TWI579376B - 平版印刷用板清洗組合物及使用該組合物之清洗方法 - Google Patents

平版印刷用板清洗組合物及使用該組合物之清洗方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI579376B
TWI579376B TW102137273A TW102137273A TWI579376B TW I579376 B TWI579376 B TW I579376B TW 102137273 A TW102137273 A TW 102137273A TW 102137273 A TW102137273 A TW 102137273A TW I579376 B TWI579376 B TW I579376B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
carbon atoms
compound
methyl
amino
Prior art date
Application number
TW102137273A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201420753A (zh
Inventor
李喻珍
高京俊
金聖植
Original Assignee
東友精細化工有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 東友精細化工有限公司 filed Critical 東友精細化工有限公司
Publication of TW201420753A publication Critical patent/TW201420753A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI579376B publication Critical patent/TWI579376B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16Organic compounds
    • C11D3/26Organic compounds containing nitrogen
    • C11D3/30Amines; Substituted amines ; Quaternized amines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/43Solvents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10Objects to be cleaned

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Description

平版印刷用板清洗組合物及使用該組合物之清洗方法
本發明有關能夠快速地移除在平版印刷之後殘留在該用板上的凝固墨水的一種平版印刷用板的清洗溶液組合物,以及該清洗溶液組合物的清洗方法。
平版印刷具有以低成本來精細地印刷出具有幾十到幾百μm大小的微圖案,而不會產生有害的廢液的優點,因此,已經被強調作為一種用以取代光微影技術製程的技術。
在平版印刷過程之中,印刷板平版印刷可容易地形成具有200微米或更小的窄線寬以及相對高的高度的微圖案,因此,已被考慮為用以形成需要高導電性的電線微圖案的適當技術。
用板(Cliché)平版印刷是藉由下述來進行:填充具有圖案刻在其上的用板的雕刻部分,其中該圖案應以墨水印刷在平坦基板的一側上;將該墨水轉移到毯子;以及將所轉移的墨水再轉移至要印刷的表面。用板平版印刷所形成的微圖案形狀容易受到該墨水流動性、施加至該用板的壓力、或諸如此類的影響。此外,如果填充在該用板中的一部分墨水沒有被轉移到該毯子而殘留,預定的微圖案可能被修改。由於這樣的問題,這是很難以確保微圖案的再現性。
為了解決前述的問題,在用板平版印刷之後,用板被清洗一次或以固定的時間間隔清洗多次,以移除殘墨。作為清洗溶液,典型地使用任何傳統的剝離液或清洗溶液,例如胺溶液。然而,這些溶液並不完全移除凝固的油墨,且是高腐蝕性的,因此需要一種替代的抗腐蝕劑。此外,也可使用含有氟化合物的溶液,然而,這具有例如穩定性差和高含量氟的缺點。
此外,在使用傳統的剝離液或如上所述的清洗溶液的情況下,難以消除黑色基質(BM)以及用於RGB的紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)墨水,同時,其中該BM以及該R,G和B墨水有不同的移除率。此外,即使在完成清洗之後,藉由清洗而溶解的墨水殘留在用板的表面上,因此導致其再吸附至用板的表面。此外,在用板平版印刷之後,難以在很短的時間內移除凝固的墨水,且墨水的移除可能會被延遲,因此導致生產率的下降。
韓國專利申請案公開編號2012-65964揭露了一種用於平版印刷用板的清洗溶液組合物和使用該清洗溶液組合物的清洗方法。
因此,本發明的目的是提供一種用於平版印刷用板的清洗溶液組合物,其不包括抗腐蝕劑以及氟化合物,因此可以極佳的功效來迅速地移除殘留在具有微圖案形成於其上的用板上用於BM及/或RGB的墨水的殘餘物,而不造成該用板的損害。
本發明的另一個目的是提供一種清洗方法,其中在平版印刷過程中可藉由使用用於平版印刷用板的前述清洗溶液組合物而在在線處理 期間連續地進行清洗過程。
為了實現上述目的,本發明提供了下述。
(1)一種用於平版印刷用板的清洗溶液,包括鹼性化合物、極性質子性溶劑以及極性非質子性溶劑,其中該極性質子性溶劑的組合物包括由下述分子式2表示的化合物: (其中R1和R2每個獨立為氫、具有1至5個碳原子的烷基、具有2至5個碳原子的烯基或具有1至5個碳原子的羥烷基;R3是具有1至5個碳原子的亞烴基或具有2至5個碳原子的亞烯基,其由羥基取代或未取代)。
(2)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該鹼性化合物為有機胺化合物、無機鹼性化合物或其混合物。
(3)根據上述第(2)項所述的組合物,其中該有機胺化合物包括由下面的分子式1表示的化合物: (其中R1至R3每個可獨立地為氫、具有1至10個碳原子的取代或未取代的烷基或羥烷基、具有2至10個碳原子的取代或未取代的烯基或羥烯基、具有5至8個碳原子的取代或未取代的環烷基或羥基環烷基、羧基、苯基或苯甲基;當R1至R3被取代時,這些可被下述取代:被具有1至4個碳原子的烷基取代或未取代的胺基;羧基;羥基;具有1至10個碳原子的烷基;具有1至10個碳原子的烷基,該烷基被具有1至10個碳原子的烷氧基取代,其以羥基取代或未取代;R1至R3中的至少其中之一不是氫原子;以及R1以及R2、R1以及R3、或R2以及R3可被耦合以形成具有4至8個碳原子的環。)
(4)根據上述第(2)項所述的組合物,其中該有機胺化合物是選自下述所組成的群組的至少其中之一;甲胺、乙胺、單異丙胺、正丁胺、仲丁胺、異丁胺、叔丁胺、戊胺、單乙醇胺、單丙醇胺、單異丙醇胺、1-胺基-2-丙醇、2-胺基-1-丙醇、3-胺基-1-丙醇、4-胺基-1-丁醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、甲基(甲氧基甲基)胺基乙烷、甲基(甲氧基甲基)胺基乙醇、甲基(丁氧基甲基)胺基乙醇、二甲胺、二乙胺、二丙胺、二異丙胺、二丁胺、二異丁胺、甲基乙胺、甲基丙胺、甲基異丙胺、甲基丁胺、甲基異丁胺、二乙醇胺、2-(乙基胺基)乙醇、2-(甲基胺基)乙醇、二丁醇胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、二甲基乙胺、甲基二乙胺、甲基二丙胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羥乙基氧基甲基)二乙胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單丙醇胺、2-胺基乙醇、2-(乙基胺基)乙醇、2-(甲基胺基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N- 二甲基乙醇胺、N,N-二乙基胺基乙醇、2-(2-胺基乙基胺基)-1-乙醇、1-胺基-2-丙醇、2-胺基-1-丙醇、3-胺基-1-丙醇、4-胺基-1-丁醇、二丁醇胺、(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二甲胺、(丁氧基甲基)二甲胺、(異丁氧基甲基)二甲胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羥乙基氧基甲基)二乙胺、甲基(甲氧基甲基)胺基乙烷、甲基(甲氧基甲基)胺基乙醇、甲基(丁氧基甲基)胺基乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、1-(2-羥乙基)哌嗪、1-(2-胺基乙基)哌嗪、1-(2-羥乙基)甲基哌嗪、N-(3-胺基丙基)嗎啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-胺基-4-甲基哌嗪、1-苯甲基哌嗪、1-苯基哌嗪、N-甲基嗎啉、4-乙基嗎啉、N-甲醯基嗎啉、N-(2-羥乙基)嗎啉、N-(3-羥丙基)嗎啉。
(5)根據上述第(2)項所述的組合物,其中該無機鹼性化合物是選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣以及氫氧化銨所組成的群組中的至少其中之一。
(6)根據上述第(1)項所述的組合物,其中相對於該清洗溶液組合物的總重量,該鹼性化合物包括於1至30重量%的量。
(7)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該極性質子性溶劑是選自4-羥甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥乙基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥丙基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥丁基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2,2-二乙基-1,3-二氧戊烷以及4-羥甲基-2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊烷所組成的群組中的至少其中之一。
(8)根據上述第(1)項所述的組合物,其中相對於該清洗溶液組合物的總重量,該極性質子性溶劑包括於1至50重量%的量。
(9)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該極性非質子 性溶劑是選自醯胺化合物、吡咯烷酮化合物、咪唑啉酮化合物、內酯化合物、亞碸化合物、磷酸酯化合物、碳酸酯化合物以及甲酚化合物所組成的群組中的至少其中之一。
(10)根據上述第(1)項所述的組合物,其中相對於該清洗溶液組合物的總重量,該極性非質子性溶劑包括於20至95重量%的量。
(11)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該極性質子性溶劑以及極性非質子性溶劑以1:0.25至95的重量混合比來混合。
(12)根據上述第(1)項所述的組合物,更包含水。
(13)一種清洗方法,包括以根據上述第(1)至(12)項中任一項所述用於平版印刷用板的清洗溶液組合物來溶解在用板上的墨水殘餘物,以移除所溶解的墨水。
(14)根據上述第(13)項所述的方法,此方法在平版印刷過程中在在線處理期間被連續地進行。
由於根據本發明用於平版印刷用板的清洗溶液組合物不包括任何抗腐蝕劑以及氟化合物,該組合物能溶解印刷後殘留在該用板上的凝固墨水,而不造成具有微圖案形成於其上的用板的損害,藉此確保印刷圖案的再現性。
此外,本發明的清洗溶液組合物可均勻且迅速地同時移除用於BM以及RGB的所有墨水,並預防藉由清洗移除的墨水被再次吸收至該用板的表面以因此重新汙染該用板。
此外,根據本發明的清洗溶液組合物以及清洗方法,可在平版印刷過程中的在線處理期間直接引入清洗過程,藉此提高過程的產量以 及生產率。
本發明揭露了一種用於平版印刷用板的清洗溶液組合物,其可迅速地移除印刷之後殘留在用板上的凝固墨水,以及本發明揭露了使用該清洗溶液組合物的清洗方法。
此後,將更詳細地描述本發明。
根據本發明用於平版印刷用板的清洗溶液組合物包括鹼性化合物、極性質子性溶劑以及極性非質子性溶劑。
鹼性化合物是作用用以吞下殘留在用板上的凝固墨水的成分,允許包含在墨水中顏料的平坦分散,以因此溶劑化物該凝固墨水,並預防在清洗之後在潤洗期間溶解的墨水被再吸收至該用板,而被移除。
鹼性化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,有機胺化合物以及無機鹼性化合物,其可單獨或以其二或更多個組合而使用。
無機鹼性化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣、氫氧化銨或諸如此類,其可單獨或以其二或更多個組合而使用。
有機胺化合物可包括由下述分子式1表示的化合物:[分子式]
其中R1至R3每個可獨立地為氫、具有1至10個碳原子的取代或未取代的烷基或羥烷基、具有2至10個碳原子的取代或未取代的烯基或羥烯基、羧基、具有5至8個碳原子的取代或未取代的環烷基或羥基環烷基、苯基或苯甲基。當R1至R3被取代時,這些可被下述取代:被具有1至4個碳原子的烷基取代或未取代的胺基;羧基;羥基;具有1至10個碳原子的烷基;具有1至10個碳原子的烷基,該烷基被具有1至10個碳原子的烷氧基取代,其以羥基取代或未取代,或諸如此類。然而,R1至R3中的至少其中之一不是氫原子。此外,R1以及R2、R1以及R3、或R2以及R3可被耦合以形成具有4至8個碳原子的環。
有機胺化合物的種類不特別受限,但可以包括,例如:一級胺化合物,例如甲胺、乙胺、單異丙胺、正丁胺、仲丁胺、異丁胺、叔丁胺、戊胺、單乙醇胺、單丙醇胺、單異丙醇胺、1-胺基-2-丙醇、2-胺基-1-丙醇、3-胺基-1-丙醇、4-胺基-1-丁醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、甲基(甲氧基甲基)胺基乙烷、甲基(甲氧基甲基)胺基乙醇、甲基(丁氧基甲基)胺基乙醇,等等;二級胺化合物,例如二甲胺、二乙胺、二丙胺、二異丙胺、二丁胺、二異丁胺、甲基乙胺、甲基丙胺、甲基異丙胺、甲基丁胺、甲基異丁胺、二乙醇胺、2-(乙基胺基)乙醇、2-(甲基胺基)乙醇、二丁醇胺,等等;三級胺化合物,例如三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、二甲基乙胺、甲基二乙胺、甲基二丙胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇 胺、N,N-二乙基乙醇胺、(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羥乙基氧基甲基)二乙胺,等等;烷醇胺,例如單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單丙醇胺、2-胺基乙醇、2-(乙基胺基)乙醇、2-(甲基胺基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基胺基乙醇、2-(2-胺基乙基胺基)-1-乙醇、1-胺基-2-丙醇、2-胺基-1-丙醇、3-胺基-1-丙醇、4-胺基-1-丁醇、二丁醇胺,等等;烷氧基胺,例如(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二甲胺、(丁氧基甲基)二甲胺、(異丁氧基甲基)二甲胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羥乙基氧基甲基)二乙胺、甲基(甲氧基甲基)胺基乙烷、甲基(甲氧基甲基)胺基乙醇、甲基(丁氧基甲基)胺基乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇,等等;胺化合物,包括,例如,形成環的環胺,例如1-(2-羥乙基)哌嗪、1-(2-胺基乙基)哌嗪、1-(2-羥乙基)甲基哌嗪、N-(3-胺基丙基)嗎啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-胺基-4-甲基哌嗪、1-苯甲基哌嗪、1-苯基哌嗪、N-甲基嗎啉、4-乙基嗎啉、N-甲醯基嗎啉、N-(2-羥乙基)嗎啉、N-(3-羥丙基)嗎啉,或諸如此類。這些可單獨或以其二或更多個組合而使用。
鹼性化合物的含量不特別受限(如果其是在化合物可如想要地作用的範圍內),但是,相對於清洗溶液組合物的總重量,範圍可為1至30重量%,較佳為3至20重量%。如果相對於該清洗溶液組合物的總重量,該鹼性化合物包括於1重量%至30重量%的量,用板上的墨水殘餘物可被充分地膨脹,因此最大化了墨水的移除力。
極性質子性溶劑是用以改善用板上墨水殘餘物中所含有的樹脂的溶解度,並深入滲透到邊緣部分以及該用板表面的成分,因此使包 含在微圖案中的墨水膨脹。
極性質子性溶劑中可包括由下述分子式2所表示的化合物: 其中R1以及R2每個獨立地為氫、具有1至5個碳原子的烷基、具有2至5個碳原子的烯基或具有1至5個碳原子的羥烷基;R3是具有1至5個碳原子的亞烴基或具有2至5個碳原子的亞烯基,其由羥基取代或未取代。
極性質子性溶劑不僅顯著地影響簡單碳顏料的膨脹以及溶解性,也影響含金屬顏料,因此,對於非碳顏料可在用板上展現出極佳的墨水的移除力。
極性質子性溶劑的種類不特別受限(如果其可滿足分子式2),但可包括,例如,4-羥甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥乙基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥丙基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥丁基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2,2-二乙基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊烷,或諸如此類,可單獨或以其二或更多個組合而使用。
極性質子性溶劑的含量不特別受限(如果其是在溶劑可如想要地作用的範圍內,但是,相對於清洗溶液組合物的總重量,範圍可為1至50重量%,且較佳為1至40重量%。如果相對於該清洗溶液組合物的總重 量,該極性質子性溶劑包括於1重量%至50重量%的量,該清洗溶液迅速地滲透於汙染物以及玻璃基板表面之間的界面以增加洗淨力,同時保持了所需的黏度,以改進可使用性。
極性非質子性溶劑在溶解用板上墨水殘餘物中所含有的樹脂方面是非常一種有效的有機溶劑,且是一種用以快速地膨脹並溶解凝固墨水的成分,以加快有機胺化合物穿過用板表面的滲透,因此改進了清洗功效。
極性非質子性溶劑的種類不特別受限,但可以包括,例如:醯胺化合物,例如甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺,等等;吡咯烷酮化合物,例如N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮,等等;咪唑啉酮化合物,例如1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,3-二丙基-2-咪唑啉酮,等等;內酯化合物,例如γ-丁內酯,等等;亞碸化合物,例如二甲基亞碸、環丁碸,等等;磷酸酯化合物,例如磷酸三乙酯、磷酸三丁酯,等等;碳酸酯化合物,例如碳酸二甲酯、碳酸乙烯酯,等等;甲酚化合物,例如o-甲酚、m-甲酚、ρ-甲酚,等等。在洗淨力以及經濟優勢方面,較佳使用吡咯烷酮、醯胺或其混合物。上述材料可單獨或以其二或更多個組合而使用。
極性非質子性溶劑的含量不特別受限(如果其是在溶劑可如想要地作用的範圍內),但是,相對於清洗溶液組合物的總重量,範圍可為20至95重量%,且較佳為40至90重量%。如果相對於該清洗溶液組合物的總重量,該極性非質子性溶劑包括於20重量%至95重量%的量,可改進在用板上墨水殘餘物中所含的樹脂溶解度,且可最大化凝固的墨水的膨脹率。
極性質子性溶劑對極性非質子性溶劑的混合比例不特別受 限,但是範圍可為,例如,從1:0.25至95。在增加洗淨力的方面中,混合比例的較佳範圍為1:1到90。
隨選的是,用於平版印刷用板的清洗溶液組合物可進一步包括水。
水可能會降低墨水的附著力,並剝離該墨水,因此迅速移除大面積表面上的乾墨水。如果在清洗溶液組合物中含有水,要使用的有機溶劑量可減少,因此降低了生產成本。
本文中所加入的水的類型不特別受限,但可為去離子蒸餾水,且較佳為用於半導體製程、具有的電阻率為18MΩ/cm或更高的去離子蒸餾水。
水的含量不特別受限(如果其是在水可如想要地作用的範圍內),但是,相對於清洗溶液組合物的總重量,範圍可為0.1至40重量%,且較佳為0.5至30重量%。如果相對於該清洗溶液組合物的總重量,水包括於0.1重量%至40重量%的量,可最大化幫助藉由鹼性化合物以及溶劑來幫助溶解墨水的效果。
作為將藉由根據本發明用於平版印刷用板的清洗溶液組合物來清洗之對象的墨水種類不特別受限,但可以包括,例如,典型用於RGB或BM的墨水、黑色或白色的表框(bezel)墨水,其每個含有黏結劑樹脂、可聚合化合物、著色劑、聚合引發劑、溶劑、添加劑,或諸如此類。
根據本發明用於平版印刷用板的清洗溶液可藉由任何傳統的方法來製備。
根據本發明用於平版印刷用板的清洗溶液組合物不需要任 何的抗腐蝕劑,雖然它包括了一般用於典型光阻剝離液或清洗溶液的任何有機胺。此外,由於前述組合物中不含有的氟化合物以因此具有極佳的穩定性,其可能同時以均勻且高的移除率來消除殘留在該用板上的凝固墨水,即,用於BM(黑色基質)以及RGB(紅色,綠色以及藍色像素)的所有墨水,而不造成該用板的任何損害。具體而言,使用有機清洗溶液不僅可直接溶解並移除不僅印刷後的凝固墨水,也可移除在印刷過程中在在線處理期間沒有凝固的墨水殘餘物,因此提高製程的產量以及生產率。此外,可藉由潤洗來輕易地移除藉由清洗所溶解的墨水,因此預防由將所溶解的墨水再吸收至該用板所造成的用板汙染。藉此,可確保印刷圖案的再現性。
此外,本發明可提供一種清洗方法,其使用用於平版印刷用板的清洗溶液組合物來溶解用板上的墨水殘餘物,因此消除該墨水殘餘物。特別是,本發明的清洗方法使用有機清洗溶液組合物,且其特徵在於,其中在清洗過程中,即使是在墨水凝固之前的平版印刷期間以及在平版印刷之後可引入清洗過程。也就是,在該平版印刷過程的在線處理期間使用該清洗溶液組合物來處理用板,以在均勻以及高的速度不僅直接溶解殘留在該用板上的凝固墨水,也溶解了未凝固的墨水殘餘物,因此消除該凝固墨水以及墨水殘餘物。因此,可確保印刷圖案的再現性,並可減少生產節拍時間(takt-time),因此顯著地提高了製程產量以及生產率。
使用本發明清洗溶液組合物來清洗平版印刷用板的方法,可包括下述任一,例如:將用板直接浸泡在清洗溶液組合物中,其中該用板在微圖案中含有墨水殘餘物;在用板上直接噴灑清洗溶液組合物;將清洗溶液組合物塗佈至用板,然後刷洗該用板,或諸如此類。也可組合並使用 這些過程。在這方面,為了增加清洗效果,可將氣泡或超聲波施加至清洗溶液。
此外,清洗溶液組合物的使用條件(溫度、時間,等等)不特別受限,但可基於用板上墨水殘餘物的含量以及濃度來適當地選擇。例如,前述方法可在25至60℃進行1秒至3分鐘。
在使用清洗溶液組合物來處理用板之後,可隨選地進行額外的過程,例如以水或醇類溶劑來潤洗。潤洗過程不特別受限,但可包括,例如,在固定壓力下使用噴嘴以及清洗刀來注入水。本文中所使用的水可以是去離子蒸餾水,且較佳為用於半導體製程、具有的電阻率為18MΩ/cm或更高的去離子蒸餾水。
此後,將描述較佳具體實施例,以更具體地理解本發明。然而,對於本領域的技術人員而言將為顯而易見的是,這種具體實施例被提供用於示例的目的,對於附帶的申請專利範圍不具有特別的限制,各種修飾以及改變是可能的,而不悖離本發明的範圍以及精神,且這些修改以及改變被充分地包括在如同所附帶的申請專利範圍所定義的本發明中。
範例
範例1至11以及比較性範例1至10的
使用表1中所列出的成分以其相應的含量來製備清洗溶液組合物,其中該含量是由重量%來定義。
實驗範例-清洗功效的評估
為了評估用於平版印刷之RGB的紅色、綠色與藍色墨水以及BM的黑色墨水的清洗功效,在玻璃基板上形成具有160μm的圖案寬度、300μm的圖案間間隔以及20至30μm的高度的直線微圖案,以製備用於評估的測試用板,其類似於平版印刷用板。分別以紅色墨水(PCF-R-001,Dongwoo Finechem Co.Ltd)、綠色墨水(PCF-G-001,Dongwoo Finechem Co.Ltd)、藍色墨水(PCF-B-006,Dongwoo Finechem Co.Ltd)、黑色墨水 (DRB-001P,Dongwoo Finechem Co.Ltd)以及白色墨水(DRW-001P,Dongwoo Finechem Co.Ltd)來塗層所製備的用板,藉由刮刀成膜法而以上述墨水來填充該用板。之後,將所塗層的基板在室溫下乾燥大約30分鐘,以製作檢體。
將所製造的檢體在在室溫下淹沒於清洗溶液組合物中1分鐘,然後以去離子蒸餾水潤洗30分鐘。潤洗後,使用氮氣將檢體完全乾燥。
在拍下乾燥檢體的光學顯微照片之後,根據下述標準使用前述顯微照片來評估清洗功效。
◎:完全移除墨水
○:極佳移除墨水
△:輕微的墨水殘留
×:大量的墨水殘留
參照上述表2,所確認的是,相較於根據比較性範例1至10的清洗溶液組合物,根據範例1至7的清洗溶液組合物,其每個包括具有其最理想含量的鹼性化合物、極性非質子性溶劑以及隨選的非離子型界面活性劑,對於紅色、綠色、藍色、黑色以及白色的墨水具有大致上均勻、快速以及優異的清洗功效。
對於具有少量水的範例6,清洗溶液組合物在加入水期間的剝離模式中展現了墨水被移除,而不是膨脹或溶解墨水。當含有比極性非 質子性溶劑還大量的極性質子性溶劑時,發現到的是,在基板表面上,在接觸該清洗溶液的面處的墨水以剝離模式被快速地移除。雖然乾燥墨水的移除力在該表面是極佳的,在邊緣部分上觀察到少量的墨水殘餘物。
另一方面,關於比較性範例1中沒有鹼性化合物的清洗溶液組合物,墨水殘餘物被部分地膨脹以及溶解,然而,沒有在潤洗期間從用板移除。此外,在比較性範例2中沒有極性非質子性溶劑的清洗溶液組合物包括了極性質子性溶劑以具有膨脹以及溶解效能,然而,上述效能惡化而降低了墨水的移除力。在表面的黑色以及白色墨水的移除力惡化,且在邊緣部分的這些墨水尚未移除。
此外,對於沒有由分子式2表示的極性質子性溶劑的比較性範例3,發現的是,雖然含有極性非質子性溶劑的清洗溶液組合物具有墨水膨脹以及溶解效能,相較於相同的時間,該組合物需要較長的溶解時間。
此外,對於具有大量水的比較性範例4、5以及8,發現的是,極性溶劑的膨脹以及溶解效能顯著地惡化,且墨水的剝離效能也降低。
此外,對於具有極性質子性溶劑或極性非質子性溶劑的比較性範例6以及10,一般留下了大量的墨水殘餘物,因此降低了洗淨力。

Claims (11)

  1. 一種用於平版印刷用板的清洗溶液組合物,包含1至30重量%的量的一鹼性化合物、1至50重量%的量的一顏料助溶劑以及20至95重量%的量的一極性非質子性溶劑,其中該顏料助溶劑包括由下述分子式2表示的一化合物: (其中R1以及R2每個獨立地為氫、具有1至5個碳原子的烷基、具有2至5個碳原子的烯基或具有1至5個碳原子的羥烷基;R3是具有1至5個碳原子的亞烴基或具有2至5個碳原子的亞烯基,其被羥基取代或未取代)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該鹼性化合物為一有機胺化合物、一無機鹼性化合物或一其混合物。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的組合物,其中該有機胺化合物包括由下述分子式1表示的一化合物: (其中R1至R3每個可獨立地為氫、具有1至10個碳原子的取代或未取代的烷基或羥烷基、具有2至10個碳原子的取代或未取代的烯基或羥烯基、具有5至8個碳原子的取代或未取代的環烷基或羥基環烷基、羧基、苯基或苯甲基;當R1至R3被取代時,這些可被下述取代:被具有1至4個碳原子的烷基取代或未取代的胺基;羧基;羥基;具有1至10個碳原子的烷基;具有1至10個碳原子的烷基,該烷基被具有1至10個碳原子的烷氧基取代,其以羥基取代或未取代;R1至R3中的至少其中之一不是氫原子;以及R1以及R2、R1以及R3、或R2以及R3被耦合以形成具有4至8個碳原子的一環)。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的組合物,其中該有機胺化合物是選自下述所組成的群組的至少其中之一;甲胺、乙胺、單異丙胺、正丁胺、仲丁胺、異丁胺、叔丁胺、戊胺、單乙醇胺、單丙醇胺、單異丙醇胺、1-胺基-2-丙醇、2-胺基-1-丙醇、3-胺基-1-丙醇、4-胺基-1-丁醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、甲基(甲氧基甲基)胺基乙烷、甲基(甲氧基甲基)胺基乙醇、甲基(丁氧基甲基)胺基乙醇、二甲胺、二乙胺、二丙胺、二異丙胺、二丁胺、二異丁胺、甲基乙胺、甲基丙胺、甲基異丙胺、甲基丁胺、甲基異丁胺、二乙醇胺、2-(乙基胺基)乙醇、2-(甲基胺基)乙醇、二丁醇胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、二甲基乙胺、甲基二乙胺、甲基二丙胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙醇 胺、(羥乙基氧基甲基)二乙胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單丙醇胺、2-胺基乙醇、2-(乙基胺基)乙醇、2-(甲基胺基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基胺基乙醇、2-(2-胺基乙基胺基)-1-乙醇、1-胺基-2-丙醇、2-胺基-1-丙醇、3-胺基-1-丙醇、4-胺基-1-丁醇、二丁醇胺、(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二甲胺、(丁氧基甲基)二甲胺、(異丁氧基甲基)二甲胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羥乙基氧基甲基)二乙胺、甲基(甲氧基甲基)胺基乙烷、甲基(甲氧基甲基)胺基乙醇、甲基(丁氧基甲基)胺基乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、1-(2-羥乙基)哌嗪、1-(2-胺基乙基)哌嗪、1-(2-羥乙基)甲基哌嗪、N-(3-胺基丙基)嗎啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-胺基-4-甲基哌嗪、1-苯甲基哌嗪、1-苯基哌嗪、N-甲基嗎啉、4-乙基嗎啉、N-甲醯基嗎啉、N-(2-羥乙基)嗎啉、N-(3-羥丙基)嗎啉。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的組合物,其中該無機鹼性化合物是選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣以及氫氧化銨所組成的群組的至少其中之一。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該顏料助溶劑是選自4-羥甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥乙基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥丙基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥丁基-2,2-二甲基-1,3-二氧戊烷、4-羥甲基-2,2-二乙基-1,3-二氧戊烷以及4-羥甲基-2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊烷所組成的群組中的至少其中之一。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該極性非質子性溶劑是選自醯胺化合物、吡咯烷酮化合物、咪唑啉酮化合物、內酯化合物、亞碸化合物、磷酸酯化合物、碳酸酯化合物以及甲酚化合物所組成的群組中的至 少其中之一。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該顏料助溶劑以及極性非質子性溶劑以1:0.25至95的一重量混合比來混合。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,更包含水。
  10. 一種清洗方法,包含以根據申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述用於平版印刷用板的清洗溶液組合物來溶解在一用板上的墨水殘餘物,以移除所溶解的墨水。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的方法,其中此方法在一平版印刷過程中在在線處理期間被連續地進行。
TW102137273A 2012-11-07 2013-10-16 平版印刷用板清洗組合物及使用該組合物之清洗方法 TWI579376B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120125212A KR101936938B1 (ko) 2012-11-07 2012-11-07 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201420753A TW201420753A (zh) 2014-06-01
TWI579376B true TWI579376B (zh) 2017-04-21

Family

ID=50702394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102137273A TWI579376B (zh) 2012-11-07 2013-10-16 平版印刷用板清洗組合物及使用該組合物之清洗方法

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101936938B1 (zh)
CN (1) CN103804980A (zh)
TW (1) TWI579376B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105462713B (zh) * 2015-11-26 2018-04-03 兰州大学 一种组合型脱胶剂及其制备方法和应用
KR20170099525A (ko) * 2016-02-24 2017-09-01 동우 화인켐 주식회사 레지스트 박리액 조성물
US12030222B2 (en) 2017-12-27 2024-07-09 Versalis S.P.A. Circuit and process for managing transients in a plant for continuous mass production of granulated expandable polymers
KR20220129246A (ko) * 2021-03-16 2022-09-23 동우 화인켐 주식회사 고분자 처리용 공정액 조성물
KR102461835B1 (ko) * 2022-07-26 2022-11-01 주식회사 비와이씨 친환경 산업용 세정제조성물

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0673318A (ja) * 1992-07-09 1994-03-15 New Japan Chem Co Ltd 合成樹脂除去剤
KR20120065064A (ko) * 2010-12-10 2012-06-20 동우 화인켐 주식회사 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3229712B2 (ja) * 1993-06-08 2001-11-19 花王株式会社 洗浄剤組成物
CN1179169A (zh) * 1995-03-24 1998-04-15 罗纳·布朗克化学公司 以二元酸酯和醚为主要成分的洗涤剂和/或除垢剂组合物
JP2000141590A (ja) * 1998-11-09 2000-05-23 Canon Inc オフセット印刷方法および装置
JP2004131678A (ja) * 2002-10-11 2004-04-30 Osaka City 化学分解性界面活性剤および洗浄剤
JP2011082243A (ja) 2009-10-05 2011-04-21 Panasonic Corp 部品実装装置および部品実装装置における実装状態検査方法
FR2974113B1 (fr) * 2011-04-18 2014-08-29 Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda Preparations pour compositions nettoyantes tout usage

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0673318A (ja) * 1992-07-09 1994-03-15 New Japan Chem Co Ltd 合成樹脂除去剤
KR20120065064A (ko) * 2010-12-10 2012-06-20 동우 화인켐 주식회사 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN103804980A (zh) 2014-05-21
TW201420753A (zh) 2014-06-01
KR20140058857A (ko) 2014-05-15
KR101936938B1 (ko) 2019-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI579376B (zh) 平版印刷用板清洗組合物及使用該組合物之清洗方法
TWI519910B (zh) 光阻剝離液組成物及使用它之剝離光阻方法
KR101879576B1 (ko) 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
JP2005043873A (ja) フォトレジスト剥離液組成物及びそれを用いたフォトレジストの剥離方法
CN103424999A (zh) 抗蚀剂剥离液组合物及使用其制造tft阵列基板的方法
CN110597024B (zh) 防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法
TW201432395A (zh) 光阻剝離液組成物以及使用該組成物的光阻剝離方法
JP2013511063A (ja) 非水系レジスト剥離液組成物
JP2009115929A (ja) カラーレジスト用剥離剤
CN103365121A (zh) 抗蚀剂剥离组合物及利用该抗蚀剂剥离组合物剥离抗蚀剂的方法
KR101924212B1 (ko) 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
JP5565551B2 (ja) レジスト除去剤
KR20080054714A (ko) 레지스트 박리용 알칼리 조성물
JP2008266649A (ja) 水性塗料の洗浄剤
KR101766209B1 (ko) 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
KR20140044482A (ko) 전자소자용 세정액 조성물
KR101766210B1 (ko) 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물
KR101880302B1 (ko) 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트 박리방법
JP5533383B2 (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
KR20130046493A (ko) 플랫패널 디스플레이 기판용 세정액 조성물
KR20150026582A (ko) 레지스트 박리액 조성물
JP2002214805A (ja) レジスト剥離剤
KR20140141074A (ko) 컬러잉크 제거용 조성물
CN108535971B (zh) 光致抗蚀剂去除用剥离液组合物
TW202414120A (zh) Igzo基板用剝離液組合物、其製備方法及半導體元件