JP4417180B2

JP4417180B2 - 基板処理装置

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Publication number: JP4417180B2
Application number: JP2004174343A
Authority: JP
Inventors: 芳邦竹市; 祐介村岡; 貴弘木村
Original assignee: Future Vision Inc
Current assignee: Future Vision Inc
Priority date: 2004-06-11
Filing date: 2004-06-11
Publication date: 2010-02-17
Anticipated expiration: 2024-06-11
Also published as: JP2005353909A

Description

本発明は、液晶や各種の電子部品等がマウントされるガラス基板を含む各種の基板を製造するに際し、これら基板に所定の処理を施す基板処理装置に関するものである。

液晶ディスプレイ等に用いられる基板は、その製造に際し処理液の種類毎に複数設けられた処理槽内に当該基板を順番に装入していき、各処理槽内で所定の処理液が供給されることによりそれぞれ独自の処理が施されるのが一般的である。基板に対してかかる処理を施すべく、各処理槽に亘って搬送路が設けられるとともに、この搬送路に沿って複数の搬送ローラ等の搬送手段が配設され、基板はこの搬送手段に搬送されつつ各処理槽内に順番に送り込まれる。

種類の異なる処理液でそれぞれの処理を基板に施すときには、上流側の処理液が基板に同伴して下流側の処理槽に持ち込まれるのを防止するために、処理槽間の距離を十分に確保することが求められるが、これによって基板処理のための占有空間が大きくなり、製造空間の有効利用が阻まれるという不都合が存在する。

かかる不都合を解消するべく、搬送中の基板に噴霧ノズルから処理液を噴霧する方式を採用したものが知られている。かかる処理液噴霧方式によれば、処理槽に浸漬することなく基板全体に満遍なく処理液を付与することができ、浸漬方式に比べて装置の簡素化を実現している。しかしながら、噴霧された処理液は基板上に広がり、この広がった処理液を確実に流し落してつぎの処理につなげるためには、所要の距離に亘っての洗浄処理が要求されることから、たとえ処理液噴霧方式であっても処理装置の小型化には限界がある。

ところで、近年、特許文献１に記載されたような、基板の処理面に対し搬送方向の下流側から供給した処理液を所定の距離だけ離れた上流側で回収するようにした液回収型ノズル装置が提案されている。かかる液回収型ノズル装置は、基板に供給された処理液を、処理後に無駄なく回収するため、供給された処理液の基板搬送方向前後への飛散を極力抑えることができるばかりか、噴霧ノズル方式に比べて少量の処理液による効率的な処理が実現する。
特開２００２−２８０３４０号公報

そこで、基板を異なる処理槽に順番に導入していく従来の複数処理槽設置方式や、基板に処理液を噴霧する処理液噴霧方式に代えて液回収型ノズル装置を採用すれば、基板の前後に対する処理液の飛散が少ないため、一つの処理室内に搬送方向に沿って直列に異なる処理を行う複数の液回収型ノズル装置を配設して小型化することが期待され得る。

しかしながら、たとえ処理液の飛散が少ない液回収型ノズル装置であっても、処理液から蒸気が揮散することを避けることはできない。したがって、１つの処理槽内に異なる種類の処理液を使用する複数の液回収型ノズル装置を設けると、処理液の種類等によっては、他の処理乃至は処理液に対して好ましくない蒸気が処理室内に全体的に充満してしまい、この蒸気によって他の処理に悪影響を与えるという不都合の生じることがあるため、複数の液回収型ノズル装置を単に１つの処理室内に並設することができないというのが実情であった。

本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、一つの処理室内に複数の液回収型ノズル装置を配設しても、一の液回収型ノズル装置の処理液から揮散した蒸気が他の液回収型ノズル装置による基板処理に悪影響を及ぼすことがなく、これによって一つの処理室内に異なる種類の処理液を供給する複数の液回収型ノズル装置を配設することができる基板処理装置を提供することを目的としている。

請求項１記載の発明は、一の処理室内で搬送手段によって基板を実質的に水平方向に搬送しつつ該基板に所定の表面処理を順次施すようにした基板処理装置であって、前記処理室内に前記搬送路に沿って配設されるとともに、搬送される基板の処理面に微小隙間を有して対向配置され、この微小隙間に搬送方向に沿ってそれぞれ異なる種類の処理液を供給する複数の処理部と、前記各処理部に対応して設けられ、フィルタを介して清浄気体を前記処理室に導く気体導入部と、導入された清浄気体を処理室外へ排気する気体排出部とを備え、前記気体導入部は、各処理部の上流側および下流側の双方に清浄気体を供給するものであることを特徴とするものである。

かかる構成によれば、基板に処理液を供給する処理部は、搬送される基板の処理面に対向配置されることによって形成された微小隙間に処理液を供給するようにしているため、処理液を噴霧状で基板に供給する従来の噴霧ノズルを採用した場合に比較し、基板に対し従来より少ない量で処理液が無駄なく供給されるとともに、処理液の飛散を少なく抑えられる。したがって、一つの処理室内で搬送中の基板に対し異なる種類の処理液を用いた基板に対する複数工程の処理を実行することが可能になる。

そして、一つの処理室内で複数設けられた各処理部に対応して、フィルタを介して清浄気体を前記処理室に導く気体導入部と、導入された清浄気体を処理室外へ排気する気体排出部とがそれぞれ設けられているため、各処理部において処理液から揮散した蒸気が他の処理部に到達することなく、専用の気体導入部を介し当該処理部に導入された清浄気流に同伴して専用の気体排出部から系外に排出されることになり、各処理部の周りの空間に他の処理部で揮散した蒸気が侵入することが有効に防止される。

さらに、かかる構成によれば、各処理部が占める空間は、その上流側および下流側の双方、すなわち隣設された他の処理部が占める空間との境界位置に清浄気体の気流カーテンが形成された状態になるため、各処理部で生じた処理液からの蒸気は、この気流カーテンに阻止されて他の処理部の空間に移ることが阻止されつつ、清浄気体の気流に同伴して系外に排出される。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記フィルタは、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなるものであることを特徴とするものである。

かかる構成によれば、処理室に導入される気体は、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなるフィルタによって濾過され、清浄な気体となって処理室に供給される。そして、フィルタに供給される気体中の粉塵は、フィルタ内でフィルタ濾材との衝突によって効率的に除去される。

請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、前記気体排出部は、各処理部に対応して設けられていることを特徴とするものである。

かかる構成によれば、各処理部に対して設けられた気体導入部からの気体であって、基板処理位置を通過した気体が他の基板処理位置へ向うことがなくなり、各処理位置での基板処理が好適に行われる。

請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明において、前記処理室は、隣設する処理部との間を仕切る隔壁を備えていることを特徴とするものである。

かかる構成によれば、各処理室の占める空間を他の処理室と隔絶した状態で確実に確保することが可能になる。

請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、基板に対して薬液処理を施す薬液処理部と、薬液処理後の基板に対して洗浄処理を施す洗浄処理部と、洗浄処理後の基板に対して乾燥処理を施す乾燥部とが搬送方向上流側から下流側に向けて直列で前記処理室内に配設されていることを特徴とするものである。

かかる構成によれば、基板は、搬送路に沿って搬送されつつ薬液処理部で所定の薬液処理が施され、引き続き洗浄処理部で洗浄処理が施され、最後に乾燥部で乾燥処理が施された後、製品となって処理室から系外に排出される。

請求項６記載の発明は、一の処理室内で搬送手段によって基板を実質的に水平方向に搬送しつつ該基板に所定の表面処理を順次施すようにした基板処理装置であって、前記処理室内に前記搬送路に沿って配設されるとともに、搬送される基板の処理面に微小隙間を有して対向配置され、この微小隙間に搬送方向に沿ってそれぞれ異なる種類の処理液を供給する複数の液回収型ノズル装置と、前記各液回収型ノズル装置に対応して設けられ、フィルタを介して清浄気体を前記処理室に導く気体導入部と、導入された清浄気体を処理室外へ排気する気体排出部とを備え、前記処理室は、隣設する液回収型ノズル装置同士の間を仕切る隔壁を備え、前記気体導入部は、各液回収型ノズル装置の上流側および下流側の双方に、前記隔壁に沿うように清浄気体を供給するものであり、前記気体排出部は、各液回収型ノズル装置に対応して設けられていることを特徴とする。

請求項１記載の発明によれば、一つの処理室内で複数設けられた各処理部に対応して、フィルタを介して清浄気体を前記処理室に導く気体導入部と、導入された清浄気体を処理室外へ排気する気体排出部とがそれぞれ設けられているため、各処理部において処理液から揮散した蒸気が他の処理部に到達することなく、専用の気体導入部を介し当該処理部に導入された清浄気流に同伴して専用の気体排出部から系外に排出されることになり、これによって各処理部の周りの空間に他の処理部で揮散した蒸気が侵入することを有効に防止することができる。

したがって、一つの処理室内に複数の処理部を基板搬送方向に直列に並設しても、一の処理部で生じた、他の処理部での基板処理に有害な処理液の蒸気が他の処理部に到達することを確実に防止することができる。したがって、異なる種類の処理液で基板処理する処理部を一つの処理室内に複数配設することができないとされていた従来の技術常識を覆すことができ、基板処理装置のコンパクト化による設備コストおよび運転コストの低減化に貢献することができる。

さらに、請求項１記載の発明によれば、各処理部が占める空間は、その上流側および下流側の双方、すなわち隣設された他の処理部が占める空間との境界位置に清浄気体の気流カーテンが形成された状態になり、これによって各処理部で生じた処理液からの蒸気は、この気流カーテンに阻止されて他の処理部の空間に移ることが阻止されつつ、清浄気体の気流に同伴して系外に排出されるため、処理室内の基板処理空間を全体的に常に清浄に維持することができる。

請求項２記載の発明によれば、処理室に導入される気体は、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなるフィルタによって濾過され、清浄な気体となって処理室に供給されるため、フィルタに供給される気体中の粉塵を、フィルタ内でのフィルタ濾材との衝突によって効率的に除去することができる。

請求項３記載の発明によれば、気体排出部が各処理部に対応して設けられているため、各処理部に対して設けられた気体導入部からの気体であって、基板処理位置を通過した気体が他の基板処理位置へ向うことがなくなり、これによって各処理位置での基板処理を好適に実行することができる。

請求項４記載の発明によれば、処理室には隣設する処理部との間を仕切る隔壁が設けられているため、各処理室の占める空間を他の処理室と隔絶した状態で確実に確保することが可能になり、これによって他の処理室の雰囲気が当該処理室に持ち込まれることを有効に防止することができる。

請求項５記載の発明によれば、基板は、一つの処理室内で搬送路に沿って搬送されつつ薬液処理部で所定の薬液処理が施され、引き続き洗浄処理部で洗浄処理が施され、最後に乾燥部で乾燥処理が施された後、製品となって処理室から系外に排出されるため、従来のように薬液処理、洗浄処理および乾燥処理のためにそれぞれ専用の処理槽を設ける必要がなく、その分基板に対するエッチング処理用の設備コストの大幅な削減を達成することができる。

図１は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す断面視の説明図であり、図２は、その平面視の説明図である。この実施形態においては、基板処理装置１０として基板Ｂにエッチング処理を施すエッチング処理装置を例に挙げている。図１に示すように、基板処理装置１０は、直方体状を呈した処理装置本体１１内に、基板Ｂに対してエッチング処理を施すエッチング部１２と、このエッチング部１２から導出された基板Ｂに対して洗浄処理を施す洗浄部１３と、この洗浄部１３から導出された基板Ｂに対して乾燥処理を施す乾燥部１４とを備えて構成されている。

前記処理装置本体１１内の空間によって本発明に係る一つの処理室が形成されているとともに、エッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４のそれぞれが本発明に係る処理部が占める処理空間である。

前記処理装置本体１１の上流側壁１１１（図１における右方）には、基板搬入口１５が開口されているとともに、下流側壁１１２には、前記基板搬入口１５と対向した位置に基板搬出口１６が開口されている。そして、これら基板搬入口１５と基板搬出口１６との間には、基板搬送方向（図１において左方へ向う方向）に等ピッチで複数の搬送ローラ（搬送手段）１７が並設され、これら複数の搬送ローラ１７上に処理装置本体１１内で基板Ｂを搬送するための搬送路１７１が形成されている。各搬送ローラ１７は、図略の駆動モータの駆動で図１における反時計方向に駆動回転するようになっている。

したがって、系外から基板搬入口１５を介して処理装置本体１１内に導入された基板Ｂは、各搬送ローラ１７の駆動回転により搬送路１７１を下流側へ向けて搬送され、エッチング部１２でエッチング処理が施された後、洗浄部１３で洗浄処理が施され、最後に乾燥部１４で乾燥処理が施された後、基板搬出口１６を介して系外に排出されるようになっている。

前記洗浄部１３は、上流側（図１の右方）の第１洗浄部１３０と、下流側で第１洗浄部１３０に隣設された第２洗浄部１３０′とからなっている。第１洗浄部１３０は、エッチング部１２から導出された基板Ｂに対して通常の洗浄処理を施すものであるのに対し、第２洗浄部１３０′は、さらに高度の仕上げ洗浄処理を基板Ｂに施すものである。

前記処理装置本体１１内におけるエッチング部１２の下方位置には第１ホッパ１２１が設けられ、同第１洗浄部１３０の下方位置には第２ホッパ１３１が設けられ、同第２洗浄部１３０′の下方位置には第３ホッパ１３２が設けられ、同乾燥部１４の下方位置には第４ホッパ１４１が設けられている。そして、搬送路１７１に沿って搬送中の基板Ｂから滴り落ちた処理液がこれら第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１３２，１４１によって受けられた後、底部の開口を通って適宜排出されるようになっている。

また、後述する液回収型ノズル装置２０の前端と後端、およびエアナイフ３０の上部には、処理装置本体１１の天板１１３から垂下された上部仕切り壁（隔壁）１１４が設けられ、これらの上部仕切り壁１１４によって各部の雰囲気が他の部に侵入するのを防止するようになされている。かかる上部仕切り壁１１４の下縁部と第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１３２，１４１の上縁部とは、搬送路１７１と干渉しないように位置設定され、これによって処理装置本体１１内に導入された基板Ｂは，上部仕切り壁１１４等と干渉することなく下流側に向けて搬送され得るようになっている。

また、第２洗浄部１３０′は、基板搬送方向の長さ寸法が第１洗浄部１３０の長さ寸法より長尺に設定されている。このようにされるのは、最終的な洗浄処理が施された後の基板Ｂに対しさらに後述の液保持用ノズル装置４０による乾燥防止処置を施すための空間を確保するためである。

そして、処理装置本体１１内に導入された基板Ｂに対し、前記エッチング部１２においてエッチング液によるエッチング処理が施され、第１洗浄部１３０において第１段階の洗浄処理が施され、第２洗浄部１３０′において仕上げの洗浄処理が施された後、乾燥部１４において洗浄処理済の基板Ｂに対し乾燥処理が施されるようになっている。

前記洗浄等の処理のために、エッチング部１２、第１洗浄部１３０および第２洗浄部１３０′には、搬送路１７１を挟むように上下で対向した一対の液回収型ノズル装置（処理部）２０がそれぞれ設けられているとともに、エッチング部１２および第１洗浄部１３０には、液回収型ノズル装置２０の直下流側に搬送路１７１を挟んで上下一対のエアナイフ３０がそれぞれ設けられている。これに対し、第２洗浄部１３０′においては液回収型ノズル装置２０の下流側に搬送路１７１を挟んだ状態で上下一対の液保持用ノズル装置４０が設けられている。

第２洗浄部１３０′に液保持用ノズル装置４０が設けられているのは、エアナイフ３０による本格的な乾燥処理は、乾燥部１４によって行われるため、第２洗浄部１３０′では基板Ｂを乾燥させる必要はなく、液の持ち出しを低減するため、エアナイフ３０による液切りを行う程度でよいことによる。

また、第２洗浄部１３０′に液保持用ノズル装置４０が設けられるのは、液回収型ノズル装置２０により最終的な洗浄処理が施された基板Ｂは、乾燥部１４に到達するまでの間に自然乾燥してしまうことがあり、そうなると、基板Ｂの表裏面にパーティクルが固着したり、ウォータマークが付いた状態になる場合があるため、これを防止するべくさらなる最終的な洗浄処理として液保持用ノズル装置４０が設けられているのである。この液保持用ノズル装置４０から超純水が基板Ｂの表裏面に向けて吐出されることによって、乾燥部１４における乾燥処理で基板Ｂ上にパーティクルやウォータマークが生じないようにすることができる。

そして、基板処理装置１０の近傍には液回収型ノズル装置２０および液保持用ノズル装置４０に処理液を供給するための処理液供給源５０が設置されている。この処理液供給源５０は、エッチング部１２の液回収型ノズル装置２０にフッ酸を主成分とするエッチング液を供給するエッチング液供給源５１と、第１洗浄部１３０の液回収型ノズル装置２０に洗浄水を供給する第１洗浄水供給源５２と、第２洗浄部１３０′の液回収型ノズル装置２０に超純水を供給する第２洗浄水供給源５３とからなっている。

前記乾燥部１４には、搬送路１７１を挟むように配設された上下一対のエアナイフ３０が上流側と下流側とにそれぞれ設けられている。かかる各エアナイフ３０は、その吐出口が搬送路１７１に向うように上流側に向けて斜めに配設されている。かかるエアナイフ３０に清浄化処理された加圧エアを供給するエア供給装置６０が装置本体１１の近傍に設けられている。このエア供給装置６０からの加圧エアは、エッチング部１２および洗浄部１３のエアナイフ３０へも供給されるようになっている。

そして、乾燥部１４に導入された基板Ｂは、上流側のエアナイフ３０によってまず液切りが行われ、引き続き下流側のエアナイフ３０によって十分な乾燥処理が施されるようになっている。ここでは、エアナイフ３０を斜めに配置することによって、液切りと乾燥とが効果的に行われる。かかる乾燥部１４での乾燥処理が完了した基板Ｂは、基板搬出口１６を通って系外に排出され、つぎの工程へ向わせられることになる。なお、この乾燥部１４でのエアナイフ３０は、上流側の上下一対のものだけで十分に乾燥することができる場合には、下流側のエアナイフ３０は設けなくてもよい。

図３は、液回収型ノズル装置２０、エアナイフ３０および液保持用ノズル装置４０を説明するための斜視図であり、液回収型ノズル装置２０、エアナイフ３０および液保持用ノズル装置４０が第２洗浄部１３０′に設けられた状態を示している。図３に示すように、液回収型ノズル装置２０は、搬送路１７１の上方側に設けられる上部ノズル装置２０１と、同下方側に上部ノズル装置２０１と対向配置された下部ノズル装置２０２とからなっている。

かかる液回収型ノズル装置２０は、図４に示すように、基板搬送方向に直交する幅方向（図４の紙面に直交する方向）に長尺の直方体状を呈した上下一対のノズル本体２１と、各ノズル本体２１の基板搬送方向下流側の端部に接続された導入管２２と、同基板搬送方向上流側の端部に接続された導出管２３と、上下一対のノズル本体２１の各対向面に導入管２２と連通するように形成された基板搬送方向に細長い液導入口２４と、同導出管２３と連通するように形成された液導出口２５とを備えて構成されている。

一方、第２洗浄水供給源５３の下流側には、図３に示すように、この第２洗浄水供給源５３の超純水を送出する送出ポンプ５３１が設けられている。この送出ポンプ５３１は前記各導入管２２に接続されているとともに、前記各導出管２３は処理装置本体１１の近傍に設けられた吸引ポンプ５３２に接続されている。したがって、送出ポンプ５３１の駆動で第２洗浄水供給源５３からの超純水が各導入管２２へ導入されると、この超純水は、上下のノズル装置２０１，２０２間に挟持された状態の基板Ｂの表裏面と上下のノズル本体２１の対向面との間に液導入口２４を介して供給され、毛細管現象によって基板Ｂとノズル本体２１の隙間から外部に漏洩することなく液導出口２５の方向へ向って移動することになる。そして、液導出口２５に到達した超純水は、吸引ポンプ５３２の駆動で導出管２３を介して吸引され、系外へ排出される。

また、下部のノズル本体２１の上面側には、基板Ｂを支持する複数の支持コロ２６が設けられ、基板Ｂがこれらの支持コロ２６に支持されることにより、当該基板Ｂと下部のノズル本体２１の上面との間に超純水を通過させる通路が形成されるようになっている。

このような液回収型ノズル装置２０を採用することにより、基板Ｂには必要最小限の超純水を供給することで確実な洗浄処理が実現するため、高価な超純水を用いた基板洗浄処理のランニングコストの低減化に貢献することができる。

前記エアナイフ３０は、側面視で五角形状を呈した基板幅方向に長尺のエアナイフ本体３１と、このエアナイフ本体３１の先端側に形成された先細りのノズル部３２と、エアナイフ本体３１の基端側に接続されたエア導入管３３とを備えている。ノズル部３２の先端には、基板幅方向に長尺のエア吹付けスリット３２１が設けられ、エア供給装置６０の駆動で送出された加圧エアは、エア導入管３３を介してエアナイフ本体３１内に導入されたのちエア吹付けスリット３２１から基板Ｂへ向けて吹き付けられ、これによる加圧気流で基板Ｂの表裏面に付着している超純水が吹き飛ばされるようにしている。

かかるエアナイフ３０は、基板Ｂの搬送方向に対して斜めになるように姿勢設定されている。こうすることでエア吹付けスリット３２１から吐出された吹き付けエアは、その押圧力が基板Ｂに付着した洗浄水に対して基板幅方向に向かう分力として作用するため、エア吹付けスリット３２１が基板搬送方向に対して直交している場合に比較し、基板Ｂに付着した洗浄水の除去が効率的に行われる。

前記液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間にあって搬送路１７１を挟むように上下一対で設けられるものであり、円筒状のノズル管４１と、このノズル管４１の一端部に接続され、前記送出ポンプ５３１の駆動で第２洗浄水供給源５３からの超純水が導入される導入管４２と、各ノズル管４１における基板Ｂに対向した面に長手方向の略全長に亘って等ピッチで穿設された複数のノズル孔４３とを備えて構成されている。

そして、搬送路１７１を挟んで上下一対で設けられたかかる液保持用ノズル装置４０のノズル孔４３から超純水が基板Ｂの表裏面に噴霧されることにより、液回収型ノズル装置２０によって洗浄処理された基板Ｂは、エアナイフ３０に到達するまでに乾燥することが防止されるとともに、液保持用ノズル装置４０からの噴霧水によってさらに最終段階の洗浄処理が施されるため、エアナイフ３０による基板Ｂの乾燥処理が実行された状態で、基板Ｂの表裏面にパーティクルが固着するような不都合の発生が確実に防止される。

かかる液保持用ノズル装置４０は、本実施形態においては、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間の中間位置より液回収型ノズル装置２０寄りの位置であって、可能な限り液回収型ノズル装置２０に接近した位置に設けられている。このようにされるのは、液回収型ノズル装置２０では必要最小限の超純水しか基板Ｂに接触しないため付着水の量が少なく、したがって、基板Ｂの洗浄されていた部分が液回収型ノズル装置２０から外れた瞬間から速やかに自然乾燥が進行してしまうため、これを避けるべく液保持用ノズル装置４０は可能な限り液回収型ノズル装置２０に近づけて設置されるのである。

このように構成された基板処理装置１０において、本発明では、図１および図２に示すように、処理装置本体１１の天板１１３上にフィルタ装置（気体導入部）７０が配設され、このフィルタ装置７０によって清浄化された清浄空気が各処理部の処理空間内に導入され、これによって各処理部の処理空間内の雰囲気が常に清浄に維持されるようになっている。

かかるフィルタ装置７０は、若干厚めのシート状のフィルタ７１と、このフィルタ７１を内装する箱形のケーシング７２とを備えて構成されている。ケーシング７２の上面の略全面には外気を取り入れるための外気取入れ口が形成され、この外気取入れ口にメッシュ状の編部材が張設されている一方、処理装置本体１１の天板１１３の所定の位置には、フィルタ７１によって清浄化された清浄空気を処理装置本体１１内へ吹き込むための吹き込み口が開口されている。したがって、外気取入れ口を介してケーシング７２内に導入された外気は、フィルタ７１によって清浄化されたのち清浄空気となって処理装置本体１１内に導入されることになる。

本実施形態においては、フィルタ７１として、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなる、いわゆるＵＬＰＡフィルタ（ｕｌｔｒａｌｏｗｐａｒｔｉｃｌｅｆｉｌｔｅｒ）が採用されている。かかるＵＬＰＡフィルタが採用されることにより、処理装置本体１１内に導入された外気中の粉塵は、フィルタ７１内でのフィルタ濾材との衝突によって効率的に除去される。

また、本実施形態においては、フィルタ装置７０として、エッチング部１２の最上流側に設けられた第１フィルタ装置７０１と、エッチング部１２の最下流側と第１洗浄部１３０の最上流側とに架橋された第２フィルタ装置７０２と、第１洗浄部１３０の最下流側と第２洗浄部１３０′の最上流側とに架橋された第３フィルタ装置７０３と、第２洗浄部１３０′の最下流側と乾燥部１４の略中央部との間に架橋された第４フィルタ装置７０４と、乾燥部１４の最下流側に設けられた第５フィルタ装置７０５とが採用されている。

これら第１〜第５フィルタ装置７０１，７０２，７０３，７０４，７０５の内の第１〜第４フィルタ装置７０１，７０２，７０３，７０４については、処理装置本体１１内が負圧に設定されることによる通気で外気がフィルタ７１に供給されるようになっているのに対し、第５フィルタ装置７０５については、押込みブロア７３の駆動による強制的な吸引で外気を取り入れるようになされている。

一方、第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１３２，１４１の低部には、処理装置本体１１内の気液の導出を案内する案内管１８が設けられている。各案内管１８は、図略の廃液管に接続されているとともに、案内管１８の途中には排気管（気体排出部）１９が分岐されている。案内管１８の排気管１９に対する分岐位置には、所定の気液分離器１８１が設けられ、案内管１８に集められた清浄空気および処理液は、これらの気液分離器１８１によって分離された後、処理液は廃液管に導出される一方、エッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４を通過した用済み空気（フィルタ装置７０からの清浄空気およびエアナイフ３０からの加圧エアの用済みのもの）は排気管１９へ向わせられるようになっている。

前記各排気管１９は、その下流端が基板処理装置１０の近傍に配設された、工場内各所の排気を吸引するための集中排気管７４に接続されている。したがって、気液分離器１８１で分離された排気管１９内の用済み空気は集中排気管７４へ集められ、工場内に設置された図略の集塵装置で所定の集塵処理が施された後、系外に排出されることになる。

そして、各排気管１９内には、吸引風量を調節するための調節ダンパー１９１がそれぞれ設けられている。この調節ダンパー１９１は、エッチング部１２、第１洗浄部１３０、第２洗浄部１３０′および乾燥部１４においてエアナイフ３０から加圧エアが吐出されている場合と吐出されていない場合とで開度を調節するものであり、これによって処理装置本体１１内の圧力を常に予め設定された負圧環境にすることができる。

すなわち、エアナイフ３０から加圧エアが吐出される場合には、このことが所定のセンサによって検出され、この検出信号が図略の制御装置に入力されることにより、当該制御装置からの制御信号が調節ダンパー１９１へ向けて出力され、この制御信号に基づく調節ダンパー１９１の開度増大で調節ダンパー１９１への用済み空気の吸引量が増加される一方、エアナイフ３０からの加圧エアの吐出が停止されると、このことが所定のセンサによって検出され、この検出信号に基づく制御装置からの制御信号によって調節ダンパー１９１の開度が小さくされ、用済み空気の吸引量が減少されるようになっている。

かかる調節ダンパー１９１の開度制御によって、エアナイフ３０からの加圧エアの吐出および吐出停止に拘らず、エッチング部１２、洗浄部１３および乾燥部１４内の圧力を常に一定に制御するようにしている。

以上詳述したように、本発明に係る基板処理装置１０は、一の処理装置本体１１内で搬送ローラ１７によって基板Ｂを実質的に水平方向に搬送しつつ該基板Ｂに所定の表面処理（本実施形態ではエッチング処理およびこれに続く洗浄処理）を順次施すようにしたものであり、処理装置本体１１内に搬送路１７１に沿い、かつ、搬送される基板Ｂの処理面に微小隙間を有して対向配置される複数の液回収型ノズル装置２０と、各液回収型ノズル装置２０に対応して設けられ、フィルタ７１を介して清浄空気を処理装置本体１１に導くフィルタ装置７０と、導入された清浄空気を処理装置本体１１外へ排気する排気管１９とを備えて構成されている。

かかる構成によれば、各液回収型ノズル装置２０において処理液から揮散した蒸気が他の液回収型ノズル装置２０に到達することなく、専用のフィルタ装置７０を介し当該液回収型ノズル装置２０に導入された清浄気流に同伴して専用の排気管１９から系外に排出されることになり、これによって各液回収型ノズル装置２０の周りの空間に他の液回収型ノズル装置２０で揮散した蒸気が侵入することを有効に防止することができる。

したがって、一つの処理装置本体１１内に複数の液回収型ノズル装置２０を基板搬送方向に直列に並設しても、一の液回収型ノズル装置２０で生じた、他の液回収型ノズル装置２０での基板処理に有害な処理液の蒸気が他の液回収型ノズル装置２０に到達することを確実に防止することができる。したがって、異なる種類の処理液で基板処理する液回収型ノズル装置２０を一つの処理装置本体１１内に複数配設することができないとされていた従来の技術常識を覆すことができ、基板処理装置のコンパクト化による設備コストおよび運転コストの低減化に貢献することができる。

また、フィルタ装置７０は、各液回収型ノズル装置２０の上流側および下流側の双方清浄空気を供給するものであるため（すなわち、処理装置本体１１内において上流側壁１１１、各上部仕切り壁１１４および下流側壁１１２に沿うように清浄空気を供給するように配置設定されているため）、エッチング部１２、第１洗浄部１３０、第２洗浄部１３０′および乾燥部１４内で各液回収型ノズル装置２０が占める空間は、その上流側および下流側の双方、すなわち隣設された他の液回収型ノズル装置２０が占める空間との境界位置に清浄空気の気流カーテンが形成された状態になり、各液回収型ノズル装置２０で生じた処理液からの蒸気は、この気流カーテンに阻止されて他の液回収型ノズル装置２０の空間に移ることが阻止され、これによって処理装置本体１１内の基板処理空間を全体的に常に清浄に維持することができる。

また、フィルタ７１として、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなるものが採用されているため、処理装置本体１１に導入される気体は、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなるフィルタ７１によって濾過され、清浄な気体となって処理装置本体１１に供給される。そして、フィルタ７１に供給される気体中の粉塵は、フィルタ７１内でフィルタ濾材との衝突によって効率的に除去される。

また、排気管１９は、エッチング部１２、第１洗浄部１３０、第２洗浄部１３０′および乾燥部１４に対応してそれぞれの案内管１８から分岐されているため、各部を通過したフィルタ装置７０からの気体が通過した部と異なる部に導入されてしまうような不都合が確実に回避され、これにより各部において好適な環境で基板処理を行うことができる。

また、処理装置本体１１内において、エッチング部１２と第１洗浄部１３０との間、第１洗浄部１３０と第２洗浄部１３０′との間および第２洗浄部１３０′と乾燥部１４との間にそれぞれ上部仕切り壁１１４を備えているため、各部の占める空間を他の部の空間と隔絶した状態にすることができ、これによって他の処理装置本体１１の雰囲気が当該処理装置本体１１に持ち込まれることを有効に防止することができる。

本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。

（１）上記の実施形態においては、基板処理装置１０として基板Ｂにエッチング処理を施すものが採用されているが、本発明は、基板処理装置１０がエッチング処理用であることに限定されるものではなく、基板Ｂに対して水洗処理のみを施すものであってもよいし、基板Ｂに対して剥離処理を施すもの等、エッチング処理以外の処理にも適用可能である。

（２）上記の実施形態においては、処理装置本体１１内で基板Ｂを搬送する搬送手段として搬送ローラ１７が採用されているが、本発明は、搬送手段が搬送ローラ１７であることに限定されるものではなく、基板Ｂを配置した状態で搬送する搬送ベルト等の他の搬送方式を採用してもよい。

（３）上記の実施形態においては、第２洗浄部１３０′に液保持用ノズル装置４０が設けられているが、本発明は、液保持用ノズル装置４０を採用することに限定されるものではなく、状況によっては、液保持用ノズル装置４０の設置を省略してもよい。

（４）上記の実施形態においては、各排気管１９の下流端を、工場内に配設された集中排気管７４に接続されているが、こうする代わりに各排気管１９専用の吸引ブロワを設置してもよい。

（５）上記の実施形態においては、第１洗浄水供給源５２と第２洗浄水供給源５３とは別の系統の源水が用いられているが、こうする代わりに第２洗浄部１３０′の排水を第１洗浄部１３０の源水として利用してもよい。こうすることによって第２洗浄水供給源５３の高価な超純水の有効利用を図ることができる。

（６）上記の実施形態においては、フィルタ装置７０を介して処理装置本体１１内に供給される気体として空気が採用されているが、本発明は、処理装置本体１１内に供給される気体が空気であることに限定されるものではなく、窒素等の他の気体であってもよい。

本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す断面視の説明図である。図１に示す基板処理装置の平面視の説明図である。液回収型ノズル装置、エアナイフおよび液保持用ノズル装置を説明するための斜視図であり、液回収型ノズル装置、エアナイフおよび液保持用ノズル装置が第２洗浄部に設けられた状態を示している。液回収型ノズル装置の一実施形態を示す側面視の断面図である。

１０基板処理装置１１処理装置本体
１１１上流側壁１１２下流側壁
１１３天板１１４仕切り壁
１１５底板１２エッチング部
１２１第１ホッパ１３洗浄部
１３０第１洗浄部１３０′ 第２洗浄部
１３１第２ホッパ１３２第３ホッパ
１４乾燥部１４１第４ホッパ
１５基板搬入口１６基板搬出口
１７搬送ローラ１７１搬送路
１８案内管１８１気液分離器
１９排気管１９１調節ダンパー
２０液回収型ノズル装置（液回収型ノズル部）
２０１上部ノズル装置２０２下部ノズル装置
２１ノズル本体２２導入管
２３導出管２４液導入口
２５液導出口２６支持コロ
３０エアナイフ（液切り部）
３１エアナイフ本体３２ノズル部
３２１エア吹付けスリット３３エア導入管
４０液保持用ノズル装置４１ノズル管
４２導入管４３ノズル孔
５０洗浄水供給源５１第１洗浄水供給源
５２第２洗浄水供給源５３第３洗浄水供給源
５３１送出ポンプ５３２吸引ポンプ
６０エア供給装置７０フィルタ装置
７０１第１フィルタ装置７０２第２フィルタ装置
７０３第３フィルタ装置７０４第４フィルタ装置
７１フィルタ７２ケーシング
７３押込みブロア７４集中排気管
Ｂ基板

Claims

一の処理室内で搬送手段によって基板を実質的に水平方向に搬送しつつ該基板に所定の表面処理を順次施すようにした基板処理装置であって、
前記処理室内に前記搬送路に沿って配設されるとともに、搬送される基板の処理面に微小隙間を有して対向配置され、この微小隙間に搬送方向に沿ってそれぞれ異なる種類の処理液を供給する複数の処理部と、
前記各処理部に対応して設けられ、フィルタを介して清浄気体を前記処理室に導く気体導入部と、
導入された清浄気体を処理室外へ排気する気体排出部とを備え、
前記気体導入部は、各処理部の上流側および下流側の双方に清浄気体を供給するものであることを特徴とする基板処理装置。
前記フィルタは、繊維の集合体内に微粒子状のフィルタ濾材が分散されてなるものであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
前記気体排出部は、各処理部に対応して設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
前記処理室は、隣設する処理部との間を仕切る隔壁を備えていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。
基板に対して薬液処理を施す薬液処理部と、薬液処理後の基板に対して洗浄処理を施す洗浄処理部と、洗浄処理後の基板に対して乾燥処理を施す乾燥部とが搬送方向上流側から下流側に向けて直列で前記処理室内に配設されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板処理装置。
一の処理室内で搬送手段によって基板を実質的に水平方向に搬送しつつ該基板に所定の表面処理を順次施すようにした基板処理装置であって、
前記処理室内に前記搬送路に沿って配設されるとともに、搬送される基板の処理面に微小隙間を有して対向配置され、この微小隙間に搬送方向に沿ってそれぞれ異なる種類の処理液を供給する複数の液回収型ノズル装置と、
前記各液回収型ノズル装置に対応して設けられ、フィルタを介して清浄気体を前記処理室に導く気体導入部と、
導入された清浄気体を処理室外へ排気する気体排出部とを備え、
前記処理室は、隣設する液回収型ノズル装置同士の間を仕切る隔壁を備え、
前記気体導入部は、各液回収型ノズル装置の上流側および下流側の双方に、前記隔壁に沿うように清浄気体を供給するものであり、
前記気体排出部は、各液回収型ノズル装置に対応して設けられていることを特徴とする基板処理装置。