較佳態樣相同。
於圖12所示的變形例中，原版250與之前的例子不同，原版250以前表面252成為下側、背面254成為上側的方式而被配置於貼合腔室310內。於該變形例中，在貼合腔室310內設置有以與原版250的外周面接觸、不與原版250的背面254接觸的方式支持原版250的原版支持構件336。於該變形例的情況下，防塵薄膜組件200亦與之前的例子不同，防塵薄130以成為下側的朝向而被搬入貼合腔室310內。關於將防塵薄膜組件200裝設於原版250的前表面252的方面，與之前的例子相同。
於該變形例中，可於不與原版的背面的中央部及周端部接觸的情況下貼合原版與防塵薄膜組件，故異物對原版的背面的附著得到抑制。
圖13所示的變形例除圖12中的原版支持構件336使用如下的原版支持構件337以外，與圖12所示的變形例相同，所述原版支持構件337與原版250的外周面的一部分接觸、且亦與原版250的前表面252的周端部接觸。
繼而，返回到圖7，原版支持構件330亦可設置成能夠使原版250沿水平方向(更詳細而言，彼此正交的X方向及Y方向、以及作為旋轉方向的θ方向)移動，藉此可進行防塵薄膜組件200與原版250的對準(位置對準)調整。
即，該情況下的原版支持構件330作為對準部件而發揮功能。
再者，關於所述各變形例中的原版支持構件、載置板、原版
殼體支持構件，亦同樣地較佳為作為對準部件而發揮功能。
於貼合腔室310內進而設置有多個感測器340。
感測器340為用以讀取防塵薄膜組件200(防塵薄膜組件框100)於貼合腔室310內的位置的構件。感測器340例如讀取有時設置於防塵薄膜組件200的一部分的對準標記的位置、防塵薄膜組件框100的外周端的位置、防塵薄膜組件框100的內周端的位置等。
感測器340被設置成可相應於讀取對象(對準標記、防塵薄膜組件框100的外周端的位置、防塵薄膜組件框100的內周端的位置)的位置而移動。
利用感測器340的讀取可藉由圖像辨別來進行。
作為感測器340，可較佳地應用纖維感測器。
再者，關於貼合單元中的對準的機構(原版支持基板的移動、利用感測器的位置的讀取等)，亦可應用曝光裝置(例如步進機)、晶片安裝裝置等公知裝置的公知的對準機構。
另外，於貼合腔室310內進而設置有用以使自第1導入管322導入的氣體分散的氣體分散構件324。氣體分散構件324採用覆蓋第1導入管322的端部(氣體的導入口)與貼合腔室310上部的內壁面的一部分的罩形狀的構件。而且，於氣體分散構件324的與防塵薄膜130的相對向面側設置有多個孔(未圖示)。自第1導入管322導入的氣體首先到達由貼合腔室310上部的內壁面與氣體分散構件324形成的空間內，繼而藉由所述多個孔而加
以分散。
藉此，來自第1導入管322的氣體的流動對防塵薄膜130的影響得以減少。自進一步減少氣體的流動對防塵薄膜的影響的觀點出發，較佳為所述多個孔以氣體不與防塵薄膜130的中央部分碰觸的配置而設置。
另外，雖省略圖示，但於貼合腔室310設置有構件進出口。
經由構件進出口來進行針對貼合腔室310的各構件的搬入及搬出。具體而言，經由構件進出口，將貼合前的防塵薄膜組件200及貼合前的原版250分別搬入貼合腔室310內。另外，經由構件進出口，將貼合後的防塵薄膜組件200及原版250搬出至貼合腔室310外。另外，於貼合單元300設置有用以進行構件進出口的開放及閉合的擋門(未圖示)。
關於將原版250搬入貼合腔室310內的情況如上所述。
另外，防塵薄膜組件200較佳為藉由與防塵薄膜組件框100的外周面相接且不與防塵薄膜130及接著劑層104接觸的手構件(未圖示)而搬入貼合腔室310內。而且，於貼合腔室310內，亦藉由與防塵薄膜組件框100的外周面相接且不與防塵薄膜130及接著劑層104接觸的支持構件(未圖示)而受到支持。
繼而，參照圖14~圖17來表示利用所述貼合單元300(貼合腔室310)而進行的貼合處理的流程的一例。
於圖14~圖17中，為了更易於理解貼合處理的流程，省略
貼合單元300的構成的一部分及貼合腔室310的構成的一部分的圖示。
首先，如圖14所示，將原版250及防塵薄膜組件200分別搬入貼合腔室310內。
繼而，如圖14及圖15所示，將排氣管312A及排氣管312B分別連接於防塵薄膜組件200的防塵薄膜組件框100的通孔24A及通孔24B(箭頭J1及箭頭J2)。該連接的詳細情況如上所述。
繼而，進行防塵薄膜組件200與原版250的對準(位置對準)調整。
繼而，如圖16所示，經由排氣管312A及排氣管312B、以及防塵薄膜組件框100的通孔，對防塵薄膜組件框100的溝槽22的內部進行排氣(減壓)。該排氣(減壓)是藉由與各排氣管的貼合腔室310外的端部連接的排氣部件(例如真空汞)而進行。藉由該排氣，如已參照圖6進行說明般，使吸合力F(即，壓合力)於防塵薄膜組件200與原版250之間發揮作用，從而進行兩者的貼合。
藉此，可於儘量避免接觸防塵薄膜的膜面的情況下貼合防塵薄膜組件200與原版250。
繼而，如圖17所示，經由第1導入管322而將氣體導入貼合腔室310內。經導入的氣體藉由氣體分散構件324而分散於貼合腔室310內。此時，較佳為以氣體至少不與防塵薄膜130的中央部分碰觸的方式而分散氣體(參照箭頭G1)。
藉由氣體向貼合腔室310內的導入，貼合腔室310內經加壓，從而配置有防塵薄膜組件及原版的貼合腔室310內的整體的環境的壓力與溝槽22內部的壓力之差(差壓)增大。因該差壓而所述力F變強，防塵薄膜組件200與原版250彼此更強烈地進行推壓。再者，圖17中省略圖示，但除利用第1導入管322來進行氣體的導入(加壓)以外，亦可利用第2導入管來進行氣體的導入(加壓)。
以由貼合腔室310內的整體壓力與溝槽內部的壓力之差(差壓)而產生的、防塵薄膜組件與原版之間的壓合力F(對防塵薄膜組件框整體施加的力)成為所述較佳範圍內(例如，2N左右)的方式，來調整所述加壓及所述減壓的程度。
例如，以貼合腔室310內的壓力成為例如0.15MPa左右的方式進行調整。
(防塵薄膜組件安裝裝置的具體例)
本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置可為僅包含貼合單元(例如所述貼合單元300)的裝置，但亦可為具備貼合單元與其他單元的裝置。
圖18為本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置的一例，且為具備貼合單元與其他單元的防塵薄膜組件安裝裝置的概略構成圖。
如圖18所示，防塵薄膜組件安裝裝置600具備：作為搬運部件的搬運機器人400、原版裝載器610、防塵薄膜組件裝載器620、所述貼合單元300、檢查單元650、以及卸載器630。
搬運機器人400為用以將原材料(防塵薄膜組件及原版)及製造物(附防塵薄膜組件的原版(曝光原版))搬運至各單元(包含各裝載器、卸載器。以下相同)的搬運部件。
當然，原版裝載器610及防塵薄膜組件裝載器620分別為安置(set)有原版250及防塵薄膜組件200的單元。
關於貼合單元300如上所述。
貼合單元300較佳為具備對與防塵薄膜構件貼合前的防塵薄膜組件框構件的防塵薄膜組件框的形狀進行測定的第1測定部件。
作為此處所述的防塵薄膜組件框的形狀，可列舉所述長邊方向的長度L1、所述短邊方向的長度L2(以上，參照圖1)、防塵薄膜組件框的正交度等。
另外，作為第1測定部件，可列舉具有對防塵薄膜組件框的形狀進行測定的功能的所述感測器340。另外，於貼合單元300內，亦可設置對與防塵薄膜組件框的接觸進行檢測的部件作為第1測定部件。
另外，貼合單元300較佳為具備於貼合防塵薄膜組件與原版之前，進行防塵薄膜組件與原版的對準(位置對準)的對準部件。作為對準部件，如上所述可列舉：被設置成可沿水平方向(X方向、Y方向及θ方向)移動的原版支持構件、原版殼體支持構件。
另外，於防塵薄膜組件安裝裝置600中，亦可輔助性地併用具有水平方向的位置調整功能的搬運機器人400的機械手臂作為
對準部件。
檢查單元650為對貼合後的防塵薄膜組件及原版進行外觀檢查的單元。
作為外觀檢查，可列舉：附著於防塵薄膜組件及原版的至少一者的異物的檢測、防塵薄膜組件框的形狀測定、防塵薄膜組件與原版的位置對準測定等。
檢查單元650尤佳為具備對與原版貼合後的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框的形狀進行測定的第2測定部件。
作為第2測定部件的例子，可列舉與第1測定部件相同的例子。
卸載器630為收容最終製造的附防塵薄膜組件的原版(曝光原版)的單元。
防塵薄膜組件安裝裝置600進而具備控制部件660。
控制部件660為基於貼合前的防塵薄膜組件框的形狀的測定結果(藉由第1測定部件的測定結果)與貼合後的防塵薄膜組件框的形狀的測定結果(藉由第2測定部件的測定結果)，對藉由對準部件的對準進行前饋控制(FF(feedforward)控制)的控制部件。
其中，亦可省略控制部件660。
防塵薄膜組件安裝裝置600進而具備算出部件670。
算出部件670為基於貼合前的防塵薄膜組件框的形狀的測定結果(藉由第1測定部件的測定結果)與貼合後的防塵薄膜組件
框的形狀的測定結果(藉由第2測定部件的測定結果)，來算出藉由貼合單元中的貼合而引起的防塵薄膜組件框的應變量的算出部件。該算出部件670進而亦具備基於所述應變量而對連通構件314所引起的防塵薄膜組件框100的推入量進行前饋控制(FF控制)的功能。
其中，亦可省略算出部件670。
另外，防塵薄膜組件安裝裝置600雖具備所述各單元，但亦可適當省略除貼合單元300以外的單元。
即，除貼合單元300以外的單元亦可作為獨立於具備貼合單元300的防塵薄膜組件安裝裝置的裝置而設置。
另外，防塵薄膜組件安裝裝置600亦可具備所述各單元以外的其他單元。
例如，於防塵薄膜組件安裝裝置600安置附剝離襯墊的防塵薄膜組件(例如，所述的具備剝離襯墊106的防塵薄膜組件201)的情況下，亦可具備剝離襯墊剝離單元。
另外，於防塵薄膜組件安裝裝置600安置未設置有與原版的接著用的接著劑層的防塵薄膜組件(例如，所述的自防塵薄膜組件200去除了接著劑層104的防塵薄膜組件)的情況下，亦可具備用以形成與原版的接著用的接著劑層的接著劑層形成單元(接著劑塗佈單元)。
另外，本實施方式中的防塵薄膜組件安裝裝置亦可具備使各構件(防塵薄膜組件及原版)上下反轉的反轉機構。
另外，EUV原版(例如，原版250)通常利用被稱為EUV遮罩盒的容器來進行保管或輸送等。而且，於裝設防塵薄膜組件之前，將EUV遮罩盒拆開而取出原版。作為所述的原版殼體260，可使用EUV遮罩盒中的內部遮罩盒的罩構件。
另外，使EUV遮罩盒反轉或者拆開的操作亦可於安裝防塵薄膜組件時的任一時間點實施。
(利用防塵薄膜組件安裝裝置600的防塵薄膜組件裝設流程的一例)
繼而，參照圖19來表示利用防塵薄膜組件安裝裝置的防塵薄膜組件裝設流程(即，將防塵薄膜組件裝設於原版的裝設流程)的一例。防塵薄膜組件裝設流程亦可稱為附防塵薄膜組件的原版的製造流程。
再者，於圖19的各步驟中，由虛線所圍成的步驟(步驟702、步驟706、步驟708)是指於該一例中可省略的步驟。
如圖19所示，首先，作為步驟700，將防塵薄膜組件安置於防塵薄膜組件裝載器，且將原版安置於原版裝載器。繼而，藉由機器人搬運，來將防塵薄膜組件及原版分別搬入貼合腔室內。
繼而，作為步驟702，於貼合腔室內，藉由第1測定部件來測定防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框的形狀(貼合前的形狀)。
繼而，作為步驟704，於貼合腔室內，藉由對準部件來進行防塵薄膜組件與原版的對準。繼而，於貼合腔室內進行防塵薄膜組件與原版的貼合。
繼而，作為步驟706，將防塵薄膜組件及原版搬運至外觀檢查單元，於外觀檢查單元中，藉由第2測定部件來測定防塵薄膜組件框的形狀(貼合後的形狀)。
此處，視需要基於藉由第1測定部件的測定結果及藉由第2測定部件的測定結果，來進行步驟704中的對準部件的前饋控制(以下，亦稱為「FF1(對準修正)」)。FF1(對準修正)是藉由控制部件660來進行。
繼而，作為步驟708，基於藉由第1測定部件的測定結果及藉由第2測定部件的測定結果，來算出藉由貼合而引起的防塵薄膜組件框的應變量。應變量的算出是藉由算出部件670來進行。
此處，視需要基於所算出的應變量，而對步驟704的貼合處理中連通構件314所引起的防塵薄膜組件框100的推入量進行前饋控制(以下，亦稱為「FF2(應變修正)」)。於該一例中，FF2(應變修正)亦是藉由算出部件670來進行。然而，作為變形例，亦可獨立於算出應變量的算出部件而設置進行FF2(應變修正)的控制部件。
繼而，作為步驟710，將防塵薄膜組件及原版(即，附防塵薄膜組件的原版(曝光原版))搬運至卸載器並加以收納。
以上，示出了利用防塵薄膜組件安裝裝置的防塵薄膜組件裝設流程的一例，但本實施方式並不限定於該一例。
例如，如上所述，於防塵薄膜組件安裝裝置600中，亦可省
略控制部件660及算出部件670。即，亦可手動進行FF1(對準修正)及FF2(應變修正)，來代替藉由控制部件的自動進行。
另外，於防塵薄膜組件安裝裝置600中，控制部件660與算出部件670亦可為同一控制部件。即，亦可藉由一個控制部件來進行FF1(對準修正)、應變量的算出、及FF2(應變修正)。
若進一步而言，如上所述，本實施方式的防塵薄膜組件安裝裝置亦可為僅包含貼合單元的裝置。即，藉由僅進行步驟704中的貼合處理，便可於儘量避免接觸防塵薄膜的情況下貼合防塵薄膜組件及原版，從而將防塵薄膜組件裝設於原版。
(具備附防塵薄膜組件的原版(曝光原版)的曝光裝置的具體例)
藉由本實施方式而製造的附防塵薄膜組件的原版(曝光原版)是於曝光裝置內使用。
圖20是具備藉由本實施方式而製造的附防塵薄膜組件的原版的一例的曝光裝置的一例、即EUV曝光裝置800的概略截面圖。
如圖20所示，EUV曝光裝置800具備：放射EUV光的光源831、作為本實施方式的曝光原版的一例的曝光原版850、及將自光源831放射的EUV光導向曝光原版850的照明光學系統837。
曝光原版850具備包含防塵薄膜812及防塵薄膜組件框814的防塵薄膜組件810、及原版833(EUV遮罩)。該曝光原版850是以自光源831放射的EUV光透過防塵薄膜812而向原版833照射的方式而配置。
原版833是將所照射的EUV光以圖案狀反射者。
防塵薄膜組件810與所述的防塵薄膜組件200相對應。
防塵薄膜812與所述的防塵薄膜130相對應。
防塵薄膜組件框814與所述的支持基板122、所述的接著劑層102、所述的防塵薄膜組件框100、及所述的接著劑層104的複合體相對應。
於EUV曝光裝置800中，在光源831與照明光學系統837之間、及照明光學系統837與原版833之間分別設置有濾波窗(filter window)820及濾波窗825。
另外，EUV曝光裝置800具備將原版833反射的EUV光導向感應基板834的投影光學系統838。
於EUV曝光裝置800中，由原版833所反射的EUV光經由投影光學系統838被導向感應基板834上，而將感應基板834曝光為圖案狀。再者，利用EUV進行的曝光是於減壓條件下進行。
EUV光源831朝向照明光學系統837而放射EUV光。
於EUV光源831中包含靶材、及脈衝雷射照射部等。藉由將脈衝雷射照射至該靶材而使之產生電漿，可獲得EUV。若將靶材設為Xe，則可獲得波長13nm~14nm的EUV。EUV光源發出的光的波長並不限於13nm~14nm，只要為波長5nm~30nm的範圍內的適合目的的波長的光即可。
照明光學系統837對自EUV光源831照射的光進行集光，將照度均一化而向原版833照射。
於照明光學系統837中包含用以調整EUV的光路的多片多層膜反射鏡832、及光耦合器(光學積分器(optical integrator))等。多層膜反射鏡是交替積層鉬(Mo)、矽(Si)而成的多層膜等。
濾波窗820、濾波窗825的裝設方法並無特別限制，可列舉經由接著劑等貼附的方法、或機械固定於EUV曝光裝置內的方法等。
配置於光源831與照明光學系統837之間的濾波窗820捕捉自光源產生的飛散粒子(碎屑(debris))，以避免飛散粒子(碎屑)附著於照明光學系統837內部的元件(例如多層膜反射鏡832)。
另一方面，配置於照明光學系統837與原版833之間的濾波窗825捕捉自光源831側飛散的粒子(碎屑)，以避免飛散粒子(碎屑)附著於原版833。
另外，由於附著於原版的異物會吸收EUV光、或使EUV光發生散射，故而會對晶圓引起解析不良。因此，防塵薄膜組件810是以覆蓋原版833的EUV照射區的方式裝設。EUV光透過防塵薄膜812而向原版833照射。
由原版833所反射的EUV光透過防塵薄膜812，並經由投影光學系統838而向感應基板834照射。
投影光學系統838對由原版833所反射的光進行集光，而向感應基板834照射。於投影光學系統838中包含用以調整EUV的光路的多片多層膜反射鏡835、多層膜反射鏡836等。
感應基板834是於半導體晶圓上塗佈有抗蝕劑的基板
等，藉由由原版833所反射的EUV，抗蝕劑被曝光為圖案狀。藉由將該抗蝕劑顯影，並對半導體晶圓進行蝕刻，而於半導體晶圓形成所需的圖案。
將於2014年5月27日提出申請的日本專利申請案2014-109482所揭示的所有內容以參照的方式併入至本說明書中。
關於本說明書中記載的所有文獻、專利申請案、及技術標準，是與以下情況同樣地以參照的方式併入至本說明書中，所述情況為具體且分別記載將各文獻、專利申請案、及技術標準以參照的方式併入的情況。
Claims (12)
- 一種防塵薄膜組件安裝裝置，其具備貼合單元，所述貼合單元包含：貼合腔室，用來對防塵薄膜組件與具有曝光光可照射的光照射面的原版進行貼合，所述防塵薄膜組件包含防塵薄膜及防塵薄膜組件框，所述防塵薄膜組件框於厚度方向的一端面之側支持所述防塵薄膜，且具有設置於厚度方向的另一端面的溝槽及貫通外周面與所述溝槽的壁面之間的通孔；及排氣管，用以在所述防塵薄膜組件及所述原版以所述防塵薄膜組件框的所述另一端面與所述光照射面相對向的方式配置於所述貼合腔室內的狀態下，經由所述防塵薄膜組件框的所述通孔而對所述溝槽的內部進行排氣；其中，所述貼合單元包含用以將氣體導入所述貼合腔室內而對所述貼合腔室內進行加壓的導入管。
- 如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述導入管包含第1導入管，所述第1導入管自與所述貼合腔室內所配置的所述防塵薄膜組件及所述原版中的所述防塵薄膜組件相對向之側導入氣體，所述貼合單元進而包含氣體分散構件，所述氣體分散構件用以使自所述第1導入管導入的氣體分散。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含連通構件，所述連通構件在所述貼合腔室內與所述排氣管的一端連接、且使所述排氣管與所述防塵薄膜組件框的所述通孔連通。
- 如申請專利範圍第3項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述連通構件被設置成可朝推入所述防塵薄膜組件框的外周面的方向移動。
- 如申請專利範圍第3項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述連通構件具有可插入至所述通孔的開口端。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含原版支持構件，所述原版支持構件在所述貼合腔室內支持與所述原版的光照射面為相反側的面的周端部及所述原版的外周面的至少一部分、不支持所述相反側的面的中央部。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述原版被收容在原版殼體而被搬入所述貼合腔室內，所述原版殼體具有使所述原版的光照射面露出的開口部，且支持與所述原版的光照射面為相反側的面的周端部及所述原版的外周面的至少一部分、不支持所述相反側的面的中央部，所述貼合單元包含原版殼體支持構件，所述原版殼體支持構件在所述貼合腔室內對收容所述原版的所述原版殼體進行支持。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其進而具備對所述貼合後的所述防塵薄膜組件及所述原版進行外觀檢查的檢查單元。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其具備：第1測定部件，對與所述原版貼合前的所述防塵薄膜組件的所述防塵薄膜組件框的形狀進行測定；及第2測定部件，對與所述原版貼合後的所述防塵薄膜組件的所述防塵薄膜組件框的形狀進行測定。
- 如申請專利範圍第9項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其具備：對準部件，於貼合所述原版與所述防塵薄膜組件之前，進行所述原版與所述防塵薄膜組件的對準；及控制部件，基於所述貼合前的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果與所述貼合後的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果，對利用所述對準部件的對準進行前饋控制。
- 如申請專利範圍第9項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其具備算出部件，所述算出部件基於所述貼合前的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果與所述貼合後的所述防塵薄膜組件框的形狀的測定結果之差，來算出藉由所述貼合而引起的所述防塵薄膜組件框的應變量。
- 如申請專利範圍第11項所述的防塵薄膜組件安裝裝置，其中所述貼合單元包含連通構件，所述連通構件在所述貼合腔室內與所述排氣管的一端連接、且使所述排氣管與所述防塵薄膜組件框的所述通孔連通，並被設置成可朝推入所述防塵薄膜組件框的外周面的方向移動，且所述算出部件為基於所述應變量而對所述連通構件所引起的所述防塵薄膜組件框的推入量進行前饋控制的控制部件。
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