TWI576171B - Substrate processing device - Google Patents

Description

基板處理裝置

本發明係關於基板處理裝置。

液晶顯示裝置之製造工程包含藉由對玻璃基板等之被處理基板供給洗淨液等之處理液，對被處理基板之表面進行洗淨處理的處理工程。用以實施如此之工程的基板洗淨裝置係一面藉由搬運手段搬運處理對象之基板，一面使用噴淋噴嘴等對其基板表面供給洗淨液，並且使用刷具等擦拭基板之表面，依此進行基板洗淨。

該些基板洗淨裝置中，如圖7所示般，從作為洗淨液供給手段之噴淋噴嘴31，對藉由搬運手段33被搬運之基板W之表面供給洗淨液L，將從基板W落下之洗淨液L經設置在處理槽30之底部的配管34而回收置無圖示之液槽，使此循環供給至噴淋噴嘴31而予以再利用。

但是，在如此之基板洗淨裝置中所使用之洗淨液以使用包含界面活性劑之洗淨液等、持有容易起泡、難以消泡之性質的液體為多。當經過對基板供給如此之洗淨液，且以刷具等擦拭之工程時，大量產生氣泡。如圖7所示般， 大量產生氣泡A之洗淨液當經處理槽30之底部之配管34而被回收之時，有僅氣泡A殘留在處理槽30，無法完全回收之情形。依此，成為在處理槽30之底部和搬運手段33上之基板W之間存在大量之氣泡A之狀態。

然而，近年來，處理預定的基板有成為厚度為1mm以下的非常薄且輕之基板的傾向。當對如此之基板重覆上述洗淨處理，在搬運手段33附近大量產生氣泡A時，氣泡A將搬運手段33上之基板W向上推壓，使得基板W從搬運手段33脫落，或基板W傾斜。依此，來自噴淋噴嘴31的洗淨液不均勻地被供給至基板表面，有無法均勻地進行洗淨處理之問題。

因此，雖然採取考慮增大配管34之直徑，或設置複數個配管34之等之對策，但是即使藉由該些對策，雖然提升洗淨液之回收效率，但是氣泡A之回收仍不夠充分。

並且，若從處理槽30之底部至搬運手段33上之基板W之背面為止之距離充分時(例如在較500mm高之位置具備搬運手段33等)，雖然不會因為氣泡A使得基板W被上推，但是實際上為了防止裝置過大，從處理槽30之底部至搬運手段33上之基板W之背面為止之距離成為200~300mm左右。

再者，即使非先前所述之薄的基板，當氣泡A接觸到基板時，在其部分產生處理不均，其結果，有無法均勻地進行洗淨處理之問題。

本發明係以提供防止氣泡之影響，並且可以藉由處理液良好地進行處理之基板處理裝置為目的。

本發明之基板處理裝置係藉由對利用搬運手段被搬運之基板供給處理液對基板進行處理之基板處理裝置，其特徵為具有：處理槽；處理液供給手段，其係對在上述處理槽中藉由上述搬運手段被搬運之上述基板供給上述處理液；液槽，其係被設置在上述處理槽之下方，貯留上述處理液；第1回收配管，其係連接上述處理槽之底部和上述液槽；吸入部，其係被設置在較上述處理槽中藉由上述搬運手段被搬運之上述基板之背面更下方之區域；第2回收配管，其係連接上述吸入部和上述液槽；及減壓手段，其係被設置在上述第2回收配管，使上述第2回收配管之上述吸入部側成為負壓狀態。

若藉由本發明之基板處理裝置時，可以邊防止氣泡之影響邊藉由處理液良好地進行處理。

10‧‧‧洗淨槽

11‧‧‧噴淋噴嘴

12‧‧‧供給配管

12a‧‧‧供給部

13‧‧‧搬運手段

13a‧‧‧搬運軸

13b‧‧‧輥

14‧‧‧第1回收配管

15‧‧‧第2回收配管

15a‧‧‧吸入部

15b‧‧‧吸入孔

16‧‧‧抽氣器

16a‧‧‧氣體取入口

16b‧‧‧氣泡吸入部

16c‧‧‧排出口

17‧‧‧第3回收配管

18‧‧‧抽氣器

30‧‧‧處理槽

31‧‧‧噴淋噴嘴

33‧‧‧搬運手段

34‧‧‧配管

100‧‧‧基板洗淨裝置

151a‧‧‧吸入部

151b‧‧‧吸入孔

200‧‧‧基板處理裝置

P‧‧‧泵

T‧‧‧液槽

L‧‧‧洗淨液

B‧‧‧刷具

W‧‧‧基板

A‧‧‧氣泡

圖1為表示與本發明之第1實施形態有關之基板處理裝置之概略的圖示。

圖2為表示放大與本發明之第1實施形態有關之基板處理裝置之洗淨槽的圖示。

圖3為表示放大與本發明之第1實施形態有關之基板處理裝置之減壓手段的圖示。

圖4為從圖1或圖2所示之箭號R方向觀看與本發明之第1實施形態有關之基板處理裝置之洗淨槽的圖示。

圖5為與本發明之第2實施形態有關之吸入部之俯視圖。

圖6為表示與本發明之第3實施形態有關之基板洗淨裝置之概略的相當於圖1之圖示。

圖7為表示以往之基板洗淨裝置中之洗淨槽的圖示。

針對第1實施形態參照圖1至圖4予以說明。

如圖1~圖4所示般，與第1實施形態有關之基板洗淨裝置100(基板處理裝置之一例)具有洗淨槽10和搬運手段13。搬運手段13係在作為處理槽之洗淨槽10內，具備於與玻璃基板W之搬運方向(在圖1中從紙面左邊至右邊)正交之方向(以下，也稱為「基板W之寬度方向」)延伸，並且，沿著搬運方向以一定間隔設置複數個之搬運軸13a，和在各搬運軸之軸方向以一定間隔設置複數個，並且抵接於基板W之下面搬運基板W之輥13b。而且，基板洗淨裝置100具有對藉由搬運手段13被搬運之基板W供給洗淨液L(例如，藥液等之處理液)至其上面之供給部12a。供給部12a係在其長邊方向以特定間隔具有複數個噴淋噴嘴11(處理液供給手段)，如此之供給部12a係沿著洗淨槽10內之基板W之寬度方向而設置複數個(參照圖4)。

在洗淨槽10之下方，設置貯留洗淨液L之液槽T，設置有從液槽T對供給部12a供給洗淨液L之供給配管12。在該供給配管12具備有用以輸送液槽T內之洗淨液L的泵P。本實施形態中之洗淨液L為例如包含界面活性劑之洗劑，為具有容易起泡，而且所產生之氣泡難以消失之性質的液體。洗淨槽10之底部和液槽T藉由第1回收配管14被連接。具體而言，第1回收配管14之一端在洗淨槽10之底部開口，第1回收配管14之另一端在液槽T內開口。依此，在洗淨槽10內被供給至基板W之洗淨液L藉由其自重經由第1回收配管14，被回收至液槽T。在供給配管12設置有無圖示之過濾器，於使使用完之洗淨液L藉由泵P從液槽T再次供給至噴淋噴嘴11之時，可以除去洗淨液L內之異物。

在洗淨槽10之側壁部，貫通該側壁部，設置有第2回收配管15。而且，在第2回收配管15中位於洗淨槽10之內部之一端，設置有沿著基板W之寬度方向延伸之吸入部15a。該吸入部15a係在較藉由搬運手段13被搬運之基板W之背面更下方，而且沿著洗淨槽10中之基板W之搬運方向之下游側(在圖1中以箭號R表示之方向)之壁部而設置。在第2回收配管15之途中，具備有當作減壓手段之抽氣器16，藉由對氣體取入口16a(參照圖3)供給氣體，使第2回收配管15中之抽氣器16之上游側產生負壓。詳細於後述。

圖2表示放大與本發明之實施形態有關之基板洗淨裝 置100之洗淨槽10之圖示。

如上述般，在洗淨槽10之底部設置有第1回收配管14，使用完之洗淨液L經該第1回收配管14被回收。然而，因洗淨液L係具有容易起泡之性質的液體，故洗淨液L本身被回收，但是由於洗淨時產生之氣泡A，例如洗淨液L被供給至基板W之衝擊，或以刷具B擦拭被洗淨液濕潤之基板W之表面，使得所產生之氣泡A大多殘留在洗淨槽10之底部，逐漸被蓄積。當從該角度來看時，洗淨槽10雖然不完全但也當作氣液分離裝置而發揮功能，具有使包含氣泡A之洗淨液L分離成氣泡A和液之功能。在此，「雖然不完全」係指經第1回收配管14，一部分的氣泡A連同洗淨液L本身被回收至液槽T之故。並且，如本實施形態般，在洗淨槽10和液槽T以第1回收配管14被連接之狀態下，洗淨液本身主要經第1回收配管14被快速回收，成為氣泡A主要殘留在洗淨槽10之狀態。第1回收配管14之直徑係考慮從供給部12a被供給之洗淨液L之供給量或在洗淨槽10產生之氣泡A之大小等，藉由實驗等而決定。若使第1回收配管14之直徑越大，越可以使在洗淨槽10內之氣泡A連同洗淨液L經第1回收配管14回收至液槽T。但是，包含較多的氣泡A之洗淨液L經由供給配管12而被供給至基板W，引起處理不均之危險性變高。

在洗淨槽10之側壁部，於較藉由搬運手段13被搬運之基板W之背面更下方之區域，連接第2回收配管15之 一端，在第2回收配管15之一端設置有吸入部15a。再者，第2回收配管15之另一端係被設置在較被貯留於液槽T之洗淨液L之液面更低之位置(參照圖1)。

圖3表示放大與本發明之實施形態有關之基板洗淨裝置100之減壓手段的抽氣器16之圖示。

如圖3所示般，抽氣器16具有：用以從外部將空氣等之氣體供給至內部之氣體取入口16a；和利用藉由該氣體之流動產生之吸引力，將配置在洗淨槽10內之吸入部15a吸取之氣泡A，取入至抽氣器16本體之筒狀氣泡吸入部16b；和將來自取氣體取入口16a之氣體，和來自氣泡吸入部16b之氣泡A(也包含實際上與氣泡A一起被吸引之少量之洗淨液L)排出至下游側之第2回收配管15之排出口16c。來自氣體取入口16a之氣體係從氣泡吸入部16b之外側如圖3所示之箭號般流至排出口16c之一側。依此，在氣泡吸入部16b側產生負壓。

如圖2及圖4所示般，在第2回收配管15於其一端連接吸入部15a，該吸入部15a被設置成能夠與積存於洗淨槽10之底部的氣泡A接觸。該吸入部15a如先前所述般，被設置成在基板W之寬度方向延伸，在本實施形態中，從由配管構成。而且，沿著該配管之延伸方向以一定間隔在配管上設置複數個吸入孔15b。複數個的吸入孔15b朝向基板W之搬運方向上游側(在圖1、圖2中為左方向)。

接著，參照圖1~圖4，針對上述基板洗淨裝置100 進行的基板洗淨處理工程進行說明。並且，以下之動作控制所有藉由無圖示之控制部而進行。

首先，基板W藉由搬運手段13被搬入至基板洗淨裝置100之洗淨槽10內。供給部12a經供給配管12被供給液槽T內之洗淨液L，從噴淋噴嘴11對基板W供給洗淨液L。當從噴淋噴嘴11被供給之洗淨液L到達至基板W之表面時，進入刷具B等之洗淨手段和基板W之間，進行基板W之洗淨處理。洗淨處理所使用之洗淨液L從基板W之表面溢出至洗淨槽10之底部，並且經第1回收配管14依序被回收至液槽T。液槽T因被設置在洗淨槽10之底部之下方，故洗淨液L藉由重力自動性地朝下方之液槽T落下，依此被回收。第1回收配管14由於係主要回收洗淨處理所使用之洗淨液L之配管，故可以稱為液體回收專用之配管。

在洗淨槽10中，洗淨液L藉由第1回收配管14幾乎被回收，主要僅殘留氣泡A。於是，藉由無圖示之控制部，在每特定時間使抽氣器16動作，依此殘留在洗淨槽10之底部的氣泡A，從第2回收配管15強制性地朝向液槽T回收。第2回收配管15由於係主要回收氣泡A之配管，故可以稱為氣泡回收專用配管。

並且，為抽氣器16動作之間隔的特定時間，被設定成殘留在洗淨槽10之底部的氣泡A(氣泡A存在的高度位置)不到達至基板W之背面。當抽氣器16在每特定時間動作時，第2回收配管15之抽氣器16之上游側成為負壓 (負壓狀態)，藉由該負壓，積存於洗淨槽10之底部的氣泡A從吸入部15a被吸入，包含多量之氣泡A的少量之洗淨液L藉由第2回收配管15從洗淨槽10內被回收。在洗淨槽10中之基板W之寬度方向全區域存在的氣泡A被回收成不到達基板W之背面的程度。

在第2回收配管15內，因藉由從抽氣器16之氣體取入口16a被取入之氣體，較設置有抽氣器16之位置更下游側被加壓，故從第2回收配管15之一端吸入之氣泡A被壓縮、破裂。而且，藉由氣泡A與從抽氣器16之氣體取入口16a被供給之新的氣體攪拌，形成有氣泡A之液體和氣體之界面破壞，無法以氣泡存在，即是破裂、消滅。因此，返回至液槽T之洗淨液L中之氣泡A盡可能地變少。如此一來，氣泡A被去除之洗淨液L貯留在液槽T，再次從液槽T經供給配管12被供給至噴淋噴嘴11。

而且，因上述基板洗淨裝置100係以屬於液體專利回收配管之第1回收配管14連接洗淨槽10和液槽T之構成，故在洗淨槽10用於基板W之洗淨的流動性高的洗淨液L本身，經第1回收配管14而快速地被回收至液槽T，在洗淨槽10內，尤其係在洗淨槽10之底部主要僅殘留氣泡A。而且，產生如此之狀態之後，可以經屬於氣泡專用回收配管之第2回收配管15而回收殘留在洗淨槽10之氣泡A。藉由如此分開回收洗淨液L和氣泡A，可以省略藉由一起回收洗淨液L和氣泡A所需的氣液分離工程。

如此一來，在本實施形態中，殘留在洗淨槽10之氣泡A藉由被設置在洗淨槽10之吸入部15a強制性地被吸引，在通過第2回收配管15之期間，返回至液體之狀態而被回收至液槽T。依此，可以防止殘留在洗淨槽10之底部的氣泡A到達至搬運手段13上之基板W之背面而基板W之背面被上推之情形，可以進行良好的洗淨處理。

再者，在本實施形態中，由於為藉由第1回收配管14連接洗淨槽10和液槽T之構成，故在洗淨槽10中被供給至基板W之洗淨液L主要通過第1回收配管14而被回收，在洗淨槽10主要僅殘留氣泡A。如此一來，藉由洗淨槽10和第1回收配管14，雖然不完成但也構成氣液分離裝置，因吸入部15a若除去殘留在洗淨槽10之氣泡A即可，故可以將吸入部15a固定配置在洗淨槽10等。當然以沿著上下方向或基板W之搬運方向而可以調整為佳。即是，就算除去洗淨槽10內之氣泡A，亦不用將洗淨使用後之洗淨液L移至液槽T，成為貯留在洗淨槽10之構成之時，除去浮游在貯留之洗淨液L之氣泡。此時，因洗淨液L之液面常變動，故必須使成為因應該液面變動而使成為吸入部15a上下移動之構成。

接著，針對本發明之第2實施形態使用圖5進行說明。

圖5為被連接於第2回收配管15之吸入部151a之俯視圖。第2實施形態基本上與第1實施形態相同。因此，在第2實施形態中，針對與第1實施形態之不同點進行說 明，省略其他說明。

如圖5所示般，與第2實施形態有關之洗淨裝置與上述第1實施形態不同之點，係被設置在吸入部151a之複數個吸入孔151b按設置之位置不同而直徑(大小)不同之點，和複數個吸入孔151b被設置成與洗淨槽10之底部相向之點。複數個吸入孔151b與上述第1實施形態相同係為了吸入積存於洗淨槽10之底部的氣泡A而被設置。因第2回收配管15被連接於吸入部151a之長邊方向中央部分，故從位於吸入部151a之長邊方向端部等，遠離與第2回收配管15連接的部分之處的吸入孔151b吸入之力，小於從位於與第2回收配管15之連接部分的吸入孔151b吸入之力。即是，比起從位於吸入部151a之長邊方向中央部分之吸入孔151b吸入之力，從位於吸入部151a之長邊方向端部之吸入孔151b之力變小。為了解決此，增大被設置複數個的吸入孔151b之中，位於遠離與第2回收配管15之連接部分之處的吸入孔151b之直徑。例如，如圖5所示般，隨著遠離與第2回收配管15之連接部分，漸漸擴大吸入孔15b之直徑。如此一來，藉由使吸入孔151b之直徑按其位置而不同，可以使從被設置在吸入部151a之各吸入孔151b吸入之力予以均勻化，且在基板W之寬度方向全區域均勻地吸入、回收氣泡A。

再者，吸入孔151b被設置成與洗淨槽10之底面相向(朝下)。如此一來，藉由吸入孔151b被設置成朝下，從吸入孔151b吸入之氣泡A在吸入部151a內破裂而成為液 體，因即使在吸入部151a內逐漸地積存洗淨液，其洗淨液也藉由自重從吸入孔151b自然地溢出，故在吸入部151a內積存液體。因當液體難以積存時，防止藉由抽氣器16吸入之力下降，故提升處理效率。

如上述般，即使藉由第2實施形態，亦可取得與上述第1實施形態相同之效果。並且，可以在基板W之寬度方向全區域均勻地吸入氣泡A。再者，也有如可以防止在吸入部151a內積存液體而吸入氣泡A之力下降的效果。在該第2實施形態中，雖以相同之實施形態說明吸入孔151b之直徑按吸入孔151b之位置不同而不同，和吸入孔151b被設置成朝下，但是即使具有其中之任一個特徵亦可。

接著，針對本發明之第3實施形態使用圖6進行說明。

與第3實施形態有關之基板處理裝置200基本上與第1實施形態相同。因此，在第3實施形態中，針對與第1實施形態之不同點進行說明，省略其他說明。

如圖6所示般，在與第3實施形態有關之基板處理裝置200又設置有第3回收配管17。第3回收配管17被設置成第1回收配管14分歧成雙叉，在分歧點之下游側設置有抽氣器18。抽氣器18可以採用與第1實施形態中之抽氣器16相同之構成。

第1回收配管14雖然主要係僅回收洗淨槽10內之使用完之洗淨液L，但是有在洗淨液L中混有氣泡A之情 形。此時，在第1回收配管14之途中積存氣泡A，洗淨液L不順暢地落下至液槽T。即使在如此之情況下，藉由被設置在第3回收配管17之抽氣器18吸引第1回收配管14內之氣泡A，混在洗淨液L之氣泡A從第1回收配管14被回收，並且返回至液體而被回收至液槽T。回收氣泡A之洗淨液L順暢地朝液槽T落下。

如上述般，即使藉由第3實施形態，亦可取得與上述第1實施形態相同之效果。而且，即使在經第1回收配管14被回收之洗淨液體L中混有氣泡A，亦可以無延遲地進行洗淨液L之回收。再者，由於被回收至液槽T之洗淨液L所含之氣泡A減少，故即使洗淨再次使用回收的洗淨液L，亦可以防止由於氣泡A所產生的處理不均。

並且，在上述各實施形態中，雖然作為洗淨對象物之基板W，設為液晶顯示裝置所使用之玻璃基板，但是並不限定於此，若為藉由容易起泡之液體而被處理者即可。

再者，在上述各實施形態中，雖然以包含界面活性劑之洗淨液L以當作處理液，但是並不限定於此，若為在處理工程中容易起泡之液體即可。而且，處理不限定於洗淨，亦可以適用於使用容易起泡之處理液的蝕刻等之洗淨以外的處理。

再者，在上述各實施形態中，雖然舉出抽氣器作為減壓手段之例，但是並不限定於此，即使使用噴射器、文氏管等之能夠減壓的其他手段亦可。

再者，在上述各實施形態中，雖然設置在第2回收配 管15之一端的吸入部15a(151a)設為在基板W之寬度方向具有複數個吸入孔15b(151b)，但是除此之外，即使設為在洗淨槽10之高度方向具有複數個吸入孔，並且設為不管氣泡A存在之高度位置如何都可以進行回收亦可。

再者，在上述各實施形態中，雖然設為在吸入部15a(151a)形成複數個吸入孔15b(151b)分別作為開口部，但是並不限定於此，即使設為在基板W之寬度方向全區域形成狹縫孔等以當作開孔部亦可。或是，即使吸入部15a本身並非配管，而係具有喇叭狀之開口部的構件亦可。即是，若在吸入部15a(151a)具有能夠藉由第2回收配管15吸引氣泡A之開口部即可。即使在例如設置狹縫孔之情況下，亦與上述第2實施形態相同，即使設為隨著遠離與第2回收配管15之連接部分使狹縫寬度或喇叭狀之開口部之開口變寬亦可。

再者，在上述第2實施形態中，雖然複數個吸入孔151b被設為設置在與洗淨槽10之底部相向之面(即是朝下)，但是不需要常朝下，即使設為吸入部151a被設置成以吸入部151a之長邊方向作為旋轉軸而能夠在定位置旋轉亦可。例如，於通常之氣泡吸入時，即使如第1實施形態之吸入孔15b般，吸入孔151b朝基板W之搬運方向上游側，在停止洗淨處理之時序，使吸入部151a旋轉並使吸入孔151b朝向下方，依此使積存於吸入孔151b之洗淨液L排出至洗淨槽10內亦可。並且，即使同樣使第1實施形態中之吸入部151a旋轉亦可。

再者，在第2實施形態中，雖然吸入孔151b僅設置在與洗淨槽10之底部相向之面，但並不限定於此，即使亦設置在第1實施型所示之吸入孔15b之位置上亦可，即使在其他位置設置複數個亦可。

再者，在上述各實施形態中，雖然將對基板W供給洗淨液L之手段當作噴淋噴嘴，但是並不限定於此，若為可以對其他之噴嘴等基板W供給洗淨液L之手段即可。

再者，在上述各實施形態中，雖然從第1回收配管14被回收之洗淨液返回至液槽T，但是並不限定於此，即使廢液亦可。

再者，在上述各實施形態中，雖然抽氣器16在每特定時間動作，但是並不限定於此，即使僅在進行從噴淋噴嘴11供給洗淨液L之期間動作亦可，以光感測器等確認氣泡A之洗淨槽10中之高度位置，並根據此，僅在判斷需要無圖示之控制部之時，使排氣器16動作亦可。或是，即使設為隨時維持排氣器16保持動作之狀態亦可。

再者，即使設為在第2回收配管15中之減壓手段之上游或下游設置加熱器亦可。因氣泡A之界面藉由溫度上升而容易崩壞，故氣泡A藉由利用加熱器加溫而成為容易破裂。而且，因當被回收至液槽T之後的洗淨液L之溫度本身顯著變化時，之後之洗淨處理效率也變化，故以設為在減壓手段之上游側設置加熱器為佳。

再者，在上述各實施形態中，雖然吸入部15a(151a)被設置在洗淨槽10之側壁部，但是並不限定於此，即使 被設置在基板搬運方向中央部分之壁部等亦可，再者，即使被設置在複數處亦可。藉由在側壁部以外之處亦具備吸入部15a(151a)，可以更均勻且效率佳地回收氣泡A。

再者，在上述各實施形態中，作為設置有吸入部15a之位置，以設為在不設置有噴淋噴嘴11之處設置吸入部15a為佳。當從噴淋噴嘴11吐出之洗淨液L快速有力地衝突至在洗淨槽10內產生之氣泡A時，氣泡A破裂。有噴淋噴嘴11在洗淨槽10之端部不設置之情況。從噴淋噴嘴11吐出之洗淨液L衝突至積存於與該部分對應之洗淨槽10之底部的氣泡A之可能性非常少。因此，以設為在藉由來自噴淋噴嘴11之洗淨液L導致破裂之可能性極低之處，設置吸入部15a為佳。

再者，雖然設置有吸入部15a、15b(嚴格來說複數個的吸入孔15b、151b)之高度位置，設為較藉由搬運手段13被搬運之基板W之背面更下方之區域，但是又以被設置較積存於洗淨槽10之底部的朝液槽T回收之前的洗淨液L之液面更上方為佳。

再者，在上述之各實施形態中，雖然第2回收配管15係以貫通洗淨槽10之側壁之方式被設置(參照圖1及圖2)，但是，並不限定於此，即使設置成第2回收配管15延伸至洗淨槽10之上部，越過洗淨槽10之側壁亦可。再者，即使設為相對於吸入部15a、151a設置複數個第2回收配管15亦可。

再者，以設為在液槽T之底面附近具備上述各實施形 態中之第1回收配管14、第2回收配管15及第3回收配管17之液槽T側之端部為佳。此係因為防止藉由該些配管被回收之洗淨液L或氣泡A被供給至液槽T之時，衝擊液槽T內之洗淨液L之液面而產生新的氣泡之故。

以上，雖然說明本發明之幾個實施形態，但是該些實施形態透過舉例之方式來表呈現，並無限定發明之範圍的意圖。該些新實施形態可以其他各種形態來實施，只要在不脫離發明之主旨的範圍下，可做各種省略、置換及變更。該些實施形態或其變形當然也包含在發明範圍或主旨中，並且包含於申請專利範圍所記載之發明和其均等之範圍中。

10‧‧‧洗淨槽

11‧‧‧噴淋噴嘴

12‧‧‧供給配管

12a‧‧‧供給部

13‧‧‧搬運手段

13a‧‧‧搬運軸

13b‧‧‧輥

14‧‧‧第1回收配管

15‧‧‧第2回收配管

15a‧‧‧吸入部

16‧‧‧抽氣器

16a‧‧‧氣體取入口

100‧‧‧基板洗淨裝置

P‧‧‧泵

T‧‧‧液槽

L‧‧‧洗淨液

B‧‧‧刷具

W‧‧‧基板

R‧‧‧箭號

Claims (8)

1. 一種基板處理裝置，藉由對利用搬運手段被搬運之基板供給處理液而對基板進行處理的基板處理裝置，其特徵在於具有：處理槽；處理液供給手段，其係對在上述處理槽中藉由上述搬運手段被搬運的上述基板供給上述處理液；液槽，其係被設置在上述處理槽之下方，貯留上述處理液；第1回收配管，其係連接上述處理槽之底部和上述液槽；吸入部，其係被設置在較上述處理槽中藉由上述搬運手段被搬運之上述基板之背面更下方之區域上；第2回收配管，其係連接上述吸入部和上述液槽；及減壓手段，其係被設置在上述第2回收配管，使上述第2回收配管之上述吸入部側成為負壓狀態。
2. 如請求項1所記載之基板處理裝置，其中上述減壓手段被控制成在每特定時間動作，上述特定時間係在上述處理槽內產生之氣泡不到達藉由上述搬運手段被搬運之上述基板之背面的間隔。
3. 如請求項1或2所記載之基板處理裝置，其中上述吸入部係以沿著上述處理槽之側壁之方式，並且在上述基板之寬度方向延伸，藉由上述減壓手段之動作，能夠吸附在上述處理槽內產生的氣泡。
4. 如請求項3所記載之基板處理裝置，其中在上述吸入部設置有開口部。
5. 如請求項4所記載之基板處理裝置，其中上述開口部之寬度係隨著遠離上述第2回收配管而擴大。
6. 如請求項4所記載之基板處理裝置，其中上述開口部係以遠離上述第2回收配管之方式排列複數個，上述複數個之開口部之各個直徑係隨著遠離上述第2回收配管而變大。
7. 如請求項1所記載之基板處理裝置，其中具有被設置在上述第2回收配管之加熱器。
8. 如請求項1所記載之基板處理裝置，其中上述處理液為洗淨液，上述基板之處理為藉由上述洗淨液的上述基板之洗淨。