TWI579107B

TWI579107B - 珠擊處理裝置

Info

Publication number: TWI579107B
Application number: TW101128732A
Authority: TW
Inventors: Mitsuo Ishikawa; Takuji Yamamoto
Original assignee: Sintokogio Ltd
Priority date: 2012-06-12
Filing date: 2012-08-09
Publication date: 2017-04-21
Also published as: JPWO2013186939A1; EP2862674A4; TW201350269A; EP2862674B1; US9884407B2; CN103702799A; CN103702799B; WO2013186939A1; KR101652617B1; EP2862674A1; US20150290770A1; JP6016201B2; KR20140130552A

Description

珠擊處理裝置

本發明簡而言之係有關珠擊處理裝置，詳細而言，係有關將投射於工件(work)的投射材予以回收，且將異物從此回收的投射材分離之珠擊處理裝置(shot processing device，亦稱為shot peening device，將微小硬顆粒噴射於被加工物(工件)表面以處理該工件表面，依智慧局資料庫翻譯為「珠擊處理裝置」)。

作為珠擊處理裝置，有一種具備有分離機構之裝置為人所熟知，該分離機構係將被投射到工件之投射材(shot material用以珠擊處理之顆粒，本文中援用日之「投射材」)。予以回收，且將異物從該回收之投射材予以分離(例如，參照專利文獻1)。在此種裝置中，例如，使用振動篩機等將異物從投射材予以分離。

[先前技術文獻] (專利文獻)

(專利文獻1)中國公開專利公報CN102189496A

但是，在此種裝置中，將振動篩機配置在內部故使裝置變大。

本發明係鑑於上述課題而研創者，主要目的在提供一種珠擊處理裝置，係既可抑制裝置的大型化且能將回收的投射材與異物予以精確度佳地分離。

依據本發明，所提供的珠擊處理裝置係具備有：投射機，將投射材投射到工件；回收機構，將利用前述投射機所投射之投射材予以回收；以及風力選別機構，係一邊將朝上的氣流供應到回收的投射材，一邊使前述回收的投射材自由落下，而將混入到前述回收的投射材之異物，從前述回收之投射材予以分離。

依據此種構成的珠擊處理裝置，藉由使利用投射機投射後回收之投射材(投射材與異物之混合物)自由落下，並與朝上的氣流相撞，來精確度佳地進行選別。

此係藉由將投射材與異物的混合物暴露在氣流之時間加長而使得選別精確度變佳。

依據本發明其他較佳的態樣，前述風力選別機構具備：自由落下區，係產生前述朝上的氣流，且使前述回收之投射材自由落下；以及供應部，係最下部透過開口部而與前述自由落下區相通，來供應前述回收之投射材，且前述開口部形成在限制板與傾斜部之間，其中限制板係以延伸於上下方向之方式配置在前述供應部之自由落下區側，而傾斜部係朝著該限制板的下端與前述供應部之自由落下區傾斜於斜下方而延伸。

依據此種構成的珠擊處理裝置，回收之投射材係在流入到自由落下區時，流量受到限制板限制，且被擴充到限制板的板寬度方向，故在擴充到限制板的寬度方向之狀態下落下到自由落下區內，結果，利用氣流來促進異物的分離。

依據本發明之其他較佳的態樣，前述風力選別機構具備有橫切前述自由落下區內而配置之複數根分散捧。

依據此種構成之珠擊處理裝置，回收之投射材於自由落下時，利用複數根分散棒予以分散，而於落下之投射材間產生適度的空間，結果，朝上之氣流於落下之投射材間大致均等地流動，而使利用朝上之氣流進行混合物之選別(分級)變得容易。

依據本發明其他較佳的態樣，在前述自由落下區之下方，設置有承接自由落下的投射材之凹狀的承接部。

依據此種構成的珠擊處理裝置，投射材於與自由落下區之下方的構件衝突之前，在承接部該落下暫時停止，故可抑制下方的構件因投射材引起之零件的磨損。

依據本發明其他較佳的態樣，前述風力選別機構具備與前述自由落下區的上方相通之沉降室(settling chamber)部，

且在前述沉降室部中，利用引導板產生迂回流，而將前述異物分離成載入前述迂回流之粉狀物及落下之粒狀物。

依據此種構成之珠擊處理裝置，利用沉降室部可將異物中之輕量物分離成載入迂回流之粉狀物及落下之粒狀物。

依據本發明其他較佳的態樣，具備有：機櫃(cabinet)，係於內部形成有投射前述投射材之投射室，且具備投射室入口以及投射室出口，該投射室入口係用以將前述工件搬入到前述投射室，而該投射室出口係從前述投射室將前述工件予以搬出；第一珠擊幕裝置，係從前述投射室入口之上部使投射材幕狀地落下；第二珠擊幕裝置，係從前述投射室出口的上部使投射材幕狀地落下；回收機構，將所投射之投射材從前述投射室予以回收；以及分配箱，將利用前述回收機構所回收之投射材，分配到前述風力選別機構、前述第一珠擊幕裝置以及前述第二珠擊幕裝置。

依據此種構成之珠擊處理裝置，利用從第一珠擊幕裝置及第二珠擊幕裝置連續落下之投射材，可阻止或抑制在投射機內被投射之投射材從投射室入口及投射室出口跳出。

此外，被投射之投射材係利用分配裝置被分配到風力選別機構與第一珠擊幕裝置以及第二珠擊幕裝置，故可將供應給風力選別機構之投射材的量予以適當化，且可抑制風力選別機構及集塵機的大型化。

依據本發明其他較佳的態樣，異物由前述風力選別機構所分離後之投射材係被供應給前述投射機。

依據此種構成的珠擊處理裝置，可將經除掉異物之投射材在投射機中予以再利用。

依據本發明其他較佳的態樣，具備：搬運手段，係將前述工件搬運到從前述投射機投射投射材之位置，前述搬運手段具備：鏈條輸送機，係具有旋轉驅動之環狀鏈條、以及安裝在前述鏈條之外周側以支撐前述工件之載具；以及一對自轉滾輪，係配置在前述載具之前述工件的搬運方向兩側，且以延伸於前述工件的搬運方向之軸線為中心而設成可進行自轉且搖動。

依據此種構成之珠擊處理裝置，透過自轉滾輪之自轉使得載置在自轉滾輪之工件進行轉動，且投射材被投射到工件整面，來進行均勻的珠擊處理。

依據本發明其他較佳的態樣，設置有變更調整前述一對自轉滾輪的間隔之變更調整機構。

依據此種構成的珠擊處理裝置，按照工件之大小可設定一對自轉滾輪的間隔，故可抑制載具的上下方向之長度。

例如，將大的工件搭載在一對自轉滾輪時若擴大一對自轉滾輪的間隔，則可將工件之上端高度位置抑制在低的位置，故亦可將支撐工件之載具的上下方向之長度予以抑制，且可抑制整個裝置的高度。

此外，由於可變更調整一對自轉滾輪的間隔，而可將種種的外徑之工件搭載在一對自轉滾輪上，故可對種種外徑之工件進行珠擊處理。

依據本發明其他較佳的態樣，珠擊處理裝置的底面形成為平面。

依據此種構成的珠擊處理裝置，變為不必挖掘凹坑，而可降低設置時的勞力與成本。

依據本發明其他較佳的態樣，具備有控制裝置，該控制裝置具有：計算部，係將設置在前述珠擊處理裝置之消耗品的操作時間、與預先設定之壽命時間予以比較，來計算前述消耗品之交換時期；以及顯示部，係可顯示前述計算部的計算結果。

依據此種構成之珠擊處理裝置，可容易掌握消耗品的壽命。

依據本發明其他較佳的態樣，具備有控制裝置，該控制裝置具有：記憶部，係將設置在前述珠擊處理裝置之消耗品的交換記錄之資訊予以輸入且將該交換記錄的資訊予以記憶；以及顯示部，係可將在前述記憶部所記憶之前述交換記錄的資訊予以顯示。

依據此種構成之珠擊處理裝置，可容易掌握珠擊裝置的消耗品之交換記錄。

依據本發明，可提供一種珠擊處理裝置，既可抑制裝置的大型化，並可將回收之投射材與異物予以精確度佳地分離。

10‧‧‧珠擊裝置(珠擊處理裝置)

12‧‧‧機櫃

14A‧‧‧投射室

14C‧‧‧投射室出口

14B‧‧‧投射室入口

20‧‧‧鏈條輸送機

22‧‧‧鏈條

26‧‧‧載具(按壓構件)

28‧‧‧旋轉滾輪(自轉滾輪)

30‧‧‧變更調整機構

34B‧‧‧供應管

36‧‧‧第一珠擊幕裝置

38‧‧‧第二珠擊幕裝置

40A‧‧‧第一通道

40B‧‧‧第二通道

40C‧‧‧第三通道

42‧‧‧投射機

44‧‧‧投射材導入管

46‧‧‧關斷閘

48‧‧‧投射材料斗

52‧‧‧下部螺旋輸送機

54‧‧‧斗式升降機(珠擊搬運裝置)

54A‧‧‧滑輪

54B‧‧‧環狀帶

56‧‧‧分配箱

58B‧‧‧分配管

60‧‧‧選別器

62‧‧‧風力選別機構

82‧‧‧粗物排出管

84‧‧‧粗物排出箱

64B‧‧‧傾斜部

64C‧‧‧限制板

66A‧‧‧周壁部

66B‧‧‧自由落下區

66D‧‧‧分散捧

68‧‧‧沉降室部

68A‧‧‧引導板

72‧‧‧承接部

92‧‧‧計算部

94‧‧‧顯示部

96‧‧‧記憶部

F1‧‧‧朝上之氣流

F2‧‧‧迂回流

W‧‧‧工件

第1圖係本發明的一實施形態之珠擊裝置的正視圖。

第2圖係第1圖的珠擊裝置之右側視圖。

第3圖係第1圖的珠擊裝置之平面圖。

第4圖係表示第1圖的珠擊裝置之選別器的圖，第4圖(A)係沿著第4圖(B)的4A-4A線之剖面圖，第4圖(B)係選別器的正視圖。

第5圖係表示第1圖的珠擊裝置之旋轉滾輪的移位調整機構之圖，第5圖(A)為正視圖，第5圖(B)為側視圖。

第6圖係表示第1圖的珠擊裝置之工件的搬運狀態之正視圖。

參照第1圖至第6圖，就本發明的一實施形態之珠擊處理裝置之珠擊裝置加以說明。此外，上述的圖所示之箭頭符號FR表示正視裝置時之前面側，箭頭符號UP表示裝置的上方側，而箭頭符號LH表示正視裝置時之左側。

在第1圖係以正視圖表示珠擊裝置10，而在第2圖以右側視圖表示珠擊裝置10，而在第3圖以平面圖表示珠擊裝置10。本實施形態之珠擊裝置10的工件W係設為線圈彈簧等之圓筒型的製品。此外，在圖中適切表示之箭頭符號D係表示搬運工件W之搬運方向。

如第1圖所示，珠擊裝置10具備有機櫃12。機櫃12具備有外壁部，其係使作為投射材(珠擊、或珠擊材)使用在機櫃12內之鋼球不飛散到珠擊裝置10的外部之方式，而將珠擊裝置10之內部空間與外部空間予以隔開。此外裝置下部的底面形成為平面，亦即以裝置的上下方向之高度成為相同之方式而設定。

機櫃12在工件W的搬運方向之中間部具備有機櫃本體14。在機櫃本體14之內部形成有投射室14A(亦稱為「投射棚(booth)」、「加工室」、「研掃室」)。投射室14A係藉由利用後述之投射機42所投射之投射材，對工件W施行表面加工(在本實施形態中珠擊處理)的棚。

在機櫃本體14，係在工件W的搬運方向之上游側(圖中左側)形成有投射室入口14B，而在工件W的搬運方向之下游側(圖中右側)形成有投射室出口14C。投射室入口14B係用以將工件W搬入到投射室14A之開口，而投射室出口14C係用以將工件W從投射室14A搬出之開口。

於機櫃本體14之工件W的搬運方向之上游側(圖中左側)，係鄰接配置有構成機櫃12的一部分之上游側棚16。上游側棚16係形成有以投射室入口14B相通於投射室 14A之空間16A。

此外，於上游側棚16其用以搬入工件W之上游側棚入口(省略圖示)以與機櫃本體14之投射室入口14B相對之方式而形成。並且，相對於上游側棚16，在工件W的搬運方向之更上游側(圖中左側)，係設有將工件W安置(set)在珠擊裝置10用的安置部15。此外，於工件W為重，或高溫等之手工作業成為困難時，亦可在安置部15設置操縱器、操作裝置等搬入裝置(省略圖示)，而藉此搬入裝置將工件W予以機械性地投入。

另一方面，在機櫃本體14的工件W之搬運方向的下游側(圖中右側)，係鄰接而配置有構成機櫃12的一部分之下游側棚18。下游側棚18係形成有以投射室出口14C相通於投射室14A之空間18A。

此外，於下游側棚18，係與機櫃本體14之投射室出口14C相對地形成有用以搬出工件W之下游側棚出口(省略圖示)。

從上游側棚16之頂棚部及下游側棚18的頂棚部垂下有複數個帷幕狀之封條體(省略圖示)，該封條體係延伸於與加工搬運方向正交的方向用以防止投射材跳出。各封條體係在工件W之搬運方向隔著預定間隔，相互大致並行地配置。此封條體係以具備有彈性及可撓性之複數個長條材料所構成之門簾狀的構件(所謂的橡膠門簾)，而於工件W通過時，以彎曲於工件W的搬運方向之方式而設定。

於機櫃12的內部，設置有用以連續搬運工件W之鏈條輸送機20。此鏈條輸送機20具備有環狀鏈條22。鏈條22係捲繞於配置在搬入側之鏈輪24與配置在搬出側之鏈輪24。鏈輪24係連結在馬達等之驅動源25來進行旋轉驅動。

第6圖係表示利用鏈條輸送機20進行之工件W的搬運狀態之正視圖。此外，圖中前面側之後述的旋轉滾輪(spinner roller)28係在第5圖被省略。如第6圖所示，於鏈條220的外周面，係安裝有支撐工件W之複數個載具26。載具26係本體部分設為棒狀，沿著鏈條22的長邊方向而等間隔配置，且於鏈條22環繞時從搬運方向上游側來支撐工件W的端部，而連續地將工件W予以移送，如第5圖(B)所示，鏈條22係左右成對而設置，而載具26係垂直地以直立方式設置在架設於左右一對鏈條22之鏈板23上。

在鏈條22的上方側且在載具26的兩側，配置有利用自轉滾輪所構成之一對旋轉滾輪28。一對旋轉滾輪28係配置在工件W的搬運方向之兩側，且將工件W搭載在一對旋轉滾輪28上。此外，利用上述鏈條輸送機20及旋轉滾輪28來構成搬運工件W之搬運手段。

在一對旋轉滾輪28之軸部，設置有變更調整旋轉滾輪28間的距離之變更調整機構30。變更調整機構30具備有配置在載具26兩側之一對轉動臂30A，而轉動臂30A之前端部係以可轉動之方式支撐著一對旋轉滾輪28之中心軸。各轉動臂30A之基端部係配置在接近載具26之位置，且分別固定在轉動軸30B。

如第5圖(A)所示，轉動軸30B係以可轉動之方式被支撐在裝置框架側，並且透過環狀環帶30C而連接在作為驅動源之驅動馬達30D的軸部側。亦即，變更調整機構30係藉由對應驅動馬達30D的轉動而使轉動軸30B進行轉動，使得轉動臂30A在樞軸上轉動，如第5圖(B)所示，使旋轉滾輪28之軸部沿著圓弧軌道移位。

在本實施態樣的構成中，將大的工件W搭載在一對旋轉滾輪28時，以使一對旋轉滾輪28的軸部相互分離之方式移位成圓弧狀時，可降低一對旋轉滾輪28的高度位置。因此，在具備有本實施形態的變更調整機構30之裝置中，例如，與於使一對旋轉滾輪28之軸部水平移動於相互接近位置與分離位置之間之類的其他變更調整機構之裝置比較，可將大的工件W之上端高度位置抑制在低的位置，故可抑制載具26的長度，結果，可抑制整個裝置的高度。

此外，如第5圖(A)所示，在轉動臂30A的前端部，係透過支架31將驅動馬達29予以固定，而驅動馬達29之輸出軸連結在旋轉滾輪28的軸部。藉此方式，旋轉滾輪28係作成以中心軸為中心而可轉動驅動。第5圖(B)所示之一對旋轉滾輪28係以中心軸為中心，而形成轉動驅動於相同方向。此外，一對旋轉滾輪28的直徑最好為相同大小，且以相同的一定速度轉動。

再者，為了得到穩定的珠擊效果，工件W的位置控制為重要事項。為正確進行工件W的位置控制，旋轉滾輪28的自轉機構及工件W的搬運機構必須正確進行作動。

在旋轉滾輪28之自轉機構中，為了設定符合精加工品質之滾輪旋轉數最好裝設自轉滾輪變頻器，且作為穩定的製品搬運用而使用高精確度、壽命長的零件。藉由裝設自轉滾輪變頻器，可(容易)進行因應精加工品質之滾輪旋轉數的設定變更，且可進行與搬運速度連結之控制。此外，藉由在旋轉滾輪28使用高精確度、壽命長的零件而可防止或有效地抑制早期的偏磨損引起之搬運不良，且以最小的段差減少鉤住現象。

此外，用以穩定地搬運製品工件W的搬運機構係最好在鏈條22使用特殊鏈條，且為了設定符合精加工品質之搬運速度而最好裝設變頻器。

以特殊鏈條而言，為了抑制投射材(珠擊)之嚙入，使用具有間隙且具有耐磨損性的鏈條。藉由使用此種特殊鏈條，使得工件W之搬運機構的壽命延長且可防止或有效地抑制搬運故障。此外，藉由裝設變頻器，變得可(容易)進行對應精加工品質之搬運速度的設定變更，亦變得可進行與自轉轉動數連結之控制。

如第1圖所示，於機櫃12之工件W的搬運方向最下游側，設置有搬出滑槽32。搬出滑槽32係其上端部配置在旋轉滾輪28的延長線上，而於從機櫃12側離開之方向朝下方傾斜。亦即，搬出滑槽32為一種構件，其係將搭載在旋轉滾輪28而由鏈條輸送機20的載具26(參照第6圖)所移送來之工件W，引導到機櫃12外。

在機櫃本體14內之工件W的搬運通路之上方側安裝有複數台(在本實施形態中作為一例合計有二台)投射機42。投射機42係具有一般熟知的構造之離心式投射機，藉由設置有複數片葉片(blade)之葉輪(impeller)之轉動，將離心力賦予給控制箱(control cage)內之投射材(珠擊)，而通過控制箱的開口窗將投射材予以釋出。

亦即，投射機42係利用離心力使投射材加速，而朝向被搬運到投射室14A之工件W而將投射材投射於垂直下方或斜下方。此外，在本實施形態中，雖配置有複數台投射機42，但在本發明亦可為投射機42一台之構成。

在此，為了得到穩定的珠擊效果針對重要的珠擊投射管理加以補充說明。再者，為了得到穩定的珠擊效果，珠擊粒度管理亦成為重要事項，針對此點後述之。

關於珠擊投射管理、珠擊流量、葉輪轉動數及投射模式成為重要項目。

關於珠擊流量，為了穩定地投射適當量的投射材，最好設置珠粒槽位準器以及附檢測下限之葉輪電流計。珠粒槽位準器係安裝在後述之投射材料斗48，以進行珠擊補給時機(timing)的計量器。

附檢測下限之葉輪電流計係檢測投射不足，而於投射不足時，進行異常顯示，並且使裝置停止運作，以用以防止處理不充分的不良品從裝置流出之裝置。

關於葉輪轉動數，為了進行符合精加工品質之適當的投射速度之設定，且維持該狀態，最好進行檢查作為朝葉輪傳達驅動力用之V帶的狀態(磨損與延伸)以及裝設葉輪變頻器。藉由使用葉輪變頻器，可(容易)進行對應精加工品質之葉輪轉動數的設定變更。

關於投射模式，為了對工件(work)以適當的投射位置進行投射材之投射，最好設置一些功能，如針對控制箱的角度之顯示(以箭頭標識板標示基準位置)，以及通知有關葉輪的消耗品(葉片、控制箱、分配器等)之交換時期的功能。關於後者，係用以防止因葉輪相關零件的磨損而使投射位置、投射量產生變化之故。

於各投射機42之上方側，配置有投射材導入管44(亦稱為「導入管」)。投射材導管44的上端係透過關斷閘(cut gate)46(流量調整裝置)而連接在投射材料斗48(珠粒槽)。投射材料斗48係用以暫時儲存投射材之料斗。本實施形態之作為投射材料斗48的內部空間之主要部48A係以隔開壁48D隔開工件搬運方向的上游及下游側，且透過側部48B,48C隔開與工件搬運方向正交之方向的兩側。

在投射材料斗48之主要部48A的底部側，連接有前述之關斷閘46。此外，關斷閘46係用以將由投射材料斗48之主要部48A所供應之投射材的流量予以調整之開關閘門。

在投射材料斗48的左側之側部48B的底部側，係透過供應管34A而連接有第一珠擊幕裝置36。第一珠擊幕裝置36係配置在投射室入口14B之上方側且固定在機櫃12。第一珠擊幕裝置36具備有連接在供應管34A之容器部36A，並且具備有連接在容器部36A的底部之朝下的矩形管36B。矩形管36B係形成為矩形筒狀，使用在用以使投射材流出。

容器部36A的內部空間係透過上部隔開板隔開為上部空間與其下方側空間。而且，在第一珠擊幕裝置36，設置有可開關上部隔開板的開口部之閘門機構36D。此外，於容器部36A之內部的上部隔開板之開口部的下方側，係設置有朝上方開口之箱狀的承接部，而承接部係以暫時將通過上部隔開板之開口部而落下的投射材予以承接後再將之朝下方側供應之方式所構成。

如此構成之第一珠擊幕裝置36係經由容器部36A且通過矩形管36B，使從供應管34A供應之投射材，從投射室入口14B的上部連續落下成幕狀，而可產生所謂的珠擊幕。亦即，投射室入口14B係具備有透過閘門機構36D的閘門開關來開關珠擊幕之構造。

此外，在投射材料斗48右側的側部48C之底部側，係透過供應管3B連接有第二珠擊幕裝置38。第二珠擊幕裝置38係配置在投射室出口14C的上方側且固定在機櫃12。第二珠擊幕裝置38具備有連接在供應管34B之容器部38A，且具備有連接在容器部38A的底部之朝下的矩形管38B。矩形管38B形成為矩形筒狀，且設為投射材之流出用。

容器部38A之其內部空間係透過上部隔開板而隔開為上部空間與其下方側空間。而且，在第二珠擊幕裝置38，係設置有可開關上部隔開板的開口部之閘門機構38D。此外，於容器部38A的內部中，在上部隔開板之開口部的下方側係設置有朝上方開口之箱狀的承接部，而承接部係以暫時將通過上部隔開板之開口部而落下的投射材予以承接後再將之朝下方側供應之方式所構成。

如此構成之第二珠擊幕裝置38係使從供應管34B所供應之投射材，經由容器部38A且通過矩形管38B而從投射室出口14C的上部連續落下成幕狀，而可產生所謂的珠擊幕。亦即，投射室出口14C具備有利用閘門機構38D的閘門開關來開關珠擊幕之構造。

此外，在機櫃12上配置於第一珠擊幕裝置38與第二珠擊幕裝置38間之投射機42，係透過投射材導入管44、關斷閘46及投射材料斗48的主要部48A而連結在循環裝置50。循環裝置50係用以將利用投射機42所投射之投射材予以搬運且使之朝投射機42循環之裝置，且在機櫃12的內部之鏈條輸送機20的下方側具備有下部螺旋輸送機52。

下部螺旋輸送機52係以工件W的搬運方向作為長邊方向而配置成水平。下部螺旋輸送機52之螺旋葉片的螺旋捲繞方向係於配置在珠擊裝置10的搬運方向上游側之部位與配置在珠擊裝置10的搬運方向下游側之部位設為反方向。結果，下部螺旋輸送機52係藉由以軸為中心進行轉動，而從珠擊裝置10之搬運方向上游側及下游側將被投射之投射材等搬運到中央部側，而可將投射材等在一處所予以回收。

下部螺旋輸送機52之珠擊裝置10的搬運方向中央部，係與在投射材的回收路徑所配置的斗式升降機(bucket elevator)54(第2圖)之下部收集部鄰接而配置。而且，斗式升降機54係利用下部螺旋輸送機52，而將從珠擊裝置10的搬運方向上游側及下游側搬運到中央部側之投射材等由下部螺旋輸送機52予以承接。

斗式升降機5為一般熟知的構造故省略詳細的說明，惟其具有一種構造，係將環狀帶54B捲繞於配置在珠擊裝置10的上部及下部之滑輪54A，而在此環狀帶54B安裝有多數的吊桶(省略圖示)。

滑輪54A利用馬達進行轉動驅動。藉由此轉動驅動，斗式升降機5利用吊桶將落下到珠擊裝置10的下部且利用下部螺旋輸送機52回收之投射材等(包含被投射在工件W之投射材與粉粒狀的異物之混合物)予以舀取，且從珠擊裝置10的下部將之朝上部(機櫃12之上方側)搬運。

在本實施態樣中，藉由下部螺旋輸送機52、斗式升降機54等，構成投射材的回收機構。

於斗式升降機54之上端部的裝置前側，係鄰接配置有分配箱56，且透過斗式升降機54之上部搬出口(投出口部)而與分配箱56相通而連接。

如第1圖及第2圖所示，分配箱56係將從斗式升降機54之吊桶被投射之投射材分配到用以供應到投射機42之第一通道40A、用以供應到第一珠擊幕裝置36之第二通道40B、以及用以供應到第二珠擊幕裝置38之第三通道40C。

第一通道40A係投射材從分配箱56通過選別器(separator)60、投射材料斗48之主要部48A、關斷閘46以及投射材導入管44到達投射機42之通道。

此外，第1圖所示之第二通道40B係投射材從分配箱56通過分配管58A、投射材料斗48的左側之側部48B以及供應管34A到達第一珠擊幕裝置36之通道。

並且，第三通道40C係投射材從分配箱56通過分配管58B、投射材料斗48的右側之側部48C以及供應管34B到達第二珠擊幕裝置38之通道。

如第2圖所示，斗式升降機54的上部排出側係透過分配箱56而連接在選別器60(風力選別機構62)，並且透過分配箱56而不透過選別器60(風力選別機構62)而連接在第一珠擊幕裝置36(參照第1圖)及第二珠擊幕裝置38。

在第4圖顯示有具備有風力選別機構62之選別器60(相向式分級裝置)的構成。第4圖(A)係選別器60之側剖面圖(沿著第4圖(B)的4A-4A線之剖面圖)，而第4圖(B)係選別器60之正視圖。再者，在以下的第4圖之說明中，將與裝置左右方向相同的方向稱為選別器寬度方向。

選別器60係設置在用以將被投射到工件W的投射材予以回收之回收路徑，如第4圖(A)所示，具備有通往集塵機80的吸氣側之沉降室部68。在沉降室部68之上側部形成有導管連接用的凸緣68B(參照第4圖(B))。

此外，集塵機80係用以回收混入到投射材之細粉等的異物(雜質)，且具備吸入空氣之吸入裝置(鼓風機)，透過吸引導管70(選別器導管)連接在沉降室部68。在沉降室部68之氣流上游側，設置有相向風選部66。此外，於相向風選部66的與沉降室部68側相反之側的側面，設置有供應部64，其係用以將從斗式升降機54的上部搬出口搬出之投射材等供應給相向風選部66。

在供應部64，水平地安裝有將供應部64區分為上下2個空間之網眼狀的濾網(screen)64A。濾網6A之網眼的粗細係設定為投射材可通過之大小。於比供應部64的濾網64A更下方側，形成有傾斜部64B。傾斜部6B係設置在相向風選部66之流路上游側，且朝下方側傾斜於相向風選部66側(亦即，斜下方)，且設成以供應給相向風選部66(自由落下區66B)之投射材與異物的混合物流動之方式而流下之區域。

此外，在供應部64之最下游部，設置有限制板64C，其係以將與相向風選部66之相通開口部65的上部側予以塞住之方式而配置。限制板64C係延伸於選別器寬度方向(與第4圖(A)的紙面垂直之方向)之板體。限制板64C係藉由其上端部於相通開口部65的上方側固定在供應部6與相向風選部66的隔板，而以下垂於下方，且在限制板64C的下端緣與傾斜部64B的下游端之間形成延伸於選別器寬度方向的細長間隙之方式而配置。通過此間隙，使投射材與異物之混合物流出。此外，限制板6C的高度位置係設為可調整。

傾斜部6B係設置於使混合物自由落下之自由落下區 66B的流路上游側，而限制板64C具有一功能，係將從供應部64朝相向風選部66流出之粉粒物(包含投射材之混合物)的層充分擴展於選別器寬度方向(與第4圖(A)的紙面垂直的方向)且加以均勻化。

相向風選部66具備有形成為筒狀而延伸於珠擊裝置10的上下方向之周壁部66A。周壁部66A係將其內側設為空氣通路，且在長邊方向中間部，開口有形成於限制板64C的下端緣與傾斜部6B的下游端之間的間隙作為與供應部64相通之口。

在周壁部66A中比與供應部64之相通部更下方側之部位的內側空間，係設為用以使混合物自由落下之自由落下區66B。

周壁部66A的下端開口部66C係設為朝下開口之空氣導入口，且在其外周側，將未圖示之網眼狀的濾網伸展為水平。因此，在自由落下區66B中，當集塵機80作動時，通過濾網之外氣從周壁部66A之下端開口部66C流入而產生通過周壁部66A之朝上的氣流f1。

在周壁部66A之下部，係以橫切自由落下區66B之方式安裝有複數根分散捧66D。分散棒66D具有角柱或圓柱的形狀，而以隔著間隔而在傾斜部66B的延長線上隨著從傾斜部64B離開而位於下方之方式配置。分散捧66D係以使自由落下到自由落下區66B內之投射材與異物之混合物，在自由落下區66B內分散之方式而構成，而且，藉由利用分散棒66D將自由落下之投射材與異物之混合物予以分散，使得在落下的混合物之間產生適度的空間，而自由落下區66B內之朝上的氣流f1，在落下的混合物之間大致均勻地流動。結果，朝上之氣流在自由落下之投射材與異物之間大致均勻地流動，而可容易利用朝上之氣流來進行混合物的選別(分級)。

分散棒之間隔係不使投射材在分散棒上滯留，且為不阻礙氣流f1之寬度，並設定在可將自由落下之投射材與異物均勻地分散之間隔。

於風力選別機構62之自由落下區66B的下方側，係在周壁部66A之下端開口部66C的相對向位置設置有凹狀(碟狀)的承接部72。承接部72係設為防止因投射材而引起的零件的磨損之用，暫時將自由落下之投射材予以承接，而使落下停止後，將之供應給其下方側之投射材料斗48的主要部48A(參照第1圖)。

透過以上之構成，在相向風選部66中，藉由朝上流通之氣流f1而使投射材與粉粒狀的異物之混合物自由落下，使得被乘載在氣流f1之輕量物，從落下之(參照箭頭符號S1方向)重量物分離。

更具體而言，相向風選部66係將被乘載在氣流f1之「粒徑小且輕之物」(異物)與落下之「粒徑大且重之物」(投射材)予以選別。

於沉降室部68之上部，係以從上壁側下垂之方式配置有引導板68A。引導板68A係將包含利用集塵機80之吸入力被吸入到沉降室部68內部之粉粒物的空氣予以引導，而產生使該空氣作為分級流之迂回流f2。

亦即，沉降室部68利用迂回流f2將所吸入之空氣中的粒子予以分離(選別)。更具體而言，沉降室部68係從所吸入之粉粒物(異物)中，將粒徑更小且輕的細粉(粉狀物)等乘載於氣流且將之朝集塵機80側排出(箭頭符號S3)，且使粒徑更大且重的細粉(粒狀物)等落下(箭頭符號S2)，並經由第2圖所示之粗物排出管82而將之朝粗物排出箱84側予以排出。

為了得到穩定的珠擊效果，珠擊粒度管理乃重要事項，而分級裝置(選別器60)的構成及集塵風量的管理成為重點。關於分級裝置，為了維持珠擊粒度，如前述，採用相向式分級裝置。藉由使用此種相向式分級裝置，比起直向式分級裝置可進行精確度更佳的(細緻的)粒度管理。此外，關於集塵風量之管理，為了維持分級裝置的性能，較佳係將差壓上限開關設置在集塵機80(參照第3圖及第4圖(A))等，藉此使之具有差壓上限檢測功能，而在風量成為必要量以下時使之進行異常顯示。

此外，在珠擊裝置10中，為了得到穩定的珠擊效果，消耗品管理亦為重要事項，且為了預防安全顯示交換時期成為重點事項。因此，例如，最好在如第3圖所示之控制盤90A等設置消耗品之通知功能且利用觸控面板顯示消耗品的交換時期，此外，較佳係將消耗品交換記錄顯示在控制盤90A等而可掌握消耗品的交換周期。

作為構成珠擊裝置10之消耗品，有構成第1圖至第3 圖所示之投射機42的各消耗品、構成用以搬運工件W的搬運機構之各消耗品、構成循環裝置50之各消耗品、以及關於投射室14A內的保護襯墊(liner)之各消耗品等。

在構成投射機42之各消耗品方面，例如有：葉刀、控制箱、分配器以及襯墊相關的零件。於構成用以搬運工件W的搬運機構之各消耗品方面，例如有：旋轉滾輪28、鏈條22、載具26以及搬運導件。於構成循環裝置50之各消耗品方面，例如有：下部螺旋輸送機52、斗式升降機54之環狀帶54B以及斗式升降機54之吊桶。

如第3圖所示，在本實施形態中，具備有控制盤90A之控制裝置90係具備有計算部92。計算部92係由電腦等所構成，關於構成珠擊裝置10之各消耗品，係將其操作時間tx(消耗時間)，與預先設定之壽命時間tz進行比較，來計算各消耗品的交換時期。在此，操作時間tx係計量為與投射機42之投射時間相等的時間，且利用定序器控制予以累計。而且，於控制盤90A設置有顯示部94(顯示器)，而顯示部94係設為可顯示計算部92的計算結果。

控制裝置90係對應控制盤90A的操作等，而將計算部92的計算結果全部，或一部分顯示在顯示部94。在後者之例(顯示一部分)中，控制裝置90亦可具備用以界定顯示對象之判定部(省略圖示)。關於構成珠擊裝置10之各消耗品，判定部例如將該操作時間tx，與比壽命時間tz更短而預先設定之標準時間ta進行比較，來判定操作時間tx是否超過標準時間ta。而且，控制裝置90以僅就由判定部判定操作時間tx超過標準時間ta之消耗品，將其交換時期在顯示部94中予以顯示之方式來進行控制。

再者，控制裝置90具備有記憶部96。例如，從控制盤90A透過作業者將針對構成珠擊裝置10的各消耗品之交換記錄的資訊予以輸入到記憶部96。而且，記憶部96係將針對構成珠擊裝置10的各消耗品之交換記錄的資訊予以記憶。另一方面，顯示部94係設為可將在記憶部96所記憶之交換記錄的資訊予以顯示。亦即，例如，在控制盤90A有要求前述交換記錄之資訊的顯示之操作時，將交換記錄的資訊顯示在顯示部94。

記憶部96亦可為將過去所發生之動作異常記錄的資訊予以記憶者，而顯示部91亦可設為可將在記憶部9所記憶之動作異常記錄的資訊予以顯示者。藉由具有此種動作異常記錄的顯示功能，變得容易掌握動作異常發生的頻率與傾向，而預先防止重大故障的發生。再者，於解析動作異常之原因時，從動作異常發生記錄可某種程度推測動作異常的原因。因此，具有動作異常記錄之顯示功能，亦有助於從動作異常狀態之早期復原。

其次，就前述實施形態之珠擊裝置10的動作加以說明。

在本實施形態之珠擊裝置10中，投射機42將投射材投射到第1圖所示之工件W。在本實施態樣中，將線圈彈簧等之圓筒狀的工件進行處理。

在用以將被投射到工件W之投射材予以回收之回收路徑，設置有第4圖所示之風力選別機構62，而此風力選別機構62係藉由一邊使包含投射材與粉粒狀的異物之混合物自由落下，一邊將朝上之氣流f1吹向混合物，來選別為被乘載在氣流f1之輕量物與落下之重量物。如此藉由將朝上之氣流f1吹向自由落下之混合物，可精準地進行選別。此外，在混合物中含有大量輕量的異物時可有效率地進行選別。

在此，在風力選別機構62係於使混合物自由落下之自由落下區66B的流路上游側設置有傾斜部64B，而此傾斜部64B係設為傾斜於斜下方而作為使混合物朝自由落下區66B流動之用。

以在與傾斜部64B的下端之間形成間隙之方式而配置之限制板64C，使混合物從傾斜部6B的下端部之間隙自由落下。藉此方式，混合物之朝自由落下區66B之流量係一邊受到限制板64C控制而一邊被擴展到限制板64C之板寬度方向而自由落下，而可容易利用朝上之氣流f1來進行混合物的選別。

再者，於使混合物自由落下之自由落下區66B的周壁部66A係跨設有複數根分散棒66D，故在周壁部66A之內側係透過複數根分散棒66D使自由落下之混合物分散。如此，藉由利用分散棒66D使混合物分散，使得朝上之氣流f1大致均勻地流動，結果容易利用氣流f1進行混合物的選別(分級)。

再者，於風力選別機構62之相向風選部66的下方側，係設置有凹狀的承接部72，而自由落下之投射材暫時被承接到承接部72後被供應給其下方側的投射材料斗48之主要部48A(參照第1圖)。藉此方式，可抑制位於下方之零件受到投射材所引起之磨損。

此外，在本實施形態中，於風力選別機構62之輕量物的流路之下游側，設置有利用引導板68A使之產生迂回流f2之沉降室部68，輕量物係透過沉降室部68而將被乘載於迂回流f2之粉狀物與落下之粒狀物予以分離。然後，粉狀物被排出到集塵機80側，而粒狀物經由第2圖所示之粗物排出管82而被排出到粗物排出箱84側。

藉由利用以上說明之作用，提高分級能力，而可使供應給投射機42之投射材的粒度穩定。結果，可得到穩定的珠擊效果。

在本實施形態中，如第1圖所示，第一珠擊幕裝置36使投射材從投射室入口14B的上部連續落下，且第二珠擊幕裝置38使投射材從投射室出口14C的上部連續落下。因此，即使有由投射機42所投射之投射材，即將從投射室入口14B及投射室出口14C跳出，亦會與連續落下之投射材相撞而阻止其跳出。

如此，藉由採用第一珠擊幕裝置36及第二珠擊幕裝置38，來防止投射材的飛散故可縮短整個裝置的長度，並且可降低所謂的橡膠門簾之設置條數。此外，在第一珠擊幕裝置36及第二珠擊幕裝置38，由於可封閉無法由所謂的橡膠門簾封閉之部分(例如，伴隨著作為工件之線圈彈簧的通過而於橡膠門簾捲起時之線圈彈簧的內側等)，故亦降低投射材之朝裝置外之飛散量。

落下到裝置下部之投射材係利用設置在回收路徑之斗式升降機04被搬運到裝置上部。在此，第1圖及第2圖所示之斗式升降機54的上部排出側係連接在風力選別機構62，並且不經由風力選別機構62而亦連接在第一珠擊幕裝置36及第二珠擊幕裝置38。因此，可將朝風力選別機構62之過剩的投射材等之供應予以抑制，故可抑制風力選別機構62及集塵機80(參照第3圖)的大型化。

此外，在本實施形態之珠擊裝置10中，如第5圖及第6圖所示，工件W係於鏈條22環繞時被載具26按壓於搬運方向來予以搬運。在鏈條22之上方側且相對於載具26配置在兩側之一對旋轉滾輪28係以工件W的搬運方向為中心併設在左右，並且以搬運方向之延伸的軸線為中心而可進行轉動驅動，來搭載工件W。因此，藉由將工件W搭載在一對旋轉滾輪28上且旋轉滾輪28進行轉動，而利用投射機42(參照第1圖)對工件W予以投射時可徹底地對工件W進行珠擊處理。

如第5圖(B)所示，一對旋轉滾輪28之間隔係藉由變更調整機構30而可變更調整。因此，可對應工件W的大小(直徑)來變更一對旋轉滾輪28的間隔，故可抑制載具26之裝置上下方向的長度。亦即，例如，將大的工件W搭載於一對旋轉滾輪28時若擴展一對旋轉滾輪28的間隔，即可將工件W之上端高度位置抑制在低的位置，故可將按壓工件W之載具26的裝置上下方向之長度予以抑制，而可抑制珠擊裝置10之整個裝置的高度。再者，藉由一對旋轉滾輪28的間隔成為可變更調整，且可將種種的外徑之工件W搭載在一對旋轉滾輪28上，故可對種種的外徑之工件W進行珠擊處理。

再者，如第1圖所示，珠擊裝置10之裝置下部的底面形成為平面，故不必挖掘凹坑，且可抑制裝置的大型化。

如以上說明，依據本實施形態之珠擊裝置10，既可抑制裝置的大型化，又能精確產生地將回收之投射材與異物予以分離。

在本實施形態中，控制盤90A的顯示部94將構成珠擊裝置10之各消耗品的交換時期及交換記錄之資訊予以顯示，故藉由以此資訊的顯示作為參考來交換前述消耗品，得以預先防止投射位置與投射量的變化以及搬運故障。

此外，所謂「搬運故障」係指由於不正常搬運工件W(例如，因工件W之轉動不足或工件W的鉤住)而不均勻地將投射材投射到工件W而得不到穩定的珠擊效果，或工件W在機櫃12內完全鉤住而無法處理。

在前述實施形態中，雖使用離心式的投射機42作為投射機，但投射機例如亦可為一種將投射材與壓縮空氣一起予以壓送而從噴嘴噴射之空氣噴嘴式的投射機等之類的其他投射機。

此外，在前述實施形態中，雖將珠擊處理裝置設為珠擊裝置10，但珠擊處理裝置亦可為噴丸處理(Shot blast)裝置等之類的其他珠擊處理裝置。此外，亦可將與珠擊裝置10相同的構成之裝置，作為珠擊裝置兼噴丸處理裝置來使用。

此外，在前述實施形態中，如第4圖(A)所示，風力選別機構62雖具備有傾斜部64B及限制板64C，但亦可設為風力選別機構不具備上述構件之構成。

再者，在前述實施形態中，限制板64C係以姿態不變化之方式固定在供應部64與相向風選部66之隔板，但限制板例如亦可為一種其上端部可轉動移動於選別器寬度方向(與第4圖(A)的紙面垂直的方向)之軸周圍之類的其他限制板。

此外，在前述實施形態中，風力選別機構62具有複數根分散棒66D，但亦可採用風力選別機構不具備複數根分散棒之構成。

再者，在前述實施形態中，在風力選別機構62之相向風選部66的下方側設置有凹狀的承接部72，而亦可採用在風力選別機構之下方側沒設置此種承接部之構成。

此外，在前述實施形態中，在風力選別機構62之輕量物的流路之下游側設置有沉降室部68，但取代沉降室部68亦可採用設置大致圓筒狀之氣旋部之構成或不設置沉降室部之構成。

此外，作為前述實施形態之變形例，亦可採用一種將作為珠擊搬運裝置之斗式升降機(54)的上部排出側經由風力選別機構(62)而連接在第一珠擊幕裝置(36)及第二珠擊幕裝置(38)之構成。

再者，在前述實施形態中，雖將落下到裝置下部之投射材搬運到裝置上部之珠擊搬運裝置設為第2圖等所示之斗式升降機54，但珠擊搬運裝置亦可為一種例如將軸線方向設定在裝置上下方向之螺旋輸送機等之類的其他珠擊搬運裝置。

此外，在前述實施形態中，如第5圖所示，變更調整機構30具備轉動臂30A，且藉由轉動移動將作為一對自轉滾輪之旋轉滾輪28的間隔進行變更調整，但變更調整機構例如亦可為具備小齒輪及齒條，而利用襯墊移動將一對自轉滾輪的間隔予以變更調整之類的其他變更調整機構。此外，珠擊處理裝置亦可為不具備變更調整機構之類的構成。

此外，作為前述實施形態之變形例，亦可將裝置下部的底面之一部分，設定為與底面之其他部分不同的高度。

再者，作為前述實施形態之變形例，亦可採用不具有如第3圖所示之計算消耗品的交換時期之計算部92的構成，亦可採用不具備記憶有關消耗品之交換記錄的資訊之記憶部96的構成。

此外，在本實施形態中，顯示部94可顯示計算部92之計算結果，且可顯示在記憶部96所記憶之交換記錄的資訊，但亦可別個設置可顯示計算部(92)的計算結果之顯示部與可顯示在記憶部(96)所記憶之前述交換記錄的資訊之顯示部。

再者，前述實施形態及上述之複數個變形例係可適當地組合來予以實施。