CN100377297C - 衬底处理装置 - Google Patents

衬底处理装置 Download PDF

Info

Publication number
CN100377297C
CN100377297C CNB2005100809799A CN200510080979A CN100377297C CN 100377297 C CN100377297 C CN 100377297C CN B2005100809799 A CNB2005100809799 A CN B2005100809799A CN 200510080979 A CN200510080979 A CN 200510080979A CN 100377297 C CN100377297 C CN 100377297C
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
mentioned
liquid
treatment fluid
spray nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2005100809799A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1716531A (zh
Inventor
山口和彦
村冈佑介
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Future Vision Inc
Original Assignee
Future Vision Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Future Vision Inc filed Critical Future Vision Inc
Publication of CN1716531A publication Critical patent/CN1716531A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100377297C publication Critical patent/CN100377297C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

本发明提供一种衬底处理装置(10),该衬底处理装置对正在沿运送通路(171)以基本水平的状态运送的衬底(B)进行规定的处理,沿着运送通路(171)串联设置液体回收型喷嘴部(20)和气刀(30),该液体回收型喷嘴部(20)用作向运送中的衬底(B)供给规定的处理液的处理液供给器,按照可从衬底(B)回收已供给的处理液的方式构成,该气刀(30)用作去除被供给处理液后的衬底(B)上残留的处理液的处理液去除器,通过气流吹散衬底(B)上的残留处理液。并且可以实现衬底处理装置的紧密化。

Description

衬底处理装置
技术领域
本发明涉及在包括安装有液晶或各种电子器件等玻璃衬底的各种衬底的制造中,对这些衬底进行规定的处理的衬底处理装置。
背景技术
在液晶显示器等所采用的衬底中,一般在制造时,在针对每种处理液而设置的多个处理槽内,依次装入该衬底,在各处理槽内,供给规定的处理液,由此,分别进行各种处理。设置连接各处理槽的运送通路,以便对衬底进行上述处理,并且沿着该运送通路,设置多个运送辊等运送机构,衬底通过运送机构运送,并依次运送到各处理槽内。
在对衬底,进行使用不同处理液的多种处理的时候,必须防止上游侧的处理液随着衬底,被带到下游侧的处理槽中的情况。因此,必须充分地确保处理槽之间的距离。如此,则衬底处理所占有的空间增加,导致不能有效地利用制造空间的不利情况。
为了解决这样的问题,人们提出了各种解决方案。比如,沿着运送通路,从喷雾喷嘴,对运送中的衬底喷雾处理液的方式。按照该处理液喷雾方式,可使处理液遍及衬底的整体,这与将衬底浸渍于处理液中这样的浸渍方式相比较,处理时间缩短,并且可更加可靠地对处理液使用量进行管理、控制。但是,即使这样的处理液喷雾方式,仍有大量的处理液残留于处理后的衬底上,因此,为了可靠地对该残留处理液进行去除处理,必须与下一处理液喷雾位置,隔开相当长的距离,使残留处理液从衬底上滴落,另外必须在最后通过除液部件进行除液处理。
另外,近年,人们提出采用液体回收型喷嘴器件,即在衬底运送方向的下游侧,将处理液供给衬底,在上游侧,从衬底上回收该处理液(比如,JP特开2002-280340号文献)。由于上述液体回收型喷嘴器件即刻将已供给的处理液体回收,故希望通过采用这样的装置,不用再设置去除处理液的除液用的衬底运送空间。但是,实际上,如果采用液体回收型喷嘴器件,进行衬底处理,则具有下述的问题。
①即使使用液体回收型喷嘴器件,仍无法完全地将处理液体回收于液体回收型喷嘴器件的内部,一部分的处理液残留于衬底上。
②由此,产生衬底局部干燥的干燥不均匀。其结果是,产生颗粒部分地附着于衬底表面上,处理液的成分形成晶体而部分析出,即所谓的水痕。
水痕是在从喷嘴喷雾处理液的已知的处理液喷雾方式中没有产生的现象,是在液体回收型喷嘴器件的使用中产生的新的技术课题。于是,业界希望开发在发挥液体回收型喷嘴器件的优点的同时,解决上述问题的新的技术手段。
发明内容
本发明的目的在于提供一种解决上述问题的衬底处理装置。
本发明的另一目的在于提供一种衬底处理装置,该衬底处理装置在确保处理液的有效使用的基础上,使衬底处理空间更加紧密,并且使衬底处理更加有效化。
此外,本发明的还有一目的在于提供一种衬底处理装置,该衬底处理装置不产生水痕,并发挥液体回收型喷嘴器件的特性。
本发明涉及一种对衬底进行规定的处理并具有运送衬底的运送通路的衬底处理装置,其特征在于该衬底处理装置包括;液体回收型喷嘴部,该液体回收型喷嘴部包括具有向沿着上述运送通路运送的衬底供给处理液的液体导入口和从衬底回收处理后的处理液的液体导出口的液体回收型喷嘴装置;除液部,该除液部在上述运送通路中的上述液体回收型喷嘴部下游侧,从上述液体回收型喷嘴部开始,以规定距离间隔开设置,将衬底上的处理液去除。
通过采用上述的方案,对送到衬底处理装置内部的衬底一方面进行运送,另一方面,首先通过从液体回收型喷嘴部供给的处理液进行处理,并将大量的处理液体回收。接着,处理后的衬底送达除液部,通过该除液部,对残留的处理液进行除液处理。由此,即使在液体回收型喷嘴器件的正下游侧的位置,设置除液部的情况下,仍可进行确实的除液处理。因此,可以最大限度地减少随着湿润的衬底被带到下游侧的处理液的量,与过去的情况相比较,可最大限度地缩短衬底处理装置的前后长度。可相对衬底运送方向,密集设置液体回收型喷嘴部和除液部,并且可提高处理效率。尽管为了使衬底处理装置紧密化,并且降低运转成本,采用了液体回收型喷嘴部,但是,也可以消除已知技术的以下不利情况,即为了防止将处理液带到下一步骤的情况,而不得不延长到下一步骤的距离,可促进衬底处理装置的紧密化设置而产生的装置成本和运转成本的降低。
另外,最好,在上述液体回收型喷嘴部与上述除液部之间,设置保持液供给部,该保持液供给部供给使衬底保持湿润状态到至少在衬底运送到上述除液部为止的处理液。
按照上述的方案,送到衬底处理装置内部的衬底一方面进行运送,另一方面,首先通过从液体回收型喷嘴部供给的处理液进行处理,并由保持液供给部持续供给处理液使衬底在湿润状态到达除液部,通过该除液部,进行除液处理,所以可防止从液体回收型喷嘴部,仅仅供给必要最小限度的处理液,因此,衬底在到达除液用喷嘴之前干燥,颗粒局部地固定于衬底上,或处理液中的成分局部结晶而析出这样的不利情况的发生。于是,尽管为了使衬底处理装置紧密化,并且降低运转成本,采用了液体回收型喷嘴部,但是仍可避免因颗粒等部分地固定于衬底上,导致制品的不合格率增加这样的情况,可最大限度地发挥将液体回收型喷嘴部设置在在衬底处理装置中的优点。
另外,上述保持液供给部最好是设置在比上述液体回收型喷嘴部与上述除液部的中间位置更接近上述液体回收型喷嘴部侧。按照该方案,由于上述保持液供给部设置于相对上述液体回收型喷嘴部与上述除液部之间的衬底运送方向的中间位置偏向液体回收型喷嘴部的位置,故可确保保持液供给部便于设置,并且尽可能地制止通过液体回收型喷嘴部进行处理的衬底的干燥。
此外,保持在湿润状态的处理液最好采用清洗衬底的清洗水。按照该方案,由于处理液采用对衬底进行清洗的清洗水,故可将衬底处理装置用作清洗装置,可通过清洗水,将附着于衬底上的颗粒等污染物冲洗掉,可对衬底进行清洁处理。
还有,最好形成有以下结构,即在具有壁面的壳体的相对向面的壁面的一面上形成衬底送入口;在另一面上形成衬底送出口;在衬底送入口与衬底送出口之间,形成上述运送通路;在上述壳体的内部,设置分隔壁;上述液体回收型喷嘴部设置于上述衬底送入口和上述分隔壁之间;上述除液部设置于上述分隔壁和衬底送出口之间。
按照该方案,通过衬底送入口,送入壳体内的衬底被依次送到沿运送通路而设置于壳体内部的液体回收型喷嘴部、除液部和保持液供给部,通过各喷嘴部,进行规定处理,然后从衬底送出口排到系统之外。另外,由于设置分隔壁,在上游侧,设置保持液供给部,在下游侧,设置除液部,故即使在保持液供给部内部,产生浮游颗粒或处理液飞沫,因由分隔壁阻挡,可防止这些浮游颗粒移动到设置除液部的空间(干燥空间)里,所以可保持干燥空间清洁的环境。
另外,也可通过上述液体回收型喷嘴部和除液部,形成一个单元的衬底处理部,多个单元的衬底处理部沿上述运送通路串联设置,在各单元的衬底处理部,采用不同种类的处理液。
按照该方案,衬底沿着运送通路被运送,因而,从各单元衬底处理部通过,由此可进行多种的处理液的处理。另外,与过去相比较,可减少上游侧的衬底处理部的处理液随着衬底被带到下游侧的衬底处理部的量,故与过去相比较,可以尽可能地缩短各衬底处理部之间的距离。另外,可在没有分隔部的状态下,对衬底进行处理,可有助于采用多种处理液,对衬底进行处理的衬底处理装置的装置成本和运转成本的降低。
也可从运送通路的上游侧起,设置作为上述衬底处理部的蚀刻部、清洗部,在上述蚀刻部中,处理液采用蚀刻液,对衬底进行蚀刻处理,在上述清洗部中,处理液采用纯水,对衬底进行清洗。
按照该方案,正在沿着运送通路运送的衬底首先在蚀刻部,进行供给蚀刻液的蚀刻处理,接着,在清洗部,通过供给的纯水进行清洗处理,最后,在干燥部,通过从除液部供给的气流,进行干燥处理,然后将其排到下一步骤。
还有,也可在该壳体的相对向的壁面的一面上形成衬底送入口,在另一面上形成衬底送出口,在衬底送入口与衬底送出口之间,形成上述运送通路,上述液体回收型喷嘴部和除液部设置于上述壳体内,也可以设置将净化空气送入上述壳体内的空气导入机构,以及排出上述壳体内的空气的排气机构。
按照该方案,沿着运送通路,从衬底送入口,运送到壳体内的衬底依次运送到设置于壳体内的液体回收型喷嘴部和除液部,在各喷嘴部,进行规定的处理,然后从衬底送出口送到系统之外。将来自空气导入机构的清洁空气持续送到壳体内部,并且壳体内的空气通过排气机构,持续排出,这样,即使在壳体内部,存在处理液飞沫、浮游颗粒,也可以随着排气而排到系统之外,由此,在壳体内部,可以持续地保持清洁的环境。因此,可确实防止因壳体内的被污染的环境,而将衬底污染的不利情况。
另外,最好,上述除液部沿运送通路的宽度方向延伸,相对运送方向以规定角度倾斜交叉的方向设置。按照该方式,由于除液部在与衬底运送面平行的面上,沿与衬底运送方向以规定角度倾斜而交叉的方向设置,故从除液部喷射的空气,其按压力作为朝向衬底宽度向的分力作用于附着于衬底上的处理液上,由此,与除液部与衬底运送方向相垂直的情况相比较,可有效地去除附着于衬底上的处理液。
另外,最好是上述液体回收型喷嘴部和上述除液部设置于上述蚀刻部内,而且上述除液部设置于上述液体回收型喷嘴部的正下游侧的位置。
附图说明
图1为表示本发明的一个实施例的衬底处理装置的大体结构的纵向剖视图;
图2为图1所示的衬底处理装置的横向剖视图;
图3为表示设置于上述衬底处理装置中的,液体回收型喷嘴器件、气刀和液体保持用喷嘴器件的位置关系立体图;
图4为图3所示的液体回收型喷嘴装置的纵向剖视图。
具体实施方式
图1所示的本发明的一个实施例的衬底处理装置10为对衬底进行蚀刻处理的蚀刻处理装置,如图1所示,在呈长方体状的壳体11内部,具有对衬底B进行蚀刻处理的蚀刻部12,对从该蚀刻部12送出的衬底B进行清洗处理的清洗部13,对从该清洗部13送出的衬底B进行干燥处理的干燥部14。
在上述壳体11的上游侧壁111(图1的右方),开设有衬底送入口15,并且在下游侧壁112上,在与上述衬底送入口15相对向的位置,开设有衬底送出口16。另外,在该衬底送入口15与衬底送出口16之间,沿衬底运送方向(图1中为向左的方向)按照等间距并设多个运送辊17,在该多个运送辊17上,形成在壳体11的内部运送衬底B用的运送通路171。各运送辊17通过图示省略的驱动马达的驱动,沿图1的逆时针方向驱动旋转。
于是,从系统之外,通过衬底送入口15,送入壳体11内的衬底B通过各运送辊17的驱动旋转,将运送通路171送向下游侧,在蚀刻部12进行蚀刻处理,然后在清洗部13进行清洗处理,最后在干燥部14进行干燥处理,接着,通过衬底送出口16送到系统之外。
上述清洗部13由上游侧(图1的右方)的第1清洗部130,以及在下游侧,与第1清洗部130邻接设置的第2清洗部130’构成。第1清洗部130对从蚀刻部12送出的衬底B,进行普通的清洗处理,而第2清洗部130’则对衬底B,再次进行更高度的精细清洗处理。
在上述壳体11内的蚀刻部12的下方位置,设置第1料斗121,在该第1清洗部130的下方位置,设置第2料斗131,在该第2清洗部130’的下方位置,设置第3料斗132,在该干燥部14的下方位置,设置第4料斗141。另外,沿运送通路171运送中的衬底B上滴落的处理液由第1~第4料斗121、131、132、141接收,然后,从底部的开口,通过后述的气液分离器181适当地排出。
另外,在蚀刻部12和清洗部13的运送通路171的上方空间,未设置分隔各部分的分隔壁,但是在第2清洗部130’和干燥部14的边界位置,设置从壳体11的顶板113,下垂到运送通路171的正上方位置的顶部分隔壁114,通过该顶部分隔壁114,防止在蚀刻部12和清洗部13的内部产生的水滴等移动到干燥部14内部的情况。
此外,第2清洗部130’的衬底运送方向的长度按照大于第1清洗部130的长度的尺寸设定。如此构成的目的在于确保下述空间,即用于对进行最终的清洗处理后的衬底B再次使用后述液体保持用喷嘴器件40进行颗粒形成防止处理的空间。
还有,在上述蚀刻部12,对送入壳体11内的衬底B,进行蚀刻液的蚀刻处理,在第1清洗部130,进行第1阶段的清洗处理,在第2清洗部130’,进行精细清洗处理,接着,在干燥部14,对清洗处理好的衬底B,进行干燥处理。
为了进行上述清洗处理等,在蚀刻部12、第1清洗部130和第2清洗部130’中,按照夹住运送通路171的方式在上下处分别设置相对向的一对液体回收型喷嘴器件(液体回收型喷嘴部)20,并且在蚀刻部12和第1清洗部130处,在液体回收型喷嘴器件20的正下游侧,按照夹住运送通路171的方式分别设置上下一对气刀(除液部)30。与此相对,在第2清洗部130’,在液体回收型喷嘴器件20的下游侧,以夹住运送通路171的状态,设置上下一对液体保持用喷嘴器件40。
在第2清洗部130’处设置液体保持用喷嘴器件40是因为由干燥部14来进行由气刀30所进行的正式的干燥处理,所以可以防止通过液体回收型喷嘴器件20而进行最终的清洗处理的衬底B在到达干燥部14之前的期间被自然干燥,就会有颗粒固着于衬底B的内外面上产生水痕的问题,从而更进一步地进行最终的清洗处理。通过从该液体保持用喷嘴器件40,将超纯水向衬底B的内外面喷射,可通过干燥部14的干燥处理,防止在衬底B上产生颗粒或水痕。
另外,在衬底处理装置10的附近,设置向液体回收型喷嘴器件20和液体保持用喷嘴器件40供给处理液用的处理液供给源50。该处理液供给源50由以下部分构成,即蚀刻液供给源51,其向蚀刻部12的液体回收型喷嘴器件20,供给以氟酸为主成分的蚀刻液;第1清洗水供给源52,其向第1清洗部130的液体回收型喷嘴器件20供给清洗水;第2清洗水供给源53,其向第2清洗部130’的液体回收型喷嘴器件20供给超纯水。
在上述干燥部14中,按照夹住运送通路171的方式设置的上下一对的气刀30分别设置于上游侧和下游侧。上述各气刀30按照其喷射口朝向运送通路171的方式,向上游侧倾斜地设置。在装置主体11的附近,设置向上述气刀30供给进行了净化处理的加压空气的空气供给器60。来自该空气供给器60的加压空气还供向蚀刻部12和清洗部13的气刀30。
此外,送入干燥部14的衬底B首先通过上游侧的气刀30,进行除液处理,接着,通过下游侧的气刀30,进行充分的干燥处理。气刀30沿运送通路171的宽度方向延伸。气刀30沿与运送方向倾斜地交叉的方向设置,有效地进行除液与干燥。完成上述干燥部14的干燥处理的衬底B通过衬底送出口16,送到系统之外,使其去向下一步骤。另外,在该干燥部14处的气刀30,如果只用上游侧的上下一对的气刀可以充分地进行干燥时,也可以不设置下游侧的气刀30。
图3为用于说明液体回收型喷嘴器件20、气刀30和液体保持用喷嘴器件40的立体图,其表示液体回收型喷嘴器件20和液体保持用喷嘴器件40设置于第2清洗部130’,气刀30设置于干燥部14的状态。如图3所示,液体回收型喷嘴器件20由设置于运送通路171的上方侧的顶部喷嘴器件201,以及在该下方侧,与顶部喷嘴器件201相对向设置的底部喷嘴器件202构成。
上述液体回收型喷嘴器件20如图4所示,包括上下一对喷嘴主体21,该喷嘴主体21沿与衬底运送方向相垂直的衬底宽度方向(与图4的纸面相垂直的方向),呈长尺状的长方体;导入管22,该导入管22与各喷嘴主体21的衬底运送方向下游侧的端部连接;导出管23,该导出管23与该衬底运送方向上游侧的端部连接;液体导入口24,该液体导入口24,形成于上下一对的喷嘴主体21的各相对面上,与导入管22连通,且在与衬底运送方向相垂直的衬底宽度方向上呈长尺状细长形;液体导出口25,该液体导出口25按照与上述导出管23连通的方式,与上述液体导入口24相对向地设置。
另一方面,在第2清洗水供给源53的下游侧,如图3所示的那样,设置有将该第2清洗水供给源53的超纯水送出的送出泵531。该送出泵531与上述各导入管22连接,上述各导出管23与设置于壳体11的附近的吸引泵532连接。于是,如果通过送出泵531的驱动,将超纯水从第2清洗水供给源53导入到各导入管22,则该超纯水通过液导入口24,供给到夹持于上下喷嘴器件201、202之间的状态的衬底B的表背面与上下喷嘴主体21的相对面之间,不会因毛细管现象,从衬底B与喷嘴主体21的间隙处,泄漏到外部,而是向液导出口25的方向移动。另外,到达液导出口25的超纯水通过吸引泵532的驱动,通过导出管23的吸引,排到系统外。
另外,在底部的喷嘴主体21的顶面侧,设置支承衬底B的多个支承滚轮26,衬底B支承于这些支承滚轮26上,由此,在该衬底B与底部的喷嘴主体21的上表面之间,形成使超纯水通过的通路。
由于通过采用这样的液体回收型喷嘴器件20,将所需最小限度的超纯水供向衬底B,由此,实现可靠的清洗处理,这样,可有助于采用高价的超纯水的衬底清洗处理的运转成本的降低。
上述气刀30如图3所示,具有从侧面看呈五边形状的,沿衬底宽度方向的长尺状的气刀主体31;形成于该气刀主体31的前端侧的前端尖状的喷嘴部32;与气刀主体31的根端侧相连接的空气导入管33。在喷嘴部32的前端,设置有沿衬底宽度方向的长尺状的吹气细缝321。于是,通过空气供给器60的驱动而送出的加压空气通过空气导入管33,送入气刀主体31的内部,然后,从吹气细缝321,吹向衬底B,通过上述程序的加压气流,吹散附着于衬底B的表背面上的超纯水。
上述气刀30相对衬底B的运送方向倾斜状态地设置。如此,从吹气细缝321喷射的吹气,其按压力向衬底宽度方向的分力作用于附着在衬底B上的清洗水上,故与吹气细缝321与衬底运送方向相垂直的情况相比较,能有效地去除附着于衬底B上的清洗水。
上述液体保持用喷嘴器件40如图3所示,在液体回收型喷嘴器件20和气刀30之间,按照夹住运送通路171的方式上下一对地设置,其包括呈圆筒状的喷嘴管41;导入管42,与上述喷嘴管41的一端部连接,通过上述送出泵531的驱动,将来自第2清洗水供给源53的超纯水送入该导入管42;多个喷嘴孔43,该多个喷嘴孔43在各喷嘴管41的纵向的基本全长范围内,等间距开设于与衬底B相对向的面上。
通过从夹住运送通路171而上下一对地设置的液体保持用喷嘴器件40的喷嘴孔43,将超纯水喷雾到衬底B的表背面上,以防止通过液体回收型喷嘴器件20进行了清洗处理的衬底B在到达气刀30之前干燥的情况,并且通过来自液体保持用喷嘴器件40的喷雾水,进一步进行最终阶段的清洗处理,由此,在进行气刀30的衬底B的干燥处理的状态下,可可靠地防止颗粒固着于衬底B的表背面上的不利情况。
另外,在本实施例中,上述液体保持用喷嘴器件40被设置在,相对于液体回收型喷嘴器件20和气刀30之间的中间位置,更靠近液体回收型喷嘴器件20的位置,并且尽可能地接近液体回收型喷嘴器件20的位置。上述情况下,由于在液体回收型喷嘴器件20中,只将必要的最小限度的超纯水与衬底B接触,故附着水的量少,于是,衬底B中的已清洗的部分,从液体回收型喷嘴器件20分离的瞬间开始,自然干燥便快速地进展,因此,液体保持用喷嘴器件40按照尽可能接近液体回收型喷嘴器件20的方式设置,以便避免上述情况。
另一方面,在第1~第4料斗121、131、132、141的底部,如图1所示,设置对壳体11内的气液的送出进行导向的导向管18。各导向管18的底端部敞开,且面向壳体11的底部,并且在导向管18的中途,排气管19形成支路。在导向管18中的相对排气管19的分支位置,设置规定的气液分离器181,集中于导向管18中的清洁空气和处理液通过这些气液分离器181分离,然后,处理液从导向管18的底端开口,送向壳体11的底部,另一方面,把通过蚀刻部12、清洗部13和干燥部14的用过的空气送向排气管19。
上述各排气管19的下游端与设置于衬底处理装置10的附近用于吸收工厂内各部位的排气的集中排气管(排气机构)74连接。于是,通过气液分离器181分离的排气管19内的用过的空气集中到集中排气管74中,通过设置于工厂内的图示省略的集尘器,进行规定的集尘处理,然后,排到系统外。
接着,在各排气管19的内部,分别设置用于调节吸引风量的调节风门191。该调节风门191在蚀刻部12、第1清洗部130和干燥部14中,在从气刀30喷射加压空气的情况与不喷射的情况下,调节打开程度,由此,可在使壳体11内的压力持续地处于预定的负压环境。
即,在从气刀30喷射加压空气的时候,该情况通过规定的传感器进行检测,将该检测信号输入到图示省略的控制器,由此,将来自该控制器的控制信号输出给调节风门191,因基于该控制信号调节风门191的打开程度增加,向调节风门191的用过的空气的吸引量被增加,另一方面,如果从气刀30而来的加压空气的排出被停止,则该情况可通过规定的传感器检测出,并通过基于该检测信号的控制器的控制信号,使调节风门191的打开程度变小,使用过的空气的吸引量减少。
通过上述调节风门191的打开程度控制,从气刀30而来的加压空气无论喷射或喷射停止,蚀刻部12、清洗部13和干燥部14内的压力持续保持在一定的状态。
如上所述,本发明的衬底处理装置10,是对正在沿运送通路171,以基本水平的姿势运送的衬底B,进行规定的处理之装置,并且将液体回收型喷嘴器件20与气刀30沿运送通路171串联地设置,其中液体回收型喷嘴器件20作为向运送中的衬底B供给规定的处理液的处理液供给器,按照可从衬底B回收已供给的处理液的方式构成;而气刀30作为去除在上述处理液被供给后的衬底B上残留的处理液的处理液去除装置,按照通过气流吹散衬底B上的残留处理液的方式构成,因此,送入衬底处理装置10内部的衬底B一方面进行运送,另一方面,首先通过液体回收型喷嘴器件20供给的处理液进行处理,接着以液体湿润状态到达气刀30处,通过该气刀30,进行除液处理,这样,以如蚀刻部12与清洗部130那样,在相互邻接并采用不同种类的液体的部分,分离处理液,可最大限度地减少随着该湿润的衬底B带到下游侧的处理液的量。
于是,尽管为了使衬底处理装置10紧密化,并且降低运转成本,采用了液体回收型喷嘴器件20,但是,也可以消除为了防止将处理液带到下一步骤,而不得不延长到下一步骤的距离的现有不利情况,可促进因衬底处理装置10的紧密化带来的装置成本和运转成本的降低。
另外,通过液体回收型喷嘴器件20和气刀30,形成一个单元的衬底处理部(在本实施例中,为蚀刻部12和第1清洗部130),多个单元的衬底处理部沿运送通路171串联设置(在本实施例中,蚀刻部12和清洗部13串联设置),而且,因在各单元的衬底处理部采用不同种类的处理液(在本实施例中,在蚀刻部12处,处理液采用蚀刻液,在第1清洗部130处,处理液采用清洗水),所以通过衬底B沿运送通路171进行运送,通过各单元的衬底处理部(蚀刻部12和第1清洗部130),可进行多种处理液的处理。另外,由于处理液供给器采用液体回收型喷嘴器件20,故与过去相比较,可减少上游侧的衬底处理部的处理液随着衬底B带到下游侧的衬底处理部的量,因此,与过去相比较,可最大限度地缩短各衬底处理部之间的距离,可促进采用多种处理液,对衬底B进行处理的衬底处理装置10的装置成本和运转成本的降低。
此外,在本实施例中,作为各衬底处理部,从运送通路171的上游侧起,设置蚀刻部12、清洗部13和干燥部14,在该蚀刻部12,处理液采用对衬底B进行蚀刻处理的蚀刻液;在清洗部13,处理液采用对衬底B进行清洗的纯水,在干燥部14,气刀30被用于干燥;因此,正在沿运送通路171运送的衬底B,首先在蚀刻部12,进行供给有蚀刻液的蚀刻处理,接着,在清洗部13,通过纯水的供给进行清洗处理,最后,在干燥部14,通过从气刀30供给的气流,进行干燥处理。因此,使衬底B通过各处理部(蚀刻部12,清洗部13和干燥部14),由此,可对衬底B,进行包括清洗和干燥在内的一系列的蚀刻处理。
另外,液体回收型喷嘴器件20和气刀30,具有相互对向的分别开设于上游侧壁111和下游侧壁112上的衬底送入口15和衬底送出口16,并且该液体回收型喷嘴器件20和气刀30设置于形成有在衬底送入口15和衬底送出口16之间的运送通路171的壳体11的内部,因此,沿运送通路171,从衬底送入口15,送入壳体11的内部的衬底B被依次送到设置于壳体11的内部的液体回收型喷嘴器件20和气刀30,进行各喷嘴器件的规定的处理,然后,从衬底送出口16,排到系统之外。此外,由于在壳体11的内部,具备送入清洁空气的净化空气用吹风机61,以及排出壳体11内的空气的集中排气管74,故通过空气用吹风机61的净化空气持续导入壳体11的内部的同时,将壳体11内的空气通过集中排气管74持续地排出。因此,即使在壳体11的内部,存在处理液的飞沫、浮游的颗粒,也将随着排气而排到系统之外,因此,可使壳体11内的环境持续保持清洁,可确实地防止由于壳体11内的污染的环境,将衬底B污染的不利情况。
此外,在液体回收型喷嘴器件20和气刀30之间,设置向衬底B,供给干燥防止用的清洗水的液体保持用喷嘴器件40。
按照该方案,送入衬底处理装置内部的衬底B一方面进行运送,另一方面,首先通过从液体回收型喷嘴器件20供给的清洗水进行清洗处理,接着,被供给来自液体保持用喷嘴器件40的清洗水,在液体湿润的状态下,到达气刀30处,通过该气刀30,进行除液处理,如此,从液体回收型喷嘴器件20,只需要提供最小限度的清洗水,因此,可确实地防止衬底B在到达除液用喷嘴之前便已干燥,使颗粒固着于衬底B上的情况。
于是,尽管为了实现衬底处理装置的紧密化和运转成本的降低,采用了液体回收型喷嘴器件20,但仍然可以避免因颗粒等固着于衬底B上,使制品的不合格率增加的情况,在衬底处理装置10中,可最大限度地发挥液体回收型喷嘴器件20的优点。
另外,由于液体保持用喷嘴器件40设置于相对液体回收型喷嘴器件20和气刀30之间的在衬底运送方向上的中间位置,更靠近液体回收型喷嘴器件20的位置,故能够尽可能地抑制通过液体回收型喷嘴器件20进行清洗的衬底B的干燥。
此外,由于设置将净化空气导入处理室主体11内部的净化空气用吹风机61,同时处理室主体11的内部的空气可通过设置于工厂内的集中排气管74而排出,故可以将来自净化空气用吹风机61的净化空气持续地导入到处理室主体11的内部,同时处理室主体11内的空气通过集中排气管74持续地向外排出。于是,即使在处理室主体11内,存在浮游颗粒,也可以将其随着排气,排到系统之外,因此可持续地保持处理室主体11内的环境的清洁,可确实地防止由于壳体11内的污染的环境,导致颗粒将衬底B污染的不利情况。
还有,由于在第3清洗室14中所采用的清洗水使用超纯水,故可在清洗处理的最终阶段,使衬底B完全清洁。
本发明不限于上述实施例,其还包括下述的内容。
(1)在上述实施例中,例举了作为衬底处理装置10对衬底B进行蚀刻处理的装置的实例,但是,本发明并不限于衬底处理装置10为蚀刻处理用的装置,也可将衬底处理装置10的整体作为进行清洗处理用的装置。此时,蚀刻液供给源51由清洗水处理源代替。即,将清洗液从液供给源51,供向蚀刻部12的液体回收型喷嘴器件20。蚀刻部12可作为第1清洗部,第1清洗部130可作为第2清洗部。
另外,此时,也可在第1清洗部12,第2清洗部130这两者上,设置液体保持用喷嘴器件40。此时,来自第1清洗水供给源51的清洗水供向设置于第1清洗部12上的液体保持用喷嘴器件40,同时来自第2清洗水供给源52的清洗水供向设置于第2清洗室13上的液体保持用喷嘴器件40中。通过以上构成,由于在第1和第2清洗部12、130内的清洗处理形成为液体回收型喷嘴器件20和液体保持用喷嘴器件40的二阶段处理,故可实现比第1和第2清洗部12、130的阶段更有效的清洗处理。
(2)在上述实施例中,蚀刻部12和第1清洗部130中,未设置液体保持用喷嘴器件40,但是,本发明并不限于在蚀刻部12和第1清洗部130中不设置液体保持用喷嘴器件40,也可对应于衬底处理的种类、状况,在这些衬底处理部中,设置液体保持用喷嘴器件40。通过以上构成,由于在蚀刻部12和第1清洗部130内的处理形成为液体回收型喷嘴器件20和液体保持用喷嘴器件40的二阶段处理,故可以更有效地实现衬底处理。
(3)在上述实施例中,通过采用在第2清洗部130’中的液体回收型喷嘴器件20的超纯水的衬底B的清洗处理,将从液体回收型喷嘴器件20排出的清洗处理后的超纯水排到系统之外,但是,也可代替这样的方式,将清洗处理后的超纯水返回给第1清洗部130,以供再次使用。
(4)在上述实施例中,液体保持用喷嘴器件40中用于喷射清洗水的圆形的喷嘴孔43,穿设于喷嘴管41上,但是,本发明并不限于喷射清洗水的部分为圆形的喷嘴孔43,也可为方孔、多边形孔,或星型孔等,还可代替孔,而采用细缝,安装于规定的喷嘴部件上。
(5)在上述实施例中,虽然第2清洗部130’中的液体保持用喷嘴器件40,被设置于相对于液体回收型喷嘴器件20与气刀30的大致中间位置更接近液体回收型喷嘴器件20一侧,但是,本发明并不限于液体保持用喷嘴器件40设置于以上所述的位置,可根据衬底B的种类、运行条件等与衬底处理有关的各种状况,设定适当地设置位置。

Claims (10)

1.一种衬底处理装置,对衬底实施所定的处理,该衬底处理装置具有运送衬底的运送通路,其特征在于包括:
液体回收型喷嘴部,该液体回收型喷嘴部包括液体回收型喷嘴器件,该液体回收型喷嘴器件具有向沿着上述运送通路运送的衬底供给处理液的液体导入口和从衬底回收处理后的处理液的液体导出口;
除液部,该除液部在上述运送通路中的上述液体回收型喷嘴部下游侧,从上述液体回收型喷嘴部开始,以规定距离间隔开设置,将衬底上的处理液去除。
2.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其特征在于,在上述液体回收型喷嘴部和上述除液部之间,还设置有保持液供给部,该保持液供给部供给使衬底保持湿润状态到至少运送到上述除液部为止的处理液。
3.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其特征在于,上述保持液供给部设置在比上述液体回收型喷嘴部与上述除液部的中间位置,更偏向上述液体回收型喷嘴部侧。
4.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其特征在于,保持湿润状态的所述处理液为清洗衬底的清洗水。
5.根据权利要求2~4中的任何一项所述的衬底处理装置,其特征在于,进一步包括具有壁面的壳体,在壳体相对向的壁面的一个壁面上形成衬底送入口,在另一壁面上形成衬底送出口,在所述衬底送入口与所述衬底送出口之间,形成上述运送通路,在上述壳体的内部设置分隔壁,上述液体回收型喷嘴部设置于上述衬底送入口和上述分隔壁之间,上述除液部设置于上述分隔壁和上述衬底送出口之间。
6.根据权利要求1~4中的任何一项所述的衬底处理装置,其特征在于,由上述液体回收型喷嘴部和上述除液部形成一个单元的衬底处理部,多个单元的衬底处理部沿上述运送通路串联设置,在各单元的衬底处理部,采用不同种类的处理液。
7.根据权利要求6所述的衬底处理装置,其特征在于,从运送通路的上游侧起,设置蚀刻部、清洗部来作为上述衬底处理部,上述蚀刻部,采用蚀刻液作为对衬底进行蚀刻处理用的处理液;上述清洗部,采用纯水作为对衬底进行清洗用的处理液。
8.根据权利要求1~4中的任何一项所述的衬底处理装置,其特征在于,还包括具有壁面的壳体,在壳体的相对向的壁面的一个壁面上形成衬底送入口;在另一壁面上形成衬底送出口;在上述衬底送入口与上述衬底送出口之间形成上述运送通路;上述液体回收型喷嘴部和上述除液部设置于上述壳体内;并设置有将清洁空气导入到上述壳体内的空气导入机构,以及排出上述壳体内的空气的排气机构。
9.根据权利要求1~4中的任何一项所述的衬底处理装置,其特征在于,上述除液部沿上述运送通路的宽度方向延伸,并设置在相对运送方向以规定角度倾斜交叉的方向上。
10.根据权利要求7所述的衬底处理装置,其特征在于,上述液体回收型喷嘴部和上述除液部设置于上述蚀刻部内,而且上述除液部设置于上述液体回收型喷嘴部的正下游侧的位置。
CNB2005100809799A 2004-07-01 2005-06-29 衬底处理装置 Expired - Fee Related CN100377297C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004196045 2004-07-01
JP2004196045A JP2006019525A (ja) 2004-07-01 2004-07-01 基板処理装置
JP2004197047 2004-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1716531A CN1716531A (zh) 2006-01-04
CN100377297C true CN100377297C (zh) 2008-03-26

Family

ID=35793494

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100809799A Expired - Fee Related CN100377297C (zh) 2004-07-01 2005-06-29 衬底处理装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2006019525A (zh)
CN (1) CN100377297C (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009076856A (ja) * 2007-08-28 2009-04-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
DE102013219782B4 (de) * 2013-09-30 2018-08-16 Infineon Technologies Ag Reinigungsanlage und verfahren zur reinigung von waschgut, insbesondere zur reinigung von halbleitermodulen
KR101514421B1 (ko) * 2014-12-22 2015-04-23 선호경 기판 처리장치
WO2017017782A1 (ja) * 2015-07-28 2017-02-02 株式会社トーア電子 金属導体のエッチングに用いる薬液更新用ノズル及びエッチング装置
CN105855217A (zh) * 2016-05-31 2016-08-17 三明通用科技孵化有限公司 一种床垫清洗干燥机
TWI601191B (zh) * 2016-09-30 2017-10-01 盟立自動化股份有限公司 溼式製程設備
CN114308910B (zh) * 2021-12-31 2023-04-28 安徽宝鸿新材料科技有限公司 一种agm隔板生产用表面清理设备
CN116344411B (zh) * 2023-05-26 2023-08-01 四川上特科技有限公司 一种晶圆沟槽腐蚀装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002280340A (ja) * 2001-03-22 2002-09-27 Toppan Printing Co Ltd ガラス基板の洗浄方法
CN1391138A (zh) * 2001-06-08 2003-01-15 住友精密工业株式会社 基板处理装置
CN1392454A (zh) * 2001-06-19 2003-01-22 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、液处理装置和液处理方法
JP2003245617A (ja) * 2002-02-25 2003-09-02 Toppan Printing Co Ltd 基板洗浄装置及びこれを用いた洗浄方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002280340A (ja) * 2001-03-22 2002-09-27 Toppan Printing Co Ltd ガラス基板の洗浄方法
CN1391138A (zh) * 2001-06-08 2003-01-15 住友精密工业株式会社 基板处理装置
CN1392454A (zh) * 2001-06-19 2003-01-22 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、液处理装置和液处理方法
JP2003245617A (ja) * 2002-02-25 2003-09-02 Toppan Printing Co Ltd 基板洗浄装置及びこれを用いた洗浄方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006019525A (ja) 2006-01-19
CN1716531A (zh) 2006-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100377297C (zh) 衬底处理装置
CN1947871B (zh) 基板处理装置
KR101352855B1 (ko) 기판의 표면을 처리하기 위한 장치 및 방법
RU2606984C2 (ru) Система и способ промывания контейнера
US7621301B2 (en) Method of ionized air-rinsing of containers and apparatus therefor
JP2003017457A (ja) 基板洗浄方法及び装置
US20070240642A1 (en) Substrate processing apparatus
CN101219427A (zh) 基板处理装置
KR100764683B1 (ko) 기판처리장치
CN100466216C (zh) 运送处理装置
CN1455948A (zh) 基板处理装置
JP3550277B2 (ja) 基板処理装置
KR20000053465A (ko) 반도체 웨이퍼의 세척장치 및 방법
JP3901635B2 (ja) 板材の酸処理設備
JP2000266465A (ja) 基板乾燥装置および基板乾燥方法
JP4324517B2 (ja) 基板処理装置
JP2003282525A (ja) 基板処理装置
JP2006003036A (ja) 乾燥装置
JPH083001Y2 (ja) 基板の液切り装置
KR102545295B1 (ko) 처리 유체 추출 장치 및 이를 포함하는 에칭 장치
JP4256510B2 (ja) サンドブラスト加工における被加工物のクリーニングユニット
JP4417180B2 (ja) 基板処理装置
JPH0955418A (ja) ウェーハ搬送装置
JP2004074104A (ja) 搬送除塵装置
JP4291581B2 (ja) スチーム処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080326

Termination date: 20110629