JP6924557B2 - 表示装置およびこれを製造する方法 - Google Patents

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Description

本発明は、表示装置およびこれを製造する方法に関するものである。
液晶表示装置(liquid crystal display:LCD)、プラズマ表示装置(plasma display panel:PDP)、有機発光表示装置(organic light emitting diode device:OLED device)、電界効果表示装置(field effect display:FED)、電気泳動表示装置(electrophoretic display device)などのような多様な表示装置はタッチパネルを含むことによりタッチ方式で入力信号を受信してより多様な分野に適用することができる。
表示パネルおよびタッチパネルが積層された後、外部環境から内部のパネルを保護するためにウィンドウが表示パネルおよびタッチパネル上に配置される。外部に露出されるウィンドウの表面にはハードコーティング層がさらに形成され、ウィンドウの表面を保護することができる。
一般にウィンドウを形成するためには大面積を有するウィンドウ母基板上にハードコーティング層を形成した後、所望の大きさで切断して使用する。この時、ウィンドウ上に形成されたハードコーティング層の切断面には微細な欠陥が発生することがある。ハードコーティング層の切断面に発生した欠陥は、最初は非常に微細であるが、次第に拡散して表示装置の視認性を低下させたり、空気または水分のような外部汚染物質が表示装置内に流入する原因になることがある。
大韓民国特許公開第10−2010−0043739号公報 大韓民国特許公開第10−2014−0082531号公報 大韓民国特許公開第10−2014−0077818号公報 米国特許8758877号明細書
本発明の目的は、切断工程による欠陥の発生を防止することができる表示装置およびこれを製造する方法を提供することにある。
また、本発明が解決しようとする技術的課題は以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されていない他の技術的課題は以下の記載から本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に明確に理解され得る。
本発明の一実施形態に係る表示装置は、表示パネルと、表示パネルを保護するために前記表示パネル上に配置されるウィンドウと、ウィンドウ上に形成される活性表面層と、活性表面層上に形成され、表面が曲面であるハードコーティング層とを含む。
このとき、活性表面層は親水性を有し、ハードコーティング層はウィンドウの表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質から形成することができる。
または、活性表面層は疎水性を有し、ハードコーティング層はウィンドウの表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質から形成することができる。
一方、ハードコーティング層の表面は、ウィンドウの端部それぞれで0°超過90°未満の接触角を有してもよい。
ハードコーティング層は表示装置の中心で最も高い厚さを有し、表示装置の端部に行くほどハードコーティング層の厚さが次第に薄くなってもよく、このとき、ハードコーティング層の表面はドーム(dome)形状であってもよい。
本発明の他の実施形態に係る表示装置の製造方法は、ウィンドウ領域およびウィンドウ領域の周囲に形成されるダミー領域を含むウィンドウ母基板を準備する段階と、ウィンドウ領域に対応する領域が開放された第1マスクをウィンドウ母基板上に配置し、ウィンドウ領域に対応するウィンドウ母基板の表面を処理して活性表面層を形成する段階と、第1マスクを除去する段階と、ハードコーティング層形成物質を活性表面層上に塗布する段階と、ハードコーティング層形成物質を硬化させて、曲面の表面を有するハードコーティング層を形成する段階と、ウィンドウ母基板からダミー領域とウィンドウ領域を切断してウィンドウを形成する段階とを含む。
本実施形態に係る表示装置の製造方法は、ダミー領域に対応する領域が開放された第2マスクをウィンドウ母基板上に配置し、ダミー領域に対応するウィンドウ母基板の表面を処理して非活性表面層を形成する段階と、第2マスクを除去する段階とをさらに含んでもよい。
活性表面層は親水性および疎水性のうちのいずれか一つの性質を有するように表面処理され、非活性表面層は親水性および疎水性のうちの他の一つの性質を有するように表面処理されてもよい。
親水性を有するように表面を処理する段階は、空気、窒素(N)、酸素(O)、二酸化炭素(CO)、一酸化炭素(CO)および過酸化水素(H)を含む群より選択される一つ以上の気体を用いてウィンドウ母基板の表面をプラズマ処理する段階であるか、または、親水性基を含む官能基を有する液状物質を用いてウィンドウ母基板の表面をコーティングする段階であってもよい。
疎水性を有するように表面を処理する段階は、CH、CF、SF、NF、CおよびHFC−134aを含む群より選択される一つ以上の気体を用いてウィンドウ母基板の表面をプラズマ処理する段階であるか、または、疎水性基を含む官能基を有する液状物質を用いてウィンドウ母基板の表面をコーティングする段階であってもよい。
このとき、活性表面層の表面は親水性を有し、ハードコーティング層形成物質はウィンドウ母基板の表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質から形成されてもよい。
または、活性表面層の表面は疎水性を有し、ハードコーティング層形成物質はウィンドウ母基板の表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質から形成されてもよい。
一方、本実施形態の表示装置の製造方法は、ウィンドウを表示パネル上に結合させる段階をさらに含んでもよい。
本発明によれば、曲面の表面を有するハードコーティング層が形成され、ハードコーティング層とウィンドウの境界に沿ってウィンドウ母基板を切断することによりハードコーティング層には切断面が形成されない表示装置およびこれを製造する方法を提供することができる。したがって、ハードコーティング層の切断面に発生する微細な欠陥を防止することができ、したがって製品の不良発生を減少させ生産収率を向上させることができる。
本発明の一実施形態による表示装置の分解斜視図である。 図1のII−II切開線に沿ってウィンドウとハードコーティング層を切開した断面図である。 図1のIII−III切開線に沿ってウィンドウとハードコーティング層を切開した断面図である。 本発明の一実施形態によるハードコーティング層を拡大した図である。 本発明の一実施形態により、仮想で区画されるウィンドウ領域およびダミー領域を含むウィンドウ母基板を示した図である。 図5のVI−VI切開線に沿って切開されたウィンドウ母基板であって、前記ウィンドウ母基板に第1マスクが配置されて活性表面層を形成することを示した図である。 ウィンドウ母基板に第2マスクが配置されて非活性表面層を形成することを示した図である。 ウィンドウ母基板に形成された活性表面層にハードコーティング層形成物質を塗布した後に硬化させて、ハードコーティング層を形成することを示した図である。 ハードコーティング層が形成されたウィンドウ母基板を切断してウィンドウを形成することを示した図である。
以下、添付された図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。但し、本発明を説明することにおいて、既に公知された機能或いは構成に関する説明は、本発明の要旨を明瞭にするために省略する。
本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分を省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同一な参照符号を付ける。また、図面に示された各構成の大きさおよび厚さは説明の便宜のために任意に示したので、本発明が必ずしも示されたところに限定されるのではない。
図面において様々な層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして図面において説明の便宜のために一部の層および領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分“の上に”または“上に”あるという時、これは他の部分の“直上”にある場合だけでなく、その中間にまた他の部分がある場合も含む。
図1は本発明の一実施形態による表示装置の分解斜視図であり、図2は図1のウィンドウ100およびハードコーティング層200のみをII−II切開線に沿って切開した断面図であり、図3は図1のウィンドウ100およびハードコーティング層200のみをIII−III切開線に沿って切開した断面図である。図4は本発明の一実施形態によるハードコーティング層200を拡大した図である。
図1に示されているように、本発明の一実施形態による表示装置は表示パネル300、ウィンドウ100、活性表面層110およびハードコーティング層200を含む。
本実施形態による表示パネル300は、表示装置によって表示される画像を実際に発生させる。画像を表示する光を発生させるための構造および原理によって本実施形態の表示パネル300の例としては液晶表示パネル300、プラズマ表示パネル300、有機発光表示パネル300のような多様な種類が存在し得るが、これに限定されず、この他にも多様な種類の表示パネル300が本実施形態に適用され得るはずである。また、フレキシブル表示装置に使用されるための表示パネル300はフレキシブルな材質から形成することができる。
この時、本実施形態による表示装置は、タッチパネル400、位相差フィルム500および偏光子600をさらに含むことができる。
タッチパネル400は基板またはフィルムのようなベース基材上にタッチセンサーが形成されるものであって、外部のタッチ圧力を感知することができ、タッチ方式で入力される信号を電気的信号に変換して伝達する信号入力用パネルである。即ち、使用者の接触位置を認知して使用者の命令を入力する入力装置である。
本実施形態のタッチパネル400は表示装置の前面に備えられ、手や物体が接触する位置を把握して入力信号を判断する。タッチパネル400の実現方式としては抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式などがあり、一般には抵抗膜方式と静電容量方式が主に用いられている。
位相差フィルム500は位相差フィルム500を通過する光をλ/4だけ位相遅延させるフィルムであって、位相差フィルム500を通過する直線偏光された光を円偏光された光に変換させることができ、反対に円偏光された光は直線偏光された光に変換させることができる。
偏光子600は偏光軸を有し、表示パネル300を経て外部に出射される光の光軸を変換させる。より具体的に説明すれば、偏光子600を通過する光を偏光軸方向に直線偏光させることができる。
この時、本実施形態によるタッチパネル400はフレキシブル表示装置の薄形化のために、偏光子600を含んで偏光子600と一体型のタッチパネル400として提供され得るが、これに限定されるのではなく、偏光子600とタッチパネル400が別途の構成として存在することが可能であるのはもちろんである。
本実施形態によるウィンドウ100は、表示パネル300を保護するために表示パネル300上に配置され、外部環境から表示装置の内部を遮断して保護する。本実施形態のウィンドウ100は表示パネル300から発生する光が透過されて外部に伝達されるように透明な光学的性質を有しなければならないため、透明な材質のガラスまたはプラスチック材質から形成することができる。
活性表面層110は本実施形態によるウィンドウ100の表面をプラズマまたはコーティングなどのような方式で表面処理して形成される層であって、ウィンドウ100上に形成されるハードコーティング層200の接着力を向上させることができる。
ハードコーティング層200はウィンドウ100上にハードコーティング層200形成物質が塗布された後に硬化されて形成されるものであって、本実施形態によるハードコーティング層200は図1乃至図4に示されているように、硬化された後にも曲面の表面を有する。
曲面の表面を有するハードコーティング層200は、ウィンドウ100との表面エネルギー(surface energy)差による親水性および疎水性の性質と関連がある。
本実施形態による“親水性”とはウィンドウ100の表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する物質の性質と定義することができ、“疎水性”とはウィンドウ100の表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する物質の性質と定義することができる。
本実施形態によるハードコーティング層200が親水性である場合には、ハードコーティング層200が形成されるウィンドウ100の表面が親水性を有するように表面処理して親水性の活性表面層110を形成することができる。逆に、本実施形態によるハードコーティング層200が疎水性である場合には、ハードコーティング層200が形成されるウィンドウ100の表面が疎水性を有するように表面処理して疎水性の活性表面層110を形成することができる。具体的な表面処理方法については以後の表示装置の製造方法に関する説明でより詳しく説明する。
本実施形態の一例として、親水性を有する活性表面層110が形成される場合には、ハードコーティング層200も親水性を有するためにウィンドウ100が有する表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質から形成することができる。
本実施形態のように、ウィンドウ100の表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質のハードコーティング層200が形成される場合にはハードコーティング層200が親水性を有するため、親水性を有するように形成された活性表面層110によってハードコーティング層200形成物質がウィンドウ100上に塗布され、活性表面層110とハードコーティング層200の間の引力と、ハードコーティング層200と大気の間の引力の差によって曲面の表面を有するようになる。したがって、ハードコーティング層200形成物質が塗布された形状そのまま硬化されながら曲面の表面を有するハードコーティング層200を形成することができる。
また、本実施形態の他の例として、疎水性を有する活性表面層110が形成される場合には、ハードコーティング層200も疎水性を有するためにウィンドウ100が有する表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質から形成することができる。
本実施形態の他の例も前述したものと同様に、ウィンドウ100の表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質のハードコーティング層200が形成される場合には、疎水性のハードコーティング層200が形成されるのであるから、疎水性を有するように形成された活性表面層110によってハードコーティング層200形成物質がウィンドウ100上に塗布され、表面張力によって曲面の表面を有するようになる。したがって、ハードコーティング層200形成物質が塗布された形状そのまま硬化されながら曲面の表面を有するハードコーティング層200を形成することができる。
一例として、ウィンドウ100を形成する物質がポリイミド(polyimide、PI)である場合、ポリイミドの表面エネルギーが20(mJ/m)であるので、親水性のハードコーティング層200を形成するためには表面エネルギーが20(mJ/m)を超過する材質を用いて形成することができる。逆に、疎水性のハードコーティング層200を形成するためには表面エネルギーが20(mJ/m)未満である材質を用いて形成することができる。
他の例として、ウィンドウ100を形成する物質がポリエチレンテレフタレート(polyethylene terephthalate)である場合、ポリエチレンテレフタレートの表面エネルギーが38(mJ/m)であるので、親水性のハードコーティング層200を形成するためには表面エネルギーが38(mJ/m)を超過する材質を用いて形成することができる。逆に、疎水性のハードコーティング層200を形成するためには表面エネルギーが38(mJ/m)未満である材質を用いて形成することができる。
ハードコーティング層200を形成する物質の表面エネルギーは、ハードコーティング層200形成物質に混合される界面活性剤の種類および量、ハードコーティング層200形成物質に添加される高分子の官能基(functional group)のような物性を考慮して決定される。
図2乃至図4には曲面の表面を有するハードコーティング層200が形成されたウィンドウ100の断面図が示されている。図2乃至図4に示されているように、本実施形態によるハードコーティング層200は硬化された後にも曲面の表面を維持する。
この時、本実施形態によるハードコーティング層200の表面はウィンドウ100の端部それぞれで0°超過90°未満の接触角を有し得る。図2には図1のII−II切開線に沿ってウィンドウ100とハードコーティング層200を切開した断面図が示されており、図3には図1のウィンドウ100およびハードコーティング層200のみをIII−III切開線に沿って切開した断面図が示されている。
図2に示されているように、長方形形状の断面を有するウィンドウ100を長手方向と平行に切開した両端部それぞれで測定した第1接触角θは0°超過90°未満の大きさを有する。同様に、図3に示されているように、長方形形状の断面を有するウィンドウ100を短手方向と平行に切開した両端部でそれぞれ測定した第2接触角θも0°超過90°未満の大きさを有する。
接触角が0°である場合にはハードコーティング層形成物質によって表面が完全に濡れた状態であって、このような場合にはウィンドウ100に垂直な方向にウィンドウ100を切断する時、ハードコーティング層200に切断面が形成されることがある。したがって、ハードコーティング層200の切断面に微細な欠陥が発生することを防止することができない。
接触角が90°である場合にはハードコーティング層形成物質がウィンドウ100の表面上に完全な半球形に塗布される場合に該当し、このような場合には表面の濡れ性が低くてコーティングが円滑に行われにくい。
従って、本実施形態のハードコーティング層200はウィンドウ100の表面での濡れ性は維持したまま、切断面の形成を防止することができるように0°超過90°未満の接触角を有し得る。
但し、図2および図3にはウィンドウ100が長方形形状の断面を有する場合について示されているが、これは一例に過ぎず、ウィンドウ100の断面の形状とは関係なくウィンドウ100とハードコーティング層200が接触する端部で測定する接触角の大きさが0°超過90°未満であれば本発明の技術的範囲に含まれ得る。
一方、本実施形態によるハードコーティング層200は表示装置の中心で最も高い厚さを有し、表示装置の端部に行くほど次第に厚さが薄くなる。より具体的に説明すれば、本実施形態の表示装置の中心ではウィンドウ100表面とハードコーティング層200表面の間の高さ差が最も大きく、表示装置の端部に行くほどウィンドウ100表面とハードコーティング層200表面の間の高さ差が次第に減少し表示装置の端部に至っては0に近い高さ差を有し得る。従って、本実施形態によるハードコーティング層200は断面の形状とは関係なくドーム形状に形成することができる。
本実施形態のように、曲面の表面を有するハードコーティング層200がウィンドウ100上に形成される場合にはウィンドウ100の端部を切断する場合、切断工程でウィンドウ100またはハードコーティング層200の切断面に微細な欠陥が発生することを防止することができる。したがって、製品の不良発生を減少させて生産収率を向上させることができる。
一方、本発明の他の実施形態によれば、ウィンドウ母基板Mを準備する段階、活性表面層110を形成する段階、第1マスク10除去段階、ハードコーティング層200形成物質塗布段階、ハードコーティング層200形成段階およびウィンドウ100を形成する段階を含む表示装置の製造方法が提供される。
図5は、本発明の一実施形態により、仮想で区画されるウィンドウ領域Wおよびダミー領域Dを含むウィンドウ母基板Mを示した図である。図5に示されているように、ウィンドウ母基板Mを準備する段階は、ウィンドウ領域Wおよびウィンドウ領域Wの周囲に形成されるダミー領域Dを含むウィンドウ母基板Mを準備する段階である。
以後遂行される切断工程によってウィンドウ母基板Mからダミー領域Dが除去され、それぞれのウィンドウ100が形成される。この時、ウィンドウ100またはウィンドウ100上に形成されるハードコーティング層200の切断面には切断工程によって微細な欠陥が発生することがある。本実施形態による表示装置の製造方法はこのような欠陥の発生を防止するために活性表面層110を形成する段階を含む。
図6は、図5のVI−VI切開線に沿って切開されたウィンドウ母基板であって、前記ウィンドウ母基板に第1マスクが配置されて活性表面層を形成することを示した図である。図6に示されているように、活性表面層110を形成する段階は、以後遂行されるハードコーティング層200形成段階でウィンドウ領域Wに対応する領域にのみハードコーティング層200が形成されるようにウィンドウ領域Wに対応するウィンドウ母基板Mの表面に活性表面層110を形成する段階である。
本実施形態によれば、活性表面層110を形成する段階ではウィンドウ領域Wに対応する領域が開放された第1マスク10をウィンドウ母基板M上に配置し、第1マスク10によって開放されたウィンドウ母基板M上の表面を処理することによって活性表面層110を形成することができる。
活性表面層110が形成された後に第1マスク10を除去する段階が行われる。
図7は、ウィンドウ母基板に第2マスクが配置されて非活性表面層を形成することを示した図である。本実施形態によれば、第2マスク20を用いて非活性表面層120を形成する段階および第2マスク20を除去する段階をさらに含むことができる。
非活性表面層120を形成する段階は、本実施形態により仮想的に区画されるウィンドウ領域Wとダミー領域D上の物性の差をさらに大きくして、以後遂行されるハードコーティング層200形成段階がより円滑に行われるようにする。
図7に示されているように、非活性表面を形成する段階ではダミー領域Dに対応する領域が開放された第2マスク20をウィンドウ母基板M上に配置し、第2マスク20によって開放されたウィンドウ母基板M上の表面を処理することによって非活性表面層120を形成することができる。
図7には本実施形態の一例として、活性表面層110が形成された後、第2マスク20を配置し非活性表面層120を形成する段階が行われる図が示されているが、これに限定されるのではなく、非活性表面層120が先に形成された後に活性表面層110が形成されてもよい。
非活性表面層120が形成された後に第2マスク20を除去する段階が行われる。
本実施形態により活性表面層110と非活性表面層120を形成するためのウィンドウ母基板M上の表面処理方法は、ウィンドウ100の表面エネルギーとハードコーティング層200の表面エネルギーを考慮して、活性表面層110と非活性表面層120を親水性の表面として形成するかまたは疎水性の表面として形成するかどうかによって決定される。
本実施形態によれば、活性表面層110は親水性と疎水性のうちのいずれか一つの性質を有するように表面処理することができ、非活性表面層120は親水性と疎水性のうちの活性表面層110とは異なる一つの性質を有するように表面処理することができる。
一例として、活性表面層110が親水性を有するように表面処理される場合には非活性表面層120は疎水性を有するように表面処理される。他の例として、活性表面層110が疎水性を有するように表面処理される場合には非活性表面層120は親水性を有するように表面処理される。
本実施形態により親水性または疎水性を有するようにウィンドウ母基板M上の表面を処理するためにはプラズマ工程またはコーティング方法を用いることができる。但し、これに限定されるのではなく、この他にも親水性または疎水性を有するように表面を処理する方法であれば本発明の技術的範囲に含まれ得る。
親水性の表面を形成するために活性表面層110または非活性表面層120の表面を処理する方法の一例として、空気、窒素(N)、酸素(O)、二酸化炭素(CO)、一酸化炭素(CO)および過酸化水素(H)を含む群より選択される一つ以上の気体を用いてウィンドウ母基板Mの表面をプラズマ処理することができる。
または、親水性の表面を形成するために活性表面層110または非活性表面層120の表面を処理する方法の他の一例として、親水性基を含む官能基を有する液状物質を用いてウィンドウ母基板Mの表面をコーティングする方法を用いることができる。
一方、疎水性の表面を形成するために活性表面層110または非活性表面層120の表面を処理する方法の一例として、CH、CF、SF、NF、CおよびHFC−134aを含む群より選択される一つ以上の気体を用いてウィンドウ母基板Mの表面をプラズマ処理することができる。
または、疎水性の表面を形成するために活性表面層110または非活性表面層120の表面を処理する方法の他の例として、疎水性基を含む官能基を有する液状物質を用いてウィンドウ母基板Mの表面をコーティングする方法を用いることができる。
図8は、ウィンドウ母基板に形成された活性表面層にハードコーティング層形成物質を塗布した後に硬化させて、ハードコーティング層を形成することを示した図である。図8に示されているように、ウィンドウ母基板M上に活性表面層110または非活性表面層120まで形成された後に、ハードコーティング層200を形成するためのハードコーティング層200形成物質を活性表面層110上に塗布する段階を遂行することができる。
ハードコーティング層200形成物質は前述のように、ウィンドウ母基板Mとの表面エネルギー差によって決定される。
活性表面層110の表面が親水性を有する場合には、ハードコーティング層200形成物質はウィンドウ母基板Mの表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質から形成することができる。逆に、非活性表面層120の表面が疎水性を有する場合には、ハードコーティング層200形成物質はウィンドウ母基板Mの表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質から形成することができる。
ハードコーティング層200形成物質が塗布された後に、これを硬化させて曲面の表面を有するハードコーティング層200を形成する段階が遂行される。本実施形態によるハードコーティング層200形成物質は曲面の表面を維持したまま硬化されて曲面の表面を有するハードコーティング層200を形成する。
曲面の表面を有するハードコーティング層200は、前述のように、ウィンドウ100の端部それぞれで0°超過90°未満の接触角を有し、表示装置の中心で最も高い厚さを有し、表示装置の端部に行くほど次第に厚さが薄くなってドーム形状に形成することができる。
ハードコーティング層200が硬化された後には、ウィンドウ母基板Mを切断してウィンドウ100を形成する段階を遂行することができる。図9はハードコーティング層が形成されたウィンドウ母基板を切断してウィンドウを形成することを示した図であって、図9によれば、ウィンドウ母基板Mからダミー領域Dとウィンドウ領域Wの境界に沿って切断してウィンドウ100を形成することができる。
本実施形態によれば、ハードコーティング層200の表面が曲面で形成され、特に、前述のように本実施形態のハードコーティング層200はウィンドウ100の端部それぞれで0°超過90°未満の接触角を有するか、ドーム形状に形成されるため、ウィンドウ100の表面にのみ切断面が形成され、ハードコーティング層200には切断面が形成されないことが可能である。したがって、ウィンドウ母基板Mの切断によって形成されるハードコーティング層200の切断面に微細な欠陥が発生することを防止することができる。
一方、本実施形態による表示装置の製造方法は、ウィンドウ100を表示パネル300上に結合させる段階をさらに含むことができる。表示パネル300が付着されたウィンドウ母基板M上に表面処理を行い、これを切断して表示装置を完成してもよいし、ウィンドウ母基板Mに表示パネル300を付着した後にウィンドウ母基板Mの表面を表面処理した後これを切断してもよい。すなわち、表示パネル300の付着およびウィンドウ母基板Mの切断の間の順序とは関係なく本発明の技術的範囲に含まれ得る。また、これに限定されるのではなく、この他にも多様な実施形態が可能であり、表示パネル300の付着およびウィンドウ母基板Mの切断工程が含まれている表示装置の製造方法であれば、本発明の技術的範囲に含まれ得るはずである。
以上では本発明の一実施形態による表示装置および本発明の他の実施形態による表示装置の製造方法について説明した。本実施形態によれば、曲面の表面を有するハードコーティング層200が形成され、ハードコーティング層200とウィンドウ100の境界に沿ってウィンドウ母基板Mを切断することによってハードコーティング層200には切断面が形成されないことが可能である。したがって、ハードコーティング層200の切断面に発生される微細な欠陥を防止することができ、これにより製品の不良発生を減少させて生産収率を向上させることができる。
前述で、本発明の特定の実施形態が説明され図示されたが、本発明は記載された実施形態に限定されるのではなく、本発明の思想および範囲を逸脱せず多様に修正および変形することができるのはこの技術分野における通常の知識を有する者に自明なことである。したがって、そのような修正例または変形例は本発明の技術的思想や観点から個別的に理解されてはならないし、変形された実施形態は本発明の特許請求の範囲に属するものと理解しなければならない。
10 第1マスク
20 第2マスク
100 ウィンドウ
110 活性表面層
120 非活性表面層
200 ハードコーティング層
300 表示パネル
400 タッチパネル
500 位相差フィルム
600 偏光子
1000 表示装置
M ウィンドウ母基板
W ウィンドウ領域
D ダミー領域
θ 第1接触角
θ 第2接触角

Claims (9)

  1. 表示パネルと、
    前記表示パネル上に配置され、前記表示パネルを保護するウィンドウと、
    前記ウィンドウ上に形成される活性表面層と、
    前記活性表面層上に形成され、表面が曲面であるハードコーティング層とを含む表示装置であって、
    前記表示装置の中心における前記ハードコーティング層の厚さが前記表示装置の端部における前記ハードコーティング層の厚さより厚
    前記ハードコーティング層は前記表示装置の中心で最も高い厚さを有し、前記表示装置の端部に行くほど前記ハードコーティング層の厚さが次第に薄くなっており、これにより、前記ハードコーティング層の表面の全体が滑らかに湾曲して突出する曲面をなす、表示装置。
  2. 前記活性表面層は親水性を有し、
    前記ハードコーティング層は、前記ウィンドウの表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質から形成される、請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記活性表面層は疎水性を有し、
    前記ハードコーティング層は、前記ウィンドウの表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質から形成される、請求項1に記載の表示装置。
  4. ウィンドウ領域および前記ウィンドウ領域の周囲に形成されるダミー領域を含むウィンドウ母基板を準備する段階と、
    前記ウィンドウ領域に対応する領域が開放された第1マスクを前記ウィンドウ母基板上に配置し、前記ウィンドウ領域に対応する前記ウィンドウ母基板の表面を処理して活性表面層を形成する段階と、
    前記第1マスクを除去する段階と、
    ハードコーティング層形成物質を前記活性表面層上に塗布する段階と、
    前記ハードコーティング層形成物質を硬化させて、曲面の表面を有するハードコーティング層を形成する段階と、
    前記ウィンドウ母基板から前記ダミー領域と前記ウィンドウ領域を切断してウィンドウを形成する段階とを含む、表示装置の製造方法であって、
    前記の曲面の表面を有するハードコーティング層は、厚さが、前記表示装置の中心にて、前記表示装置の端部におけるよりも大き
    前記ハードコーティング層は前記表示装置の中心で最も高い厚さを有し、前記表示装置の端部に行くほど前記ハードコーティング層の厚さが次第に薄くなっており、これにより、前記ハードコーティング層の表面の全体が滑らかに湾曲して突出する曲面をなす表示装置の製造方法。
  5. 前記ダミー領域に対応する領域が開放された第2マスクを前記ウィンドウ母基板上に配置し、前記ダミー領域に対応する前記ウィンドウ母基板の表面を処理して非活性表面層を形成する段階と、
    前記第2マスクを除去する段階とをさらに含む、請求項に記載の表示装置の製造方法。
  6. 前記活性表面層は親水性および疎水性のうちのいずれか一つの性質を有するように表面処理され、
    前記非活性表面層は親水性および疎水性のうちの前記活性表面層とは異なる性質を有するように表面処理される、請求項に記載の表示装置の製造方法。
  7. 前記活性表面層の表面は親水性を有し、前記ハードコーティング層形成物質は前記ウィンドウ母基板の表面エネルギーより高い表面エネルギーを有する材質から形成される、請求項に記載の表示装置の製造方法。
  8. 前記活性表面層の表面は疎水性を有し、前記ハードコーティング層形成物質は前記ウィンドウ母基板の表面エネルギーより低い表面エネルギーを有する材質から形成される、請求項に記載の表示装置の製造方法。
  9. 前記ウィンドウを表示パネル上に結合させる段階をさらに含む、請求項に記載の表示装置の製造方法。
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