TWI627777B - 光學補償結構 - Google Patents

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TWI627777B
TWI627777B TW106125139A TW106125139A TWI627777B TW I627777 B TWI627777 B TW I627777B TW 106125139 A TW106125139 A TW 106125139A TW 106125139 A TW106125139 A TW 106125139A TW I627777 B TWI627777 B TW I627777B
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coating
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compensation structure
coating layer
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張志嘉
張凱銘
陳君閣
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財團法人工業技術研究院
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Abstract

一種光學補償結構，包括一基板、一阻障層以及一第一塗層。阻障層位於基板上。阻障層具有一第一折射區及一與第一折射區相連接的第二折射區。第二折射區的折射率大於第一折射區的折射率。第一塗層覆蓋於部分的第二折射區上。

Description

光學補償結構
本揭露是有關於一種光學結構，亦是有關於一種光學補償結構。
隨著電子技術的高度發展，電子產品不斷推陳出新。電子產品為了可應用於不同領域，可撓曲、輕薄以及外型不受限的特性逐漸受到重視。也就是說，電子產品逐漸被要求需要依據不同的應用方式以及應用環境而有不同的外型。
一般來說，會將電子產品中的基板、塗層及/或黏著層加以圖案化，以使電子產品可以撓曲、彎曲或折疊。然而，圖案化後的基板、塗層及/或黏著層在使用上可能會產生的光學視差，進而導致電子產品的視覺效果不佳。因此，如何降低圖案化的基板、塗層及/或黏著層所產生的光學視差，以提升視覺效果是相當重要的課題。
本發明實施例提供一種光學補償結構，其可以改善光學視差問題。
本發明一實施例的光學補償結構，包括一基板、一阻障層以及一第一塗層。阻障層位於基板上。阻障層具有一第一折射區及一與第一折射區相連接的第二折射區。第二折射區的折射率大於第一折射區的折射率。第一塗層覆蓋於部分的第二折射區上。
本發明一實施例的光學補償結構，包括一基板、一阻障層、一第一塗層以及一第二塗層。阻障層位於基板上。阻障層具有一第一折射區及一與第一折射區相連接的第二折射區。第二折射區的折射率大於第一折射區的折射率。第一塗層具有一第一塗層部分及一與第一塗層部分相連接的第二塗層部分。第一塗層部分覆蓋於第二折射區以外的區域上。第二塗層部分覆蓋於第二折射區上。第一塗層部分的厚度大於第二塗層部分的厚度。第二塗層位於第一塗層與阻障層之間。第二塗層與該阻障層接觸。
本發明一實施例的光學補償結構，包括一基板、一阻障層、一第一黏著層以及一第二黏著層。阻障層具有一第一折射區及一與第一折射區相連接的第二折射區。第二折射區的折射率大於第一折射區的折射率。第一黏著層位於阻障層與基板之間。第一黏著層覆蓋於第二折射區上。第二黏著層位於阻障層與基板之間。第一黏著層與第二黏著層不重疊。
本發明一實施例的光學補償結構，包括一第一基板、一阻障層以及一第二基板。第一基板具有一第一基板部分及一與第一基板部分相連接的第二基板部分。第一基板部分的厚度大於第二基板部分的厚度。阻障層位於第一基板上。阻障層具有一第一折射區及一與第一折射區相連接的第二折射區。第二折射區的折射率大於第一折射區的折射率。第二折射區對應於第二基板部分分佈。第一基板位於阻障層與第二基板之間。
基於上述，本發明實施例可以對圖案化後的基板、塗層及/或黏著層提供光學補償，以改善光學視差問題。
為讓本發明能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1是依照本發明第一實施例的光學補償結構的剖面示意圖。請參照圖1，本實施例的光學補償結構100包括基板110、阻障層140以及第一塗層150。阻障層140位於基板110上。阻障層140具有彼此相連的第一折射區N1及第二折射區N2。第二折射區N2的折射率大於第一折射區N1的折射率。第一塗層150對應於阻障層140的第二折射區N2設置，且第一塗層150覆蓋於阻障層140的第二折射區N2上。
在本實施例中，光學補償結構100更可包括電子元件層112。電子元件層112位於阻障層140與基板110之間。電子元件層112可以包括顯示元件、觸控元件、感測元件、微機電元件或上述之組合，但本發明不限於此。
在本實施例中，基板110例如是可撓性基板。因此，基板110具有可撓折或彎曲的性質。基板110的材質例如包括聚亞醯胺（polyimide；PI）、聚碳酸酯（polycarbonate；PC）、聚醯胺（polyamide；PA）、聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate；PET）、聚萘二甲酸乙二醇酯（polyethylene naphthalate；PEN）、聚乙烯亞胺（polyethylenimine；PEI）、聚氨酯（polyurethane；PU）、聚二甲基矽氧烷（polydimethylsiloxane；PDMS）、壓克力系（acrylate）例如是聚甲基丙烯酸甲酯（polymethylmethacrylate；PMMA）等、醚系（ether）聚合物例如是聚醚碸（polyethersulfone；PES）或聚醚醚酮（polyetheretherketone；PEEK）等、聚烯（polyolefin）或其他可撓性材料，但本發明並不限於此。
阻障層140具有相對的第一面S1及第二面S2，阻障層140覆蓋於電子元件層112上，且阻障層140的第二面S2與電子元件層112接觸。一般而言，阻障層140可阻隔氧氣及/或水氣的滲透，以防止空氣中的氧氣及/或水氣損壞位於阻障層140下的電子元件層112及/或其他的膜層。舉例而言，可以使用具有矽化合物的溶液，利用塗佈法（coating）施於基板110上，以形成具有光穿透性及可撓性的阻障層140。而前述之矽化合物成份例如是聚矽氮烷化合物（polysilazane）、聚有機矽氧烷化合物（polyorganosiloxane）、聚矽烷化合物（polysilane）、聚碳矽烷化合物（polycarbosilane）或上述之組合，但本發明不限於此。在一些實施例中，阻障層140的厚度介於1奈米（nanometer；nm）至1微米（micrometer；μm），但本發明不限於此。
阻障層140的材質在經由進一步的化學或物理處理後會改變其光學性質及/或組成成分。一般而言，可藉由圖案化的遮罩，以對阻障層140的部分第一面S1進行表面處理製程（surface treatment process），以於阻障層140的第一面S1上形成折射率彼此不同的第一折射區N1與第二折射區N2。舉例而言，可以將聚矽氮烷化合物形成阻障層140，並使用氧氣、氮氣、氦氣、氬氣、氖氣及/或氪氣作為載氣（carrier gas），對阻障層140的部分第一面S1進行電漿處理（plasma treatment process）以形成第二折射區N2，而阻障層140中未經由電漿離子佈植製程處理的部分為第一折射區N1。相較於未經由電漿離子佈植製程處理的第一折射區N1，經由電漿離子佈植製程處理後所形成的第二折射區N2其具有較大比例的氮原子濃度（Nitrogen-rich），且第二折射區N2的折射率大於第一折射區N1的折射率。一般而言，可以藉由調整電漿離子佈植製程的佈植時間、載氣種類、載氣流量、載氣壓力及/或電壓脈衝等不同的製程參數（Recipe），來調整第二折射區N2的折射率或其深度。
在一些實施例中，第一折射區N1的折射率介於1.4至1.95，且第二折射區N2的折射率與第一折射區N1的折射率之間的差異至少大於0.01，但本發明不限於此。
在本實施例中，第二折射區N2自第一面S1向內延伸，且第二面S2及部分的第一面S1位於第一折射區N1，但本發明不限於此。在其他實施例中，可以藉由多次的塗佈法及/或表面處理製程，以使第二折射區N2嵌於第一折射區N1內。
在本實施例中，第一塗層150與位於阻障層140的第二折射區N2的部分第一面S1接觸，但本發明並不限於此。一般而言，第一塗層150例如是將塗佈後的膠材，透過光固化或熱固化的方式，所形成的硬塗層，但本發明不限於此。膠材的材質例如是壓克力樹脂（acrylic）或環氧樹脂（expoxy），但本發明並不限於此。在一些實施例中，第一塗層150的硬度例如高於1H之鉛筆硬度，以避免位於第一塗層150之下的電子元件層112及/或其他膜層的磨損或撞擊。在一些實施例中，第一塗層150的厚度介於1微米至30微米，但本發明不限於此。
在本實施例中，第一塗層150可以為具有塗層開口150a的圖案化膜層，且塗層開口150a可以為具有直線狀、折線狀或曲線狀的溝渠或狹縫，以使光學補償結構100的基板110及阻障層140可以藉由對應的塗層開口150a變形而被拉伸、壓縮或彎曲。換言之，光學補償結構100的基板110具有彼此相連的第二區R2與第一區R1，塗層開口150a對應於第一區R1。相較於第二區R2，第一區R1可以為可撓曲度較大的撓曲區。也就是說，第一區R1的可撓曲度大於第二區R2的可撓曲度。基板110的第一區R1所具備的可撓曲性質允許位於第一區R1周圍的第二區R2的水平及/或垂直間距為可變動的。舉例而言，第一區R1可以在光學補償結構100受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構100具有對應的形變狀態。在圖1的光學補償結構100中，僅示例性的繪示一個塗層開口150a，但本發明對於塗層開口150a的數量並不加以限制。
在本實施例中，阻障層140的第二折射區N2設置於基板110的第二區R2上，且對應於第二折射區N2設置的第一塗層150位於第二區R2，但本發明不限於此。
在本實施例中，第一塗層150的折射率大於阻障層140的第一折射區N1的折射率，且第一塗層150的折射率小於阻障層140的第二折射區N2的折射率。如此一來，可以藉由具有第一折射區N1及第二折射區N2的阻障層140，來降低圖案化的第一塗層150所產生的光學視差問題。
圖2是依照本發明第二實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第二實施例的光學補償結構200與圖1的光學補償結構100類似，本實施例採用圖2針對光學補償結構200進行描述。值得注意的是，在圖2中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖1中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖2，第二實施例的光學補償結構200與圖1的光學補償結構100類似，兩者的差異在於：阻障層240的第二折射區N2具有彼此分離的第一折射部分N2a以及第二折射部分N2b，其中第一折射部分N2a設置於基板110的第二區R2上，且第二折射部分N2b設置於基板110的第一區R1上。第一塗層250具有彼此分離的第一塗層部分251以及第二塗層部分252。第一塗層部分251對應第一折射部分N2a設置，且第一塗層部分251設置於基板110的第二區R2上。第二塗層部分252對應第二折射部分N2b設置，且第二塗層部分252設置於基板110的第一區R1上。舉例而言，設置於第一區R1的第二塗層部分252可以為多個彼此分離的條狀結構或島狀結構。如此一來，第一區R1可以在光學補償結構200受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構200具有對應的形變狀態。
在本實施例中，阻障層240的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例的阻障層140的材質及/或形成方式，第一塗層250的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例的第一塗層150的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
圖3是依照本發明第三實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第三實施例的光學補償結構300與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖3針對光學補償結構300進行描述。值得注意的是，在圖3中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖3，第三實施例的光學補償結構300與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構300更可包括第二塗層360，其中第一塗層250位於第二塗層360與阻障層240之間，且第二塗層360與第一塗層250接觸。第二塗層360具有彼此分離的第三塗層部分361以及第四塗層部分362。第三塗層部分361對應第一塗層部分251設置，且第三塗層部分361設置於基板110的第二區R2上。第四塗層部分362對應第二塗層部分252設置，且第四塗層部分362設置於基板110的第一區R1上。舉例而言，設置於第一區R1的第四塗層部分362可以為多個彼此分離的條狀結構或島狀結構。如此一來，第一區R1可以在光學補償結構300受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構300具有對應的形變狀態。簡言之，在本實施例中，第二塗層360對應於第一塗層250設置，但本發明不限於此。
在本實施例中，第二塗層360的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層360及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層360及第一塗層250之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖4是依照本發明第四實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第四實施例的光學補償結構400與圖1的光學補償結構100類似，本實施例採用圖4針對光學補償結構400進行描述。值得注意的是，在圖4中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖1中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖4，第四實施例的光學補償結構400與圖1的光學補償結構100類似，兩者的差異在於：光學補償結構400更可包括第二塗層460，其中第一塗層150位於第二塗層460與阻障層140之間，且第二塗層460與第一塗層150以及未被第一塗層150覆蓋的阻障層140接觸。在本實施例中，第二塗層460的硬度大於阻障層140的硬度，以避免未被第一塗層150覆蓋的阻障層140及/或其他膜層的磨損或撞擊。
在本實施例中，可以對第一塗層150進行蝕刻、研磨或其他類似的圓角化製程（corner rounding process），以使第一塗層150與第二塗層460的接觸面具有弧角，但本發明不限於此。
在本實施例中，覆蓋於第一塗層150上且與第一塗層150相接觸的第二塗層460可以與第一塗層150共形設置（conformal coating）。如此一來，於第二塗層460遠離於第一塗層150的表面上也可以具有對應於第一塗層150的弧角，但本發明不限於此。
在本實施例中，第二塗層460的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層150的材質及/或形成方式，且可以藉由調整第二塗層460及第一塗層150之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層460的厚度小於第一塗層150的厚度或是第二塗層460的硬度小於第一塗層150的硬度。如此一來，具有第二塗層460的第一區R1可以在光學補償結構400受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構400具有對應的形變狀態。
圖5是依照本發明第五實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第五實施例的光學補償結構500與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖5針對光學補償結構500進行描述。值得注意的是，在圖5中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖5，第五實施例的光學補償結構500與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構500更可包括第二塗層560，其中第一塗層250位於第二塗層560與阻障層240之間，且第二塗層560與第一塗層250以及未被第一塗層250覆蓋的阻障層240接觸。在本實施例中，第二塗層560的硬度大於阻障層240的硬度，以避免未被第一塗層250覆蓋的阻障層240及/或其他膜層的磨損或撞擊。
在本實施例中，可以對第一塗層250進行蝕刻、研磨或其他類似的圓角化製程，以使第一塗層250與第二塗層560的接觸面具有弧角，但本發明不限於此。
在本實施例中，覆蓋於第一塗層250上且與第一塗層250相接觸的第二塗層560可以與第一塗層250共形設置。如此一來，於第二塗層560遠離於第一塗層250的表面上也可以具有對應於第一塗層250的弧角，但本發明不限於此。
在本實施例中，第二塗層560的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，且可以藉由調整第二塗層560及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層560的厚度小於第一塗層250的厚度或是第二塗層560的硬度小於第一塗層250的硬度。如此一來，具有第二塗層560的第一區R1可以在光學補償結構500受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構500具有對應的形變狀態。
圖6是依照本發明第六實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第六實施例的光學補償結構600與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖6針對光學補償結構600進行描述。值得注意的是，在圖6中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖5中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖6，第六實施例的光學補償結構600與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構600更可包括第二塗層660，其中部分的第一塗層250位於第二塗層660與阻障層240之間。第二塗層660具有彼此分離的第三塗層部分661以及第四塗層部分662。第三塗層部分661對應第一塗層部分251設置，且第三塗層部分661設置於基板110的第二區R2上。第四塗層部分662位於彼此分離的第二塗層部分252之間，且第四塗層部分662設置於基板110的第一區R1上。舉例而言，設置於第一區R1的第四塗層部分662可以為多個彼此分離的條狀結構或島狀結構，且分離的條狀結構或島狀結構之間具有第一塗層250的第二塗層部分252。於基板110的第二區R2中，第一塗層250的第一塗層部分251位於第二塗層660的第三塗層部分661與阻障層240之間。於基板110的第一區R1中，第一塗層250的第二塗層部分252與阻障層240接觸，且第二塗層660的第四塗層部分662與阻障層240接觸。
在本實施例中，第二塗層660的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層660及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層660及第一塗層250之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖7是依照本發明第七實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第七實施例的光學補償結構700與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖7針對光學補償結構700進行描述。值得注意的是，在圖7中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
參照圖7，第七實施例的光學補償結構700與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構700更可包括第二塗層760。第二塗層760設置於基板110的第一區R1上。於基板110的第一區R1中，第一塗層250的第二塗層部分252與阻障層240接觸，且第二塗層760與阻障層240接觸。舉例而言，設置於第一區R1的第二塗層760可以為多個彼此分離的條狀結構或島狀結構，且分離的條狀結構或島狀結構之間具有第一塗層250的第二塗層部分252。
在本實施例中，第二塗層760的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層760及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層760及第一塗層250之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖8是依照本發明第八實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第八實施例的光學補償結構800與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖8針對光學補償結構800進行描述。值得注意的是，在圖8中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖8，第八實施例的光學補償結構800與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構800更可包括彈性層870，其中第一塗層250位於彈性層870與阻障層240之間，且彈性層870與第一塗層250以及未被第一塗層250覆蓋的阻障層240接觸。第一塗層250的楊氏係數大於彈性層870的楊氏係數。
一般而言，彈性層870可以在光學補償結構800受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構800具有對應的形變狀態。另外，彈性層870可輔助將延展或壓縮時的應力分散而使基板110或其上的結構不易損壞。在上述的外力消失之後，可以使光學補償結構800回復到未受到外力時的初始狀態。
舉例而言，彈性層870的材質例如是具鏈狀結構的碳氫聚合物（polymer）材料，例如橡膠系列膠材、壓克力系列膠材或矽樹脂系列膠材，其中橡膠系列膠材包括天然橡膠與合成橡膠，壓克力系列膠材包括標準壓克力與改良壓克力。彈性層870的形成方法例如是塗佈法、黏合法、溶膠凝膠法（Sol-Gel method）或壓合法。舉例而言，彈性材料形成於第一塗層250上後，可以依據彈性材料的性質進行光聚合（photopolymerization）或烘烤（baking）製程，使彈性材料固化而形成彈性層870。在本實施例中，第一塗層250的楊氏係數（Young's modulus）與彈性層870的楊氏係數的比值大於或等於2。在一實施例中，第一塗層250的楊氏係數與彈性層870的楊氏係數的比值大於或等於10。或者，在一實施例中，第一塗層250的楊氏係數與彈性層870的楊氏係數的比值大於或等於50。也就是說，相較於第一塗層250來說，彈性層870受力後的可塑性變形程度較大。
在本實施例中，彈性層870具有遠離於基板110的第三面S3，且第三面S3可以為平坦面，以使後續形成的其他膜層及/或元件可以被形成於平坦的第三面S3上，但本發明不限於此。
圖9是依照本發明第九實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第九實施例的光學補償結構900與圖8的光學補償結構800類似，本實施例採用圖9針對光學補償結構900進行描述。值得注意的是，在圖9中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖8中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖9，第九實施例的光學補償結構900與圖8的光學補償結構800類似，兩者的差異在於：光學補償結構900更可包括第二塗層960，其中彈性層870位於第二塗層960與第一塗層250之間，且第二塗層960與彈性層870接觸。第二塗層960具有彼此分離的第三塗層部分961以及第四塗層部分962。第三塗層部分961對應第一塗層部分251設置，且第三塗層部分961設置於基板110的第二區R2上。第四塗層部分962對應第二塗層部分252設置，且第四塗層部分962設置於基板110的第一區R1上。舉例而言，設置於第一區R1的第四塗層部分962可以為多個彼此分離的條狀結構或島狀結構。如此一來，第一區R1可以在光學補償結構900受到外力時對應地被延展或壓縮，以使光學補償結構900具有對應的形變狀態。簡言之，在本實施例中，第二塗層960對應於第一塗層250設置，但本發明不限於此。
在本實施例中，第二塗層960的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層960及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層960及第一塗層250之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖10是依照本發明第十實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十實施例的光學補償結構1000與圖8的光學補償結構800類似，本實施例採用圖10針對光學補償結構1000進行描述。值得注意的是，在圖10中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖8中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖10，第十實施例的光學補償結構1000與圖8的光學補償結構800類似，兩者的差異在於：彈性層1070對應於第一塗層250設置，且光學補償結構1000更可包括第二塗層1060，其中彈性層1070位於第一塗層250與第二塗層1060之間。
彈性層1070具有彼此分離的第一彈性部分1071以及第二彈性部分1072。第一彈性部分1071對應第一塗層部分251設置，且第一彈性部分1071設置於基板110的第二區R2上。第二彈性部分1072對應第二塗層部分252設置，且第二彈性部分1072設置於基板110的第一區R1上。
第二塗層1060與彈性層1070接觸，且第二塗層1060與未被第一塗層250覆蓋的阻障層240接觸。在本實施例中，第二塗層1060具有遠離於基板110的第四面S4，且第四面S4可以為平坦面，以使後續形成的其他膜層及/或元件可以被形成於平坦的第四面S4上，但本發明不限於此。
圖11是依照本發明第十一實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十一實施例的光學補償結構1100與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖11針對光學補償結構1100進行描述。值得注意的是，在圖11中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖11，第十一實施例的光學補償結構1100與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構1100更可包括第二塗層1160以及第三塗層1155。第一塗層1150位於阻障層240與第二塗層1160之間。第二塗層1160位於第一塗層1150與第三塗層1155之間。第一塗層1150對應第一折射部分N2a設置，且第一塗層1150設置於基板110的第二區R2上。第三塗層1155對應第二折射部分N2b設置，且第三塗層1155設置於基板110的第一區R1上。
第二塗層1160與第一塗層1150接觸，且第二塗層1160與未被第一塗層1150覆蓋的阻障層240接觸。在本實施例中，第二塗層1160具有遠離於基板110的第四面S4，且第四面S4可以為平坦面，以使後續形成的第三塗層1155、其他膜層及/或元件可以被形成於平坦的第四面S4上，但本發明不限於此。
第三塗層1155位於第二塗層1160的第四面S4上而與第二塗層1160接觸，且第一塗層1150與第三塗層1155不重疊。在本實施例中，設置於第一區R1的第三塗層1155可以為多個彼此分離的條狀結構或島狀結構，但本發明不限於此。
在本實施例中，第一塗層1150、第二塗層1160及/或第三塗層1155的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的第一塗層（如：第二實施例中的第一塗層250）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第一塗層1150、第二塗層1160及/或第三塗層1155之間的材質組成及/或形成方式，以使第一塗層1150、第二塗層1160及/或第三塗層1155之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖12是依照本發明第十二實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十二實施例的光學補償結構1200與圖1的光學補償結構100類似，本實施例採用圖12針對光學補償結構1200進行描述。值得注意的是，在圖12中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖1中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖12，第十二實施例的光學補償結構1200與圖1的光學補償結構100類似，兩者的差異在於：光學補償結構1200更可包括第二塗層1260，其中第二塗層1260位於第一塗層150與阻障層140之間。第二塗層1260設置於基板110的第一區R1以及第二區R2上，且第二塗層1260的相對兩側分別與阻障層140以及第一塗層150接觸。
在本實施例中，第二塗層1260的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層150的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層1260及第一塗層150之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層1260及第一塗層150之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖13是依照本發明第十三實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十三實施例的光學補償結構1300與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖13針對光學補償結構1300進行描述。值得注意的是，在圖13中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖13，第十三實施例的光學補償結構1300與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構1300更可包括第二塗層1360，其中第二塗層1360位於第一塗層250與阻障層240之間。第二塗層1360設置於基板110的第一區R1以及第二區R2上，且第二塗層1360的相對兩側分別與阻障層240以及第一塗層250接觸。
在本實施例中，第二塗層1360的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層1360及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層1360及第一塗層250之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖14是依照本發明第十四實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十四實施例的光學補償結構1400與圖13的光學補償結構1300類似，本實施例採用圖14針對光學補償結構1400進行描述。值得注意的是，在圖14中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖13中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖14，第十四實施例的光學補償結構1400與圖13的光學補償結構1300類似，兩者的差異在於：光學補償結構1400更可包括彈性層1470，其中彈性層1470位於第一塗層250與第二塗層1360之間，且設置於第一區R1的彈性層1470更位於第二塗層部分252所具有的彼此分離的條狀結構或島狀結構之間。第一塗層250的楊氏係數大於彈性層1470的楊氏係數，且第二塗層1360的楊氏係數大於彈性層1470的楊氏係數。
在本實施例中，彈性層1470的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的彈性層（如：第八實施例中的彈性層870）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
圖15是依照本發明第十五實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十五實施例的光學補償結構1500與圖13的光學補償結構1300類似，本實施例採用圖15針對光學補償結構1500進行描述。值得注意的是，在圖15中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖13中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖15，第十五實施例的光學補償結構1500與圖13的光學補償結構1300類似，兩者的差異在於：光學補償結構1500更可包括彈性層1570，其中彈性層1570設置於第一區R1，且彈性層1570位於第二塗層部分252所具有的彼此分離的條狀結構或島狀結構之間。第一塗層250的楊氏係數大於彈性層1570的楊氏係數，且第二塗層1360的楊氏係數大於彈性層1570的楊氏係數。
在本實施例中，彈性層1570的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的彈性層（如：第八實施例中的彈性層870）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
圖16是依照本發明第十六實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十六實施例的光學補償結構1600與圖2的光學補償結構200類似，本實施例採用圖16針對光學補償結構1600進行描述。值得注意的是，在圖16中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖2中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖16，第十六實施例的光學補償結構1600與圖2的光學補償結構200類似，兩者的差異在於：光學補償結構1600更可包括彈性層1670，其中彈性層1670位於第一塗層250與阻障層240之間，且彈性層1670的相對兩側分別與阻障層240以及第一塗層250接觸。除此之外，設置於第一區R1的彈性層1670更位於第二塗層部分252所具有的彼此分離的條狀結構或島狀結構之間。
在本實施例中，彈性層1670的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的彈性層（如：第八實施例中的彈性層870）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
圖17是依照本發明第十七實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十七實施例的光學補償結構1700與圖16的光學補償結構1600類似，本實施例採用圖17針對光學補償結構1700進行描述。值得注意的是，在圖17中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖16中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖17，第十七實施例的光學補償結構1700與圖16的光學補償結構1600類似，兩者的差異在於：光學補償結構1700更可包括第二塗層1760，其中第一塗層250位於彈性層1670與第二塗層1760之間。第二塗層1760位於第一塗層250上，且第二塗層1760與第一塗層250以及設置於第一區R1的彈性層1670接觸。
在本實施例中，第二塗層1760的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層250的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層1760及第一塗層250之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層1760及第一塗層250之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
圖18是依照本發明第十八實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十八實施例的光學補償結構1800與圖1的光學補償結構100類似，本實施例採用圖18針對光學補償結構1800進行描述。值得注意的是，在圖18中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖1中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖18，第十八實施例的光學補償結構1800與圖1的光學補償結構100類似，兩者的差異在於：第一塗層1850具有第一塗層部分1851及與第一塗層部分1851相連接的第二塗層部分1852，其中第一塗層部分1851覆蓋於阻障層140的第二折射區N2以外的區域上，第二塗層部分1852覆蓋於阻障層140的第二折射區N2上。第一塗層部分1851具有第一塗層厚度H1，第二塗層部分1852具有第二塗層厚度H2，且第一塗層厚度H1大於第二塗層厚度H2。第二塗層1860位於第一塗層1850與阻障層140之間，且第二塗層1860的相對兩側分別與阻障層140以及第一塗層1850接觸。
在本實施例中，第二塗層1860具有第三塗層部分1861及與第三塗層部分1861相連接的第四塗層部分1862，其中第三塗層部分1861覆蓋於阻障層140的第二折射區N2以外的區域上，第四塗層部分1862覆蓋於阻障層140的第二折射區N2上，但本發明不限於此。第三塗層部分1861具有第三塗層厚度H3，第四塗層部分1862具有第四塗層厚度H4，且第三塗層厚度H3小於第四塗層厚度H4。
在本實施例中，第一塗層1850的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的第一塗層（如：第一實施例中的第一塗層150）的材質及/或形成方式。第二塗層1860的材質及/或形成方式可以類似於第一塗層1850的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。除此之外，可以藉由調整第二塗層1860及第一塗層1850之間的材質組成及/或形成方式，以使第二塗層1860及第一塗層1850之間具有不同的硬度、折射率及/或厚度。
舉例而言，可以藉由多次的塗佈以及光固化/熱固化的方式，以形成厚度不一致的第一塗層1850及/或第二塗層1860，於本發明不限於此。
圖19是依照本發明第十九實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第十九實施例的光學補償結構1900與圖18的光學補償結構1800類似，本實施例採用圖19針對光學補償結構1900進行描述。值得注意的是，在圖19中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖18中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖19，第十九實施例的光學補償結構1900與圖18的光學補償結構1800類似，兩者的差異在於：光學補償結構1900更可包括彈性層1970。彈性層1970位於第一塗層1850及第二塗層1960之間，且彈性層1970覆蓋於阻障層140的第二折射區N2上。
在本實施例中，第二塗層1960的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的第二塗層（如：第十三實施例中的第二塗層1360）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
在本實施例中，彈性層1970的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的彈性層（如：第八實施例中的彈性層870）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
在本實施例中，第二塗層1960具有遠離於基板110的第四面S4，且第四面S4可以為平坦面，以使後續形成的彈性層1970、其他膜層及/或元件可以被形成於平坦的第四面S4上，但本發明不限於此。
圖20是依照本發明第二十實施例的光學補償結構的剖面示意圖。請參照圖20，本實施例的光學補償結構2000包括基板2010、阻障層2040、第一黏著層2080以及第二黏著層2085。阻障層2040具有彼此相連的第一折射區N1及第二折射區N2。第二折射區N2的折射率大於第一折射區N1的折射率。第一黏著層2080位於阻障層2040與基板2010之間，其中第一黏著層2080覆蓋於阻障層2040的第二折射區N2上。第二黏著層2085位於阻障層2040與基板2010之間，且第二黏著層2085與阻障層2040的第二折射區N2不重疊。
在本實施例中，光學補償結構2000更可包括電子元件層112。電子元件層112位於阻障層2040與基板2010之間。
在本實施例中，基板2010可為硬質基板或可撓性基板。舉例而言，前述之硬質基板的材質例如是玻璃、石英、金屬或其他硬質材料，而前述之可撓性基板材料可以類似於前述實施例中的基板（如：第一實施例中的基板110）的材質及/或性質，於此不加以贅述。
在本實施例中，第一黏著層2080及/或第二黏著層2085的材料可為光學膠（optically clear adhesive）、黏膠或固態膠帶，於本發明不限於此。如此一來，阻障層2040可以接觸且被黏著於第一黏著層2080及/或第二黏著層2085上而固定。舉例而言，可以將具有第一折射區N1以及第二折射區N2的阻障層2040藉由第一黏著層2080及/或第二黏著層2085貼合於基板2010上或具有電子元件層112的基板2010上。
阻障層2040具有相對的第一面S1及第二面S2。阻障層2040的第二折射區N2自第一面S1向內延伸，且第二面S2及部分的第一面S1位於第一折射區N1。阻障層2040覆蓋於電子元件層112上，且阻障層2040的第一面S1與第一黏著層2080及/或第二黏著層2085接觸。
在本實施例中，阻障層2040的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的阻障層（如：第一實施例中的阻障層140）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
在本實施例中，第一黏著層2080及第二黏著層2085為圖案化的膜層。阻障層2040的第二折射區N2上對應於第一黏著層2080分佈，阻障層2040的第二折射區N2以外的區域對應於第二黏著層2085分佈。第一黏著層2080的折射率小於第二黏著層2085的折射率。如此一來，可以藉由具有第一折射區N1及第二折射區N2的阻障層2040，來降低圖案化的第一黏著層2080及第二黏著層2085所產生的光學視差問題。
圖21是依照本發明第二十一實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第二十一實施例的光學補償結構2100與圖20的光學補償結構2000類似，本實施例採用圖21針對光學補償結構2100進行描述。值得注意的是，在圖21中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖20中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖21，第二十一實施例的光學補償結構2100與圖20的光學補償結構2000類似，兩者的差異在於：阻障層2140的第二折射區N2可以為柵狀、格狀或網狀設置。也就是說，覆蓋於阻障層2140的第二折射區N2上的第一黏著層2180也可以是具有對應於第二折射區N2的柵狀、格狀或網狀設置。
圖22是依照本發明第二十二實施例的光學補償結構的剖面示意圖。請參照圖22，本實施例的光學補償結構2200包括第一基板2220、阻障層2240以及第二基板2230。第一基板2220具有彼此相連的第一基板部分2221及第二基板部分2222。第一基板部分2221具有第一基板厚度T1，第二基板部分2222具有第二基板厚度T2，且第一基板厚度T1大於第二基板厚度T2。阻障層2240位於第一基板2220上。阻障層2240具有彼此相連的第一折射區N1及第二折射區N2。第二折射區N2的折射率大於第一折射區N1的折射率。阻障層2240的第二折射區N2對應於第一基板2220的第二基板部分2222分佈。第一基板2220位於阻障層2240與第二基板2230之間。第二基板2230的楊氏係數大於第一基板2220的楊氏係數。
在本實施例中，光學補償結構2200更可包括電子元件層112。電子元件層112位於阻障層2240與第一基板2220之間。
在本實施例中，第一基板2220的材質可以類似於前述實施例中的基板（如：第一實施例中的基板110）的材質，於此不加以贅述。
在本實施例中，第二基板2230可為硬質基板或可撓性基板。舉例而言，前述之硬質基板的材質例如是玻璃、石英、金屬或其他硬質材料，而前述之可撓性基板材料可以類似於第一基板2220的材質，但本發明並不限於此。
在本實施例中，第二基板2230可以為具有基板開口2230a的圖案化基板，且基板開口2230a可以為具有直線狀、折線狀或曲線狀的溝渠或狹縫，以使光學補償結構2200可以藉由對應的基板開口2230a變形而被拉伸、壓縮或彎曲。位於第二基板2230的基板開口2230a例如是以蝕刻、切割或電腦數值控制（Computer Numerical Control；CNC）沖壓的方式形成於第二基板2230上，但本發明並不限於此。
阻障層2240具有相對的第一面S1及第二面S2。阻障層2240的第二折射區N2自第一面S1向內延伸，且第二面S2及部分的第一面S1位於第一折射區N1。
在本實施例中，阻障層2240覆蓋於電子元件層112上，且阻障層2240的第一面S1與電子元件層112接觸，但本發明不限於此。在其他的實施例中，阻障層2240與電子元件層112之間也可以包括其他的膜層。
在本實施例中，阻障層2240的材質及/或形成方式可以類似於前述實施例中的阻障層（如：第一實施例中的阻障層140）的材質及/或形成方式，於此不加以贅述。
在本實施例中，第一基板2220及第二基板2230為圖案化的基板。阻障層2240的第二折射區N2、第一基板2220的第二基板部分2222以及第二基板2230彼此對應設置。第一基板2220的折射率大於第二基板2230的折射率。如此一來，可以藉由具有第一折射區N1及第二折射區N2的阻障層2240，來降低圖案化的第一基板2220及第二基板2230所產生的光學視差問題。
圖23是依照本發明第二十三實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第二十三實施例的光學補償結構2300與圖22的光學補償結構2200類似，本實施例採用圖23針對光學補償結構2300進行描述。值得注意的是，在圖23中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖22中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖23，第二十三實施例的光學補償結構2300與圖22的光學補償結構2200類似，兩者的差異在於：第二基板2330具有彼此相連的第三基板部分2331及第四基板部分2332。第三基板部分2331具有第三基板厚度T3，第四基板部分2332具有第四基板厚度T4，且第三基板厚度T3小於第四基板厚度T4。第一基板2220的第一基板部分2221與第二基板2330的第三基板部分2331重疊。第一基板2220的第二基板部分2222與第二基板2330的第四基板部分2332重疊。
圖24是依照本發明第二十四實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第二十四實施例的光學補償結構2400與圖23的光學補償結構2300類似，本實施例採用圖24針對光學補償結構2400進行描述。值得注意的是，在圖24中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖23中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖24，第二十四實施例的光學補償結構2400與圖23的光學補償結構2300類似，兩者的差異在於：阻障層2440更具有與第一折射區N1及第二折射區N2相連接的第三折射區N3。第三折射區N3自阻障層2440的第一面S1向內延伸。第三折射區N3的折射率大於第一折射區N1的折射率。於阻障層2440中，第三折射區N3的深度小於第二折射區N2的深度。阻障層2440的第二折射區N2、第一基板2220的第二基板部分2222以及第二基板2330的第四基板部分2332彼此對應設置。阻障層2440的第三折射區N3、第一基板2220的第一基板部分2221以及第二基板2330的第三基板部分2331彼此對應設置。
在本實施例中，於阻障層2440中的第二折射區N2與第三折射區N3可以具有類似的形成方式。一般而言，可以藉由調整電漿離子佈植製程的佈植時間、載氣種類、載氣流量、載氣壓力及/或電壓脈衝等不同的製程參數，來調整第二折射區N2及/或第三折射區N3的折射率或其深度，以使第二折射區N2的折射率或深度可以不同於第三折射區N3的折射率或深度。
圖25是依照本發明第二十五實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第二十五實施例的光學補償結構2500與圖1的光學補償結構100類似，本實施例採用圖25針對光學補償結構2500進行描述。值得注意的是，在圖25中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖1中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖25，第二十五實施例的光學補償結構2500與圖1的光學補償結構100類似，兩者的差異在於：第二折射區N2嵌於第一折射區N1內。
一般而言，可以藉由多次的塗佈法及/或表面處理製程，以使第二折射區N2嵌於第一折射區N1內，但本發明不限於此。
圖26是依照本發明第二十六實施例的光學補償結構的剖面示意圖。第二十六實施例的光學補償結構2600與圖1的光學補償結構100類似，本實施例採用圖26針對光學補償結構2600進行描述。值得注意的是，在圖26中，相同或相似的標號表示相同或相似的構件，故針對圖1中說明過的構件於此不再贅述。
請參照圖26，第二十六實施例的光學補償結構2600與圖1的光學補償結構100類似，兩者的差異在於：阻障層140更具有與第一折射區N1相連接的第三折射區N3，其中第三折射區N3的折射率大於第一折射區N1的折射率，且第三折射區N3嵌於第一折射區N1內。
在本實施例中，於阻障層140中的第二折射區N2與第三折射區N3可以具有類似的形成方式。一般而言，可以藉由調整電漿離子佈植製程的佈植時間、載氣種類、載氣流量、載氣壓力及/或電壓脈衝等不同的製程參數，來調整第三折射區N3的折射率或其深度。並且，可以藉由多次的塗佈法及/或表面處理製程，以使第三折射區N3嵌於第一折射區N1內，但本發明不限於此。
綜上所述，本發明光學補償結構所包括的阻障層至少具有第一折射區及第二折射區，而可以對圖案化後的基板、塗層及/或黏著層提供光學補償，以改善光學視差問題。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500、1600、1700、1800、1900、2000、2100、2200、2300、2400、2500、2600‧‧‧光學補償結構
110、2010‧‧‧基板
2220‧‧‧第一基板
2221‧‧‧第一基板部分
2222‧‧‧第二基板部分
2230、2330‧‧‧第二基板
2331‧‧‧第三基板部分
2332‧‧‧第四基板部分
2230a‧‧‧基板開口
T1‧‧‧第一基板厚度
T2‧‧‧第二基板厚度
T3‧‧‧第三基板厚度
T4‧‧‧第四基板厚度
112‧‧‧電子元件層
140、240、2040、2140、2240、2440‧‧‧阻障層
N1‧‧‧第一折射區
N2‧‧‧第二折射區
N2a‧‧‧第一折射部分
N2b‧‧‧第二折射部分
N3‧‧‧第三折射區
150、250、1150、1850‧‧‧第一塗層
251、1851‧‧‧第一塗層部分
252、1852‧‧‧第二塗層部分
150a‧‧‧塗層開口
360、460、560、660、760、960、1060、1160、1260、1360、1760、1860、1960‧‧‧第二塗層
361、661、961、1861‧‧‧第三塗層部分
362、662、962、1862‧‧‧第四塗層部分
H1‧‧‧第一塗層厚度
H2‧‧‧第二塗層厚度
H3‧‧‧第三塗層厚度
H4‧‧‧第四塗層厚度
1155‧‧‧第三塗層
870、1070、1470、1570、1670、1970‧‧‧彈性層
1071‧‧‧第一彈性部分
1072‧‧‧第二彈性部分
S1‧‧‧第一面
S2‧‧‧第二面
S3‧‧‧第三面
S4‧‧‧第四面
2080‧‧‧第一黏著層
2085‧‧‧第二黏著層
R1‧‧‧第一區
R2‧‧‧第二區
圖1是依照本發明第一實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖2是依照本發明第二實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖3是依照本發明第三實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖4是依照本發明第四實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖5是依照本發明第五實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖6是依照本發明第六實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖7是依照本發明第七實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖8是依照本發明第八實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖9是依照本發明第九實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖10是依照本發明第十實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖11是依照本發明第十一實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖12是依照本發明第十二實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖13是依照本發明第十三實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖14是依照本發明第十四實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖15是依照本發明第十五實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖16是依照本發明第十六實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖17是依照本發明第十七實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖18是依照本發明第十八實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖19是依照本發明第十九實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖20是依照本發明第二十實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖21是依照本發明第二十一實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖22是依照本發明第二十二實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖23是依照本發明第二十三實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖24是依照本發明第二十四實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖25是依照本發明第二十五實施例的光學補償結構的剖面示意圖。 圖26是依照本發明第二十六實施例的光學補償結構的剖面示意圖。

Claims (20)

  1. 一種光學補償結構，包括： 一基板； 一阻障層，位於該基板上，其中該阻障層具有一第一折射區及一與該第一折射區相連接的第二折射區，該第二折射區的折射率大於該第一折射區的折射率；以及 一第一塗層，覆蓋於部分的該第二折射區上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，其中該第一塗層與部分的該阻障層接觸。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的光學補償結構，更包括一第二塗層，其中該第一塗層位於該第二塗層與該阻障層之間。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的光學補償結構，其中該第二塗層與該第一塗層接觸。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的光學補償結構，更包括一第三塗層，覆蓋於該阻障層的部分該第二折射區上，其中該第一塗層與該第三塗層位於該第二塗層的相對側，且該第三塗層與該第一塗層不重疊。
  6. 如申請專利範圍第2項所述的光學補償結構，更包括一第二塗層，其中該第二塗層與未被該第一塗層覆蓋的其餘部分的該阻障層接觸。
  7. 如申請專利範圍第2項所述的光學補償結構，更包括一彈性層，其中該彈性層與該第一塗層接觸，且該第一塗層的楊氏係數大於該彈性層的楊氏係數。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的光學補償結構，其中該彈性層更與未被該第一塗層覆蓋的其餘部分的該阻障層接觸。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的光學補償結構，更包括一第二塗層，其中該第二塗層與該彈性層接觸。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，更包括一第二塗層，其中該第二塗層位於該第一塗層與該阻障層之間，且該第二塗層與該阻障層接觸。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的光學補償結構，更包括一彈性層，其中該第一塗層的楊氏係數大於該彈性層的楊氏係數，且該第一塗層與部分的該第二塗層接觸，該彈性層與未被該第一塗層覆蓋的其餘部分的該第二塗層接觸。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，更包括一彈性層，其中該第一塗層的楊氏係數大於該彈性層的楊氏係數，且該彈性層位於該第一塗層與該阻障層之間，該第一塗層與該彈性層接觸。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，其中該阻障層具有相對的一第一面及一第二面，該第二折射區自該第一面向內延伸，且該第二面及部分的該第一面位於該第一折射區。
  14. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，其中該阻障層更具有一嵌於該第一折射區內的第三折射區，該第三折射區的折射率大於該第一折射區的折射率，且該第三折射區與該第二折射區重疊。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，其中該基板具有彼此相連的第一區與第二區，該第一區的可撓曲度大於該第二區的可撓曲度，且對應於該第一區設置的部分該第一塗層具有多個彼此分離的條狀結構或島狀結構。
  16. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償結構，更包括一電子元件層，位於該阻障層與該基板之間。
  17. 一種光學補償結構，包括： 一基板； 一阻障層，位於該基板上，其中該阻障層具有一第一折射區及一與該第一折射區相連接的第二折射區，該第二折射區的折射率大於該第一折射區的折射率； 一第一塗層，具有一第一塗層部分及一與該第一塗層部分相連接的第二塗層部分，其中該第一塗層部分覆蓋於該第二折射區以外的區域上，該第二塗層部分覆蓋於該第二折射區上，且該第一塗層部分的厚度大於該第二塗層部分的厚度；以及 一第二塗層，位於該第一塗層與該阻障層之間，且該第二塗層與該阻障層接觸。
  18. 如申請專利範圍第17項所述的光學補償結構，其中該第二塗層具有一第三塗層部分及一與該第三塗層部分相連接的第四塗層部分，其中該第三塗層部分覆蓋於該第二折射區以外的區域上，該第四塗層部分覆蓋於該第二折射區上，且該第三塗層部分的厚度小於該第四塗層部分的厚度。
  19. 如申請專利範圍第17項所述的光學補償結構，更包括一彈性層，其中該彈性層覆蓋於該第二折射區上。
  20. 一種光學補償結構，包括： 一基板； 一阻障層，具有一第一折射區及一與該第一折射區相連接的第二折射區，該第二折射區的折射率大於該第一折射區的折射率； 一第一黏著層，位於該阻障層與該基板之間，其中該第二折射區對應於該第一黏著層分佈；以及 一第二黏著層，位於該阻障層與該基板之間，且該第一黏著層與該第二黏著層不重疊。
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