CN203386166U - 触控板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种触控板，包括一基底、一图案化装饰层、一图案化透明导电层以及一光学补偿层。图案化装饰层是设置在基底上，并在基底上定义出一穿透区以及一开孔位于穿透区的一侧。图案化透明导电层是设置在基底上，且图案化透明导电层包括一透明导电图案。透明导电图案是与开孔对应设置，且透明导电图案是在一垂直基底的垂直投影方向上全面覆盖开孔。光学补偿层是设置在基底上，且光学补偿层是在垂直投影方向上覆盖开孔。本实用新型是利用在触控板的开孔处设置透明导电图案与光学补偿层进行搭配，达到提高开孔的透射比的效果。
Description
技术领域
本实用新型是涉及一种触控板，特别涉及一种在照相机开孔处对应设置透明导电图案与光学补偿层的触控板。
背景技术
近年来触控技术的发展非常蓬勃，许多消费性电子产品例如移动电话与平板计算机均有与触控技术整合的产品不断推出。由于此类消费性电子产品往往也整合了拍照的功能，因此触控板的外盖玻璃(cover glass)上必须有对应的照相机开孔，用以使照相机能通过照相机开孔接收外界的光线。为了提高照相机拍照的质量，改善照相机开孔的透射比是其中一种方式。一般来说，传统提高透射比的作法为直接贴附抗反射膜。由于一般的照相机开孔较小(直径约1.5mm左右)，因此对照相机开孔进行抗反射膜贴附时也存在不易贴附的问题，进而造成作业工时较长且影响合格率以及成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在提供一种触控板，利用在触控板的开孔处设置透明导电图案与光学补偿层进行搭配，达到提高开孔的透射比的效果。
本实用新型提供一种触控板，包括一基底、一图案化装饰层、一图案化透明导电层以及一光学补偿层。图案化装饰层是设置在基底上，并在基底上定义出一穿透区以及一开孔位于穿透区的一侧。图案化透明导电层是设置在基底上，且图案化透明导电层包括一透明导电图案。透明导电图案是与开孔对应设置，且透明导电图案是在一垂直基底的垂直投影方向上全面覆盖开孔。光学补偿层是设置在基底上，且光学补偿层是在垂直投影方向上覆盖开孔。
在本实用新型的另外一实施例中，图案化透明导电层还包括多个触控感测电极，且触控感测电极是设置在穿透区内。
在本实用新型的另外一实施例中，光学补偿层是在垂直投影方向上进一步覆盖穿透区。
在本实用新型中，设置在开孔处的透明导电图案与触控感测电极可以用相同材料以及同一制造工艺步骤所形成，故本实用新型的触控板并不需使用额外的制造工艺即可达到提高开孔的透射比的效果。此外，设置在开孔处的光学补偿层也延伸覆盖位于穿透区的触控感测电极，故可同时达到降低触控感测电极可识别度的效果。
附图说明
图1所示为本实用新型的第一优选实施例的触控板的示意图。
图2为沿图1中A-A’剖线所绘示的剖视图。
图3所示为本实用新型的第二优选实施例的触控板的示意图。
图4所示为本实用新型的第三优选实施例的触控板的示意图。
图5所示为本实用新型的第四优选实施例的触控板的示意图。
图6所示为本实用新型的一优选实施例的触控感测电极的示意图。
图7所示为本实用新型的另外一优选实施例的触控感测电极的示意图。
图8所示为本实用新型的又一优选实施例的触控感测电极的示意图。
其中，附图标记说明如下：
101 触控板
102 触控板
110 基底
120 图案化装饰层
R1 穿透区
R2 开孔
130 图案化透明导电层
131 触控感测电极
131R 触控信号接收电极
131T 触控信号传递电极
131X 第一轴向电极
131Y 第二轴向电极
132 透明导电图案
140 光学补偿层
141 第一补偿层
142 第二补偿层
150 第三补偿层
160 绝缘块
190 光敏装置
201 触控板
202 触控板
X 第一方向
Y 第二方向
Z 垂直投影方向
具体实施方式
为使熟习本实用新型所属技术领域的技术人员能进一步了解本实用新型，下文特列举本实用新型的数个优选实施例，并配合附图，详细说明本实用新型的构成内容。
请参考图1与图2。图1所示为本实用新型的第一优选实施例的触控板的示意图。图2为沿图1中A-A’剖线所绘示的剖视图。为了方便说明，本实用新型的各附图仅为示意用以容易了解本实用新型，其详细的比例可依照设计的需求进行调整。如图1与图2所示，本实施例提供一触控板101，包括一基底110、一图案化装饰层120、一图案化透明导电层130以及一光学补偿层140。基底110可包括例如玻璃基底、陶瓷基底、塑胶基底或其他适合材料所形成的基底。图案化装饰层120是设置在基底110上，并在基底110上定义出一穿透区R1以及一开孔R2位于穿透区R1的一侧。值得说明的是，本实施例的触控板101可还包括一光敏装置190与开孔R2对应设置，光敏装置190可为一影像撷取装置例如照照相机，而开孔R2可为一影像撷取开孔例如照相机开孔，但并不以此为限。在本实用新型的其他优选实施例中，也可视需要使用其他的光敏装置190例如光学近距感测(proximity sensing)器等与开孔R2对应设置。此外，穿透区R1的面积是远大于开孔R2的面积，且开孔R2的形状也可视需要进行调整。图案化透明导电层130是设置在基底110上，且图案化透明导电层130包括一透明导电图案132。透明导电图案132是与开孔R2对应设置，且透明导电图案132是在一垂直基底110的垂直投影方向Z上全面覆盖开孔R2。光学补偿层140是设置在基底110上，且光学补偿层140是在垂直投影方向Z上全面覆盖开孔R2。图案化透明导电层130还包括多个触控感测电极131且触控感测电极131是设置在穿透区R1内。光学补偿层140进一步是在垂直投影方向Z上全面覆盖穿透区R1。
进一步说明，本实施例的图案化透明导电层130可包括氧化铟锡(indiumtin oxide,ITO)、氧化铟锌(indium zinc oxide,IZO)、氧化铝锌(aluminum zincoxide,AZO)或其他适合的透明导电材料。设置在开孔R2处的透明导电图案132与触控感测电极131优选是以相同材料以及同一制造工艺步骤所形成。值得说明的是，透明导电图案132是与触控感测电极131间可视需要设计为互相电连接或不电连接，且当透明导电图案132是与触控感测电极131电不相连时，透明导电图案132优选是为一电浮接(electrically floating)的透明导电图案，但并不以此为限。在本实施例中，图案化透明导电层130是设置在基底110与光学补偿层140之间。光学补偿层140可包括一第一补偿层141与一第二补偿层142沿垂直投影方向Z上堆栈设置，且第一补偿层141是设置在图案化透明导电层130与第二补偿层142之间，但并不以此为限。在本实用新型的其他优选实施例中，也可视需要使用单层或其他种多层结构的光学补偿层140用以达到所需的光学补偿效果。在本实施例中，第一补偿层141的折射率优选是小于图案化透明导电层130的折射率以及第二补偿层142的折射率，且图案化透明导电层130的折射率优选是大于基底110的折射率。第一补偿层141与第二补偿层142可包括透明绝缘材料例如氮化硅(siliconnitride)、氧化硅(silicon oxide)、氮氧化硅(silicon oxynitride)、丙烯酸类树脂(acrylic resin)或其它适合的有机或无机的透明绝缘材料。通过上述的各层的设置位置与其折射率之间的互相搭配，可达到提高开孔R2的透射比的效果。举例来说，请参考下列表1，并请一并参考图2。表1所列的数据为分别使用折射率约为1.5的玻璃基底、使用折射率约为1.9的氧化铟锌形成透明导电图案132、使用折射率约为1.5的二氧化硅(SiO2)形成第一补偿层141以及使用折射率约为1.87的氮化硅(SiNx)形成第二补偿层142时开孔R2的透射比与反射比的改善效果，并对照一般单纯玻璃基底以及仅在玻璃基底上设置二氧化硅与氮化硅层时开孔R2的透射比与反射比的对照状况。
表1
如表1所示，通过本实施例的各层的设置位置与其折射率之间的互相搭配，相比较在单纯的玻璃基底或仅在玻璃基底上设置二氧化硅与氮化硅层时的状况，本实用新型的触控板可达到有效提高开孔R2的透射比与降低其反射比的效果，故可使得光敏装置190的受光状况获得改善。
在本实用新型中，设置在开孔R2处的透明导电图案132是与触控感测电极131优选是以相同材料以及同一制造工艺步骤所形成，故本实用新型并不需使用额外的制造工艺即可达到提高开孔R2的透射比的效果。此外，通过上述的各层的折射率互相搭配，除了可达到提高开孔R2的透射比的效果，由于设置在开孔R2的光学补偿层140也延伸覆盖位于穿透区R1的触控感测电极131，故也可同时让感测电极131图案难以被观察，改善触控板的视觉效果。
下文将针对本实用新型的不同实施样态进行说明，且为简化说明，以下说明主要针对各实施例不同的部分进行详述，而不再对相同的部分作重复赘述。此外，本实用新型的各实施例中相同的组件是以相同的标号进行标示，用以方便在各实施例间互相对照。
请参考图3。图3所示为本实用新型的第二优选实施例的触控板102的示意图。与上述第一优选实施例不同的地方在于，在触控板102中，透明导电图案132是在垂直投影方向Z上全面覆盖开孔R2，且透明导电图案132也在垂直投影方向Z上部分覆盖位于开孔R2旁的图案化装饰层120，借此设计可避免透明导电图案132因工艺对位变异而无法全面覆盖开孔R2的状况发生。
请参考图4。图4所示为本实用新型的第三优选实施例的触控板201的示意图。与上述第一优选实施例不同的地方在于，在触控板201中，光学补偿层140是设置在基底110与图案化透明导电层130之间，且第二补偿层142是设置在基底110与第一补偿层141之间。第二补偿层142的折射率是大于基底110的折射率以及第一补偿层141的折射率，且图案化透明导电层130的折射率是大于第一补偿层141的折射率。本实施例的触控板201除了各层的设置顺序之外，各部件的材料特性是与上述第一优选实施例相似，故在此并不再赘述。
请参考图5。图5所示为本实用新型的第四优选实施例的触控板202的示意图。与上述第三优选实施例不同的地方在于，触控板202还包括一第三补偿层150设置在基底110上且在垂直投影方向Z上全面覆盖开孔R2与穿透区R1。图案化透明导电层130是设置在第一补偿层141与第三补偿层150之间，且图案化透明导电层130的折射率是大于第三补偿层150的折射率与第一补偿层141的折射率。第三补偿层150可包括透明绝缘材料例如丙烯酸类树脂或其它适合的有机或无机的透明绝缘材料。
请参考图6到图8。图6所示为本实用新型的一优选实施例的触控感测电极的示意图。图7所示为本实用新型的另外一优选实施例的触控感测电极的示意图。图8所示为本实用新型的又一优选实施例的触控感测电极的示意图。如图6所示，上述各实施例中的各触控感测电极131可为彼此电分离的电极用以进行一自电容(self capacitive)触控感测，但并不以此为限。各触控感测电极131的形状可为矩形、三角形或其他适合的形状。此外，如图7所示，上述各实施例中的各触控感测电极131也可包括多个触控信号接收电极131R以及多个触控信号传递电极131T彼此交错排列设置在穿透区R1，用以进行一互电容(mutual capacitive)触控感测，但并不以此为限。另外，如图8所示，上述各实施例中的各触控感测电极131也可包括多个第一轴向电极131X沿一第一方向X延伸，第一轴向电极131X可与多个沿一第二方向Y延伸的第二轴向电极131Y互相交错设置，用以进行自电容式或互电容式触控感测。第一方向X优选是垂直第二方向，但并不以此为限。第一轴向电极131X是与第二轴向电极131Y彼此电分离，第一轴向电极131X与第二轴向电极131Y的交错处可设置绝缘块160或绝缘层(图未示)，但并不以此为限。值得说明的是，本实用新型的触控板的触控感测电极并不限于上述图6到图8所绘示的状况而可视设计需要进行调整。
综合以上所述，本实用新型的触控板是利用在照相机开孔处设置透明导电图案以及光学补偿层进行互相搭配，借此达到提高照相机开孔的透射比的效果。在本实用新型中，设置在开孔处的透明导电图案是与触控感测电极可以用相同材料以及同一制造工艺步骤所形成，故本实用新型的触控板可不需使用额外的制造工艺即可达到提高开孔的透射比的效果。此外，设置在开孔处的光学补偿层也延伸覆盖位于穿透区的触控感测电极，故可同时让感测电极图案难以被观察，改善触控板的视觉效果。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (14)
1.一种触控板，其特征在于，包括：
一基底；
一图案化装饰层，设置在该基底上，并在该基底上定义出一穿透区以及一开孔位于该穿透区的一侧；
一图案化透明导电层，设置在该基底上，其中该图案化透明导电层包括一透明导电图案，与该开孔对应设置，且该透明导电图案是在一垂直该基底的垂直投影方向上全面覆盖该开孔；以及
一光学补偿层，设置在该基底上，其中该光学补偿层是在该垂直投影方向上覆盖该开孔。
2.根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层还包括多个触控感测电极，设置在该穿透区。
3.根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层还近一步覆盖该穿透区。
4.根据权利要求2所述的触控板，其特征在于，该透明导电图案是不与该些触控感测电极电连接，且该透明导电图案是为一电浮接的透明导电图案。
5.根据权利要求2所述的触控板，其特征在于，该透明导电图案是与该些触控感测电极电连接。
6.根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，还包括一光敏装置与该开孔对应设置。
7.根据权利要求6所述的触控板，其特征在于，该光敏装置是为一影像撷取装置，而该开孔是为一影像撷取开孔。
8.根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层是设置在该基底与该光学补偿层之间。
9.根据权利要求8所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层的折射率是大于该基底的折射率。
10.根据权利要求9所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层包括一第一补偿层与一第二补偿层沿该垂直投影方向上堆栈设置，该第一补偿层是设置在该图案化透明导电层与该第二补偿层之间，且该第一补偿层的折射率是小于该图案化透明导电层的折射率以及该第二补偿层的折射率。
11.根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层是设置在该基底与该图案化透明导电层之间。
12.根据权利要求11所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层包括一第一补偿层与一第二补偿层沿该垂直投影方向上堆栈设置，该第二补偿层是设置在该基底与该第一补偿层之间，且该第二补偿层的折射率是大于该基底的折射率以及该第一补偿层的折射率。
13.根据权利要求12所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层的折射率是大于该第一补偿层的折射率。
14.根据权利要求13所述的触控板，其特征在于，还包括一第三补偿层设置在该基底上且全面覆盖该开孔与该穿透区，其中该图案化透明导电层是设置在该第一补偿层与该第三补偿层之间，且该图案化透明导电层的折射率是大于该第三补偿层的折射率。
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