TWI595148B - 高溫蒸汽產生器之混合式水處理法 - Google Patents

高溫蒸汽產生器之混合式水處理法 Download PDF

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Description

高溫蒸汽產生器之混合式水處理法
本發明是有關蒸汽產生方法與蒸汽產生系統。
在蒸汽產生器技藝中，有一個考慮的事是與蒸汽接觸之鋼管或其他鋼組件的腐蝕。於較高蒸汽溫度將增進腐蝕問題。用於減少腐蝕之習知方法為水加氧處理(oxygenated water treatment,OWT)。參見，例如Steam：Its Generation and Use，第41版，由J.B.Kitto及S.C.Stultz(The Babcock & Wilcox Company,Barberton,Ohio,USA © 2005)編輯，在此以引用的方式將其全文併入以供參考。
關於該OWT方法之問題會於較高溫度出現，其增進蒸汽氧化作用造成該過熱器和再熱器吊架內表面上的氧化物生長。當該氧化物變得夠厚時，該氧化物之外層傾向於冷卻期間自管內徑(ID)表面成大片剝落。OWT縮減氧化物剝落之臨界厚度。剝落物會在後續煮沸器重啟動的期間累積於彎管並阻塞蒸汽流徑。此阻塞現象降低蒸汽之冷卻效應且會導致過熱管失效。
現代處理運用OWT之蒸汽產生器中之氧化物剝落問題的方法包括：(1)將該過熱器和再熱器吊架升級成更耐氧化之合金；(2)更常關閉該等煮沸器，隨後在重啟動之前吹送蒸汽以自管迴路清理該剝落物；(3)使用X-射 線及/或磁鐵以測定彎管中之阻塞量，隨後實質切斷管迴路以清理該剝落物；及(4)處理該管ID以提高該管表面之耐氧化性。這4種解決方法中之二或多者有時候一起運用以處理該氧化物剝落問題。這4種方法任何者之實行既昂貴又耗時。方法(2)及(3)把焦點對準累積於該等管迴路中之氧化物剝落物的物理移除，而方法(1)及(4)改善管表面化學以除去過多的氧化。
在本揭示內容之一方面中，所揭示的方法包含：使用包括鋼管之蒸汽產生器進行包括水相及蒸汽相的蒸汽產生反應；在該水相中施以水加氧處理將該水轉化成氧化性化學；及在該蒸汽相中施以還原性水處理，該還原性水處理將該蒸汽轉化成較低氧化態化學或還原性化學。
在本揭示內容之另一方面中，所揭示的設備包含：蒸汽產生器，其包括準備運送所產生之蒸汽的蒸汽側鋼管；及調溫器或其他經裝配以將另包括除氧劑添加物之水和蒸汽的至少一者注入該蒸汽側鋼管之注射裝置。
在本揭示內容之另一方面中，所揭示的蒸汽產生方法包含：給水加氧以產生帶氧化性化學之水；將該帶氧化性化學之水轉化成帶氧化性化學之蒸汽；及，經過該轉化步驟之後，將除氧劑加至該帶氧化性化學之蒸汽以產生帶較低氧化性或還原性化學之蒸汽。
在本揭示內容之另一方面中，所揭示的蒸汽產生系統 包含：經裝配以產生具有氧化性化學之水的水加氧處理(OWT)子系統；經裝配以將該具有氧化性化學之水轉化成具有氧化性化學之蒸汽的蒸汽產生子系統；經裝配以將除氧劑加至該具有氧化性化學之蒸汽以產生具有較低氧化性或還原性化學之蒸汽的注射器；及經裝配以使該具有較低氧化性或還原性化學之蒸汽凝結成冷凝水的冷凝器。
對照第1圖，顯示用於自然循環筒型蒸汽產生器之例示性水/蒸汽循環系統8。在該循環系統8中，供水進入節熱器10之入口管集箱A並依反向向上通往煙道氣的下行流。將水集中於管集箱B中，該管集箱B也任意設置於該煙道氣流中。該水接著流過將該節熱器10之管集箱B連至蒸汽筒20的管道或管路。在該例示性結構中，垂直管道14自該管集箱B垂直行經對流通道16(第1圖中藉由虛線以圖解表示，該虛線表示該對流通道16之左壁及下方部分)達到一或多個位於該蒸汽產生器頂部之節熱器出口管集箱C。在此結構中，該等管集箱B及C之間的垂直管道14可合宜作為其他元件例如例示水平主過熱器18及/或再熱器(未例示)之水冷式支撐件。來自該出口管集箱C之水係輸送至入口D的蒸汽筒20中。沿著含點A、B、C、D之途徑的流體迴路適宜攜帶水。
於該蒸汽筒20處，該水於離開該蒸汽筒20之降流管入口處進入降流管22之前與蒸汽-水分離器排出之水混合。 該降流管22之出口E包含分配歧管24，該分配歧管24將該水分配於將水輸送至管道(如水壁)入口F之供應管道或管路26，或另一個配置於熔爐30中或周圍之流體導管28中。注意在圖解之第1圖中，將該熔爐30左側繪成以圖解顯示流體導管28，而該熔爐30右側利用虛線32以圖解繪成。實際上，該流體導管28典型完全配置於該熔爐30周圍或實質圍繞該熔爐30之周邊。附帶或選擇性地，預期該導管28之一部分或全部一般能向上通往該熔爐30四周。例如，在一替代方案中該導管28包括向上延伸於該熔爐30四周之螺旋纏繞管。
該熔爐30運用適合之熱源，如在燃煤蒸汽產生器案例中的煤燃燒、在燃氣蒸汽產生器案例中的天然氣或在燃油蒸汽產生器案例中的燃油。更常地，該熔爐30可藉由任何能產生熱之可燃性材料的燃燒加熱以提高該流體導管28中之流體的焓。
反覆地說，該水往下流過該降流管22達到該熔爐30底部之分配歧管24，其中該歧管24及供應管26將該循環水發送並分配至下方熔爐板牆管集箱或該導管28之其他入口F。該水透過該導管28升高穿過爐壁，在亞臨界壓力筒型煮沸器或蒸汽產生器中，將該水轉換成兩相(水/蒸汽)混合物，該混合物於該流體導管28之出口管集箱G處離去。該兩相水/蒸汽混合物係透過升管34自該出口管集箱G輸送並排放至該蒸汽筒20中，蒸汽-水分離器在該蒸汽筒20中運轉以分離該兩相混合物之蒸汽及水組份。此分離使實質 不含蒸汽之水返回該降流入口連接件D。
在輔助蒸汽分離器(細部未例示)中移除離開該蒸汽筒20之主蒸汽分離裝置的蒸汽中之剩餘水分，並透過多個筒出口連接件H將乾燥蒸汽排放至該過熱器18，該等筒出口連接件H在第1圖中包括連至例示性管集箱I和例示性管集箱J之例示性連接件。在該蒸汽筒20之出口連接件H下游的蒸汽迴路將該對流通道外殼16冷卻，並產生過熱蒸汽條件。來自該蒸汽筒20之出口H的蒸汽通過多個連接件達到供應頂部管道之管集器I並，分開地，達到供應側面對流通道40(因為該等過熱器/再熱器垂直管道吊在上述支撐件而如此稱之)之薄膜面板(membrane panel)的管集器J。該蒸汽流過這些薄膜面板達到出口管集箱K。來自這些出口管集箱K及頂部管道出口管集箱L之蒸汽接著提供冷卻作用給該對流通道外殼16(其有時被稱作水平對流通道16，因為該過熱器18、節熱器10及再熱器(未顯示)之管道在此煙道氣下行時係為水平)。蒸汽向下流過管道42提供冷卻作用給該對流通道外殼16，並集中於該節熱器組10正上游(就煙道氣流動方向來看)之出口管集箱M中。
蒸汽流接著進入並向上升起穿過該主過熱器18，並透過攜帶過熱蒸汽流之出口管集箱N和連接管路44排放。該管路44中包括噴霧調溫器50。調溫器為藉由加水或較低溫蒸汽於該過熱蒸汽流中而以可控制方式將該過熱蒸汽冷卻之裝置。該過熱蒸汽，在經由該調溫器50控制溫度下降之後，接著進入入口管集相P，該入口管集相P饋入52以圖解 表示之輔助過熱器中。該過熱蒸汽流過該輔助過熱器段52達到出口管集箱Q。儘管第1圖中例示一個調溫器50及一個輔助過熱器段52，但是可任意提供二或多個輔助過熱段，並任意提供二或多個調溫器，例如調溫器介於各自過熱段之間，以提供於所欲的提高且控制溫度之過熱蒸汽。最終出口管集箱Q將該過熱蒸汽輸送至排放出口R。該排放出口R處所輸送之過熱蒸汽饋入一或多個通往該煮沸器或蒸汽產生器外殼(未顯示)外側的蒸汽管線54以與適合載入器(如帶控制閥56之例示渦輪)連接，如可適當用於蒸汽產生器之案例中，該蒸汽產生器係用於產生電力。
該蒸汽自該載入器之下游返回該蒸汽產生器。冷凝器60移除任何剩餘之過量熱以致於使該蒸汽凝結成水，該水形成進入該底部管集箱A之供水，因此完成該水/蒸汽循環系統8之封閉循環迴路。提供補給水62以補償任何流失之流體。在選擇性具體實施例中，該蒸汽產生器在完全開放之流體循環中運轉，其中該冷凝器60之輸出並未反饋回該蒸汽產生器中，及取而代之地該供水全部由外部供水提供。
第1圖之水/蒸汽循環系統8為簡化之例示性實例。該例示性水/蒸汽循環系統8為包括過熱器18、52之天然循環亞臨界蒸汽產生器；然而，所揭示之水處理技術也適於單程亞臨界壓力蒸汽產生器系統。該例示性系統8運用天然循環，但是也考慮經由適當泵吸之輔助循環或強制循環蒸汽產生器系統。第1圖之蒸汽產生器僅為例示性實例，且 可藉由另一類型之蒸汽產生器予以替換。該蒸汽產生之熱源可不相同，例如經由燃燒或煤、氣體、油或其他可燃性燃料。許多附帶或其他組件均可為了特定應用而適度添加，及/或所述之組件可依不同構型設置。例如，儘管第1圖例示之蒸汽產生器不包括再熱器，但是本揭示內容之概念也適用於包括一或多段再熱器的蒸汽產生器。在這樣的應用中，噴霧調溫器典型被裝設於此再熱器之入口以供再加熱蒸汽溫度控制。例如，Steam：Its Generation and Use，第41版，由J.B.Kitto及S.C.Stultz(The Babcock & Wilcox Company,Barberton,Ohio,USA © 2005)編輯，中有描述多種不同蒸汽產生器及蒸汽產生系統，在此以引用的方式將其全文併入以供參考。
第1圖之水/蒸汽循環系統8另包括水加氧處理(OWT)子系統70。此子系統防止該鋼管或其他與該水或蒸汽接觸之鋼的腐蝕。該OWT方法係依據下列觀察結果完成，在沒有雜質存在下，氧會形成比在不含氧之條件下形成者更不易溶的保護性氧化鐵。該OWT子系統70於供水中建立經控制之氧濃度。為了有效形成保護性氧化鐵，該供水應該具有高純度。例如，在一些具體實施例中該供水進行該OWT處理時於25℃時具有低於0.15μS/cm之陽離子傳導度。該OWT子系統70將低濃度氧加至該供水。在一些具體實施例中，該目標氧濃度介於約0.040ppm與0.150ppm之間，但是預期較高或較低氧濃度也可行。與類似煮沸器運轉而不用OWT時相比該供水pH會被降低。關於其他OWT方法 的其他描述，參見，例如Steam：Its Generation and Use，第41版，由J.B.Kitto及S.C.Stultz(The Babcock & Wilcox Company,Barberton,Ohio,USA © 2005)編輯，在此以引用的方式將其全文併入以供參考。
不受任何特定操作理論限制，咸信：(i)該OWT子系統70所提供之OWT在冷卻的期間提高該等過熱器元件18、52或任何再熱器等等之ID表面上所形成的氧化物中之壓縮應力；及(ii)這些提高之壓縮應力傾向於造成該外部氧化物層更容易成大片剝落。這些薄片易於阻塞該等彎管並在其後煮沸器重啟動的期間造成過熱故障。咸信其他應力乃由磁鐵礦層(常被稱作該表面氧化物之外層)及尖晶石層(常被稱作該表面氧化物之內層)上之赤鐵礦相的形成產生。比較下方之氧化物及鋼基材，該赤鐵礦具有低熱膨脹係數。因此，在冷卻的期間其於該鋼上之氧化物中產生大壓縮應力並迫使外部氧化物層(包括該赤鐵礦)自該內部氧化物層呈較大片剝落。在於較高溫度運轉之蒸汽產生器中，較高蒸汽溫度增加蒸汽氧化作用在該過熱器及再熱器吊架之內表面上的氧化物生長，並增加整體加熱/冷卻溫度變動，因此導致成較大平均薄片尺寸之快速剝落。據發現OWT所引起之剝落的臨界氧化物厚度比其他耐腐蝕處理方法如全揮發性處理(AVT)薄許多。結果，在現存蒸汽產生器中該OWT所獲得之減少該供水管路中的腐蝕及爐壁管道中的沉積之效益得犧牲該OWT造成之高溫過熱器及再熱器管段增加氧化物剝落及阻塞的問題。
如文中所揭示，為了降低或排除該OWT造成之增加氧化物剝落及阻塞問題的缺點，文中揭示運用在蒸汽相中之另一種水處理方法。該揭示方法經由該OWT子系統70應用OWT於供水(或，更常地，水相中)以提供帶氧化性化學之水。該帶氧化性化學之水係轉化成也具有氧化性化學的蒸汽(及任意過熱蒸汽)。然而，於該蒸汽相某個點將除氧劑，如肼及/或二胺脲(carbohydrazide)，引至該等蒸汽迴路。為了製造帶較低氧化性或還原性化學之蒸汽，該除氧劑由於該OWT處理而清除存在於蒸汽中之氧。
繼續對照第1圖，有一個適合之具體實施例中經由一或多個調溫器引進該除氧劑。在此例示性具體實施例中，該噴霧調溫器50使用能提供包括除氧劑之水或蒸汽的來源72進行調溫。該噴霧調溫器50因此在該蒸汽進入該入口管集箱P饋入該輔助過熱器52之前將將該除氧劑引進蒸汽中。在包括多個帶有多個調溫器之過熱元件及/或再熱元件的更複雜蒸汽迴路中，該等調溫器之一、二或多者可被調整以傳送包括除氧劑添加物的調溫水或蒸汽。
有利地，該調溫器50係為了將水注入該蒸汽迴路而配置之現存系統組件。因此，引進該除氧劑之調整只需要調節供入該調溫器50的調溫水。然而，也可考慮附帶或選擇性地經由另一個或多個注射裝置將該除氧劑引進該蒸汽迴路，該注射裝置可任意包括供引進該除氧劑之單獨目的用的專用注射裝。
該除氧劑之添加在具有較低氧化性，或甚至還原性化 學之除氧劑注射點下游製造蒸汽。不受任何特定操作理論限制，咸信該較低氧化性或還原性蒸汽條件抑制該氧化物表面上之赤鐵礦相形成並因此減少煮沸器循環及關機引起的應力累積。降低該氧化物中之這些殘餘應力抑制外部氧化物層在冷卻期間剝落的趨勢，因此降低或排除與剝落相關之阻塞。此較低氧化性或還原性化學係存在於該蒸汽迴路之除氧劑注射點下游所有的點。因此，在該例示性實例中，流過該輔助過熱器52之蒸汽具有較低氧化性或還原性化學，因而不可能造成過多氧化物剝落及掉落，其對於下游(就蒸汽流動方向來看)渦輪56及再熱器(未顯示)也是有利的。
該除氧劑可實質為任何自蒸汽清除氧之添加物並可與該除氧劑注入的高溫蒸汽環境相容。在一些具體實施例中該除氧劑包含肼。在一些具體實施例中該除氧劑包含二胺脲。在一些具體實施例中該除氧劑包含肼為底之除氧劑。在一些具體實施例中該除氧劑包含醯胺為底之除氧劑。也可考慮肼及/或另一種肼為底之除氧劑及/或二胺脲及/或另一種醯肼為底之除氧劑的組合。該除氧劑添加物之濃度應該足以提供所欲的較低氧化性或還原性化學。例如，若經過OWT之後該水(及因而還有轉化之蒸汽)具有約0.100ppm的氧濃度，則該除氧劑添加物應該足以實質清除所有這樣之氧，例如應該具有約0.100(x)ppm的濃度，其中x為添加之除氧劑容許不完全清除的倍數因子。在一些特定案例中，x=1可能是適合的。
具有較低氧化性或還原性化學之蒸汽流過該注射點下游(也就是說，在例示性具體實施例中之噴霧調溫器50下游)的蒸汽迴路且最終呈水集中於該冷凝器。在一些具體實施例中，該除氧劑比水更易揮發並在凝結期間保持於氣相中。這是，例如，關於肼或二胺脲之案例。因而，該更易揮發之除氧劑在凝結期間保持於氣相中並經由具有適合洗滌力之排氣口74自該系統洩掉以供安全容納或處理該氣相除氧劑。在一些具體實施例中，以活性碳為底之洗滌器適合用以容納該氣相除氧劑。冷凝水屆時實質不含該除氧劑，並被輸入該OWT子系統70，水在該OWT子系統70中再度依先前所述進行OWT以完成此循環。
若該除氧劑以水於該冷凝器60處部分或全部凝結，接著運用適合之液相過濾或處理以在輸入該OWT子系統70之前自該冷凝水移除該液相除氧劑。
在該冷凝水沒反饋至該蒸汽產生器之具體實施例中，實質任何適合之安全處置方法均可用以容納或使該氣相及/或液相除氧劑變成無害。
此揭示之水處理需要添加除氧劑的部分與傳統全揮發性處理(AVT)具有一些類似度。參見，例如Steam: Its Generation and Use，第41版，由J.B. Kitto及S.C. Stultz(The Babcock & Wilcox Company,Barberton,Ohio,USA 2005)編輯，第42章，在此以引用的方式將其全文併入以供參考。在AVT中，沒有加氧至該供水而是相反地添加除氧劑至該供水以清除任何可能存在之殘餘氧。AVT之目標在於排除遍及水及蒸汽迴路的氧。與OWT相比，在該AVT中該磁鐵礦表面上之赤鐵礦相實質較少，或甚至不見，及這造成冷卻時該氧化物中之殘餘應力累積較慢。與該OWT相比，較慢之應力累積使該外部氧化層能在剝落開始之前實質長得較厚。此外，較慢之應力累積將減少各個冷卻事件時發生的氧化物剝落量，因此製造具有較不易阻塞該管道之較小薄片。因此，與OWT相比，運用該AVT水處理之蒸汽產生器典型經歷該過熱器及再熱器管道起因於氧化物剝落之實質降低的阻塞。另一方面，與OWT相比，該AVT於抑制該供水管中之腐蝕及該爐壁管道28中之沉積時實質較沒效。
文中揭示之水處理運用該水迴路進行的OWT。就抑制該水迴路中及該蒸汽迴路低溫部位之腐蝕及沉積的觀點來看這能提供OWT之實質益處。在此例示性實例中除氧劑係於其後經由該噴霧調溫器50或其他配置於該蒸汽迴路高溫部位52上游之蒸汽迴路中的注射裝置加於該蒸汽相中。該添加之除氧劑係於足以大幅或完全清除該OWT所添加的氧之濃度。例如，若該氧濃度由於該OWT而介於約0.040 ppm與0.150 ppm之間，則被注入該蒸汽相之除氧劑濃度足以清除大部分或所有此氧。這在該除氧劑注射點下游創造“似AVT的”條件，其抑制當利用具有氧化性化學之蒸汽運轉時最有可能氧化剝落之蒸汽迴路高溫部位中與氧化物剝落相關之阻塞。
對照第2圖，說明包括該揭示之水處理方法的蒸汽產生方法。第2圖之方法可利用實質上任何類型之包括鋼管的蒸汽產生器有效地進行。在操作100中，進行該OWT方法以產生具有氧化性化學之水102。在操作104中，將此水轉化成具有氧化性化學之蒸汽106。
在操作110中，將該蒸汽過度加熱，並在操作112中對該過熱蒸汽進行調溫以降低溫度。在該調溫操作112中，也添加除氧劑114，以便形成於所欲之控制溫度且帶較低氧化性或還原性化學之過熱蒸汽116。
任意地，進行第二過熱階段，其包括第二過熱操作120及也任意運用除氧劑添加物124(與該除氧劑114相比，其一般可為相同添加物或不同添加物)之第二調溫操作122，以便製造具有還原性化學之最終工作蒸汽126。任意地，進行第三或更多過熱階段(未例示)。選擇性地或附帶地，可進行一或多個再加熱階段。該除氧劑可於任何調溫操作時添加。在一些具體實施例中可依此方式完成有用之取捨，以致於該蒸汽迴路之中間階段具有不定程度的蒸汽化學以便以氧化性蒸汽化學所提供之耐腐蝕性相對於較低氧化性或還原性蒸汽化學所提供之降低剝落作取捨。
將該最終工作蒸汽126用於一或多個有益之操作130中，如藉由驅動電動設備之渦輪。因為這樣的操作需要蒸汽之冷卻，所以該等有益操作130之後最終蒸汽132可為蒸汽或過熱蒸汽132。在任一案例中，該最終蒸汽132係於冷凝操作140中凝結以製造冷凝水142，任意將該冷凝水142反饋回該OWT操作100(如例示)。該冷凝操作140也製造包括該除氧劑之排氣產物144。(這假設該蒸汽凝結成水之後該除氧劑揮發性使其能實質保持於氣相中)。該等排氣產物144進行洗滌操作146，如所示或其他處理以容納或使該等排氣產物144變得安全。
前面已經例示並描述較佳具體實施例。很顯然地，藉著閱讀及理解前文已細述之描述能進行多種修飾及變化。吾人企圖將本發明視為包括在後附申請專利範圍或其等效案之範圍所及的所有修飾及變化。
A．．．入口管集箱
B．．．管集箱
C．．．節熱器出口管集箱
D．．．降流入口連接件
E．．．降流管之出口
F．．．管道入口
G．．．流體導管之出口管集箱
H．．．筒出口連接件
I．．．管集箱
J．．．管集箱
K．．．出口管集箱
L．．．頂部管道出口管集箱
M．．．出口管集箱
N．．．出口管集箱
P．．．入口管集相
Q．．．出口管集箱
R．．．排放出口
8．．．水/蒸汽循環系統
10．．．節熱器
14．．．垂直管道
16．．．對流通道
18．．．水平主過熱器
20．．．蒸汽筒
22．．．降流管
24．．．分配歧管
26．．．供應管
28．．．流體導管
30．．．熔爐
32．．．熔爐右側
34．．．升管
40．．．側面對流通道
42．．．管道
44．．．連接管路
50．．．噴霧調溫器
52．．．輔助過熱器
54．．．蒸汽管線
56．．．控制閥
60．．．冷凝器
62．．．補給水
70．．．水加氧處理子系統
72．．．帶除氧劑之水源
74．．．排氣口
本發明可採取多種不同組件和組件配置及多種不同工藝操作和工藝操作配置的形式。該等圖形僅為了例示較佳具體實施例的目的且不得視為限制本發明。
第1圖以圖解顯示運用文中所揭示之水處理的例示性蒸汽產生器水/蒸汽循環系統；及
第2圖以圖解顯示用於文中所揭示之蒸汽產生器水/蒸汽循環系統的水處理方法。
A‧‧‧入口管集箱
B‧‧‧管集箱
C‧‧‧節熱器出口管集箱
D‧‧‧降流入口連接件
E‧‧‧降流管之出口
F‧‧‧管道入口
G‧‧‧流體導管之出口管集箱
H‧‧‧筒出口連接件
I‧‧‧管集箱
J‧‧‧管集箱
K‧‧‧出口管集箱
L‧‧‧頂部管道出口管集箱
M‧‧‧出口管集箱
N‧‧‧出口管集箱
P‧‧‧入口管集相
Q‧‧‧出口管集箱
R‧‧‧排放出口
8‧‧‧水/蒸汽循環系統
10‧‧‧節熱器
14‧‧‧垂直管道
16‧‧‧對流通道
18‧‧‧水平主過熱器
20‧‧‧蒸汽筒
22‧‧‧降流管
24‧‧‧分配歧管
26‧‧‧供應管
28‧‧‧流體導管
30‧‧‧熔爐
32‧‧‧熔爐右側
34‧‧‧升管
40‧‧‧側面對流通道
42‧‧‧管道
44‧‧‧連接管路
50‧‧‧噴霧調溫器
52‧‧‧輔助過熱器
54‧‧‧蒸汽管線
56‧‧‧控制閥
60‧‧‧冷凝器
62‧‧‧補給水
70‧‧‧水加氧處理子系統
72‧‧‧帶除氧劑之水源
74‧‧‧排氣口

Claims (12)

  1. 一種蒸汽產生方法，其包含：使用包括鋼管之蒸汽產生器進行包括水相及蒸汽相的蒸汽產生，其中該蒸汽產生係包括使該蒸汽相過熱及對該過熱之蒸汽相進行調溫；在該水相中施以水加氧處理(oxygenated water treatment)將該水轉化成氧化性化學；及藉由利用包括除氧劑添加物之水或蒸汽對該過熱的蒸汽相進行該調溫而在該蒸汽相中施以還原性水處理，該還原性水處理將該蒸汽轉化成較低氧化態(oxidation)化學或還原性化學。
  2. 如申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法，其中該除氧劑包括肼及二胺脲(carbohydrazide)之至少一者。
  3. 如申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法，其中在該蒸汽相中之還原性水處理將該蒸汽轉化成還原性化學。
  4. 一種蒸汽產生器，其包括經裝配以進行申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法的鋼管。
  5. 如申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法，該蒸汽產生另包含：使該帶較低氧化性或還原性化學之蒸汽凝結成水；及重複該水相及該蒸汽相以界定一個蒸汽產生循環。
  6. 如申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法，其中該除氧劑添加物包含醯肼系除氧劑。
  7. 如申請專利範圍第6項之蒸汽產生方法，其中該醯 肼系除氧劑包含二胺脲。
  8. 如申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法，其中在該水相中施以水加氧處理(oxygenated water treatment)係包含：對該水進行水加氧處理(OWT)，該水具有於25℃低於0.15μS/cm之陽離子傳導度。
  9. 如申請專利範圍第1項之蒸汽產生方法，其中該蒸汽產生另包含：在進行該調溫之後，進行至少一個額外的過熱操作。
  10. 一種蒸汽產生系統，其包含：經裝配以產生具有氧化性化學之水的水加氧處理(OWT)子系統；經裝配以將該具有氧化性化學之水轉化成具有氧化性化學之蒸汽的蒸汽產生子系統，其中該蒸汽產生子系統包括過熱器和調溫器，該過熱器製造具有氧化性化學的過熱蒸汽，而該調溫器係對該具有氧化性化學的過熱蒸汽進行調溫；其中該調溫器係經裝配以將除氧劑添加至該具有氧化性化學之過熱蒸汽以產生具有較低氧化性或還原性化學之蒸汽；及經裝配以使該具有較低氧化性或還原性化學之蒸汽凝結成冷凝水的冷凝器。
  11. 如申請專利範圍第10項之蒸汽產生系統，其中該調溫器係經裝配以將該除氧劑添加至該具有氧化性化學之 過熱蒸汽以產生具有還原性化學之蒸汽。
  12. 如申請專利範圍第10項之蒸汽產生系統，其中該冷凝器係另外經裝配以將該冷凝水輸入到該OWT子系統。
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