JP6275089B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
搬送手段により搬送される基板に処理液を供給することによって前記基板を処理する基板処理装置であって、
処理槽と、
前記処理槽において前記搬送手段によって搬送される前記基板に前記処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理槽の下方に設けられ、前記処理液が貯留されるタンクと、
前記処理槽の底部と前記タンクとを接続する第1の回収配管と、
前記処理槽における前記搬送手段によって搬送される前記基板の裏面よりも下方の領域に設けられ、前記処理槽に残留した気泡を吸引する吸い込み部と、
前記吸い込み部と前記タンクとを接続する第2の回収配管と、
前記第2の回収配管に設けられ、前記第2の回収配管の前記吸い込み部側を負圧状態にする減圧手段と、
を有し、
前記第2の回収配管における前記吸い込み部側とは反対側の端部は、前記タンクに貯留される前記処理液の液面より低い位置に設けられることを特徴とする。
11 シャワーノズル(処理液供給手段)
12 供給配管
13 搬送手段
14 第1の回収配管
15 第2の回収配管
16 アスピレータ(減圧手段)
L 洗浄液
T タンク
W 基板
A 気泡
Claims (9)
- 搬送手段により搬送される基板に処理液を供給することによって前記基板を処理する基板処理装置であって、
処理槽と、
前記処理槽において前記搬送手段によって搬送される前記基板に前記処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理槽の下方に設けられ、前記処理液が貯留されるタンクと、
前記処理槽の底部と前記タンクとを接続する第1の回収配管と、
前記処理槽における前記搬送手段によって搬送される前記基板の裏面よりも下方の領域に設けられ、前記処理槽に残留した気泡を吸引する吸い込み部と、
前記吸い込み部と前記タンクとを接続する第2の回収配管と、
前記第2の回収配管に設けられ、前記第2の回収配管の前記吸い込み部側を負圧状態にする減圧手段と、
を有し、
前記第2の回収配管における前記吸い込み部側とは反対側の端部は、前記タンクに貯留される前記処理液の液面より低い位置に設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 前記減圧手段は、所定時間毎に作動するように制御され、
前記所定時間は、前記処理槽内に発生した気泡が、前記搬送手段によって搬送される前記基板の裏面に達することのない間隔であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記吸い込み部は、前記処理槽の側壁に沿うように、かつ搬送される前記基板の幅方向に延びており、前記減圧手段の作動によって、前記処理槽内に発生した気泡を吸い込む開口部を有することを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記開口部は、スリット状を有し、前記開口部のスリット幅は、前記第2の回収配管から遠ざかるにつれて広くなるように形成されていることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 前記開口部は、前記第2の回収配管から遠ざかるように複数並べられており、
前記複数の開口部の個々の径は、前記第2の回収配管から遠ざかるにつれて大きくなることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。 - 前記吸い込み部は、前記処理槽の側壁に沿うように、かつ搬送される前記基板の幅方向に延びる配管と、この配管の長手方向に設けられる複数の吸い込み孔とを有し、複数の前記吸い込み孔は、前記基板の搬送方向上流側を向いていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記吸い込み部は、前記処理槽の側壁に沿うように、かつ搬送される前記基板の幅方向に延びる配管と、この配管の長手方向に設けられる複数の吸い込み孔とを有し、複数の前記吸い込み孔は、前記処理槽の前記底部に対向するように設けられることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記配管は、その長手方向を回転軸として回転可能であることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記第2の回収配管に設けられたヒータを有することを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の基板処理装置。
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015004401 | 2015-01-13 | ||
JP2015004401 | 2015-01-13 |
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---|---|
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Family
ID=56415099
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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---|---|
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TW (1) | TWI576171B (ja) |
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2015
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- 2015-09-16 TW TW104130602A patent/TWI576171B/zh active
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